KR101221249B1 - Vacuum defoaming apparatus for molten glass - Google Patents

Vacuum defoaming apparatus for molten glass Download PDF

Info

Publication number
KR101221249B1
KR101221249B1 KR1020107009601A KR20107009601A KR101221249B1 KR 101221249 B1 KR101221249 B1 KR 101221249B1 KR 1020107009601 A KR1020107009601 A KR 1020107009601A KR 20107009601 A KR20107009601 A KR 20107009601A KR 101221249 B1 KR101221249 B1 KR 101221249B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
molten glass
gas
gas supply
degassing tank
supply pipe
Prior art date
Application number
KR1020107009601A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20100085955A (en
Inventor
모토유키 히로세
다츠야 야마시타
가츠히코 사노
유 노지리
Original Assignee
아사히 가라스 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 아사히 가라스 가부시키가이샤 filed Critical 아사히 가라스 가부시키가이샤
Publication of KR20100085955A publication Critical patent/KR20100085955A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101221249B1 publication Critical patent/KR101221249B1/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B5/00Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
    • C03B5/16Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
    • C03B5/225Refining
    • C03B5/2252Refining under reduced pressure, e.g. with vacuum refiners

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Joining Of Glass To Other Materials (AREA)
  • Glass Melting And Manufacturing (AREA)

Abstract

본 발명은 과감압에 의한 포층의 비대화에 의해 감압 탈포의 효과가 저하되는 것이 방지된 용융 유리의 감압 탈포 장치를 제공한다. 내부의 기압이 대기압 미만으로 설정되고, 공급된 용융 유리 내의 기포를 부상 및 파포시키는 감압 탈포조와, 상기 감압 탈포조에 접속되고, 탈포 처리전의 용융 유리를 흡인 상승시켜 그 감압 탈포조에 도입하는 상승관과, 상기 감압 탈포조에 접속되고, 탈포 처리 후의 용융 유리를 그 감압 탈포조로부터 하강시켜 도출하는 하강관을 구비하는 감압 탈포 장치에 있어서, 적어도 2 개의 접속관에 의해 상기 감압 탈포조와 접속되는 중공 구조의 분위기 제어부를 갖고, 상기 분위기 제어부에는 그 분위기 제어부 내를 배기하여 감압하기 위한 배기구가 형성되어 있고, 상기 분위기 제어부에는, 적어도 1 개의 상기 접속관과의 관계에서 하기 (1) 및 (2) 를 만족하는 제 1 가스 공급관이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 용융 유리의 감압 탈포 장치. (1) 상기 분위기 제어부와 상기 접속관이 이루는 개구부를, 상기 접속관의 관축 방향을 따라 상기 분위기 제어부 내부로 연장시킨 가상 영역을, 상기 제 1 가스 공급관으로부터 공급되는 가스류가 횡단한다. (2) 상기 제 1 가스 공급관의 선단으로부터 그 가스 공급관의 관축으로 따라 연장시킨 가상선이, 상기 분위기 제어부와 상기 접속관이 이루는 개구부를 통과하지 않는다.This invention provides the pressure reduction defoaming apparatus of the molten glass by which the effect of pressure reduction defoaming was prevented from falling by the enlargement of the cloth layer by overpressure. The internal air pressure is set to less than atmospheric pressure, connected to the vacuum degassing tank which floats and blows bubbles in the supplied molten glass, and the vacuum degassing tank, and suction-raises the molten glass before defoaming and introduces into the vacuum degassing tank. A decompression degassing apparatus which is connected to a rising pipe and the said decompression degassing tank, and is provided with the falling pipe which lowers and pulls out the molten glass after a degassing process from the degassing degassing tank, WHEREIN: The said reduced pressure degassing tank is carried out by at least 2 connection pipes, An atmosphere control unit having a hollow structure to be connected, wherein the atmosphere control unit is provided with an exhaust port for evacuating and depressurizing the inside of the atmosphere control unit, and the atmosphere control unit has the following (1) and The 1st gas supply pipe | tube which satisfy | fills (2) is formed, The vacuum degassing apparatus of the molten glass characterized by the above-mentioned. (1) The gas flow supplied from the said 1st gas supply pipe traverses the virtual area which extended the opening part which the said atmosphere control part and the said connection pipe extends inside the said atmosphere control part along the tube axis direction of the said connection pipe. (2) An imaginary line extending from the distal end of the first gas supply pipe along the tube axis of the gas supply pipe does not pass through the opening formed by the atmosphere control unit and the connection pipe.

Figure R1020107009601
Figure R1020107009601

Description

용융 유리의 감압 탈포 장치{VACUUM DEFOAMING APPARATUS FOR MOLTEN GLASS}Vacuum degassing apparatus of molten glass {VACUUM DEFOAMING APPARATUS FOR MOLTEN GLASS}

본 발명은 연속적으로 공급되는 용융 유리로부터 기포를 제거하기 위한 용융 유리의 감압 탈포 장치에 관한 것이다. This invention relates to the vacuum degassing apparatus of the molten glass for removing a bubble from the molten glass continuously supplied.

종래부터, 성형된 유리 제품의 품질을 향상시키기 위해, 용해로에서 원료를 용해한 용융 유리를 성형 장치에서 성형하기 전에, 용융 유리 내에 발생한 기포를 제거하는 청징 공정이 이용되고 있다. Conventionally, in order to improve the quality of the molded glass product, the clarification process which removes the bubble which generate | occur | produced in the molten glass before shape | molding the molten glass which melt | dissolved the raw material in the melting furnace in the shaping | molding apparatus is used.

이 청징 공정에서는, 감압 분위기 내에 용융 유리를 도입하고, 이 감압 분위기 하에서, 연속적으로 흐르는 용융 유리류 (流) 내의 기포를 크게 성장시켜 용융 유리 내에 함유되는 기포를 부상시키고, 용융 유리 표면에서 기포를 파포시켜 제거하고, 그 후 감압 분위기로부터 배출하는 감압 탈포 방법이 알려져 있다. In this clarification process, a molten glass is introduce | transduced in a reduced pressure atmosphere, the bubble in the molten glass flows continuously growing under this reduced pressure atmosphere, the bubble contained in a molten glass is floated, and a bubble is made from the molten glass surface. The degassing | defoaming method of degassing | defoaming and discharge | emitting from a pressure reduction atmosphere after that is known.

이러한 청징 공정에 있어서, 용융 유리류 내에서의 기포의 성장을 촉진하기 위해, 또는 기포를 파포시키기 위해, 여러 가지 수법이 제안되어 있다. In such a clarification process, various methods have been proposed in order to accelerate the growth of bubbles in the molten glass or to bubble the bubbles.

특허문헌 1 에는, 청징 조작의 성능 특성을 개량하기 위해, 다양한 청징 촉진제를 유리화 가능 물질, 즉, 유리 원료에 함유시키는 것이 제안되어 있다. 또, 특허문헌 1 에는, 감압 조건 하에서의 청징 사이에 기포의 성장에 영향을 미치는 요소로서, 용융체 물질 상의 가스의 성질, 즉, 용융 유리 상의 가스의 성질을 들고 있다. In patent document 1, in order to improve the performance characteristic of a clarification operation, it is proposed to contain various clarification promoters in a vitrifiable substance, ie, a glass raw material. In addition, Patent Literature 1 gives the properties of the gas on the molten material, that is, the properties of the gas on the molten glass, as elements that affect the growth of bubbles between clarifications under reduced pressure.

또, 특허문헌 2 에는, 용융 유리가 청징 챔버 내의 감압에 조우 (遭遇) 함으로써 발생한 포말을 파괴하는 포말 파괴 수단이 개시되어 있다. 포말 파괴 수단으로는, 기포를 팽창시키고 파열시키기 위한 기계적 회전체의 사용이나, 포말에 제트류를 충돌시키는 것이 개시되어 있다. In addition, Patent Document 2 discloses a foam breaking means for breaking a foam generated when molten glass encounters a reduced pressure in a clarification chamber. As foam breaking means, use of a mechanical rotating body for expanding and rupturing bubbles and impinging jets on the foam are disclosed.

일본 공표특허공보 2001-515453호Japanese Patent Publication No. 2001-515453 일본 공개특허공보 2003-89529호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-89529

특허문헌 1 에는, 용융 유리 상의 가스의 성질을 바꾸는 방법으로서, 공기 분압의 선택, 질소 타입의 불활성 가스를 부화 (富化) 시킨 분위기의 선택, 및 질소 타입의 불활성 가스의 분압의 선택을 들고 있는데, 용융 유리 상의 가스가 어떠한 성질이면, 기포의 성장을 촉진시키는가라는 점은 전혀 개시되어 있지 않다. 또, 감압 조건으로 청징을 실시하고 있을 때, 용융 유리로부터의 휘발 가스 성분 및 용융 유리에 함유되는 기포의 가스 성분이 활발하게 방출되기 때문에, 선택한 공기의 분압 및 선택한 질소 타입의 불활성 가스의 분압은 용이하게 저하된다는 문제가 있다. 또, 선택한 질소 타입의 불활성 가스를 부화시킨 분위기로부터, 분위기의 가스 조성이 용이하게 변화시킨다는 문제가 있다.Patent Literature 1 discloses a method of changing the properties of the gas on the molten glass, the selection of the air partial pressure, the selection of the atmosphere in which the nitrogen type inert gas is enriched, and the selection of the partial pressure of the nitrogen type inert gas. What kind of property is a gas on a molten glass, and it does not disclose at all whether it promotes bubble growth. Moreover, when clarifying under reduced pressure conditions, since the volatile gas component from the molten glass and the gas component of the bubble contained in the molten glass are actively released, the partial pressure of the selected air and the partial pressure of the inert gas of the selected nitrogen type are There is a problem that it is easily lowered. Moreover, there exists a problem that the gas composition of an atmosphere changes easily from the atmosphere which enriched the selected nitrogen type inert gas.

또 특허문헌 2 에 기재된 방법은, 청징 챔버 내에서 발생하는 포말의 파괴라는 점에서는 반드시 충분한 것은 아니다. 즉, 기계적 회전체나 제트류의 사용은, 용융 유리 상에 이미 존재하고 있는 포말을 파괴할 수 있지만, 용융 유리류에 흐트러짐을 일으키는 결과, 새로운 기포의 발생 원인이 된다. 또, 청징 챔버 내에서, 포말을 국소적으로 파괴할 수 있지만, 기계적 회전체나 제트류보다 하류측에서 새롭게 발생한 포말을 파괴할 수는 없다. 또, 기계적 회전체의 사용은 용융 유리의 오염원이 될 우려가 있고, 제트류의 사용은 용융 유리의 온도를 저하시켜 유리의 품질을 저하시킬 우려가 있다. Moreover, the method of patent document 2 is not necessarily enough in the point of destruction of foam which arises in a clarification chamber. That is, the use of a mechanical rotating body or jets can destroy the foam already present on the molten glass, but causes disorder in the molten glass, resulting in the generation of new bubbles. In addition, although foams can be locally destroyed in the clarification chamber, foams newly generated on the downstream side of the mechanical rotating body or jets cannot be destroyed. Moreover, the use of a mechanical rotating body may be a source of contamination of the molten glass, and the use of jet streams may lower the temperature of the molten glass and reduce the quality of the glass.

또, 이론상으로는, 용융 유리 상방의 분위기의 감압도를 높일수록 (분위기의 절대압을 낮게 할수록), 감압 탈포의 효과가 향상되어, 용융 유리류 내의 기포가 감소할 것이다. 그러나, 실제로는, 분위기의 감압도 (분위기의 절대압) 가 어느 단계에 이르면, 기포의 생성 속도가 파포에 의한 기포 소멸 속도를 상회하여, 용융 유리 표면에서 포층 (泡層) 이 비대화됨으로써, 감압 탈포 능력이 저하된다. 이러한 현상을 과감압에 의한 포층의 비대화라고 한다. 결과적으로, 용융 유리류 내의 기포가 오히려 증가한다. 따라서, 감압 탈포의 효과를 충분히 발휘할 수 있는 분위기의 감압도 (분위기의 절대압) 의 범위는 상당히 좁고, 대기압의 변동 등의 외적 요인에 의해서도 감압 탈포의 효과가 영향을 받는 것이 문제시되었다. In theory, the higher the decompression degree of the atmosphere above the molten glass (the lower the absolute pressure of the atmosphere), the better the effect of degassing degassing, and the bubbles in the molten glass will decrease. In reality, however, when the degree of decompression of the atmosphere (absolute pressure in the atmosphere) reaches a certain stage, the rate of bubble generation exceeds the bubble extinction rate due to blistering, and the bubble layer is enlarged on the molten glass surface, thereby decompressing the pressure under pressure. The ability is degraded. This phenomenon is called enlargement of the fabric layer due to overpressure. As a result, bubbles in the molten glass flow rather increase. Therefore, the range of the decompression degree (absolute pressure of the atmosphere) of the atmosphere which can fully exhibit the effect of decompression defoaming is considerably narrow, and it was a problem that the effect of decompression defoaming is influenced also by external factors, such as a fluctuation of atmospheric pressure.

상기한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위해, 본 발명은 용융 유리의 감압 탈포의 효과가 우수한 감압 탈포 장치, 더욱 구체적으로는, 과감압에 의한 포층의 비대화에 의해 감압 탈포의 효과가 저하되는 것이 방지된 용융 유리의 감압 탈포 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. MEANS TO SOLVE THE PROBLEM In order to solve said problem of the said prior art, this invention prevents the effect of pressure reduction defoaming by the pressure reduction defoaming apparatus excellent in the effect of the pressure reduction defoaming of molten glass, more specifically, the enlargement of the foam layer by excessive pressure reduction. It is an object to provide a vacuum degassing apparatus of the molten glass.

본 발명자들은 상기 목적을 달성하기 위해 예의 검토한 결과, 용융 유리 표면에서 기포가 파포됨으로써 발생한 가스 성분이, 감압 탈포조 내를 유통하는 용융 유리의 상방에 체류함으로써 감압 탈포의 효과가 저하되는 것을 알아내었다. 이하, 본 명세서에 있어서, 용융 유리 표면에서 기포가 파포됨으로써 발생한 가스 성분을 「용융 유리로부터의 가스 성분」이라고 하고, 용융 유리로부터의 가스 성분이 감압 탈포조 내를 유통하는 용융 유리의 상방에 체류하는 것을 「용융 유리로부터의 가스 성분의 체류」라고 한다. MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnestly examining in order to achieve the said objective, the present inventors know that the gas component which generate | occur | produced by air bubbles | bubble on the molten glass surface stays above the molten glass which distribute | circulates in the pressure reduction degassing tank, and the effect of pressure reduction defoaming falls. Came out. Hereinafter, in this specification, the gas component which generate | occur | produced by bubble | bubble on the molten glass surface is called "gas component from a molten glass," and the gas component from a molten glass stays above the molten glass which distribute | circulates the inside of a pressure reduction degassing tank. What is called "retention of gas component from molten glass" is called.

용융 유리로부터의 가스 성분이 체류하면, 용융 유리 상방의 분위기If the gas component from the molten glass stays, the atmosphere above the molten glass

(감압 탈포조 내부의 용융 유리의 상부 공간) 에서 용융 유리로부터의 가스 성분의 분압이 높아지기 때문에, 용융 유리 표면에서 부상된 기포가 잘 파포되지 않게 되어, 감압 탈포의 효과가 저하되는 것으로 생각된다. Since the partial pressure of the gas component from a molten glass becomes high in (upper space of the molten glass inside a pressure reduction degassing tank), the bubble which floated on the molten glass surface does not bubble well, and it is thought that the effect of pressure reduction defoaming falls.

또, 본 발명자들은 용융 유리로부터의 가스 성분의 체류를 해소함으로써, 용융 유리 표면의 파포 속도가 높아져, 과감압에 의한 포층의 비대화를 억제할 수 있는 것을 알아내었다. Moreover, the present inventors discovered that the breaking rate of the surface of a molten glass becomes high by eliminating the retention of the gas component from a molten glass, and can suppress the enlargement of the foam layer by overpressure.

본 발명은 상기한 본 발명자들의 지견에 기초하여 이루어진 것으로서, 내부의 기압이 대기압 미만으로 설정되고, 공급된 용융 유리 내의 기포를 부상 및 파포 시키는 감압 탈포조와, 상기 감압 탈포조에 접속되고, 탈포 처리 전의 용융 유리를 흡인 상승시켜 그 감압 탈포조에 도입하는 상승관과, 상기 감압 탈포조에 접속되고, 탈포 처리 후의 용융 유리를 그 감압 탈포조로부터 하강시켜 도출하는 하강관을 구비하는 용융 유리의 감압 탈포 장치에 있어서,This invention is made | formed based on the knowledge of the inventors mentioned above, The internal air pressure is set below atmospheric pressure, it is connected to the vacuum degassing tank which raises and breaks the bubble in the molten glass supplied, and is connected to the said vacuum degassing tank, and defoaming Of a molten glass having a rising pipe suctioned up the molten glass before the treatment and introduced into the vacuum degassing tank, and a falling pipe connected to the vacuum degassing tank, and lowering the molten glass after the degassing treatment from the vacuum degassing tank to derive it. In the vacuum degassing apparatus,

적어도 2 개의 접속관에 의해 상기 감압 탈포조와 접속되는 중공 구조의 분위기 제어부를 갖고, 상기 분위기 제어부에는 그 분위기 제어부 내를 배기하여 감압하기 위한 배기구가 형성되어 있고, 상기 분위기 제어부에는, 적어도 1 개의 상기 접속관과의 관계에서 하기 (1) 및 (2) 를 만족하는 제 1 가스 공급관이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 용융 유리의 감압 탈포 장치 (이하, 「본 발명의 감압 탈포 장치」라고 한다) 를 제공한다. The atmosphere control part of the hollow structure connected with the said pressure reduction degassing tank by at least 2 connection pipe | tubes, The atmosphere control part is provided with the exhaust port for evacuating and decompressing the inside of the atmosphere control part, At least 1 said The 1st gas supply pipe | tube which satisfy | fills following (1) and (2) in the relationship with the said connection pipe is formed, The pressure reduction defoaming apparatus of the molten glass (henceforth "the pressure reduction defoaming apparatus of this invention") To provide.

(1) 상기 분위기 제어부와 상기 접속관이 이루는 개구부를, 상기 접속관의 관축 방향을 따라 상기 분위기 제어부 내부로 연장시킨 가상 영역을, 상기 제 1 가스 공급관으로부터 공급되는 가스류가 횡단한다. (1) The gas flow supplied from the said 1st gas supply pipe traverses the virtual area which extended the opening part which the said atmosphere control part and the said connection pipe extends inside the said atmosphere control part along the tube axis direction of the said connection pipe.

(2) 상기 제 1 가스 공급관의 선단으로부터 그 가스 공급관의 관축을 따라 연장시킨 가상선이, 상기 분위기 제어부와 상기 접속관이 이루는 개구부를 통과하지 않는다. (2) An imaginary line extending from the distal end of the first gas supply pipe along the tube axis of the gas supply pipe does not pass through the opening formed by the atmosphere control unit and the connection pipe.

본 발명의 감압 탈포 장치에 있어서, 상기 접속관의 수를 X 로 할 때에, 상기 제 1 가스 공급관의 수가 X-1 이하 (단, 상기 제 1 가스 공급관의 수는 1 이상) 인 것이 바람직하다. In the vacuum degassing apparatus of this invention, when making the number of the said connection pipes into X, it is preferable that the number of the said 1st gas supply pipes is X-1 or less (however, the number of the said 1st gas supply pipes is 1 or more).

본 발명의 감압 탈포 장치에 있어서, 상기 제 1 가스 공급관으로부터 공급되는 가스류가, 수증기 농도 60 ㏖% 이하의 저수분 가스류인 것이 바람직하다. In the vacuum degassing apparatus of this invention, it is preferable that the gas flow supplied from a said 1st gas supply pipe is a low moisture gas flow of 60 mol% or less of water vapor concentration.

본 발명의 감압 탈포 장치에 있어서, 상기 감압 탈포조 내의 용융 유리의 상부 공간에 수증기 농도 60 ㏖% 이하의 저수분 가스를 공급하는 제 2 가스 공급관이 추가로 형성되어 있는 것이 바람직하다. In the vacuum degassing apparatus of this invention, it is preferable that the 2nd gas supply pipe which supplies the low moisture gas of 60 mol% or less of water vapor concentration to the upper space of the molten glass in the said vacuum degassing tank is further formed.

본 발명의 감압 탈포 장치에서는, 제 1 가스 공급관으로부터 가상 영역을 횡단하도록 가스류를 공급함으로써 발생하는 벤튜리 효과에 의해 분위기 제어부와 감압 탈포조 사이에 압력차가 발생하여, 이 압력차에 의해 분위기 제어부와 감압 탈포조를 순환하는 가스류가 발생한다. 이 가스류에 의해, 용융 유리로부터의 가스 성분의 체류를 해소할 수 있다. 용융 유리로부터의 가스 성분의 체류가 해소됨으로써, 감압 탈포의 효과의 저하가 방지된다. In the pressure reduction degassing apparatus of this invention, the pressure difference generate | occur | produces between an atmosphere control part and a pressure reduction degassing tank by the venturi effect which generate | occur | produces a gas flow so that it may cross a virtual region from a 1st gas supply pipe | tube, and this pressure difference causes an atmosphere control part. And a gas stream circulating in the vacuum degassing tank is generated. By this gas flow, retention of the gas component from a molten glass can be eliminated. The retention of the gas component from a molten glass is eliminated, and the fall of the effect of pressure reduction defoaming is prevented.

또, 용융 유리로부터의 가스 성분의 체류가 해소됨으로써, 과감압에 의한 포층의 비대화가 잘 발생하지 않게 된다. 이 결과, 감압 탈포조 내의 감압도를 더욱 높게 할 수 있어, 감압 탈포의 효과를 향상시킬 수 있다. Moreover, since the retention of the gas component from the molten glass is eliminated, the enlargement of the cloth layer due to overpressure is less likely to occur. As a result, the pressure reduction degree in a pressure reduction degassing tank can be made higher, and the effect of pressure reduction defoaming can be improved.

제 1 가스 공급관으로부터 공급되는 가스로서 수증기 농도 60 ㏖% 이하의 저수분 가스를 사용한 경우, 용융 유리로부터의 가스 성분의 체류가 해소되는 효과에 추가하여, 감압 탈포조 내의 용융 유리 상방의 분위기에서, 수증기 농도가 저감되는 효과가 기대된다. 그 분위기의 수증기 농도가 저감됨으로써, 감압 탈포조 내의 용융 유리 표면의 포층이 비대화되어 돌비 (突沸) 가 발생하는 것을 방지할 수 있어, 감압 탈포의 효과를 더욱 향상시킬 수 있다. In the case where a low moisture gas having a water vapor concentration of 60 mol% or less is used as the gas supplied from the first gas supply pipe, in addition to the effect that the retention of the gas component from the molten glass is eliminated, in an atmosphere above the molten glass in the vacuum degassing tank, The effect of reducing the water vapor concentration is expected. By reducing the vapor concentration of the atmosphere, it is possible to prevent the bubble layer on the surface of the molten glass in the vacuum degassing tank from being enlarged and to generate a dolby, thereby further improving the effect of vacuum degassing.

또, 그 분위기의 수증기 농도가 저감됨으로써, 용융 유리 내의 휘산되기 쉬운 특정 성분, 예를 들어, B, Cl, F, S 등의 휘산을 억제할 수 있어, 이들 성분의 휘산에 의한 유리 조성의 변화를 억제할 수 있다. Moreover, since the vapor concentration of the atmosphere is reduced, volatilization of specific components which are liable to volatilize in molten glass, for example, B, Cl, F, S, etc. can be suppressed, and the change of the glass composition by volatilization of these components can be suppressed. Can be suppressed.

도 1 은 본 발명의 감압 탈포 장치의 일 구성예를 나타내는 단면도이다.
도 2 는 감압 탈포 장치 (10) 의 가상 영역 (19) 부근을 나타낸 부분 확대도이다.
도 3 은 도 2 와 동일한 부분 확대도이다.
도 4 는 도 2 와 동일한 부분 확대도이다.
도 5 는 도 2 와 동일한 부분 확대도이다.
도 6 은 도 2 와 동일한 부분 확대도이다.
도 7 은 도 2 와 동일한 부분 확대도이다.
도 8 은 본 발명의 감압 탈포 장치의 다른 일 구성예를 나타내는 단면도이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing which shows one structural example of the vacuum degassing apparatus of this invention.
2 is a partially enlarged view showing the vicinity of the virtual region 19 of the vacuum degassing apparatus 10.
3 is a partially enlarged view similar to FIG. 2.
4 is a partially enlarged view similar to FIG. 2.
FIG. 5 is a partially enlarged view similar to FIG. 2.
FIG. 6 is a partially enlarged view similar to FIG. 2.
FIG. 7 is a partially enlarged view similar to FIG. 2.
It is sectional drawing which shows the other structural example of the vacuum degassing apparatus of this invention.

발명을 실시하기Carrying out the invention 위한 최선의 형태 Best form for

이하, 도면을 참조하여 본 발명을 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described with reference to the drawings.

도 1 은 본 발명의 감압 탈포 장치의 일 구성예를 나타내는 단면도이다. 도 1 에 나타내는 감압 탈포 장치 (10) 는, 원통 형상을 한 감압 탈포조 (11) 를 갖는다. 감압 탈포조 (11) 는 내부의 기압이 대기압 미만으로 설정되어 있고, 공급된 용융 유리 (G) 중의 기포를 부상 및 파포시킨다. 감압 탈포조 (11) 에는, 상승관 (12) 및 하강관 (13) 이 접속되어 있다. 상승관 (12) 은 탈포 처리 전의 용융 유리 (G) 를 흡인 상승시켜 그 감압 탈포조 (11) 에 도입하는 용융 유리 (G) 의 도입 수단이다. 이 때문에, 상승관 (12) 의 하단부는 상류 피트 (220) 내의 용융 유리 (G) 에 침지되어 있다. 상류 피트 (220) 에는, 용해조 (200) 로부터 용융 유리 (G) 가 공급된다. 한편, 하강관 (13) 은 탈포 처리 후의 용융 유리 (G) 를 그 감압 탈포조 (11) 로부터 하강시켜 도출하는 용융 유리 (G) 의 도출 수단이다. 이 때문에, 하강관 (13) 의 하단부는, 하류 피트 (240) 내의 용융 유리 (G) 에 침지되어 있다. 하류 피트 (240) 내의 용융 유리 (G) 는 후공정의 처리조 (도시하지 않음) 로 도출된다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing which shows one structural example of the vacuum degassing apparatus of this invention. The pressure reduction degassing apparatus 10 shown in FIG. 1 has the pressure reduction defoaming tank 11 which made the cylindrical shape. The inside of the pressure reduction degassing tank 11 is set to less than atmospheric pressure, and makes the bubble in the supplied molten glass G float and break up. The rising pipe 12 and the downfalling pipe 13 are connected to the vacuum degassing tank 11. The riser 12 is a means for introducing molten glass G that suction-raises the molten glass G before the defoaming treatment and introduces the molten glass G into the vacuum degassing tank 11. For this reason, the lower end part of the riser 12 is immersed in the molten glass G in the upstream pit 220. The molten glass G is supplied from the dissolution tank 200 to the upstream pit 220. On the other hand, the downcomer 13 is a derivation means of the molten glass G which descend | flows the molten glass G after degassing | defoaming process from the pressure reduction degassing tank 11, and is guide | induced. For this reason, the lower end of the downcomer 13 is immersed in the molten glass G in the downstream pit 240. The molten glass G in the downstream pit 240 is led to the processing tank (not shown) of a post process.

이하, 본 명세서에서 「상류」및 「하류」라고 한 경우, 감압 탈포 장치 (10) 를 유통하는 용융 유리 (G) 의 유동 방향에서의 상류 및 하류를 의미한다. Hereinafter, when it says "upstream" and "downstream" in this specification, it means the upstream and downstream in the flow direction of the molten glass G which distributes the pressure reduction degassing apparatus 10.

또한, 도시하지 않지만, 감압 탈포조 (11) 는 통상 감압 하우징 내에 수용되어 있고, 감압 하우징을 감압 흡인함으로써, 감압 탈포조 (11) 내부의 기압을 대기압 미만의 감압 상태로 유지한다. 한편, 감압 탈포조 (11) 가 감압 하우징 내에 수용되어 있지 않은 경우, 감압 탈포조 (11) 의 용융 유리 (G) 의 상부 공간을, 감압 펌프 등을 이용하여 감압 흡인함으로써, 감압 탈포조 (11) 내부의 기압을 대기압 미만의 감압 상태로 유지한다. In addition, although not shown in figure, the pressure reduction degassing tank 11 is normally accommodated in the pressure reduction housing, and the pressure inside the pressure reduction degassing tank 11 is maintained in the pressure reduction state below atmospheric pressure by vacuum-reducing the pressure reduction housing. On the other hand, when the pressure reduction degassing tank 11 is not accommodated in the pressure reduction housing, the pressure reduction degassing tank 11 is carried out by aspirating the upper space of the molten glass G of the pressure reduction degassing tank 11 using a pressure reduction pump etc. The internal air pressure is kept at a reduced pressure below atmospheric pressure.

본 발명의 감압 탈포 장치 (10) 는, 적어도 2 개의 접속관 (15, 16) 에 의해 감압 탈포조 (11) 와 접속되는 분위기 제어부 (14) 를 갖고 있다. 분위기 제어부 (14) 는 내부가 중공 구조이며, 그 분위기 제어부 (14) 내를 배기하여 감압하기 위한 배기구 (17) 가 형성되어 있다. 분위기 제어부 (14) 는 그 분위기 제어부 (14) 와, 감압 탈포조 (11) 내 용융 유리 (G) 의 상부 공간을 순환하는 가스류 (120) 의 경로를 이룬다. 따라서, 본 발명의 감압 탈포 장치 (10) 에서는, 배기구 (17) 로부터 분위기 제어부 (14) 내를 배기하여 감압함으로써, 감압 탈포조 (11) 내부의 기압을 대기압 미만의 감압 상태로 유지한다. 감압 탈포 장치 (10) 가 감압 하우징을 갖는 경우, 감압 하우징을 감압 흡인함으로써, 배기구 (17) 로부터 분위기 제어부 (14) 내가 배기되어 감압됨으로써, 감압 탈포조 (11) 내부의 기압이 대기압 미만의 감압 상태로 유지된다. 한편, 감압 탈포조 (11) 가 감압 하우징을 갖지 않는 경우, 배기구 (17) 로부터 분위기 제어부 (14) 내를, 감압 펌프 등을 이용하여 배기하여 감압함으로써, 감압 탈포조 (11) 내부의 기압을 대기압 미만의 감압 상태로 유지한다. The vacuum degassing apparatus 10 of this invention has the atmosphere control part 14 connected with the vacuum degassing tank 11 by the at least 2 connection pipes 15 and 16. FIG. The atmosphere control unit 14 has a hollow structure, and an exhaust port 17 for evacuating the inside of the atmosphere control unit 14 to reduce the pressure is formed. The atmosphere control part 14 forms the path | route of the gas flow part 120 which circulates through the atmosphere control part 14 and the upper space of the molten glass G in the pressure reduction degassing tank 11. As shown in FIG. Therefore, in the pressure reduction degassing apparatus 10 of this invention, the pressure inside the pressure reduction degassing tank 11 is maintained in the pressure reduction state below atmospheric pressure by evacuating and depressurizing the inside of the atmosphere control part 14 from the exhaust port 17. FIG. When the decompression degassing apparatus 10 has a decompression housing, by depressurizing | suctioning a decompression housing, the inside of the atmosphere control part 14 is exhausted and depressurized from the exhaust port 17, and the air pressure in the decompression degassing tank 11 is reduced to less than atmospheric pressure. Stays in the state. On the other hand, when the pressure reduction degassing tank 11 does not have a pressure reduction housing, the pressure inside the pressure reduction degassing tank 11 is reduced by evacuating the inside of the atmosphere control part 14 from the exhaust port 17 using a pressure reduction pump etc., and depressurizing it. Maintain the reduced pressure below atmospheric pressure.

여기에서, 분위기 제어부 (14) 는 그 분위기 제어부 (14) 와, 감압 탈포조 (11) 내 용융 유리 (G) 의 상부 공간을 순환하는 가스류 (120) 의 경로를 이루기 때문에, 접속관 (15, 16) 은 감압 탈포조 (11) 내 용융 유리 (G) 의 액면보다 상방에서 감압 탈포조 (11) 와 접속할 필요가 있다. 이 때문에, 도 1 에 나타내는 바와 같이 분위기 제어부 (14) 를 감압 탈포조 (11) 의 상방에 배치하는 것은 바람직한 양태이다. 단, 접속관 (15, 16) 이 감압 탈포조 (11) 내 용융 유리 (G) 의 액면보다 상방에서 감압 탈포조 (11) 와 접속되는 것이면, 분위기 제어부 (14) 를 감압 탈포조 (11) 의 측방에 배치해도 된다. Here, since the atmosphere control part 14 forms the path | route of the atmosphere control part 14 and the gas flow 120 which circulates through the upper space of the molten glass G in the pressure reduction degassing tank 11, the connection pipe 15 , 16 needs to be connected to the pressure reduction degassing tank 11 above the liquid level of the molten glass G in the pressure reduction degassing tank 11. For this reason, it is a preferable aspect to arrange | position the atmosphere control part 14 above the pressure reduction degassing tank 11 as shown in FIG. However, if the connection pipes 15 and 16 are connected with the pressure reduction degassing tank 11 above the liquid level of the molten glass G in the pressure reduction degassing tank 11, the atmosphere control part 14 will reduce the pressure reduction degassing tank 11 You may arrange | position to the side of.

또, 그 분위기 제어부 (14) 와, 감압 탈포조 (11) 내 용융 유리 (G) 의 상부 공간을 순환하는 가스류 (120) 의 경로를 형성하기 위해, 접속관 (15, 16) 은 적어도 2 개 필요하다. 또한, 도 1 에 나타내는 감압 탈포 장치 (10) 에서는, 2 개의 접속관 (15, 16) 에서 감압 탈포조 (11) 와 분위기 제어부 (14) 를 접속시키고 있는데, 3 개 이상의 접속관으로 감압 탈포조 (11) 와 분위기 제어부 (14) 를 접속시켜도 된다. Moreover, in order to form the path | route of the gas flow part 120 which circulates through the atmosphere control part 14 and the upper space of the molten glass G in the pressure reduction degassing tank 11, connection pipes 15 and 16 are at least two. I need a dog. In addition, in the pressure reduction degassing apparatus 10 shown in FIG. 1, although the pressure reduction degassing tank 11 and the atmosphere control part 14 are connected in two connection pipes 15 and 16, a pressure reduction degassing tank is carried out by three or more connection tubes. You may connect the 11 and the atmosphere control part 14.

또, 감압 탈포조 (11) 에 유입되는 가스류 (120) 의 온도가 낮으면, 감압 탈포조 (11) 내 용융 유리 (G) 에 악영향을 미칠 우려가 있기 때문에, 분위기 제어부 (14), 및 접속관 (15, 16) 은 가열 기구를 갖는 것이 바람직하다. 단, 분위기 제어부 (14), 및 모든 접속관 (15, 16) 에 가열 기구를 반드시 형성할 필요는 없고, 적어도 감압 탈포조 (11) 에 가스류 (120) 가 유입되는 측의 접속관 (도 1 의 경우, 접속관 (15)) 에 가열 기구를 형성하면, 감압 탈포조 (11) 에 온도가 낮은 가스류 (120) 가 유입되어, 감압 탈포조 (11) 내 용융 유리 (G) 에 악영향을 미칠 우려를 해소할 수 있다. Moreover, when the temperature of the gas flow 120 which flows into the pressure reduction degassing tank 11 is low, since there exists a possibility that it may adversely affect the molten glass G in the pressure reduction degassing tank 11, the atmosphere control part 14 and It is preferable that the connection pipes 15 and 16 have a heating mechanism. However, it is not necessary to necessarily provide a heating mechanism in the atmosphere control part 14 and all the connection pipes 15 and 16, and the connection pipe of the side which the gas flow 120 flows into the pressure reduction degassing tank 11 at least (FIG. In the case of 1, when a heating mechanism is formed in the connection pipe 15, the gas stream 120 with low temperature flows into the pressure reduction degassing tank 11, and it adversely affects the molten glass G in the pressure reduction degassing tank 11. It can solve the concern that it may cause.

본 발명의 감압 탈포 장치 (10) 에는, 분위기 제어부 (14) 내에 가스를 공급하는 제 1 가스 공급관 (20) 이 형성되어 있다. 여기서, 제 1 가스 공급관 (20) 은 적어도 1 개의 접속관 (도 1 의 경우, 접속관 (16)) 과의 관계에서 하기 (1), (2) 를 만족한다. In the vacuum degassing apparatus 10 of this invention, the 1st gas supply pipe 20 which supplies a gas in the atmosphere control part 14 is provided. Here, the first gas supply pipe 20 satisfies the following (1) and (2) in relation to at least one connection pipe (in the case of FIG. 1, the connection pipe 16).

(1) 분위기 제어부 (14) 와 접속관 (16) 이 이루는 개구부 (18) 를, 접속관 (16) 의 관축 방향을 따라 분위기 제어부 (14) 내부로 연장시킨 가상 영역 (19) (도 1 의 경우, 분위기 제어부 (14) 내에서 개구부 (18) 의 상방의 영역) 을, 제 1 가스 공급관 (20) 으로부터 공급되는 가스 (100) 가 횡단한다. (1) The virtual region 19 which extended the opening part 18 which the atmosphere control part 14 and the connection pipe 16 make into the atmosphere control part 14 along the tube axis direction of the connection pipe 16 (FIG. 1) In this case, the gas 100 supplied from the first gas supply pipe 20 traverses the region above the opening 18 in the atmosphere control unit 14.

(2) 제 1 가스 공급관 (20) 의 선단으로부터 그 가스 공급관 (20) 의 관축을 따라 연장시킨 가상선 (21) (도 5 참조) 이, 분위기 제어부 (14) 와 접속관 (16) 이 이루는 개구부 (18) 를 통과하지 않는다. (2) The atmosphere control part 14 and the connection pipe 16 form the imaginary line 21 (refer FIG. 5) extended along the tube axis of the gas supply pipe 20 from the front end of the first gas supply pipe 20. It does not pass through the opening 18.

이하, (1), (2) 를 만족할 필요가 있는 이유에 대해 설명한다. The reason why it is necessary to satisfy (1) and (2) is described below.

제 1 가스 공급관 (20) 으로부터, 개구부 (18) 상방의 가상 영역 (19) 을 횡단하도록 가스류 (100) 를 공급하면, 베르누이 법칙 (식 (1)) 에 따라 제 1 가스 공급관 (20) 의 출구 부근의 압력이 저하되어, 벤튜리 효과가 발생한다.When the gas stream 100 is supplied from the first gas supply pipe 20 so as to cross the virtual region 19 above the opening 18, the first gas supply pipe 20 is connected according to the Bernoulli law (formula (1)). The pressure in the vicinity of the outlet drops, and a Venturi effect occurs.

p/ρ+v2/2g+z=const (1) p / ρ + v 2 / 2g + z = const (1)

p : 제 1 가스 공급관 (20) 의 출구 주변의 압력 (Pa), ρ: 가스류 (100) 의 밀도 (㎏/㎥), g : 중력 가속도 (m/s), v : 가스류 (100) 의 유속 (m/s), z : 분위기 제어부 (14) 내에서의 제 1 가스 공급관 (20) 의 출구부의 높이 (분위기 제어부 저면으로부터의 높이) (m) p: pressure Pa around the outlet of the first gas supply pipe 20, ρ: density of the gas stream 100 (kg / m 3), g: gravitational acceleration (m / s), v: gas stream 100 Flow velocity (m / s), z: height of the outlet portion of the first gas supply pipe 20 in the atmosphere control unit 14 (height from the bottom of the atmosphere control unit) (m)

이 결과, 감압 탈포조 (11) 와의 사이에 압력 구배가 발생하여, 개구부 (18) 부근의 압력이 감압 탈포조 (11) 에 비해 압력이 낮아지는 압력차가 발생한다. 이 압력차에 의해, 개구부 (18) 부근의 압력 (즉, 접속관 (16) 측의 압력) 이 낮아져, 분위기 제어부 (14) 와 접속관 (15) 이 이루는 개구부로부터 감압 탈포조 (11) 를 통과하여 개구부 (18) 에 이르는 영역에 압력 구배가 발생한다. 이 결과, 분위기 제어부 (14) 와, 감압 탈포조 (11) 내 용융 유리 (G) 의 상방 공간을 순환하는 가스류 (이하, 「분위기 제어부와 감압 탈포조를 순환하는 가스류」라고 한다) (120) 가 발생한다. As a result, a pressure gradient occurs between the pressure reduction degassing tank 11 and the pressure difference which the pressure in the vicinity of the opening part 18 becomes low compared with the pressure reduction defoaming tank 11 arises. By this pressure difference, the pressure in the vicinity of the opening part 18 (that is, the pressure of the connection pipe 16 side) becomes low, and the pressure reduction degassing tank 11 is opened from the opening part which the atmosphere control part 14 and the connection pipe 15 make. A pressure gradient occurs in the region passing through the opening 18. As a result, the gas flow which circulates the upper space of the atmosphere control part 14 and the molten glass G in the pressure reduction degassing tank 11 (henceforth "gas flow which circulates an atmosphere control part and a pressure reduction degassing tank") ( 120) occurs.

여기에서, 분위기 제어부와 감압 탈포조를 순환하는 가스류 (120) 를 발생시키는 데 충분한 압력차를 발생시키는 데 필요한 가스류 (100) 의 유속 v 는, 가스류 (100) 의 밀도 ρ, 분위기 제어부 (14) 내에서의 제 1 가스 공급관 (20) 의 출구부의 높이 z, 및 개구부 (18) 의 면적 A 에 따라서도 상이한데, 가스류 (100) 의 유속 v 가 하기 식 (2) 를 만족하면, 분위기 제어부와 감압 탈포조를 순환하는 가스류 (120) 를 발생시키는 데 충분한 압력차가 발생하게 된다. Here, the flow rate v of the gas flow 100 required to generate a pressure difference sufficient to generate the gas flow 120 circulating the atmosphere control unit and the degassing degassing tank is the density ρ of the gas flow 100, the atmosphere control unit. Although it also differs according to the height z of the exit part of the 1st gas supply pipe 20 in the inside of 14, and the area A of the opening part 18, when the flow velocity v of the gas stream 100 satisfies following formula (2) The pressure difference sufficient to generate the gas flow 120 circulating through the atmosphere control unit and the reduced pressure degassing tank is generated.

v>A/0.031×[5.487×10-6×(1/56.353-1/ρ)+19.6×(0.163-z)+7.52]1/2 (2) v> A / 0.031 × [5.487 × 10 -6 × (1 / 56.353-1 / ρ) + 19.6 × (0.163-z) +7.5 2 ] 1/2 (2)

가스류 (100) 의 유속 v 는, 하기 식 (3) 을 만족하는 것이 보다 바람직하고, 하기 식 (4) 를 만족하는 것이 더욱 바람직하다. As for the flow velocity v of the gas stream 100, it is more preferable to satisfy following formula (3), and it is still more preferable to satisfy following formula (4).

v>A/0.031×[5.487×10-6×(1/56.353-1/ρ)+19.6×(0.163-z)+8.42]1/2 (3) v> A / 0.031 × [5.487 × 10 -6 × (1 / 56.353-1 / ρ) + 19.6 × (0.163-z) +8.4 2 ] 1/2 (3)

v>A/0.031×[5.487×10-6×(1/56.353-1/ρ)+19.6×(0.163-z)+9.82]1/2 (4) v> A / 0.031 × [5.487 × 10 -6 × (1 / 56.353-1 / ρ) + 19.6 × (0.163-z) +9.8 2 ] 1/2 (4)

분위기 제어부 (14) 와 감압 탈포조 (11) 를 순환하는 가스류 (120) 가 발생하는 결과, 용융 유리 (G) 로부터의 가스 성분의 체류를 해소한다. 즉, 용융 유리 (G) 로부터의 가스 성분은 체류하지 않고, 가스류 (120) 에 의해 분위기 제어부 (14) 로 옮겨진다. 분위기 제어부 (14) 에 옮겨진 용융 유리 (G) 로부터의 가스 성분은, 배기구 (17) 로부터 외부로 방출된다. 분위기 제어부 (14) 로 옮겨진 용융 유리 (G) 로부터의 가스 성분의 일부가, 가스류 (120) 에 의해 옮겨져 감압 탈포조 (11) 내 용융 유리 (G) 의 상방 공간으로 돌아오는 경우도 있는데, 감압 탈포조 (11) 내 용융 유리 (G) 의 분위기 제어부 (14) 와 감압 탈포조 (11) 를 순환하는 가스류 (120) 가 존재하는 점, 및 용융 유리 (G) 로부터의 가스 성분은 가스류 (120) 에 의해 희석되어 있는 점에서, 용융 유리 (G) 로부터의 가스 성분의 체류 위험은 최소한으로 억제되어 있다. 또한, 용융 유리 (G) 로부터의 가스 성분이 가스류 (120) 에 의해 희석됨으로써, 용융 유리 (G) 로부터의 가스 성분이 냉각되는 과정에서 감압 탈포 장치 (10) 내에 부착되거나, 배기구 (17) 로부터 방출된 후, 계 내에 부착되는 것이 방지된다. As a result of the gas flow 120 circulating through the atmosphere control unit 14 and the vacuum degassing tank 11, the retention of the gas component from the molten glass G is eliminated. That is, the gas component from the molten glass G does not stay, but is transferred to the atmosphere control part 14 by the gas flow 120. The gas component from the molten glass G transferred to the atmosphere control part 14 is discharged | emitted from the exhaust port 17 to the outside. A part of the gas component from the molten glass G transferred to the atmosphere control part 14 may be moved by the gas flow 120, and may return to the upper space of the molten glass G in the pressure reduction degassing tank 11, The gas component 120 which circulates the atmosphere control part 14 and the pressure reduction degassing tank 11 of the molten glass G in the pressure reduction degassing tank 11 exists, and the gas component from the molten glass G is a gas. In terms of dilution by the stream 120, the risk of retention of the gas component from the molten glass G is minimized. In addition, since the gas component from the molten glass G is diluted by the gas flow 120, it adheres in the vacuum degassing apparatus 10 in the process of cooling the gas component from the molten glass G, or the exhaust port 17 After being released from, it is prevented from adhering to the system.

용융 유리 (G) 로부터의 가스 성분이 체류하면, 감압 탈포조 (11) 내 용융 유리 (G) 상방의 분위기에 있어서, 용융 유리 (G) 로부터의 가스 성분의 분압이 높아지기 때문에, 용융 유리 (G) 표면에 부상된 기포가 잘 파포되지 않게 되어 감압 탈포의 효과가 저하되는 것으로 생각된다. When the gas component from the molten glass G stays, since the partial pressure of the gas component from the molten glass G increases in the atmosphere above the molten glass G in the pressure reduction degassing tank 11, the molten glass G ) Bubbles floating on the surface are less likely to be broken, and the effect of reduced pressure defoaming is deteriorated.

본 발명의 감압 탈포 장치 (10) 에서는, 용융 유리 (G) 로부터의 가스 성분의 체류가 해소됨으로써, 감압 탈포의 효과 저하가 일어나지 않아, 감압 탈포의 효과가 우수하다. In the vacuum degassing apparatus 10 of this invention, since the retention of the gas component from the molten glass G is eliminated, the effect fall of vacuum degassing | defoaming does not occur, and the effect of pressure reduction defoaming is excellent.

또, 용융 유리 (G) 로부터의 가스 성분이 체류하면, 과감압에 의한 포층의 비대화가 일어나, 감압 탈포의 효과가 대폭 저하되지만, 본 발명의 감압 탈포 장치 (10) 에서는, 용융 유리 (G) 로부터의 가스 성분의 체류가 해소되기 때문에, 감압 탈포조 (11) 의 감압도를 종래보다 높게 해도 과감압에 의한 포층의 비대화를 억제할 수 있게 된다. 따라서, 감압 탈포조 (11) 의 감압도를 종래보다 높게 할 수 있어 (감압 탈포조 (11) 의 절대압을 종래보다 낮게 할 수 있어), 감압 탈포의 효과를 더욱 높일 수 있다. Moreover, when the gas component from molten glass G stays, enlargement of the foam layer by overpressure will occur, and the effect of pressure reduction defoaming will fall significantly, but in the pressure reduction defoaming apparatus 10 of this invention, molten glass G Since the retention of the gas component from the solution is eliminated, it is possible to suppress the enlargement of the fabric layer due to excessive depressurization even if the pressure reduction degree of the vacuum degassing tank 11 is higher than before. Therefore, the pressure reduction degree of the pressure reduction degassing tank 11 can be made higher than before (the absolute pressure of the pressure reduction degassing tank 11 can be made lower than before), and the effect of pressure reduction defoaming can be heightened further.

도 1 에 나타내는 바와 같이 분위기 제어부 (14) 와 감압 탈포조 (11) 를 순환하는 가스류 (120) 가 발생하였을 때, 접속관 (16) 은 가스류 (120) 를 감압 탈포조 (11) 로부터 도출하는 가스류 도출관을 이루고, 접속관 (15) 은 가스류 (120) 를 감압 탈포조 (11) 에 도입하는 가스류 도입관을 이룬다. 따라서, 도 1 에 나타내는 감압 탈포 장치 (10) 와 같이 2 개의 접속관 (15, 16) 을 갖는 경우, 어느 일방의 접속관과의 관계에서 상기 (1), (2) 를 만족하는 제 1 가스 공급관을 형성할 필요가 있고, 타방의 접속관과의 관계에서는 상기 (1), (2) 를 만족하는 제 1 가스 공급관을 형성해서는 안된다. 한편, 감압 탈포 장치가 3 개 이상의 접속관을 갖는 경우, 2 개 이상의 접속관과의 관계에서 상기 (1), (2) 를 만족하는 제 1 가스 공급관을 형성해도 되는데, 적어도 1 개의 접속관과의 관계에서는 상기 (1), (2) 를 만족하는 제 1 가스 공급관을 형성해서는 안된다. As shown in FIG. 1, when the gas flow 120 which circulates the atmosphere control part 14 and the pressure reduction degassing tank 11 generate | occur | produces, the connection pipe 16 discharges the gas stream 120 from the pressure reduction degassing tank 11 The derivation gas flow lead-out tube is formed, and the connection pipe 15 forms a gas flow introduction tube through which the gas flow 120 is introduced into the pressure reduction degassing tank 11. Therefore, when it has two connection pipes 15 and 16 like the vacuum degassing apparatus 10 shown in FIG. 1, the 1st gas which satisfy | fills said (1), (2) in relationship with either connection pipe | tube. It is necessary to form a supply pipe, and in the relationship with the other connection pipe, the first gas supply pipe that satisfies the above (1) and (2) should not be formed. On the other hand, when the pressure reduction degassing apparatus has three or more connection tubes, although the 1st gas supply pipe which satisfy | fills said (1) and (2) may be formed in relationship with two or more connection tubes, at least 1 connection tube and In the relation, the first gas supply pipe satisfying the above (1) and (2) should not be formed.

즉, 본 발명의 감압 탈포 장치에 있어서, 접속관의 수를 X 로 할 때에, 제 1 가스 공급관의 수가 X-1 이하 (단, 제 1 가스 공급관의 수는 1 이상) 로 할 필요가 있다. That is, in the vacuum degassing apparatus of this invention, when making the number of connection pipe | tubes into X, the number of 1st gas supply pipes needs to be X-1 or less (however, the number of 1st gas supply pipe | tubes is 1 or more).

개구부 (18) 부근의 압력이 감압 탈포조 (11) 에 비해 압력이 낮아지는 압력차를 발생시키기 위해서는, 제 1 가스 공급관 (20) 으로부터 공급되는 가스류 (100) 가 가상 영역 (19) 을 횡단할 필요가 있다. 도 1 에서는, 제 1 가스 공급관 (20) 의 선단이 가상 영역 (19) 내에 위치하고 있고, 그 가상 영역 (19) 을 횡단하도록, 상류 방향을 향해 가스류 (100) 를 공급한다. 도 2 는 감압 탈포 장치 (10) 의 가상 영역 (19) 의 부근을 나타낸 부분 확대도이며, 제 1 가스 공급관 (20) 의 선단의 위치가 도 1 과는 상이하다. 도 2 에서는, 제 1 가스 공급관 (20) 의 선단이 가상 영역 (19) 보다 하류측에 위치하고 있고, 상류 방향을 향해 가스류 (100) 를 공급한다. 가상 영역 (19) 을 횡단하도록, 상류 방향을 향해 가스류 (100) 를 공급한다. 가스류 (100) 의 유속이 충분히 커, 가상 영역 (19) 을 횡단하도록 가스류 (100) 를 공급할 수 있는 것이면, 이러한 배치여도 된다. In order to generate a pressure difference in which the pressure in the vicinity of the opening 18 is lower than the pressure reduction degassing tank 11, the gas stream 100 supplied from the first gas supply pipe 20 crosses the virtual region 19. Needs to be. In FIG. 1, the tip of the first gas supply pipe 20 is located in the virtual region 19, and supplies the gas flow 100 toward the upstream direction so as to cross the virtual region 19. FIG. 2 is a partially enlarged view showing the vicinity of the virtual region 19 of the vacuum degassing apparatus 10, and the position of the tip of the first gas supply pipe 20 is different from that in FIG. In FIG. 2, the front end of the first gas supply pipe 20 is located downstream from the virtual region 19, and supplies the gas flow 100 toward the upstream direction. The gas flow 100 is supplied toward the upstream direction so as to traverse the imaginary region 19. Such arrangement may be sufficient as long as the flow velocity of the gas flow 100 is sufficiently large and the gas flow 100 can be supplied to cross the virtual region 19.

또, 도 1 의 감압 탈포 장치 (10) 에서는, 분위기 제어부 (14) 의 상방으로부터 삽입된 제 1 가스 공급관 (20) 의 선단을 상류 방향으로 만곡시킴으로써, 그 가상 영역 (19) 을 횡단하도록, 상류 방향을 향해 가스류 (100) 를 공급하였는데, 분위기 제어부 (14) 의 하류측 단면 (端面) 으로부터 수평 방향으로 제 1 가스 공급관을 삽입하여, 그 가상 영역 (19) 을 횡단하도록, 상류 방향을 향해 가스류 (100) 를 공급해도 된다. In the vacuum degassing apparatus 10 of FIG. 1, the upstream end of the first gas supply pipe 20 inserted from above the atmosphere control unit 14 is curved in the upstream direction so as to traverse the virtual region 19. The gas stream 100 was supplied in the direction, but the first gas supply pipe was inserted in the horizontal direction from the downstream end surface of the atmosphere control unit 14, and the gas stream 100 was crossed so as to traverse the virtual region 19. The gas stream 100 may be supplied.

한편, 도 3 은 도 2 와 동일한 부분 확대도인데, 선단이 가상 영역 (19) 보다 하류측에 위치하는 제 1 가스 공급관 (20) 으로부터 하류 방향을 향해 가스류 (100) 를 공급한다. 이 경우, 가스류 (100) 가 가상 영역 (19) 을 횡단하지 않기 때문에, 상기 (1) 을 만족하지 않고, 개구부 (18) 부근의 압력이 감압 탈포조 (11) 에 비해 압력이 낮아지는 압력차를 발생시킬 수 없다. 도 3 과 동일한 배치라도, 제 1 가스 공급관 (20) 의 선단이 가상 영역 (19) 보다 상류측에 위치하고, 하류 방향을 향해 가스류 (100) 를 공급한 경우, 가스류 (100) 가 가상 영역 (19) 을 횡단하기 때문에, 상기 (1) 을 만족하여, 개구부 (18) 부근의 압력이 감압 탈포조 (11) 에 비해 압력이 낮아지는 압력차를 발생시킬 수 있다. 3 is a partial enlarged view similar to FIG. 2, the gas supply 100 being supplied downstream from the first gas supply pipe 20 whose tip is located downstream from the virtual region 19. In this case, since the gas flow 100 does not cross the imaginary region 19, the pressure in which the pressure in the vicinity of the opening 18 is lower than that of the reduced pressure degassing tank 11 without satisfying the above (1). Can't generate a car. Even in the same arrangement as that in FIG. 3, when the front end of the first gas supply pipe 20 is located upstream from the virtual region 19 and the gas flow 100 is supplied toward the downstream direction, the gas flow 100 is a virtual region. Since crossing (19) is satisfy | filled, it can satisfy | fill said (1), and can generate the pressure difference which pressure becomes low compared with the pressure reduction degassing tank 11 in the pressure of the opening part 18.

또, 도 4 는 도 2 와 동일한 부분 확대도인데, 제 1 가스 공급관 (20) 의 선단의 방향이 도 2 와는 상이하고, 비스듬히 하방을 향하고 있다. 이 경우, 제 1 가스 공급관 (20) 으로부터 공급되는 가스류 (100) 가 가상 영역 (19) 보다 앞쪽 (하류측) 의 분위기 제어부 (14) 의 저부를 향해 공급되게 되기 때문에, 가스류 (100) 가 가상 영역 (19) 을 횡단하지 않아, 상기 (1) 을 만족하지 않아, 개구부 (18) 부근의 압력이 감압 탈포조 (11) 에 비해 압력이 낮아지는 압력차를 발생시킬 수 없다. 4 is a partial enlarged view similar to FIG. 2, wherein the direction of the tip of the first gas supply pipe 20 is different from that in FIG. 2 and faces obliquely downward. In this case, since the gas flow 100 supplied from the 1st gas supply pipe 20 is supplied toward the bottom of the atmosphere control part 14 ahead (downstream) of the virtual area 19, the gas flow 100 Does not traverse the imaginary region 19, does not satisfy the above (1), and a pressure difference in which the pressure in the vicinity of the opening 18 is lower than that of the reduced pressure degassing tank 11 can not be generated.

개구부 (18) 부근의 압력이 감압 탈포조 (11) 에 비해 압력이 낮아지는 압력차를 발생시키기 위해서는, 제 1 가스 공급관 (20) 으로부터 공급되는 가스류 (120) 가 가상 영역 (19) 을 횡단할 필요가 있어, 가스류 (100) 가 접속관 (16) 으로 불어 넣어져서는 안된다. 이 때문에, 가스 공급관 (20) 의 선단으로부터 그 가스 공급관 (20) 의 관축을 따라 연장시킨 가상선 (21) 이, 개구부 (18) 를 통과하지 않도록, 제 1 가스 공급관 (20) 을 배치할 필요가 있다. 도 5 는, 도 2 와 마찬가지로, 도 1 에 나타내는 감압 탈포 장치 (10) 의 가상 영역 (19) 부근의 부분 확대도이다. 도 5 에서는, 가상선 (21) 이, 상류 방향을 향해 수평 방향으로 연장되어 있어, 개구부 (18) 를 통과하지 않아 상기 (2) 를 만족한다. In order to generate a pressure difference in which the pressure in the vicinity of the opening 18 is lower than the pressure reduction degassing tank 11, the gas flow 120 supplied from the first gas supply pipe 20 crosses the virtual region 19. It is necessary that the gas flow 100 is not blown into the connecting pipe 16. For this reason, it is necessary to arrange | position the 1st gas supply pipe 20 so that the virtual line 21 extended along the tube axis of the gas supply pipe 20 from the front-end | tip of the gas supply pipe 20 may not pass through the opening part 18. FIG. There is. FIG. 5 is a partially enlarged view of the vicinity of the virtual region 19 of the vacuum degassing apparatus 10 shown in FIG. 1. In FIG. 5, the imaginary line 21 extends in the horizontal direction toward the upstream direction and does not pass through the opening 18 to satisfy the above (2).

도 6 은 도 5 와 동일한 부분 확대도인데, 제 1 가스 공급관 (20) 의 선단의 방향이 도 5 와는 상이하고, 가상선 (21) 이 비스듬히 하방을 향하고 있어 개구부 (18) 를 통과하기 때문에, 상기 (2) 를 만족하지 않는다. FIG. 6 is a partially enlarged view similar to FIG. 5, because the direction of the tip of the first gas supply pipe 20 is different from that of FIG. 5, and the imaginary line 21 is obliquely downward and passes through the opening 18. The above (2) is not satisfied.

도 7 은 도 6 과 동일한 부분 확대도로서, 가상선 (21) 이 비스듬히 하방을 향하고 있는데, 분위기 제어부 (14) 내에서의 제 1 가스 공급관 (20) 의 높이가 도 6 의 가스 공급관 (20) 과는 상이하기 때문에 가상선 (21) 이 개구부 (18) 를 통과하지 않아, 상기 (2) 를 만족한다. 이와 마찬가지로, 가상선 (21) 이 비스듬히 하방을 향하는 경우라도, 가상선 (21) 이 비스듬히 하방을 향하는 각도가 도 6 의 가스 공급관 (20) 에 비해 작아, 개구부 (18) 를 통과하지 않는 경우에도 상기 (2) 를 만족한다. FIG. 7 is a partial enlarged view similar to FIG. 6, wherein the imaginary line 21 faces obliquely downward, and the height of the first gas supply pipe 20 in the atmosphere control unit 14 is the gas supply pipe 20 of FIG. 6. Since it is different from the virtual line 21, the virtual line 21 does not pass through the opening part 18, and it satisfy | fills said (2). Similarly, even when the imaginary line 21 obliquely faces downward, even if the angle where the imaginary line 21 faces obliquely downward is small compared with the gas supply line 20 of FIG. 6, even if it does not pass through the opening part 18. FIG. The above (2) is satisfied.

본 발명의 감압 탈포 장치는 상기 (1), (2) 를 만족하도록 제 1 가스 공급관을 배치하면 되고, 도시한 양태, 및 상기에서 설명한 양태에 한정되지 않는다. 도시한 양태, 및 상기에서 설명한 양태에서는, 가스류 (100) 의 공급 방향이 상류 방향 또는 하류 방향이었는데, 가스류 (100) 의 공급 방향은, 이들 이외의 방향, 예를 들어, 도면의 앞 방향 또는 안쪽 방향이어도 된다. 이 경우, 개구부 (18) 에 대해 도면의 안쪽 또는 앞쪽에 제 1 가스 공급관 (20) 을 배치하여, 가상 영역 (19) 을 횡단하도록, 도면 앞 방향 또는 안쪽 방향으로 가스류 (100) 를 공급한다. The vacuum degassing apparatus of this invention should just arrange | position a 1st gas supply pipe so that said (1) and (2) may be satisfied, It is not limited to the aspect shown and the aspect demonstrated above. Although the supply direction of the gas stream 100 was an upstream direction or a downstream direction in the aspect shown above and the aspect demonstrated above, the supply direction of the gas stream 100 is a direction other than these, for example, the front direction of a figure. Or inward direction may be sufficient. In this case, the 1st gas supply pipe 20 is arrange | positioned with respect to the opening part 18 in the front or front of the figure, and the gas flow 100 is supplied in the forward direction or inward direction so that the virtual area 19 may be crossed. .

또, 도시한 양태에서는 수평 방향 또는 비스듬히 하방을 향해 가스류 (100) 를 공급하고 있는데, 비스듬히 상방을 향해 가스류를 공급해도 된다. 단, 개구부 (18) 부근의 압력이 감압 탈포조 (11) 에 비해 압력이 낮아지는 압력차를 효과적으로 발생시키기 위해서는, 가스류 (100) 의 공급 방향은, 접속관 (16) 의 관축과 직교하는 방향, 즉 수평 방향인 것이 바람직하다. 단, 이 경우, 엄밀한 의미에서 접속관 (16) 의 관축과 직교하는 방향으로 가스류 (100) 를 반드시 공급할 필요는 없고, 접속관 (16) 의 관축과 대략 직교하는 방향으로 가스류 (100) 를 공급하면 된다. 여기에서 접속관 (16) 의 관축과 대략 직교하는 방향이란, 그 관축과 직교하는 방향을 0 도로 한 경우, ±45 도의 범위인 것이 바람직하고, ±25 도의 범위인 것이 보다 바람직하며, ±15 도의 범위인 것이 더욱 바람직하다. Moreover, although the gas stream 100 is supplied in the horizontal direction or obliquely downward in the aspect shown in figure, you may supply the gas flow obliquely upward. However, in order for the pressure near the opening part 18 to generate | occur | produce the pressure difference which pressure becomes low compared with the pressure reduction degassing tank 11 effectively, the supply direction of the gas stream 100 is orthogonal to the tube axis of the connection pipe 16. Direction, ie horizontal direction. In this case, however, the gas flow 100 does not necessarily need to be supplied in the exact direction in the direction orthogonal to the tube axis of the connection pipe 16, but the gas flow 100 in the direction substantially orthogonal to the tube axis of the connection pipe 16. Supply it. Here, the direction orthogonal to the tube axis of the connecting pipe 16 is preferably in the range of ± 45 degrees, more preferably in the range of ± 25 degrees when the direction perpendicular to the tube axis is 0 degrees. It is more preferable that it is a range.

또, 도시한 양태에서는, 하류측 접속관 (16) 을 가스류 도출관으로 하고, 상류측 접속관 (15) 을 가스류 도입관으로 하였는데, 상류측 접속관 (15) 을 가스류 도출관으로 하고, 하류측 접속관 (16) 을 가스류 도입관으로 해도 된다. 이 경우, 접속관 (15) 과의 관계에서 상기 (1), (2) 를 만족하는 제 1 가스 공급관을 형성한다. Moreover, in the aspect shown, the downstream connection pipe 16 was made into the gas flow lead-out pipe, and the upstream connection pipe 15 was made into the gas flow introduction pipe, but the upstream connection pipe 15 was made into the gas flow lead-out pipe. The downstream connection pipe 16 may be a gas flow introduction pipe. In this case, the 1st gas supply pipe which satisfy | fills said (1) and (2) in the relationship with the connection pipe 15 is formed.

또, 접속관의 수가 3 개 이상인 경우, 가스류 도출관을 이루는 접속관 및 가스류 도입관을 이루는 접속관의 배치는 적절히 선택할 수 있다. 예를 들어, 도 1 에 나타내는 감압 탈포 장치에 있어서, 상류측 접속관 (15) 과 하류측 접속관 (16) 사이에 제 3 접속관을 형성한 경우, 접속관 (15, 16) 과의 관계에서 상기 (1), (2) 를 만족하는 제 1 가스 공급관을 형성하여, 접속관 (15, 16) 을 가스류 도출관으로 하고, 제 3 접속관을 가스류 도입관으로 해도 된다. 또는, 제 3 접속관과의 관계에서 상기 (1), (2) 를 만족하는 제 1 가스 공급관을 형성하여, 제 3 접속관을 가스류 도출관으로 하고, 접속관 (15, 16) 을 가스류 도입관으로 해도 된다. Moreover, when the number of connection pipe | tubes is three or more, the arrangement | positioning of the connection pipe | tube which comprises a gas flow lead-out pipe, and the connection pipe | tube which constitutes a gas flow introduction pipe | tube can be selected suitably. For example, in the pressure reduction degassing apparatus shown in FIG. 1, when the 3rd connection tube is formed between the upstream connection pipe 15 and the downstream connection pipe 16, the relationship with the connection pipes 15 and 16 is shown. In the above, the first gas supply pipe that satisfies the above (1) and (2) may be formed, the connection pipes 15 and 16 may be gas flow lead-out pipes, and the third connection pipe may be a gas flow inlet pipe. Alternatively, a first gas supply pipe that satisfies the above (1) and (2) is formed in relation to the third connection pipe, and the third connection pipe is a gas flow lead-out pipe, and the connection pipes 15 and 16 are gasses. It may be a flow introduction tube.

또, 분위기 제어부 (14) 와 감압 탈포조 (11) 를 순환하는 가스류 (120) 의 방향은, 도시한 양태에 한정되지 않고, 도시한 양태와는 반대 방향이어도 된다. 예를 들어, 상류측 접속관 (15) 을 가스류 도출관, 하류측 접속관 (16) 을 가스류 도입관으로 한 경우, 분위기 제어부 (14) 와 감압 탈포조 (11) 를 순환하는 가스류의 방향은 도시한 양태와는 반대 방향이 된다. In addition, the direction of the gas flow 120 which circulates through the atmosphere control part 14 and the pressure reduction degassing tank 11 is not limited to the aspect shown, The direction opposite to the aspect shown may be sufficient. For example, when the upstream connection pipe 15 is a gas flow derivation pipe and the downstream connection pipe 16 is a gas flow introduction pipe, the gas flows circulating through the atmosphere control unit 14 and the reduced pressure degassing tank 11. The direction of becomes opposite to the illustrated embodiment.

또, 도시한 양태에서는, 2 개의 접속관의 위치 관계가 상류측 및 하류측인데, 접속관의 위치 관계는 이것에 한정되지 않는다. 예를 들어, 2 개의 접속관의 위치 관계를 도면 앞쪽 및 안쪽으로 해도 된다. 이 경우, 분위기 제어부 (14) 와 감압 탈포조 (11) 를 순환하는 가스류의 방향은, 도시한 양태에서의 가스류 (120) 의 방향과 직교하는 방향 (분위기 제어부 (14) 내에서의 가스류의 방향, 및 감압 탈포조 (11) 내 용융 유리 (G) 의 상방에서의 가스류의 방향이, 각각 도면 앞쪽 및 안쪽, 또는 도면 안쪽 및 앞쪽) 이 된다. 이 경우, 감압 탈포조 (11) 내에서의 가스류 (120) 의 방향이, 용융 유리 (G) 의 이동 방향과 직교하는 방향이 된다. 도시한 양태와 같이 감압 탈포조 (11) 가 용융 유리 (G) 의 유동 방향으로 긴 형상인 경우, 감압 탈포조 (11) 내 용융 유리 (G) 의 상방에서의 가스류 (120) 의 방향은, 용융 유리 (G) 의 이동 방향과 동일 방향 또는 반대 방향인 것이, 용융 유리 (G) 로부터의 가스 성분의 체류를 해소시키는 데에 있어서 바람직하나, 감압 탈포조가 가로 세로 방향에서의 길이에 유의한 차가 없는 형상 (예를 들어, 감압 탈포조의 평면 형상이 정사각형, 육각형, 팔각형 등의 형상) 인 경우, 감압 탈포조 (11) 내에서의 가스류 (120) 의 방향이, 용융 유리 (G) 의 이동 방향과 직교하는 방향이라도, 용융 유리 (G) 로부터의 가스 성분의 체류를 해소할 수 있다. Moreover, in the aspect shown, although the positional relationship of two connection pipes is an upstream side and a downstream side, the positional relationship of a connection pipe is not limited to this. For example, you may make the positional relationship of two connection pipes into the front and inside of a figure. In this case, the direction of the gas flow circulating in the atmosphere control unit 14 and the reduced pressure degassing tank 11 is a direction orthogonal to the direction of the gas stream 120 in the illustrated embodiment (gas in the atmosphere control unit 14). The direction of the flow and the direction of the gas flow above the molten glass G in the pressure reduction degassing tank 11 become a figure front and an inside, or a figure inside and a front, respectively. In this case, the direction of the gas flow 120 in the pressure reduction degassing tank 11 becomes a direction orthogonal to the moving direction of the molten glass G. As shown in FIG. When the pressure reduction degassing tank 11 is elongate in the flow direction of the molten glass G as shown in the figure, the direction of the gas flow 120 above the molten glass G in the pressure reduction degassing tank 11 is Although it is preferable to remove the retention of the gas component from the molten glass G in the same direction or the opposite direction as the moving direction of the molten glass G, a pressure reduction degassing tank pays attention to the length in a horizontal-vertical direction. In the case where there is no difference (for example, the plane shape of the pressure reduction degassing tank is a square, a hexagon, an octagon, etc.), the direction of the gas flow 120 in the pressure reduction degassing tank 11 is a molten glass G Retention of the gas component from the molten glass G can be eliminated also in the direction orthogonal to the direction of movement of the sheet).

개구부 (18) 부근의 압력이 감압 탈포조 (11) 에 비해 압력이 낮아지는 압력차를 발생시키는 데에 있어서, 제 1 가스 공급관 (20) 으로부터 공급되는 가스류 (100) 의 성분은 특별히 한정되지 않는다. 단, 가스류 (100) 의 성분은, 용융 유리 (G) 나 제조되는 유리 제품, 및 유리 제조 설비, 특히 감압 탈포 장치에 악영향을 미치지 않는 것이 바람직하다. 따라서, 가스류 (100) 의 성분에는, 부식성, 폭발성의 가스를 함유하지 않는 것이 바람직하다. In the case where the pressure near the opening 18 generates a pressure difference in which the pressure is lower than that of the vacuum degassing tank 11, the component of the gas stream 100 supplied from the first gas supply pipe 20 is not particularly limited. Do not. However, it is preferable that the component of the gas stream 100 does not adversely affect the molten glass G, the glass goods manufactured, and glass manufacturing equipment, especially a vacuum degassing apparatus. Therefore, it is preferable that the component of the gas flow 100 does not contain corrosive and explosive gas.

제 1 가스 공급관 (20) 으로부터 공급되는 가스류 (100) 로서, 수증기 농도 60 ㏖% 이하의 저수분 가스를 사용한 경우, 용융 유리 (G) 로부터의 가스 성분의 체류를 해소하는 효과에 추가하여, 감압 탈포조 (11) 내 용융 유리 (G) 상방의 분위기의 수증기 농도를 저감시키는 효과가 기대되는 점에서 바람직하다. In the case of using a low moisture gas having a water vapor concentration of 60 mol% or less as the gas stream 100 supplied from the first gas supply pipe 20, in addition to the effect of eliminating the retention of the gas component from the molten glass G, It is preferable at the point which the effect of reducing the water vapor | steam density | concentration of the atmosphere above molten-glass G inside the pressure reduction degassing tank 11 is anticipated.

가스류 (100) 로서 사용하는 저수분 가스는, 수증기 농도가 60 ㏖% 이하인 한 특별히 한정되지 않는다. 이러한 저수분 가스의 구체예로는, 대기, 건조 공기, N2 나 Ar 과 같은 불활성 가스 등을 들 수 있다. 가스류 (100) 로서, 이들 저수분 가스 중 1 종류를 사용해도 되고, 복수 종류의 저수분 가스의 혼합 가스를 사용해도 된다. The low moisture gas used as the gas stream 100 is not particularly limited as long as the water vapor concentration is 60 mol% or less. Specific examples of such low-moisture gas, air, dried air, N 2 And an inert gas such as Ar. As the gas flow 100, one type of these low moisture gases may be used, or a mixed gas of plural types of low moisture gases may be used.

가스류 (100) 로서 저수분 가스를 사용하는 경우, 수증기 농도 50 ㏖% 이하인 것이 바람직하고, 40 ㏖% 이하인 것이 보다 바람직하고, 30 ㏖% 이하인 것이 더욱 바람직하고, 25 ㏖% 이하인 더욱 바람직하고, 20 ㏖% 이하인 것이 더욱 바람직하고, 15 ㏖% 이하인 것이 더 바람직하고, 10 ㏖% 이하인 것이 보다 더욱 바람직하며, 5 ㏖% 이하인 것이 특히 바람직하다. When using a low moisture gas as the gas stream 100, it is preferable that it is 50 mol% or less of a vapor concentration, It is more preferable that it is 40 mol% or less, It is further more preferable that it is 30 mol% or less, It is further more preferable that it is 25 mol% or less, It is more preferable that it is 20 mol% or less, It is more preferable that it is 15 mol% or less, It is further more preferable that it is 10 mol% or less, It is especially preferable that it is 5 mol% or less.

감압 탈포조 (11) 내 용융 유리 (G) 상방의 분위기의 수증기 농도는, 60 ㏖% 이하로 저감되는 것이 바람직하다. 그 분위기의 수증기 농도를 60 ㏖% 이하로 함으로써, 감압 탈포조 내 용융 유리 표면의 포층이 비대화되어 돌비가 발생하는 것을 방지할 수 있어 감압 탈포의 효과를 더욱 향상시킬 수 있다. It is preferable that the water vapor concentration of the atmosphere above molten glass G in the pressure reduction degassing tank 11 is reduced to 60 mol% or less. By setting the water vapor concentration in the atmosphere to 60 mol% or less, it is possible to prevent the foam layer on the surface of the molten glass in the vacuum degassing tank from being enlarged and to generate dolby, thereby further improving the effect of vacuum degassing.

또, 그 분위기의 수증기 농도가 낮을수록 용융 유리 표면의 포층이 얇아지는 경향이 있기 때문에, 감압 탈포조 (11) 내 용융 유리 (G) 상방의 분위기의 수증기 농도는 50 ㏖% 이하인 것이 바람직하고, 40 ㏖% 이하인 것이 보다 바람직하다. 그리고, 수증기 농도가 30 ㏖% 이하이면, 포층이 더욱 얇아지는 경향이 있기 때문에 바람직하다. Moreover, since there exists a tendency for the foam layer of the molten glass surface to become thinner as the water vapor concentration of the atmosphere is low, it is preferable that the water vapor concentration of the atmosphere above the molten glass G in the pressure reduction degassing tank 11 is 50 mol% or less, It is more preferable that it is 40 mol% or less. And if a water vapor concentration is 30 mol% or less, since a cloth layer tends to become thinner, it is preferable.

또, 그 분위기의 수증기 농도가 낮으면, 유리 조성에 따라서는, 하나 하나의 기포가 수축 또는 파포되는 경우가 있고, 이로써 포층은 더욱 얇아지기 때문에 바람직하다. 구체적으로는, 용융 유리가 보로실리케이트 유리인 경우, 수증기 농도가 30 ㏖% 이하이면, 기포가 현저하게 수축되는 경향이 있다. 또한, 여기에서 말하는 보로실리케이트 유리는 예를 들어 다음과 같은 조성이다. Moreover, when the vapor concentration of the atmosphere is low, one bubble may shrink or break depending on the glass composition, and thus the fabric layer becomes thinner, which is preferable. Specifically, when the molten glass is borosilicate glass, if the water vapor concentration is 30 mol% or less, the bubbles tend to shrink significantly. In addition, the borosilicate glass said here is the following composition, for example.

조성의 범위 : SiO2 : 55 ~ 74, Al2O3 : 10 ~ 20, B2O3 : 5 ~ 12, Al2O3/B2O3 : 1.5 ~ 3, MgO : 0 ~ 5, CaO : 0 ~ 5, SrO : 0 ~ 12, BaO : 0 ~ 12, SrO+BaO : 6 ~ 12 (단위는 질량%). Composition range: SiO 2 : 55 ~ 74, Al 2 O 3 : 10 ~ 20, B 2 O 3 : 5 ~ 12, Al 2 O 3 / B 2 O 3 : 1.5 ~ 3, MgO: 0 ~ 5, CaO : 0-5, SrO: 0-12, BaO: 0-12, SrO + BaO: 6-12 (unit is mass%).

또한, 감압 탈포조 (11) 내 용융 유리 (G) 상방의 분위기의 수증기 농도가 낮으면, 감압 탈포를 거쳐 제조되는 유리 제품에 결함으로 간주될 정도의 크기의 기포가 잘 잔존하지 않게 되기 때문에 바람직하다. 그 분위기의 수증기 농도가 더욱 낮아지면, 감압 탈포를 거쳐 제조되는 유리 제품에 결함이 발생할 확률이 더욱 낮아지기 때문에, 25 ㏖% 이하인 것이 보다 바람직하고, 20 ㏖% 이하인 것이 보다 바람직하고, 15 ㏖% 이하인 것이 보다 바람직하고, 10 ㏖% 이하인 것이 보다 바람직하며, 5 ㏖% 이하인 것이 더욱 바람직하다. In addition, if the water vapor concentration of the atmosphere above the molten glass G in the pressure reduction degassing tank 11 is low, since the bubble of the magnitude | size enough to be regarded as a defect does not remain in the glassware manufactured through pressure reduction defoaming, it is preferable. Do. When the vapor concentration of the atmosphere is further lowered, the probability of defects occurring in the glass products produced through the reduced pressure defoaming is further lowered, more preferably 25 mol% or less, more preferably 20 mol% or less, and more preferably 15 mol% or less. It is more preferable, It is more preferable that it is 10 mol% or less, It is further more preferable that it is 5 mol% or less.

또, 감압 탈포조 (11) 내 용융 유리 (G) 상방의 분위기의 수증기 농도를 60 ㏖% 이하로 함으로써, 용융 유리 (G) 내의 특정 성분 (붕소 등) 의 휘산을 억제할 수 있다. 붕소 등의 성분의 휘발을 억제함으로써, 붕소 등의 조성 변동을 방지할 수 있음과 함께, 조성 변동에서 기인되는 평탄도의 악화를 억제할 수 있다. Moreover, volatilization of the specific component (boron etc.) in molten glass G can be suppressed by making the water vapor concentration of the atmosphere above molten glass G in the pressure reduction degassing tank 11 into 60 mol% or less. By suppressing the volatilization of components such as boron, it is possible to prevent the fluctuation of the composition of boron and the like, and to suppress the deterioration of the flatness caused by the composition fluctuation.

또, 휘발되기 쉬운 다른 성분, 예를 들어, Cl, F, S 등의 휘산을 억제할 수도 있기 때문에, 이들 성분의 조성 변동을 방지할 수 있음과 함께, 조성 변동에서 기인되는 평탄도의 악화를 억제할 수 있다. Moreover, since volatilization, such as other components which are liable to volatilize, for example, Cl, F, S, etc. can also be suppressed, the fluctuation | variation of the composition of these components can be prevented, and the deterioration of the flatness resulting from a composition fluctuation can be prevented. It can be suppressed.

이들 Cl, F, S 등의 성분의 휘산은, 분위기 중의 수분에 크게 영향을 받고 있는 것으로 생각된다. 예를 들어, F 는 HF 로서, S 는 H2SO4 로서 휘산되는 것으로 생각된다. 따라서, 감압 탈포조 (11) 내 용융 유리 (G) 상방의 분위기의 수증기 농도를 어느 일정한 값 이하로 함으로써, 상기 성분의 휘발, 및 그에 따른 상기 성분의 조성 변동을 억제할 수 있을 것으로 생각된다. It is thought that volatilization of these components, such as Cl, F, and S, is largely influenced by the moisture in atmosphere. For instance, F is an HF, S is considered to be volatilized as H 2 SO 4. Therefore, it is thought that volatilization of the said component and the compositional fluctuation of the said component can be suppressed by making water vapor concentration of the atmosphere above the molten glass G inside the pressure reduction degassing tank 11 below a certain value.

또, 유리의 특성은, 그 용도에 따라 매우 상세한 규격이 존재하여, 그 규격에 적합하도록 매우 상세하게 유리의 조성이 결정되어 있다. 예를 들어, 붕소의 함유량에 대해서도 당연히 규격이 존재하는데, 종래의 방법에서는, 붕소가 휘산되기 때문에 더욱 많은 붕소를 원료로서 사용할 필요가 있었다. 또, 종래에는, 붕소의 휘산되는 양은 조건에 따라 가지각색이며, 경우에 따라서는, 붕소의 함유량의 규격을 벗어날 가능성이 있었다. 본 발명의 감압 탈포 장치에서는, 붕소의 휘산을 억제함으로써 이들 문제점을 해소할 수 있어 유용하다. Moreover, the characteristic of glass has the very detailed specification according to the use, and the composition of glass is decided in very detail so that it conforms to the specification. For example, although a standard exists naturally with respect to content of boron, in the conventional method, since boron was volatilized, it was necessary to use more boron as a raw material. In addition, conventionally, the amount of boron volatilized varies depending on conditions, and in some cases, there is a possibility that the boron content may be out of the specification of the content of boron. In the vacuum degassing apparatus of this invention, these problems can be solved by suppressing the volatilization of boron, and it is useful.

이 점에서도, 본 발명의 감압 탈포 장치는, 통상적인 유리라고 말하는 데 이르지 않고, 특히 보로실리케이트 유리를 감압 탈포하는 경우에 바람직하게 사용할 수 있다고 할 수 있다. Also in this respect, the vacuum degassing apparatus of this invention is not called normal glass, and it can be said that it can use suitably especially when vacuum-defoaming a borosilicate glass.

가스류 (100) 로서 사용하는 저수분 가스는, 산소 농도가 공기 중의 산소 농도보다 낮은 가스인 것이 바람직하다. 이 산소 농도는 15 체적% 이하인 것이 보다 바람직하고, 10 체적% 이하인 것이 보다 바람직하며, 5 체적% 이하인 것이 보다 바람직하다. 또, 가스류 (100) 로서 사용하는 저수분 가스는, 산소를 함유하지 않는 기체, 예를 들어 N2 가스, Ar 가스, CO2 등인 것이 바람직하다. It is preferable that the low moisture gas used as the gas flow 100 is a gas whose oxygen concentration is lower than the oxygen concentration in air. As for this oxygen concentration, it is more preferable that it is 15 volume% or less, It is more preferable that it is 10 volume% or less, It is more preferable that it is 5 volume% or less. In addition, low moisture gas, which is used as the gas stream 100, preferably containing no oxygen gas, for example, N 2 gas, Ar gas, CO 2 or the like.

감압 탈포조 (11) 는 용융 유리 (G) 의 도관이기 때문에, 내열성 및 용융 유리에 대한 내식성이 우수한 재료를 사용할 필요가 있어, 백금 또는 백금 합금이 널리 사용되고 있다. 가스류 (100) 로서 사용하는 저수분 가스로서, 공기 중의 산소 농도보다 산소 농도가 낮은 가스를 사용함으로써, 감압 탈포조의 재질로서 백금 및 백금 합금을 사용하고 있는 경우에, 그 백금의 산화를 억제하여, 감압 탈포조의 수명을 연장시키고, 또한 유리 제품에 있어서 이 백금에서 유래된 결함의 생성을 억제할 수 있기 때문에 바람직하다. Since the pressure reduction degassing tank 11 is a conduit of molten glass G, it is necessary to use the material excellent in heat resistance and corrosion resistance with respect to molten glass, and platinum or a platinum alloy is used widely. By using a gas having a lower oxygen concentration than the oxygen concentration in the air as the low moisture gas to be used as the gas stream 100, when platinum and a platinum alloy are used as the material of the vacuum degassing tank, the oxidation of the platinum is suppressed. Since the life of a pressure reduction degassing tank can be extended and the generation | occurrence | production of the defect derived from this platinum in glassware can be suppressed, it is preferable.

백금 합금의 구체예로는, 백금-금 합금, 백금-로듐 합금을 들 수 있다. 또, 감압 탈포조에 사용되는 내열성 및 용융 유리에 대한 내식성이 우수한 재료의 다른 예로는, 세라믹스계의 비금속 무기 재료, 치밀질 내화물을 들 수 있다. 치밀질 내화물의 구체예로는, 예를 들어, 알루미나계 전주 내화물, 지르코니아계 전주 내화물, 알루미나-지르코니아-실리카계 전주 내화물 등의 전주 내화물, 그리고 치밀질 알루미나계 내화물, 치밀질 지르코니아-실리카계 내화물 및 치밀질 알루미나-지르코니아-실리카계 내화물 등의 치밀질 소성 내화물을 들 수 있다. Specific examples of the platinum alloy include a platinum-gold alloy and a platinum-rhodium alloy. Moreover, the ceramic nonmetal inorganic material and dense refractory material are mentioned as another example of the material excellent in the heat resistance and corrosion resistance with respect to a molten glass used for a vacuum degassing tank. As a specific example of a dense refractory material, for example, electric pole refractory materials, such as an alumina pole refractories, a zirconia pole pole refractory, an alumina- zirconia-silica pole pole refractory, and a dense alumina base refractory, a dense zirconia-silica refractory body And dense calcined refractory materials such as dense alumina-zirconia-silica refractory materials.

또한, 도 1 에 나타내는 감압 탈포 장치 (10) 에 있어서, 감압 탈포조 (11) 와 마찬가지로, 용융 유리 (G) 의 도관을 이루는 상승관 (12) 및 하강관 (13) 의 재료로서도, 백금 또는 백금 합금, 또는 치밀질 내화물이 사용된다.In addition, in the vacuum degassing apparatus 10 shown in FIG. 1, similarly to the pressure reduction degassing tank 11, also as a material of the rising pipe 12 and the falling pipe 13 which comprise the conduit of molten glass G, platinum or Platinum alloys, or dense refractory, are used.

분위기 제어부 (14), 접속관 (15, 16), 및 제 1 가스 공급관 (20) 은, 용융 유리 (G) 의 도관이 아니기 때문에, 그 재료는 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 스테인리스강, 백금, 백금 합금 등의 금속 재료, 세라믹스, 알루미나 등의 내화성·내부식성 재료를 사용할 수 있다. Since the atmosphere control part 14, the connection pipes 15 and 16, and the 1st gas supply pipe 20 are not the conduits of the molten glass G, the material is not specifically limited, For example, stainless steel, Metal materials, such as platinum and a platinum alloy, and fire-resistant and corrosion-resistant materials, such as ceramics and alumina, can be used.

또한, 본 발명의 감압 탈포 장치 (10) 에 있어서, 분위기 제어부 (14) 와 감압 탈포조 (11) 를 순환하는 가스류 (120) 를 발생시키는 목적은, 용융 유리 (G) 로부터의 가스 성분의 체류를 해소할 수 있으면 되기 때문에, 감압 탈포의 실시 중에 항상 가스류 (120) 를 반드시 발생시켜 둘 필요는 없다. 따라서, 용융 유리 (G) 로부터의 가스 성분의 체류를 해소할 수 있는 한, 감압 탈포의 실시 중에 정기적으로 가스류 (120) 를 발생시키는 것이어도 되고, 예를 들어, 1 시간마다 1 ~ 30 초 정도의 비율로 가스류 (120) 를 발생시키는 것이어도 된다. 또한, 정기적으로 가스류 (120) 를 발생시키기 위해서는, 제 1 가스 공급관 (20) 으로부터 정기적으로 가스류 (100) 를 공급하면 된다. In addition, in the vacuum degassing apparatus 10 of this invention, the objective of generating the gas flow 120 which circulates the atmosphere control part 14 and the pressure reduction degassing tank 11 is a thing of the gas component from molten glass G. Since the residence can be eliminated, it is not always necessary to generate the gas stream 120 during the degassing. Therefore, as long as the retention of the gas component from the molten glass G can be eliminated, the gas stream 120 may be periodically generated during the performance of reduced pressure defoaming, for example, 1 to 30 seconds per hour. The gas flow 120 may be generated at a ratio of about a degree. In addition, in order to generate | generate the gas flow 120 on a regular basis, what is necessary is just to supply the gas flow 100 from the 1st gas supply pipe 20 regularly.

본 발명의 감압 탈포 장치 (10) 에서는, 감압 탈포조 (11) 내 용융 유리 (G) 상방의 분위기의 수증기 농도를 저감시키기 위해, 감압 탈포조 (11) 내 용융 유리 (G) 의 상부 공간에 수증기 농도 60 ㏖% 이하의 저수분 가스 (140) 를 공급하는 제 2 가스 공급관을 형성해도 된다. In the vacuum degassing apparatus 10 of this invention, in order to reduce the water vapor | steam concentration of the atmosphere above the molten glass G in the vacuum degassing tank 11, in the upper space of the molten glass G in the vacuum degassing tank 11, You may form the 2nd gas supply line which supplies the low moisture gas 140 with water vapor concentration of 60 mol% or less.

도 8 은 본 발명의 감압 탈포 장치의 다른 일 구성예를 나타내는 단면도이다. 도 8 에 나타내는 감압 탈포 장치 (10') 에서는, 가스류 도입관을 이루는 접속관 (15) 으로부터 제 2 가스 공급관 (24) 이 삽입되어 있고, 그 제 2 가스 공급관 (24) 의 선단이 감압 탈포조 (11) 내 용융 유리 (G) 의 상부 공간에 위치하고 있다. 또한, 제 2 가스 공급관 (24) 으로부터 공급되는 수증기 농도 60 ㏖% 이하의 저수분 가스의 구체예에 대해서는, 가스류 (100) 로서 공급되는 저수분 가스에 대해 기재한 것과 동일하다. It is sectional drawing which shows the other structural example of the vacuum degassing apparatus of this invention. In the pressure reduction degassing apparatus 10 'shown in FIG. 8, the 2nd gas supply pipe 24 is inserted from the connection pipe 15 which forms a gas flow introduction tube, and the front-end | tip of the 2nd gas supply pipe 24 is decompressed under pressure. It is located in the upper space of the molten glass G in the tank 11. In addition, about the specific example of the low moisture gas of 60 mol% or less of water vapor density | concentration supplied from the 2nd gas supply pipe 24, it is the same as that of what was described about the low moisture gas supplied as the gas stream 100. FIG.

또한, 제 2 가스 공급관은, 감압 탈포조 (11) 내 용융 유리 (G) 의 상부 공간에 수증기 농도 60 ㏖% 이하의 저수분 가스를 공급할 수 있으면 되고, 도 8 에 나타내는 양태에 한정되지 않는다. 예를 들어, 가스류 도출관을 이루는 접속관 (16) 으로부터 감압 탈포조 (11) 내 용융 유리 (G) 의 상부 공간에 제 2 가스 공급관을 삽입해도 된다. 또, 접속관 (15, 16) 이외의 부분, 예를 들어, 감압 탈포조 (11) 의 상류측 또는 하류측의 단면으로부터, 감압 탈포조 (11) 내 용융 유리 (G) 의 상부 공간에 제 2 가스 공급관을 삽입해도 된다. 단, 도 8 에 나타내는 양태와 같이 저수분 가스 (140) 의 공급 방향은, 가스류 (120) (도 1 참조) 를 저해하지 않는 방향으로 하는 것이 감압 탈포조 (11) 내에서 가스류에 흐트러짐을 발생시키지 않는 점에서 바람직하다. In addition, the 2nd gas supply pipe should just be able to supply the low moisture gas of 60 mol% or less of water vapor concentration to the upper space of the molten glass G in the pressure reduction degassing tank 11, It is not limited to the aspect shown in FIG. For example, you may insert a 2nd gas supply pipe into the upper space of the molten glass G in the pressure reduction degassing tank 11 from the connection pipe 16 which comprises a gas flow lead-out pipe. Moreover, it is made in the upper space of the molten glass G in the pressure reduction degassing tank 11 from the cross section of the upstream or downstream side of parts other than the connection pipe 15 and 16, for example, the pressure reduction degassing tank 11. You may insert 2 gas supply lines. However, as shown in FIG. 8, the supply direction of the low moisture gas 140 is set to a direction in which the gas flow 120 (see FIG. 1) is not disturbed in the gas flow in the vacuum degassing tank 11. It is preferable at the point which does not generate | occur | produce.

또, 제 2 가스 공급관 (24) 의 출구측 위치는, 감압 탈포조 (11) 내 용융 유리 (G) 의 상부 공간에 수증기 농도 60 ㏖% 이하의 저수분 가스를 공급할 수 있으면 되고, 도 8 에 나타내는 양태에 한정되지 않는다. 예를 들어, 도 8 에 나타내는 양태에서는, 제 2 가스 공급관 (24) 의 선단이, 감압 탈포조 (11) 내 용융 유리 (G) 의 상부 공간에 위치하고 있는데, 제 2 가스 공급관 (24) 의 선단이 접속관 (15) 내에 있어도 되고, 접속관 (15) 상방의 분위기 제어부 (14) 내에 있어도 된다. Moreover, the outlet side position of the 2nd gas supply pipe 24 should just be able to supply the low moisture gas of 60 mol% or less of water vapor concentration to the upper space of the molten glass G in the pressure reduction degassing tank 11, and FIG. It is not limited to the aspect shown. For example, in the aspect shown in FIG. 8, although the front end of the 2nd gas supply pipe 24 is located in the upper space of the molten glass G in the pressure reduction degassing tank 11, the front end of the 2nd gas supply pipe 24 is carried out. It may exist in this connection pipe 15, and may be in the atmosphere control part 14 above the connection pipe 15. FIG.

본 발명의 감압 탈포 장치는 상기 이외의 구조를 갖고 있어도 된다. 예를 들어, 용융 유리 (G) 의 표면 (액면) 근처에 가스류 (120) 를 형성하기 위해, 감압 탈포조 (11) 의 천정부 내측에 가스류 (120) 를 하방으로 유도하기 위한 방해판을 형성해도 된다. The vacuum degassing apparatus of this invention may have a structure of that excepting the above. For example, in order to form the gas flow 120 near the surface (liquid surface) of the molten glass G, a baffle plate for guiding the gas flow 120 downward inside the ceiling of the vacuum degassing vessel 11 is provided. You may form.

본 발명의 감압 탈포 장치 (10) 의 각 구성 요소의 치수는, 필요에 따라 적절히 선택할 수 있다. 감압 탈포조 (11) 의 치수는, 감압 탈포조 (11) 가 백금제 또는 백금 합금제, 또는 치밀질 내화물제인지에 상관 없이, 사용하는 감압 탈포 장치나, 감압 탈포조 (11) 의 형상에 따라 적절히 선택할 수 있다. 도 1 에 나타내는 원통 형상의 감압 탈포조 (11) 의 경우, 그 치수의 일례는 이하와 같다. The dimension of each component of the vacuum degassing apparatus 10 of this invention can be suitably selected as needed. The size of the pressure reduction degassing tank 11 is based on the shape of the pressure reduction degassing apparatus 11 and pressure reduction defoaming tank 11 used, regardless of whether the pressure reduction degassing tank 11 is a platinum agent, a platinum alloy agent, or a dense refractory agent. It can select accordingly. In the case of the cylindrical pressure reduction degassing tank 11 shown in FIG. 1, an example of the dimension is as follows.

수평 방향 길이 : 1 ~ 20 mHorizontal direction length: 1 to 20 m

내경 : 0.2 ~ 3 m (단면은 원형) Internal diameter: 0.2 to 3 m (cross section is round)

감압 탈포조 (11) 가 백금제 또는 백금 합금제인 경우, 두께는 4 ㎜ 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5 ~ 1.2 ㎜ 이다. When the pressure reduction degassing tank 11 is a platinum agent or a platinum alloy agent, it is preferable that thickness is 4 mm or less, More preferably, it is 0.5-1.2 mm.

감압 탈포조는 원형 단면의 원통 형상인 것에 한정되지 않고, 단면 형상이 타원형이나 반원 형상인 대략 원통 형상의 것이나, 단면이 직사각형인 통 형상의 것이어도 된다. The vacuum degassing tank is not limited to a cylindrical shape having a circular cross section, and may be a substantially cylindrical shape having an elliptical shape or a semicircular shape, or a cylindrical shape having a rectangular cross section.

상승관 (12) 및 하강관 (13) 은, 백금제 또는 백금 합금제, 또는 치밀질 내화물제인지에 상관 없이, 사용하는 감압 탈포 장치에 따라 적절히 선택할 수 있다. 예를 들어, 도 1 에 나타내는 감압 탈포 장치 (10) 의 경우, 상승관 (12) 및 하강관 (13) 의 치수의 일례는 이하와 같다. The rising pipe 12 and the falling pipe 13 can be appropriately selected depending on the vacuum degassing apparatus to be used, regardless of whether they are made of platinum, platinum alloy, or dense refractory. For example, in the case of the vacuum degassing apparatus 10 shown in FIG. 1, an example of the dimension of the rising pipe 12 and the downfalling pipe 13 is as follows.

내경 : 0.05 ~ 0.8 m, 보다 바람직하게는 0.1 ~ 0.6 mInternal diameter: 0.05 to 0.8 m, more preferably 0.1 to 0.6 m

길이 : 0.2 ~ 6 m, 보다 바람직하게는 0.4 ~ 4 mLength: 0.2-6 m, more preferably 0.4-4 m

상승관 (12) 및 하강관 (13) 이 백금제 또는 백금 합금제인 경우, 두께는 0.4 ~ 5 ㎜ 인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.8 ~ 4 ㎜ 이다. In the case where the rising pipe 12 and the falling pipe 13 are made of platinum or a platinum alloy, the thickness is preferably 0.4 to 5 mm, more preferably 0.8 to 4 mm.

분위기 제어부 (14), 접속관 (15, 16) 의 치수는, 사용하는 감압 탈포 장치, 특히 감압 탈포조에 따라 적절히 할 수 있는데, 그 일례는 이하와 같다.Although the dimension of the atmosphere control part 14 and the connection pipes 15 and 16 can be suitably made according to the vacuum degassing apparatus used, especially the vacuum degassing tank, the example is as follows.

분위기 제어부Atmosphere control

내경 : 0.1 ~ 3 m, 보다 바람직하게는 0.1 ~ 2 mInternal diameter: 0.1-3 m, more preferably 0.1-2 m

길이 : 0.8 ~ 22 m, 보다 바람직하게는 1 ~ 20 mLength: 0.8 to 22 m, more preferably 1 to 20 m

접속관Connector

내경 : 0.05 ~ 0.5 m, 보다 바람직하게는 0.05 ~ 0.3 mInternal diameter: 0.05 to 0.5 m, more preferably 0.05 to 0.3 m

길이 : 0.1 ~ 1 m, 보다 바람직하게는 0.1 ~ 0.8 mLength: 0.1-1 m, more preferably 0.1-0.8 m

제 1 가스 First gas 공급관Supply pipe 내경Bore

내경 : 3 ~ 50 ㎜, 보다 바람직하게는 5 ~ 20 ㎜ Internal diameter: 3-50 mm, more preferably 5-20 mm

분위기 제어부 (14), 접속관 (15, 16) 의 두께는, 구성 재료에 따라서도 상이한데, 스테인리스강제인 경우, 각각 이하인 것이 바람직하다. Although the thickness of the atmosphere control part 14 and the connection pipes 15 and 16 differs also according to a structural material, when it is stainless steel, it is preferable that it is respectively the following.

분위기 제어부Atmosphere control

0.5 ~ 2 ㎜, 보다 바람직하게는 0.5 ~ 1.5 ㎜ 0.5 to 2 mm, more preferably 0.5 to 1.5 mm

접속관Connector

0.5 ~ 2 ㎜, 보다 바람직하게는 0.5 ~ 1.5 ㎜ 0.5 to 2 mm, more preferably 0.5 to 1.5 mm

제 2 가스 Second gas 공급관Supply pipe 내경Bore

내경 : 3 ~ 50 ㎜, 보다 바람직하게는 5 ~ 20 ㎜ Internal diameter: 3-50 mm, more preferably 5-20 mm

실시예Example

이하, 실시예에 기초하여 본 발명을 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니다. Hereinafter, the present invention will be described in detail based on examples. However, the present invention is not limited to this.

실시예에서는 Fluent 를 이용하여 감압 탈포조 내 용융 유리 (G) 의 상부 공간에서의 기류 해석을 실시하여, 제 1 가스 공급관으로부터 가상 영역에 가스류를 공급하는 것에 의한 벤튜리 효과, 및 벤튜리 효과에 의해 발생하는 분위기 제어부와, 감압 탈포조 내 용융 유리의 상부 공간을 순환하는 가스류에 의한 용융 유리로부터의 가스 성분 체류의 해소를 평가하였다. 또한, 감압 탈포 장치로는, 도 8 에 나타내는 감압 탈포 장치 (10) 와 같이 하류측 접속관 (16) 과의 개구부 (18) 상방의 가상 영역 (19) 에 제 1 가스 공급관 (20) 으로부터 가스류 (100) 를 공급하고, 상류측 접속관 (15) 으로부터 감압 탈포조 (11) 내 용융 유리 (G) 의 상부 공간에 삽입된 제 2 가스 공급관 (24) 으로부터 저수분 가스 (140) 를 공급하는 것을 모델로서 사용하였다. 또는 도 8 과는 달리, 상류측 접속관 (15) 의 상방에 제 1 가스 공급관 (20) 을 설치하여 가스류 (100) 를 공급하고, 하류측 접속관 (16) 으로부터 감압 탈포조 (11) 내 용융 유리 (G) 의 상부 공간에 삽입된 제 2 가스 공급관 (24) 으로부터 저수분 가스 (140) 를 공급하는 것을 모델로서 사용하였다. 또한, 가스류 (100) 및 저수분 가스 (140) 는, 모두 N2 를 공급하는 것으로 하여 모델화하였다. In the Example, the venturi effect and the venturi effect by performing a gas flow analysis in the upper space of the molten glass G in a pressure reduction degassing tank using fluent, and supplying a gas flow from a 1st gas supply pipe to a virtual region. The release of the gas component retention from the molten glass by the atmosphere control part which generate | occur | produced by and the gas flow which circulates the upper space of the molten glass in a pressure reduction degassing tank was evaluated. In addition, as a vacuum degassing apparatus, the gas from the 1st gas supply pipe 20 to the virtual region 19 above the opening part 18 with the downstream connection pipe 16 like the vacuum degassing apparatus 10 shown in FIG. The stream 100 is supplied and the low moisture gas 140 is supplied from the second gas supply pipe 24 inserted into the upper space of the molten glass G in the vacuum degassing tank 11 from the upstream connection pipe 15. Was used as the model. Alternatively, unlike FIG. 8, the first gas supply pipe 20 is provided above the upstream connecting pipe 15 to supply the gas stream 100, and the reduced pressure degassing tank 11 is supplied from the downstream connecting pipe 16. Supplying the low moisture gas 140 from the 2nd gas supply pipe 24 inserted in the upper space of the inner molten glass G was used as a model. Moreover, gas stream 100 and the low-moisture gas 140 was modeled to be both for supplying N 2.

모델로서 사용한 감압 탈포 장치 (10) 의 각 부의 치수는 이하와 같다.The dimension of each part of the vacuum degassing apparatus 10 used as a model is as follows.

감압 탈포조 (11) : 전체 길이 10 m, 내경 1 m (단면은 반원 형상) Decompression degassing tank 11: total length 10 m, inner diameter 1 m (cross section is semi-circular shape)

분위기 제어부 (14) : 전체 길이 10 m, 내경 2 m (원통 형상) Atmosphere control unit 14: total length 10 m, inner diameter 2 m (cylindrical shape)

접속관 (15, 16) : 전체 길이 0.8 m, 내경 0.3 m (원통 형상) Connection pipe (15, 16): 0.8 m in total length, 0.3 m in inner diameter (cylindrical shape)

접속관 (15, 16) 은 각각, 감압 탈포조 (11) 의 천정부, 더욱 구체적으로는, 감압 탈포조 (11) 의 상류측 단부로부터 0.1 m 의 위치, 및 하류측 단부로부터 0.1 m 의 위치에 형성하였다. The connecting pipes 15 and 16 are each positioned at a ceiling of the vacuum degassing tank 11, more specifically, at a position of 0.1 m from an upstream end of the vacuum degassing tank 11 and a position of 0.1 m from a downstream end. Formed.

배기구 (17) : 내경 0.05 m (원통 형상), 분위기 제어부 (14) 의 길이 방향에서의 중앙이 되는 위치의 천정부에 형성하였다. Exhaust port 17: It was formed in the ceiling part of the position which becomes the center in the longitudinal direction of the inner diameter of 0.05m (cylindrical shape), and the atmosphere control part 14. As shown in FIG.

제 1 가스 공급관 (20) : 도 8 과는 달리, 분위기 제어부 (14) 의 하류단 중앙으로부터 내경 φ5 ㎜ 의 원형 스테인리스제 노즐을 수평 방향으로 삽입하였다. 제 1 가스 공급관 (20) 을 하류측 또는 상류측의 어느 쪽에 설치하는 경우 모두, 제 1 가스 공급관의 선단의 위치는 개구부 (18) 보다 하류측 5 ㎜, 분위기 제어부 (14) 의 저면으로부터 높이 10 ㎜ 의 위치로 하였다. 1st gas supply pipe 20: Unlike FIG. 8, the circular stainless steel nozzle of internal diameter (phi) 5 mm was inserted in the horizontal direction from the center of the downstream end of the atmosphere control part 14. As shown in FIG. In the case where the first gas supply pipe 20 is provided on either the downstream side or the upstream side, the position of the tip of the first gas supply pipe is 10 mm from the bottom of the atmosphere control unit 14 5 mm downstream from the opening 18. It was set as the position of mm.

제 2 가스 공급관 (24) : 내경 φ15 ㎜ 의 원형의 스테인리스제 노즐을 분위기 제어부 (14) 의 천정부로부터 접속관 (15) 을 경유하여 감압 탈포조 (11) 의 용융 유리 (G) 의 상부 공간에 삽입하였다. 제 2 가스 공급관의 선단의 위치는 감압 탈포조 (11) 의 상부 벽면으로부터 10 ㎜ 아래의 위치로 하였다. Second gas supply pipe 24: A circular stainless steel nozzle having an inner diameter φ 15 mm from the ceiling of the atmosphere control unit 14 to the upper space of the molten glass G of the vacuum degassing tank 11 via the connecting pipe 15. Inserted. The position of the front end of the 2nd gas supply pipe was made into the position below 10 mm from the upper wall surface of the pressure reduction degassing tank 11.

감압 탈포조 (11) 내 용융 유리 (G) 의 상부 공간 내의 압력, 및 분위기 제어부 (14) 내가, 압력 350 ㎜Hg, 온도 1400 ℃ 로 일정한 경우에 대해 해석을 실시하였다. The pressure in the upper space of the molten glass G in the pressure reduction degassing tank 11 and the inside of the atmosphere control part 14 were analyzed about the case where it is constant at 350 mmHg of pressure and 1400 degreeC of temperature.

기류 해석에는, 비반응 화학종의 수송 모델, 표준 k-ε 모델, 표준 벽함수를 채용하였다. 입구 확산, 확산 에너지에 대해서는 고려하지 않고, 그 밖의 설정 파라미터는 디폴트값을 사용하였다. 기류 해석의 유체 물성은, Fluent 데이타베이스 내의 N2 및 휘산 H2O 로 이루어지는 혼합물의 값 (하기) 을 사용하였다. In the analysis of the air flow, a transport model of unreacted species, a standard k-ε model, and a standard wall function were employed. Inlet diffusion and diffusion energy were not considered, and other setting parameters used default values. Analysis of the fluid flow property is used a value (to) of a mixture composed of N 2 and H 2 O in the volatilization Fluent database.

점도 : 1.72×10-5 [㎏/m·s]Viscosity: 1.72 × 10 -5 [kg / m · s]

열 전도율 : 0.0454 [W/m·K]Thermal Conductivity: 0.0454 [W / m · K]

질량 확산 계수 : 2.88×10-5 [㎡/s]Mass Diffusion Coefficient: 2.88 × 10 -5 [㎡ / s]

밀도 : ρ=pMw/RT (비압축성 이상(理想) 기체 방정식) Density: ρ = pM w / RT (incompressible gas equation)

비열 : cp=∑iYicp,i (화학종에 의한 비열의 질량분율 평균식) [J/㎏·K]Specific heat: c p = ∑ i Y i c p , i (mass fraction average formula of specific heat by chemical species) [J / ㎏ · K]

감압 탈포조 (11) 내 용융 유리 (G) 로부터는, SO3, O2, B2O3, H2O 등, 복수의 가스가 휘산되는 것으로 생각되지만, 본 해석에서는 편의상 H2O 만 2.00 NL/min 으로 휘산되는 것으로 가정하였다. From the vacuum degassing vessel 11, the molten glass (G) is, SO 3, O 2, B 2 O 3, H 2 O or the like, but considered to be a plurality of gas is volatilized, in the analysis only for convenience H 2 O 2.00 It is assumed to be volatilized at NL / min.

이하, 본 명세서에서 감압 탈포조 (11) 내 용융 유리 (G) 로부터 휘산되는 가스를 간단히 「휘산 가스」라고 한다. Hereinafter, in this specification, the gas volatilized from the molten glass G in the pressure reduction degassing tank 11 is simply called "volatility gas."

감압 탈포조 (11) 내에서의 용융 유리 (G) 의 움직임은 고려하지 않고, 휘산 가스 및 제 2 가스 공급관으로부터 공급되는 N2 는 속도 경계 조건에 따라 정의하였다. Movement of the molten glass (G) in the vacuum degassing vessel 11 is not considered, N 2 supplied from the volatilized gases and the second gas supply pipe is defined according to the velocity boundary conditions.

기류 해석에서는, 감압 탈포조 (11) 내 용융 유리 (G) 로부터의 휘산 가스의 농도로서, 용융 유리 (G) 상방 분위기의 휘산 가스의 평균 농도 (이하, 「용융 유리 (G) 상방의 휘산 가스의 평균 농도」라고 하는 경우도 있다) 를 평가하였다. 또한, 용융 유리 (G) 의 액면 근방 (용융 유리의 액면으로부터 5 ㎜ 상방) 에서의 휘산 가스 농도를 평가 지표로 하였다. In airflow analysis, as a density | concentration of the volatilization gas from the molten glass G in the pressure reduction degassing tank 11, the average density | concentration of the volatilization gas of molten glass G upper atmosphere (henceforth "the volatilization gas above molten glass G). May be referred to as the “average concentration of”). In addition, the volatilization gas density | concentration in the liquid surface vicinity (5 mm upward from the liquid level of molten glass) of molten glass G was made into the evaluation index.

또, 분위기 제어부 (14) 와 접속관 (15) 의 개구부 부근의 압력, 및 분위기 제어부 (14) 와 접속관 (16) 의 개구부 (18) 부근의 압력 (이하, 전자를 「상류측 개구부 압력」, 후자를 「하류측 개구부 압력」이라고 하는 경우도 있다) 을 평가하였다. Moreover, the pressure in the vicinity of the opening part of the atmosphere control part 14 and the connection pipe 15, and the pressure in the vicinity of the opening part 18 of the atmosphere control part 14 and the connection pipe 16 (henceforth, the former is "upstream opening pressure"). And the latter may be referred to as "downstream opening pressure".

또, 감압 탈포조 (11) 로부터 접속관 (15) 을 통해 분위기 제어부 (14) 로 배출되는 가스의 양, 및 감압 탈포조 (11) 로부터 접속관 (16) 을 통해 분위기 제어부 (14) 로 배출되는 가스의 유량 (이하, 전자를 「상류측 배출 유량」, 후자를 「하류측 배출 유량」이라고 하는 경우도 있다) 을 평가하였다. Moreover, the amount of gas discharged | emitted from the pressure reduction degassing tank 11 to the atmosphere control part 14 through the connection pipe 15, and discharge | emitted from the pressure reduction degassing tank 11 to the atmosphere control part 14 via the connection pipe 16. FIG. The flow rate of the gas used (hereinafter, the former may be referred to as "upstream discharge flow rate" and the latter may be referred to as "downstream discharge flow rate") was evaluated.

(실시예 1, 2, 3, 4, 5, 비교예 1) (Examples 1, 2, 3, 4, 5, Comparative Example 1)

실시예 1 에서는 제 1 가스 공급관 (20) 을 하류측 접속관 (16) 의 상부에 설치하고 가스류 (100) 로서 N2 를 체적 유량 2 NL/min 으로 공급하여, 용융 유리 (G) 상방의 휘산 가스의 평균 농도, 상류측 개구부 압력, 하류측 개구부 압력, 상류측 배출 유량 및 하류측 배출 유량을 평가하였다. In Example 1, the above first to install a gas supply pipe 20 to the upper portion of the downstream-side connecting pipe 16 and supplying N 2 as the gas stream 100 in the volume flow rate 2 NL / min, the molten glass (G) The average concentration of volatilized gas, the upstream opening pressure, the downstream opening pressure, the upstream discharge flow rate and the downstream discharge flow rate were evaluated.

실시예 2 에서는, 제 1 가스 공급관 (20) 을 하류측 접속관 (16) 의 상부에 설치하고 가스류 (100) 로서 N2 를 체적 유량 10 NL/min 으로 공급하여, 용융 유리 (G) 상방의 휘산 가스의 평균 농도, 상류측 개구부 압력, 하류측 개구부 압력, 상류측 배출 유량 및 하류측 배출 유량을 평가하였다. In Example 2, the first gas supply pipe 20 to be installed on the upper portion of the downstream-side connecting pipe 16 and supplying N 2 as the gas stream 100 in a volume flow rate 10 NL / min, the molten glass (G) above The average concentration of the volatilized gas, the upstream opening pressure, the downstream opening pressure, the upstream discharge flow rate, and the downstream discharge flow rate were evaluated.

실시예 3 에서는, 제 1 가스 공급관 (20) 을 하류측 접속관 (16) 의 상부에 설치하고 가스류 (100) 로서 N2 를 체적 유량 15 NL/min 으로 공급하여, 용융 유리 (G) 상방의 휘산 가스의 평균 농도, 상류측 개구부 압력, 하류측 개구부 압력, 상류측 배출 유량 및 하류측 배출 유량을 평가하였다. Example 3, the first gas supply pipe 20 to be installed on the upper portion of the downstream-side connecting pipe 16 and supplying N 2 as the gas stream 100 in a volume flow rate 15 NL / min, the molten glass (G) above The average concentration of the volatilized gas, the upstream opening pressure, the downstream opening pressure, the upstream discharge flow rate, and the downstream discharge flow rate were evaluated.

실시예 4 에서는, 제 1 가스 공급관 (20) 을 하류측 접속관 (16) 의 상부에 설치하고 가스류 (100) 로서 N2 를 체적 유량 50 NL/min 으로 공급하여, 용융 유리 (G) 상방의 휘산 가스의 평균 농도, 상류측 개구부 압력, 하류측 개구부 압력, 상류측 배출 유량 및 하류측 배출 유량을 평가하였다. In Example 4, the first gas supply pipe 20 to be installed on the upper portion of the downstream-side connecting pipe 16 and supplying N 2 as the gas stream 100 in a volume flow rate 50 NL / min, the molten glass (G) above The average concentration of the volatilized gas, the upstream opening pressure, the downstream opening pressure, the upstream discharge flow rate, and the downstream discharge flow rate were evaluated.

실시예 5 에서는, 제 1 가스 공급관 (20) 을 상류측 접속관 (15) 의 상부에 설치하고 가스류 (100) 로서 N2 를 체적 유량 15 NL/min 으로 공급하여, 용융 유리 (G) 상방의 휘산 가스의 평균 농도, 상류측 개구부 압력, 하류측 개구부 압력, 상류측 배출 유량 및 하류측 배출 유량을 평가하였다. Example 5 In the first gas supply pipe 20 to be installed on the upper portion of the upstream-side connection pipe (15) and supplying N 2 as the gas stream 100 in a volume flow rate 15 NL / min, the molten glass (G) above The average concentration of the volatilized gas, the upstream opening pressure, the downstream opening pressure, the upstream discharge flow rate, and the downstream discharge flow rate were evaluated.

실시예 6 에서는, 내경 φ20 ㎜ 의 제 1 가스 공급관 (20) 을, 하류측 접속관 (15) 의 상부에 설치하고 가스류 (100) 로서 N2 를 체적 유량 50 NL/min 으로 공급하여, 용융 유리 (G) 상방의 휘산 가스의 평균 농도, 상류측 개구부 압력, 하류측 개구부 압력, 상류측 배출 유량 및 하류측 배출 유량을 평가하였다. In Example 6, to the first gas supply pipe 20 having an inner diameter of φ20 ㎜, installed on the upper portion of the downstream-side connecting pipe 15 and supplying N 2 as the gas stream 100 in a volume flow rate 50 NL / min, the melt The average concentration of the volatilized gas above glass (G), the upstream opening pressure, the downstream opening pressure, the upstream discharge flow rate, and the downstream discharge flow rate were evaluated.

실시예 7 에서는, 내경 φ5 ㎜ 의 제 1 가스 공급관 (20) 을, 내경 φ0.2 m 의 상류측 접속관 (15) 의 상부에 설치하고 가스류 (100) 로서 N2 를 체적 유량 2 NL/min 으로 공급하여, 용융 유리 (G) 상방의 휘산 가스의 평균 농도, 상류측 개구부 압력, 하류측 개구부 압력, 상류측 배출 유량 및 하류측 배출 유량을 평가하였다. Example 7, an inner diameter of the first N 2 gas supply line 20, the inner diameter installed in an upper portion of the upstream-side connecting pipe 15 of φ0.2 m, and a gas stream 100, the volume flow rate of φ5 ㎜ 2 NL / It supplied by min, and evaluated the average density | concentration of the volatilization gas above molten glass G, the upstream opening pressure, the downstream opening pressure, the upstream discharge flow volume, and the downstream discharge flow volume.

비교예 1 에서는, 제 1 가스 공급관 (20) 으로부터 가스류 (100) 를 공급하지 않고, 용융 유리 (G) 상방의 휘산 가스의 평균 농도, 상류측 개구부 압력, 하류측 개구부 압력, 상류측 배출 유량 및 하류측 배출 유량을 평가하였다. In Comparative Example 1, the average concentration of the volatilized gas above the molten glass G, the upstream side opening pressure, the downstream side opening pressure, and the upstream side discharge flow rate are not supplied from the first gas supply pipe 20. And downstream discharge flow rates.

또한, 실시예 1 ~ 7 에서의 용융 유리 (G) 상방의 휘산 가스의 평균 농도는, 비교예 1 에서의 휘산 가스의 평균 농도를 100 으로 한 경우의 상대값으로서 나타냈다. 또, 상류측 개구부 압력 (㎩) 및 하류측 개구부 압력 (㎩) 의 값은, 감압 탈포조 (11) 내 기준 압력 (46,662 ㎩ = 350 ㎜Hg) 과의 차로 나타냈다. 또, 상류측 개구부 압력 (㎩) 과 하류측 개구부의 압력차 (제 1 가스 공급관 (20) 을 갖지 않는 쪽의 개구부 압력 (㎩)) - 제 1 가스 공급관 (20) 을 갖는 쪽의 개구부 압력 (㎩)) 도 나타냈다. In addition, the average concentration of the volatilization gas above the molten glass G in Examples 1-7 was shown as the relative value at the time of making the average concentration of the volatilization gas in the comparative example 1 100. In addition, the value of the upstream opening pressure (kPa) and the downstream opening pressure (kPa) was shown by the difference with the reference pressure (46,662 Pa = 350 mmHg) in the pressure reduction degassing tank 11. As shown in FIG. Moreover, the pressure difference between the upstream opening pressure (i) and the downstream opening (opening pressure (i) not having the first gas supply pipe 20)-opening pressure at the side having the first gas supply pipe (20). Iii)).

결과를 하기 표 1 에 나타낸다. 또한, 실시예 1 ~ 7 의 결과는, 가스류 (100) 의 공급 개시 후, 정상 상태에 이른 시점에서의 값이다. The results are shown in Table 1 below. In addition, the result of Examples 1-7 is a value in the time point which reached the steady state after supply of the gas stream 100 starts.

Figure 112010028072127-pct00001
Figure 112010028072127-pct00001

(실시예 8 ~ 13, 비교예 2) (Examples 8 to 13, Comparative Example 2)

실시예 8 에서는, 제 1 가스 공급관 (20) 을 하류측 접속관 (16) 의 상부에 설치하고 가스류 (100) 로서 N2 를 체적 유량 5 NL/min 으로 공급하고, 제 2 가스 공급관 (24) 을 상류측 접속관 (15) 의 상부에 설치하고 저수분 가스 (140) 로서 N2 를 체적 유량 10 NL/min 으로 공급하여, 용융 유리 (G) 상방의 휘산 가스의 평균 농도, 상류측 개구부 압력, 하류측 개구부 압력, 상류측 배출 유량 및 하류측 배출 유량을 평가하였다. Embodiment 8, the first gas supply pipe 20 for installation in the upper part of the downstream-side connecting pipe 16 and supplying N 2 as the gas stream 100 in the volume flow rate 5 NL / min, and the second gas supply pipe (24 ) was installed at the top of the upstream-side connection pipe (15) and supplying N 2 as low-moisture gas 140, the volume flow rate of 10 NL / min, the molten glass (G) the average concentration, the upstream-side opening portion of the volatilized gases in the upper The pressure, downstream opening pressure, upstream discharge flow rate and downstream discharge flow rate were evaluated.

실시예 9 에서는, 제 1 가스 공급관 (20) 을 하류측 접속관 (16) 의 상부에 설치하고 가스류 (100) 로서 N2 를 체적 유량 10 NL/min 으로 공급하고, 제 2 가스 공급관 (24) 을 상류측 접속관 (15) 의 상부에 설치하고 저수분 가스 (140) 로서 N2 를 체적 유량 10 NL/min 으로 공급하여, 용융 유리 (G) 상방의 휘산 가스의 평균 농도, 상류측 개구부 압력, 하류측 개구부 압력, 상류측 배출 유량 및 하류측 배출 유량을 평가하였다. Embodiment 9, the first gas supply pipe 20 for installation in the upper part of the downstream-side connecting pipe 16 and supplying N 2 as the gas stream 100 in a volume flow rate 10 NL / min, and the second gas supply pipe (24 ) was installed at the top of the upstream-side connection pipe (15) and supplying N 2 as low-moisture gas 140, the volume flow rate of 10 NL / min, the molten glass (G) the average concentration, the upstream-side opening portion of the volatilized gases in the upper The pressure, downstream opening pressure, upstream discharge flow rate and downstream discharge flow rate were evaluated.

실시예 10 에서는, 제 1 가스 공급관 (20) 을 하류측 접속관 (16) 의 상부에 설치하고 가스류 (100) 로서 N2 를 체적 유량 50 NL/min 으로 공급하고, 제 2 가스 공급관 (24) 을 상류측 접속관 (15) 의 상부에 설치하고 저수분 가스 (140) 로서 N2 를 체적 유량 10 NL/min 으로 공급하여, 용융 유리 (G) 상방의 휘산 가스의 평균 농도, 상류측 개구부 압력, 하류측 개구부 압력, 상류측 배출 유량 및 하류측 배출 유량을 평가하였다. Embodiment 10, the first gas supply pipe 20 for installation in the upper part of the downstream-side connecting pipe 16 and supplying N 2 as the gas stream 100 in a volume flow rate 50 NL / min, and the second gas supply pipe (24 ) was installed at the top of the upstream-side connection pipe (15) and supplying N 2 as low-moisture gas 140, the volume flow rate of 10 NL / min, the molten glass (G) the average concentration, the upstream-side opening portion of the volatilized gases in the upper The pressure, downstream opening pressure, upstream discharge flow rate and downstream discharge flow rate were evaluated.

실시예 11 에서는, 제 1 가스 공급관 (20) 을 상류측 접속관 (15) 의 상부에 설치하고 가스류 (100) 로서 N2 를 체적 유량 10 NL/min 으로 공급하고, 제 2 가스 공급관 (24) 을 하류측 접속관 (16) 의 상부에 설치하고 저수분 가스 (140) 로서 N2 를 체적 유량 10 NL/min 으로 공급하여, 용융 유리 (G) 상방의 휘산 가스의 평균 농도, 상류측 개구부 압력, 하류측 개구부 압력, 상류측 배출 유량 및 하류측 배출 유량을 평가하였다. Embodiment 11, the first gas supply pipe 20 for installation in the upper part of the upstream-side connection pipe (15) and supplying N 2 as the gas stream 100 in a volume flow rate 10 NL / min, and the second gas supply pipe (24 ) Is installed in the upper portion of the downstream connection pipe 16 and N 2 is supplied as a low moisture gas 140 at a volume flow rate of 10 NL / min, and the average concentration of volatilized gas above the molten glass G and the upstream opening The pressure, downstream opening pressure, upstream discharge flow rate and downstream discharge flow rate were evaluated.

실시예 12 에서는, 내경 φ20 ㎜ 의 제 1 가스 공급관 (20) 을, 상류측 접속관 (15) 의 상부에 설치하고 가스류 (100) 로서 N2 를 체적 유량 50 NL/min 으로 공급하고, 제 2 가스 공급관 (24) 을 하류측 접속관 (16) 의 상부에 설치하고 저수분 가스 (140) 로서 N2 체적 유량 15 NL/min 으로 공급하여, 용융 유리 (G) 상방의 휘산 가스의 평균 농도, 상류측 개구부 압력, 하류측 개구부 압력, 상류측 배출 유량 및 하류측 배출 유량을 평가하였다. In Example 12, an inner diameter of installation of the first gas supply pipe 20 in the φ20 ㎜, the upper part of the upstream-side connection pipe (15) and supplying N 2 as the gas stream 100 in a volume flow rate 50 NL / min, and the 2 gas supply pipe 24 is installed on the upper side of the downstream connection pipe 16 and N 2 is used as the low moisture gas 140. It supplied by the volume flow volume 15 NL / min, and evaluated the average density | concentration of the volatilization gas above molten glass G, the upstream opening pressure, the downstream opening pressure, the upstream discharge flow volume, and the downstream discharge flow volume.

실시예 13 에서는, 내경 φ5 ㎜ 의 제 1 가스 공급관 (20) 을, 내경 φ0.2 m의 상류측 접속관 (15) 의 상부에 설치하고 가스류 (100) 로서 N2 를 체적 유량 15 NL/min 으로 공급하고, 제 2 가스 공급관 (24) 을 하류측 접속관 (16) 의 상부에 설치하고 저수분 가스 (140) 로서 N2 를 체적 유량 10 NL/min 으로 공급하여, 용융 유리 (G) 상방의 휘산 가스의 평균 농도, 상류측 개구부 압력, 하류측 개구부 압력, 상류측 배출 유량 및 하류측 배출 유량을 평가하였다. In Example 13, the first gas supply pipe 20 having an inner diameter φ 5 mm was provided above the upstream connecting pipe 15 having an inner diameter φ 0.2 m, and N 2 was used as the gas flow volume 100 NL /. supplying a min, and the second installation the gas supply pipe 24 to the upper portion of the downstream-side connecting pipe 16 and supplying N 2 as low-moisture gas 140, the volume flow rate of 10 NL / min, the molten glass (G) The average concentration of the upstream volatilization gas, the upstream opening pressure, the downstream opening pressure, the upstream discharge flow rate and the downstream discharge flow rate were evaluated.

비교예 2 에서는, 제 1 가스 공급관 (20) 은 설치하지 않고, 제 2 가스 공급관 (24) 을 상류측 접속관 (15) 의 상부에 설치하고 저수분 가스 (140) 로서 N2 를 체적 유량 15 NL/min 으로 공급하여, 용융 유리 (G) 상방의 휘산 가스의 평균 농도, 상류측 개구부 압력, 하류측 개구부 압력, 상류측 배출 유량 및 하류측 배출 유량을 평가하였다. In Comparative Example 2, the first gas supply pipe 20 is not provided, the second gas to N 2 by volume a supply pipe 24 provided at an upper part of the upstream-side connection pipe 15 and as a low water-gas 140 flow rate of 15 It supplied at NL / min, and evaluated the average density | concentration of the volatilization gas above molten glass G, the upstream opening pressure, the downstream opening pressure, the upstream discharge flow volume, and the downstream discharge flow volume.

또한, 실시예 8 ~ 13 에서의 용융 유리 (G) 상방의 휘산 가스의 평균 농도는, 비교예 1 에서의 휘산 가스의 평균 농도를 100 으로 한 경우의 상대값으로서 나타냈다. 또, 상류측 개구부 압력 (㎩) 및 하류측 개구부 압력 (㎩) 의 값은, 감압 탈포조 (11) 내 기준 압력 (46,662 ㎩ = 350 ㎜Hg) 과의 차로 나타냈다. 또, 상류측 개구부 압력 (㎩) 과 하류측 개구부의 압력차 (상류측 개구부 압력 (㎩) - 하류측 개구부 압력 (㎩)) 도 나타냈다. In addition, the average concentration of the volatilization gas above the molten glass G in Examples 8-13 was shown as the relative value at the time of making the average concentration of the volatilization gas in the comparative example 1 100. In addition, the value of the upstream opening pressure (kPa) and the downstream opening pressure (kPa) was shown by the difference with the reference pressure (46,662 Pa = 350 mmHg) in the pressure reduction degassing tank 11. As shown in FIG. Moreover, the pressure difference (upstream opening pressure (K)-downstream opening pressure (K)) of an upstream opening pressure (i) and a downstream opening part was also shown.

결과를 하기 표 2 에 나타낸다. 또한, 실시예 8 ~ 13 의 결과는, 가스류 (100) 의 공급 개시 후, 정상 상태에 이른 시점에서의 값이다. The results are shown in Table 2 below. In addition, the result of Examples 8-13 is the value at the time of reaching a steady state after supply of the gas stream 100 starts.

Figure 112010028072127-pct00002
Figure 112010028072127-pct00002

산업상 이용가능성Industrial availability

본 발명은 기포를 함유하지 않는 고품질의 각종 유리 제품의 제조에 이용할 수 있고, 특히 보로실리케이트 유리의 감압 탈포에 바람직하다. INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be used for production of various glass products of high quality containing no air bubbles, and is particularly preferable for vacuum degassing of borosilicate glass.

또한, 2008 년 2 월 29 일에 출원된 일본 특허출원 2008-50110호의 명세서, 특허 청구의 범위, 도면 및 요약서의 전체 내용을 여기에 인용하고, 본 발명의 명세서의 개시로서 도입한다. In addition, all the content of the JP Patent application 2008-50110, a claim, drawing, and the abstract for which it applied on February 29, 2008 is referred here, and it introduces as an indication of the specification of this invention.

10, 10' : 감압 탈포 장치
11 : 감압 탈포조
12 : 상승관
13 : 하강관
14 : 분위기 제어부
15, 16 : 접속관
17 : 배기구
18 : 개구부
19 : 가상 영역
20 : 제 1 가스 공급관
21 : 가상선
24 : 제 2 가스 공급관
100, 120 : 가스류
140 : 저수분 가스
200 : 용해조
220 : 상류 피트
240 : 하류 피트
G : 용융 유리
10, 10 ': vacuum degassing apparatus
11: vacuum degassing tank
12: riser
13 down pipe
14: atmosphere control unit
15, 16: connection tube
17: exhaust port
18: opening
19: virtual area
20: first gas supply pipe
21: virtual line
24: second gas supply pipe
100, 120: gas flow
140: low moisture gas
200: dissolution tank
220: upstream feet
240: downstream feet
G: molten glass

Claims (5)

내부의 기압이 대기압 미만으로 설정되고, 공급된 용융 유리 내의 기포를 부상 및 파포시키는 감압 탈포조와, 상기 감압 탈포조에 접속되고, 탈포 처리 전의 용융 유리를 흡인 상승시켜 그 감압 탈포조에 도입하는 상승관과, 상기 감압 탈포조에 접속되고, 탈포 처리 후의 용융 유리를 그 감압 탈포조로부터 하강시켜 도출하는 하강관을 구비하는 용융 유리의 감압 탈포 장치에 있어서,
적어도 2 개의 접속관에 의해 상기 감압 탈포조와 접속되는 중공 구조의 분위기 제어부를 갖고, 상기 분위기 제어부에는 그 분위기 제어부 내를 배기하여 감압하기 위한 배기구가 형성되어 있고, 상기 분위기 제어부에는, 적어도 1 개의 상기 접속관과의 관계에서 하기 (1) 및 (2) 를 만족하는 제 1 가스 공급관이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 용융 유리의 감압 탈포 장치.
(1) 상기 분위기 제어부와 상기 접속관이 이루는 개구부를, 상기 접속관의 관축 방향을 따라 상기 분위기 제어부 내부로 연장시킨 가상 영역을, 상기 제 1 가스 공급관으로부터 공급되는 가스류가 횡단한다.
(2) 상기 제 1 가스 공급관의 선단으로부터 그 가스 공급관의 관축을 따라 연장시킨 가상선이, 상기 분위기 제어부와 상기 접속관이 이루는 개구부를 통과하지 않는다.
The internal air pressure is set below atmospheric pressure, connected to the vacuum degassing tank which floats and blows bubbles in the supplied molten glass, and the said vacuum degassing tank, and suction-raises the molten glass before a defoaming process, and introduces into the vacuum degassing tank. In the vacuum degassing apparatus of the molten glass which is connected to a riser and the said pressure reduction degassing tank, and has the falling pipe which descends and pulls out the molten glass after a defoaming process from the pressure reduction degassing tank,
The atmosphere control part of the hollow structure connected with the said pressure reduction degassing tank by at least 2 connection pipe | tubes, The atmosphere control part is provided with the exhaust port for evacuating and decompressing the inside of the atmosphere control part, At least 1 said The 1st gas supply pipe | tube which satisfy | fills following (1) and (2) in the relationship with the said connection pipe is formed, The pressure reduction defoaming apparatus of the molten glass characterized by the above-mentioned.
(1) The gas flow supplied from the said 1st gas supply pipe traverses the virtual area which extended the opening part which the said atmosphere control part and the said connection pipe extends inside the said atmosphere control part along the tube axis direction of the said connection pipe.
(2) An imaginary line extending from the distal end of the first gas supply pipe along the tube axis of the gas supply pipe does not pass through the opening formed by the atmosphere control unit and the connection pipe.
제 1 항에 있어서,
상기 접속관의 수를 X 로 할 때에, 상기 제 1 가스 공급관의 수가 X-1 이하 (단, 상기 제 1 가스 공급관의 수는 1 이상) 인 것을 특징으로 하는 용융 유리의 감압 탈포 장치.
The method of claim 1,
When the number of the connection pipes is X, the number of the first gas supply pipes is X-1 or less (however, the number of the first gas supply pipes is 1 or more).
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 제 1 가스 공급관으로부터 공급되는 가스류가, 수증기 농도 60 ㏖% 이하의 저수분 가스류인 것을 특징으로 하는 용융 유리의 감압 탈포 장치.
3. The method according to claim 1 or 2,
The gas flow supplied from a said 1st gas supply pipe is a low moisture gas flow of 60 mol% or less of steam concentration, The vacuum degassing apparatus of the molten glass characterized by the above-mentioned.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 감압 탈포조 내의 용융 유리의 상부 공간에 수증기 농도 60 ㏖% 이하의 저수분 가스를 공급하는 제 2 가스 공급관이 추가로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 용융 유리의 감압 탈포 장치.
3. The method according to claim 1 or 2,
A second gas supply pipe for supplying a low moisture gas having a vapor concentration of 60 mol% or less is further formed in an upper space of the molten glass in the vacuum degassing tank, characterized in that the vacuum degassing apparatus for molten glass.
제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 감압 탈포 장치를 이용한 용융 유리의 감압 탈포 방법으로서, 하기 식을 만족하도록 상기 제 1 가스 공급관으로부터 가스류를 공급하는 용융 유리의 감압 탈포 방법.
v>A/0.031×[5.487×10-6 ×(1/56.353-1/ρ)+19.6×(0.163-z)+7.52]1/2
v : 제 1 가스 공급관의 가스류의 유속 (m/s)
ρ : 제 1 가스 공급관의 가스류의 밀도 (㎏/㎥)
z : 분위기 제어부 내에서의 제 1 가스 공급관의 출구부의 높이 (m)
A : 개구부의 면적 (㎡)
The pressure reduction defoaming method of the molten glass using the vacuum degassing apparatus of Claim 1 or 2, The pressure reduction defoaming method of the molten glass which supplies a gas flow from a said 1st gas supply line so that a following formula may be satisfied.
v> A / 0.031 × [5.487 × 10 -6 × (1 / 56.353-1 / ρ) + 19.6 × (0.163-z) +7.5 2 ] 1/2
v: flow rate of the gas flow in the first gas supply pipe (m / s)
ρ: density of gas flow in the first gas supply pipe (kg / ㎥)
z: height (m) of the outlet portion of the first gas supply pipe in the atmosphere control unit
A: area of the opening (m 2)
KR1020107009601A 2008-02-29 2009-02-27 Vacuum defoaming apparatus for molten glass KR101221249B1 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2008-050110 2008-02-29
JP2008050110 2008-02-29
PCT/JP2009/053736 WO2009107801A1 (en) 2008-02-29 2009-02-27 Vacuum defoaming apparatus for molten glass

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20100085955A KR20100085955A (en) 2010-07-29
KR101221249B1 true KR101221249B1 (en) 2013-01-11

Family

ID=41016186

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020107009601A KR101221249B1 (en) 2008-02-29 2009-02-27 Vacuum defoaming apparatus for molten glass

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP5423666B2 (en)
KR (1) KR101221249B1 (en)
CN (1) CN101959807B (en)
TW (1) TWI392657B (en)
WO (1) WO2009107801A1 (en)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103025669B (en) * 2010-07-30 2015-04-22 旭硝子株式会社 Device for depressurizing and defoaming molten glass, method for depressurizing and defoaming molten glass, device for manufacturing glass product, and method for manufacturing glass product
CN102491621B (en) * 2011-11-11 2013-12-04 彩虹(合肥)液晶玻璃有限公司 Vacuum device for platinum passage
CN203625224U (en) * 2013-09-17 2014-06-04 安瀚视特控股株式会社 Molten glass treatment device and manufacturing device of glass substrate
JP5976863B2 (en) * 2014-03-31 2016-08-24 AvanStrate株式会社 Glass substrate manufacturing method and glass substrate manufacturing apparatus
JP6847620B2 (en) * 2016-09-30 2021-03-24 AvanStrate株式会社 Glass substrate manufacturing method and glass substrate manufacturing equipment
JP7140579B2 (en) * 2018-07-13 2022-09-21 AvanStrate株式会社 Glass substrate manufacturing method and glass substrate manufacturing apparatus

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004091307A (en) 2002-07-10 2004-03-25 Nippon Electric Glass Co Ltd Method for producing glass
JP2007169082A (en) 2005-12-19 2007-07-05 Nippon Sheet Glass Co Ltd Apparatus for melting glass

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2664039B2 (en) * 1992-01-20 1997-10-15 旭硝子株式会社 Vacuum degassing method and apparatus
CN1184153C (en) * 1998-02-26 2005-01-12 旭硝子株式会社 Vacuum degassing apparatus for molten glass
JP3861460B2 (en) * 1998-06-26 2006-12-20 旭硝子株式会社 Vacuum degassing method for molten glass
JP4110663B2 (en) * 1999-04-13 2008-07-02 旭硝子株式会社 Vacuum degassing method for molten glass flow
DE10116960C1 (en) * 2001-04-05 2002-08-08 Schott Glas Vacuum Läuteranlage
WO2006059576A1 (en) * 2004-12-01 2006-06-08 Nippon Sheet Glass Company, Limited Process for producing glass and glass production apparatus
KR101419957B1 (en) * 2006-08-30 2014-07-16 아사히 가라스 가부시키가이샤 Glass-making processes
WO2008093580A1 (en) * 2007-01-31 2008-08-07 Asahi Glass Company, Limited Process for producing glass and vacuum degassing apparatus

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004091307A (en) 2002-07-10 2004-03-25 Nippon Electric Glass Co Ltd Method for producing glass
JP2007169082A (en) 2005-12-19 2007-07-05 Nippon Sheet Glass Co Ltd Apparatus for melting glass

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2009107801A1 (en) 2011-07-07
KR20100085955A (en) 2010-07-29
CN101959807B (en) 2013-06-19
WO2009107801A1 (en) 2009-09-03
CN101959807A (en) 2011-01-26
JP5423666B2 (en) 2014-02-19
TW200948732A (en) 2009-12-01
TWI392657B (en) 2013-04-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101221249B1 (en) Vacuum defoaming apparatus for molten glass
JP5470853B2 (en) Glass manufacturing method and vacuum degassing apparatus
JP5700046B2 (en) Vacuum degassing apparatus for molten glass, vacuum degassing method for molten glass, glass product manufacturing apparatus, and glass product manufacturing method
JP2000302456A (en) Vacuum deaeration for molten glass flow
JP5434077B2 (en) Glass manufacturing method
KR20030027705A (en) Vacuum degassing apparatus for molten glass
KR101379601B1 (en) Apparatus for degassing molten glass
KR101341741B1 (en) Method for producing molten glass, vacuum degassing apparatus, and method for producing glass product
JP3785792B2 (en) Vacuum degassing equipment for molten glass
JP5975022B2 (en) Method for defoaming molten glass, apparatus for defoaming molten glass, method for producing molten glass, apparatus for producing molten glass, method for producing glass product, and apparatus for producing glass product
JP3005210B2 (en) Furnace material for vacuum degassing equipment for molten glass and vacuum degassing equipment
JP4058935B2 (en) Vacuum deaerator
JP4048646B2 (en) Vacuum degassing method for molten glass and glass manufacturing apparatus by vacuum degassing
JP2006298657A (en) Vacuum defoaming apparatus of molten glass and method for making molten glass clear by using the same
JP4513248B2 (en) Vacuum degassing apparatus and vacuum degassing method

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20151228

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161223

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171222

Year of fee payment: 6

LAPS Lapse due to unpaid annual fee