KR20090084245A - 두께 측정방법 - Google Patents
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Abstract
Description
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- 간섭계를 이용하여 기저층 상에 적층된 대상층의 두께를 측정하기 위한 두께 측정방법에 있어서,상기 대상층과 실질적으로 동일한 재질로 마련되며, 서로 다른 두께를 가진 샘플층들로부터 상기 샘플층들의 두께에 대한 위상차의 상관식을 획득하는 단계;공기층과 상기 기저층의 경계면에서, 상기 기저층에 입사되는 광축 방향에 대한 제1간섭신호를 구하는 단계;상기 대상층과 상기 기저층의 경계면에서, 상기 광축 방향에 대한 제2간섭신호를 구하는 단계;상기 광축 방향에 대하여 실질적으로 동일한 높이에서, 상기 제1간섭신호의 위상과 상기 제2간섭신호의 위상 간의 위상차를 구하는 단계; 및상기 위상차를 상기 상관식에 대입하여 상기 대상층의 두께를 결정하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 두께 측정방법.
- 제1항에 있어서,상기 제1간섭신호의 위상과 상기 제2간섭신호의 위상 간의 위상차를 구하는 단계는,상기 제1간섭신호에서 기준이 되는 제1신호값을 설정하고, 상기 광축 방향에 대하여 상기 제1신호값이 얻어지는 높이를 제1높이로 설정하며, 상기 제1신호값의 위상을 제1위상으로 설정하는 단계;상기 제1높이와 실질적으로 동일한 높이에서 얻어지는 제2간섭신호의 신호값을 제2신호값으로 설정하고, 상기 제2신호값의 위상을 제2위상으로 설정하는 단계;상기 제1위상과 상기 제2위상 간의 위상차를 구하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 두께 측정방법.
- 제2항에 있어서,상기 제1간섭신호 및 상기 제2간섭신호는 광강도이고,상기 제1신호값은 상기 제1간섭신호의 최고값인 것을 특징으로 하는 두께 측정방법.
- 제1항에 있어서,상기 상관식을 획득하는 단계는,일 두께를 가지는 샘플층을 마련하는 단계;상기 공기층과 상기 기저층의 경계면에서, 상기 광축 방향에 대한 제3간섭신호를 구하는 단계;상기 샘플층과 상기 기저층의 경계면에서, 상기 광축 방향에 대한 제4간섭신호를 구하는 단계;상기 광축 방향에 대하여 실질적으로 동일한 높이에서, 상기 제3간섭신호의 위상과 상기 제4간섭신호의 위상 간의 위상차를 구하는 단계;다른 두께를 가지는 샘플층을 마련하고, 그 샘플층에 대하여 제3간섭신호를 구하는 단계, 상기 제4간섭신호를 구하는 단계 및 상기 위상차를 구하는 단계를 반복하는 단계; 및복수의 두께 정보와 복수의 위상차 정보를 이용하여 곡선 맞춤(fitting)하고, 상기 샘플층들의 두께에 대한 위상차의 상관식을 결정하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 두께 측정방법.
- 제4항에 있어서,상기 위상차를 구하는 단계는,상기 제3간섭신호에서 기준이 되는 제3신호값을 설정하고, 상기 광축 방향에 대하여 상기 제3신호값이 얻어지는 높이를 제3높이로 설정하며, 상기 제3신호값의 위상을 제3위상으로 설정하는 단계;상기 제3높이와 실질적으로 동일한 높이에서 얻어지는 제4간섭신호의 신호값을 제4신호값으로 설정하고, 상기 제4신호값의 위상을 제4위상으로 설정하는 단계;상기 제3위상과 상기 제4위상 간의 위상차를 구하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 두께 측정방법.
- 제5항에 있어서,상기 제3간섭신호 및 상기 제4간섭신호는 광강도이고,상기 제3신호값은 상기 제3간섭신호의 최고값인 것을 특징으로 하는 두께 측 정방법.
- 제4항에 있어서,상기 상관식은 선형부 또는 비선형부를 포함하는 것을 특징으로 하는 두께 측정방법.
- 제1항에 있어서,상기 대상층의 두께가 연속적으로 변하는 방향을 따라 상기 공기층과 상기 기저층의 경계면 및 상기 대상층과 상기 기저층의 경계면의 복수의 위치에서, 상기 제1간섭신호를 구하는 단계, 상기 제2간섭신호를 구하는 단계 및 상기 위상차를 구하는 단계를 반복하는 단계;상기 복수의 위치에 대하여 상기 위상차의 그래프를 산출하는 단계; 및상기 그래프의 불연속점의 위상차에 2π의 배수를 가감해서 위상복원(phase unwrapping)하고, 위상복원된 위상차를 구하는 단계;를 더 포함하며,상기 대상층의 두께를 결정하는 단계는, 상기 위상복원된 위상차를 상기 상관식에 대입하여 상기 대상층의 두께를 결정하는 것을 특징으로 하는 두께 측정방법.
- 제8항에 있어서,상기 위상복원된 위상차를 구하는 단계는,상기 공기층과 상기 기저층의 경계면에서의 위상차를 기준으로 하는 것을 특징으로 하는 두께 측정방법.
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080010300A KR100988454B1 (ko) | 2008-01-31 | 2008-01-31 | 두께 측정방법 |
US12/746,548 US8279447B2 (en) | 2008-01-31 | 2008-04-01 | Method for measuring thickness |
PCT/KR2008/001833 WO2009096633A1 (en) | 2008-01-31 | 2008-04-01 | Method for measuring thickness |
JP2010539271A JP5286614B2 (ja) | 2008-01-31 | 2008-04-01 | 厚さ測定方法 |
CN2008801211483A CN102027315B (zh) | 2008-01-31 | 2008-04-01 | 厚度测定方法 |
TW097115086A TWI361267B (en) | 2008-01-31 | 2008-04-24 | Method for measuring thickness |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080010300A KR100988454B1 (ko) | 2008-01-31 | 2008-01-31 | 두께 측정방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20090084245A true KR20090084245A (ko) | 2009-08-05 |
KR100988454B1 KR100988454B1 (ko) | 2010-10-18 |
Family
ID=40912964
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020080010300A KR100988454B1 (ko) | 2008-01-31 | 2008-01-31 | 두께 측정방법 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8279447B2 (ko) |
JP (1) | JP5286614B2 (ko) |
KR (1) | KR100988454B1 (ko) |
CN (1) | CN102027315B (ko) |
TW (1) | TWI361267B (ko) |
WO (1) | WO2009096633A1 (ko) |
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-
2008
- 2008-01-31 KR KR1020080010300A patent/KR100988454B1/ko active IP Right Grant
- 2008-04-01 JP JP2010539271A patent/JP5286614B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-04-01 US US12/746,548 patent/US8279447B2/en active Active
- 2008-04-01 WO PCT/KR2008/001833 patent/WO2009096633A1/en active Application Filing
- 2008-04-01 CN CN2008801211483A patent/CN102027315B/zh active Active
- 2008-04-24 TW TW097115086A patent/TWI361267B/zh active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011506996A (ja) | 2011-03-03 |
TW200933121A (en) | 2009-08-01 |
US20100277745A1 (en) | 2010-11-04 |
US8279447B2 (en) | 2012-10-02 |
CN102027315A (zh) | 2011-04-20 |
CN102027315B (zh) | 2013-01-16 |
JP5286614B2 (ja) | 2013-09-11 |
TWI361267B (en) | 2012-04-01 |
KR100988454B1 (ko) | 2010-10-18 |
WO2009096633A1 (en) | 2009-08-06 |
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Legal Events
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A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
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FPAY | Annual fee payment |
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