KR20080100720A - A colored photosensitive resin composition, color filter, liquid crystal display device having the same - Google Patents

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KR20080100720A KR1020070046752A KR20070046752A KR20080100720A KR 20080100720 A KR20080100720 A KR 20080100720A KR 1020070046752 A KR1020070046752 A KR 1020070046752A KR 20070046752 A KR20070046752 A KR 20070046752A KR 20080100720 A KR20080100720 A KR 20080100720A
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김광진
윤현진
김주호
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동우 화인켐 주식회사
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Abstract

A colored photocurable resin composition is provided to ensure excellent adhesion even if a coloring material is contained and the little exposure dose is applied, and excellent sensitivity, and not to generate the developed residue or the surface fault on the substrate. A colored photocurable resin composition comprises a binder resin(A), photopolymerizable compound(B), photopolymerization initiator(C), coloring material(D) and solvent(E). The photocurable acrylic copolymer(a-1) is characterized that the binder resin is a copolymer consisting of a compound(a1) having an unsaturated bond and an unsaturated carboxylic acid compound(a2), obtained by performing copolymerization, or a unsaturated group-containing resin obtained by reacting a compound(a3) having an unsaturated bond and epoxy group in one molecule to the obtained copolymer. The photocurable alkali soluble multi-functional oligomer(a-2) is obtained by polymerizing a monomer(a'1) containing hydroxy group, a monomer(a'2) containing at least one functional group selected from a halogen atom, -OH and carboxy group, a monomer(a'3) containing a glycidyl group, and a monomer(a'4) having -OH or carboxy group and an unsaturated bonding group. The colored photocurable resin composition is manufactured by adding, polymerizing or condensing the photocurable acrylic copolymer(a-1) and the photocurable alkali soluble multi-functional oligomer(a-2).

Description

착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 이를 구비한 액정표시장치{A COLORED PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, COLOR FILTER, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE HAVING THE SAME}Colored photosensitive resin composition, color filter and liquid crystal display device having the same {A COLORED PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, COLOR FILTER, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE HAVING THE SAME}

본 발명은 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 이를 구비한 액정표시장치에 관한 것이다. The present invention relates to a colored photosensitive resin composition, a color filter, and a liquid crystal display device having the same.

컬러필터는 액정표시장치(LCD) 등에 널리 이용되는 것으로, 그 응용 범위가 급속히 확대되고 있다.  컬러 액정표시장치 등에 사용되는 컬러 필터는, 통상 블랙 매트릭스가 패턴 형성된 기판상에 적색, 녹색 및 청색의 각 색에 상당하는 안료를 함유하는 착색 감광성 수지 조성물을 스핀 코팅에 의해 균일하게 도포한 후, 가열 건조(이하, 예비 소성이라고 하는 경우도 있음)하여 형성된 도막을 노광, 현상하고, 필요에 따라 더 가열 경화(이하, 후 소성이라고 하는 경우도 있음)하는 조작을 색마다 반복하여 각 색의 화소를 형성함으로써 제조되고 있다.Color filters are widely used in liquid crystal displays (LCDs) and the like, and their application ranges are rapidly expanding. The color filter used for a color liquid crystal display device etc., after uniformly apply | coating the coloring photosensitive resin composition containing the pigment corresponding to each color of red, green, and blue on the board | substrate with which the black matrix was patterned uniformly by spin coating, The coating film formed by heating and drying (hereinafter sometimes referred to as preliminary firing) is exposed and developed, and if necessary, further heat curing (hereinafter sometimes referred to as postfiring) is repeated for each color to perform pixels of each color. It is manufactured by forming a.

이러한 착색 감광성 수지 조성물로서 안료 및 바인더 수지와 함께 광중합성 화합물 및 광중합 개시제를 함유하는 조성물이 많이 사용되고 있고 블랙 매트릭스 형성에도 흑색 안료를 함유하는 감광성 수지 조성물을 이용하고 있다. As such a coloring photosensitive resin composition, the composition containing a photopolymerizable compound and a photoinitiator together with a pigment and binder resin is used abundantly, and the photosensitive resin composition containing a black pigment is used also for black matrix formation.

최근 착색 감광성 수지 조성물은 공정상의 수율을 향상시키기 위하여 적은 노광량에도 동등한 감도와 밀착성을 가지는 착색 감광성 수지 조성물이 요구되어지고 있다.In recent years, in order to improve the yield in process, the coloring photosensitive resin composition is calculated | required the coloring photosensitive resin composition which has equivalent sensitivity and adhesiveness even with a small exposure amount.

또한 최근 착색 감광성 수지 조성물의 착색 재료는 고색순도 및 고휘도 등 요구 성능을 만족시키기 위해 더욱 미립화되고 있다. 따라서 이를 이용하여 화소를 형성할 때 바탕에 형성시킨 착색층은 현상시 제거되지 않는 현상 잔사의 문제를 안고 있다. In addition, recently, the coloring material of the coloring photosensitive resin composition has been further atomized in order to satisfy the required performance such as high color purity and high brightness. Therefore, the colored layer formed on the background when forming the pixel using this has a problem of developing residue that is not removed during development.

상기 감도를 높이기 위하여 에폭시기와 불포화 2중 결합을 가지는 단량체를 포함하는 중합체에 불포화 카르본산을 부가시켜 얻은 반응성 아크릴계 수지를 사용한 감광성 수지 조성물을 사용하는 것을 고려할 수 있으나 공중합체 중합반응의 한계가 있어 그 도입량이 한계가 있으므로 고감도 실현에 한계가 있다.In order to increase the sensitivity, it may be considered to use a photosensitive resin composition using a reactive acrylic resin obtained by adding an unsaturated carboxylic acid to a polymer containing a monomer having an epoxy group and an unsaturated double bond, but there are limitations in the copolymerization reaction. Since the amount of introduction is limited, there is a limit to high sensitivity.

또한 현상성을 높이기 위한 종래의 기술은 수지의 산가와 분자량 또는 바인더 수지 및 조성물의 산가를 조정하는 방법 등이 일반적이나 그 적용범위가 한계가 있어 산가를 지나치게 높일 때는 밀착성이 부족해지거나 표면 불량의 원인이 되고 있다.In addition, the conventional technique for improving the developability is generally the method of adjusting the acid value and molecular weight of the resin or the acid value of the binder resin and the composition, but the application range is limited, and when the acid value is too high, adhesion is insufficient or causes of surface defects. It is becoming.

본 발명의 목적은 착색 재료를 함유해도 적은 노광량에도 밀착성이 우수하고, 화소를 형성할 때 기판상에 현상 잔사가 발생하거나 화소부에 표면 불량 등이 발생하지 않고, 감도가 우수하여 현상시 문제가 없는 감광성 수지 조성물을 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide good adhesion even at a low exposure amount even when it contains a coloring material, and does not cause development residues on the substrate or surface defects in the pixel portion when forming pixels, and has excellent sensitivity, resulting in problems during development. It is to provide a photosensitive resin composition.

본 발명의 또 다른 목적은 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성된 컬러필터 및 이를 구비한 액정표시장치를 제공하는 것이다.Still another object of the present invention is to provide a color filter formed using the photosensitive resin composition and a liquid crystal display device having the same.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은,The present invention for achieving the above object,

결합제 수지(A), 광중합성 화합물(B), 광중합 개시제(C), 착색 재료(D) 및 용제(E)를 함유하는 착색 감광성 수지 조성물로서, 결합제 수지(A)는 불포화 결합을 갖는 화합물(a1) 및 불포화 카르복실산 화합물(a2)을 포함하는 공중합 반응으로 얻어지는 공중합체이거나 상기 얻어진 공중합체에 1분자 중에 불포화 결합과 에폭시기를 갖는 화합물(a3)을 더 반응시켜 얻어지는 불포화기 함유 수지인 것을 특징으로 하는 광경화성 아크릴공중합체(a-1);와 히드록시기 함유 단량체(a'1), 할로겐 원자, 히드록시기 및 카르복시기 중에서 선택된 하나 이상의 관능기 함유 단량체(a'2), 글리시딜기 함유 단량체(a'3) 및 히드록시기 또는 카르복시기와 불포화 결합기를 함께 갖는 단량체(a'4)를 중합시켜 얻어지는 광경화성 알칼리 가용성 다관능 올리고머(a-2);를 부가, 중합 또는 축합반응하여 제조된 수지인 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물을 제공한다.A colored photosensitive resin composition containing a binder resin (A), a photopolymerizable compound (B), a photopolymerization initiator (C), a coloring material (D) and a solvent (E), wherein the binder resin (A) is a compound having an unsaturated bond ( a copolymer obtained by a copolymerization reaction containing a1) and an unsaturated carboxylic acid compound (a2) or an unsaturated group-containing resin obtained by further reacting a compound (a3) having an unsaturated bond and an epoxy group in one molecule of the copolymer obtained above. Photocurable acrylic copolymer (a-1); at least one functional group-containing monomer (a'2) selected from a hydroxy group-containing monomer (a'1), a halogen atom, a hydroxy group and a carboxyl group, and a glycidyl group-containing monomer (a '3) and a photocurable alkali-soluble polyfunctional oligomer (a-2) obtained by polymerizing a monomer (a'4) having a hydroxyl group or a carboxyl group and an unsaturated bond group together; It provides the coloring photosensitive resin composition characterized by the resin manufactured by carrying out reaction.

또한, 상기 광경화성 아크릴공중합체(a-1)는 산가가 40 내지 300mgKOH/g이고, 이의 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량이 3,000 내지 100,000의 범위에 있는 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물을 제공한다.In addition, the photocurable acrylic copolymer (a-1) has an acid value of 40 to 300mgKOH / g, it provides a colored photosensitive resin composition, characterized in that the weight average molecular weight of the polystyrene conversion in the range of 3,000 to 100,000.

또한, 상기 광경화성 알칼리 가용성 다관능 올리고머(a-2)는 산가가 40 내지 300mgKOH/g이고, 히드록시기가(hydroxyl value)가 0 내지 100이며, 이의 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량이 400 내지 4,000의 범위에 있는 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물을 제공한다.In addition, the photocurable alkali-soluble polyfunctional oligomer (a-2) has an acid value of 40 to 300 mgKOH / g, a hydroxyl value of 0 to 100, and a weight average molecular weight of its polystyrene equivalent in a range of 400 to 4,000. It provides the coloring photosensitive resin composition characterized by the above-mentioned.

또한, 상기 (a1)~(a2) 각각으로부터 유도되는 구성 성분의 비율이 상기 광경화성 아크릴 공중합체(a-1) 구성 성분의 합계 몰수에 대하여,Moreover, the ratio of the structural component guide | induced from each of said (a1)-(a2) is with respect to the total mole number of the said photocurable acrylic copolymer (a-1) structural component,

(a1)로부터 유도되는 구성 단위 : 35 내지 90몰%,structural unit derived from (a1): 35 to 90 mol%,

(a2)로부터 유도되는 구성 단위 : 10 내지 65몰%,structural unit derived from (a2): 10 to 65 mol%,

범위이고, (a3)를 더 반응시키는 경우, (a2)로부터 유도되는 구성 성분에 대하여 (a3)를 5 내지 80몰% 반응시키는 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물을 제공한다.It is a range and when it reacts (a3) further, the coloring photosensitive resin composition characterized by reacting (a3) with 5 to 80 mol% with respect to the component derived from (a2) is provided.

또한, (a-2)로부터 유도되는 구성 성분의 각각의 비율이 상기 (a-2)의 공중합체를 구성하는 구성 성분의 합계 몰수에 대하여 몰 분율로 하기의 범위에 있는 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물을 제공한다.Moreover, each ratio of the structural component guide | induced from (a-2) exists in the following range by molar fraction with respect to the total mole number of the structural component which comprises the copolymer of said (a-2), The coloring photosensitive property characterized by the above-mentioned. It provides a resin composition.

(a'1)로부터 유도되는 구성 단위 : 2 내지 40몰%, structural unit derived from (a'1): 2 to 40 mol%,

(a'2)로부터 유도되는 구성 단위 : 2 내지 60몰%, structural unit derived from (a'2): 2 to 60 mol%,

(a'3)로부터 유도되는 구성 단위 : 2 내지 50몰%, structural unit derived from (a'3): 2 to 50 mol%,

(a'4)로부터 유도되는 구성 단위 : 2 내지 40몰% Structural units derived from (a'4): 2 to 40 mol%

본 발명은 또한, 착색 감광성 수지 조성물을 소정의 패턴으로 노광, 현상하여 형성되는 컬러층을 포함하여 이루어진 컬러필터에 있어서, 상기 착색 감광성 수지 조성물은 전술한 착색 감광성 수지 조성물인 것을 특징으로 하는 컬러필터를 제공한다.The present invention further provides a color filter comprising a color layer formed by exposing and developing a colored photosensitive resin composition in a predetermined pattern, wherein the colored photosensitive resin composition is the colored photosensitive resin composition described above. To provide.

본 발명은 또한, 전술한 컬러필터를 구비한 액정표시장치를 제공한다.The present invention also provides a liquid crystal display device having the above-described color filter.

이하, 본 발명을 상세하게 설명한다. 이하의 설명은 일실시예에 대한 구체적 설명이므로, 비록 한정적, 단정적 표현이 있더라도 특허청구범위로부터 정해지는 권리범위가 제한되지 않는다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated in detail. Since the following description is a detailed description of an embodiment, the scope of rights defined by the claims is not limited, even though there is a limiting and assertive expression.

본 발명에 따른 일실시 형태의 착색 감광성 수지 조성물은, 결합제 수지(A), 광중합성 화합물(B), 광중합 개시제(C), 착색 재료(D) 및 용제(E)를 함유하는 착색 감광성 수지 조성물로서, The colored photosensitive resin composition of one Embodiment which concerns on this invention contains binder resin (A), a photopolymerizable compound (B), a photoinitiator (C), a coloring material (D), and a solvent (E). as,

결합제 수지(A)는 불포화 결합을 갖는 화합물(a1) 및 불포화 카르복실산 화합물(a2)을 포함하는 공중합 반응으로 얻어지는 공중합체이거나 상기 얻어진 공중합체에 1분자 중에 불포화 결합과 에폭시기를 갖는 화합물(a3)을 더 반응시켜 얻어지는 불포화기 함유 수지인 것을 특징으로 하는 광경화성 아크릴공중합체(a-1);와 The binder resin (A) is a copolymer obtained by a copolymerization reaction containing a compound (a1) having an unsaturated bond and an unsaturated carboxylic acid compound (a2) or a compound (a3) having an unsaturated bond and an epoxy group in one molecule of the obtained copolymer. Photocurable acrylic copolymer (a-1), characterized in that it is an unsaturated group-containing resin obtained by further reacting (); and

히드록시기 함유 단량체(a'1), 할로겐 원자, 히드록시기 및 카르복시기 중에서 선택된 하나 이상의 관능기 함유 단량체(a'2), 글리시딜기 함유 단량체(a'3) 및 히드록시기 또는 카르복시기와 불포화 결합기를 함께 갖는 단량체(a'4)를 중합시켜 얻어지는 광경화성 알칼리 가용성 다관능 올리고머(a-2);를 혼합, 중합 또는 축합반응하여 제조된 수지인 것을 특징으로 한다.At least one functional group-containing monomer (a'2) selected from a hydroxyl group-containing monomer (a'1), a halogen atom, a hydroxyl group and a carboxyl group, a monomer having a glycidyl group-containing monomer (a'3) and a hydroxyl group or a carboxyl group together with an unsaturated bond group ( A photocurable alkali-soluble polyfunctional oligomer (a-2) obtained by polymerizing a'4); is a resin produced by mixing, polymerizing or condensing a reaction.

결합제 수지(A)Binder Resin (A)

상기 결합제 수지(A)는 통상 광이나 열의 작용에 의한 반응성 및 알칼리 용해성을 갖고, 착색 재료의 분산매로서 작용한다. The binder resin (A) usually has reactivity and alkali solubility due to the action of light or heat, and acts as a dispersion medium of the coloring material.

본 발명의 실시형태에 있어서, 불포화 결합을 갖는 화합물(a1)로써는 중합이 가능한 불포화 이중 결합을 갖는 화합물이라면 제한되지 않으며, 구체적인 일례로는, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 아미노에틸(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복실산의 비치환 또는 치환 알킬에스테르 화합물, 시클로펜틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 메틸시클로헥실(메타)아크릴레이트, 시클로헵틸(메타)아크릴레이트, 시클로옥틸(메타)아크릴레이트, 멘틸(메타)아크릴레이트, 시클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 시클로헥세닐(메타)아크릴레이트, 시클로헵테닐(메타)아크릴레이트, 시클로옥테닐(메타)아크릴레이트, 멘타디에닐(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트, 피나닐(메타)아크릴레이트, 아다만틸(메타)아크릴레이트, 노르보르닐(메타)아크릴레이트, 피네닐(메타)아크릴레이트 등의 지환식 치환기를 포함하는 불포화 카르복실산 에스테르 화합물, 올리고에틸렌글리콜모노알킬(메타)아크릴레이트 등의 글리콜류의 모노포화 카르복실산 에스테르 화합물, 벤질(메타)아크릴레이트, 페녹시(메타)아크릴레이트 등의 방향환을 갖는 치환기를 포함하는 불포화 카르복실산 에스테르 화합물, 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔 등의 방향족 비닐 화합물, 아세트산비닐, 프로피온산비닐 등의 카르복실산 비닐에스테르, (메타)아크릴로니트릴, α-클로로아크릴로니트릴 등의 시안화 비닐 화합물, 페닐말레이미드, 벤질말레이미드, 나프틸말레이미드, 시클로헥실말레이미드, 메틸말레이미드, 에틸말레이미드, 프로필말레이미드 등의 말레이미드 화합물 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용될 수 있다.In embodiment of this invention, as a compound (a1) which has an unsaturated bond, if it is a compound which has a unsaturated double bond which can superpose | polymerize, it will not restrict | limit, As a specific example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, Unsubstituted or substituted alkyl ester compounds of unsaturated carboxylic acids such as butyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, aminoethyl (meth) acrylate, cyclopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (Meth) acrylate, methylcyclohexyl (meth) acrylate, cycloheptyl (meth) acrylate, cyclooctyl (meth) acrylate, menthyl (meth) acrylate, cyclopentenyl (meth) acrylate, cyclohexenyl (Meth) acrylate, cycloheptenyl (meth) acrylate, cyclooctenyl (meth) acrylate, mentadienyl (meth) acrylate, isobornyl (meth Unsaturated carboxylic acid ester containing alicyclic substituents, such as) acrylate, pinanyl (meth) acrylate, adamantyl (meth) acrylate, norbornyl (meth) acrylate, and pineneyl (meth) acrylate Unsaturation including substituents having aromatic rings, such as monosaturated carboxylic acid ester compounds of glycols such as compounds and oligoethylene glycol monoalkyl (meth) acrylates, benzyl (meth) acrylates and phenoxy (meth) acrylates Aromatic vinyl compounds, such as a carboxylic acid ester compound, styrene, (alpha) -methylstyrene, and vinyltoluene, carboxylic acid vinyl esters, such as vinyl acetate and a vinyl propionate, cyanation, such as (meth) acrylonitrile and the (alpha)-chloro acrylonitrile Vinyl compound, phenyl maleimide, benzyl maleimide, naphthyl maleimide, cyclohexyl maleimide, methyl maleimide, ethyl maleimide There may be mentioned maleimide compounds such as maleimide profile. These can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.

본 발명의 실시형태에 있어서, 상기 불포화 카르복실산(a2)으로서는 중합이 가능한 불포화 이중 결합을 갖는 카르복실산 화합물이라면 제한되지 않으며, 구체적인 일례로 아크릴산, 메타크릴산 등을 들 수 있다. 아크릴산, 메타크릴산은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용될 수 있다. 또한, 이들 아크릴산이나 메타크릴산에 부가하여 그 밖의 산을 1종 이상 사용할 수도 있다. 그 밖의 산으로써는 구체적으로 크로톤산, 이타콘산, 말레산, 푸말산 등 다른 불포화 카르복실산으로부터 1종 이상 선택되는 카르복실산을 병용하는 것도 가능하다. 또한, α-(히드록시메틸)아크릴산 등의 동일 분자 중에 히드록시기 및 카르복시기를 함유하는 단량체를 병용할 수도 있다. In embodiment of this invention, as said unsaturated carboxylic acid (a2), if it is a carboxylic acid compound which has a unsaturated double bond which can superpose | polymerize, it will not restrict | limit, Acrylic acid, methacrylic acid, etc. are mentioned as a specific example. Acrylic acid and methacrylic acid can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively. In addition to these acrylic acid and methacrylic acid, one or more other acids may be used. As another acid, it is also possible to specifically use together the carboxylic acid chosen from 1 type or more of other unsaturated carboxylic acids, such as crotonic acid, itaconic acid, maleic acid, and fumaric acid. Moreover, you may use together the monomer containing a hydroxyl group and a carboxyl group in the same molecule, such as (alpha)-(hydroxymethyl) acrylic acid.

본 발명의 실시형태에 있어서, 1분자 중에 불포화 결합과 에폭시기를 갖는 화합물(a3)의 구체적 일례로서는 글리시딜(메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실(메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메타)아크릴레이트, 메틸글리시딜(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 중에서 글리시딜(메타)아크릴레이트가 바람직하게 사용된다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용될 수 있다. In embodiment of this invention, as a specific example of the compound (a3) which has an unsaturated bond and an epoxy group in 1 molecule, glycidyl (meth) acrylate, 3, 4- epoxycyclohexyl (meth) acrylate, 3,4 -Epoxycyclohexyl methyl (meth) acrylate, methylglycidyl (meth) acrylate, etc. are mentioned. Among these, glycidyl (meth) acrylate is preferably used. These can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.

본 발명의 실시형태에 있어서, 히드록시기를 갖는 단량체(a'1)는 광경화성 알칼리 가용성 다관능 올리고머에서 단량체(a'2)와 잘 반응하는 반응성 사이트를 가지고 있으며, 이와 같은 단량체(a'1)로서는 1가 알콜류, 2가 알콜류, 3가 알콜류 등의 다가 알콜이 있으며, 보다 구체적으로는 1,3-부틸렌글리콜, 1,4-부틸렌글리 콜, 디에틸렌글리콜, 에틸렌글리콜, 1,6-헥산디올, 2-메틸 1,3-프로판디올, 네오펜틸글리콜, 프로필렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨 등을 예로 들 수 있으나 이들에 제한되는 것은 아니며, 이들을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.In an embodiment of the present invention, the monomer (a'1) having a hydroxy group has a reactive site which reacts well with the monomer (a'2) in the photocurable alkali-soluble polyfunctional oligomer, and such a monomer (a'1) Examples of the polyhydric alcohols include monohydric alcohols, dihydric alcohols, and trihydric alcohols. More specifically, 1,3-butylene glycol, 1,4-butylene glycol, diethylene glycol, ethylene glycol, 1,6 -Hexanediol, 2-methyl 1,3-propanediol, neopentylglycol, propylene glycol, triethylene glycol, trimethylolpropane, pentaerythritol and the like, but are not limited to these, these alone or two It can mix and use the above.

본 발명의 실시형태에 있어서, 할로겐 원자, 히드록시기 및 카르복시기 중에서 선택된 하나 이상의 관능기를 갖는 단량체(a'2)는 광경화성 알칼리 가용성 다관능 올리고머 조성물에서 최종 경화물의 탄성과 경도를 비롯한 제반 물리적 특성을 결정하는 역할을 한다. 이와 같은 단량체(a'2)로서는 산무수물, 2가 카르복실산, 3가 카르복실산 등의 다가 카르복실산 등을 예로 들 수 있으며, 보다 구체적으로는 나프탈산무수물, 인산무수물, 3-플루오로프탈산무수물, 부티르산무수물, 헥사히드로-4-메틸프탈산무수물, 트리플루오로아세트산무수물, 헥사히드로프탈산무수물, 프탈산무수물, 말레산무수물, 테트라히드로프탈산무수물, 아세트산무수물, 트리멜리트산무수물, 이타콘산무수물, 네오데카논산옥시라닐메틸에스테르(neodecanoic acid oxiranylmethyl ester), 클로렌드산무수물, 숙신산무수물, 테트라브로모프탈산무수물, 도데세닐숙신산무수물, 노네닐숙신산무수물, 붕산무수물 또는 메틸-5-노르보넨-2,3-디카르복실산무수물 등이 있으나 이들에 제한되는 것은 아니며, 이들을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.In an embodiment of the invention, the monomer (a'2) having at least one functional group selected from halogen atoms, hydroxy groups and carboxyl groups determines the overall physical properties, including the elasticity and hardness of the final cured product in the photocurable alkali soluble polyfunctional oligomer composition. It plays a role. As such a monomer (a'2), polyhydric carboxylic acids, such as an acid anhydride, a divalent carboxylic acid, and a trivalent carboxylic acid, etc. are mentioned, More specifically, a naphthalic anhydride, a phosphate anhydride, 3-fluoro Phthalate anhydride, butyric anhydride, hexahydro-4-methylphthalic anhydride, trifluoroacetic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, phthalic anhydride, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, acetic anhydride, trimellitic anhydride, itaconic anhydride , Neodecanoic acid oxiranylmethyl ester, chloric acid anhydride, succinic anhydride, tetrabromophthalic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, nonenyl succinic anhydride, boric anhydride or methyl-5-norbornene-2 , 3-dicarboxylic acid anhydride and the like, but is not limited thereto, and these may be used alone or in combination of two or more thereof.

본 발명의 실시형태에 있어서, 글리시딜기를 갖는 단량체(a'3)는 다관능 올 리고머를 제조시 최종 경화 관능기를 부여하기 위한 연결고리 역할을 하며, 상기 할로겐 원자, 히드록시기 및 카르복시기 중에서 선택된 하나 이상의 관능기를 갖는 단량체(a'2)와 마찬가지로 광경화성 알칼리 가용성 다관능 올리고머에서 최종 경화물의 탄성과 경도 등의 물리적 특성을 결정짓는 역할을 한다.In an embodiment of the present invention, the monomer having a glycidyl group (a'3) serves as a linkage for imparting a final curing functional group in preparing a polyfunctional oligomer, selected from the halogen atom, hydroxy group and carboxyl group. Like the monomer (a'2) having at least one functional group, the photocurable alkali-soluble polyfunctional oligomer plays a role in determining physical properties such as elasticity and hardness of the final cured product.

이와 같은 글리시딜기 함유 단량체(a'3)로서는, 글리시딜기 함유 에테르계 화합물, 글리시딜기 함유 에스테르계 화합물, 글리시딜기 함유 불포화 에스테르류 등이 있으며, 보다 구체적으로는 부틸글리시딜에테르, 레조시놀디글리시딜에테르(Resorcinol diglycidyl ether), 알릴글리시딜에테르(Allyl Glycidyl Ether), 페닐글리시딜에테르, S-트리틸글리시딜에테르, 글리세롤트리글리시딜에테르, 2,6-디글리시딜페닐글리시딜에테르, 1,4-시클로헥산디메탄올의 디글리시딜에테르, R-벤질글리시딜에테르, S-벤질글리시딜에테르, 비스페놀 A의 디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 트리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, p-크레실글리시딜에테르, 구아이아콜글리시딜에테르(Guaiacol glycidyl ether), o-크레실글리시딜에테르(o-cresyl glycidyl ether), p-클로로페닐글리시딜에테르, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 디글리시딜에테르, 히드로퀴논디글리시딜에테르, 1,4-부탄디올디글리시딜에테르, n-부틸글리시딜에테르, 글리시딜네오데카노에이트, 2-에틸헥실글리시딜에테르, 라우릴글리시딜에테르, 글리세롤폴리글리시딜에테르, 크레실글리시딜에테르, 아릴글리시딜에테르, 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트 또는 글리시딜아크릴레이트 등이 있으나 이들에 한정되는 것은 아니며, 이들을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.Examples of such glycidyl group-containing monomer (a'3) include glycidyl group-containing ether compounds, glycidyl group-containing ester compounds, glycidyl group-containing unsaturated esters, and the like, and more specifically butyl glycidyl ether. Resorcinol diglycidyl ether, allyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, S-trityl glycidyl ether, glycerol triglycidyl ether, 2,6- Diglycidylphenylglycidyl ether, diglycidyl ether of 1,4-cyclohexanedimethanol, R-benzyl glycidyl ether, S-benzyl glycidyl ether, diglycidyl ether of bisphenol A, Neopentyl glycol diglycidyl ether, triethylene glycol diglycidyl ether, p-cresyl glycidyl ether, guacol glycidyl ether, o-cresyl glycidyl ether (o -cresyl glycidyl ether), p-chlorophenylglycidyl Ether, ethylene glycol diglycidyl ether, diglycidyl ether, hydroquinone diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, n-butylglycidyl ether, glycidyl neodecanoate, 2-ethylhexyl glycidyl ether, lauryl glycidyl ether, glycerol polyglycidyl ether, cresyl glycidyl ether, aryl glycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexyl methyl methacrylate, glycy Dimethyl methacrylate, glycidyl acrylate and the like, but is not limited to these, these may be used alone or in combination of two or more.

상기 본 발명에 따른 올리고머를 구성하는 단량체들 중, 히드록시기 또는 카르복시기와 불포화 결합기를 함께 갖는 단량체(a'4)는 광경화성 알칼리 가용성 다관능 올리고머 조성에서 최종 경화관능기를 제공하는 역할을 한다. 이와 같은 단량체(a'4)로서는 불포화 카르복실산 에스테르 화합물, 불포화 카르복실산, 그의 무수물 및 불포화 히드록시에스테르 화합물 등을 예로 들 수 있으며, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 2-히드록시프로필메타크릴레이트, 4-히드록시부틸아크릴레이트 등과 같은 히드록시알킬에스테르의 불포화 카르복실산 에스테르 화합물 아크릴산, 메타크릴산 등과 같은 불포화 카르복실산 에스테르 및 말레산, 푸말산, 무수 말레산, 테트라히드로프탈산무수물 등이 있으며, 이들을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.  Of the monomers constituting the oligomer according to the present invention, a monomer (a'4) having a hydroxyl group or a carboxyl group and an unsaturated bond group together serves to provide a final curing functional group in the photocurable alkali-soluble polyfunctional oligomer composition. As such a monomer (a'4), an unsaturated carboxylic ester compound, an unsaturated carboxylic acid, its anhydride, an unsaturated hydroxy ester compound, etc. are mentioned, for example, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl Unsaturated carboxylic ester compounds of hydroxyalkyl esters such as acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, etc. Unsaturated carboxyl such as acrylic acid, methacrylic acid, etc. Acid esters, maleic acid, fumaric acid, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, and the like, and these may be used alone or in combination of two or more thereof.

또한, 상기 (a1)~(a2) 각각으로부터 유도되는 구성 성분의 비율이 상기 광경화성 아크릴 공중합체(a-1) 구성 성분의 합계 몰수에 대하여,Moreover, the ratio of the structural component guide | induced from each of said (a1)-(a2) is with respect to the total mole number of the said photocurable acrylic copolymer (a-1) structural component,

(a1)로부터 유도되는 구성 단위 : 35 내지 90몰%,structural unit derived from (a1): 35 to 90 mol%,

(a2)로부터 유도되는 구성 단위 : 10 내지 65몰%,structural unit derived from (a2): 10 to 65 mol%,

범위이고, (a3)를 더 반응시키는 경우, (a2)로부터 유도되는 구성 성분에 대하여 (a3)를 5 내지 80몰% 반응시키는 것이 좋다.It is a range, and when making (a3) react further, it is good to make 5 to 80 mol% of (a3) react with the component derived from (a2).

특히, 상기의 구성 성분의 비율이 이하의 범위인 것이 보다 바람직하다. In particular, it is more preferable that the ratio of said structural component is the following ranges.

(a1)로부터 유도되는 구성 단위 : 50 내지 85몰%, structural unit derived from (a1): 50 to 85 mol%,

(a2)로부터 유도되는 구성 단위 : 15 내지 50몰%Structural units derived from (a2): 15 to 50 mol%

상기의 구성 비율이 상기 범위에 있으면 현상성, 가용성 및 내열성의 균형이 양호하므로 바람직한 공중합체를 얻을 수 있다.If said composition ratio is in the said range, since the balance of developability, solubility, and heat resistance is favorable, a preferable copolymer can be obtained.

또한, 상기 불포화 결합과 에폭시기를 갖는 화합물(a3)은 상기 공중합체(a-1)에 포함되는 불포화 카르복실산 화합물(a2) 몰수에 대하여 5 내지 80몰% 반응시키는 것이 바람직하며 특히 10 내지 80몰%가 좋다. (a3)의 조성비가 상기 범위 내에 있으면 충분한 광경화성이나 열경화성이 얻어져 감도와 연필 경도가 양립되고 신뢰성이 우수하기 때문에 바람직하다. In addition, the compound (a3) having the unsaturated bond and the epoxy group is preferably reacted 5 to 80 mol% with respect to the number of moles of the unsaturated carboxylic acid compound (a2) contained in the copolymer (a-1), particularly 10 to 80 Mole% is good. If the composition ratio of (a3) is in the said range, since sufficient photocurability and thermosetting are obtained, a sensitivity and pencil hardness are compatible, and since it is excellent in reliability, it is preferable.

또한, (a-2)로부터 유도되는 구성 성분의 각각의 비율이 상기 (a-2)의 공중합체를 구성하는 구성 성분의 합계 몰수에 대하여 몰 분율로 하기의 범위에 있는 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물을 제공한다. Moreover, each ratio of the structural component guide | induced from (a-2) exists in the following range by molar fraction with respect to the total mole number of the structural component which comprises the copolymer of said (a-2), The coloring photosensitive property characterized by the above-mentioned. It provides a resin composition.

(a'1)로부터 유도되는 구성 단위 : 2 내지 40몰%, structural unit derived from (a'1): 2 to 40 mol%,

(a'2)로부터 유도되는 구성 단위 : 2 내지 60몰%, structural unit derived from (a'2): 2 to 60 mol%,

(a'3)로부터 유도되는 구성 단위 : 2 내지 50몰%, structural unit derived from (a'3): 2 to 50 mol%,

(a'4)로부터 유도되는 구성 단위 : 2 내지 40몰%Structural units derived from (a'4): 2 to 40 mol%

즉, 상기 결합제 수지(A)에서, (a-2)를 구성하는, 히드록시기를 갖는 단량체(a'1) 및 할로겐 원자, 히드록시기 및 카르복시기 중에서 선택된 하나 이상의 관능기를 갖는 단량체(a'2),글리시딜기를 갖는 단량체(a'3),히드록시기 또는 카르복시기와 불포화 결합기를 함께 갖는 단량체(a'4)를 중합시켜 얻어지는 광경화성 알칼리 가용성 다관능 올리고머(a-2)는, 구성성분의 합계 몰수에 대하여, 상기 (a'1), (a'2), (a'3), (a'4) 단량체가 제한되지 않으나 각각 2 내지 40몰%, 2 내지 60몰%, 2 내지 50몰%, 2 내지 40몰% 범위내로 포함되는 것이 바람직하다.That is, in the binder resin (A), a monomer (a'1) having a hydroxy group and a monomer (a'2) having at least one functional group selected from a halogen atom, a hydroxy group and a carboxy group constituting (a-2), a glyc The photocurable alkali-soluble polyfunctional oligomer (a-2) obtained by polymerizing a monomer (a'3) having a cylyl group, a hydroxyl group or a monomer (a'4) having an unsaturated bond group together with a total moles of components (A'1), (a'2), (a'3), and (a'4) monomers are not limited, but 2 to 40 mol%, 2 to 60 mol%, 2 to 50 mol%, It is preferably included in the range of 2 to 40 mol%.

특히, 상기의 구성 성분의 비율이 이하의 범위인 것이 보다 바람직하다. In particular, it is more preferable that the ratio of said structural component is the following ranges.

(a'1)로부터 유도되는 구성 단위 : 2 내지 25몰%, structural unit derived from (a'1): 2-25 mol%,

(a'2)로부터 유도되는 구성 단위 : 10 내지 60몰%, structural unit derived from (a'2): 10 to 60 mol%,

(a'3)로부터 유도되는 구성 단위 : 10 내지 45몰%, structural unit derived from (a'3): 10 to 45 mol%,

(a'4)로부터 유도되는 구성 단위 : 5 내지 40몰%Structural units derived from (a'4): 5 to 40 mol%

상기의 구성 비율이 상기 범위에 있으면 현상성, 가용성 및 내열성의 균형이 양호하므로 바람직한 공중합체를 얻을 수 있다.If said composition ratio is in the said range, since the balance of developability, solubility, and heat resistance is favorable, a preferable copolymer can be obtained.

본 발명의 실시형태에 있어서, 상기 결합제 수지(A)는 광경화성 알칼리 가용성 다관능 올리고머(a-2)를 광경화성 아크릴공중합체(a-1)에 부가, 중합 또는 축합 반응하여 제조한다.In the embodiment of the present invention, the binder resin (A) is prepared by adding, polymerizing or condensing a photocurable alkali-soluble polyfunctional oligomer (a-2) to a photocurable acrylic copolymer (a-1).

본 발명의 실시형태에 있어서, 먼저 광경화성 아크릴공중합체(a-1)의 제조방법은 (a1) 내지 (a2)를 공중합시켜 얻어지는 경우 특별이 제한은 없으며 종래 공지되어 있는 각종 중합방법을 채용할 수 있으며 특히 바람직한 것은 용액중합법을 들 수 있다. 또한 중합 온도나 중합시간은 도입되는 단량체 성분의 종류나 비율, 목표 바인더 수지 분자량 및 산가에 따라 다르지만 바람직하게는 60 내지 130℃에서 1 내지 10시간 정도 중합시킬 수 있다.In the embodiment of the present invention, first, the method of preparing the photocurable acrylic copolymer (a-1) is not particularly limited when it is obtained by copolymerizing (a1) to (a2), and various conventionally known polymerization methods may be employed. Particularly preferred is solution polymerization. The polymerization temperature and the polymerization time vary depending on the type and ratio of the monomer component to be introduced, the target binder resin molecular weight and the acid value, and preferably can be polymerized at 60 to 130 ° C. for about 1 to 10 hours.

또한, 상기의 공정에서 중합 개시제의 일부 또는 전량을 플라스크에 넣을 수도 있고, (a1) 내지 (a2)의 일부 또는 전량을 플라스크에 넣을 수도 있다. In addition, one part or whole quantity of a polymerization initiator may be put in a flask at the said process, and a part or whole quantity of (a1)-(a2) may be put in a flask.

또한, 상기의 공정에서 용매를 이용하는 경우에는, 용매로서 통상의 라디칼 중합 반응시 사용하는 용매를 이용할 수 있으며 구체적으로는, 예를 들면, 테트라히드로퓨란, 디옥산, 에틸렌글리콜디메틸에틸, 디에틸렌글리콜디메틸에틸, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 프로필렌글리콜모노메틸에틸아세테트, 3-메톡시부틸아세테트, 메탄올, 에탄올, 프로판올, n-부탄올, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 톨루엔, 크실렌, 에틸벤젠, 클로로포름, 디메틸설폭시드 등을 들 수 있다. 이들 용매는, 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용될 수 있다.In addition, when using a solvent in the said process, the solvent used at the time of a normal radical polymerization reaction can be used as a solvent, For example, tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol dimethylethyl, diethylene glycol Dimethylethyl, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ethyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, methanol, ethanol, propanol, n-butanol, Ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, toluene, xylene, ethylbenzene, chloroform, dimethyl sulfoxide and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more thereof.

또한, 상기의 공정에 사용하는 중합 개시제는 통상 사용되는 중합 개시제를 첨가할 수 있으며, 특히 한정되지 않는다. 구체적인 예를 들면, 디이소프로필벤젠히드로퍼옥시드, 디-t-부틸퍼옥시드, 벤조일퍼옥시드, t-부틸터옥시이소프로필카르보네이트, t-아밀퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-부틸터옥시-2-에틸헥사노에이트 등의 유기 과산화물; 2,2′-아조비스(이소부티로니트릴), 2,2′-아조비스(2,4-디메틸바레로니토릴), 디메틸 2,2′-아조비스(2-메틸프로피오네이트) 등의 질소 화합물; 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용될 수 있다.In addition, the polymerization initiator used for the said process can add the polymerization initiator normally used, and is not specifically limited. Specific examples include diisopropylbenzenehydroperoxide, di-t-butylperoxide, benzoyl peroxide, t-butylteroxyisopropylcarbonate, t-amylperoxy-2-ethylhexanoate, t Organic peroxides such as -butyl teroxy-2-ethylhexanoate; 2,2'-azobis (isobutyronitrile), 2,2'-azobis (2,4-dimethylbareronitoryl), dimethyl 2,2'-azobis (2-methylpropionate), etc. Nitrogen compounds; Etc. can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more thereof.

또한, 분자량이나 분자량 분포를 제어하기 위해 예를 들면, n-도데실머캅토, 머캅토아세트산, 머캅토아세트산메틸 등의 머캅토계 연쇄 이동제, α-메틸스티렌 다이머 등을 연쇄 이동제로서 사용할 수도 있다. α-메틸스티렌 다이머나 머캅토 화합물의 사용량은 (a1) 내지 (a2)의 합계량에 대하여 질량 기준으로 0.005 내지 5%이다. 또한, 상기의 중합 조건은 제조 설비나 중합에 의한 발열량 등을 고려하여 투입 방법이나 반응 온도를 적절하게 조정할 수도 있다. Moreover, in order to control molecular weight and molecular weight distribution, mercapto system chain transfer agents, such as n-dodecyl mercapto, mercaptoacetic acid, and mercaptoacetic acid methyl, alpha-methylstyrene dimer, etc. can also be used as a chain transfer agent. The usage-amount of (alpha) -methylstyrene dimer and a mercapto compound is 0.005 to 5% on a mass basis with respect to the total amount of (a1)-(a2). In addition, the said polymerization conditions can also adjust an input method and reaction temperature suitably in consideration of the amount of heat generation by a manufacturing facility, superposition | polymerization, etc ..

본 발명의 실시형태에 있어서, 상기 결합제 수지(A)에서, (a-1)는 상기의 공중합체와 (a3)를, 예를 들면 이하와 같은 방법으로 반응시킴으로써 제조할 수 있다. In embodiment of this invention, in said binder resin (A), (a-1) can be manufactured by making said copolymer and (a3) react by the following methods, for example.

플라스크내 분위기를 질소에서 공기로 치환하고, 상기 공중합체를 구성하는 불포화 카르복실산 화합물(a2)로부터 유도되는 구성 단위에 대하여 몰분율로 5 내지 80몰%의 (a3), 카르복시기와 에폭시기의 반응 촉매로서, 예를 들면 트리스디메틸아미노메틸페놀을 (a1) 내지 (a2)의 합계량에 대하여 질량 기준으로 0.01 내지 5% 및 중합금지제로서, 예를 들면 히드로퀴논을 (a1) 내지 (a2)의 합계량에 대하여 질량 기준으로 0.001 내지 5%를 플라스크내에 넣고 60 내지 130℃에서 1 내지 10시간 반응함으로써, 상기의 공중합체와 (a3)를 반응시킬 수 있다. 또한, 중합 조건과 마찬가지로 제조 설비나 중합에 의한 발열량 등을 고려하여 투입 방법이나 반응 온도를 적절하게 조정할 수도 있다. Reaction catalyst of 5 to 80 mol% of (a3), a carboxyl group and an epoxy group by molar fraction with respect to the structural unit derived from the unsaturated carboxylic acid compound (a2) which comprises the said copolymer, replacing atmosphere in a flask with nitrogen from air. For example, trisdimethylaminomethylphenol is 0.01 to 5% by mass relative to the total amount of (a1) to (a2) and as a polymerization inhibitor, for example, hydroquinone is added to the total amount of (a1) to (a2). The copolymer and (a3) can be reacted by adding 0.001 to 5% in a flask on a mass basis and reacting at 60 to 130 ° C for 1 to 10 hours. In addition, similarly to the polymerization conditions, the charging method and the reaction temperature may be appropriately adjusted in consideration of the amount of heat generated by the production equipment, the polymerization and the like.

본 발명의 실시형태에 있어서, 광경화성 아크릴 공중합체(a-1)의 산가는 40 내지 300mgKOH/g인 것이 바람직하고, 60 내지 150mgKOH/g인 것이 보다 바람직하다. 상기 범위에서는 현상 불량의 문제점, 패턴이 현상액에 의한 손상 등이 발생하지 않는다. 또한, 이의 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량이 3,000 내지 100,000의 범위에 있는 것이 바람직하고, 5,000 내지 50,000의 범위에 있는 것이 보다 바람직하다. 광경화성 아크릴 공중합체(a-1)의 중량평균분자량이 3,000 내지 100,000의 범위에 있으면 현상시에 막 감소가 생기기 어렵고, 현상시에 비화소 부분의 누락성이 양호한 경향이 있으므로 바람직하다.In embodiment of this invention, it is preferable that it is 40-300 mgKOH / g, and, as for the acid value of a photocurable acrylic copolymer (a-1), it is more preferable that it is 60-150 mgKOH / g. In the above range, the problem of development failure, the pattern damage by the developer, and the like do not occur. In addition, the weight average molecular weight thereof in terms of polystyrene is preferably in the range of 3,000 to 100,000, and more preferably in the range of 5,000 to 50,000. When the weight average molecular weight of the photocurable acrylic copolymer (a-1) is in the range of 3,000 to 100,000, film reduction is unlikely to occur at the time of development, and it is preferable because the missing property of the non-pixel portion at the time of development tends to be good.

광경화성 아크릴 공중합체(a-1)의 분자량 분포[중량평균분자량(Mw)/수평균분 자량(Mn)]는 1.5 내지 6.0인 것이 바람직하고, 1.8 내지 4.0인 것이 보다 바람직하다. 분자량 분포[중량평균분자량(Mw)/수평균분자량(Mn)]가 1.5 내지 6.0이면 현상성이 우수하기 때문에 바람직하다. It is preferable that it is 1.5-6.0, and, as for the molecular weight distribution [weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)] of a photocurable acrylic copolymer (a-1), it is more preferable that it is 1.8-4.0. If molecular weight distribution [weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)] is 1.5-6.0, since developability is excellent, it is preferable.

본 발명의 실시형태에 있어서, 본 발명에 따른 불포화 결합기와 카르복시기를 함께 갖는 광경화성 알칼리 가용성 다관능 올리고머(a-2)를 제조하는 방법은 히드록시기를 갖는 단량체(a'1)와 할로겐 원자, 히드록시기 및 카르복시기 중에서 선택된 관능기를 갖는 단량체(a'2)를 중합시켜 히드록시기와 에스테르기를 갖는 제1 중간체(A'1)를 얻는 A'1-1 반응을 거친다. In the embodiment of the present invention, the method for producing a photocurable alkali-soluble polyfunctional oligomer (a-2) having an unsaturated bond group and a carboxyl group according to the present invention comprises a monomer (a'1) having a hydroxy group, a halogen atom and a hydroxy group. And an A'1-1 reaction in which the monomer (a'2) having a functional group selected from carboxyl groups is polymerized to obtain a first intermediate (A'1) having a hydroxy group and an ester group.

이와 같은 1차 반응에서 상기 중합은 40 내지 160℃에서 수행하는 것이 바람직하며, 상기 중합온도가 40℃ 미만이면 충분한 반응이 진행되지 않아 전환율이 낮아질 수 있으며, 160℃를 초과하면 부반응이 촉진되어 합성물이 겔화되거나 물성에 심각한 영향을 줄 우려가 있다. 또한, 상기 A'1-1차 반응은 중간체(A'1)의 산가 50 내지 300mgKOH/g에서 종결시키는 것이 바람직한 바, 이는 리소그래픽 공정에 있어서 현상성을 비롯한 최종 올리고머의 응용 물성이 상기 범위에서 최상의 물성을 나타내기 때문이다.In such a first reaction, the polymerization is preferably performed at 40 to 160 ° C., and if the polymerization temperature is less than 40 ° C., a sufficient reaction may not proceed and the conversion may be lowered. It may gel or seriously affect physical properties. In addition, the A'1-1 order reaction is preferably terminated at an acid value of 50 to 300 mgKOH / g of the intermediate (A'1), which is the property of application of the final oligomer including developability in the lithographic process in the above range This is because it exhibits the best physical properties.

한편 상기 A'1-1차 반응에 의해 생성된 중간체(A'1)는 히드록시기와 에스테르 결합을 동시에 갖는 것으로서, 이어지는 반응에서 글리시딜기를 갖는 단량체(a'3)와 반응하여 A'1-2 중간체(A'2)를 생성하게 된다. 구체적으로는, 상기 A'1- 1차 반응 생성물인 중간체(A'1)에 글리시딜기를 갖는 단량체(a'3)를 1 내지 5시간 적하함으로써 중합시키는 A'1-2차 반응을 통해 중간체(A'2)를 제조하며 중간체(A'2)는 히드록시기 또는 카르복시기를 잔여 관능기로 갖게 된다.Meanwhile, the intermediate (A'1) produced by the A'1-1 order reaction has a hydroxyl group and an ester bond at the same time, and reacts with a monomer (a'3) having a glycidyl group in the subsequent reaction to A'1-. 2 to produce an intermediate (A'2). Specifically, the A'1-secondary reaction is polymerized by dropwise adding the monomer (a'3) having a glycidyl group to the intermediate (A'1) which is the A'1-first reaction product for 1 to 5 hours. The intermediate (A'2) is prepared, and the intermediate (A'2) has a hydroxyl group or a carboxy group as a residual functional group.

상기 A'1-2차 반응에서, 반응온도는 60 내지 170℃가 바람직하며, 상기 온도가 60℃ 미만이면 목적하는 잔여 관능기의 생성이 충분하지 않을 우려가 있고, 170℃를 초과하면 부반응에 의해 반응물이 겔화될 우려가 있어 바람직하지 않다. 상기 A'1-2차 반응은 산가 0 내지 100mgKOH/g에서 반응을 종결하는 것이 바람직한 바, 이는 리소그래픽 공정에 있어서 현상성을 비롯한 최종 올리고머의 응용 물성이 상기 범위에서 최상의 물성을 나타내기 때문이다.In the A′1-2 reaction, the reaction temperature is preferably 60 to 170 ° C., and if the temperature is less than 60 ° C., there is a concern that the formation of a desired residual functional group may not be sufficient. It is not preferable because the reactant may gel. In the A'1-2 secondary reaction, it is preferable to terminate the reaction at an acid value of 0 to 100 mgKOH / g, since the application properties of the final oligomer including developability in lithographic processes exhibit the best physical properties in the above range. .

상기와 같이 제조된 A'1-2차 반응 생성물인 중간체(A'2)에 히드록시기 또는 카르복시기와 불포화 결합기를 함께 갖는 단량체(a'4)를 1 내지 5시간 적하함으로써 A'1-3차 반응시켜 최종적으로 불포화 결합기와 카르복시기를 함께 갖는 본 발명에 따른 광경화성 알칼리 가용성 다관능 올리고머를 제조하게 된다. 상기 A'1-3차 반응에서 반응 온도는 60 내지 200℃가 바람직하며, 온도가 60℃ 미만이면 목적하는 만큼의 카르복시기를 생성하기 곤란하며, 200℃를 초과하면 수지 외관 및 색상이 불량해지며, 부반응에 의해 수지 분자량의 상승과 겔화를 유발하게 될 우려가 있다. 또한 상기 A'1-3차 반응은 산가 40 내지 300mgKOH/g에서 종결시키는 것이 바람직한 바, 이는 리소그래픽 공정에 있어서 현상성을 비롯한 최종 올리고머의 응용 물성이 상기 범위에서 최상의 물성을 나타내기 때문이다.A'1-3rd reaction by dropping a monomer (a'4) having a hydroxy group or a carboxyl group and an unsaturated bond group together for 1 to 5 hours to intermediate (A'2) which is the A'1-2nd reaction product prepared as described above. Finally, a photocurable alkali-soluble polyfunctional oligomer according to the present invention having an unsaturated bond group and a carboxyl group together is prepared. In the A′1-3rd reaction, the reaction temperature is preferably 60 to 200 ° C., when the temperature is less than 60 ° C., it is difficult to produce the desired carboxyl group. When the temperature is above 200 ° C., the appearance and color of the resin become poor. And side reactions may cause an increase in resin molecular weight and gelation. In addition, the A'1-3rd reaction is preferably terminated at an acid value of 40 to 300 mgKOH / g, since the application properties of the final oligomer including developability in lithographic processes exhibit the best physical properties in the above range.

상술한 바와 같은 중합 공정은 용매로서 특별한 제한은 없지만, 탄화수소계 미네랄 스피리트, 크실렌, 톨루엔, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에톡시에틸프로피오네이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 디이소프로필에테르, 프로필아세테이트, n-부틸프로피오네이트 등 반응성 활성수소를 함유하지 않는 용제류를 사용할 수 있으나, 이들에 한정되는 것은 아니며, 당업계에 알려져 있는 것이라면 제한없이 사용할 수 있다. 또한 상기 반응은 반응 시간을 단축시키고, 수율을 개선하기 위하여 촉매를 채용하는 것이 가능하며, 이때 사용가능한 촉매로서는 지르코늄옥토에이트, 디부틸틴디라울레이트 등과 같은 금속 촉매류, 트리에틸아민과 같은 3급 아민 및 암모늄염류 등을 사용할 수 있으나, 이들에 한정되는 것은 아니며, 이들은 촉매량으로 사용될 수 있다. The polymerization process as described above is not particularly limited as a solvent, but hydrocarbon-based mineral spirits, xylene, toluene, propylene glycol monomethyl ether acetate, ethoxyethyl propionate, ethyl cellosolve acetate, diisopropyl ether, and propyl acetate Solvents that do not contain reactive active hydrogen, such as n-butylpropionate, may be used, but are not limited thereto, and any solvent known in the art may be used without limitation. In addition, the reaction may employ a catalyst in order to shorten the reaction time and improve the yield, wherein the usable catalysts include metal catalysts such as zirconium octoate, dibutyl tin dilaurate, and tertiary such as triethylamine. Amines, ammonium salts and the like can be used, but are not limited to these, and they can be used in catalytic amounts.

상기와 같은 본 발명에 따른 불포화 결합기와 카르복시기를 함께 갖는 광경화성 알칼리 가용성 다관능 올리고머(a-2)는 산가가 40 내지 300mgKOH/g이고, 히드록시기가(hydroxyl value)가 0 내지 100이며, 불휘발분이 용제를 포함한 올리고머 총량을 기준으로 60 질량% 이상이며, 점도가 100 내지 20,000센티포이즈이고, 수평균분자량이 400 내지 4,000, 중량평균분자량이 600 내지 5,000이며, 분자량 분포 2 이하의 특성치를 가지므로, 본 발명에서 목적하는 바와 같이 현상성을 비롯한 포토리소그래픽 공정에서의 우수한 물성을 획득하는 것이 가능해진다.The photocurable alkali-soluble polyfunctional oligomer (a-2) having an unsaturated bond group and a carboxyl group according to the present invention as described above has an acid value of 40 to 300 mgKOH / g, a hydroxyl value of 0 to 100, and a nonvolatile content. It is 60 mass% or more based on the total amount of oligomers containing this solvent, has a viscosity of 100 to 20,000 centipoise, a number average molecular weight of 400 to 4,000, a weight average molecular weight of 600 to 5,000, and has a molecular weight distribution of 2 or less. It is possible to obtain excellent physical properties in a photolithographic process including developability as desired in the present invention.

상기 본 발명에 따른 올리고머(a-2)는 단독 또는 다른 단량체, 올리고머 또는 바인더 수지와 혼용하는 형태로 사용할 수도 있지만, 본 발명에서는 보다 균일한 경화조성물 획득을 위해 바인더 수지와 부가, 중합 또는 축합반응을 통해 바인더 수지 골격의 측쇄에 펜던트화하는 방법을 제공한다.The oligomer (a-2) according to the present invention may be used alone or in the form of a mixture with other monomers, oligomers or binder resins, but in the present invention, addition, polymerization or condensation reaction with the binder resin in order to obtain a more uniform curing composition. It provides a method for pendant to the side chain of the binder resin skeleton through.

다음, 분자내에 1 이상의 광중합성 불포화 결합기를 함유하는 알칼리 가용성 공중합체(a-1)와 광경화형 알칼리 가용성 다관능 올리고머(a-2)를 이용하여, 네거티브 감광성 수지 조성물에 있어서 현상특성이 우수한 폴리에스테르계 광경화성 알칼리 가용성 다관능 올리고머 변성 아크릴 공중합체인 결합제 수지(A)를 제조하는 제조방법을 들면, 상기 (a-1)와 (a-2)에 포함된 관능기 간의 직접적인 부가, 중합 또는 축합반응에 의해 제조할 수도 있으나, 이 경우 (a-1)와 (a-2)간의 입체 장애에 의해 반응성이 저하되거나 불포화 결합간의 반응에 의한 점도 상승 및 겔화가 일어날 수 있으므로, 분자 내에 2개 이상의 반응기를 갖는 화합물을 매개체로 이용하여 130℃ 이하의 온도에서 결합시키는 공정이 보다 바람직하게 추천될 수 있다.Next, using the alkali-soluble copolymer (a-1) and the photocurable alkali-soluble polyfunctional oligomer (a-2) containing one or more photopolymerizable unsaturated bond groups in the molecule, a poly excellent in developing characteristics in the negative photosensitive resin composition For example, a method for producing a binder resin (A), which is an ester-based photocurable alkali-soluble polyfunctional oligomer-modified acrylic copolymer, includes direct addition, polymerization or condensation reaction between functional groups contained in (a-1) and (a-2). It may be prepared by, but in this case, two or more reactors in the molecule can be reduced due to steric hindrance between (a-1) and (a-2) or viscosity increase and gelation may occur due to reaction between unsaturated bonds. More preferably, a process of bonding at a temperature of 130 ° C. or lower using a compound having an as a medium may be recommended.

또한, 결합제 수지(A)를 제조하는 제조방법에 있어서 (a-1) 및 (a-2)의 반응비는 (a-1)로부터 유도되는 구성 성분에 대하여 (a-2)를 1 내지 80몰% 반응시킬 수 있으며, 2 내지 40몰% 반응시키는 것이 보다 바람직하다. 상기 범위에 있으면 제조후 미반응 모노머가 적고, 안정성이 우수하므로 바람직하다. In addition, in the manufacturing method of manufacturing binder resin (A), the reaction ratio of (a-1) and (a-2) is (a-2) 1-80 with respect to the component derived from (a-1). It can react with mol%, and it is more preferable to make it react 2-40 mol%. If it is in the said range, since there are few unreacted monomers after manufacture and it is excellent in stability, it is preferable.

상기 결합제 수지(A)의 제조공정에서 사용될 수 있는 분자 내에 2개 이상의 반응기를 갖는 화합물을 이용한 매커니즘의 예로는, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜 등의 히드록시기가 함유 화합물과 (a-1)와 (a-2)의 무히드록시기 간 개환반응에 따른 반 에스테르화, 비스페놀-A계 에폭시 화합물 등의 에폭시기 함유 화합물과 (a-1)와 (a-2)의 카르복실산 간 에스테르화 반응, 헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 이소시아네이트기 함유 화합물과 (a-1)와 (a-2)의 히드록시기 간 우레탄 결합 반응 및 테트라카르복실산 이무수물 등의 산무수물 함유 화합물과 (a-1)와 (a-2)의 히드록시기 간 개환반응에 따른 반 에스테르화 등이 추천될 수 있다. Examples of the mechanism using a compound having two or more reactors in a molecule that can be used in the manufacturing process of the binder resin (A) include a compound containing a hydroxyl group such as ethylene glycol, diethylene glycol, and (a-1) and (a Semi-esterification according to the ring-opening reaction between -hydroxy groups, epoxy group-containing compound such as bisphenol-A epoxy compound and carboxylic acid esterification reaction between (a-1) and (a-2), hexamethylene di Isocyanate group containing compounds, such as isocyanate, and urethane bond reaction between the hydroxyl groups of (a-1) and (a-2), and acid anhydride containing compounds, such as tetracarboxylic dianhydride, (a-1) and (a-2) Semi-esterification due to ring-opening reaction between hydroxy groups may be recommended.

본 발명의 실시형태에 있어서, 현상특성이 우수한 폴리에스테르계 광경화성 알칼리 가용성 다관능 올리고머 변성 아크릴 공중합체인 결합제 수지(A)는 이의 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량이 3,000 내지 100,000의 범위에 있는 것이 바람직하고, 5,000 내지 50,000의 범위에 있는 것이 보다 바람직하다. 중량평균분자량이 3,000 내지 100,000의 범위에 있으면 현상시에 막 감소가 생기기 어렵고, 현상시에 비화소 부분의 누락성이 양호한 경향이 있으므로 바람직하다. In the embodiment of the present invention, the binder resin (A), which is a polyester-based photocurable alkali-soluble polyfunctional oligomer-modified acrylic copolymer having excellent development characteristics, preferably has a weight average molecular weight in terms of polystyrene in the range of 3,000 to 100,000. More preferably in the range of 5,000 to 50,000. If the weight average molecular weight is in the range of 3,000 to 100,000, film reduction is unlikely to occur at the time of development, and it is preferable because the missing property of the non-pixel portion at the time of development tends to be good.

결합제 수지(A)의 분자량 분포[중량평균분자량(Mw)/수평균분자량(Mn)]는 1.5 내지 6.0인 것이 바람직하고, 1.8 내지 4.0인 것이 보다 바람직하다. 분자량 분포[중량평균분자량(Mw)/수평균분자량(Mn)]가 1.5 내지 6.0이면 현상성이 우수하기 때 문에 바람직하다. It is preferable that it is 1.5-6.0, and, as for the molecular weight distribution [weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)] of binder resin (A), it is more preferable that it is 1.8-4.0. The molecular weight distribution [weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)] of 1.5 to 6.0 is preferable because of its developability.

또한 상기 공중합체인 결합제 수지(A)의 산가는 고형분 기준으로 30 내지 300mgKOH/g의 범위가 바람직하고, 보다 바람직하게는 60 내지 150mgKOH/g이다. 산가가 30mgKOH/g 미만일 경우 알칼리수에 대한 현상성이 낮아지고 기판에 잔사를 남길 우려가 있으며, 산가가 300mgKOH/g을 초과하는 경우에는 패턴의 탈착이 일어날 가능성이 높아진다.In addition, the acid value of the binder resin (A) which is the copolymer is preferably in the range of 30 to 300 mgKOH / g, more preferably 60 to 150 mgKOH / g based on solid content. If the acid value is less than 30 mgKOH / g, developability to alkaline water is low and there is a risk of leaving a residue on the substrate, if the acid value exceeds 300 mgKOH / g is more likely to desorption of the pattern.

광중합성Photopolymerization 화합물(B) Compound (B)

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 함유되는 광중합성 화합물(B)은 광 및 후술하는 광중합 개시제의 작용으로 중합할 수 있는 화합물로서, 단관능 단량체, 2관능 단량체, 그 밖의 다관능 단량체 등을 들 수 있다. The photopolymerizable compound (B) contained in the colored photosensitive resin composition of this invention is a compound which can superpose | polymerize by the action | action of light and the photoinitiator mentioned later, A monofunctional monomer, a bifunctional monomer, another polyfunctional monomer, etc. are mentioned. have.

본 발명에 사용되는 광중합성 화합물(B)은 착색 감광성 수지 조성물의 현상성, 감도, 밀착성, 표면문제 등을 개량하기 위해 관능기의 구조나 관능기 수가 다른 2개 또는 그 이상의 광중합성 화합물을 혼합하여 사용할 수 있으며, 그 범위에 제한을 두지 않는다.The photopolymerizable compound (B) used in the present invention may be used by mixing two or more photopolymerizable compounds having different functional groups or functional groups in order to improve the developability, sensitivity, adhesion, and surface problems of the colored photosensitive resin composition. It does not limit the scope.

단관능 단량체의 구체예로는 노닐페닐카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-에틸헥실카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크 릴레이트, N-비닐피롤리돈 등을 들 수 있다.Specific examples of the monofunctional monomers include nonylphenylcarbitol acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-ethylhexylcarbitol acrylate, 2-hydroxyethyl arcrate, and N-vinylpi A ralidone etc. are mentioned.

2관능 단량체의 구체예로는 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르, 3-메틸펜탄디올디(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. Specific examples of the bifunctional monomer include 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, Bis (acryloyloxyethyl) ether of bisphenol A, 3-methylpentanediol di (meth) acrylate, etc. are mentioned.

그 밖의 다관능 단량체의 구체예로서는 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 티펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. Specific examples of other polyfunctional monomers include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and pentaerythritol tree. (Meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, thipentaerythritol penta (meth) acrylate, ethoxylated dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, propoxylated dipentaerythritol Hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, etc. are mentioned.

이들 중에서 2관능 이상의 다관능 단량체가 바람직하게 사용된다. Of these, bifunctional or higher polyfunctional monomers are preferably used.

광중합성 화합물(B)은 결합제 수지(A) 및 광중합성 화합물(B)의 합계 100질량부에 대하여, 통상 1 내지 60질량부, 바람직하게는 5 내지 50질량부의 범위에서 사용된다. 광중합성 화합물(B)가 상기의 기준으로 1 내지 60질량부의 범위이면 화소부의 강도나 평활성이 양호하게 되는 경향이 있기 때문에 바람직하다. A photopolymerizable compound (B) is used normally in 1-60 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of binder resin (A) and a photopolymerizable compound (B), Preferably it is used in the range of 5-50 mass parts. If the photopolymerizable compound (B) is in the range of 1 to 60 parts by mass based on the above criteria, the intensity and smoothness of the pixel portion tends to be good, and thus it is preferable.

광중합Photopolymerization 개시제Initiator (C)(C)

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 함유되는 광중합 개시제(C)는 제한되지 않으나 트리아진계 화합물, 아세토페논계 화합물, 비이미다졸계 화합물 및 옥심 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물이다. 상기한 광중합 개시제(C)를 함유하는 착색 감광성 수지 조성물은 고감도이고, 이 조성물을 사용하여 형성되는 막은 그 화소부의 강도나 표면 평활성이 양호해진다. Although the photoinitiator (C) contained in the coloring photosensitive resin composition of this invention is not restrict | limited, It is 1 or more types of compounds chosen from the group which consists of a triazine type compound, an acetophenone type compound, a biimidazole type compound, and an oxime compound. The coloring photosensitive resin composition containing said photoinitiator (C) is highly sensitive, and the film | membrane formed using this composition becomes favorable the intensity | strength and surface smoothness of the pixel part.

또한, 광중합 개시제(C)에 광중합 개시 보조제(C-1)을 병용하면, 이들을 함유하는 착색 감광성 수지 조성물은 더욱 고감도가 되어 이 조성물을 사용하여 컬러필터를 형성할 때의 생산성이 향상되므로 바람직하다. Moreover, when photopolymerization start adjuvant (C-1) is used together with a photoinitiator (C), since the coloring photosensitive resin composition containing these becomes more sensitive and the productivity at the time of forming a color filter using this composition is preferable, it is preferable. .

상기 트리아진계 화합물로서는, 예를 들면 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다. As said triazine type compound, it is 2, 4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1, 3, 5- triazine, 2, 4-bis (trichloromethyl)-, for example. 6- (4-methoxynaphthyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine, 2,4- Bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxystyryl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (5-methylfuran-2 -Yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -1,3,5-tri Azine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloro Methyl) -6- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine and the like.

또한, 상기 아세토페논계 화합물로서는, 예를 들면, 디에톡시아세토페논, 2- 히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-메틸프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온의 올리고머 등을 들 수 있다. 아세토페논계 화합물로서는, 예를 들면 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 들 수 있다. Moreover, as said acetophenone type compound, diethoxy acetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyl dimethyl ketal, 2-hydroxy-1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropane- 1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl ] Oligomer of propan-1-one, etc. are mentioned. As an acetophenone type compound, the compound represented by following formula (1) is mentioned, for example.

<화학식 1><Formula 1>

Figure 112007035529667-PAT00001
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상기 화학식 1 중, R1 내지 R4는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 히드록시기, 탄소수 1 내지 12의 알킬기에 의해 치환될 수도 있는 페닐기, 탄소수 1 내지 12의 알킬기에 의해 치환될 수도 있는 벤질기, 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬기에 의해 치환될 수도 있는 나프틸기를 나타낸다. In Formula 1, R1 to R4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxy group, a phenyl group which may be substituted by an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a benzyl group which may be substituted by an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or The naphthyl group which may be substituted by the C1-C12 alkyl group is shown.

화학식 1로 표시되는 화합물의 구체예로는 2-메틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-에틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-프로필-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-부틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-메틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-메틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-에틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-에틸-2-아미노(4-모 르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-메틸-2-메틸아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-메틸-2-디메틸아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-메틸-2-디에틸아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온 등을 들 수 있다. Specific examples of the compound represented by the formula (1) include 2-methyl-2-amino (4-morpholinophenyl) ethan-1-one, 2-ethyl-2-amino (4-morpholinophenyl) ethane-1 -One, 2-propyl-2-amino (4-morpholinophenyl) ethan-1-one, 2-butyl-2-amino (4-morpholinophenyl) ethan-1-one, 2-methyl-2 -Amino (4-morpholinophenyl) propane-1-one, 2-methyl-2-amino (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2-ethyl-2-amino (4-morpholino Phenyl) propane-1-one, 2-ethyl-2-amino (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2-methyl-2-methylamino (4-morpholinophenyl) propane-1- On, 2-methyl-2-dimethylamino (4-morpholinophenyl) propan-1-one, 2-methyl-2-diethylamino (4-morpholinophenyl) propan-1-one, etc. may be mentioned. have.

상기 비이미다졸 화합물로서는, 예를 들면 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(트리알콕시페닐)비이미다졸, 4,4',5,5' 위치의 페닐기가 카르보알콕시기에 의해 치환되어 있는 이미다졸 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중에서 2,2'비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸이 바람직하게 사용된다. As said biimidazole compound, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'- tetraphenyl biimidazole, 2,2'-bis (2,3-, for example) Dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (alkoxyphenyl) biimi Dazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (trialkoxyphenyl) biimidazole, and a phenyl group at the 4,4', 5,5 'position is carbo The imidazole compound substituted with the alkoxy group etc. are mentioned. Among them, 2,2'bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,3-dichlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole is preferably used.

상기 옥심 화합물로서는, 예를 들면 하기 화학식 2의 0-에톡시카르보닐-α-옥시이미노-1-페닐프로판-1-온 등을 들 수 있다. As said oxime compound, 0-ethoxycarbonyl- (alpha)-oxyimino-1- phenyl propane- 1-one of following formula (2) is mentioned, for example.

<화학식 2 ><Formula 2>

Figure 112007035529667-PAT00002
Figure 112007035529667-PAT00002

또한, 본 발명의 효과를 손상하지 않는 정도이면 이 분야에서 통상 사용되 고 있는 그 밖의 광중합 개시제 등을 추가로 병용할 수도 있다. 그 밖의 광중합 개시제로서는, 예를 들면 벤조인계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 안트라센계 화합물 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.  Moreover, as long as it does not impair the effect of this invention, other photoinitiators etc. which are normally used in this field can also be used together. As another photoinitiator, a benzoin compound, a benzophenone type compound, a thioxanthone type compound, an anthracene type compound etc. are mentioned, for example. These can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

벤조인계 화합물로서는, 예를 들면, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등을 들 수 있다. As a benzoin type compound, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, etc. are mentioned, for example.

벤조페논계 화합물로서는, 예를 들면 벤조페논, 0-벤조일벤조산 메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술피드, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등을 들 수 있다. As a benzophenone type compound, for example, benzophenone, methyl 0- benzoyl benzoate, 4-phenyl benzophenone, 4-benzoyl-4'- methyl diphenyl sulfide, 3, 3 ', 4, 4'- tetra (tert) -Butyl peroxycarbonyl) benzophenone, 2,4, 6-trimethyl benzophenone, etc. are mentioned.

티오크산톤계 화합물로서는, 예를 들면 2-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤 등을 들 수 있다. As a thioxanthone type compound, 2-isopropyl thioxanthone, 2, 4- diethyl thioxanthone, 2, 4- dichloro thioxanthone, 1-chloro-4- propoxy thioxanthone, etc. are mentioned, for example. Can be mentioned.

안트라센계 화합물로서는, 예를 들면 9,10-디메톡시안트라센, 2-에틸-9,10- 디메톡시안트라센, 9,10-디에톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센 등을 들 수 있다. Examples of the anthracene-based compound include 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene, and the like. Can be.

그 밖에 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 10-부틸-2-클로로아크리돈, 2-에틸안트라퀴논, 벤질, 9,10-페난트렌퀴논, 캄포퀴논, 페닐클리옥실산 메틸, 티타노센 화합물 등을 그 밖의 광중합 개시제로서 들 수 있다. Other 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 10-butyl-2-chloroacridone, 2-ethylanthraquinone, benzyl, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, phenylclioxylic acid Methyl, a titanocene compound, etc. are mentioned as another photoinitiator.

또한, 연쇄 이동을 일으킬 수 있는 기를 갖는 광중합 개시제를 사용할 수도 있고, 이 광중합 개시제로서는, 예를 들면 일본 특허 공표 2002-544205호 공보에 기재되어 있는 것을 들 수 있다. 상기 연쇄 이동을 일으킬 수 있는 기를 갖는 광중합 개시제로서는, 예를 들면 하기 화학식 3 내지 8로 나타내는 화합물을 들 수 있다. Moreover, the photoinitiator which has group which can cause chain transfer can also be used, As this photoinitiator, what is described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-544205 is mentioned, for example. As a photoinitiator which has the group which can cause the said chain transfer, the compound represented by following formula (3)-8 is mentioned, for example.

<화학식 3><Formula 3>

Figure 112007035529667-PAT00003
Figure 112007035529667-PAT00003

<화학식 4><Formula 4>

Figure 112007035529667-PAT00004
Figure 112007035529667-PAT00004

<화학식 5><Formula 5>

Figure 112007035529667-PAT00005
Figure 112007035529667-PAT00005

<화학식 6><Formula 6>

Figure 112007035529667-PAT00006
Figure 112007035529667-PAT00006

<화학식 7><Formula 7>

Figure 112007035529667-PAT00007
Figure 112007035529667-PAT00007

<화학식 8><Formula 8>

Figure 112007035529667-PAT00008
Figure 112007035529667-PAT00008

또한, 광중합 개시제(C)에는 광중합 개시 보조제(C-1)을 조합하여 사용할 수도 있다. 광중합 개시 보조제(C-1)로서는 아민 화합물, 카르복실산 화합물이 바람직하게 사용된다. 광중합 개시 보조제 중 아민 화합물의 구체예로서는 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민 등의 지방족 아민 화합물, 4-디메틸아미노벤조산 메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀, 4-디메틸아미노벤조산2-에틸헥실, 벤조산2-디메틸아미노에틸, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논(통칭 : 미힐러 케톤), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등의 방향족 아민 화합물을 들 수 있다. 아민 화합물로서는 방향족 아민 화합물이 바람직하게 사용된다.In addition, you may use combining a photoinitiator (C-1) with a photoinitiator (C). As the photopolymerization initiation assistant (C-1), an amine compound and a carboxylic acid compound are preferably used. Specific examples of the amine compound in the photopolymerization start adjuvant include aliphatic amine compounds such as triethanolamine, methyldiethanolamine, and triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, and 4 -Dimethylaminobenzoic acid 2-ethylhexyl, benzoic acid 2-dimethylaminoethyl, N, N-dimethyl paratoluidine, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone (common name: Michler's ketone), 4,4'-bis Aromatic amine compounds, such as (diethylamino) benzophenone, are mentioned. As an amine compound, an aromatic amine compound is used preferably.

카르복실산 화합물의 구체예로서는 페닐티오아세트산, 메틸페닐티오아세트산, 에틸페닐티오아세트산, 메틸에틸페닐티오아세트산, 디메틸페닐티오아세트산, 메톡시페닐티오아세트산, 디메톡시페닐티오아세트산, 클로로페닐티오아세트산, 디클로로페닐티오아세트산, N-페닐글리신, 페녹시아세트산, 나프틸티오아세트산, N-나프틸글리신, 나프톡시아세트산 등의 방향족 헤테로아세트산류를 들 수 있다. Specific examples of the carboxylic acid compound include phenylthioacetic acid, methylphenylthioacetic acid, ethylphenylthioacetic acid, methylethylphenylthioacetic acid, dimethylphenylthioacetic acid, methoxyphenylthioacetic acid, dimethoxyphenylthioacetic acid, chlorophenylthioacetic acid, dichlorophenyl And aromatic heteroacetic acids such as thioacetic acid, N-phenylglycine, phenoxyacetic acid, naphthylthioacetic acid, N-naphthylglycine, and naphthoxyacetic acid.

광중합 개시제(C)의 사용량은 결합제 수지(A) 및 광중합성 화합물(B)의 합계 100질량부에 대하여, 통상 0.1 내지 40질량부, 바람직하게는 1 내지 30질량부이고, 광중합 개시 보조제(C-1)의 사용량은 상기의 기준으로, 통상 0.1 내지 50질량부, 바람직하게는 1 내지 40질량부이다. 광중합 개시제(C)의 사용량이 상기의 범위에 있으면 착색 감광성 수지 조성물이 고감도화되어 이 조성물을 사용하여 형성한 화소부의 강도나, 이 화소부의 표면에서의 평활성이 양호하게 되는 경향이 있기 때문에 바람직하다. 또한, 광중합 개시 보조제(C-1)의 사용량이 상기의 범위에 있으면 착색 감광성 수지 조성물의 감도가 더 높아지고, 이 조성물을 사용하여 형성되는 컬러필터의 생산성이 향상되는 경향이 있기 때문에 바람직하다. The usage-amount of a photoinitiator (C) is 0.1-40 mass parts normally with respect to a total of 100 mass parts of binder resin (A) and a photopolymerizable compound (B), Preferably it is 1-30 mass parts, A photoinitiator adjuvant (C) The usage-amount of -1) is 0.1-50 mass parts normally on the said reference | standard, Preferably it is 1-40 mass parts. When the usage-amount of a photoinitiator (C) exists in the said range, since the coloring photosensitive resin composition becomes high sensitivity and the intensity | strength of the pixel part formed using this composition and the smoothness in the surface of this pixel part tend to become favorable, it is preferable. . Moreover, when the usage-amount of a photoinitiator auxiliary (C-1) exists in the said range, since the sensitivity of a coloring photosensitive resin composition becomes higher and the productivity of the color filter formed using this composition tends to improve, it is preferable.

착색 재료(D)Coloring material (D)

본 발명에서 사용되는 착색 재료(D)는 통상 안료로서 안료 분산 레지스트에 통상 사용되는 유기 안료 또는 무기 안료인 것이 바람직하다. 필요에 따라 염료를 사용할 수도 있으며 본 발명에 포함된다.It is preferable that the coloring material (D) used by this invention is an organic pigment or inorganic pigment normally used for a pigment dispersion resist as a pigment normally. If necessary, dyes may be used and are included in the present invention.

무기 안료로서는 금속 산화물이나 금속 착염 등의 금속 화합물을 들 수 있고, 구체적으로는 철, 코발트, 알루미늄, 카드뮴, 납, 구리, 티탄, 마그네슘, 크롬, 아연, 안티몬 등의 금속의 산화물 또는 복합 금속 산화물 등을 들 수 있다. Examples of the inorganic pigments include metal compounds such as metal oxides and metal complex salts. Specifically, oxides or complex metal oxides of metals such as iron, cobalt, aluminum, cadmium, lead, copper, titanium, magnesium, chromium, zinc and antimony Etc. can be mentioned.

상기 유기 안료 및 무기 안료로서, 구체적으로는 색지수(The society of Dyers and Colourists 출판)에서 피그먼트로 분류되어 있는 화합물을 들 수 있고, 보다 구체적으로는 이하와 같은 색지수(C.I.) 번호의 안료를 들 수 있지만, 반드시 이들로 한정되는 것은 아니다. Specific examples of the organic pigment and inorganic pigment include compounds classified as pigments in the Color Index (published by The society of Dyers and Colorists), and more specifically, pigments having the following color index (CI) numbers. Although these are mentioned, It is not necessarily limited to these.

C.I. 피그먼트 옐로우 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 180 및 185 C.I. Pigment Yellow 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 180 and 185

C.I. 피그먼트 오렌지 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, 및 71 C.I. Pigment Orange 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, and 71

C.I. 피그먼트 레드 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 215, 216, 224, 242, 254, 255 및 264 C.I. Pigment Red 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 215, 216, 224, 242, 254, 255 and 264

C.I. 피그먼트 바이올렛 14, 19, 23, 29, 32, 33, 36, 37 및 38 C.I. Pigment Violet 14, 19, 23, 29, 32, 33, 36, 37 and 38

C.I. 피그먼트 블루 15(15:3, 15:4, 15:6 등), 21, 28, 60, 64 및 76 C.I. Pigment Blue 15 (15: 3, 15: 4, 15: 6, etc.), 21, 28, 60, 64, and 76

C.I. 피그먼트 그린 7, 10, 15, 25, 36 및 47 C.I. Pigment Green 7, 10, 15, 25, 36 and 47

C.I 피그먼트 브라운 28 C.I Pigment Brown 28

C.I 피그먼트 블랙 1 및 7 등 C.I pigment black 1 and 7, etc.

이들 착색 재료(D)는 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 착색 재료(D)의 함유량은 착색 감광성 수지 조성물 중의 전체 고형분량을 기준으로 하여 통상 3 내지 60질량%, 바람직하게는 5 내지 55질량%의 범위이다. 착색 재료(D)의 함유량이 상기의 기준으로 5 내지 60질량%의 범위이면 박막을 형성하여도 화소의 색 농도가 충분하고, 현상시 비화소부의 누락성이 저하되지 않기 때문에 잔사가 발생하기 어려운 경향이 있으므로 바람직하다. These coloring materials (D) can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively. Content of a coloring material (D) is 3-60 mass% normally on the basis of the total solid content in a coloring photosensitive resin composition, Preferably it is the range of 5-55 mass%. If the content of the coloring material (D) is in the range of 5 to 60% by mass based on the above criteria, even when a thin film is formed, the color density of the pixel is sufficient, and residues are less likely to occur because the omission of the non-pixel portion during development is not lowered. It is preferable because it tends to.

용제(E)Solvent (E)

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 함유되는 용제(E)는 특별히 제한되지 않으며 착색 감광성 수지 조성물의 분야에서 사용되고 있는 각종 유기 용제를 사용할 수 있다. The solvent (E) contained in the colored photosensitive resin composition of this invention is not specifically limited, Various organic solvents used in the field of colored photosensitive resin composition can be used.

그의 구체예로서는 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르 등의 에틸렌글리콜모노알킬에테르류, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르 등의 디에틸렌글리콜디알킬에테르류, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트 등의 에틸렌글리콜알킬에테르아세테이트류, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 메톡시부틸아세테이트, 메톡시펜틸아세테이트 등의 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이 트류, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 등의 방향족 탄화수소류, 메틸에틸케톤, 아세톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥사놀, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 글리세린 등의 알콜류, 3-에톡시프로피온산 에틸, 3-메톡시프로피온산 메틸 등의 에스테르류, γ-부티롤락톤 등의 환상 에스테르류 등을 들 수 있다.Specific examples thereof include ethylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, and ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, and diethylene. Diethylene glycol dialkyl ethers such as glycol dipropyl ether and diethylene glycol dibutyl ether, ethylene glycol alkyl ether acetates such as methyl cellosolve acetate and ethyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, and propylene glycol Alkylene glycol alkyl ether acetates such as monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, methoxy butyl acetate, and methoxy pentyl acetate, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, methyl ethyl ketone, Acetone, Ketones such as methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, alcohols such as ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, glycerin, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 3-methoxypropionate Ester, such as these, Cyclic ester, such as (gamma) -butyrolactone, etc. are mentioned.

상기의 용제 중, 도포성, 건조성면에서 바람직하게는 상기 용제 중에서 비점이 100 내지 200℃인 유기 용제를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류, 케톤류, 3-에톡시프로피온산 에틸이나, 3-메톡시프로피온산 메틸 등의 에스테르류를 들 수 있으며, 더욱 바람직하게는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 시클로헥사논, 3-에톡시프로피온산 에틸, 3-메톡시프로피온산 메틸 등을 들 수 있다. Among the solvents described above, organic solvents having a boiling point of 100 to 200 ° C in the solvents are preferable in terms of coating properties and drying properties, and more preferably alkylene glycol alkyl ether acetates, ketones and 3-ethoxypropionic acid. Ester, such as ethyl and 3-methoxy propionate, is mentioned, More preferably, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, cyclohexanone, 3-ethoxy propionate, 3-methoxy Methyl oxypropionate etc. are mentioned.

이들 용제(E)는 각각 단독으로 또는 2종류 이상 혼합하여 사용할 수 있다. These solvents (E) can be used individually or in mixture of 2 or more types, respectively.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물 중의 용제(E)의 함유량은 그것을 포함하는 착색 감광성 수지 조성물 전체량에 대하여 질량 분율로, 통상 60 내지 90질량%, 바람직하게는 70 내지 85질량%이다. 용제(E)의 함유량이 상기의 기준으로 60 내지 90질량%의 범위이면 롤 코터, 스핀 코터, 슬릿 앤드 스핀 코터, 슬릿 코터(다이 코터라고도 하는 경우가 있음), 잉크젯 등의 도포 장치로 도포했을 때 도포성이 양호해지는 경향이 있기 때문에 바람직하다. Content of the solvent (E) in the colored photosensitive resin composition of this invention is 60-90 mass% normally with a mass fraction with respect to the coloring photosensitive resin composition whole quantity containing it, Preferably it is 70-85 mass%. When the content of the solvent (E) is in the range of 60 to 90% by mass based on the above criteria, it is applied with a coating device such as a roll coater, spin coater, slit and spin coater, slit coater (sometimes referred to as die coater), inkjet, or the like. It is preferable because the coating property tends to be good at the time.

기타 첨가제Other additives

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에는 필요에 따라 충진제, 다른 고분자 화합물, 경화제, 안료 분산제, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 응집 방지제 등의 첨가제(F)를 병행 하는 것도 가능하다. In the coloring photosensitive resin composition of this invention, it is also possible to add additives (F), such as a filler, another high molecular compound, a hardening | curing agent, a pigment dispersing agent, an adhesion promoter, antioxidant, a ultraviolet absorber, and an aggregation inhibitor, as needed.

충진제의 구체적인 예는 유리, 실리카, 알루미나 등이 예시된다. Specific examples of the filler include glass, silica, alumina and the like.

다른 고분자 화합물로서는 구체적으로 에폭시 수지, 말레이미드 수지 등의 경화성 수지, 폴리비닐알콜, 폴리아크릴산, 폴리에틸렌글리콜모노알킬에테르, 폴리플루오로알킬아크릴레이트 , 폴리에스테르, 폴리우레탄 등의 열가소성 수지 등을 들 수 있다. Specific examples of other polymer compounds include curable resins such as epoxy resins and maleimide resins, thermoplastic resins such as polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ethers, polyfluoroalkyl acrylates, polyesters, polyurethanes, and the like. have.

경화제는 심부 경화 및 기계적 강도를 높이기 위해 사용되며, 경화제로서는 에폭시 화합물, 다관능 이소시아네이트 화합물, 멜라민 화합물, 옥세탄 화합물 등을 들 수 있다. A hardening | curing agent is used in order to raise a deep part hardening and mechanical strength, As a hardening | curing agent, an epoxy compound, a polyfunctional isocyanate compound, a melamine compound, an oxetane compound, etc. are mentioned.

상기 경화제에서 에폭시 화합물로서는, 예를 들면, 비스페놀 A계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 A계 에폭시 수지, 비스페놀 F계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 F계 에폭시 수지, 노블락형 에폭시 수지, 기타 방향족계 에폭시 수지, 지환족계 에폭시 수지, 글리시딜에스테르계 수지, 글리시딜아민계 수지, 또는 이러한 에폭시 수지의 브롬화 유도체, 에폭시 수지 및 그 브롬화 유도체 이외의 지방족, 지환족 또는 방향족 에폭시 화합물, 부타디엔(공)중합체 에폭시화물, 이소프렌(공)중합체 에폭시화물, 글리시딜(메타)아크릴레트(공)중합체, 트리글리시딜이소시아눌레이트 등을 들 수 있다.Examples of the epoxy compound in the curing agent include bisphenol A epoxy resins, hydrogenated bisphenol A epoxy resins, bisphenol F epoxy resins, hydrogenated bisphenol F epoxy resins, noblock type epoxy resins and other aromatic epoxy resins and alicyclic compounds. Epoxy resins, glycidyl ester resins, glycidylamine resins, or brominated derivatives of such epoxy resins, aliphatic, alicyclic or aromatic epoxy compounds other than epoxy resins and their brominated derivatives, butadiene (co) polymer epoxides, Isoprene (co) polymer epoxide, glycidyl (meth) acrylate (co) polymer, triglycidyl isocyanurate and the like.

상기 경화제에서 옥세탄 화합물로서는, 예를 들면, 카보네이트비스옥세탄, 크실렌비스옥세탄, 아디페이트비스옥세탄, 테레프탈레이트비스옥세탄, 시클로헥산디카르복실산비스옥세탄 등을 들 수 있다.Examples of the oxetane compound in the curing agent include carbonate bis oxetane, xylene bis oxetane, adipate bis oxetane, terephthalate bis oxetane and cyclohexane dicarboxylic acid bis oxetane.

상기 경화제에서 경화제와 함께 에폭시 화합물의 에폭시기, 옥세탄 화합물의 옥세탄 골격을 개환 중합하게 할 수 있는 경화 보조 화합물을 포함할 수 있다. 경화 보조 화합물로서는, 예를 들면, 다가 카르본산류, 다가 카르본산무수물류, 산 발생제 등을 들 수 있다.The curing agent may include a curing aid compound capable of ring-opening polymerization of the epoxy group of the epoxy compound and the oxetane skeleton of the oxetane compound with the curing agent. As a hardening auxiliary compound, polyhydric carboxylic acids, polyhydric carboxylic anhydrides, an acid generator, etc. are mentioned, for example.

카르본산무수물류로서, 에폭시 수지 경화제로서 시판되는 것을 이용할 수 있다. 그 에폭시 수지 경화제로서는, 예를 들면, 상품명(아데카하도나 EH-700)(아데카공업㈜ 제조), 상품명(리카싯도 HH)(신일본이화㈜ 제조), 상품명(MH-700)(신일본이화㈜ 제조)등을 들 수 있다. 상기 경화제는 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 이용할 수 있다.As carboxylic acid anhydrides, what is marketed can be used as an epoxy resin hardening | curing agent. As this epoxy resin hardening | curing agent, a brand name (Adekahadona EH-700) (made by Adeka Industrial Co., Ltd.), a brand name (Rikaditdo HH) (made by Nippon Ewha Co., Ltd.), a brand name (MH-700) ( New Japan Ewha Co., Ltd.). The said hardening | curing agent can be used individually or in mixture of 2 or more types.

안료 분산제로서는 시판되는 계면 활성제를 이용할 수 있고, 예를 들면 실리콘계, 불소계, 에스테르계, 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양성 등의 계면 활성제 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용될 수 있다. 상기의 계면 활성제로서, 예를 들면 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르류, 폴리에틸렌글리콜디에스테르류, 소르비탄 지방상 에스테르류, 지방산 변성 폴리에스테르류, 3급 아민 변성 폴리우레탄류, 폴리에틸렌이민류 등이 있으며 이외에, 상품명으로 KP(신에쯔 가가꾸 고교㈜ 제조), 폴리플로우(POLYFLOW)(교에이샤 가가꾸㈜ 제조), 에프톱(EFTOP)(토켐 프로덕츠사 제조), 메가팩(MEGAFAC)(다이닛본 잉크 가가꾸 고교㈜ 제조), 플로라드(Flourad)(스미또모 쓰리엠㈜ 제조), 아사히가드(Asahi guard), 서플론(Surflon)(이상, 아사히 글라스㈜ 제조), 솔스퍼스(SOLSPERSE)(제네까㈜ 제조), EFKA(EFKA 케미칼스사 제조), PB 821(아지노모또㈜ 제조) 등을 들 수 있다. Commercially available surfactants can be used as the pigment dispersant, and examples thereof include surfactants such as silicone, fluorine, ester, cationic, anionic, nonionic and amphoteric. These can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively. As said surfactant, For example, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl phenyl ether, polyethylene glycol diester, sorbitan fatty ester, fatty acid modified polyester, tertiary amine modified polyurethane , Polyethyleneimine, and the like, KP (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), POLYFLOW (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), EFTOP (manufactured by Tochem Products), MEGAFAC (manufactured by Dainippon Ink Chemical Industries, Ltd.), Florard (manufactured by Sumitomo 3M), Asahi guard, Suflon (manufactured by Asahi Glass), SOLSPERSE (made by Genka Corporation), EFKA (made by EFKA Chemicals), PB 821 (made by Ajinomoto Co., Ltd.), etc. are mentioned.

밀착 촉진제로서, 예를 들면 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐 트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필 트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란, 3-이소시아네이트프로필트리메톡시실란, 3-이소시아네이트프로 필트리에톡시실란 등을 들 수 있다. As the adhesion promoter, for example, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyl tris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N -(2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyl trimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltri A methoxysilane, 3-isocyanate propyl trimethoxysilane, 3-isocyanate profile triethoxysilane, etc. are mentioned.

이들 밀착 촉진제는 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 레지스트 고형분 대비 농도는, 통상 0.01 내지 10질량%, 바람직하게는 0.05 내지 2 질량%이다. These adhesion promoters can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively. The concentration relative to the resist solid content is usually 0.01 to 10% by mass, preferably 0.05 to 2% by mass.

상화 방지제로서는 구체적으로 2,2'-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,6-디-t-부틸-4-메틸페놀 등을 들 수 있다. Specific examples of the anti-inflammatory agent include 2,2'-thiobis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, and the like.

자외선 흡수제로서는 구체적으로 2-(3-tert-부틸-2-히드록시-5-메틸페닐)-5-클로로벤조티리아졸, 알콕시벤조페논 등을 들 수 있다. Specific examples of the ultraviolet absorber include 2- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl) -5-chlorobenzothiazole, alkoxybenzophenone and the like.

응집 방지제로서는 구체적으로 폴리아크릴산 나트륨 등을 들 수 있다. Specific examples of the aggregation inhibitor include sodium polyacrylate and the like.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은, 예를 들면 이하와 같은 방법에 의해 제조할 수 있다. 착색 재료(D)를 미리 용제(E)와 혼합하여 착색 재료의 평균 입경이 0.2㎛ 이하 정도가 될 때까지 비드 밀 등을 이용하여 분산시킨다. 이때, 필요에 따라 안료 분산제가 사용되고, 또한 결합제 수지(A)의 일부 또는 전부가 배합되는 경우도 있다. 얻어진 분산액(이하, 밀 베이스라고 하는 경우도 있음)에 결합제 수지(A)의 나머지, 광중합성 화합물(B) 및 광중합 개시제(C), 필요에 따라 사용되는 그 밖의 성분, 필요에 따라 추가의 용제를 소정의 농도가 되도록 더 첨가하여 목적하는 착색 감광성 수지 조성물을 얻는다. The coloring photosensitive resin composition of this invention can be manufactured by the following methods, for example. The coloring material (D) is previously mixed with the solvent (E) and dispersed using a bead mill or the like until the average particle diameter of the coloring material is about 0.2 µm or less. At this time, a pigment dispersant is used as needed, and some or all of binder resin (A) may be mix | blended. The remainder of binder resin (A), the photopolymerizable compound (B), the photoinitiator (C), the other components used as needed, and the additional solvent as needed in the obtained dispersion liquid (henceforth a mill base). Is further added to a predetermined concentration to obtain a desired colored photosensitive resin composition.

이하에서는 본 발명에 따른 착색 감광성 수지 조성물의 패턴 형성방법을 설명한다.Hereinafter, the pattern formation method of the coloring photosensitive resin composition which concerns on this invention is demonstrated.

본 발명에 따른 착색 감광성 수지 조성물의 패턴 형성방법은, 전술한 착색 감광성 수지 조성물을 기재상에 도포하는 단계, 상기 착색 감광성 수지 조성물의 일부 영역을 선택적으로 노광하는 단계, 및 상기 착색 감광성 수지 조성물의 노광 영역 또는 비노광 영역을 제거하는 단계를 포함하여 이루어진다. The pattern forming method of the colored photosensitive resin composition according to the present invention comprises the steps of applying the above-described colored photosensitive resin composition on a substrate, selectively exposing a portion of the colored photosensitive resin composition, and the colored photosensitive resin composition Removing the exposed or non-exposed areas.

그 일례로서, 이하와 같이하여 기재 상에 도포하고, 광 경화 및 현상을 하여 패턴을 형성하게 되고, 블랙 매트릭스 또는 착색 화소(착색 화상)로 사용할 수 있게 된다. As an example, it can apply | coat on a base material as follows, and perform a photocuring and image development to form a pattern, and can be used as a black matrix or a colored pixel (colored image).

우선, 이 조성물을 기재(제한되지 않음, 통상은 유리 혹은 실리콘 웨이퍼) 또는 먼저 형성된 착색 감광성 수지 조성물의 고형분을 포함하는 층 위에 도포하여 예비 건조함으로써 용제 등의 휘발 성분을 제거하여 평활한 도막을 얻는다. 이 때의 도막의 두께는 대개 1 내지 4㎛ 정도이다. 이와 같이하여 얻어진 도막에 목적하는 패턴을 얻기 위해 마스크를 통해 특정 영역에 자외선을 조사한다. 이때, 노광부 전체에 균일하게 평행 광선이 조사되고, 마스크와 기판이 정확히 위치가 맞도록 마스크 얼라이너나 스테퍼 등의 장치를 사용하는 것이 바람직하다. 또한 이후, 경화가 종료된 도막을 알칼리 수용액에 접촉시켜 비노광 영역을 용해시키고 현상함으로써 목적하는 패턴을 제조할 수 있게 된다. 현상 후, 필요에 따라 150 내지 230℃에서 10 내지 60 분 정도의 후건조를 실시할 수 있다.First, the composition is applied onto a substrate (not limited, usually glass or silicon wafer) or a layer containing solids of the colored photosensitive resin composition formed first and preliminarily dried to remove volatile components such as solvents to obtain a smooth coating film. . The thickness of the coating film at this time is about 1-4 micrometers normally. In order to obtain the desired pattern to the coating film obtained in this way, an ultraviolet-ray is irradiated to a specific area | region through a mask. At this time, it is preferable to use apparatuses, such as a mask aligner and a stepper, so that a parallel light beam may be irradiated uniformly to the whole exposure part, and a mask and a board | substrate will be correctly aligned. In addition, a desired pattern can be produced by contacting the aqueous coating solution after completion of curing with an aqueous alkali solution to dissolve and develop the non-exposed areas. After image development, after-drying for about 10 to 60 minutes can be performed at 150-230 degreeC as needed.

패턴화 노광 후의 현상에 사용하는 현상액은 통상 알칼리성 화합물과 계면 활성제를 포함하는 수용액이다. The developing solution used for image development after patterned exposure is the aqueous solution containing an alkaline compound and surfactant normally.

알칼리성 화합물은 무기 및 유기 알칼리성 화합물 중 어느 것이어도 좋다. The alkaline compound may be either an inorganic or organic alkaline compound.

무기 알칼리성 화합물의 구체예로써는 수산화나트륨, 수산화칼륨, 인산수소이나트륨, 인산이수소나트륨, 인산수소이암모늄, 인산이수소암모늄, 인산이수소칼륨, 규산나트륨, 규산칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 붕산나트륨, 붕산칼륨, 암모니아 등을 들 수 있다. Specific examples of the inorganic alkaline compounds include sodium hydroxide, potassium hydroxide, disodium hydrogen phosphate, sodium dihydrogen phosphate, diammonium hydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, sodium silicate, potassium silicate, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium bicarbonate And potassium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, ammonia and the like.

또한, 유기 알칼리성 화합물의 구체예로써는 테트라메틸암모늄히드록시드, 2-히드록시에틸트리메틸암모늄히드록시드, 모노메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 모노에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 모노이소프로필아민, 디이소프로필아민, 에탄올아민 등을 들 수 있다. 이들 무기 및 유기 알칼리성 화합물은 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. In addition, specific examples of the organic alkaline compound include tetramethylammonium hydroxide, 2-hydroxyethyltrimethylammonium hydroxide, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, mono Isopropylamine, diisopropylamine, ethanolamine, etc. are mentioned. These inorganic and organic alkaline compounds can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

알칼리 현상액 중의 알칼리성 화합물의 바람직한 농도는 0.01 내지 10질량%의 범위이고, 보다 바람직하게는 0.03 내지 5 질량%이다. Preferable concentration of the alkaline compound in the alkaline developer is in the range of 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.03 to 5% by mass.

알칼리 현상액 중의 계면 활성제는 비이온계 계면 활성제, 음 이온계 계면 활성제 또는 양 이온계 계면 활성제 중 모두 사용할 수 있다. Surfactant in alkaline developing solution can use all of a nonionic surfactant, anionic surfactant, or a cationic surfactant.

비이온계 계면 활성제의 구체예로써는 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌아릴에테르, 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르, 그 밖의 폴리옥시에틸렌 유도체, 옥시에틸렌/옥시프로필렌 블록 공중합체, 소르비탄 지방산 에스테르, 폴리옥시 에틸렌소르비탄 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비톨 지방산 에스테르, 글리세린 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌알킬아민 등을 들 수 있다.Specific examples of the nonionic surfactant include polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene aryl ether, polyoxyethylene alkyl aryl ether, other polyoxyethylene derivatives, oxyethylene / oxypropylene block copolymers, sorbitan fatty acid esters, poly Oxyethylene sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitol fatty acid ester, glycerin fatty acid ester, polyoxyethylene fatty acid ester, polyoxyethylene alkylamine and the like.

음이온계 계면 활성제의 구체예로써는 라우릴알콜 황산 에스테르나트륨이나 올레일 알콜 황산 에스테르나트륨 등의 고급 알콜 황산 에스테르 염류, 라우릴황산 나트륨이나 라우릴황산 암모늄 등의 알킬황산염류, 도데실벤젠술폰산 나트륨이나 도데실나프탈렌술폰산 나트륨 등의 알킬아릴술폰산염류 등을 들 수 있다. Specific examples of the anionic surfactant include higher alcohol sulfate ester salts such as sodium lauryl alcohol sulfate and sodium oleyl alcohol sulfate, alkyl sulfates such as sodium lauryl sulfate and ammonium lauryl sulfate, sodium dodecylbenzene sulfonate, Alkyl aryl sulfonates, such as sodium dodecyl naphthalene sulfonate, etc. are mentioned.

양 이온계 계면 활성제의 구체예로써는 스테아릴아민염산염이나 라우릴트리메틸암모늄클로라이드 등의 아민염 또는 4급 암모늄염 등을 들 수 있다. Specific examples of the cationic surfactant include amine salts such as stearylamine hydrochloride and lauryl trimethylammonium chloride, and quaternary ammonium salts.

이들 계면 활성제는 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. These surfactant can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

알칼리 현상액 중의 계면 활성제의 농도는, 통상 0.01 내지 10질량%, 바람직하게는 0.05 내지 8 질량%, 보다 바람직하게는 0.1 내지 5 질량%이다. The concentration of the surfactant in the alkaline developer is usually 0.01 to 10% by mass, preferably 0.05 to 8% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass.

이하에서는, 본 발명에 따른 컬러필터를 설명한다.Hereinafter, the color filter according to the present invention will be described.

본 발명에 따른 컬러필터는 전술한 착색 감광성 수지 조성물을 소정의 패턴으로 노광, 현상하여 형성되는 컬러층을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.The color filter according to the present invention is characterized by comprising a color layer formed by exposing and developing the above-described colored photosensitive resin composition in a predetermined pattern.

착색 감광성 수지 조성물의 패턴 형성방법은 전술한 바에 의하고 자세한 설명은 생략한다. 전술한 바와 같이 착색 감광성 수지 용액의 도포, 건조, 얻어지는 건조 도막에의 패턴화 노광, 그리고 현상이라는 각 조작을 거쳐 감광성 수지 조성물 중의 착색 재료의 색에 상당하는 화소 또는 블랙 매트릭스가 얻어지고, 또한 이 러한 조작을 컬러필터에 필요로 하는 색의 수만큼 반복함으로써 컬러필터를 얻을 수 있다. 컬러필터의 구성 및 제조방법은 본 기술분야에서 잘 알려져 있으므로 그에 의하고 자세한 설명은 생략한다.The pattern formation method of a coloring photosensitive resin composition is based on the above-mentioned, and detailed description is abbreviate | omitted. As described above, a pixel or a black matrix corresponding to the color of the coloring material in the photosensitive resin composition is obtained through application of the colored photosensitive resin solution, drying, patterned exposure to the resulting dry coating film, and development. The color filter can be obtained by repeating such an operation by the number of colors required for the color filter. Since the configuration and manufacturing method of the color filter are well known in the art, detailed description thereof will be omitted.

컬러필터는 통상 블랙 매트릭스 및 적색, 녹색 및 청색의 3원색 화소를 기판상에 배치한 것이지만, 어느 색에 상당하는 착색 재료를 포함하는 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 상기의 조작을 행함으로써 그 색의 블랙 매트릭스 또는 화소를 얻고, 다른 색에 대해서도 목적하는 색에 상당하는 착색 재료를 포함하는 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 동일한 조작을 행하여 블랙 매트릭스 및 3원색 화소를 기판상에 배치할 수 있다. 물론, 블랙 매트릭스 및 3원색 중 어느 1색, 2색 또는 3색에만 본 발명의 감광성 수지 조성물을 적용할 수도 있다. The color filter is usually a black matrix and three primary color pixels of red, green and blue arranged on a substrate, but by performing the above operation using the colored photosensitive resin composition of the present invention containing a coloring material corresponding to a certain color. The black matrix and the three primary color pixels are disposed on a substrate by obtaining the black matrix or the pixel of the color and performing the same operation using the colored photosensitive resin composition of the present invention containing the coloring material corresponding to the desired color for other colors. can do. Of course, the photosensitive resin composition of this invention can also be apply | coated only to one color, two colors, or three colors of a black matrix and three primary colors.

또한, 차광층인 블랙 매트릭스는, 본 발명의 착색(흑색으로 착색됨) 감광성 수지를 사용할 수도 있으나, 예를 들면 크롬층 등으로 형성되어 있는 것도 있으므로 블랙 매트릭스의 형성에 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 사용할 필요는 없다. In addition, although the black matrix which is a light shielding layer can also use the coloring (colored black) photosensitive resin of this invention, since it is formed by the chromium layer etc., for example, the coloring photosensitive resin composition of this invention for formation of a black matrix. There is no need to use.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 제조된 컬러필터는 면내의 막 두께차가 적고, 예를 들면 1 내지 4㎛의 막 두께로 면내 막 두께차를 0.15㎛ 이하, 나아가 0.05㎛ 이하로 할 수 있다. 따라서, 이렇게 해서 얻어지는 컬러필터는 평활성이 우수하고, 이것을 컬러 액정표시장치에 조립함으로써 우수한 품질의 액정표시장치를 높은 수율로 제조할 수 있다. The color filter manufactured using the coloring photosensitive resin composition of this invention has little in-plane film thickness difference, For example, it can make in-plane film thickness difference 0.15 micrometer or less and further 0.05 micrometer or less with the film thickness of 1-4 micrometers. . Therefore, the color filter obtained in this way is excellent in smoothness, and it can manufacture a liquid crystal display device of excellent quality by high yield by assembling this to a color liquid crystal display device.

본 발명은 전술한 컬러필터를 구비한 액정표시장치도 권리에 포함하고 있다. The present invention also includes a liquid crystal display device provided with the color filter described above.

본 발명의 액정표시장치는 전술한 컬러필터를 구비한 것을 제외하고는 본 기술분야에서 알려진 구성을 포함한다. 즉, 본 발명의 컬러필터를 적용할 수 있는 액정표시장치는 모두 본 발명에 포함된다. 일례로, 박막트랜지스터(TFT 소자), 화소전극 및 배향층을 구비한 대향전극 기판을 소정의 간격으로 마주 향하게 하고, 이 간극부에 액정재료를 주입하여 액정층으로 한 투과형의 액정표시장치를 들 수 있다. 또한, 컬러필터의 기판과 착색층 사이에 반사층을 설치한 반사형의 액정표시장치도 있다. The liquid crystal display of the present invention includes a configuration known in the art, except that the above-described color filter is provided. That is, all of the liquid crystal display devices to which the color filter of the present invention can be applied are included in the present invention. For example, a transmissive liquid crystal display device in which a counter electrode substrate including a thin film transistor (TFT element), a pixel electrode, and an alignment layer is faced at predetermined intervals, and a liquid crystal material is injected into the gap to form a liquid crystal layer. Can be. There is also a reflective liquid crystal display device in which a reflective layer is provided between the substrate of the color filter and the colored layer.

또 다른 일례로, 컬러필터의 투명 전극 위에 합쳐진 TFT(박막 트랜지스터:Thin Film Transistor) 기판 및, TFT 기판이 컬러필터와 중첩하는 위치에 고정된 백라이트를 포함한 액정표시장치를 들 수 있다. 상기 TFT 기판은 컬러필터의 주변 표면을 둘러싸는 광방지 수지(light-proof resin)로 이루어진 외부 프레임, 외부 프레임 내에 부과된 네마틱 액정으로 이루어진 액정층, 액정층의 각 영역마다 제공된 다수의 화소 전극, 화소 전극이 형성된 투명 유리 기판, 및 투명 유리 기판의 노출된 표면 위에 형성된 편광판을 구비할 수 있다.As another example, a liquid crystal display device including a TFT (Thin Film Transistor) substrate joined on a transparent electrode of a color filter, and a backlight fixed at a position where the TFT substrate overlaps the color filter. The TFT substrate includes an outer frame made of light-proof resin surrounding a peripheral surface of a color filter, a liquid crystal layer made of nematic liquid crystals imposed in the outer frame, and a plurality of pixel electrodes provided for each region of the liquid crystal layer. , A transparent glass substrate on which the pixel electrode is formed, and a polarizing plate formed on the exposed surface of the transparent glass substrate.

편광판은 수직으로 가로지르는 편광 방향을 가지며, 폴리비닐알콜과 같은 유기 재료로 구성되어 있다. 다수의 화소 전극은 각각 TFT 기판의 유리 기판위에 형성된 복수의 박막 트랜지스터와 연결되어 있다. 만일 특정의 화소 전극에 소정의 전위차가 적용되면, 소정의 전압이 특정 화소 전극과 투명 전극사이에 적용된다. 따라서, 전압에 따라 형성된 전기장이 액정층의 특정 화소 전극에 해당하는 영역의 배향을 변화시킨다.The polarizing plate has a polarizing direction that traverses vertically and is made of an organic material such as polyvinyl alcohol. A plurality of pixel electrodes are connected to a plurality of thin film transistors each formed on a glass substrate of a TFT substrate. If a predetermined potential difference is applied to a specific pixel electrode, a predetermined voltage is applied between the specific pixel electrode and the transparent electrode. Therefore, the electric field formed according to the voltage changes the orientation of the region corresponding to the specific pixel electrode of the liquid crystal layer.

<< 실시예Example > >

이하와 같이, 본 발명을 실시예에 기초하여 더욱 상세하게 설명하지만, 하기에 개시되는 본 발명의 실시 형태는 어디까지 예시로써, 본 발명의 범위는 이들의 실시 형태에 한정되지 않는다. 본 발명의 범위는 특허청구 범위에 표시되었고, 더욱이 특허청구 범위 기록과 균등한 의미 및 범위내에의 모든 변경을 함유하고 있다. 이하, 실시예에 의해 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명이 실시예에 의해 한정되는 것은 물론 아니다. 또한, 이하의 실시예, 비교예에서 함유량을 나타내는 "%" 및 "부"는 특별히 언급하지 않는 한 질량 기준이다. As follows, the present invention will be described in more detail based on examples, but the embodiments of the present invention disclosed below are exemplified to the last, and the scope of the present invention is not limited to these embodiments. The scope of the invention is indicated in the appended claims, and moreover contains all changes within the meaning and range equivalent to the scope of the claims. Hereinafter, although an Example demonstrates this invention more concretely, this invention is not limited by an Example. In addition, "%" and "part" which show content in a following example and a comparative example are a mass reference | standard unless there is particular notice.

<광경화성 아크릴공중합체(a-1) 제조예> < Production example of photocurable acrylic copolymer (a-1)>

합성예 A-4Synthesis Example A-4

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크에 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(182부)를 도입하여, 플라스크내 분위기를 공기에서 질소로 한 후, 100℃로 승온 후 벤질메타크릴레이트(95.5부), 메타크릴산(35.0부), 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(136부)를 포함하는 혼합물에 아조비스이소부티로니트릴(3.6부)을 첨가한 용액을 적하 로트로부터 2 시 간에 걸쳐 플라스크에 적하하여 100℃에서 5시간 더 교반을 계속하였다. 이어서, 플라스크내 분위기를 질소에서 공기로 하고, 글리시딜메타크릴레이트(20.0부)[(본 반응에 사용한 메타크릴산의 카르복시기에 대하여 50몰%)], 트리스디메틸아미노메틸페놀(0.9부) 및 히드로퀴논(0.145부)을 플라스크내에 투입하여 110℃에서 6시간 반응을 계속하고, 고형분 산가가 78㎎KOH/g인 수지(a-1-1)를 얻었다.Propylene glycol monomethyl ether acetate (182 parts) was introduced into a flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping lot, and a nitrogen inlet tube, and the atmosphere in the flask was changed from nitrogen to air. To a mixture comprising methacrylate (95.5 parts), methacrylic acid (35.0 parts), and propylene glycol monomethyl ether acetate (136 parts), a solution of azobisisobutyronitrile (3.6 parts) was added dropwise from the lot. It was dripped at the flask over time, and stirring was continued for 5 hours at 100 degreeC. Subsequently, the atmosphere in the flask was changed from nitrogen to air, and glycidyl methacrylate (20.0 parts) [(50 mol% based on the carboxyl group of methacrylic acid used in this reaction)], trisdimethylaminomethylphenol (0.9 parts) And hydroquinone (0.145 parts) was put into the flask, the reaction was continued at 110 ° C for 6 hours to obtain a resin (a-1-1) having a solid acid value of 78 mgKOH / g.

상기 제조된 광경화형 알칼리 가용성 아크릴 공중합체 수지는 산가 78mgKOH/g, 중량평균분자량 24,000을 갖는 것을 확인하였다.It was confirmed that the photocurable alkali-soluble acrylic copolymer resin prepared had an acid value of 78 mgKOH / g and a weight average molecular weight of 24,000.

<광경화성 알칼리 가용성 다관능 올리고머(a-2) 제조예> < Production example of photocurable alkali-soluble polyfunctional oligomer (a-2) >

합성예 a-2-1Synthesis Example a-2-1

온도계, 콘덴서, 적하 깔때기 및 교반기를 갖춘 4구 플라스크를 반응용기로 사용하였다. 먼저 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(335.9부)와 지르코늄옥토에이트 촉매(0.13부)의 존재하에 프로필렌글리콜(76.1부)과 3-플루오로프탈산무수물(365.4부)을 상기 반응용기에 가한 후, 교반하면서 150℃까지 승온시킨 다음 생성물의 산가를 확인하여 산가가 250mgKOH/g이었을 때를 1차 반응의 종결점으로 잡았다. 1차 반응이 끝난 후, n-부틸글리시딜에테르(260.4부)를 상기 반응용기에 3시간에 걸쳐 균일한 속도로 적하하고, 적하 완료 후 반응온도를 160℃로 하고, 교반시키며 생성물의 산가를 확인하여 산가가 3.91mgKOH/g이었을 때를 2차 반응의 종결점으로 잡아 2차 반응을 실시하였다. 2차 반응이 끝난 후, 120℃에서 무수 말레산(215.6부)을 상기 반응용기에 2시간동안 균일한 속도로 적하하여 3차 반응을 수 행함으로써 최종적으로 산가 115mgKOH/g를 종결점으로 하는 광경화성 알칼리 가용성 다관능 올리고머를 제조하였다.A four-necked flask equipped with a thermometer, condenser, dropping funnel and stirrer was used as the reaction vessel. First, propylene glycol (76.1 parts) and 3-fluorophthalic anhydride (365.4 parts) were added to the reaction vessel in the presence of propylene glycol monomethyl ether acetate (335.9 parts) and zirconium octoate catalyst (0.13 parts), followed by stirring. After the temperature was raised to 150 ° C., the acid value of the product was confirmed to determine the end point of the first reaction when the acid value was 250 mgKOH / g. After the completion of the first reaction, n-butylglycidyl ether (260.4 parts) was added dropwise to the reaction vessel at a uniform rate over 3 hours, and after completion of dropping, the reaction temperature was set at 160 ° C., and the acid value of the product was stirred. It was confirmed that when the acid value was 3.91mgKOH / g as the end of the secondary reaction was carried out the secondary reaction. After the completion of the secondary reaction, maleic anhydride (215.6 parts) was added dropwise to the reaction vessel at 120 ° C. at a uniform rate for 2 hours to carry out the tertiary reaction, finally bringing the acid value to 115 mgKOH / g as the end point. A chemically alkaline soluble polyfunctional oligomer was prepared.

상기 제조된 폴리에스테르계 올리고머는 산가 115mgKOH/g, 불휘발분 75질량%, 점도 1,500cps, 수평균분자량 820, 중량평균분자량 1,100, 분자량 분포도 1.34의 특성치를 가짐을 확인하였다.The prepared polyester oligomer was confirmed to have a characteristic value of the acid value 115mgKOH / g, non-volatile content 75% by mass, viscosity 1,500cps, number average molecular weight 820, weight average molecular weight 1,100, molecular weight distribution 1.34.

합성예 a-2-2Synthesis Example a-2-2

온도계, 콘덴서, 적하 깔때기, 교반기를 갖춘 4구 플라스크를 반응용기로 사용하였다. 먼저 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(150부)와 에톡시에틸프로피오네이트(176.6부)의 존재하에 단량체 중 네오펜틸글리콜(104.1부)과 헥사히드로프탈산무수물(154.2부), 클로렌드산무수물(444.9부)을 상기 반응용기에 가한 후, 교반하면서 140℃까지 승온시킨 다음 생성물의 산가를 확인하여 산가가 250mgKOH/g이었을 때를 1차 반응의 종결점으로 하였다. 1차 반응이 끝난 후, 트리에틸렌글리콜디글리시딜에테르(603.6부)를 상기 반응용기에 2시간에 걸쳐 균일한 속도로 적하하고, 적하 완료 후 반응온도를 120℃로 하고 교반시키면서 생성물의 산가를 확인하여 산가가 3.67mgKOH/g이었을 때를 2차 반응의 종결점으로 잡아 2차 반응을 종료하였다. 2차 반응이 끝난 후 170℃에서 푸말산(298.9부)을 상기 반응용기에 2시간동안 균일한 속도로 적하하여 3차 반응을 수행함으로써, 최종적으로 산가 88mgKOH/g를 종결점으로 하는 광경화성 알칼리 가용성 다관능 올리고머를 제조하였다.A four-necked flask equipped with a thermometer, condenser, dropping funnel and stirrer was used as the reaction vessel. First, in the presence of propylene glycol monomethyl ether acetate (150 parts) and ethoxyethyl propionate (176.6 parts), neopentyl glycol (104.1 parts), hexahydrophthalic anhydride (154.2 parts) and chloride anhydride (444.9) Part I) was added to the reaction vessel, and the temperature was raised to 140 ° C. while stirring. Then, the acid value of the product was confirmed to determine the end point of the first reaction when the acid value was 250 mgKOH / g. After completion of the first reaction, triethylene glycol diglycidyl ether (603.6 parts) was added dropwise to the reaction vessel at a uniform rate over 2 hours, and after completion of dropping, the acid value of the product was stirred with the reaction temperature of 120 ° C. It was confirmed that the acid value was 3.67mgKOH / g as the end of the secondary reaction was terminated the secondary reaction. After the completion of the secondary reaction, fumaric acid (298.9 parts) was added dropwise to the reaction vessel at a uniform rate for 2 hours to carry out the tertiary reaction, and finally the photocurable alkali having an acid value of 88 mgKOH / g as the end point. Soluble polyfunctional oligomers were prepared.

상기 제조된 폴리에스테르계 올리고머는 산가 90mgKOH/g, 불휘발분 83질량%, 점도 1,700cps, 수평균분자량 1,216, 중량평균분자량 1,520, 분자량 분포도 1.25의 특성치를 가짐을 확인하였다.The prepared polyester oligomer was confirmed to have a characteristic value of the acid value 90mgKOH / g, nonvolatile content 83% by mass, viscosity 1,700cps, number average molecular weight 1,216, weight average molecular weight 1,520, molecular weight distribution 1.25.

합성예 a-2-3Synthesis Example a-2-3

온도계, 콘덴서, 적하 깔때기 및 교반기를 갖춘 4구 플라스크를 반응용기로 사용하였다. 먼저 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(300부), 에톡시에틸프로피오네이트(409.8부)와 지르코늄옥토에이트 촉매(0.1부)의 존재하에 네오펜틸글리콜(104.1부), 트리메틸올프로판(134.2부)과 도데세닐숙신산무수물(532.8부), 테트라브로모프탈산무수물(1,391.1부)을 상기 반응용기에 가한 후, 교반하면서 130℃까지 승온시킨 다음 생성물의 산가를 확인하여 산가가 250mgKOH/g이었을 때를 1차 반응의 종결점으로 잡았다. 1차 반응이 끝난 후, n-부틸글리시딜에테르(676.9부)를 상기 반응용기에 2시간에 걸쳐 균일한 속도로 적하하고, 적하 완료 후 반응온도를 110℃로 하고, 교반시키며 생성물의 산가를 확인하여 산가가 1.9mgKOH/g이었을 때를 2차 반응의 종결점으로 잡아 2차 반응을 실시하였다. 2차 반응이 끝난 후, 170℃에서 말레산(604부)을 상기 반응용기에 2시간동안 균일한 속도로 적하하여 3차 반응을 수행함으로써 최종적으로 산가 88mgKOH/g를 종결점으로 하는 광경화성 알칼리 가용성 다관능 올리고머를 제조하였다.A four-necked flask equipped with a thermometer, condenser, dropping funnel and stirrer was used as the reaction vessel. First, neopentyl glycol (104.1 parts) and trimethylol propane (134.2 parts) in the presence of propylene glycol monomethyl ether acetate (300 parts), ethoxyethyl propionate (409.8 parts) and zirconium octoate catalyst (0.1 parts) Dodecenyl succinic anhydride (532.8 parts) and tetrabromophthalic anhydride (1,391.1 parts) were added to the reaction vessel, the temperature was raised to 130 ° C. while stirring, and the acid value of the product was confirmed. The end of the reaction was taken. After completion of the first reaction, n-butylglycidyl ether (676.9 parts) was added dropwise to the reaction vessel at a uniform rate over 2 hours, and after completion of the dropping, the reaction temperature was 110 ° C., and the acid value of the product was stirred. It was confirmed that when the acid value was 1.9mgKOH / g as the end of the secondary reaction was carried out the secondary reaction. After the completion of the secondary reaction, maleic acid (604 parts) was added dropwise to the reaction vessel at 170 ° C. at a uniform rate for 2 hours to carry out the tertiary reaction, and finally the photocurable alkali having an acid value of 88 mgKOH / g as the end point. Soluble polyfunctional oligomers were prepared.

상기 제조된 폴리에스테르계 올리고머는 산가 87mgKOH/g, 불휘발분 80질량%, 점도 800cps, 수평균분자량 2,116, 중량평균분자량 2,730, 분자량 분포도 1.29의 특성치를 가짐을 확인하였다.It was confirmed that the polyester oligomer prepared above had characteristic values of an acid value of 87 mgKOH / g, a nonvolatile content of 80 mass%, a viscosity of 800 cps, a number average molecular weight of 2,116, a weight average molecular weight of 2,730, and a molecular weight distribution of 1.29.

<결합제 수지 A의 <Of binder resin A 합성예Synthesis Example > >

합성예 A-1Synthesis Example A-1

온도계, 콘덴서, 적하 깔때기 및 교반기를 갖춘 4구 플라스크를 반응용기로 사용하였다. 합성예 a-2-1에서 제조된 다관능 올리고머(13부)와 합성예 A-4에서 제조된 광경화형 알칼리 가용성 아크릴 공중합체 수지(250부)를 플라스크에 가한 다음, 테트라카르복실산 이무수물(2.2부)을 가하고 120℃에서 2시간 유지하여 산가가 수지 고형분 기준으로 82-89mgKOH/g이었을 때를 반응 종결점으로 하는 폴리에스테르계 광경화성 알칼리 가용성 다관능 올리고머 변성 아크릴 공중합체인 결합제 수지(A-1)를 제조하였다.A four-necked flask equipped with a thermometer, condenser, dropping funnel and stirrer was used as the reaction vessel. The polyfunctional oligomer (13 parts) prepared in Synthesis Example a-2-1 and the photocurable alkali-soluble acrylic copolymer resin (250 parts) prepared in Synthesis Example A-4 were added to the flask, followed by tetracarboxylic dianhydride. (2.2 parts) was added and maintained at 120 ° C. for 2 hours, and the binder resin (A) was a polyester-based photocurable alkali-soluble polyfunctional oligomer-modified acrylic copolymer having an acid value of 82-89 mgKOH / g based on resin solid content as a reaction termination point. -1) was prepared.

상기 제조된 결합제 수지는 산가 85mgKOH/g, 불휘발분 42질량%, 점도 2,500cps, 중량평균분자량 55,000을 갖는 것을 확인하였다.It was confirmed that the binder resin prepared above had an acid value of 85 mgKOH / g, a nonvolatile content of 42 mass%, a viscosity of 2,500 cps, and a weight average molecular weight of 55,000.

합성예 A-2Synthesis Example A-2

온도계, 콘덴서, 적하 깔때기 및 교반기를 갖춘 4구 플라스크를 반응용기로 사용하였다. 합성예 a-2-2에서 제조된 다관능 올리고머(11부)와 합성예 A-4에서 제조된 광경화형 알칼리 가용성 아크릴 공중합체 수지(250부)를 플라스크에 가한 다음, 테트라카르복실산 이무수물(1.6부)을 가하고 120℃에서 2시간 유지하여 산가가 수지 고형분 기준으로 76-84mgKOH/g이었을 때를 반응 종결점으로 하는 폴리에스테 르계 광경화성 알칼리 가용성 다관능 올리고머 변성 아크릴 공중합체인 결합제 수지(A-2)를 제조하였다.A four-necked flask equipped with a thermometer, condenser, dropping funnel and stirrer was used as the reaction vessel. The polyfunctional oligomer (11 parts) prepared in Synthesis Example a-2-2 and the photocurable alkali-soluble acrylic copolymer resin (250 parts) prepared in Synthesis Example A-4 were added to the flask, followed by tetracarboxylic dianhydride. Binder resin (A), which is a polyester-based photocurable alkali-soluble polyfunctional oligomer-modified acrylic copolymer having an end point of the reaction when (1.6 parts) was added and held at 120 ° C for 2 hours and the acid value was 76-84 mgKOH / g based on resin solid content. -2) was prepared.

상기 제조된 결합제 수지는 산가 80mgKOH/g, 불휘발분 42질량%, 점도 2,000cps, 중량평균분자량 40,000을 갖는 것을 확인하였다.It was confirmed that the binder resin prepared above had an acid value of 80 mgKOH / g, a nonvolatile content of 42 mass%, a viscosity of 2,000 cps, and a weight average molecular weight of 40,000.

합성예 A-3Synthesis Example A-3

온도계, 콘덴서, 적하 깔때기 및 교반기를 갖춘 4구 플라스크를 반응용기로 사용하였다. 합성예 a-2-3에서 제조된 다관능 올리고머(12부)와 합성예 A-4에서 제조된 광경화형 알칼리 가용성 아크릴 공중합체 수지(250부)를 플라스크에 가한 다음, 테트라카르복실산 이무수물(1.6부)을 가하고 120℃에서 2시간 유지하여 산가가 수지 고형분 기준으로 90-97mgKOH/g이었을 때를 반응 종결점으로 하는 폴리에스테르계 광경화성 알칼리 가용성 다관능 올리고머 변성 아크릴 공중합체인 결합제 수지(A-3)를 제조하였다.A four-necked flask equipped with a thermometer, condenser, dropping funnel and stirrer was used as the reaction vessel. The polyfunctional oligomer (12 parts) prepared in Synthesis Example a-2-3 and the photocurable alkali-soluble acrylic copolymer resin (250 parts) prepared in Synthesis Example A-4 were added to the flask, followed by tetracarboxylic dianhydride. (1.6 parts) was added and maintained at 120 ° C. for 2 hours, and the binder resin (A) was a polyester-based photocurable alkali-soluble polyfunctional oligomer-modified acrylic copolymer having an acid value of 90-97 mgKOH / g based on resin solid content as a reaction end point. -3) was prepared.

상기 제조된 결합제 수지는 산가 93mgKOH/g, 불휘발분 42질량%, 점도 6,000cps, 중량평균분자량 76,000을 갖는 것을 확인하였다.It was confirmed that the binder resin prepared above had an acid value of 93 mgKOH / g, a nonvolatile content of 42 mass%, a viscosity of 6,000 cps, and a weight average molecular weight of 76,000.

상기의 결합제 수지의 중량평균분자량(Mw) 및 수평균분자량(Mn)의 측정에 대해서는 GPC법을 이용하여 이하의 조건으로 행하였다. The measurement of the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) of the binder resin was carried out under the following conditions using the GPC method.

장치 : HLC-8120GPC(도소㈜ 제조) Equipment: HLC-8120GPC (manufactured by Tosoh Corporation)

칼럼 : TSK-GELG4000HXL + TSK-GELG2000HXL(직렬 접속) Column: TSK-GELG4000HXL + TSK-GELG2000HXL (Serial Connection)

칼럼 온도 : 40℃Column temperature: 40 ℃

이동상 용매 : 테트라히드로퓨란 Mobile phase solvent: tetrahydrofuran

유속 : 1.0㎖/분 Flow rate: 1.0 ml / min

주입량 : 50㎕ Injection volume: 50µl

검출기 : RI Detector: RI

측정 시료 농도 : 0.6질량%(용매 = 테트라히드로퓨란) Measurement sample concentration: 0.6 mass% (solvent = tetrahydrofuran)

교정용 표준 물질 : TSK STANDARD POLYSTYRENE F-40, F-4, F-1, A-2500, A-500(도소㈜ 제조) Calibration standard: TSK STANDARD POLYSTYRENE F-40, F-4, F-1, A-2500, A-500 (manufactured by Tosoh Corporation)

상기에서 얻어진 중량평균분자량 및 수평균분자량의 비를 분자량 분포(Mw/Mn)로 하였다. The ratio of the weight average molecular weight and number average molecular weight obtained above was made into molecular weight distribution (Mw / Mn).

<< 실시예Example 1> 1>

하기 표 1 에 기재된 각 성분 중, 미리 착색 재료(D)인 안료 및 첨가제(F)인 안료 분산제의 합계량이 안료, 안료 분산제 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트의 혼합물에 대하여 20질량%가 되도록 혼합하여 비드 밀을 이용하여 안료를 충분히 분산시킨 후 비드 밀을 분리하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트의 잔량을 포함하는 나머지 성분을 더 첨가하고 혼합하여 착색 감광성 수지 조성물을 얻었다. In each component of the following Table 1, it mixes so that the total amount of the pigment which is a coloring material (D), and the pigment dispersant which is an additive (F) may be 20 mass% with respect to the mixture of a pigment, a pigment dispersant, and a propylene glycol monomethyl ether acetate. After the pigment was sufficiently dispersed using the bead mill, the bead mill was separated, and the remaining components including the remaining amount of propylene glycol monomethyl ether acetate were further added and mixed to obtain a colored photosensitive resin composition.

<표 1> TABLE 1

 착색 재료(D)Coloring material (D) C.I. 피그먼트 그린 36 C.I. Pigment Green 36 5.51부Part 5.51 C.I. 피그먼트 옐로우 150 C.I. Pigment Yellow 150 2.43부Part 2.43 결합제 수지(A)Binder Resin (A) 수지 A-1(고형분 계산) Resin A-1 (solid content calculation) 6.59부Part 6.59 광중합성 화합물(B) Photopolymerizable Compound (B) 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(KAYARAD DPHA; 닛본 카야꾸 ㈜ 제조) Dipentaerythritol hexaacrylate (KAYARAD DPHA; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 5.71부Part 5.71 광중합 개시제(C)Photoinitiator (C) 2-벤질-2-디메틸아미노-1(4-모르폴리노페닐)부타논(Irgacure 369; Ciba Specialty Chemical사 제조)2-benzyl-2-dimethylamino-1 (4-morpholinophenyl) butanone (Irgacure 369; manufactured by Ciba Specialty Chemical) 1.46부Part 1.46 4,4'-디(N,N'-디메틸아미노)-벤조페논(EAB-F; 호도가야 카가꾸 ㈜ 제조) 4,4'-di (N, N'-dimethylamino) -benzophenone (EAB-F; manufactured by Hodogaya Kagaku Co., Ltd.) 0.49부0.49part 용제(E)Solvent (E) 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 Propylene Glycol Monomethyl Ether Acetate 76.00부76.00part 첨가제(F)Additive (F) 안료 분산제(폴리에스테르계) Pigment Dispersant (Polyester) 1.20부Part 1.20 에폭시 수지(SUMI-EPOXY ESCN-195XL; 스미또모 카가꾸 고교 ㈜ 제조) Epoxy resin (SUMI-EPOXY ESCN-195XL; manufactured by Sumitomo Kagaku Kogyo Co., Ltd.) 0.51부0.51 parts 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane 0.10부0.10part

2 평방인치의 유리 기판(코닝사 제조, #1737)을 중성 세제, 물 및 알콜로 차례로 세정하고 나서 건조하였다. 이 유리 기판상에 상기의 착색 감광성 수지 조성물(표 1)을 100mJ/㎠의 노광량(365㎚)으로 노광하여 현상 공정을 생략했을 때의 후 소성 후의 막 두께가 3.0㎛가 되도록 스핀 코팅하고, 이어서 크린 오븐 중, 100℃에서 3분간 예비 건조하였다. 냉각 후, 이 착색 감광성 수지 조성물을 도포한 기판과 석영 유리제 포토마스크(투과율을 1 내지 100%의 범위에서 계단상으로 변화시키는 패턴과 1㎛에서 50㎛까지의 라인/스페이스 패턴을 가짐)의 간격을 100㎛로 하고, 우시오 덴끼㈜제의 초고압 수은 램프(상품명 USH-250D)를 이용하여 대기 분위기하에 100mJ/㎠의 노광량(365㎚)으로 광조사하였다. 그 후, 비이온계 계면 활성제 0.12%와 수산화칼륨 0.06%를 포함하는 수계 현상액에 상기 도막을 26℃에서 소정 시간 담가두어 현상한 뒤, 수세 후 220℃에서 30분간 건조하였다. 얻어진 화소부에서는 표면 거칠음을 발견할 수 없었다. 또한, 비 화소부에는 기판상에 현상 잔사 및 미현상 불량이 발생되지 않았다. 그리고, 현상하여도 표면 거칠음이 없는 패턴 을 형성하기 위해 필요한 최저 필요 노광량은 30mJ/㎠였다. A 2 square inch glass substrate (# 1737, manufactured by Corning) was washed sequentially with a neutral detergent, water, and alcohol and dried. The coated photosensitive resin composition (Table 1) was exposed on the glass substrate at an exposure amount (365 nm) of 100 mJ / cm 2, and spin-coated so that the film thickness after post-firing when the developing step was omitted was 3.0 µm, and then Preliminary drying was carried out at 100 ° C for 3 minutes in a clean oven. After cooling, the gap between the substrate coated with the colored photosensitive resin composition and a quartz glass photomask (having a pattern for changing the transmittance stepwise in the range of 1 to 100% and a line / space pattern from 1 µm to 50 µm) Was made into 100 micrometers, and it irradiated with the exposure amount (365 nm) of 100 mJ / cm <2> in air | atmosphere using the ultrahigh pressure mercury lamp (brand name USH-250D) by Ushio Denki Corporation. Thereafter, the coating film was immersed in a water-based developer containing 0.12% of a nonionic surfactant and 0.06% of potassium hydroxide at 26 ° C. for a predetermined time, and then dried at 220 ° C. for 30 minutes after washing with water. No surface roughness was found in the obtained pixel portion. In addition, developing residue and undeveloped defects did not occur in the non-pixel portion on the substrate. And even if it develops, the minimum required exposure amount required in order to form the pattern without surface roughness was 30 mJ / cm <2>.

<< 실시예Example 2> 2>

실시예 1에서 수지 A-1를 수지 A-2로 변경하는 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 조작을 행하였다. 평가 결과를 표 2 에 나타내었다.In Example 1, operation similar to Example 1 was performed except having changed resin A-1 into resin A-2. The evaluation results are shown in Table 2.

<< 실시예Example 3> 3>

실시예 1에서 수지 A-1를 수지 A-3로 변경하는 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 조작을 행하였다. 평가 결과를 표 2 에 나타내었다.Operation similar to Example 1 was performed except having changed resin A-1 into resin A-3 in Example 1. The evaluation results are shown in Table 2.

<< 비교예Comparative example 1>  1>

실시예 1에서 수지 A-1를 수지 a-1-1로 변경하는 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 조작을 행하였다. 평가 결과를 표 2 에 나타내었다. In Example 1, operation similar to Example 1 was performed except having changed resin A-1 into resin a-1-1. The evaluation results are shown in Table 2.

<표 2> TABLE 2

실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 비교예 1Comparative Example 1 감도*1(mJ/cm2)Sensitivity * 1 (mJ / cm 2 ) 4040 4545 4545 6060 기판상 현상 잔사*2Developing residue on board * 2 단면 형상*3Section Shape * 3 연필경도*4Pencil Hardness * 4 5H5H 5H5H 5H5H 4H4H 현상성*5Developability * 5

* 1 : 현상하여도 표면 거칠음이 없는 패턴을 형성하기 위해 필요한 최저 필요 노광량을 나타낸다. * 1: The minimum required exposure amount required for forming a pattern without surface roughness even when developed.

* 2 : ○ : 기판상 현상 잔사 없음, X : 기판상 현상 잔사 있음 * 2: ○: no developing residue on the substrate, X ': developing residue on the substrate

* 3 : 화소 단부의 단면 형상을 SEM을 이용하여 관찰하였다. * 3: The cross-sectional shape of the pixel edge part was observed using SEM.

○ : 순테이퍼 상, X : 역테이퍼 상  ○: Forward tapered, X ': Reverse tapered

* 4 : 포토마스크를 사용하지 않은 것 이외에는 실시예와 같이하여 경화 도막을 제조하였다. 연필 경도의 측정은 JIS K5600-5-4에 따른다. * 4: The cured coating film was produced like Example except having not used a photomask. Measurement of the pencil hardness is in accordance with JIS K5600-5-4.

* 5 : 현상성 측정은 23℃/ 0.04% KOH 하에서 현상속도 측정시 * 5: Developability is measured at 23 ℃ / 0.04% KOH

○ : 30초 미만, △ : 30 ~ 50초 X : 50초 이상. ○: less than 30 seconds, Δ: 30 to 50 seconds X: 50 seconds or more.

표 2로부터 본 발명의 결합제 수지를 포함하는 실시예 1 , 2 및 3의 감광성 수지 조성물은 낮은 노광량에서 표면 거칠음이 없는 패턴을 형성할 수 있다. 또한 막경도 및 현상속도가 우수한 컬러필터가 얻어진다는 것을 알 수 있었다. 본 발명의 광경화성 알칼리 가용성 다관능 올리고머(a-2)를 포함하지 않는 비교예 1의 착색 감광성 수지 조성물에 의해서는 감도가 부족하며 현상속도가 부족하여 컬러필터의 품질을 저하시켜 고품질의 컬러필터를 얻을 수 없다. From Table 2, the photosensitive resin compositions of Examples 1, 2 and 3 containing the binder resin of the present invention can form patterns without surface roughness at low exposure doses. In addition, it was found that a color filter having excellent film hardness and developing speed was obtained. The colored photosensitive resin composition of Comparative Example 1, which does not contain the photocurable alkali-soluble polyfunctional oligomer (a-2) of the present invention, lacks sensitivity and lacks a developing speed, thereby degrading the quality of the color filter and thus providing a high quality color filter. Can't get it.

본 발명에 따르면, 폴리에스테르계 광경화성 알칼리 가용성 다관능 올리고머 변성 아크릴 공중합체인 결합제 수지는 종래 포토리소그래픽 공정에 사용되는 광경화형 아크릴 공중합체에 비해 측쇄에 풍부한 관능기를 가지는 올리고머가 펜던트화되어 있기 때문에, 폴리에스테르계 화합물 특유의 우수한 현상성과 더불어 치밀한 경화구조를 실현할 수 있다. 따라서, 상기 결합제 수지를 포함하는 본 발명은 착색 재료를 함유해도 적은 노광량으로도 밀착성이 우수하고, 화소를 형성할 때 기판상에 현상 잔사가 발생하거나 화소부에 표면 불량 등이 발생하지 않고, 감도가 우수하여 현상시 문제가 없는 감광성 수지 조성물을 제공하는 것이다.According to the present invention, the binder resin, which is a polyester-based photocurable alkali-soluble polyfunctional oligomer-modified acrylic copolymer, has a pendant oligomer having a functional group rich in side chains compared to a photocurable acrylic copolymer used in a conventional photolithographic process. In addition to excellent developability peculiar to a polyester compound, a compact hardened structure can be realized. Therefore, the present invention containing the binder resin is excellent in adhesion even with a small exposure amount even if it contains a coloring material, and does not cause development residue on the substrate or surface defects in the pixel portion when forming pixels, It is excellent in providing the photosensitive resin composition which does not have a problem at the time of image development.

Claims (7)

결합제 수지(A), 광중합성 화합물(B), 광중합 개시제(C), 착색 재료(D) 및 용제(E)를 함유하는 착색 감광성 수지 조성물로서, As colored photosensitive resin composition containing binder resin (A), a photopolymerizable compound (B), a photoinitiator (C), a coloring material (D), and a solvent (E), 결합제 수지(A)는 불포화 결합을 갖는 화합물(a1) 및 불포화 카르복실산 화합물(a2)을 포함하는 공중합 반응으로 얻어지는 공중합체이거나 상기 얻어진 공중합체에 1분자 중에 불포화 결합과 에폭시기를 갖는 화합물(a3)을 더 반응시켜 얻어지는 불포화기 함유 수지인 것을 특징으로 하는 광경화성 아크릴공중합체(a-1);와 The binder resin (A) is a copolymer obtained by a copolymerization reaction containing a compound (a1) having an unsaturated bond and an unsaturated carboxylic acid compound (a2) or a compound (a3) having an unsaturated bond and an epoxy group in one molecule of the obtained copolymer. Photocurable acrylic copolymer (a-1), characterized in that it is an unsaturated group-containing resin obtained by further reacting (); and 히드록시기 함유 단량체(a'1), 할로겐 원자, 히드록시기 및 카르복시기 중에서 선택된 하나 이상의 관능기 함유 단량체(a'2), 글리시딜기 함유 단량체(a'3) 및 히드록시기 또는 카르복시기와 불포화 결합기를 함께 갖는 단량체(a'4)를 중합시켜 얻어지는 광경화성 알칼리 가용성 다관능 올리고머(a-2);를 부가, 중합 또는 축합반응하여 제조된 수지인 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.At least one functional group-containing monomer (a'2) selected from a hydroxyl group-containing monomer (a'1), a halogen atom, a hydroxyl group and a carboxyl group, a monomer having a glycidyl group-containing monomer (a'3) and a hydroxyl group or a carboxyl group together with an unsaturated bond group ( It is resin produced by addition, superposition | polymerization, or condensation reaction of the photocurable alkali-soluble polyfunctional oligomer (a-2) obtained by superposing | polymerizing a'4). The coloring photosensitive resin composition characterized by the above-mentioned. 제1항에 있어서, 상기 광경화성 아크릴공중합체(a-1)는 산가가 40 내지 300mgKOH/g이고, 이의 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량이 3,000 내지 100,000의 범위에 있는 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.The colored photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the photocurable acrylic copolymer (a-1) has an acid value of 40 to 300 mgKOH / g, and a weight average molecular weight thereof in terms of polystyrene is in the range of 3,000 to 100,000. . 제1항에 있어서, 상기 광경화성 알칼리 가용성 다관능 올리고머(a-2)는 산가가 40 내지 300mgKOH/g이고, 히드록시기가(hydroxyl value)가 0 내지 100이며, 이의 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량이 400 내지 4,000의 범위에 있는 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.The photocurable alkali-soluble polyfunctional oligomer (a-2) has an acid value of 40 to 300 mgKOH / g, a hydroxyl value of 0 to 100, and a weight average molecular weight of its polystyrene equivalent 400 It is in the range of 4,000 to 4,000, The coloring photosensitive resin composition characterized by the above-mentioned. 제1항에 있어서, 상기 (a1)~(a2) 각각으로부터 유도되는 구성 성분의 비율이 상기 광경화성 아크릴 공중합체(a-1) 구성 성분의 합계 몰수에 대하여,The ratio of the component derived from each of said (a1)-(a2) with respect to the total number of moles of the said photocurable acrylic copolymer (a-1) component, (a1)로부터 유도되는 구성 단위 : 35 내지 90몰%,structural unit derived from (a1): 35 to 90 mol%, (a2)로부터 유도되는 구성 단위 : 10 내지 65몰%,structural unit derived from (a2): 10 to 65 mol%, 범위이고, (a3)를 더 반응시키는 경우, (a2)로부터 유도되는 구성 성분에 대하여 (a3)를 5 내지 80몰% 반응시키는 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.It is a range and when it reacts (a3) further, the coloring photosensitive resin composition characterized by reacting (a3) with 5 to 80 mol% with respect to the component derived from (a2). 제1항에 있어서, (a-2)로부터 유도되는 구성 성분의 각각의 비율이 상기 (a-2)의 공중합체를 구성하는 구성 성분의 합계 몰수에 대하여 몰 분율로 하기의 범위에 있는 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.The ratio of each of the components derived from (a-2) is in the following range in mole fraction with respect to the total number of moles of the components which comprise the copolymer of said (a-2). Colored photosensitive resin composition to be used. (a'1)로부터 유도되는 구성 단위 : 2 내지 40몰%, structural unit derived from (a'1): 2 to 40 mol%, (a'2)로부터 유도되는 구성 단위 : 2 내지 60몰%, structural unit derived from (a'2): 2 to 60 mol%, (a'3)로부터 유도되는 구성 단위 : 2 내지 50몰%, structural unit derived from (a'3): 2 to 50 mol%, (a'4)로부터 유도되는 구성 단위 : 2 내지 40몰% Structural units derived from (a'4): 2 to 40 mol% 착색 감광성 수지 조성물을 소정의 패턴으로 노광, 현상하여 형성되는 컬러층을 포함하여 이루어진 컬러필터에 있어서, A color filter comprising a color layer formed by exposing and developing a colored photosensitive resin composition in a predetermined pattern, 상기 착색 감광성 수지 조성물은 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항의 착색 감광성 수지 조성물인 것을 특징으로 하는 컬러필터.The said colored photosensitive resin composition is the colored photosensitive resin composition of any one of Claims 1-5, The color filter characterized by the above-mentioned. 제6항에 기재된 컬러필터를 구비한 액정표시장치.The liquid crystal display device provided with the color filter of Claim 6.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN113204171A (en) * 2021-04-12 2021-08-03 浙江福斯特新材料研究院有限公司 Photosensitive resin composition

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