KR20090048037A - 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법 및 플라즈마디스플레이 패널 - Google Patents

플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법 및 플라즈마디스플레이 패널 Download PDF

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KR20090048037A
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허성철
김명정
이우석
김상곤
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엘지마이크론 주식회사
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Abstract

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로서, 대향되는 기판 사이에 방전셀을 구획하는 격벽을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서, 상기 격벽은 적어도 2 이상의 복층구조로 형성하여 에칭을 통하여 격벽을 형성하며, 각 층에 들어가는 필러는 달리하거나 그 비율을 달리함으로써, 상, 하층 또는 각 층간의 에칭속도를 다르게 할 수 있도록 하여 결과적으로 고정세 셀 및 정상적인 격벽형상을 제작할 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 제작방법에 관한 것이다.
플라즈마 디스플레이 패널, 고정세 격벽

Description

플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법 및 플라즈마 디스플레이 패널{Manufacturing method of plasma display panel and plasma display panel of the same}
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법 및 이에 의한 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로, 보다 상세하게는 플라즈마 디스플레이 패널 내의 격벽의 구조를 상이한 성분비율로 이루어진 복층구조로 형성하여, 각 층의 에칭속도를 달리함으로써, 정밀한 고정세 격벽의 형성을 가능하게 하며, 직진성이 향상된 격벽을 제조가능한 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법에 관한 것이다.
최근, 액정표시장치(Liquid Crystal Display; 이하 " LCD" 라 함), 전계방출 표시장치(Field Emission Display; 이하 " FED" 라 함) 및 플라즈마 표시장치(Plasma Display Panel; 이하 " PDP" 라 함)등의 평면 표시장치가 활발히 개발되고 있으며, 이들중 PDP는 단순구조에 의한 제작의 용이성, 고휘도 및 고발광 효율의 우수, 메모리 기능 및 160。이상의 광시야각을 갖는 점과 아울러 40 인치 이상의 대화면을 구현할 수 있는 장점을 가지고 있다.
도 1a을 참조하면, 종래기술에 따른 PDP는 어드레스 전극(11)을 실장한 하부유리판(10)과, 상기 하부 유리판(10)의 상부에 소정의 두께로 도포된 하부 유전체후막(13)과, 하부 유전체후막(13)의 상부에 형성되어 각각의 방전셀을 분할하는 격벽(20)과, 플라즈마 방전으로 발생된 빛에 의해 여기되어 발광하는 형광체(30)와, 상부유리판(40)의 상부에 형성된 투명전극(41)과, 상기 상부유리판(40) 및 투명전극(41)의 상부에 소정의 두께로 도포된 상부 유전체후막(42)과, 상기 유전체 후막(42)의 상부에 도포된 보호막(43)을 구비한다. 어드레스 전극(11) 및 투명전극(41)에 소정의 구동전압(예를 들어 200V)이 인가되면, 방전셀의 내부에는 어드레스전극(11)에서 방출된 전자에 의해 플라즈마 방전이 일어나게 된다. 이를 상세히 설명하면, 전극에서 방출된 전자가 방전셀에 봉입된 He+Xe 가스 또는 Ne+Xe 가스의 원자와 충돌하여 상기 가스의 원자들을 이온화시키면서 2차 전자의 방출이 일어나며 이때의 2차전자는 가스의 원자들과 충돌을 반복하면서 차례로 원자를 이온화해간다. 즉, 전자와 이온이 배로 증가하는 애벌런치(Avalanche)과정에 들어간다. 상기 애벌런치 과정에서 발생된 빛이 적색(Red; 이하 " R" 라 함), 녹색(Green; 이하 " G" 라 함), 청색(Blue;이하 "B" 라 함)의 형광체를 여기 발광하게 되며 상기 형광체에서 발광된 R,G,B의 빛은 보호막(43), 상부 유전체후막(42) 및 투명전극(41)을 경유하여 상부유리판(40)으로 진행되어 문자 또는 그래픽을 표시하게 된다. 한편, 상기 격벽(20)은 각각의 방전셀을 분할함과 아울러, 형광체(30)에서 발광된 빛을 상부유리판(40) 쪽으로 반사시키게 된다.
특히 상술한 상기 격벽은 일반적으로 유리재질로 이루어지며, 이러한 유리 재질은 에칭효율이 낮아 격벽의 제조시 정밀한 격벽을 제작하기 어려운 문제점이 있었다. 이를 해결하기 위하여, 격벽의 재질을 개선하여 정밀한 구조의 격벽을 형성하려는 시도가 계속되고 있다.
도 1b를 참조하여 일반적으로 상기 PDP의 격벽의 제조과정을 살펴보면, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽의 제조 과정은 먼저, (a)와 같이 기판(100)상에 격벽 재료층(120)을 형성하는 단계를 포함한다.
이러한 (a)단계 이후에는 (b)와 같이 격벽 재료 층(120)을 노광하는 단계가 포함된다. 예를 들면, 격벽 재료 층(120) 상부에 포토 마스크(Photo Mask : 130)를 배치한 이후에 광원(140)을 이용하여 포토 마스크(130)가 배치된 격벽 재료 층(120)의 상부에 노광용 광을 조사하는 것이다. 이러한 과정을 거쳐 노광 과정이 수행된다.이러한 (b)의 단계 이후에 (c)와 같이 노광된 격벽 재료 층(120)을 에칭(Etching)하는 에칭 공정이 포함된다. 이러한 과정을 통해 격벽(112)이 형성된다.
그러나 상술한 격벽의 제조공정으로는 미세한 피치의 고정세(fine pitch) 격벽을 형성하기가 어려운 문제가 있다. 즉 이는 격벽의 두께 방향의 에칭 깊이와 폭 방향의 깊이의 대비로 표현되는 에칭 팩터(etching factor)가 구현되지 못하기 때문이다. 이는 하부공간 폭을 확보하기 위하여 에칭을 계속 진행하게 되면 상폭이 무너지거나 혹은 없어지는 결과를 초래하기 때문이다. 또한 내에칭성 필러를 사용하지 않아 에칭 속도를 조절하기 어려우며, 필러로 TiO2를 사용하여 에칭 후에는 잔 여물이 남게 되어 패널 상에 얼룩이 생기는 문제가 발생한다.
도 2를 참조하여 종래의 에칭방식으로 구현되는 격벽의 제조방식의 문제를 상세히 설명하기로 한다. 도 2의 (a)를 살펴보면 격벽의 상층의 폭(d2)과 하층의 폭(d1)의 폭의 차이가 커지게 된 모습을 보이고 있다. 이는 전체적으로 격벽의 부위에 에칭의 속도를 부위별로 조절이 힘들기 되어 나타나게 되는 것이며, 이 경우 격벽 하층부분의 혹(d1)이 넓게 형성되어 고정세 셀을 형성할 수 없게 된다. 만일 하층 부분의 폭을 더 좁게 하기 위하여 에칭을 진행하게 되면 격벽 상층의 폭이 없어지게 되며, 만일 반대로 격벽 상층부분의 에칭속도가 느려 에칭을 진행하게 되면, 격벽 상층과 하층 부분의 경계부분이 얇아져서 무너지게 된다. 따라서, 도 2의 (b)에 도시된 경우처럼 격벽 상층과 하층의 두께의 차이가 나면서도 하층의 폭이 상대적으로 얇아 안정적으로 고정세 격벽을 형성할 필요성이 있다.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 플라즈마 디스플레이 패널 내의 격벽의 구조를 상이한 성분비율로 이루어진 복층구조로 형성하여, 각 층의 에칭속도를 달리함으로써, 정밀한 고정세 격벽의 형성을 가능하게 하며, 직진성이 향상된 격벽을 제조가능한 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 제공하는 데 있다.
본 발명은 상술한 목적을 실현하기 위해, 대향되는 기판 사이에 방전셀을 구획하는 격벽을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서, 상기 격벽은 적어도 2 이상의 복층구조로 형성하여 에칭을 통하여 격벽을 형성하며, 각 층에 들어가는 필러는 달리하거나 그 비율을 달리함으로써, 상, 하층 또는 각 층간의 에칭속도를 다르게 할 수 있도록 하여 결과적으로 고정세 셀 및 정상적인 격벽형상을 제작할 수 있도록 한다.
본 발명에 따르면, 플라즈마 디스플레이 패널 내의 격벽의 구조를 상이한 성분비율로 이루어진 복층구조로 형성하여, 각 층의 에칭속도를 달리함으로써, 정밀한 고정세 격벽의 형성을 가능하게 하며, 직진성이 향상된 격벽을 제조가능한 효과가 있다.
본 발명은 대향되는 기판 사이에 방전셀을 구획하는 격벽을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서, 상기 격벽은 적어도 2 이상의 복층구조로 형성하여 에칭을 통하여 격벽을 형성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 제공하여, 격벽의 각층의 에칭 속도를 조절하여 원하는 형상의 격벽을 효율적으로 제조할 수 있는 장점이 있다.
또한, 본 발명은 상기 격벽의 복층구조의 층들은 내에칭성 글래스 필러를 추가로 포함하여 격벽을 형성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 제공한다.
또한, 본 발명은 상기 내에칭성 글래스 필러는 총 중량대비 15% ~ 40%이하의 범위인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 제공함이 바람직하다.
또한, 본 발명은 상기 내 에칭성 글래스 필러는 상기 격벽의 복층구조의 최상층에 투입되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 제공하여 유리재질만으로 형성되는 격벽에서 에칭 팩터(etching factor)가 구현될 수 없어 고정세 격벽을 형성하기 어려운 문제를 해결하여 보다 직진성이 향상된 격벽을 형성할 수 있도록 한다.
또한, 본 발명은 상기 격벽의 복층구조의 각각의 층은 Al2O3, ZnO를 포함하여 이루어지되, 상기 격벽의 복층구조의 각층의 형성비율을 달리함으로써, 에칭속도를 다르게 하여 격벽을 형성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널 의 제조방법을 제공하여 원하는 형상의 고정세 셀 및 정상적인 격벽형상을 제작할 수 있도록 한다.
또한, 본 발명은 상기 격벽의 상층은 모상글래스( 60 ~ 85 % ), Al2O3( 5 ~24%), ZnO( 1 ~ 20% ), 내에칭성 글래스 필러(1 ~ 20%)이며, 상기 격벽의 하층은 모상글래스( 75 ~ 85 % ), Al2O3(5 ~ 24 % ), ZnO(1 ~ 15 %)로 형성되는 2층 구조인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 제공하여 에칭속도의 조절을 통하여 원하는 형상의 격벽의 형상을 구현할 수 있도록 한다.
또한, 본 발명은 상기 격벽의 상층의 에칭속도와 상기 격벽 하층의 에칭 속도의 비가 ( 1 : 1.3~1.8 )인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 제공한다.
또한, 본 발명은 상기 격벽은 격벽 상층과 격벽 중층 및 격벽 하층의 3층 구조로 이루어지며 상기 격벽의 상층은 모상글래스( 60 ~ 85% ), Al2O3( 5 ~ 24%), ZnO( 1 ~ 20% ), 내에칭성 글래스 필러( 1 ~ 20%)이며, 상기 격벽의 중층은 모상글래스( 65 ~ 85 % ), Al2O3( 5 ~ 25 %), ZnO( 1 ~ 20 % ), 내에칭성 글래스 필러( 1 ~ 10 %)이며, 상기 격벽의 하층은 모상글래스(75 ~ 85 % ), Al2O3( 5 ~ 24 % ), ZnO( 1 ~ 15 %)로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 제공하여, 보다 다양한 패턴의 에칭조절을 통한 격벽의 형성을 구현할 수 있도록 하여 제조방식의 범용성을 높일 수 있도록 한다.
또한, 본 발명은 상기 격벽은 격벽 상층과 격벽 중층 및 격벽 하층의 3층 구조로 이루어지며, 각 층의 에칭 속도의 비가 ( 1 ):(1.2 ~ 1.5):(1.3 ~ 1.8)인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 제공한다.
또한, 본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서, 전, 후면 기판과 방전셀을 구획하는 격벽구조가 성분비율이 다른 복수의 층으로 형성되어 각 층의 에칭속도의 차이를 통하여 고정세 격벽을 형성하는 상술한 제조방법에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공할 수 있도록 한다.
이하, 첨부한 도면을 참고하여 본 발명의 구성과 작용을 설명한다.
도 3을 참조하면, 도 3은 본 발명의 격벽의 형성을 위한 격벽을 복층구조로 형성하되, 각 층의 구성재료 비율을 상이하게 형성하는 것을 도시한 것이다.
본 발명은 대향되는 기판 사이에 방전셀을 구획하는 격벽을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서, 상기 격벽은 적어도 2 이상의 복층구조로 형성하여 에칭을 통하여 격벽을 형성하는 것을 특징으로 한다. 따라서 격벽을 형성하는 재료의 비율을 달리하는 경우에 제작필요성과 에칭 속도의 조절을 통한 격벽의 형상 정도에 따라 여러 층으로 형성할 수 있으며, 본 발명의 바람직한 일 실시예에서는 2층 구조와 3층 구조를 중심으로 설명한다.
즉 도 3의 (a)의 경우에는 격벽의 층을 상층과 하층을 형성하는 2층 구조의 격벽제조방식을 구현한 것이다. 즉 격벽 상층(T1)과 격벽 하층(T2)로 구분되어 각 층에는 별도의 재료를 형성하거나, 동일한 재료를 형성하되 그 형성 비율을 달리함으로써, 상기 격벽 상층과 격벽 하층의 에칭속도를 조절할 수 있도록 한다. 상기 내에칭성 글래스 필러는 에칭팩터의 구현을 위하여 격벽에 전체적으로 투입될 수 있으며, 더욱 바람직한 본 일 실시예에서는 격벽의 최상층에 내에칭성 글래스 필러를 포함시켜 에칭속도의 조절이 가능하게 함이 바람직하다.
기본적으로 격벽에 들어가는 필러의 재료는 Al2O3, ZnO, 내에칭성 글래스 필러를 포함시킴이 바람직하다. 특히 격벽 상층에는 내에칭성 글래스 필러가 필히 들어가며, 추가적으로 Al2O3, ZnO를 포함시킬 수 있다.또한, 격벽 하층에는 Al2O3, ZnO 를 필러로 사용할 수 있다. 또한, 모상유리와 함께 필러로 형성되는 필러 재료는 총 중량대비 15% ~ 40%이하의 범위로 형성함이 바람직하다.
일반적으로 에칭 속도가 향상되기 위해서는 격벽의 상층 부분이 에칭속도가 느리게 설계되게 하며, 상층이 에칭속도가 상대적으로 느려 조금 에칭될 동안, 하층부분이 빠르게 에칭되면서, 격벽의 하부공간 폭을 확보하게 되며, 최종적으로 격벽과 셀공간을 형성할 수 있도록 함이 바람직하다. 본 발명에서는 상기 격벽의 상층은 모상글래스( 60 ~ 85 % ), Al2O3( 5 ~24%), ZnO( 1 ~ 20% ), 내에칭성 글래스 필러(1 ~ 20%)이며, 상기 격벽의 하층은 모상글래스( 75 ~ 85 % ), Al2O3(5 ~ 24 % ), ZnO(1 ~ 15 %)로 형성되는 2층 구조로 격벽의 에칭속도를 격벽상층과 하층의 간에 차이를 두어 에칭할 수 있도록 함이 바람직하다. 물론 상기 격벽의 상층의 에칭속도와 상기 격벽 하층의 에칭 속도의 비가 ( 1 : 1.3~1.8 )에 포함되도록 함이 효율성을 증진 시킬 수 있다.
도 3의 (b)의 경우에는 격벽의 복층구조를 상층(T1)과 중층(T2), 하층(T3)의 3층구조로 형성한 경우를 도시한 것이다. 복층 구조의 증감은 제작의도에 따라 격벽의 하부공간을 최대화하는 방향에서 조절될 수 있으며, 본 발명에서는 청구항 3에 있어서,
상기 격벽은 격벽 상층과 격벽 중층 및 격벽 하층의 3층 구조로 이루어지며
모상글래스( 60 ~ 85% ), Al2O3( 5 ~ 24%), ZnO( 1 ~ 20% ), 내에칭성 글래스 필러( 1 ~ 20%)이며,
상기 격벽의 중층은 모상글래스( 65 ~ 85 % ), Al2O3( 5 ~ 25 %), ZnO( 1 ~ 20 % ), 내에칭성 글래스 필러( 1 ~ 10 %)이며,
상기 격벽의 하층은 모상글래스(75 ~ 85 % ), Al2O3( 5 ~ 24 % ), ZnO( 1 ~ 15 %)로 형성될 수 있다. 또한, 이러한 3층 구조로 이루어지는 경우에는, 각 층의 에칭 속도의 비가 ( 1 ):(1.2 ~ 1.5):(1.3 ~ 1.8)인 것이 바람직하다.
상술한 바람직한 본 발명의 작용에 대한 실험례를 아래에서 설명하기로 한다. 아래의 표에서 에칭속도의 단위는 ㎛/min이다.
{표 1}
Figure 112007080540019-PAT00001
{표 2}
Figure 112007080540019-PAT00002
{표 3}
Figure 112007080540019-PAT00003
상기 {표 1}은 본 발명의 일 실시예로서의 실험예를 나타낸 것이다. 이는 격벽 상층의 구성을 전체 중량비를 고려하는 경우, 모상 glass(66%), Al2O3(21%), ZnO(3%), glass filler(10%)로 형성하는 경우에 에칭속도는 7.5이며, 격벽하층의 경우에는 모상 glass(66%), Al2O3(10%), ZnO(10%)로 형성하고 에칭속도 10㎛/min으로 형성하는 경우에 격벽의 에칭상태를 나타낸 도면이 도 4의 (a)에 나타나 있다.
또한, 상기 {표 2}는 상기 일실시예의 비교 실험예로서, 이는 격벽 상층을 모상 glass(83%), Al2O3(11%), ZnO(6%)로 형성하는 경우, 에칭속도는 10.5㎛/min이며, 격벽 하층을 모상 glass(83%), Al2O3(8.5%), ZnO(8.5%)로 형성하는 경우에 에칭속도는 10㎛/min인 경우에 격벽의 에칭상태를 도시한 것이 도 4 (b)이다.
그리고 상기 {표 3} 역시 비교 실험예로서, 격벽 상층을 모상 glass(64.02%), Al2O3(7.51%), ZnO(9.07%), glass filler(19.4%)로 형성하고, 에칭 속도 5.5이며, 상기 격벽 하층은 모상 glass(86.5%), Al2O3(11.4%), ZnO(2.1%)의 비율에, 에칭속도는 10㎛/min인 경우의 격벽의 에칭상태는 도 4 (c)에 나타내었다.
도면에서 확인되는 바와 같이 {표 1}의 조성의 복층구조에서는 상층의 에칭속도를 하층보다 느리게 형성할 수 있으며, 특히 이 경우에 치수에 맞는 격벽형상을 구현되는 것을 확인할 수 있다(도 4 (a)).
그러나, 비교실험예로 {표 2}의 경우에는 격벽 상층부분의 에칭속도가 빠르고 격벽하층의 에칭속도가 느리게 되는 결과, 하부공간폭을 확보하기 위하여 에칭을 더 진행하게 되면 격벽의 상폭이 없어지게 된다(도 4 (b)).
또한, 비교시험예 {표 3)의 경우에는 격벽상층에 에칭속도가 느리기는 하나, 에칭을 더 진행하게 되면 격벽상층과 하층의 경계 부분이 얇아져서 무너지는 방향으로 에칭이 진행되게 된다(도 4 (c)).
따라서 본 발명에 따르면, 복층구조로 형성되는 격벽의 구성재료를 다르게 하거나 에칭비율을 상이하게 조정하여 상하층의 에칭속도를 용이하게 조절가능하게 함으로써, 상층부분의 에칭속도가 느리게 설계되고, 하층이 빠르게 에칭되면서, 에칭팩터가 향상되어 에칭의 직진성이 향상하게 되어 하부공간폭을 충분히 확보할 수 있으며, 최종적으로 격벽과 셀 공간이 안정적인 구조로 형성되며, 고정세 격벽을 용이하게 제작 가능한 장점이 있게 된다. 이로써 안정적인 구조의 고정세 격벽을 구비한 플라즈마 디스플레이 패널을 제작할 수 있게 되는 것이다.
전술한 바와 같은 본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시예에 관해 설 명하였다. 그러나 본 발명의 범주에서 벗어나지 않는 한도 내에서는 여러 가지 변형이 가능하다 본 발명의 기술적 사상은 본 발명의 기술한 실시예에 국한되어 정해져서는 안 되며, 특허청구범위뿐만 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.
도 1a는 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 도시한 개략도이다.
도 1b는 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽구조를 형성하는 방법을 도시한 도면이다.
도 2는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽구조를 도시한 것이다.
도 3은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽구조의 형성방법을 도시한 것이다.
도 4는 본 발명에 따른 격벽의 에칭의 모습과 비교실험예를 나타낸 것이다.

Claims (10)

  1. 대향되는 기판 사이에 방전셀을 구획하는 격벽을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서,
    상기 격벽은 적어도 2 이상의 복층구조로 형성하여 에칭을 통하여 격벽을 형성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 격벽의 복층구조의 층들은 내에칭성 글래스 필러를 추가로 포함하여 격벽을 형성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 내에칭성 글래스 필러는 총 중량대비 15% ~ 40%이하의 범위인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 내 에칭성 글래스 필러는 상기 격벽의 복층구조의 최상층에 투입되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 격벽의 복층구조의 각각의 층은 Al2O3, ZnO를 포함하여 이루어지되, 상기 격벽의 복층구조의 각층의 형성비율을 달리함으로서, 에칭속도를 다르게 하여 격벽을 형성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 격벽의 상층은 모상글래스( 60 ~ 85 % ), Al2O3( 5 ~24%), ZnO( 1 ~ 20% ), 내에칭성 글래스 필러(1 ~ 20%)이며,
    상기 격벽의 하층은 모상글래스( 75 ~ 85 % ), Al2O3(5 ~ 24 % ), ZnO(1 ~ 15 %)로 형성되는 2층 구조인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  7. 청구항 5에 있어서,
    상기 격벽의 상층의 에칭속도와 상기 격벽하층의 에칭 속도의 비가 ( 1 : 1.3 ~ 1.8 )인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  8. 청구항 5에 있어서,
    상기 격벽은 격벽 상층과 격벽 중층 및 격벽 하층의 3층 구조로 이루어지며
    모상글래스( 60 ~ 85% ), Al2O3( 5 ~ 24%), ZnO( 1 ~ 20% ), 내에칭성 글래스 필러( 1 ~ 20%)이며,
    상기 격벽의 중층은 모상글래스( 65 ~ 85 % ), Al2O3( 5 ~ 25 %), ZnO( 1 ~ 20 % ), 내에칭성 글래스 필러( 1 ~ 10 %)이며,
    상기 격벽의 하층은 모상글래스(75 ~ 85 % ), Al2O3( 5 ~ 24 % ), ZnO( 1 ~ 15 %)로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  9. 청구항 5에 있어서,
    상기 격벽은 격벽 상층과 격벽 중층 및 격벽 하층의 3층 구조로 이루어지며, 각 층의 에칭 속도의 비가 ( 1 ):(1.2 ~ 1.5):(1.3 ~ 1.8)인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  10. 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서,
    전, 후면 기판과 방전셀을 구획하는 격벽구조가 성분비율이 다른 복수의 층으로 형성되어 각 층의 에칭속도의 차이를 통하여 고정세 격벽을 형성하는 청구항 1 내지 9 중 어느 하나의 제조방법에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
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