KR20090072221A - A colored photosensitive resin composition, color filter using the same, and flat panel display device comprising the color filter - Google Patents

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Abstract

A coloured photosensitive resin composition, a color filter formed by using the composition, and a flat display device are provided to obtain a color filter having a low surface roughness and an excellent pencil hardness. A coloured photosensitive resin composition comprises a coloring material comprising C. I. pigment red 242; a binder resin; a photopolymerizable compound; a photopolymerization initiator; a thermal crosslinking agent comprising a novolac epoxy resin; and a solvent, wherein the binder resin comprises an unsaturated double bond per a molecule, and the content of the thermal crosslinking agent is 0.5 ~ 5 mass % to the solid part of the composition.

Description

착색 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 컬러필터 및 상기 컬러필터를 포함하는 평판표시장치{A colored photosensitive resin composition, color filter using the same, and flat panel display device comprising the color filter}A colored photosensitive resin composition, color filter using the same, and flat panel display device comprising the color filter}

본 발명은 착색 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 컬러필터 및 상기 컬러필터를 포함하는 평판표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to a colored photosensitive resin composition, a color filter using the same, and a flat panel display device including the color filter.

컬러필터는 촬상(撮像)소자, 액정표시장치(LCD) 및 유기전계발광소자(OLED) 등의 평판표시장치 등에 널리 이용되는 것으로, 그 응용 범위가 급속히 확대되고 있다. 컬러 액정표시장치나 촬상소자 등에 사용되는 컬러필터는 통상 블랙 매트릭스가 패턴 형성된 기판 상에 적색, 녹색 및 청색의 각 색에 상당하는 안료를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물을 스핀 코팅에 의해 균일하게 도포한 후, 선굽기(이하, 가열 건조 또는 예비 소성이라고 하는 경우도 있음)하여 형성된 도막을 노광, 현상하고, 필요에 따라 더 후굽기(이하, 가열경화 또는 후 소성이라고 하는 경우도 있음)하는 조작을 색마다 반복하여 각 색의 화소를 형성함으로써 제조되 고 있다.Color filters are widely used in flat panel display devices such as image pickup devices, liquid crystal display devices (LCDs), organic light emitting display devices (OLEDs), and the like, and their application ranges are rapidly expanding. The color filter used for a color liquid crystal display device, an image pick-up element, etc. is normally uniformly apply | coated by spin coating the coloring photosensitive resin composition containing the pigment corresponding to each color of red, green, and blue on the board | substrate with a black matrix patterned. Subsequently, an operation of exposing and developing the coating film formed by pre-baking (hereinafter sometimes referred to as heat drying or preliminary firing) and further baking (hereinafter sometimes referred to as heat curing or post-firing) as necessary is performed. It is manufactured by forming pixels of each color repeatedly for each color.

특히 최근 노트PC 및 모바일용 컬러 필터를 포함하는 액정표시장치는 보다 고색순도, 고투과 특성이 요구되고 있으며, 이러한 컬러필터의 재료로서 착색 감광성 수지 조성물에 적색화소에 사용되는 안료인 C.I. 피그먼트 242를 사용하는 특허가 알려져 일본국 특개 평11-14824 공보에 알려져 있으며, 또한, 일본국 특개 평2002-14463 공보에는 투과도가 우수하고 현상 후에도 기판에 잔사가 남지 않는 착색 감광성 수지 조성물이 개시되어 있다.In particular, liquid crystal displays including color filters for notebook PCs and mobile devices have been required to have higher color purity and higher transmissive characteristics. As a color filter material, C.I. Patents using pigment 242 are known and are disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-14824. Also, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-14463 discloses a coloring photosensitive resin composition having excellent transmittance and no residue on the substrate even after development. It is.

그러나, 상기와 같은 종래 기술을 그대로 도입하면 고농도의 착색재료가 도입되는 조성에서 연필경도가 부족하고 표면조도가 높아 투과도가 저하되는 문제점이 있었다.However, when the conventional technology as described above is introduced as it is, there is a problem in that the pencil hardness is insufficient in the composition in which the coloring material of high concentration is introduced and the surface roughness is high so that the transmittance is lowered.

본 발명의 목적은 고농도의 착색재료를 포함하여도 착색 감광성 수지 조성물로 형성된 화소가, 투과율이 우수하며, 표면조도가 낮고 연필경도가 우수한 고품질의 컬러필터를 제공할 수 있는 착색 감광성 수지 조성물, 상기 방법으로 제조된 컬러필터, 및 상기 컬러필터를 포함하는 평판표시장치를 제공하는 것이다.An object of the present invention is a colored photosensitive resin composition which can provide a high quality color filter having excellent transmittance, low surface roughness and excellent pencil hardness, even if the pixel formed of the colored photosensitive resin composition includes a high concentration of coloring material. The present invention provides a color filter manufactured by the method, and a flat panel display device including the color filter.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은 (A)C.I. 피그먼트 242를 포함하는 착색재료, (B)바인더 수지, (C)광중합성 화합물, (D)광중합 개시제, (E)노볼락형 에폭시 수지를 포함하는 열가교제, 및 (F)용매를 포함하고, 상기 (B)바인더 수지는 1 분자 중에 불포화 2중 결합을 포함하고, 상기 (E)노볼락형 에폭시 수지를 포함하는 열가교제는 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분에 대해서 질량분율로 0.5 내지 5질량% 범위인 착색 감광성 수지 조성물을 제공하는 것이다.The present invention for achieving the above object is (A) C.I. It comprises a coloring material containing pigment 242, (B) binder resin, (C) photopolymerizable compound, (D) photoinitiator, (E) thermal crosslinking agent containing novolak-type epoxy resin, and (F) solvent, The binder resin (B) contains an unsaturated double bond in one molecule, and the thermal crosslinking agent containing the (E) novolak-type epoxy resin is 0.5 to 5% by mass in terms of mass fraction with respect to the solid content in the colored photosensitive resin composition. It is providing the coloring photosensitive resin composition which is a range.

본 발명은 기판 상부에 착색 감광성 수지 조성물을 도포하고 소정의 패턴으로 노광, 현상하여 형성되는 컬러층을 포함하여 이루어진 컬러필터에 있어서, 상기 착색 감광성 수지 조성물은 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물인 것을 특징으로 하는 컬러필터를 제공한다.The present invention provides a color filter comprising a color layer formed by coating a colored photosensitive resin composition on a substrate and exposing and developing the film in a predetermined pattern, wherein the colored photosensitive resin composition is the colored photosensitive resin composition of the present invention. A color filter is provided.

본 발명은 상기 컬러필터를 포함하는 평판표시장치를 제공한다.The present invention provides a flat panel display device including the color filter.

본 발명에 따르면, 고농도의 착색재료를 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 이용하여 화소를 형성할 때, 투과율이 우수하며, 형성된 화소의 표면조도가 낮고 연필경도가 우수한 고품질의 컬러필터를 제공할 수 있다.According to the present invention, when forming a pixel using a high concentration of the coloring material in the coloring photosensitive resin composition of the present invention, it is possible to provide a high quality color filter having excellent transmittance, low surface roughness of the formed pixel and excellent pencil hardness. have.

이하, 본 발명을 상세하게 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated in detail.

본 발명은 (A)착색재료, (B)바인더 수지, (C)광중합성 화합물, (D)광중합 개시제, (E)열가교제 및 (F)용매를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물을 제공한다.This invention provides the coloring photosensitive resin composition containing (A) coloring material, (B) binder resin, (C) photopolymerizable compound, (D) photoinitiator, (E) thermal crosslinking agent, and (F) solvent.

Ⅰ. 착색 감광성 수지 조성물I. Coloring photosensitive resin composition

1. (A)착색재료1. (A) Coloring material

상기 (A)착색재료는 투과율 향상을 위하여 적색안료인 C.I. 피그먼트 레드 242 를 주안료로 포함한다.The (A) coloring material is a red pigment C.I. Pigment Red 242 is included as a main pigment.

상기 (A)착색재료는 선택적으로 C.I. 피그먼트 242 이외의 다른 안료 및 다른 첨가제를 포함할 수 있다. 이하, "다른 안료"라는 표현은 C.I. 피그먼트 레드 242 와는 다른 안료를 가리킨다.The (A) coloring material is optionally C.I. Pigments other than pigment 242 and other additives may be included. Hereinafter, the expression "other pigments" is referred to as C.I. Pigment Red 242 indicates a different pigment.

상기 다른 안료의 구체적인 예로는 색지수(출판사: The society of Dyers and Colourists)에서 피그먼트로 분류되어 있는 화합물을 들 수 있고, 보다 구체적 으로는 이하와 같은 색지수(C.I.) 번호의 안료를 들 수 있지만, 반드시 이들로 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the other pigments include compounds classified as pigments in the color index (The Society of Dyers and Colourists), and more specifically, pigments having the following color index (CI) numbers. However, it is not necessarily limited to these.

C.I. 피그먼트 옐로우 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 180 및 185C.I. Pigment Yellow 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 180 and 185

C.I. 피그먼트 오렌지 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, 및 71C.I. Pigment Orange 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, and 71

C.I. 피그먼트 레드 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 215, 216, 224, 254, 255 및 264C.I. Pigment Red 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 215, 216, 224, 254, 255 and 264

C.I. 피그먼트 바이올렛 14, 19, 23, 29, 32, 33, 36, 37 및 38C.I. Pigment Violet 14, 19, 23, 29, 32, 33, 36, 37 and 38

C.I. 피그먼트 블루 15(15:3, 15:4, 15:6등), 21, 28, 60, 64 및 76C.I. Pigment Blue 15 (15: 3, 15: 4, 15: 6, etc.), 21, 28, 60, 64, and 76

C.I. 피그먼트 그린 7, 10, 15, 25, 36, 47 및 58C.I. Pigment Green 7, 10, 15, 25, 36, 47 and 58

C.I 피그먼트 브라운 28C.I Pigment Brown 28

C.I 피그먼트 블랙 1 및 7 등C.I pigment black 1 and 7, etc.

상기 다른 안료로 상술한 예 중에서 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. As said other pigment, they can be used individually or in combination of 2 or more types in the above-mentioned examples, respectively.

상기 (A)착색재료가 C.I. 피그먼트 242 이외의 다른 안료 및 다른 첨가제를 더 포함하는 경우, 상기 C.I. 피그먼트 242는 다른 안료와의 질량비로 100:0 내지 30:70이고, 바람직하게는 90:10 내지 50:50이다. 상술한 범위로 포함되면, 투과율이 향상되는 이점이 있다.The coloring material (A) is C.I. If it further comprises pigments and other additives other than pigment 242, the C.I. Pigment 242 is 100: 0-30: 70 by mass ratio with another pigment, Preferably it is 90: 10-50: 50. If included in the above range, there is an advantage that the transmittance is improved.

상기 (A)착색재료는 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분에 대해서 질량 분율로 5 내지 60 질량%, 바람직하게는 10 내지 50 질량%이다. 상술한 범위로 포함되면, 투과율이 향상되고, 박막 형성시에도 화소의 색농도가 충분한 이점이 있다. 또한, 현상시 비화소부의 누락성이 저하되지 않기 때문에 잔사가 발생하기 어려운 이점이 있다.The said (A) coloring material is 5-60 mass% in mass fraction with respect to solid content in colored photosensitive resin composition, Preferably it is 10-50 mass%. When included in the above-described range, there is an advantage that the transmittance is improved and the color concentration of the pixel is sufficient even when forming a thin film. In addition, there is an advantage that the residue hardly occurs because the omission of the non-pixel portion is not lowered during development.

2. (B)바인더 수지2. (B) binder resin

상기 (B)바인더 수지는 통상적으로 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성된 착색 감광성 수지층의 비노광부를 알칼리 가용성으로 만들어 제거될 수 있게 하고, 비노광영역을 잔류시키는 역할을 한다. 또한, 상기 (A)착색재료에 대해 분산 매질로 작용한다.The (B) binder resin typically serves to remove the non-exposed portion of the colored photosensitive resin layer formed by using the colored photosensitive resin composition, making it alkali-soluble, and to leave the non-exposed area. In addition, the (A) coloring material acts as a dispersion medium.

상기 (B)바인더 수지는 1 분자 중에 불포화 2중 결합을 포함하는 중합체인 것이 바람직하다.It is preferable that the said (B) binder resin is a polymer containing an unsaturated double bond in 1 molecule.

또한, 상기 (B)바인더 수지는 (b-1), (b-2) 및 (b-3)화합물을 공중합하여 얻어지는 공중합체에, 광경화성을 부여하는 (b-4)화합물을 더 반응시켜 얻어지는 불포화기를 포함하는 공중합체인 것이 바람직하다. 상기 공중합체는 가교밀도 및 현상성이 우수해진다. In addition, the binder resin (B) further reacts the compound obtained by copolymerizing the compounds (b-1), (b-2) and (b-3) with the compound (b-4) giving photocurability. It is preferable that it is a copolymer containing the unsaturated group obtained. The copolymer is excellent in crosslinking density and developability.

상기 (b-1)화합물은 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필데히드로아비에트산 아크릴레이트(2-hydroxypropyldehydroabietic acid acrylate), 벤질말레이미드 및 N-비닐피롤리돈 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택된 1 종 또는 2종 이상의 화합물을 포함한다. 상기 (b-1)화합물을 1 종 또는 2종 이상 포함시 표면조도 및 투과율이 우수해진다.The compound (b-1) includes dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyldehydroabietic acid acrylate, benzyl maleimide, and One or two or more compounds selected from the group consisting of N-vinylpyrrolidone compounds are included. When the compound (b-1) is used alone or in combination of two or more, surface roughness and transmittance are excellent.

상기 (b-2)화합물로 1 분자 중에 불포화 결합과 카르복실산기를 갖는 화합물 이라면 제한되지 않으며, 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용될 수 있다. 이의 구체적인 예로 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산 등의 모노카르복실산류; 푸마르산, 메사콘산, 이타콘산 등의 디카르복실산류; 및 상기 디카르복실산의 무수물; ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트 등과 같이 양 말단에 카르복실기와 수산기를 갖는 폴리머의 모노(메타)아크릴레이트류 등을 들 수 있다. 상기 화합물 중 아크릴산, 메타크릴산이 공중합 반응성 및 현상액에 대한 용해성이 우수하므로 바람직하다.The compound (b-2) is not limited as long as it is a compound having an unsaturated bond and a carboxylic acid group in one molecule, and may be used alone or in combination of two or more thereof. Specific examples thereof include monocarboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid and crotonic acid; Dicarboxylic acids such as fumaric acid, mesaconic acid and itaconic acid; And anhydrides of the dicarboxylic acids; and mono (meth) acrylates of polymers having a carboxyl group and a hydroxyl group at both terminals, such as? -carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate. Acrylic acid and methacrylic acid among the compounds are preferred because of their excellent copolymerization reactivity and solubility in a developing solution.

상기 (b-3)화합물로는 상기 (b-1) 및 (b-2)화합물과 중합이 가능한 불포화 이중결합을 갖는 화합물이라면 제한되지 않는다. 이의 구체적인 예로는, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 아미노에틸(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복실산의 비치환 또는 치환 알킬에스테르 화합물; 시클로펜틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 메틸시클로헥실(메타)아크릴레이트, 시클로헵틸(메타)아크릴레이트, 시클로옥틸(메타)아크릴레이트, 멘틸(메타)아크릴레이트, 시클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 시클로헥세닐(메타)아크릴레이트, 시클로헵테닐(메타)아크릴레이트, 시클로옥테닐(메타)아크릴레이트, 멘타디에닐(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트, 피나닐(메타)아크릴레이트, 아다만틸(메타)아크릴레이트, 노르보르닐(메타)아크릴레이트, 피네닐(메타)아크릴레이트 등의 지환식 치환기를 포함하는 불포화 카르복실산 에스테르 화합물; 3-((메타)아크릴로일옥시메틸)옥세탄, 3-((메타)아크릴로일옥시메틸)-3-에틸옥세탄, 3-((메타)아크릴로일옥시메틸)-2-메틸옥세탄, 3-((메타)아크릴로일옥시메틸)-2-트리플로로메틸옥세탄 등의 열경화 가능한 치환기를 포함하는 불포화 카르복실산 에스테르 화합물; 올리고에틸렌글리콜 모노알킬(메타)아크릴레이트 등의 글리콜류의 모노포화 카르복실산 에스테르 화합물, 벤질(메타)아크릴레이트, 페녹시(메타)아크릴레이트 등의 방향환을 갖는 치환기를 포함하는 불포화 카르복실산 에스테르 화합물; 스티렌, 비닐톨루엔 α-메틸스티렌 등의 방향족 비닐 화합물, 아세트산 비닐, 프로피온산 비닐 등의 카르복실산 비닐에스테르; (메타)아크릴로니트릴, α-클로로아크릴로니트릴 등의 시안화 비닐 화합물 등을 들 수 있다. 이 중에서도, 감도 향상 및 아웃가스 감량을 위해서 방향족 비닐화합물이 바람직하다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용될 수 있다.The compound (b-3) is not limited as long as it has a compound having an unsaturated double bond which can be polymerized with the compounds (b-1) and (b-2). Specific examples thereof include unsaturated carboxylic acids such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and aminoethyl (meth) acrylate. Unsubstituted or substituted alkyl ester compound of; Cyclopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, methylcyclohexyl (meth) acrylate, cycloheptyl (meth) acrylate, cyclooctyl (meth) acrylate, menthyl (meth) acrylate, cyclophene Tenyl (meth) acrylate, cyclohexenyl (meth) acrylate, cycloheptenyl (meth) acrylate, cyclooctenyl (meth) acrylate, mentadienyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylic Unsaturated carboxylic ester compounds including alicyclic substituents such as late, pinanyl (meth) acrylate, adamantyl (meth) acrylate, norbornyl (meth) acrylate, and pineneyl (meth) acrylate; 3-((meth) acryloyloxymethyl) oxetane, 3-((meth) acryloyloxymethyl) -3-ethyloxetane, 3-((meth) acryloyloxymethyl) -2-methyl Unsaturated carboxylic ester compounds containing thermosetting substituents such as oxetane and 3-((meth) acryloyloxymethyl) -2-trifluoromethyloxetane; Unsaturated carboxyl containing substituents having aromatic rings, such as monosaturated carboxylic acid ester compounds of glycols, such as oligoethylene glycol monoalkyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, and phenoxy (meth) acrylate Acid ester compounds; Carboxylic acid vinyl esters, such as aromatic vinyl compounds, such as styrene and vinyltoluene (alpha) -methylstyrene, vinyl acetate, and a vinyl propionate; Vinyl cyanide compounds, such as (meth) acrylonitrile and the (alpha)-chloro acrylonitrile, etc. are mentioned. Among these, aromatic vinyl compounds are preferred for improving sensitivity and reducing outgassing. These can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.

상기 (b-4)1 분자 중에 불포화 결합과 에폭시기를 갖는 화합물의 구체적인 예로는 글리시딜(메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실(메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메타)아크릴레이트, 메틸글리시딜(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 중에서 글리시딜(메타)아크릴레이트가 바람직하게 사용된다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용될 수 있다.Specific examples of the compound having an unsaturated bond and an epoxy group in the (b-4) 1 molecule include glycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexyl (meth) acrylate, and 3,4-epoxycyclohexylmethyl (Meth) acrylate, methylglycidyl (meth) acrylate, etc. are mentioned. Among these, glycidyl (meth) acrylate is preferably used. These can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.

본 명세서에서 (메타)아크릴레이트란 아크릴레이트 및(또는) 메타크릴레이트를 의미한다.As used herein, (meth) acrylate means acrylate and / or methacrylate.

상기 (B)바인더 공중합체가 상기 (b-1) 내지 (b-3)화합물을 공중합하여 얻 어지는 공중합체에 상기 (b-4)화합물을 더 반응시켜 얻어지는 불포화기를 포함하는 공중합체일 경우, 상기 (b-1) 내지 (b-3)화합물을 공단량체로 공중합하여 얻어지는 공중합체는, 상기 (b-1) 내지 (b-3)화합물 각각으로부터 유도되는 구성 단위의 비율이 상기 공중합체를 구성하는 구성 단위들의 총 몰수에 대하여 몰 분율로 하기의 범위인 것이 바람직하다. 이때, 상기 공중합체에 상기 (b-1) 내지 (b-3)화합물 외에 다른 단량체가 더 포함되어 공중합될 수도 있다.When the (B) binder copolymer is a copolymer containing an unsaturated group obtained by further reacting the compound (b-4) with the copolymer obtained by copolymerizing the compounds (b-1) to (b-3), In the copolymer obtained by copolymerizing the compounds (b-1) to (b-3) with a comonomer, a proportion of the structural units derived from each of the compounds (b-1) to (b-3) is used for the copolymer. It is preferable that it is the following range in mole fraction with respect to the total mole number of the structural unit which comprises. In this case, the copolymer may further include other monomers in addition to the compounds (b-1) to (b-3).

상기 (b-1)화합물로부터 유도되는 구성단위: 2 내지 60몰%,Structural unit derived from the compound (b-1): 2 to 60 mol%,

상기 (b-2)화합물로부터 유도되는 구성단위: 2 내지 70몰%,Structural unit derived from the compound (b-2): 2 to 70 mol%,

상기 (b-3)화합물로부터 유도되는 구성단위: 2 내지 95몰%.Structural units derived from compound (b-3): 2 to 95 mol%.

특히, 상기의 구성 단위의 비율이 이하의 범위인 것이 더 바람직하다.In particular, it is more preferable that the ratio of said structural unit is the following ranges.

상기 (b-1)화합물로부터 유도되는 구성 단위: 10 내지 50몰%,Structural unit derived from the compound (b-1): 10-50 mol%,

상기 (b-2)화합물로부터 유도되는 구성 단위: 5 내지 65몰%,Structural unit derived from the compound (b-2): 5-65 mol%,

상기 (b-3)화합물로부터 유도되는 구성 단위: 5 내지 80몰%.Structural units derived from compound (b-3): 5 to 80 mol%.

상기의 구성 비율이 상기 범위를 만족하면 현상성, 가용성 및 내열성의 균형이 양호하므로 보다 바람직한 공중합체를 얻을 수 있다.When said composition ratio satisfy | fills the said range, since the balance of developability, solubility, and heat resistance is favorable, a more preferable copolymer can be obtained.

상기 (b-4)화합물은 상기 (b-2)화합물로부터 유도되는 구성단위의 총 몰수에 대하여 5 내지 80몰%로 반응시키는 것이 바람직하며, 특히 10 내지 80몰%가 바람직하다. 상기 (b-4)화합물이 상기 범위 내에 있으면 감도 및 현상성이 우수하기 때문에 바람직하다.The compound (b-4) is preferably reacted at 5 to 80 mol%, particularly preferably 10 to 80 mol%, based on the total moles of the structural units derived from the compound (b-2). It is preferable that the compound (b-4) is in the above range because it is excellent in sensitivity and developability.

상기 (B)바인더 공중합체가 상기 (b-1) 내지 (b-3)화합물을 공중합하여 얻 어지는 공중합체에 상기 (b-4)화합물을 더 반응시켜 얻어지는 불포화기를 포함하는 공중합체의 제조방법의 일례는, 하기와 같다.Method for producing a copolymer comprising an unsaturated group obtained by further reacting the compound (b-4) with the copolymer obtained by copolymerizing the compound (b-1) to the compound (b-3). An example is as follows.

교반기, 온도계, 환류 냉각관, 적하로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크에 상기 (b-1) 내지 (b-3)화합물의 총 질량에 대하여 0.5 내지 20배의 용매를 도입하고 플라스크내 분위기를 공기에서 질소로 치환한다. 그 후, 용매를 40 내지 140℃로 승온시킨 후, 상기 (b-1) 내지 (b-3)화합물의 소정량, 상기 (b-1) 내지 (b-3)화합물의 총 질량에 대하여 0 내지 20배의 용매, 및 아조비스이소부티로니트릴이나 벤조일퍼옥시드 등의 중합 개시제를 상기 (b-1) 내지 (b-3)화합물의 총 몰수에 대하여 0.1 내지 10몰% 첨가한 용액(실온 또는 가열하에 교반 용해)을 적하로트로부터 0.1 내지 8시간에 걸쳐 상기의 플라스크에 적하하고, 40 내지 140℃에서 1 내지 10시간 더 교반한다.0.5 to 20 times the solvent was introduced to the flask equipped with the stirrer, the thermometer, the reflux condenser, the dropping lot and the nitrogen inlet tube, based on the total mass of the compounds (b-1) to (b-3). Substitute in nitrogen for air. Thereafter, the solvent was heated to 40 to 140 ° C., and then 0 with respect to a predetermined amount of the compounds (b-1) to (b-3) and the total mass of the compounds (b-1) to (b-3). A solution obtained by adding 0.1 to 10 mol% of a solvent having a ratio of 20 to 20 times and a polymerization initiator such as azobisisobutyronitrile or benzoyl peroxide to the total moles of the compounds (b-1) to (b-3) (room temperature Or stirring dissolution under heating) is added dropwise to the flask over 0.1 to 8 hours from the dropping lot, and further stirred at 40 to 140 ° C for 1 to 10 hours.

여기서, 상기의 공정에서 중합개시제의 일부 또는 전량을 플라스크에 넣을 수도 있고, 상기 (b-1) 내지 (b-3)화합물의 일부 또는 전량을 플라스크에 넣을 수도 있다. 또한, 분자량이나 분자량 분포를 제어하기 위해 α-메틸스티렌 다이머 또는 머캅토 화합물을 연쇄 이동제로서 사용할 수도 있다. α-메틸스티렌 다이머 또는 머캅토 화합물의 사용량은 상기 (b-1) 내지 (b-3)화합물의 총 질량에 대하여 0.005 내지 5질량%이다. 또한, 상기의 중합 조건은 제조 설비나 중합에 의한 발열량 등을 고려하여 투입 방법이나 반응 온도를 적절하게 조정할 수도 있다.In this process, a part or the whole amount of the polymerization initiator may be put in the flask, or a part or the whole amount of the compounds (b-1) to (b-3) may be put in the flask. Moreover, in order to control molecular weight or molecular weight distribution, (alpha) -methylstyrene dimer or a mercapto compound can also be used as a chain transfer agent. The usage-amount of (alpha) -methylstyrene dimer or a mercapto compound is 0.005-5 mass% with respect to the gross mass of the said (b-1)-(b-3) compound. In addition, the said polymerization conditions can also adjust an input method and reaction temperature suitably in consideration of the amount of heat generation by a manufacturing facility, superposition | polymerization, etc ..

이로써, 상기 (b-1) 내지 (b-3)화합물을 공중합하여 얻어지는 공중합체를 제조한다.Thereby, the copolymer obtained by copolymerizing the said (b-1)-(b-3) compound is manufactured.

이어서, 플라스크내 분위기를 질소에서 공기로 치환하고, 상기 (b-1) 내지 (b-3)화합물을 공중합하여 얻어지는 공중합체 중의 (b-2)화합물로부터 유도되는 구성 단위에 대하여 몰분율로 5 내지 80몰%의 (b-4)화합물, 카르복실기와 에폭시기의 반응 촉매로서, 예를 들면 트리스디메틸아미노메틸페놀을 (b-1) 내지 (b-4)화합물의 총 질량에 대하여 0.01 내지 5질량% 및 중합금지제로서, 예를 들면 히드로퀴논을 (b-1) 내지 (b-4)화합물의 총 질량에 대하여 0.001 내지 5질량%를 플라스크 내에 넣고 60 내지 130℃에서 1 내지 10시간 반응시킨다.Subsequently, the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen from air, and the molar fraction of the structural unit derived from the compound (b-2) in the copolymer obtained by copolymerizing the compounds (b-1) to (b-3). As a reaction catalyst of 80 mol% of the compound (b-4) and a carboxyl group and an epoxy group, for example, trisdimethylaminomethylphenol is 0.01-5 mass% with respect to the total mass of the compound (b-1)-(b-4). And as a polymerization inhibitor, for example, hydroquinone is added in an amount of 0.001 to 5% by mass based on the total mass of the compounds (b-1) to (b-4) in the flask and reacted at 60 to 130 ° C for 1 to 10 hours.

이때, 중합 조건과 마찬가지로 제조 설비나 중합에 의한 발열량 등을 고려하여 투입 방법이나 반응 온도를 적절하게 조정할 수도 있다.At this time, in the same manner as the polymerization conditions, the addition method and the reaction temperature may be appropriately adjusted in consideration of the amount of heat generated by the production equipment, polymerization, and the like.

이로써, 상기 (B)바인더 공중합체가 상기 (b-1) 내지 (b-3)화합물을 공중합하여 얻어지는 공중합체에 상기 (b-4)화합물을 더 반응시켜 얻어지는 불포화기를 포함하는 공중합체를 제조한다.Thereby, the said (B) binder copolymer manufactures the copolymer containing the unsaturated group obtained by making the said (b-4) compound further react with the copolymer obtained by copolymerizing the said (b-1)-(b-3) compound. do.

상기 (B)바인더 수지의 폴리스티렌으로 환산되어 겔 투과 크로마토그래피에 의해 측정된 중량평균분자량이 3,000 내지 100,000의 범위에 있는 것이 바람직하고, 5,000 내지 50,000의 범위에 있는 것이 보다 바람직하다. 중량평균분자량이 상술한 범위를 만족하면, 현상시에 막 감소가 생기기 어렵고, 현상시에 비화소 부분의 누락성이 양호한 경향이 있으므로 바람직하다.It is preferable that the weight average molecular weight converted into polystyrene of the said (B) binder resin and measured by the gel permeation chromatography exists in the range of 3,000-100,000, and it is more preferable that it exists in the range of 5,000-50,000. When the weight average molecular weight satisfies the above-mentioned range, film reduction is unlikely to occur at the time of development, and it is preferable because the missing property of the non-pixel portion at the time of development tends to be good.

상기 (B)바인더 수지의 산가는 고형분 기준으로 30 내지 150mgKOH/g의 범위가 바람직하다. 산가가 30mgKOH/g 미만일 경우 알칼리수에 대한 현상성이 낮아지고 기판에 잔사를 남길 우려가 있으며, 산가가 150mgKOH/g을 초과하는 경우에는 패 턴의 탈착이 일어날 가능성이 높아진다.The acid value of the (B) binder resin is preferably in the range of 30 to 150 mgKOH / g on a solid content basis. If the acid value is less than 30mgKOH / g, developability for alkaline water is low and there is a risk of leaving a residue on the substrate, if the acid value exceeds 150mgKOH / g is likely to desorption of the pattern.

상기 (B)바인더 수지의 분자량 분포[중량평균분자량(Mw)/수평균분자량(Mn)]는 1.5 내지 6.0인 것이 바람직하고, 1.8 내지 4.0인 것이 보다 바람직하다. 분자량분포가 1.5 내지 6.0 이면 현상성이 우수하기 때문에 바람직하다.It is preferable that it is 1.5-6.0, and, as for the molecular weight distribution [weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)] of the said (B) binder resin, it is more preferable that it is 1.8-4.0. If the molecular weight distribution is 1.5 to 6.0, it is preferable because it is excellent in developability.

상기 (B)바인더 수지의 포함량은 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분에 대해서 질량분율로 통상 5 내지 85질량%, 바람직하게는 10 내지 70질량%의 범위이다. 상기 (B)바인더 수지의 포함량이 상기의 기준으로 5 내지 85질량%이면 현상액에의 용해성이 충분하여 비화소 부분의 기판상에 현상 잔사가 발생하기 어렵고, 현상시에 노광부의 화소 부분의 막 감소가 생기기 어려워 비화소 부분의 누락성이 양호한 경향이 있으므로 바람직하다.The amount of the binder resin (B) is usually in the range of 5 to 85% by mass, preferably 10 to 70% by mass, based on the mass fraction with respect to the solid content in the colored photosensitive resin composition. When the content of the binder resin (B) is 5 to 85% by mass based on the above criteria, the solubility in the developer is sufficient, and development residues are less likely to occur on the substrate of the non-pixel portion, and the film of the pixel portion of the exposed portion is reduced during development. Since the tendency to hardly occur and the missing property of a non-pixel part tends to be favorable, it is preferable.

3. (C)광중합성 화합물3. (C) photopolymerizable compound

상기 (C)광중합성 화합물은 노광에 의해 단독 또는 및 후술하는 (D)광중합 개시제로부터 발생하는 활성 라디칼, 산 등의 작용으로 중합할 수 있는 화합물이다. 이의 예로 단관능 단량체, 2관능 단량체, 그 밖의 다관능 단량체 등을 들 수 있다.The said (C) photopolymerizable compound is a compound which can superpose | polymerize by the action of an active radical, an acid, etc. which generate | occur | produce by exposure alone or from the (D) photoinitiator mentioned later. Examples thereof include monofunctional monomers, bifunctional monomers, other polyfunctional monomers, and the like.

단관능 단량체의 구체적인 예로는 노닐페닐카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-에틸헥실카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, N-비닐피롤리돈 등을 들 수 있다.Specific examples of the monofunctional monomers include nonylphenylcarbitol acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-ethylhexylcarbitol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate and N-vinylpyrrolidone Etc. can be mentioned.

2관능 단량체의 구체적인 예로는 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 에틸 렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르, 3-메틸펜탄디올디(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Specific examples of the bifunctional monomer include 1,6-hexanedioldi (meth) acrylate, ethylene glycoldi (meth) acrylate, neopentylglycoldi (meth) acrylate, triethylene glycoldi (meth) acrylate, Bis (acryloyloxyethyl) ether of bisphenol A, 3-methylpentanediol di (meth) acrylate, etc. are mentioned.

그 밖의 다관능 단량체의 구체적인 예로서는 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. Specific examples of other polyfunctional monomers include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and pentaerythritol tree. (Meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ethoxylated dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, propoxylated dipentaerythritol Hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, etc. are mentioned.

이들 중에서 2관능 이상의 다관능 단량체가 바람직하게 사용된다. 특히 바람직하게는 5관능 이상의 다관능 단량체이다.Of these, bifunctional or higher polyfunctional monomers are preferably used. Especially preferably, it is a polyfunctional monomer more than 5-functional.

상기 (C)광중합성 화합물은 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분에 대해서 질량분율로 통상 5 내지 50질량%, 바람직하게는 7 내지 45질량%의 범위에서 사용된다. (C)광중합성 화합물이 상기의 기준으로 5 내지 50질량%의 범위이면 화소부의 강도나 평활성이 양호하게 되는 경향이 있기 때문에 바람직하다.The said (C) photopolymerizable compound is used in 5-50 mass% normally with respect to solid content in colored photosensitive resin composition, Preferably it is used in the range of 7-45 mass%. Since the intensity | strength and smoothness of a pixel part tend to become favorable when (C) photopolymerizable compound is the range of 5-50 mass% on the said reference | standard, it is preferable.

4. (D)광중합 개시제4. (D) Photoinitiator

상기 (D)광중합 개시제는 노광에 의해 활성 라디칼 또는 산을 발생시켜 상기 (C)광중합성 화합물을 중합시키는 역할을 수행한다. 또한 상기 (D)광중합 개시 제를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물은 고감도이고, 상기 조성물로 형성된 막은 강도 및 표면 평활성이 양호해진다.The photopolymerization initiator (D) plays a role of polymerizing the photopolymerizable compound (C) by generating an active radical or an acid by exposure. Moreover, the coloring photosensitive resin composition containing the said (D) photoinitiator is high sensitivity, and the film | membrane formed from the said composition becomes favorable intensity | strength and surface smoothness.

상기 (D)광중합 개시제로의 종류로는 특별히 한정하지 않으나, 트리아진계 화합물, 아세토페논계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 및 옥심 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상이다.Although it does not specifically limit as a kind as said (D) photoinitiator, It is 1 type, or 2 or more types chosen from the group which consists of a triazine type compound, an acetophenone type compound, a biimidazole type compound, and an oxime compound.

상기 트리아진계 화합물의 구체적인 예로는 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다.Specific examples of the triazine-based compound include 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine and 2,4-bis (trichloromethyl) -6 -(4-methoxynaphthyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine, 2,4-bis (Trichloromethyl) -6- (4-methoxystyryl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (5-methylfuran-2- Yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine , 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl ) -6- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine and the like.

상기 아세토페논계 화합물의 구체적인 예로는, 디에톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-메틸프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온의 올리고머, 및 하기 화학식 1로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.Specific examples of the acetophenone-based compound include diethoxy acetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyl dimethyl ketal, 2-hydroxy-1- [4- (2- Hydroxyethoxy) phenyl] -2-methylpropane-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one , 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propane- 1-one oligomer, the compound represented by following formula (1), etc. are mentioned.

<화학식 1><Formula 1>

Figure 112007094511887-PAT00001
Figure 112007094511887-PAT00001

상기 화학식 1 중, R1 내지 R4는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 수산기, 탄소수 1 내지 12의 알킬기로 치환되거나 비치환된 페닐기, 탄소수 1 내지 12의 알킬기로 치환되거나 비치환된 벤질기, 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬기로 치환되거나 비치환된 나프틸기를 나타낸다.In Formula 1, R 1 to R 4 are each independently hydrogen, a halogen, a hydroxyl group, a phenyl group unsubstituted or substituted with an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a benzyl group unsubstituted or substituted with an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or A naphthyl group unsubstituted or substituted with an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms is represented.

상기 화학식 2로 표시되는 화합물의 구체적인 예로는 2-메틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-에틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-프로필-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-부틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-메틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-메틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-에틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-에틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-메틸-2-메틸아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-메틸-2-디메틸아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-메틸-2-디에틸아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온 등을 들 수 있다.Specific examples of the compound represented by Formula 2 include 2-methyl-2-amino (4-morpholinophenyl) ethan-1-one and 2-ethyl-2-amino (4-morpholinophenyl) ethane-1 -One, 2-propyl-2-amino (4-morpholinophenyl) ethan-1-one, 2-butyl-2-amino (4-morpholinophenyl) ethan-1-one, 2-methyl-2 -Amino (4-morpholinophenyl) propane-1-one, 2-methyl-2-amino (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2-ethyl-2-amino (4-morpholino Phenyl) propane-1-one, 2-ethyl-2-amino (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2-methyl-2-methylamino (4-morpholinophenyl) propan-1-one , 2-methyl-2-dimethylamino (4-morpholinophenyl) propan-1-one, 2-methyl-2-diethylamino (4-morpholinophenyl) propan-1-one, etc. may be mentioned. .

상기 비이미다졸 화합물의 예로는, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(트리알콕시페닐)비이미다졸, 4,4',5,5' 위치의 페닐기가 카르보알콕시기에 의해 치환되어 있는 이미다졸 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중에서 2,2'비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸이 바람직하게 사용된다.Examples of the biimidazole compound include 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,3-dichloro Phenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (alkoxyphenyl) biimidazole , 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (trialkoxyphenyl) biimidazole, phenyl group in 4,4', 5,5 'position And imidazole compounds substituted with groups. Among them, 2,2'bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,3-dichlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole is preferably used.

상기 옥심 화합물의 구체적인 예로는 하기 화학식 2 내지 4로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.Specific examples of the oxime compound include compounds represented by the following formulas (2) to (4).

<화학식 2><Formula 2>

Figure 112007094511887-PAT00002
Figure 112007094511887-PAT00002

<화학식 3><Formula 3>

Figure 112007094511887-PAT00003
Figure 112007094511887-PAT00003

<화학식 4><Formula 4>

Figure 112007094511887-PAT00004
Figure 112007094511887-PAT00004

또한, 상기 (D)광중합 개시제는 본 발명의 효과를 손상하지 않는 정도이면 이 분야에서 통상 사용되고 있는 그 밖의 광중합개시제 등을 추가로 병용할 수도 있다. 그 밖의 광중합개시제로의 예로는 벤조인계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 안트라센계 화합물, 및 분자 중에 2개 이상의 머캅토기를 포함하는 다관능티올계 화합물 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.The photopolymerization initiator (D) may further use other photopolymerization initiators or the like commonly used in this field as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of other photopolymerization initiators include benzoin compounds, benzophenone compounds, thioxanthone compounds, anthracene compounds, and polyfunctional thiol compounds containing two or more mercapto groups in the molecule. These can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

상기 벤조인계 화합물의 구체적인 예로는 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등을 들 수 있다. 상기 벤조페논계 화합물의 구체적인 예로는 벤조페논, 0-벤조일벤조산 메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술피드, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논, 4,4'-디(N,N'-디메틸아미노)-벤조페논 등을 들 수 있다. 상기 티오크산톤계 화합물의 구체적인 예로는 2-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤 등을 들 수 있다. 상기 안트라센계 화합물의 구체적인 예로는 9,10-디메톡 시안트라센, 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센, 9,10-디에톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센 등을 들 수 있다. 그 밖에 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 10-부틸-2-클로로아크리돈, 2-에틸안트라퀴논, 벤질, 9,10-페난트렌퀴논, 캄포퀴논, 페닐클리옥실산 메틸, 티타노센 화합물 등을 그 밖의 광중합개시제의 예로 들 수 있다.Specific examples of the benzoin compound include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, and the like. Specific examples of the benzophenone compound include benzophenone, methyl 0-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenylsulfide, 3,3 ', 4,4'-tetra (tert -Butyl peroxycarbonyl) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, 4,4'-di (N, N'-dimethylamino) -benzophenone, etc. are mentioned. Specific examples of the thioxanthone-based compound include 2-isopropyl thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, 2,4-dichloro thioxanthone, 1-chloro-4-propoxy thioxanthone, and the like. Can be mentioned. Specific examples of the anthracene-based compound include 9,10-dimethoxy cyanracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene, and the like. Can be mentioned. Other 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 10-butyl-2-chloroacridone, 2-ethylanthraquinone, benzyl, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, phenylclioxylic acid Methyl, titanocene compounds, etc. are mentioned as an example of another photoinitiator.

상기 다관능 티올화합물의 구체적인 예로는, 트리스-(3-머캅토프로피온일옥시)-에틸-이소시아눌레이트, 트리메틸올프로판트리스-3-머캅토프로피오네이트, 펜타에리트리톨테트라키스-3-머캅토프로피오네이트, 디펜타에리트리톨테트라키스-3-머캅토프로피오네이트 등을 들 수 있다. 상기 다관능티올화합물은 상기화합물에 한정되지 않고 모두 본 발명에 포함된다.Specific examples of the multifunctional thiol compound include tris- (3-mercaptopropionyloxy) -ethyl-isocyanurate, trimethylolpropanetris-3-mercaptopropionate, pentaerythritol tetrakis-3- Mercaptopropionate, dipentaerythritol tetrakis-3-mercaptopropionate, and the like. The polyfunctional thiol compounds are not limited to the above compounds but are all included in the present invention.

또한, 상기 (D)광중합 개시제는 (D-1)광중합개시보조제를 더 포함하여 사용할 수도 있다. 상기 (D-1)광중합개시보조제가 더 포함되면, 이들을 포함하는 착색 감광성 수지 조성물은 더욱 고감도가 되어 이 조성물을 사용하여 컬러필터를 형성할 때의 생산성이 향상되므로 바람직하다.Moreover, the said (D) photoinitiator can also be used including the (D-1) photoinitiator adjuvant further. When the (D-1) photopolymerization initiation aid is further included, the colored photosensitive resin composition containing these is more sensitive, and thus the productivity at the time of forming a color filter using this composition is preferable.

상기 (D-1)광중합개시보조제로는 아민 화합물, 및 카르복실산 화합물이 바람직하게 사용된다.As said (D-1) photoinitiator adjuvant, an amine compound and a carboxylic acid compound are used preferably.

상기 아민 화합물의 구체적인 예로는 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민 등의 지방족 아민 화합물; 4-디메틸아미노벤조산 메틸, 4-디메틸아미노벤조산 에틸, 4-디메틸아미노벤조산 이소아밀, 4-디메틸아미노벤조산 2-에틸헥실, 벤조산 2-디메틸아미노에틸, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸 아미노)벤조페논(통칭: 미힐러 케톤), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등의 방향족 아민 화합물을 들 수 있다. 아민 화합물로서는 방향족 아민 화합물이 바람직하게 사용된다.Specific examples of the amine compound include aliphatic amine compounds such as triethanolamine, methyldiethanolamine and triisopropanolamine; 4-Dimethylaminobenzoic acid methyl, 4-dimethylaminobenzoic acid ethyl, 4-dimethylaminobenzoic acid isoamyl, 4-dimethylaminobenzoic acid 2-ethylhexyl, benzoic acid 2-dimethylaminoethyl, N, N-dimethylparatoluidine, 4,4 Aromatic amine compounds, such as "-bis (dimethyl amino) benzophenone (common name: Michler's ketone) and 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, are mentioned. As an amine compound, an aromatic amine compound is used preferably.

상기 카르복실산 화합물의 구체적인 예로는 페닐티오아세트산, 메틸페닐티오아세트산, 에틸페닐티오아세트산, 메틸에틸페닐티오아세트산, 디메틸페닐티오아세트산, 메톡시페닐티오아세트산, 디메톡시페닐티오아세트산, 클로로페닐티오아세트산, 디클로로페닐티오아세트산, N-페닐글리신, 페녹시아세트산, 나프틸티오아세트산, N-나프틸글리신, 나프톡시아세트산 등의 방향족 헤테로아세트산류를 들 수 있다.Specific examples of the carboxylic acid compound include phenylthioacetic acid, methylphenylthioacetic acid, ethylphenylthioacetic acid, methylethylphenylthioacetic acid, dimethylphenylthioacetic acid, methoxyphenylthioacetic acid, dimethoxyphenylthioacetic acid, chlorophenylthioacetic acid, And aromatic heteroacetic acids such as dichlorophenylthioacetic acid, N-phenylglycine, phenoxyacetic acid, naphthylthioacetic acid, N-naphthylglycine, and naphthoxyacetic acid.

상기 (D)광중합 개시제의 사용량은 고형분을 기준으로 (B)바인더 수지 및 (C)광중합성 화합물의 합계량에 대해서 질량분율로 통상 0.1 내지 40질량%, 바람직하게는 1 내지 30질량%고, 광중합 개시 보조제(D-1)의 사용량은 상기의 기준으로, 통상 0.1 내지 50질량%, 바람직하게는 1 내지 40질량%다.The use amount of the photopolymerization initiator (D) is usually 0.1 to 40% by mass, preferably 1 to 30% by mass, based on the solid content, based on the total amount of the (B) binder resin and (C) the photopolymerizable compound, and photopolymerization. The usage-amount of a starting adjuvant (D-1) is 0.1-50 mass% normally on the said reference | standard, Preferably it is 1-40 mass%.

상기 (D)광중합 개시제의 사용량이 상기의 범위에 있으면 착색 감광성 수지 조성물이 고감도화 되어 이 조성물을 사용하여 형성한 화소부의 강도나, 이 화소부의 표면에서의 평활성이 양호하게 되는 경향이 있기 때문에 바람직하다. 또한, 광중합 개시 보조제(D-1)의 사용량이 상기의 범위에 있으면 착색 감광성 수지 조성물의 감도가 더 높아지고, 이 조성물을 사용하여 형성되는 컬러필터의 생산성이 향상되는 경향이 있기 때문에 바람직하다.When the usage-amount of the said (D) photoinitiator exists in the said range, since the coloring photosensitive resin composition becomes high sensitivity and the intensity | strength of the pixel part formed using this composition and the smoothness in the surface of this pixel part tend to become favorable, it is preferable. Do. Moreover, when the usage-amount of a photoinitiator auxiliary (D-1) exists in the said range, since the sensitivity of a coloring photosensitive resin composition becomes higher and the productivity of the color filter formed using this composition tends to improve, it is preferable.

5. (E)열가교제5. (E) Thermal crosslinking system

상기 (E)열가교제는 심부 경화 및 기계적 강도를 높이기 위해 사용되며, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에서는 특히 도막의 표면조도를 향상시킬 수 있다. 상기 (E)열가교제로 우수한 표면조도를 얻기 위해서 노블락형 에폭시 수지를 포함한다. The thermal crosslinking agent (E) is used to increase the core hardening and mechanical strength, and particularly in the colored photosensitive resin composition of the present invention, it is possible to improve the surface roughness of the coating film. In order to obtain the outstanding surface roughness with the said (E) thermal crosslinking agent, it contains a noblock type epoxy resin.

상기 노볼락형 에폭시 수지의 구체적인 예로는 하기 화학식 5로 표시되는 화합물(노블락 에폭시 수지, 상품명: SUMI-EPOXY ESCN-195XL, 제조사; 스미또모 카가꾸 고교 ㈜)을 들 수 있다.Specific examples of the novolak-type epoxy resins include compounds represented by the following formula (5) (noblock epoxy resin, trade name: SUMI-EPOXY ESCN-195XL, manufacturer; Sumitomo Kagaku Kogyo Co., Ltd.).

<화학식 5><Formula 5>

Figure 112007094511887-PAT00005
Figure 112007094511887-PAT00005

상기 (E)열가교제는 본 발명의 목적을 벗어나지 않는 범위에서 착색 감광성 수지 조성물의 분야에서 열가교제로 사용되고 있는 기타 화합물들을 더 포함할 수 있다. 상기 기타 열가교제로는 에폭시 화합물, 다관능 이소시아네이트 화합물, 멜라민 화합물, 옥세탄 화합물 등을 들 수 있다. 상기 기타 화합물은 단독 또는 2종 이상이 상기 노볼락형 에폭시 수지와 조합하여 사용될 수 있다.The thermal crosslinking agent (E) may further include other compounds used as a thermal crosslinking agent in the field of colored photosensitive resin compositions within the scope of the present invention. As said other thermal crosslinking agent, an epoxy compound, a polyfunctional isocyanate compound, a melamine compound, an oxetane compound, etc. are mentioned. The said other compound may be used individually or in combination of 2 or more types with the said novolak-type epoxy resin.

상기 에폭시 화합물의 구체적인 예로는, 비스페놀 A계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 A계 에폭시 수지, 비스페놀 F계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 F계 에폭시 수지, 기타 방향족계 에폭시 수지, 지환족계 에폭시 수지, 글리시딜에스테르계 수지, 글리시딜 아민계 수지 등을 들 수 있다. 또한, 상기 에폭시 수지의 브롬화 유도체, 에폭시 수지 및 그 브롬화 유도체 이외의 지방족, 지환족 또는 방향족 에폭시 화합물, 부타디엔 (공)중합체 에폭시화물, 이소프렌 (공)중합체 에폭시화물, 글리시딜(메타)아크릴레이트 (공)중합체, 트리글리시딜이소시아눌레이트 등을 들 수 있다.Specific examples of the epoxy compound include bisphenol A epoxy resins, hydrogenated bisphenol A epoxy resins, bisphenol F epoxy resins, hydrogenated bisphenol F epoxy resins, other aromatic epoxy resins, cycloaliphatic epoxy resins, and glycidyl esters. Resin, glycidyl amine resin, and the like. In addition, brominated derivatives of the above epoxy resins, aliphatic, cycloaliphatic or aromatic epoxy compounds other than the epoxy resins and their brominated derivatives, butadiene (co) polymer epoxides, isoprene (co) polymer epoxides, glycidyl (meth) acrylates (Co) polymer, triglycidyl isocyanurate, etc. are mentioned.

상기 옥세탄 화합물의 구체적인 예로는, 카보네이트비스옥세탄, 크실렌비스옥세탄, 아디페이트비스옥세탄, 테레프탈레이트비스옥세탄, 시클로헥산디카르복실산비스옥세탄 등을 들 수 있다.Specific examples of the oxetane compound include carbonate bis oxetane, xylene bis oxetane, adipate bis oxetane, terephthalate bis oxetane, and cyclohexane dicarboxylic acid bis oxetane.

상기 (E)열가교제는 에폭시 화합물의 에폭시기, 옥세탄 화합물의 옥세탄 골격을 개환 중합하게 할 수 있는 경화보조제를 더 포함할 수 있다. 상기 경화보조 제의 구체적인 예로는, 다가 카르본산류, 다가 카르본산 무수물류, 산 발생제 등을 들 수 있다.The thermal crosslinking agent (E) may further include a curing aid capable of ring-opening polymerization of the epoxy group of the epoxy compound and the oxetane skeleton of the oxetane compound. Specific examples of the curing aid include polyhydric carboxylic acids, polyhydric carboxylic anhydrides, acid generators, and the like.

카르본산 무수물류의 예로는, 에폭시 수지 경화제로서 시판되는 것을 이용할 수 있다. 상기 에폭시 수지 경화제로서는, 예를 들면, 상품명 (아데카하도나 EH-700)(아데카공업㈜ 제조), 상품명 (리카싯도 HH)(신일본이화㈜ 제조), 상품명 (MH-700)(신일본이화㈜ 제조) 등을 들 수 있다.As an example of carboxylic anhydrides, what is marketed can be used as an epoxy resin hardening | curing agent. As said epoxy resin hardening | curing agent, a brand name (Adekahadona EH-700) (made by Adeka Industrial Co., Ltd.), a brand name (Rikaditdo HH) (made by Nippon Ewha Co., Ltd.), a brand name (MH-700) ( New Nippon Ewha Co., Ltd.) etc. are mentioned.

상기 (E)열가교제의 사용량은 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분에 대 해서 질량분율로 통상 0.5 내지 5질량%, 바람직하게는 1 내지 5질량%이다. 상기 (E)열가교제의 사용량이 상기의 범위에 있으면 착색 감광성 수지 조성물이 고감도화되어 이 조성물을 사용하여 형성한 화소부의 강도나, 이 화소부의 표면에서의 평활성이 양호하게 되는 경향이 있기 때문에 바람직하다.The usage-amount of the said (E) heat crosslinking agent is 0.5-5 mass% normally with respect to solid content in colored photosensitive resin composition, Preferably it is 1-5 mass%. When the usage-amount of the said (E) thermal crosslinking agent exists in the said range, since the coloring photosensitive resin composition becomes highly sensitive and the intensity | strength of the pixel part formed using this composition and the smoothness in the surface of this pixel part tend to become favorable, it is preferable. Do.

6. (F)용매6. (F) Solvent

상기 (F)용매는 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물이 적당한 점성을 갖고, 나머지 성분들을 용이하게 용해시킬 수 있으면 특별히 제한되지 않으며 착색 감광성 수지 조성물의 분야에서 사용되고 있는 각종 유기 용매를 사용할 수 있다.The solvent (F) is not particularly limited as long as the colored photosensitive resin composition of the present invention has a suitable viscosity and can easily dissolve the remaining components, and various organic solvents used in the field of the colored photosensitive resin composition can be used.

상기 (F)용매의 구체적인 예로는 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르 등의 에틸렌글리콜모노알킬에테르류; 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르 등의 디에틸렌글리콜디알킬에테르류; 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트 등의 에틸렌글리콜알킬에테르아세테이트류, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 프로필렌글리콜디알킬에테르류; 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 메톡시부틸아세테이트 및 메톡시펜틸아세테이트 등의 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 등의 방향족 탄화수소류, 메틸에틸케톤, 아세톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 에탄올, 프로 판올, 부탄올, 헥사놀, 시클로헥사놀, 에틸렌글리콜, 글리세린 등의 알코올류, 3-에톡시프로피온산 에틸, 3-메톡시프로피온산 메틸 등의 에스테르류; γ-부티로락톤 등의 환상 에스테르류 등을 들 수 있다.Specific examples of the solvent (F) include ethylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, and ethylene glycol monobutyl ether; Diethylene glycol dialkyl ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether and diethylene glycol dibutyl ether; Propylene glycol dialkyl ethers such as ethylene glycol alkyl ether acetates such as methyl cellosolve acetate and ethyl cellosolve acetate, and propylene glycol monomethyl ether; Alkylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, methoxybutyl acetate and methoxypentyl acetate; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and mesitylene, ketones such as methyl ethyl ketone, acetone, methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; Alcohols such as ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, glycerin, esters such as ethyl 3-ethoxypropionate and methyl 3-methoxypropionate; Cyclic ester, such as (gamma) -butyrolactone, etc. are mentioned.

상기의 용매 중, 도포성, 건조성 면에서 바람직하게는 상기 용매 중에서 비점이 100℃ 내지 200℃인 유기 용매를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류, 케톤류, 3-에톡시프로피온산 에틸이나, 3-메톡시프로피온산 메틸 등의 에스테르류를 들 수 있으며, 더욱 바람직하게는 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 시클로헥사논, 3-에톡시프로피온산 에틸, 3-메톡시프로피온산 메틸 등을 들 수 있다.Among the solvents described above, organic solvents having a boiling point of 100 ° C. to 200 ° C. are preferable in terms of coating properties and drying properties, and more preferably alkylene glycol alkyl ether acetates, ketones, and 3-e. Ester, such as ethyl oxypropionate and methyl 3-methoxy propionate, is mentioned, More preferably, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, cyclohexanone, 3- Ethyl ethoxypropionate, methyl 3-methoxypropionate, and the like.

이들 (F)용매는 각각 단독으로 또는 2종류 이상 혼합하여 사용할 수 있다.These (F) solvents can be used individually or in mixture of 2 or more types, respectively.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물 중의 (F)용매의 포함량은 그것을 포함하는 착색 감광성 수지 조성물 전체량에 대하여 질량 분율로, 통상 60 내지 90질량%, 바람직하게는 70 내지 85질량%이다. (F)용매의 포함량이 상기의 기준으로 60 내지 90질량%의 범위이면 롤 코터, 스핀 코터, 슬릿 앤드 스핀 코터, 슬릿 코터(다이 코터라고도 하는 경우가 있음), 잉크젯 등의 도포 장치로 도포했을 때 도포성이 양호해지는 경향이 있기 때문에 바람직하다.The content of the (F) solvent in the colored photosensitive resin composition of the present invention is usually 60 to 90% by mass, preferably 70 to 85% by mass, based on the mass fraction of the total amount of the colored photosensitive resin composition including the same. (F) When the content of the solvent is in the range of 60 to 90% by mass based on the above criteria, it is applied with a coating device such as a roll coater, spin coater, slit and spin coater, slit coater (sometimes referred to as die coater), inkjet, or the like. It is preferable because the coating property tends to be good at the time.

7. (G)첨가제7. (G) Additives

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에는 필요에 따라 충진제, 상기 (B)바 인더 수지와 다른 중합체, 안료 분산제, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 응집 방지제 등의 (G)첨가제를 더 포함할 수 있다.The coloring photosensitive resin composition of this invention may further contain (G) additives, such as a filler, a polymer other than the said (B) binder resin, a pigment dispersing agent, an adhesion promoter, antioxidant, a ultraviolet absorber, and an aggregation inhibitor as needed. .

상기 충진제의 구체적인 예는 유리, 실리카, 알루미나 등을 들 수 있다. 상기 다른 중합체의 구체적인 예로는 폴리비닐알코올, 폴리아크릴산, 폴리에틸렌글리콜모노알킬에테르, 폴리플루오로알킬아크릴레이트, 폴리에스테르, 폴리우레탄 등의 열가소성 수지 등을 들 수 있다.Specific examples of the filler include glass, silica, alumina and the like. Specific examples of the other polymers include thermoplastic resins such as polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ether, polyfluoroalkyl acrylate, polyester, polyurethane, and the like.

상기 안료 분산제로는 시판되는 계면 활성제를 이용할 수 있고, 예를 들면 실리콘계, 불소계, 에스테르계, 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양성 등의 계면 활성제 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용될 수 있다. 상기의 계면 활성제의 구체적인 예로는 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르류, 폴리에틸렌글리콜디에스테르류, 소르비탄 지방상 에스테르류, 지방산 변성 폴리에스테르류, 3급 아민 변성 폴리우레탄류, 폴리에틸렌이민류 등이 있다. 이외에, 상품명으로 KP(신에쯔 가가꾸 고교㈜ 제조), 폴리플로우(POLYFLOW)(교에이샤 가가꾸㈜ 제조), 에프톱(EFTOP)(토켐 프로덕츠사 제조), 메가팩(MEGAFAC)(다이닛본 잉크 가가꾸 고교㈜ 제조), 플로라드(Flourad)(스미또모 쓰리엠㈜ 제조), 아사히가드(Asahi guard), 서플론(Surflon)(이상, 아사히 글라스㈜ 제조), 솔스퍼스(SOLSPERSE)(제네까㈜ 제조), EFKA(EFKA 케미칼스사 제조), PB 821(아지노모또㈜ 제조) 등을 들 수 있다.Commercially available surfactants may be used as the pigment dispersant, and examples thereof include surfactants such as silicone, fluorine, ester, cationic, anionic, nonionic and amphoteric. These can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively. Specific examples of the surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyethylene glycol diesters, sorbitan fatty acid esters, fatty acid modified polyesters, tertiary amine modified polyurethanes, Polyethyleneimines and the like. In addition, KP (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), POLYFLOW (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), EFTOP (manufactured by Tochem Products Co., Ltd.), MEGAFAC (Die Nippon Inks Kagaku Kogyo Co., Ltd.), Florad (Sumitomo 3M Co., Ltd.), Asahi guard, Suflon (above, Asahi Glass Co., Ltd.), SOLSPERSE (Genesis) KK), EFKA (made by EFKA Chemicals Co., Ltd.), PB 821 (made by Ajinomoto Co., Ltd.), etc. are mentioned.

상기 밀착 촉진제의 구체적인 예로는 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메 톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란, 3-이소시아네이트프로필트리메톡시실란, 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등을 들 수 있다. 상기 밀착 촉진제는 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있고, 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분에 대해서 질량분율로 통상 0.01 내지 10질량%, 바람직하게는 0.05 내지 2질량%를 포함한다.Specific examples of the adhesion promoter include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N -(2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltri Methoxysilane, 3-isocyanatepropyltrimethoxysilane, 3-isocyanatepropyltriethoxysilane, and the like. The said adhesion promoter can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively, Usually 0.01-10 mass%, Preferably it is 0.05-2 mass% with respect to solid content in a coloring photosensitive resin composition.

상기 산화 방지제의 구체적인 예로는 2,2'-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,6-디-t-부틸-4-메틸페놀 등을 들 수 있다. 상기 자외선 흡수제의 구체적인 예로는 2-(3-tert-부틸-2-히드록시-5-메틸페닐)-5-클로로벤조티리아졸, 알콕시벤조페논 등을 들 수 있다. 상기 응집 방지제의 구체적인 예로는 폴리아크릴산 나트륨 등을 들 수 있다.Specific examples of the antioxidant include 2,2'-thiobis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol and the like. Specific examples of the ultraviolet absorber include 2- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl) -5-chlorobenzothiazole, alkoxybenzophenone and the like. Specific examples of the aggregation inhibitor include sodium polyacrylate and the like.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은, 예를 들면 이하와 같은 방법에 의해 제조할 수 있다.The coloring photosensitive resin composition of this invention can be manufactured by the following methods, for example.

상기 (A)착색재료를 미리 (F)용매에 포함시켜 착색재료의 평균 입경이 0.2㎛ 이하 정도가 될 때까지 비드 밀 등을 이용하여 분산시킨다. 이때, 필요에 따라 안료 분산제가 사용되고, 또한 상기 (B)바인더 수지의 일부 또는 전부가 배합되 는 경우도 있다. 얻어진 분산액(이하, 밀 베이스라고 하는 경우도 있음)에 상기 (B)바인더 수지의 나머지, 상기 (C)광중합성 화합물, (D)광중합 개시제, 및 (E)열가교제를 필요에 따라 사용되는 그 밖의 성분, 필요에 따라 추가의 용매를 소정의 농도가 되도록 더 첨가하여 목적하는 착색 감광성 수지 조성물을 얻는다. The said (A) coloring material is previously contained in the (F) solvent, and it disperse | distributes using a bead mill until the average particle diameter of a coloring material becomes about 0.2 micrometer or less. Under the present circumstances, a pigment dispersant is used as needed, and some or all of said (B) binder resin may be mix | blended. The remainder of the (B) binder resin, the (C) photopolymerizable compound, (D) photopolymerization initiator, and (E) thermal crosslinking agent are used in the obtained dispersion (hereinafter sometimes referred to as mill base) as necessary. An additional solvent is further added so that it may become a predetermined density | concentration as needed, and a desired coloring photosensitive resin composition is obtained.

또한, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은, 예를 들면 이하와 같은 방법에 의해 제조할 수 있다. In addition, the coloring photosensitive resin composition of this invention can be manufactured by the following methods, for example.

상기 (A)착색재료를 미리 (F)용매에 포함시켜 착색재료의 평균 입경이 0.2㎛ 이하 정도가 될 때까지 비드 밀 등을 이용하여 분산시킨다. 이때, 필요에 따라 안료 분산제가 사용되고, 또한 상기 (B)바인더 수지의 일부 또는 전부가 배합되는 경우도 있다. 얻어진 분산액(이하, 밀 베이스라고 하는 경우도 있음)에 상기 (B)바인더 수지의 나머지, 상기 (C)광중합성 화합물 및 (D)광중합 개시제, 필요에 따라 사용되는 그 밖의 성분, 필요에 따라 추가의 용매를 소정의 농도가 되도록 더 첨가하여 목적하는 착색 감광성 수지 조성물을 얻는다. The said (A) coloring material is previously contained in the (F) solvent, and it disperse | distributes using a bead mill until the average particle diameter of a coloring material becomes about 0.2 micrometer or less. At this time, a pigment dispersant is used as needed, and some or all of said (B) binder resin may be mix | blended. The remainder of the (B) binder resin, the (C) photopolymerizable compound and the (D) photopolymerization initiator, other components used as necessary, and, if necessary, added to the obtained dispersion (hereinafter sometimes referred to as a mill base). Solvent is further added to a predetermined concentration to obtain a desired colored photosensitive resin composition.

Ⅱ. 착색 감광성 수지 조성물을 이용한 패턴형성방법II. Pattern Forming Method Using Colored Photosensitive Resin Composition

기재 상에 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 이용한 착색 감광성 수지층을 형성한다. 더 구체적으로 설명하면, 우선, 상기 조성물을 기재(제한되지 않음, 통상은 유리 혹은 실리콘 웨이퍼) 또는 먼저 형성된 착색 감광성 수지 조성물의 고형분을 포함하는 층 위에 도포하여 선굽기(prebake)함으로써 용매 등의 휘발 성분을 제거하여 평활한 도막을 얻는다. 이 때의 도막의 두께는 대개 1 내지 3㎛ 정도이다. The colored photosensitive resin layer using the colored photosensitive resin composition of this invention is formed on a base material. More specifically, first, the composition is applied to a substrate (not limited, usually glass or silicon wafer) or a layer containing the solids of the previously formed colored photosensitive resin composition to prebake and volatilize the solvent or the like. The component is removed to obtain a smooth coating film. The thickness of the coating film at this time is about 1-3 micrometers normally.

이어서, 상기 착색 감광성 수지층의 일부 영역을 선택적으로 노광한다. 더 구체적으로 설명하면, 상기 착색 감광성 수지층에 목적하는 패턴을 얻기 위해 마스크를 통해 특정 영역에 광선을 조사한다. 이때, 노광영역 전체에 균일하게 평행 광선이 조사되고, 마스크와 기판이 정확히 위치가 맞도록 마스크 얼라이너나 스테퍼 등의 장치를 사용하는 것이 바람직하다.Subsequently, a partial region of the colored photosensitive resin layer is selectively exposed. More specifically, in order to obtain a desired pattern in the said colored photosensitive resin layer, a light ray is irradiated to a specific area | region through a mask. Under the present circumstances, it is preferable to use apparatuses, such as a mask aligner and a stepper, so that a parallel light beam may be irradiated uniformly to the whole exposure area | region, and a mask and a board | substrate exactly match.

상기 선택적으로 노광된 착색 감광성 수지층을 현상하여 노광 영역 또는 비노광 영역을 제거하여 패턴을 형성한다. 더 구체적으로 설명하면, 선택적으로 노광되어 경화가 종료된 착색 감광성 수지층을 알칼리 수용액에 접촉시켜 비노광 영역을 용해시키고 현상함으로써 목적하는 패턴을 제조할 수 있게 된다. 현상 후, 필요에 따라 150 내지 230℃에서 10 내지 60분 정도의 후굽기(postbake)를 실시할 수 있다. The selectively exposed colored photosensitive resin layer is developed to remove the exposed area or the non-exposed area to form a pattern. More specifically, the desired pattern can be produced by contacting the colored photosensitive resin layer, which has been selectively exposed and cured, with an aqueous alkali solution to dissolve and develop the non-exposed areas. After development, postbaking may be performed at 150 to 230 ° C. for about 10 to 60 minutes as necessary.

상기 알칼리 현상액은 통상 알칼리성 화합물과 계면 활성제를 포함하는 수용액이다. 알칼리성 화합물은 무기 및 유기 알칼리성 화합물 중 어느 것이어도 좋다. The alkaline developer is usually an aqueous solution containing an alkaline compound and a surfactant. The alkaline compound may be either an inorganic or organic alkaline compound.

상기 무기 알칼리성 화합물의 구체예로써는 수산화나트륨, 수산화칼륨, 인산수소이나트륨, 인산이수소나트륨, 인산수소이암모늄, 인산이수소암모늄, 인산이수소칼륨, 규산나트륨, 규산칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 붕산나트륨, 붕산칼륨, 암모니아 등을 들 수 있다. 또한, 상기 유기 알칼리성 화합물의 구체예로써는 테트라메틸암모늄히드록시드, 2-히드록시에틸트리메틸 암모늄히드록시드, 모노메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 모노에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 모노이소프로필아민, 디이소프로필아민, 에탄올아민 등을 들 수 있다. 이들 무기 및 유기 알칼리성 화합물은 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 상기 알칼리 현상액 중의 알칼리성 화합물의 바람직한 농도는 0.01 내지 10질량%의 범위이고, 보다 바람직하게는 0.03 내지 5 질량%이다. Specific examples of the inorganic alkaline compound include sodium hydroxide, potassium hydroxide, disodium hydrogen phosphate, sodium dihydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, sodium silicate, potassium silicate, sodium carbonate, potassium carbonate, hydrogen carbonate Sodium, potassium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, ammonia and the like. Specific examples of the organic alkaline compound include tetramethylammonium hydroxide, 2-hydroxyethyltrimethyl ammonium hydroxide, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, Monoisopropylamine, diisopropylamine, ethanolamine and the like. These inorganic and organic alkaline compounds can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively. The concentration of the alkaline compound in the alkaline developer is in the range of 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.03 to 5% by mass.

상기 알칼리 현상액 중의 계면 활성제는 비 이온계 계면 활성제, 음이온계 계면 활성제 또는 양이온계 계면 활성제 중 모두 사용할 수 있다. 상기 비 이온계 계면 활성제의 구체예로써는 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌아릴에테르, 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르, 그 밖의 폴리옥시에틸렌 유도체, 옥시에틸렌/옥시프로필렌 블록 공중합체, 소르비탄 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비탄 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비톨 지방산 에스테르, 글리세린 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌알킬아민 등을 들 수 있다. 상기 음이온계 계면 활성제의 구체예로써는 라우릴알코올황산에스테르나트륨이나 올레일알코올황산에스테르나트륨 등의 고급 알코올 황산에스테르염류, 라우릴황산나트륨이나 라우릴황산암모늄 등의 알킬황산염류, 도데실벤젠술폰산나트륨이나 도데실나프탈렌술폰산나트륨 등의 알킬아릴술폰산염류 등을 들 수 있다. 상기 양이온계 계면 활성제의 구체예로써는 스테아릴아민염산염이나 라우릴트리메틸암모늄클로라이드 등의 아민염 또는 4급 암모늄염 등을 들 수 있다. 이들 계면 활성제는 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. The surfactant in the alkaline developer may be used either among nonionic surfactants, anionic surfactants or cationic surfactants. Specific examples of the non-ionic surfactant include polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene aryl ether, polyoxyethylene alkyl aryl ether, other polyoxyethylene derivatives, oxyethylene / oxypropylene block copolymers, sorbitan fatty acid esters, Polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitol fatty acid ester, glycerin fatty acid ester, polyoxyethylene fatty acid ester, polyoxyethylene alkylamine and the like. Specific examples of the anionic surfactants include higher alcohol sulfate ester salts such as sodium lauryl alcohol sulfate and sodium oleyl alcohol sulfate, alkyl sulfates such as sodium lauryl sulfate and ammonium lauryl sulfate, sodium dodecylbenzene sulfonate, Alkyl aryl sulfonates, such as sodium dodecyl naphthalene sulfonate, etc. are mentioned. Specific examples of the cationic surfactant include amine salts such as stearylamine hydrochloride and lauryl trimethylammonium chloride, or quaternary ammonium salts. These surfactant can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

상기 알칼리 현상액 중의 계면 활성제의 농도는, 통상 0.01 내지 10질량%, 바람직하게는 0.05 내지 8질량%, 보다 바람직하게는 0.1 내지 5질량%이다. The density | concentration of surfactant in the said alkaline developing solution is 0.01-10 mass% normally, Preferably it is 0.05-8 mass%, More preferably, it is 0.1-5 mass%.

그 일례로서, 이하와 같이하여 기재 상에 도포하고, 광 경화 및 현상을 하여 패턴을 형성하게 되고, 블랙 매트릭스 또는 착색 화소(착색 화상)로 사용할 수 있게 된다.As an example, it can apply | coat on a base material as follows, and perform a photocuring and image development to form a pattern, and can be used as a black matrix or a colored pixel (colored image).

Ⅲ. 착색 감광성 수지 조성물을 이용한 컬러필터III. Color filter using colored photosensitive resin composition

본 발명에 따른 컬러필터는 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 소정의 패턴으로 형성 후 노광, 현상하여 형성되는 컬러층을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다. The color filter according to the present invention is characterized by comprising a color layer formed by forming the colored photosensitive resin composition of the present invention in a predetermined pattern, followed by exposure and development.

착색 감광성 수지 조성물의 패턴 형성방법은 전술한 바에 의하고 자세한 설명은 생략한다. 전술한 바와 같이 착색 감광성 수지 조성물 용액의 도포, 선굽기, 얻어지는 건조 도막에의 패턴화 노광, 그리고 현상이라는 각 조작을 거쳐 감광성 수지 조성물 중의 착색재료의 색에 상당하는 화소 또는 블랙 매트릭스가 얻어진다. 또한 이러한 조작을 컬러필터에 필요로 하는 색의 수만큼 반복함으로써 컬러필터를 얻을 수 있다. 컬러필터의 구성 및 제조방법은 본 기술분야에서 잘 알려져 있으므로 그에 의하고 자세한 설명은 생략한다. The pattern formation method of a coloring photosensitive resin composition is based on the above-mentioned, and detailed description is abbreviate | omitted. As mentioned above, the pixel or black matrix corresponded to the color of the coloring material in the photosensitive resin composition is obtained through each operation of application | coating of a coloring photosensitive resin composition solution, a front baking, patterning exposure to the obtained dry coating film, and image development. In addition, a color filter can be obtained by repeating this operation by the number of colors required for the color filter. Since the configuration and manufacturing method of the color filter are well known in the art, detailed description thereof will be omitted.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 제조된 컬러필터는 면내의 막 두께차가 적고, 예를 들면 1 내지 3㎛의 막 두께로 면내 막 두께차를 0.15㎛ 이하, 나아가 0.05㎛ 이하로 할 수 있다. 따라서, 이렇게 해서 얻어지는 컬러필터는 평활성이 우수하고, 이것을 컬러 액정 표시 장치에 조립함으로써 우수한 품질의 액 정 표시 장치를 높은 수율로 제조할 수 있다. The color filter manufactured using the coloring photosensitive resin composition of this invention has little in-plane film thickness difference, For example, it can make in-plane film thickness difference 0.15 micrometer or less and further 0.05 micrometer or less with the film thickness of 1-3 micrometers. . Therefore, the color filter obtained in this way is excellent in smoothness, and it can manufacture a liquid crystal display device of excellent quality by high yield by assembling this to a color liquid crystal display device.

이하, 실시예에 의해 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명이 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 또한, 이하의 실시예, 비교예에서 포함량을 나타내는 "%" 및 "부"는 특별히 언급하지 않는 한 질량 기준이다.Hereinafter, although an Example demonstrates this invention more concretely, this invention is not limited by an Example. In addition, "%" and "part" which show an inclusion amount in a following example and a comparative example are a mass reference | standard unless there is particular notice.

합성예Synthesis Example 1: 바인더 수지 B-1의 합성 1: Synthesis of Binder Resin B-1

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크를 준비하였다. 한편, 모노머 적하 로트로서, N-비닐피롤리돈 11.1부(0.1몰), 아크릴산 21.6부(0.3몰), 비닐톨루엔 70.8부(0.6몰), t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 4부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(이하, “PGMEA”라 함) 40부를 투입후 교반 혼합하여 준비하였다. 연쇄 이동제 적하조로서, n-도데칸티올 6부, PGMEA 24부를 넣고 교반 혼합한 것을 준비하였다. 이후 플라스크에 PGMEA 395부를 도입하고 플라스크내 분위기를 공기에서 질소로 한 후 교반하면서 플라스크의 온도를 90℃까지 승온하였다. 이어서 모노머 및 연쇄 이동제를 적하 로트로부터 적하를 개시하였다. 적하는, 90℃를 유지하면서, 각각 2시간동안 진행하고 1시간 후에 110℃로 승온하여 3시간 유지한 뒤, 가스 도입관을 도입시켜, 산소/질소=5/95(v/v)혼합 가스의 버블링을 개시하였다. 이어서, 글리시딜메타크릴레이트 14.2부(0.1몰: 본 반응에 사용한 메타크릴산의 카르복실기에 대하여 33몰%), 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀) 0.4부, 트리에틸아민 0.8부를 플라스크내에 투입하여 110℃에 서 8시간 반응을 계속하고, 고형분 산가가 71㎎KOH/g인 바인더 수지 B-1를 얻었다. GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량은 18,000이고, 분자량 분포(Mw/Mn)는 2.3이었다.A flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping lot, and a nitrogen inlet tube was prepared. Meanwhile, as the monomer dropping lot, 11.1 parts (0.1 mole) of N-vinylpyrrolidone, 21.6 parts (0.3 mole) of acrylic acid, 70.8 parts (0.6 mole) of vinyltoluene, and t-butylperoxy-2-ethylhexanoate 4 In addition, 40 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter referred to as "PGMEA") were added, followed by stirring and mixing. As a chain transfer agent dropping tank, 6 parts of n-dodecanethiol and 24 parts of PGMEA were put, and the thing which stirred and mixed was prepared. Thereafter, 395 parts of PGMEA was introduced into the flask, and the atmosphere in the flask was changed to nitrogen from air, and then the temperature of the flask was raised to 90 ° C. while stirring. The monomer and chain transfer agent were then started dropping from the dropping lot. The dropwise addition was carried out for 2 hours while maintaining 90 ° C, and after 1 hour, the temperature was raised to 110 ° C and maintained for 3 hours, and then a gas introduction tube was introduced to provide oxygen / nitrogen = 5/95 (v / v) mixed gas. Bubbling of was initiated. Next, 14.2 parts of glycidyl methacrylate (0.1 mol: 33 mol% with respect to the carboxyl group of methacrylic acid used for this reaction), 2,2'- methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol) 0.4 0.8 parts of triethylamine were added to the flask, and the reaction was continued at 110 ° C. for 8 hours to obtain binder resin B-1 having a solid acid value of 71 mgKOH / g. The weight average molecular weight of polystyrene conversion measured by GPC was 18,000, and molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.3.

합성예Synthesis Example 2: 바인더 수지 B-2의 합성 2: Synthesis of Binder Resin B-2

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크를 준비하였다. 한편, 모노머 적하 로트로서, 디시클로펜타닐메타크릴레이트 22부(0.1몰), 아크릴산 21.6부(0.3몰), 벤질메타크릴레이트 105.6부(0.6몰), t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 4부, PGMEA 40부를 투입후 교반 혼합하여 준비하였다. 연쇄 이동제 적하조로서, n-도데칸티올 6부, PGMEA 24부를 넣고 교반 혼합한 것을 준비하였다. 이후 플라스크에 PGMEA 395부를 도입하고 플라스크내 분위기를 공기에서 질소로 한 후 교반하면서 플라스크의 온도를 90℃까지 승온하였다. 이어서 모노머 및 연쇄 이동제를 적하 로트로부터 적하를 개시하였다. 적하는, 90℃를 유지하면서, 각각 2시간 동안 진행하고 1시간 후에 110℃로 승온하여 3시간 유지한 뒤, 가스 도입관을 도입시켜, 산소/질소=5/95(v/v)혼합 가스의 버블링을 개시하였다. 이어서, 글리시딜메타크릴레이트 14.2부(0.1몰: 본 반응에 사용한 메타크릴산의 카르복실기에 대하여 33몰%), 2,2‘-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀) 0.4부, 트리에틸아민 0.8부를 플라스크내에 투입하여 110℃에서 8시간 반응을 계속하고, 고형분 산가가 74㎎KOH/g인 바인더 수지 B-2를 얻었다. GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량은 18,000이고, 분자량 분포(Mw/Mn)는 2.2이었다.A flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping lot, and a nitrogen inlet tube was prepared. Meanwhile, as a monomer dropping lot, 22 parts (0.1 mole) of dicyclopentanyl methacrylate, 21.6 parts (0.3 mole) of acrylic acid, 105.6 parts (0.6 mole) of benzyl methacrylate, and t-butylperoxy-2-ethylhexano 4 parts of Eight and 40 parts of PGMEA were added, followed by stirring and mixing. As a chain transfer agent dropping tank, 6 parts of n-dodecanethiol and 24 parts of PGMEA were put, and the thing mixed with stirring was prepared. Thereafter, 395 parts of PGMEA was introduced into the flask, and the atmosphere in the flask was changed to nitrogen from air, and then the temperature of the flask was raised to 90 ° C. while stirring. The monomer and chain transfer agent were then started dropping from the dropping lot. The dropwise addition was carried out for 2 hours while maintaining 90 ° C, and after 1 hour, the temperature was raised to 110 ° C and maintained for 3 hours, and then a gas introduction tube was introduced to provide oxygen / nitrogen = 5/95 (v / v) mixed gas. Bubbling of was initiated. Next, 14.2 parts of glycidyl methacrylate (0.1 mol: 33 mol% with respect to the carboxyl group of methacrylic acid used for this reaction), 2,2'- methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol) 0.4 0.8 parts of triethylamine were added to the flask, and the reaction was continued at 110 ° C. for 8 hours to obtain binder resin B-2 having a solid acid value of 74 mgKOH / g. The weight average molecular weight of polystyrene conversion measured by GPC was 18,000, and molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.2.

합성예Synthesis Example 3: 바인더 수지 B-3의 합성 3: Synthesis of Binder Resin B-3

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크를 준비하였다. 한편, 모노머 적하 로트로서, 2-히드록시프로필데히드로아비에트산 아크릴레이트 44.5부(0.1몰), 아크릴산 21.6부(0.3몰), 벤질메타크릴레이트 105.6부(0.6몰), t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 4부, PGMEA 40부를 투입후 교반 혼합하여 준비하였다. 연쇄 이동제 적하조로서, n-도데칸티올 6부, PGMEA 24부를 넣고 교반 혼합한 것을 준비하였다. 이후 플라스크에 PGMEA 395부를 도입하고 플라스크내 분위기를 공기에서 질소로 한 후 교반하면서 플라스크의 온도를 90℃까지 승온하였다. 이어서 모노머 및 연쇄 이동제를 적하 로트로부터 적하를 개시했다. 적하는, 90℃를 유지하면서, 각각 2시간 동안 진행하고 1시간 후에 110℃로 승온하여 3시간 유지한 뒤, 가스 도입관을 도입시켜, 산소/질소=5/95(v/v)혼합 가스의 버블링을 개시하였다. 이어서, 글리시딜메타크릴레이트 14.2부(0.1몰: 본 반응에 사용한 메타크릴산의 카르복실기에 대하여 33몰%), 2,2‘-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀) 0.4부, 트리에틸아민 0.8부를 플라스크내에 투입하여 110℃에서 8시간 반응을 계속하고, 고형분 산가가 73㎎KOH/g인 바인더 수지 B-3를 얻었다. GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량은 18,500이고, 분자량 분포(Mw/Mn)는 2.3이었다.A flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping lot, and a nitrogen inlet tube was prepared. On the other hand, as a monomer dropping lot, 44.5 parts (0.1 mol) of 2-hydroxypropyl dehydroabiric acid acrylate, 21.6 parts (0.3 mol) acrylic acid, 105.6 parts (0.6 mol) benzyl methacrylate, t-butylperoxy- 4 parts of 2-ethylhexanoate and 40 parts of PGMEA were added, followed by stirring and mixing. As a chain transfer agent dropping tank, 6 parts of n-dodecanethiol and 24 parts of PGMEA were put, and the thing which stirred and mixed was prepared. Thereafter, 395 parts of PGMEA was introduced into the flask, and the atmosphere in the flask was changed to nitrogen from air, and then the temperature of the flask was raised to 90 ° C. while stirring. Subsequently, dropping of the monomer and the chain transfer agent was started from the dropping lot. The dropwise addition was carried out for 2 hours while maintaining 90 ° C, and after 1 hour, the temperature was raised to 110 ° C and maintained for 3 hours, and then a gas introduction tube was introduced to provide oxygen / nitrogen = 5/95 (v / v) mixed gas. Bubbling of was initiated. Next, 14.2 parts of glycidyl methacrylate (0.1 mol: 33 mol% with respect to the carboxyl group of methacrylic acid used for this reaction), 2,2'- methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol) 0.4 0.8 parts of triethylamine were added to the flask, and the reaction was continued at 110 ° C for 8 hours to obtain a binder resin B-3 having a solid acid value of 73 mgKOH / g. The weight average molecular weight of polystyrene conversion measured by GPC was 18,500, and molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.3.

합성예Synthesis Example 4: 바인더 수지 B-4의 합성 4: Synthesis of Binder Resin B-4

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크를 준비하였다. 한편, 모노머 적하 로트로서, 아크릴산 14.4부(0.2몰), 벤질메타크릴레이트 140.8부(0.8몰), t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 4부, PGMEA 40부를 투입후 교반 혼합하여 준비하였다. 연쇄 이동제 적하조로서, n-도데칸티올6부, PGMEA 24부를 넣고 교반 혼합한 것을 준비했다. 이후 플라스크에 PGMEA 395부를 도입하고 플라스크내 분위기를 공기에서 질소로 한 후 교반하면서 플라스크의 온도를 90℃까지 승온하였다. 이어서 모노머 및 연쇄 이동제를 적하 로트로부터 적하를 개시하였다. 적하는, 90℃를 유지하면서, 각각 2시간 동안 진행하고 1시간 후에 110℃승온하여 8시간 반응을 계속하고, 고형분 산가가 80㎎KOH/g인 바인더 수지 B-4를 얻었다. GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량은 19,200이고, 분자량 분포(Mw/Mn)는 2.3이었다.A flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping lot, and a nitrogen inlet tube was prepared. Meanwhile, as a monomer dropping lot, 14.4 parts (0.2 mol) of acrylic acid, 140.8 parts (0.8 mol) of benzyl methacrylate, 4 parts of t-butylperoxy-2-ethylhexanoate and 40 parts of PGMEA were added, followed by stirring and mixing. It was. As a chain transfer agent dropping tank, 6 parts of n-dodecanethiol and 24 parts of PGMEA were put, and the thing mixed with stirring was prepared. Thereafter, 395 parts of PGMEA was introduced into the flask, and the atmosphere in the flask was changed to nitrogen from air, and then the temperature of the flask was raised to 90 ° C. while stirring. The monomer and chain transfer agent were then started dropping from the dropping lot. The dropwise addition was continued for 2 hours while maintaining 90 ° C, and after 1 hour, the temperature was raised to 110 ° C to continue the reaction for 8 hours to obtain a binder resin B-4 having a solid acid value of 80 mgKOH / g. The weight average molecular weight of polystyrene conversion measured by GPC was 19,200, and molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.3.

상기의 B-1 내지 B-4의 바인더 수지의 중량평균분자량(Mw) 및 수평균분자량(Mn)의 측정에 대해서는 GPC법을 이용하여 이하의 조건으로 행하였다.About the measurement of the weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn) of said binder resin of B-1-B-4, it carried out on condition of the following using GPC method.

장치: HLC-8120GPC(제조사: 도소㈜)Equipment: HLC-8120GPC (Manufacturer: Toso Corporation)

칼럼: TSK-GELG4000HXL + TSK-GELG2000HXL(직렬 접속)Column: TSK-GELG4000HXL + TSK-GELG2000HXL (Serial Connection)

칼럼 온도: 40℃Column temperature: 40 ℃

이동상 용매: 테트라히드로퓨란Mobile phase solvent: tetrahydrofuran

유속: 1.0 ㎖/분Flow rate: 1.0 ml / min

주입량: 50 ㎕Injection volume: 50 μl

검출기: RIDetector: RI

측정 시료 농도: 0.6질량%(용매 = 테트라히드로퓨란)Measurement sample concentration: 0.6 mass% (solvent = tetrahydrofuran)

교정용 표준 물질: TSK STANDARD POLYSTYRENE F-40, F-4, F-1, A-2500, A-500(제조사: 도소㈜)Calibration standard: TSK STANDARD POLYSTYRENE F-40, F-4, F-1, A-2500, A-500 (manufacturer: Tosoh Corporation)

상기에서 얻어진 중량평균분자량 및 수평균분자량의 비를 분자량 분포(Mw/Mn)로 하였다.The ratio of the weight average molecular weight and number average molecular weight obtained above was made into molecular weight distribution (Mw / Mn).

<실시예 1><Example 1>

적색 화소를 얻기 위해, 하기 표 1 에 기재된 각 성분 중, 미리 (A)착색재료인 안료 및 첨가제(G)인 안료 분산제의 합계량이 안료, 안료 분산제 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트의 혼합물에 대하여 20질량%가 되도록 혼합하고, 비드 밀을 이용하여 안료를 충분히 분산시킨 후 비드 밀을 분리하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트의 잔량을 포함하는 나머지 성분을 더 첨가하고 혼합하여 착색 감광성 수지 조성물을 얻었다.In order to obtain a red pixel, the total amount of the pigment dispersant which is the pigment (A) coloring material and the additive (G) beforehand among each component shown in Table 1 is 20 with respect to the mixture of a pigment, a pigment dispersant, and a propylene glycol monomethyl ether acetate. The mixture was mixed up to the mass%, the pigment was sufficiently dispersed using the bead mill, the bead mill was separated, and the remaining components including the remaining amount of propylene glycol monomethyl ether acetate were further added and mixed to obtain a colored photosensitive resin composition.

(A)착색재료(A) Coloring material C.I. 피그먼트 레드 242C.I. Pigment Red 242 5.28부Part 5.28 C.I. 피그먼트 레드 254C.I. Pigment Red 254 2.97부Part 2.97 (B)바인더 수지(B) binder resin 바인더 수지 B-1(고형분가)Binder Resin B-1 (Solid Powder) 4.56부Part 4.56 (C)광중합성 화합물(C) photopolymerizable compound 디펜타에리트리톨헥사크릴레이트(니폰 가야쿠사제, "KAYARAD DPHA")Dipentaerythritol hexaacrylate (made by Nippon Kayaku Co., Ltd., "KAYARAD DPHA") 5.57부Part 5.57 (D)광중합 개시제(D) photoinitiator Irgacure-369(CIBA-GEIGY社제품)Irgacure-369 (manufactured by CIBA-GEIGY) 1.21부Part 1.21 TMMP(사카이카가꾸 社제품)TMMP (manufactured by Sakai Kagaku Co., Ltd.) 0.23부0.23 parts (E)열가교제(E) Thermal crosslinking system 에폭시 수지(SUMI-EPOXY ESCN-195XL; 스미또모 카가꾸 고교 ㈜ 제조)Epoxy resin (SUMI-EPOXY ESCN-195XL; manufactured by Sumitomo Kagaku Kogyo Co., Ltd.) 0.30부0.30part (F)용매(F) solvent 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트Propylene Glycol Monomethyl Ether Acetate 78.18부 Part 78.18 (G)첨가제(G) additive 안료 분산제(폴리에스테르계) Pigment Dispersant (Polyester) 1.70부 Part 1.70

2평방인치의 유리 기판(코닝사 제조, #1737)을 중성 세제, 물 및 알코올로 차례로 세정하고 나서 건조하였다. 이 유리 기판상에 상기의 착색 감광성 수지 조성물(표 1)을 100mJ/㎠의 노광량(365㎚)으로 노광하여 현상 공정을 생략했을 때의 후 소성 후의 막 두께가 2.0㎛가 되도록 스핀 코팅하고, 이어서 크린 오븐 중, 100℃에서 3분간 예비 건조하였다. 냉각 후, 이 착색 감광성 수지 조성물을 도포한 기판과 석영 유리제 포토마스크(투과율을 1 내지 100%의 범위에서 계단상으로 변화시키는 패턴과 1㎛에서 50㎛까지의 라인/스페이스 패턴을 가짐)의 간격을 100㎛로 하고, 우시오 덴끼㈜제의 초고압 수은 램프(상품명 USH-250D)를 이용하여 대기 분위기하에 100mJ/㎠의 노광량(365㎚)으로 광조사하였다. 그 후, 비 이온계 계면 활성제 0.12%와 수산화칼륨 0.06%를 포함하는 수계 현상액에 상기 도막을 26℃에서 소정 시간 담가두어 현상한 뒤, 수세 후 220℃에서 30분간 건조하였다. 이때 얻어진 화소는 표면조도가 낮고, 투과도가 우수하였다.A 2 square inch glass substrate (# 1737, manufactured by Corning) was washed sequentially with a neutral detergent, water, and alcohol, and then dried. The coated photosensitive resin composition (Table 1) was exposed on the glass substrate at an exposure amount (365 nm) of 100 mJ / cm 2, and spin-coated so that the film thickness after post-firing when the developing step was omitted was 2.0 µm. Preliminary drying was carried out at 100 ° C for 3 minutes in a clean oven. After cooling, the gap between the substrate coated with the colored photosensitive resin composition and a quartz glass photomask (having a pattern for changing the transmittance stepwise in the range of 1 to 100% and a line / space pattern from 1 µm to 50 µm) Was made into 100 micrometers, and it irradiated with the exposure amount (365 nm) of 100 mJ / cm <2> in air | atmosphere using the ultrahigh pressure mercury lamp (brand name USH-250D) by Ushio Denki Corporation. Thereafter, the coating film was immersed in an aqueous developer containing 0.12% of a nonionic surfactant and 0.06% of potassium hydroxide at 26 ° C. for a predetermined time, and then dried at 220 ° C. for 30 minutes after washing with water. The pixel obtained at this time had low surface roughness and was excellent in transmittance.

<실시예 2><Example 2>

바인더 수지 B-1를 바인더 수지 B-2로 변경하는 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 조작을 행하였다. 평가 결과를 표 2 에 나타내었다.Operation similar to Example 1 was performed except changing binder resin B-1 to binder resin B-2. The evaluation results are shown in Table 2.

<실시예 3><Example 3>

바인더 수지 B-1를 바인더 수지 B-3로 변경하는 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 조작을 행하였다. 평가 결과를 표 2 에 나타내었다.Operation similar to Example 1 was performed except changing binder resin B-1 to binder resin B-3. The evaluation results are shown in Table 2.

<비교예 1>Comparative Example 1

바인더 수지 B-1를 바인더 수지 B-4로 변경하는 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 조작을 행하였다. 평가 결과를 표 2 에 나타내었다.Operation similar to Example 1 was performed except changing binder resin B-1 to binder resin B-4. The evaluation results are shown in Table 2.

<실시예 4><Example 4>

열경화제(SUMI-EPOXY ESCN-195XL) 0.3부를 0.6부로, 광중합성 화합물(KAYARAD DPHA) 5.57부를 5.27부로 변경하는 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 조작을 행하였다. 평가 결과를 표 2 에 나타내었다.The same operation as in Example 1 was carried out except that 0.3 part of the thermosetting agent (SUMI-EPOXY ESCN-195XL) was changed to 0.6 part and 5.57 part of the photopolymerizable compound (KAYARAD DPHA). The evaluation results are shown in Table 2.

<비교예 2>Comparative Example 2

실시예 1에서 열경화제(SUMI-EPOXY ESCN-195XL) 0.3부를 1.20부로, 광중합성 화합물(KAYARAD DPHA) 5.57부를 4.67부로 변경하는 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 조작을 행하였다. 평가 결과를 표 2 에 나타내었다.The same operation as in Example 1 was carried out except that 0.3 part of the thermosetting agent (SUMI-EPOXY ESCN-195XL) was changed to 1.20 part and 5.57 part of the photopolymerizable compound (KAYARAD DPHA). The evaluation results are shown in Table 2.

<비교예 3>Comparative Example 3

실시예 1에서 열경화제(SUMI-EPOXY ESCN-195XL) 0.3부를 사용하지 않고, 광중합성 화합물(KAYARAD DPHA) 5.57부에서 5.87부로 변경하는 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 조작을 행하였다. 평가 결과를 표 2 에 나타내었다.The same operation as in Example 1 was carried out except that 0.3 part of the thermosetting agent (SUMI-EPOXY ESCN-195XL) was changed from 5.57 part to 5.87 parts of the photopolymerizable compound (KAYARAD DPHA). The evaluation results are shown in Table 2.

실시예1Example 1 실시예2Example 2 실시예3Example 3 실시예4Example 4 비교예1Comparative Example 1 비교예2Comparative Example 2 비교예3Comparative Example 3 연필경도*1Pencil Hardness * 1 3H3H 3H3H 3H3H 3H3H 2H2H 2H2H 2H2H 표면조도*2Surface Roughness * 2 ×× ×× ××

* 1: 포토마스크를 사용하지 않은 것 이외에는 실시예와 같이하여 경화 도막을 제조하였다. 연필 경도의 측정은 JIS K5600-5-4에 따른다.* 1: The cured coating film was produced like Example except having not used a photomask. Measurement of the pencil hardness is in accordance with JIS K5600-5-4.

* 2: AFM(XE-100, PSIA社)으로 비접촉식 모드에서 측정하였음. * 2: Measured in contactless mode with AFM (XE-100, PSIA).

○: Ra: 3nm 이하, ×: 3nm 초과 ○: Ra: 3 nm or less, ×: 3 nm or more

상기 평가 결과로부터 본 발명을 따르는 실시예 1, 2, 3 및 4의 착색 감광성 수지 조성물은, 연필경도 및 표면조도가 우수한 컬러필터가 얻어진다는 것을 알 수 있었다.From the said evaluation result, it turned out that the coloring photosensitive resin composition of Example 1, 2, 3, and 4 which concerns on this invention can obtain the color filter excellent in pencil hardness and surface roughness.

이에 반해 비교예 1, 2 및 3의 착색 감광성 수지 조성물의 경우, 표면조도가 불량하여 고품질의 컬러필터를 얻을 수 없었다.In contrast, in the case of the colored photosensitive resin compositions of Comparative Examples 1, 2, and 3, the surface roughness was poor and a high quality color filter could not be obtained.

Claims (6)

(A)C.I. 피그먼트 242를 포함하는 착색재료, (B)바인더 수지, (C)광중합성 화합물, (D)광중합 개시제, (E)노볼락형 에폭시 수지를 포함하는 열가교제, 및 (F)용매를 포함하고, (A) C.I. It comprises a coloring material containing pigment 242, (B) binder resin, (C) photopolymerizable compound, (D) photoinitiator, (E) thermal crosslinking agent containing novolak-type epoxy resin, and (F) solvent, , 상기 (B)바인더 수지는 1 분자 중에 불포화 2중 결합을 포함하고, 상기 (E)노볼락형 에폭시 수지를 포함하는 열가교제는 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분에 대해서 질량분율로 0.5 내지 5질량% 범위인 착색 감광성 수지 조성물.The binder resin (B) includes unsaturated double bonds in one molecule, and the thermal crosslinking agent containing the (E) novolac epoxy resin ranges from 0.5 to 5% by mass in terms of mass fraction with respect to the solid content in the colored photosensitive resin composition. Phosphorus coloring photosensitive resin composition. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 (B)바인더 수지는 The binder resin (B) (b-1)디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필데히드로아비에트산아크릴레이트(2-hydroxypropyldehydroabietic acid acrylate), 벤질말레이미드 및 N-비닐피롤리돈 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택된 1종 이상의 화합물,(b-1) dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyldehydroabietic acid acrylate, benzylmaleimide and N-vinyl At least one compound selected from the group consisting of pyrrolidone compounds, (b-2)1 분자 중에 불포화 결합과 카르복실산기를 갖는 화합물 및 (b-2) A compound having an unsaturated bond and a carboxylic acid group in 1 molecule, and (b-3)상기 (b-1), 및 (b-2)화합물과 공중합이 가능한 불포화 결합을 갖는 화합물을 공중합하여 수득된 공중합체에,(b-3) to a copolymer obtained by copolymerizing a compound having an unsaturated bond copolymerizable with the compounds (b-1) and (b-2), (b-4)1 분자 중에 불포화 결합과 에폭시기를 포함하는 화합물을 반응시켜 수득된 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.(b-4) The coloring photosensitive resin composition obtained by making the compound containing an unsaturated bond and an epoxy group react in 1 molecule. 청구항 2에 있어서,The method according to claim 2, 상기 (b-1), (b-2) 및 (b-3)를 포함하는 화합물들의 중합에 의한 공중합체에 있어서, (b-1)~(b-3) 각각의 구성 성분 비는 상기 공중합체를 구성하는 구성 성분의 총 몰수에 대하여 몰 분율로 (b-1)로부터 유도되는 구성 단위 2 내지 60몰%, (b-2)로부터 유도되는 구성 단위 2 내지 70몰% 및 (b-3)로부터 유도되는 구성 단위 2 내지 95몰%이고, 상기 (b-4)1 분자 중에 불포화 결합과 에폭시기를 포함하는 화합물은 상기 (b-1), (b-2) 및 (b-3)를 포함하는 화합물들의 중합에 의한 공중합체에 포함되는 (b-2)1 분자 중에 불포화 결합과 카르복실산기를 갖는 화합물의 몰수를 기준으로 5 내지 80몰%로 포함되는 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.In the copolymer by the polymerization of the compounds containing (b-1), (b-2) and (b-3), the constituent ratio of each of (b-1) to (b-3) is equal to 2 to 60 mol% of the structural units derived from (b-1), 2 to 70 mol% of the structural units derived from (b-2) and (b-3) in molar fractions relative to the total moles of the constituents constituting the coalescence. 2 to 95 mol% of a constitutional unit derived from the above), and the compound containing an unsaturated bond and an epoxy group in the (b-4) 1 molecule is a compound represented by (b-1), (b-2) and (b-3). The coloring photosensitive resin composition containing 5 to 80 mol% based on the number-of-moles of the compound which has an unsaturated bond and a carboxylic acid group in the molecule | numerator (b-2) 1 contained in the copolymer by superposition | polymerization of the containing compound. . 기판 상부에 착색 감광성 수지 조성물을 도포하고 소정의 패턴으로 노광, 현상하여 형성되는 컬러층을 포함하여 이루어진 컬러필터에 있어서,A color filter comprising a color layer formed by applying a coloring photosensitive resin composition on a substrate and exposing and developing in a predetermined pattern, 상기 착색 감광성 수지 조성물은 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항의 착색 감광성 수지 조성물인 것을 특징으로 하는 컬러필터.The said colored photosensitive resin composition is a colored photosensitive resin composition of any one of Claims 1-3, The color filter characterized by the above-mentioned. 청구항 4에 있어서,The method according to claim 4, 상기 컬러필터의 표면조도(Ra)는 0 내지 3인 것을 특징으로 하는 컬러필터.Surface roughness Ra of the color filter is characterized in that 0 to 3. 청구항 4 기재의 컬러필터를 포함하는 평판표시장치.A flat panel display device comprising the color filter of claim 4.
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