KR20090052848A - Glass-making processes - Google Patents

Glass-making processes Download PDF

Info

Publication number
KR20090052848A
KR20090052848A KR1020097000999A KR20097000999A KR20090052848A KR 20090052848 A KR20090052848 A KR 20090052848A KR 1020097000999 A KR1020097000999 A KR 1020097000999A KR 20097000999 A KR20097000999 A KR 20097000999A KR 20090052848 A KR20090052848 A KR 20090052848A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
pressure reduction
gas
water vapor
vapor concentration
glass
Prior art date
Application number
KR1020097000999A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR101419957B1 (en
Inventor
히데키 구시타니
도시야스 가와구치
신고 우라타
하지메 이토
겐타 사이토
Original Assignee
아사히 가라스 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 아사히 가라스 가부시키가이샤 filed Critical 아사히 가라스 가부시키가이샤
Publication of KR20090052848A publication Critical patent/KR20090052848A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101419957B1 publication Critical patent/KR101419957B1/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/076Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/089Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
    • C03C3/091Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B5/00Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
    • C03B5/16Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
    • C03B5/225Refining
    • C03B5/2252Refining under reduced pressure, e.g. with vacuum refiners
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B5/00Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
    • C03B5/16Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
    • C03B5/225Refining
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P40/00Technologies relating to the processing of minerals
    • Y02P40/50Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
    • Y02P40/57Improving the yield, e-g- reduction of reject rates

Abstract

돌비를 발생시키지 않고 감압을 행할 수 있는 유리 제조 방법, 기포층의 비대화로 인해 유리제품 중에 기포가 잔존하지 않게 하면서 감압 탈포를 행할 수 있는 유리 제조 방법, 용융 유리 중의 특정 성분(붕소 등)의 휘산을 억제하면서 감암 탈포를 행할 수 있는 유리 제조 방법을 제공한다. Glass manufacturing method which can perform pressure reduction without generating a dolby, Glass manufacturing method which can perform pressure reduction defoaming, without foaming remaining in glassware by enlargement of bubble layer, Volatilization of specific component (boron etc.) in molten glass It provides the glass manufacturing method which can perform dark-pressure defoaming, suppressing this.

감암 탈포조에 의해 용융 유리를 감압 탈포하는 공정에서, 감압 탈포조의 분위기 가스의 수증기 농도를 60mol% 이하로 하는 유리 제조 방법이다.It is a glass manufacturing method which makes the water vapor concentration of the atmospheric gas of a vacuum degassing tank into 60 mol% or less in the process of vacuum-degassing a molten glass by a dark-pressure defoaming tank.

유리 제조, 용융 유리, 감압 탈포, 분위기 가스, 수증기 농도 Glass production, molten glass, reduced pressure defoaming, atmosphere gas, water vapor concentration

Description

유리 제조 방법{GLASS-MAKING PROCESSES}Glass manufacturing method {GLASS-MAKING PROCESSES}

본 발명은, 감압 탈포하는 공정을 구비하는 유리 제조 방법, 감압 탈포조 내의 상부 공간의 수증기 농도를 조정하는 방법, 및 감압 탈포 장치에 관한 것이다.This invention relates to the glass manufacturing method provided with the process of degassing under reduced pressure, the method of adjusting the water vapor concentration of the upper space in a pressure reduction degassing tank, and a vacuum degassing apparatus.

종래부터, 성형된 유리 제품의 품질을 향상시키기 위해, 용해로에서 원료를 용해시킨 용융 유리를 성형 장치로 성형하기 전에, 용융 유리 내에서 발생한 기포를 제거하는 청징 공정이 이용되고 있다.Conventionally, in order to improve the quality of the molded glass product, the clarification process which removes the bubble which generate | occur | produced in the molten glass before shape | molding the molten glass which melt | dissolved the raw material in the melting furnace with the shaping | molding apparatus is used.

이 청징 공정에서는, 감압 분위기 내에 용융 유리를 도입하고, 이 감압 분위기하, 연속적으로 흐르는 용융 유리 흐름 내의 기포를 크게 성장시켜 용융 유리 내에 포함되는 기포를 부상시키고, 파포 (破泡) 시켜 제거하고, 그 후 감압 분위기로부터 배출되는 감압 탈포 방법이 알려져 있다.In this clarification process, a molten glass is introduce | transduced in a reduced pressure atmosphere, the bubble in the molten glass flow which flows continuously in this reduced pressure atmosphere is largely grown, the bubble contained in a molten glass is raised, it is made to bubble, and it removes, Thereafter, a vacuum degassing method discharged from a reduced pressure atmosphere is known.

그리고, 이와 같은 감압 탈포 방법에 있어서, 바람직한 감압 탈포 조건을 달성하기 위해 감압 탈포조 내의 압력이나 온도를 규정한 방법이 제안되어 있다 (특허 문헌 1, 특허 문헌 2 참조).And in such a vacuum degassing method, the method which prescribed | regulated the pressure and temperature in a pressure reduction degassing tank is proposed in order to achieve preferable pressure reduction defoaming conditions (refer patent document 1, patent document 2).

특허 문헌 1 : 일본 공개특허공보 2000-128422호Patent Document 1: Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-128422

특허 문헌 2 : 국제 공개 제02/098810호 팜플렛Patent Document 2: International Publication No. 02/098810

발명의 개시Disclosure of the Invention

발명이 해결하고자 하는 과제Problems to be Solved by the Invention

그러나, 예를 들어 상기와 같은 바람직한 감압 탈포 조건으로 감압 탈포를 실시하여도, 감압 탈포 처리 중에 통상 10㎜ 이하 정도로 용융 유리 표면에 존재하는 기포층이 10㎜ ∼ 수 백 ㎜ 로 비대화되어, 이른바 돌비 (突沸) 가 발생하는 경우가 있었다. 돌비란, 통상 시간과 함께 소멸되는 유리 표면에 도달한 기포가, 파포되지 않고 층을 이룸으로써 장시간 안정적으로 존재하여, 용융 유리 계면 (용융 유리 표면) 의 상승을 초래하는 현상이다. 그 결과, 감압 탈포 후의 용융 유리에 기포가 잔존하는 문제를 발생시킨다.However, even if vacuum degassing | defoaming is performed on the above-mentioned preferable vacuum degassing | defoaming conditions, for example, during the vacuum degassing | defoaming process, the bubble layer which exists normally on the surface of a molten glass enlarges to 10 mm-several hundred mm, so-called Dolby (Iv) sometimes occurred. Dolby is a phenomenon in which bubbles reaching the glass surface that normally disappear with time are stably present for a long time by forming a layer without breaking, resulting in an increase in the molten glass interface (the molten glass surface). As a result, the problem that a bubble remains in the molten glass after pressure reduction defoaming arises.

또한, 돌비는 발생되지 않아도 기포층이 비대화된 결과, 유리 제품에 기포가 잔존하여 결함을 발생시키는 경우가 있었다.Moreover, even if a dolby did not generate | occur | produce, as a result of the enlarged bubble layer, a bubble may remain | survive in glassware and may generate a defect.

또한, 예를 들어 상기와 같은 바람직한 감압 탈포 조건으로 감압 탈포를 실시하여도, 용융 유리 중의 특정한 성분 (붕소 등) 이 휘산되어 유리 조성이 변화되는 결과, 제조한 유리 소판의 평탄도가 악화되는 경우가 있었다.In addition, even when decompression degassing is carried out under the above-mentioned preferable degassing | defoaming degassing conditions, when the specific component (boron etc.) in a molten glass volatilizes and a glass composition changes, when the flatness of the manufactured glass platen deteriorates, There was.

본 발명의 목적은, 돌비를 거의 발생시키지 않고 감압 탈포를 실시하는 유리 제조 방법을 제공하는 것에 있다.An object of the present invention is to provide a method for producing a glass in which vacuum degassing is performed with little generation of dolby.

또한, 기포층의 비대화에서 유래되는 유리 제품 중의 기포 잔존이 거의 발생하지 않는, 감압 탈포를 실시하는 유리 제조 방법을 제공하는 것에 있다.Moreover, it is providing the glass manufacturing method which performs pressure reduction defoaming in which the bubble residual in the glassware resulting from enlargement of a bubble layer hardly arises.

또한, 용융 유리 중의 특정한 성분 (붕소 등) 의 휘산을 억제하여, 감압 탈포를 실시하는 유리 제조 방법을 제공하는 것에 있다.Moreover, it is providing the glass manufacturing method which suppresses volatilization of specific component (boron etc.) in a molten glass, and performs pressure reduction defoaming.

또한, 이와 같은 감압 탈포하기 위해 바람직하게 적용할 수 있는 감압 탈포조의 분위기 가스의 수증기 농도를 조정하는 방법, 및 그러한 감압 탈포를 할 수 있는 용융 유리의 감압 탈포 장치를 제공하는 것에 있다.Moreover, it is providing the method of adjusting the water vapor concentration of the atmospheric gas of the vacuum degassing tank which can be preferably applied for such a vacuum degassing | defoaming, and the vacuum degassing apparatus of the molten glass which can perform such vacuum degassing | defoaming.

과제를 해결하기 위한 수단Means to solve the problem

본 발명자는, 감압 탈포조 내의 용융 유리 표면의 기포층이 비대화되는 현상, 이른바 돌비가 발생되거나 하여 결함을 발생시키는 경우의 감압 탈포 처리 조건에 대해 상세하게 검토하였다. 그리고, 감압 탈포조 내의 분위기 가스의 수증기 농도가 특정값을 초과한 경우에, 기포층이 비대화되어 유리 제품 중에 기포가 많이 잔존하는 것을 알아내었다. 또한, 상기 수증기 농도가 이 특정값보다 더욱 높은 다른 특정값을 초과한 경우에, 기포층이 더욱 비대화되어 돌비됨으로써 유리 제품 중에 기포가 한층 더 많이 잔존하는 것을 알아내었다. 그리고, 그들 특정값 이하의 감압 탈포 조건으로 감압 탈포를 실시하는 유리 제조 방법, 그러한 조건으로 감압 탈포할 수 있는 용융 유리의 감압 탈포 장치, 및 그러한 장치의 감압 탈포조 내의 분위기 가스의 수증기 농도를 조정하는 방법이 상기 과제를 해결하는 것을 알아내어, 본 발명을 완성시켰다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM This inventor examined the pressure reduction defoaming process conditions in the case where the bubble layer of the molten glass surface in a pressure reduction degassing tank enlarges, what is called a dolby generation, and produces a defect. And when the vapor density | concentration of the atmospheric gas in a pressure reduction degassing tank exceeded the specific value, it discovered that a bubble layer enlarged and many bubbles remain in a glass product. In addition, when the water vapor concentration exceeded another specific value which is higher than this specific value, it was found that the bubble layer was further enlarged and rubbing so that more bubbles remained in the glass product. And the glass manufacturing method which performs pressure reduction defoaming on the pressure reduction defoaming conditions below these specific values, the pressure reduction defoaming apparatus of the molten glass which can decompression degassing on such conditions, and the vapor concentration of the atmospheric gas in the pressure reduction defoaming tank of such apparatus are adjusted. It was found out how to solve the above problems, and completed the present invention.

본 발명은 다음의 (1) ∼ (9) 을 제공한다.The present invention provides the following (1) to (9).

(1) 감압 탈포조의 분위기 가스의 수증기 농도를 60mol% 이하로 하여, 용융 유리를 감압 탈포하는 공정을 구비하는 유리 제조 방법.(1) The glass manufacturing method provided with the process of carrying out the pressure reduction defoaming of the molten glass by making water vapor concentration of the atmospheric gas of a vacuum degassing tank into 60 mol% or less.

(2) 상기 감압 탈포조의 분위기 가스에 저수분 가스를 도입함으로써, 상기 분위기 가스의 수증기 농도를 60mol% 이하로 하는 상기 (1) 에 기재된 유리 제조 방법.(2) The glass manufacturing method as described in said (1) which makes water vapor concentration of the said atmospheric gas into 60 mol% or less by introducing the low moisture gas into the atmospheric gas of the said vacuum degassing tank.

(3) 상기 분위기 가스의 수증기 농도를 30mol% 이하로 하는 상기 (1) 또는 (2) 에 기재된 유리 제조 방법.(3) The glass manufacturing method as described in said (1) or (2) which makes water vapor concentration of the said atmospheric gas into 30 mol% or less.

(4) 상기 저수분 가스의 산소 농도 (체적%) 가 공기 중의 산소 농도 (체적%) 보다 낮은 상기 (2) 또는 (3) 에 기재된 유리 제조 방법.(4) The glass manufacturing method as described in said (2) or (3) whose oxygen concentration (vol%) of the said low moisture gas is lower than the oxygen concentration (vol%) in air.

(5) 상기 저수분 가스의 산소 농도 (체적%) 가 15 체적% 이하인 상기 (4) 에 기재된 유리 제조 방법.(5) The glass manufacturing method as described in said (4) whose oxygen concentration (vol%) of the said low moisture gas is 15 volume% or less.

(6) 용융 유리를 감압 탈포하기 위한 감압 탈포조의 분위기 가스의 수증기 농도를 측정하고, 그 수증기 농도의 측정 결과에 기초하여, 상기 감압 탈포조의 상기 분위기 가스에 저수분 가스를 도입함으로써, 상기 감압 탈포조의 상기 분위기 가스의 수증기 농도를 60mol% 이하로 조정하는 유리 제조 방법.(6) Measuring the water vapor concentration of the atmospheric gas of the vacuum degassing tank for degassing a molten glass under reduced pressure, and introduce | transducing a low moisture gas into the said atmospheric gas of the said vacuum degassing tank based on the measurement result of the water vapor concentration, The glass manufacturing method of adjusting the water vapor concentration of the said atmospheric gas of a vacuum degassing tank to 60 mol% or less.

(7) 감압 흡인되는 감압 하우징과, 이 감압 하우징 내에 형성되고, 용융 유리의 감압 탈포를 실시하는 감압 탈포조와, 이 감압 탈포조에 연통하여 형성되고, 감압 탈포 전의 용융 유리를 상기 감압 탈포조에 도입하는 도입 수단과, 상기 감압 탈포조에 연통하여 형성되고, 감압 탈포 후의 용융 유리를 상기 감압 탈포조로부터 도출하는 도출 수단을 갖는 용융 유리의 감압 탈포 장치로서, 상기 감압 탈포조의 분위기 가스의 수증기 농도를 측정하는 수증기 농도 측정 수단과, 상기 감압 탈포조 내부의 상부 공간에 저수분 가스를 도입하는 저수분 가스 도입 수단을 추가로 갖는 용융 유리의 감압 탈포 장치.(7) The pressure reduction degassing tank which is formed in this pressure reduction housing | suction, the pressure reduction degassing tank which is formed in this pressure reduction housing, and performs pressure reduction defoaming of molten glass, and this pressure reduction defoaming tank, and communicates with the molten glass before pressure reduction defoaming. A pressure reduction degassing apparatus of a molten glass, which is formed in communication with the pressure reduction degassing tank, which is introduced into the pressure reducing degassing tank, and has a derivation means for deriving the molten glass after pressure reduction degassing from the pressure reduction degassing tank. The vacuum degassing apparatus of the molten glass which further has a water vapor concentration measuring means which measures water vapor concentration, and the low moisture gas introduction means which introduces a low moisture gas into the upper space inside the said vacuum degassing tank.

(8) 상기 감압 탈포 장치에, 상기 분위기 가스의 수증기 농도를 원하는 값이 되도록 제어할 수 있는 수증기 농도 제어 수단과, 상기 제어 수단으로부터의 신호에 의해 저수분 가스의 도입량을 제어하는 가스량 제어 수단을 추가로 갖는 상기 (7) 에 기재된 감압 탈포 장치.(8) In the vacuum degassing apparatus, water vapor concentration control means capable of controlling the vapor concentration of the atmospheric gas to a desired value, and gas amount control means for controlling the amount of low moisture gas introduced by the signal from the control means. Furthermore, the pressure reduction defoaming apparatus as described in said (7).

(9) 상기 저수분 가스 도입 수단이 감압 탈포조의 상류측에 형성되어 있는 상기 (7) 또는 (8) 에 기재된 용융 유리의 감압 탈포 장치.(9) The vacuum degassing apparatus of the molten glass as described in said (7) or (8) in which the said low moisture gas introduction means is formed in the upstream of a vacuum degassing tank.

발명의 효과Effects of the Invention

본 발명의 유리 제조 방법은, 감압 탈포조 내의 분위기 가스의 수증기 농도를 60mol% 이하로 하여 용융 유리를 감압 탈포하는 공정을 구비하고, 이로써 돌비를 발생시키지 않고 용융 유리의 감압 탈포를 실시할 수 있다는 효과를 발휘한다. 그리고, 유리 제품에 돌비에서 기인되는 기포가 잔존함으로써 발생하는 결함을 발생시키지 않는다는 효과를 발휘한다. 또한, 이와 같은 본 발명의 유리 제조 방법은 돌비를 방지할 수 있으므로, 유리 제조를 안정적으로 계속할 수 있다.The glass manufacturing method of this invention is equipped with the process of carrying out the pressure reduction defoaming of a molten glass by making the water vapor concentration of the atmospheric gas in a pressure reduction degassing tank into 60 mol% or less, and can perform pressure reduction defoaming of a molten glass without generating a dolby by this. It is effective. And it produces an effect that a defect which arises by the bubble which originates in Dolby remaining in a glass product remains. Moreover, since such a glass manufacturing method of this invention can prevent a dolby, glass manufacture can be continued stably.

이 「안정 제조」라는 것은, 밤낮을 불문하고 운전이 실시되는 유리 제조 장치에 있어서는, 품질 관리에 있어서 매우 중요한 요소이다. 한 번 품질이 악화되면, 수리나 조정을 위해 설비를 정지시킬 필요가 있기 때문이다. 또한, 돌비된 용융 유리가 감압 탈포조의 벽이나 천장에 부착물이 부착되는 것을 억제할 수 있으므로, 그 낙하에 의한 유리 제품의 결함 형성을 억제하여 품질 향상을 도모할 수 있다.This "stable manufacture" is a very important element in quality control in the glass manufacturing apparatus which drive | operates regardless of the day and night. Once quality deteriorates, it is necessary to shut down the plant for repair or adjustment. Moreover, since it can suppress that a fused object adheres to the wall or ceiling of a pressure reduction degassing tank, the molten glass which dripped can suppress defect formation of the glass product by the fall, and can aim at quality improvement.

또한, 이와 같은 본 발명의 유리 제조 방법은, 특정한 성분 (붕소 등) 의 휘산을 조장하는 분위기 중 수분을 저감시키므로, 용융 유리 중의 특정한 성분 (붕소 등) 의 휘산을 억제할 수 있다는 효과를 발휘한다. 그리고, 유리 소판을 제조한 경우에, 그 평탄도의 악화를 억제할 수 있다. 특히 액정용 유리 등의 디스플레이용 유리는, 그 특성의 요구 면에서 조성의 규격이 엄격하게 규정되어 있는 한편, 붕소는 매우 휘산이 되기 쉽기 때문에 붕소의 함유량을 엄격하게 조정할 필요가 있다. 따라서, 본 발명의 유리 제조 방법에 의하면, 규격 범위 내의 조성과 평탄도를 갖는 유리를 효율적으로 제조할 수 있다.Moreover, since the glass manufacturing method of this invention reduces water in the atmosphere which encourages volatilization of a specific component (boron etc.), it exhibits the effect that volatilization of a specific component (boron etc.) in a molten glass can be suppressed. . And when the glass platen is manufactured, deterioration of the flatness can be suppressed. In particular, in the glass for display, such as liquid crystal glass, the compositional specification is strictly prescribed | required from the viewpoint of the characteristic, but since boron tends to be very volatilized, it is necessary to strictly adjust content of boron. Therefore, according to the glass manufacturing method of this invention, the glass which has a composition and flatness within a standard range can be manufactured efficiently.

또한, 본 발명의 유리 제조 방법은, 상기 수증기 농도가 30mol% 이하인 것이 바람직하다. 이로써, 상기와 같이 돌비를 발생시키지 않는 것에 추가하여, 기포층의 비대화가 억제되어 유리 제품에 많은 결함을 발생시키는 것을 억제한다 (구체적으로는 유리 제품의 단위 질량당 0.5 개/㎏ 이하의 기포) 는 효과를 발휘한다.Moreover, it is preferable that the said water vapor concentration is 30 mol% or less in the glass manufacturing method of this invention. Thereby, in addition to not generating a dolby as mentioned above, the enlargement of a bubble layer is suppressed and it suppresses generation of many defects in a glassware (specifically, 0.5 piece / kg or less of bubbles per unit mass of glassware) Exert effect.

또한, 본 발명의 감압 탈포 장치는, 이와 같은 본 발명의 유리 제조 방법을 실시하는 것에 바람직한 감압 탈포 장치를 제공할 수 있다.Moreover, the vacuum degassing apparatus of this invention can provide the vacuum degassing apparatus suitable for implementing such a glass manufacturing method of this invention.

도 1 은 본 발명의 감압 탈포 장치의 일 구성예를 나타내는 도면이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a figure which shows the example of 1 structure of the vacuum degassing apparatus of this invention.

도 2 는 본 발명의 감압 탈포 장치 등을 나타내는 도면이다.It is a figure which shows the pressure reduction defoaming apparatus etc. of this invention.

도 3 은 본 발명의 실시예 1 의 결과를 나타내는 도면이다.3 is a diagram showing the result of Example 1 of the present invention.

도 4 는 본 발명의 실시예 3 의 결과를 나타내는 도면이다.4 is a diagram showing the result of Example 3 of the present invention.

부호의 설명Explanation of the sign

1 감압 탈포 장치1 vacuum degassing apparatus

3 분위기 가스3 atmosphere gas

3' 배출된 분위기 가스3 'vented atmosphere gas

5 상부 공간5 upper space

6 개구6 opening

7 저수분 가스7 low moisture gas

8 개구8 openings

9 개구9 opening

10 감압 탈포 장치10 vacuum degassing device

11 감압 하우징11 pressure reducing housing

12 감압 탈포조12 vacuum degassing tank

13 상승관13 riser

14 하강관14 downcomers

15 단열재15 insulation

20 용해조20 dissolution bath

22 상류 피트22 upstream feet

24 하류 피트24 downstream feet

28 펌프28 pumps

30 수증기 농도 측정 수단30 Water vapor concentration measuring means

40 저수분 가스 도입 수단40 low moisture gas introduction means

41 저수분 가스 발생 장치41 low moisture gas generator

42 유량 제어 밸브42 flow control valve

44 유량계44 Flowmeter

G 용해 유리G melt glass

발명을 실시하기 위한 최선의 형태Best Mode for Carrying Out the Invention

본 발명의 유리 제조 방법에 대해 설명한다.The glass manufacturing method of this invention is demonstrated.

본 발명의 유리 제조 방법은, 감압 탈포조의 분위기 가스의 수증기 농도를 60mol% 이하로 하여 용융 유리를 감압 탈포하는 공정 (이하, 「본 발명의 감압 탈포 공정」이라고도 한다) 을 구비한다. 그리고, 전공정으로서 원료 용융 공정을 구비하는 것이 바람직하고, 후공정으로서 성형 공정을 구비하는 것이 바람직하다. 이들 원료 용융 공정 및 성형 공정은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어 종래 공지된 공정이어도 된다. 이들 공정 이외에 다른 공정을 구비해도 된다.The glass manufacturing method of this invention is equipped with the process (henceforth a "pressure reduction defoaming process of this invention") of degassing a molten glass by making the water vapor concentration of the atmospheric gas of a vacuum degassing tank into 60 mol% or less. And it is preferable to provide a raw material melting process as a front process, and to provide a molding process as a post process. These raw material melting processes and molding processes are not particularly limited and may be, for example, conventionally known processes. In addition to these steps, other steps may be provided.

또한, 본 발명에 있어서 「분위기 가스」란, 감압 탈포조 내부의, 용융 유리 상부의 공간 (상부 공간) 을 채우는 분위기 가스를 의미한다.In addition, in this invention, "ambient gas" means the atmospheric gas which fills the space (upper space) of the upper part of a molten glass inside a pressure reduction degassing tank.

본 발명의 유리 제조 방법에 있어서 본 발명의 감압 탈포 공정은, 내부가 감압 상태로 된 감압 탈포조 내에 용융 유리를 흐르게 함으로써 이 용융 유리 중의 기포를 탈포하는 공정으로서, 상기 감압 탈포조 내의 분위기 가스의 수증기 농도를 60mol% 이하로 하여 감압 탈포하는 공정이면 특별히 한정되지 않는다.In the glass manufacturing method of this invention, the pressure reduction defoaming process of this invention is a process of defoaming the bubble in this molten glass by flowing a molten glass in the pressure reduction degassing tank which the inside was made into the pressure reduction state, It will not specifically limit, if it is a process of degassing under reduced pressure to make water vapor concentration 60 mol% or less.

예를 들어 감압 탈포 장치에 있어서의 감압 탈포조의 분위기 가스의 수증기 농도를 측정하고, 수증기 농도의 측정 결과에 기초하여 상기 상부 공간에 후술하는 저수분 가스를 도입함으로써, 이 감압 탈포 장치의 감압 탈포조 내부의 상기 분위 기 가스의 수증기 농도를 조정하는 방법 (이하, 「본 발명의 수분 조정 방법」이라고도 한다) 을 적용하여, 그 분위기 가스의 수증기 농도를 60mol% 이하로 조정하여 본 발명의 감압 탈포 공정을 실시할 수 있다. 상기 저수분 가스는, 연속적으로 도입해도 되고 간헐적으로 도입해도 된다.For example, by measuring the water vapor concentration of the atmospheric gas of the vacuum degassing tank in a vacuum degassing apparatus, and introducing the low moisture gas mentioned later to the said upper space based on the measurement result of the steam concentration, the vacuum degassing of this vacuum degassing apparatus Applying a method for adjusting the water vapor concentration of the atmosphere gas in the tank (hereinafter also referred to as the "moisture adjustment method of the present invention"), and adjusting the water vapor concentration of the atmosphere gas to 60 mol% or less to degassing under reduced pressure of the present invention. The process can be carried out. The low moisture gas may be introduced continuously or intermittently.

이와 같은 본 발명의 수분 조정 방법을 적용한 본 발명의 감압 탈포 공정은, 예를 들어 본 발명의 감압 탈포 장치를 사용하여 실시할 수 있다.The vacuum degassing | defoaming process of this invention to which such a moisture adjustment method of this invention is applied can be performed using the vacuum degassing apparatus of this invention, for example.

본 발명의 감압 탈포 장치에 대해 설명한다.The vacuum degassing apparatus of this invention is demonstrated.

본 발명의 감압 탈포 장치는, 용융 유리를 감압 탈포하는 감압 탈포 장치로서, 감압 상태로 한 내부에 용융 유리를 흐르게 하여, 이 용융 유리 중의 기포를 탈포하는 감압 탈포조와, 상기 감압 탈포조 내의 분위기 가스의 수증기 농도를 측정하는 수증기 농도 측정 수단과, 상기 상부 공간에 저수분 기체를 도입하는 저수분 가스 도입 수단을 갖고, 상기 분위기 가스의 수증기 농도를 저감시켜, 상기 용융 유리를 감압 탈포할 수 있는 감압 탈포 장치이고, 예를 들어 도 1 에 나타내는 감압 탈포 장치이다.The pressure reduction defoaming apparatus of this invention is a pressure reduction defoaming apparatus which pressure-defoases a molten glass, flows a molten glass in the inside which was made into the pressure reduction state, and decompresses the bubble in this molten glass, and the atmosphere in the said pressure reduction degassing tank A water vapor concentration measuring means for measuring the water vapor concentration of the gas, and a low moisture gas introduction means for introducing a low moisture gas into the upper space, the water vapor concentration of the atmosphere gas is reduced, and the molten glass can be degassed under reduced pressure It is a vacuum degassing apparatus, for example, it is a vacuum degassing apparatus shown in FIG.

도 1 에 대해 설명한다. 도 1 은 본 발명의 감압 탈포 장치의 일 구성예인 감압 탈포 장치 (1) 를 나타내는 도면으로서, 본 발명의 감압 탈포 장치가 갖는 감압 탈포조 (12) 와, 수증기 농도 측정 수단 (30) 과, 저수분 가스 도입 수단 (40) 을 나타내고 있다.1 will be described. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1: is a figure which shows the vacuum degassing apparatus 1 which is one structural example of the vacuum degassing apparatus of this invention, the vacuum degassing tank 12 which the vacuum degassing apparatus of this invention has, the water vapor concentration measuring means 30, and low The moisture gas introduction means 40 is shown.

먼저 이 감압 탈포조 (12) 에 대해 도 2 를 사용하여 설명한다. 도 2 는 감압 탈포조 (12) 를 포함하는 본 발명의 감압 탈포 장치 (10) (수증기 농도 측정 수단 및 저수분 가스 도입 수단은 기재하지 않음) 를 예시하는 도면 (단면도) 이다.First, this vacuum degassing tank 12 is demonstrated using FIG. FIG. 2 is a diagram (sectional view) illustrating a vacuum degassing apparatus 10 (water vapor concentration measuring means and low moisture gas introducing means not included) of the present invention including a vacuum degassing tank 12.

도 2 에 나타내는 감압 탈포 장치 (10) 에 있어서, 원통 형상을 한 감압 탈포조 (12) 는, 그 장축이 수평 방향으로 배향되도록 감압 하우징 (11) 내에 수납 배치되어 있다. 감압 탈포조 (12) 의 일단의 하면에는 수직 방향으로 배향되는 상승관 (13) 이, 타단의 하면에는 하강관 (14) 이 장착되어 있다. 상승관 (13) 및 하강관 (14) 은, 그 일부가 감압 하우징 (11) 내에 위치하고 있다.In the vacuum degassing apparatus 10 shown in FIG. 2, the cylindrical pressure reduction degassing tank 12 is arrange | positioned in the pressure reduction housing 11 so that the long axis may orientate in a horizontal direction. The rising pipe 13 which is oriented in a vertical direction is attached to the lower surface of one end of the pressure reduction degassing tank 12, and the descending pipe 14 is attached to the lower surface of the other end. A part of the rising pipe 13 and the falling pipe 14 is located in the pressure reduction housing 11.

그리고 감압 탈포조 (12) 의 상면에는 복수의 개구가 있고, 적어도 1 개의 개구 (6) 를 통해 감압 하우징 (11) 의 외부로부터 감압 탈포조 (12) 내부의 상부 공간 (5) 에 저수분 가스 (7) 를 도입할 수 있다. 또한, 감압 하우징 (11) 에 형성된 개구 (8) 는 펌프 등의 감압 수단 (도 2 에는 나타내지 않았다. 도 1 에 펌프 (28) 로서 나타낸다) 에 연결되어 있고, 상부 공간 (5) 을 채우는 분위기 가스 (3) 를 감압 하우징 (11) 밖으로 배출하여 (배출된 것을 분위기 가스 (3') 로 나타낸다), 감압 탈포조 (12) 의 내부를 감압할 수 있다. 또한, 개구 (6) 및 개구 (8) 의 지점은, 도 2 에서 개구 (6) 및 개구 (8) 로 나타낸 지점으로 한정되지 않지만, 개구 (6) 는 감압 탈포조 (12) 의 상류측, 개구 (8) 는 그 하류측에 각각 형성하는 것이 바람직하다. 저수분 가스 도입 수단의 일부를 구성하는 개구 (6) 를 감압 탈포조 (12) 의 상류측에 형성함으로써, 개구 (6) 로부터 감압 탈포조 (12) 내부의 상부 공간 (5) 에 도입된 저수분 가스 (7) 를, 감압 탈포조 (12) 의 상류측에서 개구 (8) 가 형성되어 있는 하류측을 향해 유동시켜, 감압 탈포조 (12) 내부의 상부 공간 (5) 을 균일한 저수증기 농도의 분위기 가스로 할 수 있다.And the upper surface of the pressure reduction degassing tank 12 has a some opening, The low moisture gas is supplied to the upper space 5 inside the pressure reduction degassing tank 12 from the exterior of the pressure reduction housing 11 via at least 1 opening 6. (7) can be introduced. In addition, the opening 8 formed in the pressure reduction housing 11 is connected to pressure reduction means (not shown in FIG. 2 as shown in FIG. 1 as the pump 28), such as a pump, and is an atmospheric gas which fills the upper space 5. (3) is discharged | emitted out of the pressure reduction housing 11 (it discharged is shown by atmosphere gas 3 '), and the inside of the pressure reduction degassing tank 12 can be depressurized. In addition, although the point of the opening 6 and the opening 8 is not limited to the point shown by the opening 6 and the opening 8 in FIG. 2, the opening 6 is an upstream side of the pressure reduction defoaming tank 12, It is preferable to form the opening 8 in the downstream side, respectively. By forming the opening 6 constituting a part of the low moisture gas introduction means upstream of the pressure reduction degassing tank 12, the low introduced into the upper space 5 inside the pressure reduction degassing tank 12 from the opening 6. The moisture gas 7 is flowed from the upstream side of the pressure reduction degassing tank 12 toward the downstream side in which the opening 8 is formed, and the upper space 5 inside the pressure reduction degassing tank 12 is uniformly low steam. Atmospheric gas of concentration can be used.

또한, 감압 탈포조 (12) 의 내부에는, 분위기 가스 (3) 의 압력 (P1) 및 온도 (T1) 를 측정할 수 있는 예를 들어 공지된 압력계 및 온도계가 설치되어 있다 (도시 생략).Further, the inside of the vacuum degassing vessel 12, for instance capable of measuring the pressure (P 1) and the temperature (T 1) of the atmospheric gas (3) is a known pressure gauge and thermometer installed (not shown) .

또한, 도 2 에 나타내는 바와 같이, 상승관 (13) 은 감압 탈포조 (12) 와 연통되어 있고, 용해조 (20) 로부터의 용융 유리 (G) 를 감압 탈포조 (12) 에 도입하는 도입 수단이다. 이 때문에, 상승관 (13) 의 하단부는 상류 피트 (22) 의 개구단에 끼워 넣어지고, 이 상류 피트 (22) 내의 용융 유리 (G) 에 침지되어 있다.In addition, as shown in FIG. 2, the rising pipe 13 communicates with the vacuum degassing tank 12, and is an introduction means for introducing the molten glass G from the dissolution tank 20 into the vacuum degassing tank 12. . For this reason, the lower end part of the riser 13 is fitted in the opening end of the upstream pit 22, and is immersed in the molten glass G in this upstream pit 22. As shown in FIG.

하강관 (14) 은 감압 탈포조 (12) 에 연통되어 있고, 감압 탈포 후의 용융 유리 (G) 를 감압 탈포조 (12) 로부터 하강시켜 후공정의 처리조 (도시 생략) 로 도출하는 도출 수단이다. 이 때문에, 하강관 (14) 의 하단부는 하류 피트 (24) 의 개구단에 끼워 넣어지고, 이 하류 피트 (24) 내의 용융 유리 (G) 에 침지되어 있다.The downcomer 14 communicates with the vacuum degassing tank 12, and is a derivation means for lowering the molten glass G after vacuum degassing from the vacuum degassing tank 12 to lead to a treatment tank (not shown) in a later step. . For this reason, the lower end part of the downcomer 14 is fitted in the opening end of the downstream pit 24, and is immersed in the molten glass G in this downstream pit 24. As shown in FIG.

감압 하우징 (11) 내에 있어서, 감압 탈포조 (12), 상승관 (13) 및 하강관 (14) 의 주위에는 이들을 단열 피복하는 단열용 벽돌 등의 단열재 (15) 가 배치 형성되어 있다.In the pressure reduction housing 11, heat insulation materials 15, such as a heat insulation brick which heat-insulates these, are arrange | positioned and formed around the pressure reduction degassing tank 12, the uprising pipe 13, and the downfalling pipe 14.

도 2 에 나타내는 감압 탈포 장치 (10) 에 있어서, 감압 탈포조 (12), 상승관 (13) 및 하강관 (14) 은 용융 유리 (G) 의 도관이기 때문에, 내열성 및 용융 유리에 대한 내식성이 우수한 재료를 사용하여 제조되어 있다. 일례를 들면, 백 금 또는 백금 합금제의 중공관이다. 백금 합금의 구체예로서는, 백금-금 합금, 백금-로듐 합금을 들 수 있다. 또한, 다른 일례를 들면, 세라믹스계의 비금속 무기 재료제, 즉 치밀질 내화물제의 중공관이다. 치밀질 내화물의 구체예로는, 예를 들어 알루미나계 전기 주조 내화물, 지르코니아계 전기 주조 내화물, 알루미나-지르코니아-실리카계 전기 주조 내화물 등의 전기 주조 내화물, 그리고 치밀질 알루미나계 내화물, 치밀질 지르코니아-실리카계 내화물 및 치밀질 알루미나-지르코니아-실리카계 내화물 등의 치밀질 소성 내화물을 들 수 있다.In the vacuum degassing apparatus 10 shown in FIG. 2, since the pressure reduction degassing tank 12, the rising pipe 13, and the downfall pipe 14 are the conduits of molten glass G, heat resistance and corrosion resistance with respect to a molten glass are It is manufactured using superior materials. For example, it is a hollow tube made of platinum or a platinum alloy. As a specific example of a platinum alloy, a platinum-gold alloy and a platinum- rhodium alloy are mentioned. Another example is a hollow tube made of a ceramic nonmetal inorganic material, that is, a dense refractory agent. Specific examples of the dense refractories include, for example, electroforming refractories such as alumina based electroforming refractory, zirconia based electroforming refractory, alumina-zirconia-silica based electroforming refractory, and dense alumina based refractory, dense zirconia- And dense calcined refractory materials such as silica-based refractory materials and dense alumina-zirconia-silica-based refractory materials.

이와 같은 감압 탈포 장치 (10) 의 각 구성 요소의 치수는, 필요에 따라 적절히 선택할 수 있다. 감압 탈포조 (12) 의 치수는, 감압 탈포조 (12) 가 백금제 혹은 백금 합금제, 또는 치밀질 내화물제인지에 의하지 않고, 사용하는 감압 탈포 장치에 따라 적절히 선택할 수 있다. 도 2 에 나타내는 감압 탈포조 (12) 의 경우, 그 치수의 구체예는 이하와 같다.The dimension of each component of such a vacuum degassing apparatus 10 can be suitably selected as needed. The size of the pressure reduction defoaming tank 12 can be suitably selected according to the pressure reduction defoaming apparatus to be used, regardless of whether the pressure reduction defoaming tank 12 is a platinum agent, a platinum alloy agent, or a dense refractory agent. In the case of the vacuum degassing tank 12 shown in FIG. 2, the specific example of the dimension is as follows.

수평 방향 길이 : 1 ∼ 20mHorizontal length: 1-20m

내경 : 0.2 ∼ 3m (단면 원형)Internal diameter: 0.2 to 3 m (cross section)

감압 탈포조 (12) 가 백금제 혹은 백금 합금제인 경우, 두께는 4㎜ 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5 ∼ 1.2㎜ 이다.When the pressure reduction degassing tank 12 is a platinum agent or a platinum alloy agent, it is preferable that thickness is 4 mm or less, More preferably, it is 0.5-1.2 mm.

감압 하우징 (11) 은 금속제, 예를 들어 스테인리스제이고, 감압 탈포조를 수용할 수 있는 형상 및 치수를 갖고 있다.The pressure reduction housing 11 is metal, for example, stainless steel, and has a shape and a dimension which can accommodate a pressure reduction degassing tank.

상승관 (13) 및 하강관 (14) 은 백금제 혹은 백금 합금제, 또는 치밀질 내화물제인지에 의하지 않고, 사용하는 감압 탈포 장치에 따라 적절히 선택할 수 있다. 예를 들어 상승관 (13) 및 하강관 (14) 의 치수는 이하와 같이 구성할 수 있다.The rising pipe 13 and the falling pipe 14 can be appropriately selected depending on the vacuum degassing apparatus to be used, regardless of whether they are made of platinum, a platinum alloy, or a dense refractory. For example, the dimension of the riser 13 and the downtake 14 can be comprised as follows.

내경 : 0.05 ∼ 0.8m, 보다 바람직하게는 0.1 ∼ 0.6mInternal diameter: 0.05-0.8m, More preferably, it is 0.1-0.6m

길이 : 0.2 ∼ 6m, 보다 바람직하게는 0.4 ∼ 4mLength: 0.2-6 m, More preferably, 0.4-4 m

상승관 (13) 및 하강관 (14) 이 백금제 혹은 백금 합금제인 경우, 두께는 0.4 ∼ 5㎜ 인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.8 ∼ 4㎜ 이다.In the case where the riser 13 and the downtake 14 are made of platinum or a platinum alloy, the thickness is preferably 0.4 to 5 mm, more preferably 0.8 to 4 mm.

본 발명의 감압 탈포 장치가 갖는 감압 탈포조는, 예를 들어 이와 같은 구성을 구비하는 감압 탈포조 (12) 이다.The vacuum degassing tank which the vacuum degassing apparatus of this invention has is a pressure reduction degassing tank 12 provided with such a structure, for example.

다음으로, 본 발명의 감압 탈포 장치가 갖는 수증기 농도 측정 수단 (30) 에 대해 설명한다.Next, the water vapor concentration measuring means 30 of the vacuum degassing apparatus of this invention is demonstrated.

도 1 에 있어서 수증기 농도 측정 수단 (30) 은, 감압 탈포조 (12) 의 하류측과 배관 등으로 연결되어 있고, 또한 그 하류측에 감압 수단인 펌프 (28) 가 연결되어 있다. 이 펌프 (28) 에 의해, 감압 탈포조 (12) 로부터 배출된 분위기 가스 (3') 를 수증기 농도 측정 수단 (30) 에 보낼 수 있다. 펌프 (28) 로부터 배출된 분위기 가스 (3') 는, 필요한 경우에는 정화 처리하거나 하여 대기에 방산시킨다.In FIG. 1, the water vapor concentration measuring means 30 is connected to the downstream side of the pressure reduction degassing tank 12 by piping, etc., and the pump 28 which is a pressure reduction means is connected to the downstream side. By this pump 28, the atmospheric gas 3 'discharged | emitted from the pressure reduction degassing tank 12 can be sent to the water vapor concentration measuring means 30. As shown in FIG. Atmospheric gas 3 'discharged from pump 28 is purged as necessary and dissipated to the atmosphere.

수증기 농도 측정 수단 (30) 은, 시판되고 있는 노점계이어도 되고, 감압 탈포조 (12) 로부터 배출된 분위기 가스 (3') 의 압력, 온도 및 가스 유량 등을 측정하는 측정 수단이어도 된다. 각각의 측정 수단은 예를 들어 종래 공지된 압력계, 온도계 및 가스 유량계를 사용할 수 있다. 수증기 농도는, 분위기 가스 전체 중에 포함되는 수증기의 양을 나타낸 값이다.The steam concentration measuring means 30 may be a commercial dew point meter, or may be a measuring means for measuring the pressure, temperature, gas flow rate and the like of the atmospheric gas 3 'discharged from the vacuum degassing tank 12. Each measuring means can use, for example, a conventionally known manometer, thermometer and gas flow meter. The water vapor concentration is a value indicating the amount of water vapor contained in the whole atmosphere gas.

그리고, 분위기 가스 (3') 의 수증기 농도 (C)[mol%] 는, 시판되고 있는 노점계를 사용하여 측정해도 되고, 대신에 분위기 가스 (3') 중에 포함되는 물을 석출시켜, 그 양 (W)[g] 을 측정함으로써 개산 (槪算) 할 수도 있다. 예를 들어 감압 탈포층 (12) 으로부터 배출된 분위기 가스 (3') 의 가스 유량을 Fout[㎥/h], 가스 유출 시간을 tout[h] 로 하고, 또한 수증기 농도 측정 수단 (30) 에 있어서 계측하는 분위기 가스 (3') 의 압력 및 온도를 P2[Pa] 및 T2[K] 로 하였을 때, 분위기 가스 (3') 중의 수증기 농도 (C)[mol%] 는 다음의 식 (1) 로 나타내어진다.The water vapor concentration (C) [mol%] of the atmospheric gas 3 'may be measured using a commercial dew point meter, and instead precipitates water contained in the atmospheric gas 3', and the amount thereof. It can also estimate by measuring (W) [g]. For example, the gas flow rate of the atmospheric gas 3 'discharged from the vacuum degassing layer 12 is F out [m 3 / h], the gas outflow time is t out [h], and the water vapor concentration measuring means 30 When the pressure and temperature of the atmospheric gas 3 'to be measured in P 2 [Pa] and T 2 [K] are set, the water vapor concentration (C) [mol%] in the atmospheric gas 3' is expressed by the following equation. It is represented by (1).

식 (1) 로 산출되는 수증기 농도를 60mol% 이하로 함으로써, 돌비를 발생시키지 않고 용융 유리의 감압 탈포를 실시할 수 있어, 유리 제품에 돌비에서 기인되는 기포가 잔존함으로써 발생하는 결함을 발생시키지 않는다는 효과를 발휘한다.By setting the water vapor concentration calculated by the formula (1) to 60 mol% or less, vacuum degassing of the molten glass can be performed without generating dolby, and defects caused by bubbles remaining due to dolby remain in the glass product. It is effective.

Figure 112009003004460-PCT00001
Figure 112009003004460-PCT00001

각각의 단위는 다음과 같다.Each unit is as follows.

C : mol%, W : g, T2 : K, P2 : Pa, Fout : ㎥/h, tout : h, R (기체 상수) : J·K/molC: mol%, W: g, T 2 : K, P 2 : Pa, F out : m 3 / h, t out : h, R (gas constant): JK / mol

다음으로, 본 발명의 감압 탈포 장치가 갖는 저수분 가스 도입 수단 (40) 에 대해 설명한다.Next, the low moisture gas introduction means 40 which the vacuum degassing apparatus of this invention has is demonstrated.

도 1 에 있어서 저수분 가스 도입 수단 (40) 은, 감압 탈포조 (12) 의 상류측과 배관 등으로 연결되어 있다. 그리고, 이 배관 등을 통해 저수분 가스 도입 수단 (40) 으로부터 저수분 가스 (7) 를 도입할 수 있다.In FIG. 1, the low moisture gas introduction means 40 is connected with the upstream side of the pressure reduction degassing tank 12, and piping. And the low moisture gas 7 can be introduce | transduced from the low moisture gas introduction means 40 via this piping etc.

저수분 가스 도입 수단 (40) 은, 예를 들어 도 1 에 나타내는 바와 같이, 저수분 가스 발생 장치 (41) 와 감압 탈포조 (12) 가 배관 등으로 연결되어 있고, 저수분 가스 발생 장치 (41) 에서 발생시킨 저수분 가스 (7) 를 감압 탈포조 (12) 의 상부 공간 (5) 에 도입할 수 있다. 그리고, 저수분 가스 발생 장치 (41) 부터 감압 탈포조 (12) 까지의 사이에 유량 제어 밸브 (42) 및 유량계 (44) 가 이 순서로 구비되어 있고, 이들로 저수분 가스 (7) 의 도입량을 조정할 수 있다.For example, as shown in FIG. 1, the low moisture gas introduction unit 40 is connected to a low moisture gas generator 41 and a reduced pressure degassing tank 12 by a pipe or the like, and has a low moisture gas generator 41. ) Can be introduced into the upper space 5 of the vacuum degassing tank 12. And the flow control valve 42 and the flowmeter 44 are provided in this order between the low moisture gas generator 41 and the pressure reduction degassing tank 12, and these introduce | transduce the low moisture gas 7 with these. Can be adjusted.

또한, 유량 제어 밸브 (42) 및 유량계 (44) 의 배치는 반대이어도 된다.In addition, arrangement | positioning of the flow control valve 42 and the flowmeter 44 may be reversed.

여기서, 저수분 가스 도입 수단 (40) 은, 저수분 가스 (7) 를 감압 탈포조 (12) 의 상부 공간 (5) 에 적극적으로 도입하기 위한 도입 수단 (예를 들어 고압 팬 등) 을 가져도 된다. 이 경우, 상부 공간 (5) 에 저수분 가스 (7) 를 효율적으로 도입할 수 있으므로 바람직하다.Here, the low moisture gas introduction means 40 may have the introduction means (for example, a high pressure fan etc.) for actively introducing the low moisture gas 7 into the upper space 5 of the pressure reduction degassing tank 12. do. In this case, since the low moisture gas 7 can be efficiently introduced into the upper space 5, it is preferable.

또한, 저수분 가스 (7) 로서 대기를 사용하는 경우라면, 상기 저수분 가스 발생 장치 (41) 는 필요하지 않다. 예를 들어 상부 공간 (5) 에 연결되는 배관 등의 일단이 유량 제어 밸브 (42) 의 개폐에 의해 대기에 개방되어 있고, 대기를 이 배관을 통해 감압으로 되어 있는 상부 공간 (5) 에 도입할 수 있으면 된다.In addition, if the atmosphere is used as the low moisture gas 7, the low moisture gas generator 41 is not necessary. For example, one end of a pipe or the like connected to the upper space 5 is opened to the atmosphere by opening and closing the flow control valve 42, and the atmosphere is introduced into the upper space 5 which is decompressed through the piping. If you can.

또한, 대기 이외의 예를 들어 불활성 가스 등을 저수분 가스 (7) 로서 사용하는 경우에는, 상기 수증기 농도 측정 수단 (30) 이, 상부 공간 (5) 으로부터 배 출되는 분위기 가스 (3') 의 가스 성분을 측정할 수 있는 가스 성분 측정계를 갖고 있는 것이 바람직하다.In addition, when using inert gas etc. other than air | atmosphere as a low moisture gas 7, for example, the said water vapor concentration measuring means 30 of the atmospheric gas 3 'discharged | emitted from the upper space 5 is carried out. It is preferable to have a gas component measuring system which can measure a gas component.

또한, 본 발명에 있어서 저수분 가스란, 상부 공간 (5) 에 있어서의 분위기 가스 (3) 보다 수분 (수증기 농도) 이 낮은 기체를 의미한다. 저수분 가스로는 대기, 건조 공기, N2 나 Ar 과 같은 불활성 가스 등을 들 수 있고, 1 종류뿐만 아니라 복수 종류이어도 된다. 저수분 가스의 수증기 농도는 0 ∼ 20mol% 인 것이 바람직하고, 0 ∼ 5mol% 인 것이 보다 바람직하고, 0 ∼ 1mol% 인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 저수분 가스의 수증기 농도는, 시판되고 있는 노점계 등을 사용하여 측정할 수 있다.In addition, in this invention, a low moisture gas means the gas whose moisture (water vapor concentration) is lower than the atmospheric gas 3 in the upper space 5. As shown in FIG. The low moisture gas may be atmospheric air, dry air, or an inert gas such as N 2 or Ar, and may be one or more. It is preferable that the water vapor concentration of low moisture gas is 0-20 mol%, It is more preferable that it is 0-5 mol%, It is still more preferable that it is 0-1 mol%. In addition, the water vapor concentration of low moisture gas can be measured using a commercial dew point meter.

본 발명의 감압 탈포 장치는, 예를 들어 이와 같은 감압 탈포조 (12) 와 수증기 농도 측정 수단 (30) 과 저수분 가스 도입 수단 (40) 을 갖는 감압 탈포 장치 (1) 이다.The vacuum degassing apparatus of this invention is a vacuum degassing apparatus 1 which has such a vacuum degassing tank 12, the water vapor concentration measuring means 30, and the low moisture gas introduction means 40, for example.

이와 같은 본 발명의 감압 탈포 장치에 있어서, 수증기 농도 측정 수단에 의해 상부 공간에 있어서의 분위기 가스의 수증기 농도를 측정하고, 원하는 수증기 농도보다 높아진 경우에는, 저수분 가스 도입 수단에 의해 저수분 가스를 도입한다는 조정을 적절히 반복함으로써, 상부 공간에 있어서의 분위기 가스의 수증기 농도를 원하는 농도로 조정할 수 있다.In the vacuum degassing apparatus of the present invention as described above, the water vapor concentration of the atmospheric gas in the upper space is measured by the water vapor concentration measuring means, and when the water vapor concentration is higher than the desired water vapor concentration, the low moisture gas is introduced by the low water gas introduction means. By appropriately repeating the introduction, the water vapor concentration of the atmospheric gas in the upper space can be adjusted to the desired concentration.

예를 들어 상기 식 (1) 로 구해지는 수증기 농도 (C) 와, 목표로 하는 수증기 농도 (C1) 는 다음의 식 (2) 의 관계가 있으므로, 저수분 가스의 상부 공간에 대 한 도입량 (Fin) 및 도입 시간 (tin), 분위기 가스의 상부 공간으로부터의 배출량 (FOUT) 및 배출 시간 (tOUT), 그리고 저수분 가스의 수증기 농도 (S)[mol%] 를 조정함으로써, 수증기 농도를 목표로 하는 값으로 할 수 있다.For example, since the water vapor concentration (C) obtained by the above equation (1) and the target water vapor concentration (C 1 ) have a relationship of the following equation (2), the amount of introduction into the upper space of the low moisture gas ( By adjusting F in ) and the introduction time (t in ), the discharge from the upper space of the atmosphere gas (F OUT ) and the discharge time (t OUT ), and the water vapor concentration (S) [mol%] of the low moisture gas, It can be set as a value aimed at concentration.

Figure 112009003004460-PCT00002
Figure 112009003004460-PCT00002

각각의 기호의 의미 및 단위는 다음과 같다.The meaning and unit of each symbol is as follows.

C1 : [mol%], V (상부 공간의 용적) : [㎥], Vin : [㎥], Vout : [㎥]C 1 : [mol%], V (volume of upper space): [m 3], V in : [m 3], V out : [m 3]

여기서, Vin 은 유량계 (44) 로 측정되는 도입량 (Fin[㎥/h]) 과 도입 시간 (tin[h]) 으로부터 구해지는 도입 가스 체적 (Fin × tin)[㎥] 의 상부 공간의 온도 및 압력에서의 환산량이다. 동일하게, Vout 은 수증기 농도 측정 수단 (30) 에 포함되는 유량계로 측정되는 배출량 (Fout[㎥/h]) 과 배출 시간 (tout[h]) 으로부터 구해지는 배출 가스 체적 (Fout × tout)[㎥] 의 상부 공간의 온도 및 압력에서의 환산량이다.Here, V in is an upper portion of the introduced gas volume F in × t in [m 3] determined from the introduction amount F in [m 3 / h] and the introduction time t in [h] measured by the flowmeter 44. It is conversion amount in space temperature and pressure. Similarly, V out is the discharge gas volume F out determined from the discharge amount F out [m 3 / h] and the discharge time t out [h] measured by the flow meter included in the water vapor concentration measuring means 30. t out ) [m3] The converted amount in the temperature and pressure of the upper space.

또한, 상부 공간에서의 압력을 일정하게 유지하는 경우에는, Vin = Vout 으로 할 필요가 있다.In addition, when the pressure in the upper space is kept constant, it is necessary to set V in = V out .

예를 들어 체적 (V) = 1㎥ 의 상부 공간의 수증기 농도 (C) = 20mol% 를 목 표가 되는 수증기 농도 (C1) = 10mol% 로 저감시키기 위해서는, Vin = Vout 일 때, 저수분 가스의 도입량 (Vin) = 0.53㎥ 이 된다.For example, in order to reduce the water vapor concentration (C) = 20 mol% in the upper space of volume (V) = 1 m 3 to the target water vapor concentration (C 1 ) = 10 mol%, when V in = V out , The amount of water gas introduced (V in ) = 0.53 m 3.

따라서, 상부 공간의 온도 (T1) = 1673K, 압력 (P1) = 25kPa 일 때, 유량계 (44) 의 위치에 있어서의 도입 가스의 온도 (T3) = 298K, 압력 (P3) = 101kPa 에서는, 도입 가스 체적 (Fin × tin) 은 0.023[㎥] 이 된다.Therefore, when the temperature (T 1 ) = 1673 K and the pressure (P 1 ) = 25 kPa of the upper space, the temperature (T 3 ) = 298 K, pressure (P 3 ) = 101 kPa of the introduced gas at the position of the flowmeter 44. In this case, the introduced gas volume (F in × t in ) is 0.023 [m 3].

실제로는, 용융 유리 및 장치 구성재 등으로부터의 수분 증발, 또는 누출 가스에 의한 수증기 농도의 변화가 일어나기 때문에 끊임없이 조정을 도모할 필요가 있다.In practice, it is necessary to constantly adjust because moisture evaporation from the molten glass, the device component, or the like, or a change in the water vapor concentration due to leakage gas occurs.

또한, 유리 제품의 제조 중에는 정상 (定常) 적으로 이 수증기 농도를 감시하고, 제어하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 상기 감압 탈포 장치에, 상기 분위기 가스의 수증기 농도를 원하는 값이 되도록 제어할 수 있는 수증기 농도 제어 수단을 갖는 것이 바람직하고, 상기 제어 수단으로부터의 신호에 의해 저수분 가스의 도입량을 제어하는 가스량 제어 수단을 추가로 갖는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable to monitor and control this water vapor concentration normally during manufacture of a glass product. Specifically, the vacuum degassing apparatus preferably has steam concentration control means capable of controlling the vapor concentration of the atmosphere gas to a desired value, and the amount of low moisture gas introduced is controlled by a signal from the control means. It is preferable to further have a gas amount control means.

예를 들어 T2, P2, FOUT, tOUT, W2, S, FIN 및 tIN 을 정상적으로 측정하고, 이들 데이터를 컴퓨터에 모으고, 이 컴퓨터에 의해 상부 공간의 수증기 농도가 원하는 값으로 되도록 제어할 수 있는 수증기 농도 제어 수단을 본 발명의 감압 탈포 장치가 갖는 것이 바람직하다. 또한, 이 컴퓨터에 의해 유량 제어 밸브 (42) 의 개폐를 제어할 수 있도록 하고, 추가로 유량계 (44) 의 데이터가 이 컴퓨터에 피드백 되는 가스량 제어 수단을 본 발명의 감압 탈포 장치가 갖는 것이 바람직하다. 또한, 생산 성능을 일정하게 유지하기 위해, 원하는 압력으로 제어하면서 유량을 조정하는 것이 바람직하다.For example, T 2 , P 2 , F OUT , t OUT , W 2 , S, F IN, and t IN are measured normally, these data are collected on a computer, and the computer allows the water vapor concentration in the upper space to the desired value. It is preferable that the vacuum degassing apparatus of this invention has the water vapor concentration control means which can be controlled so that it may be controlled. Moreover, it is preferable that the pressure reduction defoaming apparatus of this invention makes it possible to control the opening and closing of the flow control valve 42 by this computer, and the gas amount control means by which the data of the flowmeter 44 is fed back to this computer. . In addition, in order to keep the production performance constant, it is preferable to adjust the flow rate while controlling to the desired pressure.

본 발명의 유리 제조 방법은, 이와 같은 본 발명의 감압 탈포 장치를 사용하여 실시하는 것이 바람직하지만, 다른 방법을 적용해도 된다. 예를 들어 본 발명의 감압 탈포 장치와 같이 감압 탈포조 내의 상부 공간에 기체를 도입할 필요는 반드시 없고, 감압 탈포조 내와 감압 하우징 내의 분위기가 연결되어 있는 경우에는, 감압 하우징 내의 기체의 수증기 농도를 저감시키면 된다.Although it is preferable to implement the glass manufacturing method of this invention using such a vacuum degassing apparatus of this invention, you may apply another method. For example, it is not necessary to introduce gas into the upper space in the vacuum degassing tank like the vacuum degassing apparatus of the present invention, and when the atmosphere in the vacuum degassing tank and the pressure reduction housing are connected, the water vapor concentration of the gas in the vacuum degassing housing. This can be reduced.

본 발명의 유리 제조 방법에 있어서, 감압 탈포 처리 조건은 통상적인 범위이면 특별히 한정되지 않는다. 통상적인 감압 처리 조건이란, 감압 탈포조 내부의 상부 공간에 있어서의 분위기 가스의 압력 (P1) 을 38 ∼ 460mmHg (51 ∼ 613hPa) 로 하고, 온도 (T1) 를 1100℃ ∼ 1500℃, 특히 1250℃ ∼ 1450℃ 로 하여 감압 탈포 처리를 실시하는 처리 조건을 말한다.In the glass manufacturing method of this invention, pressure reduction defoaming treatment conditions will not be specifically limited if it is a normal range. The normal pressure-reducing treatment conditions mean that the pressure P 1 of the atmospheric gas in the upper space inside the vacuum degassing tank is 38 to 460 mmHg (51 to 613 hPa), and the temperature (T 1 ) is 1100 ° C. to 1500 ° C., in particular. The processing conditions which perform pressure reduction defoaming treatment as 1250 degreeC-1450 degreeC are said.

본 발명의 유리 제조 방법이 구비하는 본 발명의 감압 탈포 공정에서는, 감압 탈포조 내부의 분위기 가스의 수증기 농도를 60mol% 이하로 한다. 그러면, 이른바 돌비를 발생시키지 않고 용융 유리 중의 기포의 탈포를 감압 조건하에서 실시할 수 있다.In the vacuum degassing | defoaming process of this invention with which the glass manufacturing method of this invention is equipped, the water vapor concentration of the atmospheric gas inside a pressure reduction degassing tank is 60 mol% or less. Then, defoaming of the bubble in a molten glass can be performed under reduced pressure conditions, without generating what is called a dolby.

또한, 이 수증기 농도가 낮을수록 기포층이 얇아지는 경향이 있으므로, 감압 탈포조 내부의 분위기 가스의 수증기 농도는 50mol% 이하인 것이 바람직하고, 40mol% 이하인 것이 보다 바람직하다. 그리고, 수증기 농도가 30mol% 이하이면, 기포층이 더욱 얇아지는 경향이 있으므로 바람직하다. 또한, 유리 조성에 따라서는, 1 개 1 개의 기포가 수축 또는 파포되는 경우가 있고, 이로써 기포층은 더욱 얇아지므로 바람직하다. 또한, 유리 제품에 결함으로 간주되는 정도의 크기의 기포가 잔존하기 어려워지므로 바람직하다. 이 수증기 농도가 더욱 낮으면, 유리 제품에 결함이 발생할 확률이 더욱 낮아지므로, 25mol% 이하인 것이 보다 바람직하고, 20mol% 이하인 것이 보다 바람직하고, 15mol% 이하인 것이 보다 바람직하고, 10mol% 이하인 것이 보다 바람직하고, 5mol% 이하인 것이 더욱 바람직하다.Moreover, since the bubble layer tends to become thinner as this water vapor concentration is lower, it is preferable that the water vapor concentration of the atmospheric gas inside a vacuum degassing tank is 50 mol% or less, and it is more preferable that it is 40 mol% or less. And since a bubble layer tends to become thinner if the water vapor concentration is 30 mol% or less, it is preferable. In addition, depending on the glass composition, one by one bubble may shrink or break, which is preferable because the bubble layer becomes thinner. Moreover, since the bubble of the magnitude | size of the grade regarded as a defect in glass goods becomes difficult to remain, it is preferable. If the water vapor concentration is even lower, the probability of defects occurring in the glass product is further lowered, more preferably 25 mol% or less, more preferably 20 mol% or less, still more preferably 15 mol% or less, and even more preferably 10 mol% or less. And it is more preferable that it is 5 mol% or less.

또한, 본 발명자는 상기에 추가하여, 이와 같은 기포의 수축은 특정한 조성의 용융 유리에 대해 특히 현저하게 발현되는 현상인 것을 알아내었다.In addition to the above, the inventors have found that such shrinkage of bubbles is a phenomenon which is particularly remarkable for molten glass of a specific composition.

구체적으로는, 용융 유리가 보로실리케이트 유리인 경우, 수증기 농도가 30mol% 이하이면 기포가 현저하게 수축되는 경향이 있다. 따라서, 본 발명의 유리 제조 방법, 본 발명의 감압 탈포 장치 및 본 발명의 수분 조정 방법은, 보로실리케이트 유리를 제조하는 경우에 보다 바람직하게 사용할 수 있다.Specifically, when the molten glass is borosilicate glass, bubbles tend to shrink significantly when the water vapor concentration is 30 mol% or less. Therefore, the glass manufacturing method of this invention, the vacuum degassing apparatus of this invention, and the moisture adjustment method of this invention can be used more preferably, when manufacturing borosilicate glass.

여기서 말하는 보로실리케이트 유리는 예를 들어 다음과 같은 조성이다.The borosilicate glass here is the following composition, for example.

조성의 범위 : SiO2 : 55 ∼ 74, Al2O3 : 10 ∼ 20, B2O3 : 5 ∼ 12, Al2O3/B2O3 : 1.5 ∼ 3, MgO : 0 ∼ 5, CaO : 0 ∼ 5, SrO : 0 ∼ 12, BaO : 0 ∼ 12, SrO + BaO : 6 ∼ 12 (단위는 질량%).Range of composition: SiO 2 : 55 to 74, Al 2 O 3 : 10 to 20, B 2 O 3 : 5 to 12, Al 2 O 3 / B 2 O 3 : 1.5 to 3, MgO: 0 to 5, CaO : 0-5, SrO: 0-12, BaO: 0-12, SrO + BaO: 6-12 (unit is mass%).

종래에는 바람직한 감압 탈포조 내의 압력, 온도 조건이 제시되어 있었으나, 수증기 농도에 대해 검토한 예는 없었다. 본 발명자는, 종래에 제시되었던 감압 탈포 조건으로 탈포를 실시하여도, 돌비되거나 기포층이 비대화되는 원인에 대해 예의 검토하고, 종래에 주목되지 않았던 수증기 농도에 주목함으로써, 이와 같은 문제를 해결할 수 있는 것을 알아내었다.Conventionally, although the pressure and temperature conditions in the pressure reduction degassing tank were preferable, there was no example which examined the water vapor concentration. MEANS TO SOLVE THE PROBLEM This inventor can solve such a problem by earnestly examining the cause of dolby or the bubble layer enlargement, even if it performs defoaming under the pressure reduction defoaming condition shown previously, and paying attention to the water vapor concentration which was not paid attention conventionally. I found out.

또한, 본 발명자는, 수증기 농도를 60mol% 이하로 함으로써, 용융 유리 중의 특정한 성분 (붕소 등) 의 휘산을 억제할 수 있다는 효과를 발휘하는 것도 알아내었다. 붕소 등의 성분의 휘발을 억제함으로써, 붕소 등의 조성 변동을 방지할 수 있음과 함께, 조성 변동에서 기인되는 평탄도의 악화를 억제할 수 있다.Moreover, this inventor discovered also that the effect which can suppress volatilization of a specific component (boron etc.) in a molten glass is made by making water vapor concentration into 60 mol% or less. By suppressing volatilization of components such as boron, it is possible to prevent composition fluctuations such as boron and to suppress deterioration of flatness caused by composition fluctuations.

또한, 휘발이 되기 쉬운 성분, 예를 들어 Cl, F, S 등의 휘산을 억제할 수도 있기 때문에, 이들 성분의 조성 변동을 방지할 수 있음과 함께, 조성 변동에서 기인되는 평탄도의 악화를 억제할 수 있다.In addition, since volatilization such as volatile components, such as Cl, F, and S, can also be suppressed, variation in the composition of these components can be prevented, and deterioration of flatness resulting from the variation in the composition can be suppressed. can do.

이들 Cl, F, S 등의 성분은, 수분의 휘발에 크게 영향을 받고 있는 것으로 생각된다. 예를 들어 F 는 HF 로서, S 는 H2SO4 로서 휘산되는 것으로 생각된다. 따라서, 감압 탈포조 내의 수분 농도를 어느 일정량 이하로 함으로써, 수분의 휘발에 수반되어 휘산되는 상기 성분의 변동을 억제할 수 있는 것으로 생각된다.It is thought that these components, such as Cl, F, and S, are largely influenced by the volatilization of water. For example, as the F HF, S is considered to be volatilized as H 2 SO 4. Therefore, it is thought that the fluctuation | variation of the said component volatilized with volatilization of water can be suppressed by making water concentration in a vacuum degassing tank below a certain amount.

또한, 유리의 특성은, 그 용도에 따라 매우 미세한 규격이 존재하고, 그 규격에 적합하도록 매우 상세한 것에 걸쳐 유리의 조성이 결정되어 있다. 예를 들어 붕소의 함유량에 대해서도 당연히 규격이 존재하지만, 종래의 방법에서는, 붕소가 휘산되기 때문에 보다 많은 붕소를 원료로서 사용할 필요가 있었다. 또한, 종래에는 붕소가 휘산되는 양은 조건에 따라 각기 다르고, 경우에 따라서는 붕소 함유량의 규격을 벗어날 가능성이 있었다. 본 발명에 있어서는 이와 같은 문제점이 해소되어 있어, 유용하다.In addition, the very fine specification exists in the characteristic of glass according to the use, and the composition of glass is determined over very detailed thing so that it may conform to the specification. For example, although a standard exists naturally with respect to content of boron, in the conventional method, since boron was volatilized, it was necessary to use more boron as a raw material. In addition, conventionally, the amount which boron volatilizes differs according to conditions, and there exists a possibility that it may exceed the specification of boron content in some cases. In this invention, such a problem is solved and it is useful.

이 점에서도, 본 발명의 유리 제조 방법, 본 발명의 감압 탈포 장치 및 본 발명의 수분 조정 방법은, 통상적인 유리는 말할 것도 없이, 특히 보로실리케이트 유리를 제조하는 경우에 바람직하게 사용할 수 있다고 할 수 있다.Also in this respect, it can be said that the glass manufacturing method of this invention, the vacuum degassing apparatus of this invention, and the moisture adjustment method of this invention can be used suitably especially when manufacturing borosilicate glass, not to mention normal glass. have.

또한, 본 발명에 있어서, 감압 탈포조 내부의 상부 공간에 도입하는 저수분 가스는, 산소 농도가 공기 중의 산소 농도보다 낮은 가스인 것이 바람직하다. 이 산소 농도는 15 체적% 이하인 것이 바람직하고, 10 체적% 이하인 것이 보다 바람직하고, 5 체적% 이하인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 상기 저수분 가스는 산소를 포함하지 않는 기체, 예를 들어 N2 가스, Ar 가스, CO2 등인 것이 바람직하다.Moreover, in this invention, it is preferable that the low moisture gas introduce | transduced into the upper space inside a pressure reduction degassing tank is gas whose oxygen concentration is lower than the oxygen concentration in air. It is preferable that this oxygen concentration is 15 volume% or less, It is more preferable that it is 10 volume% or less, It is further more preferable that it is 5 volume% or less. In addition, the low moisture gas is preferably a gas containing no oxygen, for example, N 2 gas, Ar gas, CO 2 and the like.

상기 상부 공간에 도입하는 상기 저수분 가스의 산소 농도가 이와 같은 값이면, 상기와 같은 기포층의 박층화에 추가하여, 감압 탈포조의 재질로서 백금 또는 백금 합금을 사용하고 있는 경우에, 그 백금의 산화를 억제하여 감압 탈포조의 수명을 늘리고, 또한 유리 제품에 있어서, 이 백금 유래의 결함 생성을 억제할 수 있으므로 바람직하다.When the oxygen concentration of the low moisture gas introduced into the upper space is such a value, in addition to the above-described layer thickness of the bubble layer, when platinum or a platinum alloy is used as the material of the vacuum degassing tank, the platinum It is preferable because the oxidation of the catalyst can be suppressed to increase the life of the vacuum degassing tank, and in the glass product, the generation of defects derived from platinum can be suppressed.

상기와 같이, 본 발명의 유리 제조 방법은, 본 발명의 감압 탈포 공정을 구비하고, 전공정 및 후공정으로서 원료 용융 공정 및 성형 공정을 구비하는 것이 바람직하다. 이 원료 용융 공정은, 예를 들어 종래 공지된 것이어도 되고, 예를 들어 유리의 종류에 따라 약 1400℃ 이상으로 가열함으로써 원료를 용융시키는 공정이다. 사용하는 원재료도 제조하는 유리에 적합한 원재료이면 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 규사, 붕산, 석회석 등의 종래 공지된 것을 최종 유리 제품의 조성에 맞추어 조합 (調合) 한 원재료를 사용할 수 있다. 이 원재료는, 원하는 청징제를 포함해도 된다. 또한, 이 성형 공정은, 예를 들어 종래 공지된 것이어도 되고, 예를 들어 플로트 성형 공정, 롤 아웃 성형 공정, 퓨전 성형 공정 등을 들 수 있다.As mentioned above, it is preferable that the glass manufacturing method of this invention is equipped with the vacuum degassing | defoaming process of this invention, and has a raw material melting process and a shaping | molding process as a front process and a post process. This raw material melting process may be a conventionally well-known thing, for example, and is a process of melting a raw material by heating to about 1400 degreeC or more according to the kind of glass, for example. The raw material to be used is not particularly limited as long as it is a raw material suitable for glass to be produced. For example, a raw material obtained by combining conventionally known ones such as silica sand, boric acid, limestone and the like with the composition of the final glass product can be used. This raw material may also contain a desired clarifier. In addition, this molding process may be a conventionally well-known thing, for example, A float molding process, a roll out molding process, a fusion molding process, etc. are mentioned, for example.

이하, 실시예에 기초하여 본 발명을 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated concretely based on an Example. However, the present invention is not limited thereto.

<실시예 1><Example 1>

감압 탈포를 실시하는 분위기를 재현하기 위해, 유리 원료가 들어간 백금제의 도가니를 진공 감압 용기 내에 배치하였다. 도가니를 가열하여 유리를 용융시키고, 용융 유리의 온도를 1420℃ 로 하였다. 그 후, 진공 감압 용기 내의 절대 압력을 26.7kPa 로 하였다.In order to reproduce the atmosphere in which vacuum degassing | defoaming is carried out, the crucible made from platinum containing the glass raw material was arrange | positioned in the vacuum pressure reduction container. The crucible was heated to melt the glass, and the temperature of the molten glass was 1420 ° C. Thereafter, the absolute pressure in the vacuum decompression vessel was 26.7 kPa.

여기서, 사용한 유리 원료의 조성은 다음과 같다.Here, the composition of the used glass raw material is as follows.

SiO2 : 59.4%, Al2O3 : 17.6%, B2O3 : 7.9%, MgO : 3.2%, CaO : 3.7%, SrO : 7.9%, BaO : 0.1%SiO 2 : 59.4%, Al 2 O 3 : 17.6%, B 2 O 3 : 7.9%, MgO: 3.2%, CaO: 3.7%, SrO: 7.9%, BaO: 0.1%

또한, 실시예 1 ∼ 3 은, 도 1 의 감압 탈포조 (12) 대신에 용융 유리가 들어간 백금제의 도가니를 사용하여 실험을 실시하였으나, 이 도가니의 실험 결과는, 도 1 의 감압 탈포조 (12) 의 결과와 동등한 것으로 간주할 수 있다.In addition, although Examples 1-3 were experimented using the crucible made from the platinum made from molten glass instead of the pressure reduction degassing tank 12 of FIG. 1, the experimental result of this crucible was the pressure reduction degassing tank of FIG. Can be regarded as equivalent to

이어서, 원하는 수증기 농도로 조정한 대기를 상기 진공 감압 용기 내에 도입하고, 진공 감압 용기 내 분위기의 수증기 농도 (mol%) 를 다양한 값으로 변화시켜 조정하였다. 각각의 수증기 농도의 경우에 대해, 용융 유리 중의 기포를 진공 감압 장치에 형성한 관찰창으로부터 CCD 카메라를 사용하여 촬영하였다. 그리고, 30 분 경과 후, 도가니 내에서 용융 유리를 급랭시켜 고화시키고, 고화 후의 샘플 중에 존재하는 기포 (직경 100㎛ 이상인 것을 카운트) 의 수를 측정하여 기포 밀도 (개/㎏) 를 구하였다. 여기서, 용융 유리의 질량은 5.0㎏ 이고, 감압 전의 유리 중의 기포의 수는, 각각의 수증기 농도의 경우에서 거의 동일한 값이었다.Subsequently, the atmosphere adjusted to the desired water vapor concentration was introduced into the vacuum decompression vessel, and adjusted by changing the water vapor concentration (mol%) in the atmosphere in the vacuum decompression vessel to various values. In the case of each steam concentration, the bubble in the molten glass was image | photographed using the CCD camera from the observation window formed in the vacuum decompression device. And after 30 minutes passed, the molten glass was quenched and solidified in the crucible, the number of bubbles (counting 100 micrometers or more in diameter) which existed in the sample after solidification was measured, and bubble density (piece / kg) was calculated | required. Here, the mass of the molten glass was 5.0 kg, and the number of bubbles in the glass before pressure reduction was about the same value in the case of each vapor concentration.

결과를 도 3 에 나타낸다.The results are shown in FIG.

도 3 으로부터, 진공 감압 용기 내 분위기의 수증기 농도가 높을수록 기포가 잔존하는 것을 확인할 수 있다. 도 3 에 있어서, 가로축은 분위기의 수증기 (수분) 농도를 나타내고, 세로축은 기포의 수를 Log 로 취한 값을 나타내고 있다.It can be seen from FIG. 3 that bubbles remain as the concentration of water vapor in the atmosphere in the vacuum decompression vessel is higher. In FIG. 3, the horizontal axis represents the concentration of water vapor (moisture) in the atmosphere, and the vertical axis represents the value of the number of bubbles taken as Log.

또한, 수증기 농도가 60mol% 초과인 경우에는, CCD 카메라로 관찰하고 있을 때에 용융 유리 계면이 급격하게 상승하여, 이른바 돌비 현상이 발생하였다.Moreover, when water vapor concentration was more than 60 mol%, when observing with a CCD camera, a molten glass interface rose rapidly and what is called a Dolby phenomenon.

<실시예 2><Example 2>

다음으로, 상기 실시예 1 과 동일한 장치를 사용하여, 진공 감압 용기 내 분위기의 수증기 농도를 70mol%, 47mol%, 31mol%, 3mol% 로 하여 기포층의 두께를 측정하였다. 또한, 실시예 1 에서는 대기이었던 저수분 가스를 N2, CO2, Ar 로 하고, 진공 감압 용기 내 분위기의 수증기 농도를 각각 1mol% 미만으로 하여, 동일한 시험을 실시하였다. 유리 조성은 실시예 1 과 동일하다.Next, using the apparatus similar to the said Example 1, the thickness of the bubble layer was measured as 70 mol%, 47 mol%, 31 mol%, and 3 mol% of the water vapor concentration of the atmosphere in a vacuum pressure reduction container. Further, in Example 1 in the low-moisture gas was air with N 2, CO 2, Ar, and with the water vapor concentration in the atmosphere of the vacuum pressure vessel is less than 1mol%, respectively, it was carried out the same experiment. The glass composition is the same as in Example 1.

결과를 표 1 에 나타낸다.The results are shown in Table 1.

Figure 112009003004460-PCT00003
Figure 112009003004460-PCT00003

이와 같이, 수증기 농도가 70mol% 이면 기포층의 두께는 20㎜ 이상이 되어, 이른바 돌비되는 것을 확인할 수 있었다. 또한, 수증기 농도가 3 ∼ 47mol% 이면 1 ∼ 2㎜ 정도인 두께의 기포층이 형성되었으나, 돌비는 확인되지 않았다. 또한, 분위기가 N2, CO2 또는 Ar (수증기 농도가 1mol% 미만) 이면 기포층은 발생하지 않았다. 상기 결과로부터, 수증기 농도는 60mol% 이하일 필요가 있다. 또한, 기포층의 두께는 15㎜ 이하 정도인 것이 바람직하다.Thus, when water vapor concentration was 70 mol%, the thickness of the bubble layer became 20 mm or more, and it was confirmed that what is called dolby. Moreover, when the water vapor concentration was 3 to 47 mol%, a bubble layer having a thickness of about 1 to 2 mm was formed, but no dolby was confirmed. Further, the atmosphere is N 2, is CO 2 or Ar (water vapor concentration is less than 1mol%) fabric layer did not occur. From the above results, the water vapor concentration needs to be 60 mol% or less. Moreover, it is preferable that the thickness of a bubble layer is about 15 mm or less.

<실시예 3><Example 3>

실시예 2 와 동일한 시험에 있어서, 각종의 분위기마다 기포층 내에 있어서의 기포의 수축 속도를 측정하였다. 여기서, 용융 유리는 실시예 1 과 동일한 보로실리케이트 유리를 사용하였다.In the same test as in Example 2, the shrinkage rate of the bubbles in the bubble layer for each of various atmospheres was measured. Here, the borosilicate glass similar to Example 1 was used for the molten glass.

결과를 도 4 에 나타낸다. 또한, 도 4 에 있어서 기포 직경은 규격화된 값을 나타내고 있다. 규격화란, 용융 유리 내부의 기포가 상승하여 기포층에 도달하였을 때의 기포 직경에 대한 각 시간에 있어서의 기포 직경의 비이다. 따라서, 기포가 기포층에 도달하였을 때가 경과 시간 0s 이고, 그 때의 기포 직경이 1.0 이다.The results are shown in FIG. In addition, the bubble diameter has shown the normalized value in FIG. Normalization is the ratio of the bubble diameter in each time with respect to the bubble diameter when the bubble inside a molten glass rises and it reaches | attained the bubble layer. Therefore, when the bubble reaches the bubble layer, the elapsed time is 0s, and the bubble diameter at that time is 1.0.

도 4 로부터, 수증기 농도가 31mol% 인 대기의 경우에 대해, 수증기 농도가 3mol% 인 대기 및 수증기 농도가 1mol% 이하인 N2, CO2 또는 Ar 의 경우에는, 기포의 수축 속도가 빨라졌다.From FIG. 4, in the case of the atmosphere with a water vapor concentration of 31 mol%, in the case of the atmosphere having a water vapor concentration of 3 mol% and N 2 , CO 2 or Ar having a water vapor concentration of 1 mol% or less, the shrinkage rate of the bubbles was increased.

이 결과로부터, 분위기 중의 수증기 농도가 낮은 편이 기포가 수축되기 쉽고, 요컨대 기포가 소실되기 쉬워 바람직한 것으로 판명되었다.From this result, it turned out that the one where the water vapor concentration in atmosphere is low tends to shrink | contract, and in other words, it is easy to lose | disappear bubbles.

<실시예 4><Example 4>

다음으로, 감압 탈포 처리에 의해 기포가 용융 유리 표면으로 부상되고 그 후 파포·소멸되는 모습을, 각종의 분위기 수증기 농도 (1mol%, 9mol%, 13mol%, 19mol%, 22mol%, 35mol%, 70mol%) 및 유리 조성 (소다라임 유리 : 조성 A, 조성 B, 조성 C) 마다 측정하였다. 여기서는 기포 모습의 관찰이 가능해지도록, 50cc 의 투명 석영 유리 비커를 용기로서 사용하여, 약 50g 의 유리를 용해시켰을 때의 기포층의 두께를 측정하였다. 또한 용융 유리 표면으로 부상된 기포의 수 (BS 개) 및 용융 유리 표면에 도달하여 파포·소멸된 기포의 수 (BB 개) 를 CCD 카메라로 관찰하여 카운트하고, 파포율의 값 (BB/BS%) 을 산출하였다. 기포층의 두께 (㎜) 및 파포율 (%) 을 하기 표 2 에 나타낸다.Next, the bubble rises on the molten glass surface by the vacuum degassing | defoaming process, and it blows up and annihilates it, and various atmosphere vapor concentrations (1 mol%, 9 mol%, 13 mol%, 19 mol%, 22 mol%, 35 mol%, 70 mol) %) And glass composition (soda lime glass: composition A, composition B, composition C). Here, the thickness of the bubble layer at the time of melt | dissolving about 50 g of glass was measured using the 50 cc transparent quartz glass beaker as a container so that the bubble state can be observed. In addition, molten number of injured cell by the free surface (B S dog) and the melt reaches the glass surface to Resistencia, the number of extinction of the bubble count by looking at (B B dog) with a CCD camera, and the value of Resistencia rate (B B / B S %) was calculated. The thickness (mm) and the breaking rate (%) of the bubble layer are shown in Table 2 below.

또한, 어느 샘플의 경우에도 용융 유리의 온도를 1200℃ 로 가열하였다. 용기 내의 절대 압력은, 조성 A 의 경우 18.7kPa, 조성 B 의 경우 10.3kPa, 조성 C 의 경우 14.4kPa 로 하였다. 또한, 조성 A, 조성 B, 조성 C 에 있어서의 각 성분의 함유율은 하기 표 3 에 나타내는 바와 같이 하였다. 표 3 에 있어서의 % 는 질량% 를 나타낸다.In addition, also in the case of any sample, the temperature of the molten glass was heated at 1200 degreeC. The absolute pressure in the container was 18.7 kPa for the composition A, 10.3 kPa for the composition B, and 14.4 kPa for the composition C. In addition, the content rate of each component in composition A, the composition B, and the composition C was as showing in following Table 3. % In Table 3 represents the mass%.

Figure 112009003004460-PCT00004
Figure 112009003004460-PCT00004

Figure 112009003004460-PCT00005
Figure 112009003004460-PCT00005

표 2 로부터, 용기 내 분위기의 수증기 농도가 높을수록 파포율이 낮아, 기포가 잔존하는 것을 확인할 수 있다. 구체적으로는, 분위기의 수증기 농도가 60mol% 를 초과하면 기포층이 20㎜ 이상의 두께로 되지만, 60mol% 이하이면 기포층이 얇아지는 것을 확인할 수 있다. 또한, 수증기 농도가 60mol% 초과인 경우에는, CCD 카메라로 관찰하고 있을 때에 용융 유리 계면이 급격하게 상승하여, 이른바 돌비 현상이 발생하였다. 또한, 용기 내 분위기의 수증기 농도가 15mol% 미만인 경우, 파포율이 높아져 바람직한 것을 알 수 있었다. 즉, 용기 내 분위기의 수증기 농도가 60mol% 이하이면 돌비 현상을 방지할 수 있어 기포층을 얇게 할 수 있음과 함께, 상기 수증기 농도를 더욱 낮게 하면 파포율이 높아져 기포가 소멸되는 것으로 판명되었다.From Table 2, it can be confirmed that the higher the water vapor concentration of the atmosphere in the container, the lower the breakage rate, and the bubbles remain. Specifically, when the vapor concentration in the atmosphere exceeds 60 mol%, the bubble layer becomes 20 mm or more thick, but when it is 60 mol% or less, it can be confirmed that the bubble layer becomes thin. Moreover, when water vapor concentration was more than 60 mol%, when observing with a CCD camera, a molten glass interface rose rapidly and what is called a Dolby phenomenon. Moreover, when the water vapor concentration of the atmosphere in a container is less than 15 mol%, a breakage rate became high and it turned out that it is preferable. That is, when the water vapor concentration of the atmosphere in the container is 60 mol% or less, the dolby phenomenon can be prevented, the bubble layer can be made thin, and when the water vapor concentration is further lowered, the breakage rate becomes higher and the bubbles disappear.

본 발명은, 용융 유리의 감압 탈포 장치 및 감압 탈포 공정을 구비하는 유리 제조 방법에 적용할 수 있고, 특히 기포가 적은 고품질의 디스플레이용 유리의 제조에 바람직하다.This invention is applicable to the glass manufacturing method provided with the vacuum degassing apparatus and pressure reduction defoaming process of a molten glass, and it is especially suitable for manufacture of the high quality glass for displays with few bubbles.

또한, 2006년 8월 30일에 출원된 일본 특허출원 2006-233441호의 명세서, 특허 청구의 범위, 도면 및 요약서의 전체 내용을 여기에 인용하여, 본 발명의 명세서의 개시로서 도입하는 것이다.In addition, all the content of JP Patent application 2006-233441, a claim, drawing, and the abstract for which it applied on August 30, 2006 is referred here, and it introduces as an indication of the specification of this invention.

Claims (9)

감압 탈포조의 분위기 가스의 수증기 농도를 60mol% 이하로 하여, 용융 유리를 감압 탈포하는 공정을 구비하는 유리 제조 방법.The glass manufacturing method provided with the process of carrying out the pressure reduction defoaming of the molten glass by making water vapor concentration of the atmospheric gas of a pressure reduction degassing tank into 60 mol% or less. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 감압 탈포조의 분위기 가스에 저수분 가스를 도입함으로써, 상기 분위기 가스의 수증기 농도를 60mol% 이하로 하는 유리 제조 방법.The glass manufacturing method which makes water vapor concentration of the said atmospheric gas into 60 mol% or less by introduce | transducing a low moisture gas into the atmospheric gas of the said vacuum degassing tank. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 분위기 가스의 수증기 농도를 30mol% 이하로 하는 유리 제조 방법.The glass manufacturing method which makes water vapor concentration of the said atmospheric gas into 30 mol% or less. 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,The method of claim 2 or 3, 상기 저수분 가스의 산소 농도 (체적%) 가 공기 중의 산소 농도 (체적%) 보다 낮은 유리 제조 방법.The oxygen production concentration (vol%) of the said low moisture gas is lower than the oxygen concentration (vol%) in air. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 저수분 가스의 산소 농도 (체적%) 가 15 체적% 이하인 유리 제조 방법.The oxygen concentration (vol%) of the said low moisture gas is 15 volume% or less, The glass manufacturing method. 용융 유리를 감압 탈포하기 위한 감압 탈포조의 분위기 가스의 수증기 농도를 측정하고, 그 수증기 농도의 측정 결과에 기초하여, 상기 감압 탈포조의 상기 분위기 가스에 저수분 가스를 도입함으로써, 상기 감압 탈포조의 상기 분위기 가스의 수증기 농도를 60mol% 이하로 조정하는 유리 제조 방법.The vacuum degassing tank is measured by measuring the vapor concentration of the atmospheric gas of the vacuum degassing tank for degassing the molten glass under reduced pressure, and introducing a low moisture gas into the atmospheric gas of the vacuum degassing tank based on the measurement result of the steam concentration. The glass manufacturing method of adjusting the water vapor concentration of the said atmospheric gas to 60 mol% or less. 감압 흡인되는 감압 하우징과, 이 감압 하우징 내에 형성되고, 용융 유리의 감압 탈포를 실시하는 감압 탈포조와, 이 감압 탈포조에 연통하여 형성되고, 감압 탈포 전의 용융 유리를 상기 감압 탈포조에 도입하는 도입 수단과, 상기 감압 탈포조에 연통하여 형성되고, 감압 탈포 후의 용융 유리를 상기 감압 탈포조로부터 도출하는 도출 수단을 갖는 용융 유리의 감압 탈포 장치로서,The pressure reduction degassing | defoaming tank formed in this pressure reduction housing | suction, the pressure reduction defoaming tank which carries out the pressure reduction defoaming of molten glass, and this pressure reduction defoaming tank formed in this pressure reduction housing | suction, and introduce | transduces the molten glass before pressure reduction defoaming tank to the said pressure reduction defoaming tank As a pressure reduction defoaming apparatus of the molten glass formed in communication with the said introduction means and the said pressure reduction degassing tank, and having a derivation means which derives the molten glass after pressure reduction defoaming from the said pressure reduction degassing tank, 상기 감압 탈포조의 분위기 가스의 수증기 농도를 측정하는 수증기 농도 측정 수단과,Water vapor concentration measuring means for measuring the water vapor concentration of the atmospheric gas of the vacuum degassing tank; 상기 감압 탈포조 내부의 상부 공간에 저수분 가스를 도입하는 저수분 가스 도입 수단을 추가로 갖는 용융 유리의 감압 탈포 장치.The pressure reduction defoaming apparatus of the molten glass which further has a low moisture gas introduction means which introduces a low moisture gas into the upper space inside the said vacuum degassing tank. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 감압 탈포 장치에, 상기 분위기 가스의 수증기 농도를 원하는 값이 되도록 제어할 수 있는 수증기 농도 제어 수단과, 상기 제어 수단으로부터의 신호에 의해 저수분 가스의 도입량을 제어하는 가스량 제어 수단을 추가로 갖는 감압 탈포 장치.The vacuum degassing apparatus further includes steam concentration control means capable of controlling the vapor concentration of the atmospheric gas to a desired value, and gas amount control means for controlling the amount of low moisture gas introduced by a signal from the control means. Vacuum degassing apparatus. 제 7 항 또는 제 8 항에 있어서,The method according to claim 7 or 8, 상기 저수분 가스 도입 수단이 감압 탈포조의 상류측에 형성되어 있는 용융 유리의 감압 탈포 장치.The low pressure degassing apparatus of the molten glass with which the said low moisture gas introduction means is formed in the upstream of a pressure reduction degassing tank.
KR1020097000999A 2006-08-30 2007-08-24 Glass-making processes KR101419957B1 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2006-233441 2006-08-30
JP2006233441 2006-08-30
PCT/JP2007/066490 WO2008029649A1 (en) 2006-08-30 2007-08-24 Glass-making processes

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20090052848A true KR20090052848A (en) 2009-05-26
KR101419957B1 KR101419957B1 (en) 2014-07-16

Family

ID=39157083

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020097000999A KR101419957B1 (en) 2006-08-30 2007-08-24 Glass-making processes

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP5434077B2 (en)
KR (1) KR101419957B1 (en)
CN (2) CN104445869B (en)
TW (1) TWI394725B (en)
WO (1) WO2008029649A1 (en)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101221249B1 (en) * 2008-02-29 2013-01-11 아사히 가라스 가부시키가이샤 Vacuum defoaming apparatus for molten glass
KR101341741B1 (en) 2009-07-16 2013-12-16 아사히 가라스 가부시키가이샤 Method for producing molten glass, vacuum degassing apparatus, and method for producing glass product
CN102917988B (en) * 2010-05-19 2015-07-15 旭硝子株式会社 Pressure reducing and defoaming device for molten glass, molten glass manufacturing method, and glass product manufacturing method
DE102012202696B4 (en) * 2012-02-22 2015-10-15 Schott Ag Process for the preparation of glasses and glass ceramics, glass and glass ceramic and their use
CN102898016A (en) * 2012-08-06 2013-01-30 彩虹显示器件股份有限公司 Apparatus and method for inhibiting TFT-LCD substrate glass bubbles
CN203513469U (en) * 2013-09-25 2014-04-02 安瀚视特控股株式会社 Clarification tank for molten glass and manufacturing device of glass substrate
JP5976863B2 (en) * 2014-03-31 2016-08-24 AvanStrate株式会社 Glass substrate manufacturing method and glass substrate manufacturing apparatus
JP2016069253A (en) * 2014-09-30 2016-05-09 AvanStrate株式会社 Manufacturing method for glass substrate and manufacturing apparatus for glass substrate
JP6341827B2 (en) * 2014-10-01 2018-06-13 AvanStrate株式会社 Glass substrate manufacturing method and glass substrate manufacturing apparatus
TWI755502B (en) * 2017-03-16 2022-02-21 美商康寧公司 Method for decreasing bubble lifetime on a glass melt surface
JP7025720B2 (en) * 2017-12-22 2022-02-25 日本電気硝子株式会社 Manufacturing method of glass articles and glass melting furnace
WO2020106539A1 (en) 2018-11-21 2020-05-28 Corning Incorporated Method for decreasing bubble lifetime on a glass melt surface
JP2022160757A (en) * 2021-04-07 2022-10-20 日本電気硝子株式会社 Production method of glass

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4321373C2 (en) * 1993-06-26 1995-12-14 Schott Glaswerke Glass ceramic with high transmission in the wavelength range from 2700 to 3300 nm, process for their production and their use
JP3785792B2 (en) * 1998-03-11 2006-06-14 旭硝子株式会社 Vacuum degassing equipment for molten glass
JP2002293547A (en) * 2001-03-28 2002-10-09 Asahi Glass Co Ltd Method for producing glass for cathode ray tube
EP1293487A1 (en) * 2001-09-14 2003-03-19 Asahi Glass Co., Ltd. Vacuum degassing apparatus for molten glass
JP2004091307A (en) 2002-07-10 2004-03-25 Nippon Electric Glass Co Ltd Method for producing glass

Also Published As

Publication number Publication date
TWI394725B (en) 2013-05-01
JP5434077B2 (en) 2014-03-05
WO2008029649A1 (en) 2008-03-13
CN104445869A (en) 2015-03-25
CN101506109A (en) 2009-08-12
JPWO2008029649A1 (en) 2010-01-21
TW200835660A (en) 2008-09-01
KR101419957B1 (en) 2014-07-16
CN104445869B (en) 2018-07-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20090052848A (en) Glass-making processes
JP5470853B2 (en) Glass manufacturing method and vacuum degassing apparatus
KR101217369B1 (en) Molten glass production apparatus and molten glass production method using same
WO2011078258A1 (en) Method for vacuum-degassing molten glass and process for producing glass product
JP2000128549A (en) Production of glass, using vacuum defoaming
JP5737285B2 (en) Vacuum degassing method for molten glass
JP7127587B2 (en) Alkali-free glass substrate
JP5387678B2 (en) Molten glass manufacturing method, vacuum degassing apparatus, and glass product manufacturing method
JP5975022B2 (en) Method for defoaming molten glass, apparatus for defoaming molten glass, method for producing molten glass, apparatus for producing molten glass, method for producing glass product, and apparatus for producing glass product
KR102634707B1 (en) Alkali-free glass substrate
JP2000178029A (en) Vacuum defoaming equipment for molten glass
JP4058935B2 (en) Vacuum deaerator
KR102141856B1 (en) Alkali-free glass substrate
TWI833928B (en) Alkali-free glass substrate
JP2024023627A (en) Alkali-free glass substrate
TWI836035B (en) Alkali-free glass substrate

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180628

Year of fee payment: 5