KR20090004551A - 광학 저장 시스템을 위한 빔 성형기 - Google Patents

광학 저장 시스템을 위한 빔 성형기 Download PDF

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Abstract

광학 저장 시스템을 위한 빔 성형기가 개시된다.
본 발명은 성형기 및 이러한 빔 성형기(9)에서 사용하는 광학 저장 매체(11)에 기록 및/또는 이 광학 저장 매체로부터 판독하기 위한 장치에 대한 것이다.
본 발명에 따르면, 입사광 빔(3)으로부터 제 1 성형된 광 빔(7)을 생성하기 위한 빔 성형기(9)는 입사광 빔(3)의 프로파일에 대해 공간적으로 변동하는 광학 성질을 갖는 빔 성형 구성요소(22, 30)를 구비한다.
광학, 빔, 입사광, 프로파일, 매체

Description

광학 저장 시스템을 위한 빔 성형기{Beam shaper for an optical storage system}
본 발명은 홀로그래픽 저장 매체와 같은, 광학 저장 매체에 기록 및/또는 이 광학 저장 매체로부터 판독하기 위한 장치에 관한 것으로서, 더 상세하게는 이러한 장치에서의 사용을 위한 빔 성형기에 대한 것이다.
홀로그래픽 데이터 스토리지에서, 디지털 데이터는 2개의 가간섭성 레이저 빔의 중첩에 의해 생성된 간섭 패턴을 레코딩함으로써 저장되며, 여기서, 소위 '목적 빔'인 하나의 빔은 공간 광 변조기에 의해 변조되고 레코딩될 정보를 운반한다. 간섭 패턴은 스토리지 재료의 특정 성질에 대한 변형이 되게 하며, 이들 성질은 간섭 패턴의 로컬적 세기에 의존한다. 레코딩된 홀로그램의 판독은 레코딩 동안과 동일한 조건을 사용하여 기준 빔으로 홀로그램을 조명함으로써(illuminating), 수행된다. 이는 결국 레코딩된 목적빔의 재구성이 되게 한다.
홀로그래픽 데이터 스토리지의 한 가지 이점은 증가된 데이터 용량이다. 종 래 광학 저장 매체와 달리, 홀로그래픽 저장 매체의 볼륨은, 단일 또는 수개의 2-차원층이 아닌데, 이 볼륨은 정보를 저장하기 위해 사용된다. 홀로그래픽 데이터 스토리지의 추가 이점은 2개의 빔 사이에 각도를 변화시키거나, 또는 시프트 멀티플렉싱을 사용하거나, 기타에 의해 동일한 볼륨에 다중 데이터를 저장하는 가능성이다.
더욱이, 단일 비트를 저장하는 대신에, 데이터는 데이터 페이지로서 저장된다. 일반적으로, 데이터 페이지는 라이트-다크-패턴(light-dark-pattern)의 매트릭스, 즉 2 차원 바이너리 어레이 또는 그레이값의 어레이로 구성되며, 이는 다수의 비트를 코딩한다. 이는 증가된 저장 밀도에 덧붙여 증가된 데이터율을 달성하는 것을 허용한다. 이 데이터 페이지는 공간 광 변조기(SLM)에 의해 목적 빔으로 임프린트되어(imprinted) 변조기 어레이로 검출된다.
일반적인 레이저 다이오드는 가우스 세기 분포(Gaussian intensity distribution)로 타원빔을 방출한다. 이는 홀로그래픽 저장 시스템에서 데이터 페이지를 생성하는 공간 광 변조기상의 비균일 파워 분포가 되게 한다. 데이터 페이지의 신호 대 잡음비를 향상시키기 위해, 이에 의해 용량을 향상시키기 위해, 균일 세기 분포가 바람직하다. 타원 분포는 예를 들면, 프리즘 한 쌍을 이용함으로써 용이하게 제거될 수 있다. 가우스 분포는 비구면(aspheric) 표면을 갖는 특수 광학계에 의해 감소될 수 있다. 그러나, 빔-성형 광학계(beam-shaping optics)는 비싸고 대단히 부정합에 민감하다.
예를 들면, 미국 특허 제6,654,183호는, 가우스 빔과 같은 실질적으로 비-균 일한 광학 입력 빔을 실질적으로 균일한 출력 빔으로 변환하는 시스템을 설명한다. 이러한 목적을 위하여, 시스템은 케플러 또는 갈릴레이 구성으로 배열되는 비구면 표면을 갖는 2개의 광학 구성요소를 구비한다.
이러한 종래 기술의 문제점을 해소하고자, 본 발명의 목적은 광학 저장 매체에 기록 및/또는 이 광학 저장 매체로부터 판독하기 위한 장치에서의 사용을 위한 빔 성형기를 위한 단순한 솔루션을 제공하는 것이다.
본 발명에 따르면, 위 목적은 입사광 빔으로부터 제 1 성형된 광 빔을 생성하는 빔 성형기에 의해 달성되며, 이는 입사광 빔의 프로파일에 대해 공간적으로 변동하는 광학 성질을 갖는 빔 성형 구성요소를 포함한다. 공간적으로 변동하는 광학 성질은 원하는 세기 분포, 예를 들면 가우스 분포를 거의 평탄한 탑 분포로 용이하게 변환하는 것을 허용한다. 동시에, 이 빔 성형기는 비교적 작은 부정합(misalignment)에 둔감하다.
유리하게는, 빔 성형 구성요소는 공간적으로 변동 가능한 반사도를 갖는다. 예를 들면, 빔 성형 구성요소의 반사도는 빔 성형 구성요소의 중심으로부터 빔 성형 구성요소의 가장자리쪽으로 가면서 감소한다. 이러한 방식으로, 입사광 빔의 중 심 세기 피크는 빔 성형 구성요소를 통하여 투과된 광 빔에서 평탄화된다.
대안적으로, 빔 성형 구성요소는 입사광 빔의 편광에 대해 공간적으로 변동 가능한 영향을 준다. 예를 들면, 빔 성형 구성요소는 입사광 빔의 편광 방향에 관련하여 공간적으로 변동 가능한 방향을 갖는 1/2 파장판과 같은 로컬 파장판(local wave plate)을 구비할 수 있다. 이것은 투과된 빔의 로컬 편광을 수정하는 것을 허용한다. 결과로서 발생하는 광 빔을 편광빔 분리기 또는 편광 종속 빔 블럭을 통하여, 또는 편광 종속 미러 상에 보냄으로써, 전송된 빔의 세기 분포는 원하는 대로 변형될 수 있다.
위 솔루션은 또한 회전적으로 대칭인 세기 분포로 타원형 세기 분포를 변환하게 적합하다. 이석은 특정 세기 분포에 광학 성질의 공간적 변동을 적응시키는 것으로 충분하다. 그러나, 이 경우, 빔 성형기는 부정합에 더 민감하게 된다.
본 발명의 추가 측면에 따르면, 입사광 빔으로부터 제 1 성형 광 빔을 생성하기 위한 방법은, 입사광 빔의 프로파일에 대해 공간적으로 변동하는 광학 성질을 갖는 빔 성형 구성요소로 입사광 빔의 빔 프로파일을 변형하는 단계를 포함한다. 예를 들면, 빔 프로파일은 세기 또는 편광을 로컬적으로 변화시킴으로써 변형된다.
유리하게는, 입사광 빔으로부터 제 2 성형 광 빔을 생성하기 위한 빔 분리기가 제공된다. 바람직하게는, 이 빔 분리기는 제 1 성형된 광 빔을 위해 사용되지 않는 입사광 빔의 그 부분이 제 1 성형된 광 빔의 광학 경로를 벗어나 향하도록 한다. 공간적으로 변동 가능한 반사도를 갖는 빔 성형 구성요소의 경우, 유리하게는 빔 성형 구성요소에 의해 반사된 광 빔은 제 2 성형된 광빔을 구성한다.
바람직하게는, 빔 분리기는 편광 광 분리기이다. 이는 만일 빔 성형 구성요소가 입사광 빔의 편광에 공간적으로 변동 가능한 영향을 준다면 특히 유리하다. 이 경우, 편광 빔 분리기는 제 1 성형된 광 빔과 제 2 성형된 광 빔을 이들의 편광 방향에 따라 단순히 분리한다. 그러나, 편광 빔 분리기는 또한 공간적으로 변동 가능한 반사도를 갖는 빔 성형 구성요소와 결합하여 유용할 수 있다. 이 경우, 1/4 파장판은 빔 성형 구성요소에 의해 반사된 광 빔의 편광 방향을 회전시키기 위해 유리하게는 제공된다.
유리하게는, 본 발명에 따른 빔 성형기가 광학 저장 매체에 기록 및/또는 이 광학 저장 매체로부터 판독하기 위한 장치에서 사용된다. 물론, 빔 성형기는 또한 임의의 다른 광학 셋업에서 유리할 수 있는데, 이 경우 성형된 광 빔은 입사광 빔으로부터 생성되어야만 한다. 이는 성형된 광 빔의 원하는 세기 분포가 매우 단순한 방식으로 획득되는 이점을 갖는다. 덧붙여, 빔 성형기가 비교적 작은 부정합에 둔감하므로, 광학 셋업의 총 정합(alignment)은 단순화된다.
제 2 성형 광 빔은 유리하게는 빔 분리기에 의해 입사광 빔으로부터 생성된다. 예를 들면, 홀로그래픽 저장 매체에 기록 및/또는 이 홀로그래픽 저장 매체로부터 판독하기 위한 장치에서, 제 1 성형된 빔과 제 2 성형된 빔은 각기 목적빔과 기준빔으로 사용된다. 이러한 방식으로, 목적빔과 기준빔은 에너지가 효율적인 방식으로 생성된다. 홀로그래픽 데이터 스토리지에서 처럼, 데이터율은 현재 이용가능한 레이저 파워에 의해 제한되며, 이는 결국 달성가능한 데이터율의 증가가 된다. 덧붙여, 신호 대 잡음비는 만일 입사하는 가우스 세기 분포가 거의 평탄한 톱 분포(flat top distribution)로 변환된다면 상당히 증가된다.
바람직하게는, 광학 저장 매체, 예를 들면 홀로그래픽 저장 매체에 기록 및/또는 이 홀로그래픽 저장 매체로부터 판독하기 위한 장치는 광 빔을 성형하기 위해 본 발명에 따른 빔 성형기를 갖는다.
더 좋은 이해를 위해, 본 발명은 도면을 참조하여 이후 기술에서 더 상세히 설명될 것이다. 본 발명은 이러한 예시적인 실시예에 제한되지 않으며 특정된 특징은 또한 본 발명의 범위를 벗어나지 않으면서도 편의주의적으로 결합 및/또는 수정될 수 있음이 이해된다.
본 발명에 따르면, 본 발명은 입사광 빔의 프로파일에 대해 공간적으로 변동하는 광학 성질을 갖는 빔 성형 구성요소를 포함하는 빔 성형기를 제공하므로, 공간적으로 변동하는 광학 성질은 원하는 세기 분포, 예를 들면 가우스 분포를 거의 평탄한 탑 분포로 용이하게 변환하는 것을 허용하는 것이 가능하다.
동시에, 본 발명의 빔 성형기는 비교적 작은 부정합(misalignment)에 둔감한 다른 효과를 가지고 있다.
이하, 본 발명은 홀로그래픽 저장 매체에 기록 및/또는 이 홀로그래픽 저장 매체로부터 판독하기 위한 장치를 참조하여 설명된다. 물론, 본 발명은 이러한 응 용에 제한되지 않는다.
홀로그래픽 데이터 스토리지에서, 디지털 데이터는 2개의 가간섭성 레이저 빔의 중첩에 의해 생성된 간섭을 레코딩함으로써 저장된다. 홀로그래픽 저장 매체에 기록 및/또는 이 홀로그래픽 저장 매체로부터 판독하기 위한 장치(1)의 예시적인 셋업이 도 1에 도시된다. 가간섭성 광의 소스, 예를 들면 레이저 다이오드(2)는 광 빔(3)을 방출하고, 이는 콜리메이팅 렌즈(4)에 의해 콜리메이팅된다. 이 광 빔(3)은 이후 2개의 별개 광 빔(7, 8)으로 분할된다. 이 예에서, 광 빔(3)의 분할은 제 1 빔 분리기(5)를 사용하여 달성된다. 그러나, 또한 이러한 목적을 위해 다른 광학 콤포넌트를 사용하는 것이 가능하다. 공간적 광 변조기(SLM: Spatial Light Modulator)(6)는 2개 빔 중 하나, 소위 "목적빔(7)"을 변조하여 2-차원 데이터 패턴을 찍는다(imprint). 목적빔(7)과 추가 빔, 소위 "기준빔(8)"은 대물 렌즈(10)에 의해 홀로그래픽 저장 매체(11), 예를 들면 홀로그래픽 디스크로 집중된다. 목적빔(7)과 기준빔(8)의 교차점에서 간섭 패턴이 나타나며, 이는 홀로그래픽 저장 매체(11)의 감광층에 기록된다. 레이저 다이오드(2)에 의해 방출된 광 빔(3)의 가우스 세기 분포를 거의 평탄한 톱 분포로 변환하기 위한 빔 성형기(9)가 제공된다.
저장된 데이터는 기준빔(8)만으로 레코딩된 홀로그램을 조명함으로써 홀로그래픽 저장 매체(11)로부터 검색된다. 기준빔(8)은 홀로그램 구조에 의해 회절되며, 원 목적빔(7)의 복사, 즉 재구성 목적빔(12)을 생성한다. 이러한 재구성 목적빔(12)은 대물 렌즈(10)에 의해 콜리메이팅되고, 제 2 빔 분리기(13)에 의해 2-차 원 어레이 검출기(14), 예를 들면 CCD-어레이로 향한다. 이 어레이 검출기(14)는 레코딩된 데이터를 재구성하는 것을 허용한다.
도 2에서, 본 발명에 따른 빔 성형기(9)의 제 1 예가 도시된다. 이 예에서, 빔 성형기(9)는 제 1 성형된 광 빔 및 제 2 성형된 광 빔으로서, 각기 목적빔(7)과 기준빔(8)을 생성하기 위해 사용된다. 원형 가우스 세기 분포를 갖는 선형 편광 레이저빔(3)은 편광 빔 분리기(PBS: Polarizing Beam Splitter)(20)와 1/4 파장판(21)을 통하여 부분 반사 거울(22)로 보내진다. 이 부분 반사 거울(22)의 반사도 분포는 중심(23)에서 반사도가 높고, 바람직하게는 >50%이고, 반면에 경계선쪽으로 반사도는 낮은 값으로 감소, 바람직하게는 0%에 근접하게 감소되도록 선택된다. 이는 입사 레이저 빔(3)의 중심 세기 피크를 감쇠시키고 이에 의해 세기 분포를 평탄화한다. 이러한 반사도 분포를 갖는 부분 반사 거울(22)은 반사층의 제어된 스퍼터링에 의해 용이하게 생성될 수 있다. 이 투과된 빔은 목적빔(7)으로 이용된다. 이 반사된 광은 90o만큼 편광을 회전시키기 위해, 1/4 파장판(21)을 통하여 다시 보내져서 PBS(20)에 의해 반사된다. 이 빔은 홀로그래픽 저장 시스템(1)을 위한 기준빔(8)으로서 사용된다.
도 2에서, 편광 빔 분리기(PBS: Polarizing Beam Splitter)(20) 및 1/4 파장판(21)은 목적빔(7)에 더하여 기준빔(8)을 생성하기 위해 사용된다. 물론, 기준빔은 또한 다른 방식으로, 예를 들면 빔 성형(beam shaping)에 앞서 빔 분리기로 입사광 빔(3)의 일부를 편향시킴으로써 생성될 수 있다. 이 경우, 부분 반사 거 울(22)에 의해 반사된 광이 사용되지 않는다. 대안적으로, 부분 반사 거울(22)은 입사광 빔(3)과 관련하여 약간 기울 수 있다. 이러한 방식으로, 반사된 광은 입사광 빔(3)의 경로를 벗어나게 되며, 이는 기준빔(8)을 생성하기 위한 거울을 제공하는 것으로 충분하다.
도 3은 부분 반사 거울(22)의 예시적인 반사도 분포를 예시한다. 도 4 및 도 5는 각각의 목적빔(7) 및 기준빔(8)의 결과로서 발생하는 세기 분포(1-차원)를 보여준다. 빔이 원형이라는 것이 주목되어야 한다. 그러므로, 기준빔(8)과 목적빔(7)의 영역은 동일한 파워를 달성하기 위해 동일할 필요는 없다.
입사빔(3)은 Exp(-r2)의 세기 분포를 갖는다. 이는 반경 r=1.268까지만 사용되며, 따라서 총 파워의 80%가 사용된다. 부분 반사 거울(22)은 r≤1.16의 경우, 반사도 분포 R(r) = 1 - 0.26 Exp(r2)이고, r > 1.16의 경우 R(r) = 0을 갖는다. 이 반사도 분포의 경우, 목적빔(7)과 기준빔(8)을 위해 도 4 및 도 5에 도시된 세기 분포가 획득된다. 빔(7, 8)은 동일한 파워를 가지며, 이는 결국 레코딩된 홀로그램의 고 콘트라스트가 되게 한다. 덧붙여, 목적빔(7)은 총 이용가능한 에너지의 80%가 사용될지라도, 거의 평탄한 톱 세기 분포를 갖는다.
도 6은 빔 성형기(9)의 제 2 실시예를 예시한다. 이 실시예는 평탄한 톱 목적빔(7)을 생성하기 위해 편광 서브-파장 구조(31)를 갖는 회절 광학 구성요소(DOE: Diffractive Optical Element)(30)를 사용한다. 이 경우, 입사 레이저 빔(3)은 편광되어야만 한다(선형 또는 원형). 최근에, 이는, 파장판, 예를 들면 1/2 파장판은 서브-파장 구조로 실현될 수 있음을 보여주고 있다. 예를 들면, J.J.Wang 등의 "Innovative nano-optical devices, integration and nano-fabrication technologies"(Proc. of SPIE, 권.5623호, 259 페이지 (2005년))를 참조하라. 이들 구조는 값싼 대량 생산 공정에서 복제될 수 있다. 이러한 구조(31)를 유리 기판(32)상에 놓고 이들을 로컬적으로 회전시킴으로써, 투과된 빔의 로컬 편광이 수정된다. 이는 도 7에서 개략적으로 묘사된다. 편광 빔 분리기(20)를 통해서 결과 발생하는 광 빔을 보냄으로써, 투과된 빔(7, 8)의 세기 분포가 뜻대로 수정될 수 있다. 구조(31)는 또한 시스템을 훨씬 더 컴팩트하게 만들기 위해 편광 빔 분리기(20) 상에 직접 놓일 수 있다.
도 7은 개략적으로 DOE(30)의 성질을 예시한다. 화살표는 로컬 1/2 파장판 구조(31)의 방향을 나타낸다. 회전 각도는 안쪽으로부터 내부쪽으로 변화한다. 결과적으로, 편광 빔 분리기(20)에 의해 투과된 광량은 빔의 직경을 변경하고, 세기 분포는 수정된다.
위 실시예에서, 원형 가우스 세기 분포가 가정되었다. 물론, 본 발명은 또한 세기 분포의 다른 타입, 예를 들면 타원 가우스 분포, 또는 비-가우스 분포에 이용가능하다. 이는 변동 특성, 예를 들면 편광에 대한 영향 또는 반사도를 특정 세기 분포에 적응시키는 것으로 충분하다. 또한, 출력 프로파일은 거의 평탄한 톱 프로파일에 제한되지는 않는다. 또한, 다른 프로파일이 생성될 수 있다.
입사광 빔(3)으로부터 제 1 성형 광 빔(7)을 생성하기 위한 본 발명에 따른 방법은 개략적으로 도 8에 예시된다. 제 1 단계(40)에서, 입사광 빔(3)은 빔 성형 기(9)로 조명된다. 입사광 빔(3)의 프로파일에 대하여 공간적으로 변동하는 광학 성질을 갖는 빔 성형 구성요소(22, 30)는 이후, 예를 들면 입사광 빔(3)의 편광 또는 세기를 로컬적으로 변화시킴으로써, 입사광 빔(3)의 빔 프로파일을 수정한다(41). 따라서, 제 1 성형 광 빔(7)은 예를 들면 수정된 빔 프로파일을 투과하거나 또는 편광빔 분리기(20)로 수정된 빔 프로파일의 일부를 반사시킴으로써 생성된다(42). 선택적으로, 점선 직사각형에 의해 표시된 바와 같이, 제 2 성형된 광 빔(8)은 예를 들면, 제 1 성형된 광 빔(7)을 위해 사용되지 않는 입사광 빔(3)의 나머지를 사용함으로써, 생성된다(42).
본 발명은 홀로그래픽 저장 매체와 같은, 광학 저장 매체에 기록 및/또는 이 광학 저장 매체로부터 판독하기 위한 장치에 이용가능하다.
더 상세하게는, 본 발명은 이러한 장치에서의 사용을 위한 빔 성형기에 이용가능하다.
도 1은 홀로그래픽 저장 매체에 기록 및/또는 이 홀로그래픽 저장 매체로부터 판독하기 위한 장치의 예시적인 셋업을 도시한 도면.
도 2는 부분 반사 거울을 사용하여 본 발명에 따른 빔 성형기의 제 1 예를 개략적으로 기술한 도면.
도 3은 도 2의 부분 반사 거울의 반사도를 묘사한 도면.
도 4는 제 1 성형된 광 빔의 결과적으로 발생한 세기 분포를 도시한 도면.
도 5는 제 2 성형된 광 빔의 결과적으로 발생한 세기 분포를 도시한 도면.
도 6은 회절성 광학 구성요소를 사용하여 본 발명에 따른 빔 성형기의 제 2 예를 기술한 도면.
도 7은 도 5의 회절성 광학 구성요소의 성질을 개략적으로 예시한 도면.
도 8은 입사광 빔으로부터 제 1 성형된 광 빔을 생성하기 위한 본 발명에 따른 방법을 예시한 도면.
**** 도면의 주요부호 설명 ****
1: 장치, 2: 레이저 다이오드
3: 광 빔, 4: 콜리메이팅 렌즈
5: 제 1 빔 분리기, 6: 공간적 광 변조기
7,8: 2개의 별개 광 빔, 9: 빔 성형기(beam shaper)
10: 대물 렌즈, 11: 홀로그래픽 저장 매체
12: 재구성된 목적빔, 13: 제 2 빔 분리기
14: 2-차원 어레이 검출기, 20: 편광 빔 분리기(PBS)
21: 1/4 파장판, 22: 부분 반사 거울
23: 중심

Claims (13)

  1. 입사광 빔(3)으로부터 제 1 성형된(shaped) 광 빔(7)을 생성하기 위한 빔 성형기(9)로서,
    입사광 빔(3)의 프로파일에 대해 공간적으로 변동하는 광학 성질을 갖는 빔 성형 구성요소(22, 30)를 포함하되,
    공간적으로 변동 가능한 상기 광학 성질은 입사광 빔(3)의 편광에 대해 공간적으로 변동 가능한 영향 및 공간적으로 변동 가능한 반사도 중 하나인, 광 빔을 생성하기 위한 빔 성형기.
  2. 제 1 항에 있어서,
    빔 성형 구성요소(22)의 반사도는 빔 성형 구성요소(22)의 중심으로부터 빔 성형 구성요소(22)의 가장자리쪽으로 감소하는, 광 빔을 생성하기 위한 빔 성형기.
  3. 제 1 항에 있어서,
    빔 성형 구성요소(30)는 입사광 빔(3)의 편광 방향에 대해 공간적으로 변동 가능한 방위를 갖는 로컬 파장판(wave plate)을 구비하는, 광 빔을 생성하기 위한 빔 성형기.
  4. 제 3 항에 있어서,
    로컬 파장판(31)은 1/2 파장판인, 광 빔을 생성하기 위한 빔 성형기.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    입사광 빔(3)으로부터 제 2 성형된 광 빔(8)을 생성하기 위한 빔 분리기(20)를 추가로 구비하는, 광 빔을 생성하기 위한 빔 성형기.
  6. 제 5 항에 있어서,
    빔 분리기(20)는 편광 빔 분리기인, 광 빔을 생성하기 위한 빔 성형기.
  7. 제 6 항에 있어서,
    빔 성형 구성요소(22, 30)로부터 오는 광 빔의 편광 방향을 회전시키기 위한 1/4 파장판(21)을 추가로 구비하는, 광 빔을 생성하기 위한 빔 성형기.
  8. 광학 저장 매체(11)에 기록 및/또는 이 광학 저장 매체로부터 판독하기 위한 장치로서,
    입사광 빔(3)으로부터 제 1 성형된 광 빔(7)을 생성하기 위한 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 따른 빔 성형기(9)를 포함하는, 광학 저장 매체에 기록 및/또는 이 광학 저장 매체로부터 판독하기 위한 장치.
  9. 제 8 항에 있어서,
    입사광 빔(3)으로부터 제 2 성형된 광 빔(8)을 생성하기 위한 빔 분리기(20)를 추가로 구비하는, 광학 저장 매체에 기록 및/또는 이 광학 저장 매체로부터 판독하기 위한 장치.
  10. 제 8 항 또는 제 9 항에 있어서,
    홀로그래픽 저장 매체에 기록 및/또는 이 홀로그래픽 저장 매체로부터 판독하도록 적응되는, 광학 저장 매체에 기록 및/또는 이 광학 저장 매체로부터 판독하기 위한 장치.
  11. 제 10 항에 있어서,
    제 1 성형된 빔(7)과 제 2 성형된 빔(8)은 목적 빔과 기준 빔인, 광학 저장 매체에 기록 및/또는 이 광학 저장 매체로부터 판독하기 위한 장치.
  12. 광학 설비(setup)로서,
    입사광 빔(3)으로부터 제 1 및 제 2 성형된 광 빔(7, 8) 또는 제 1 성형된 광 빔(7)을 생성하기 위해 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 따른 빔 성형기(9)를 포함하는, 광학 설비.
  13. 입사광 빔(3)으로부터 제 1 성형된 광 빔(7)을 생성하는 방법으로서,
    입사광 빔(3)의 빔 프로파일에 대해 공간적으로 변동하는 광학 성질을 갖는 빔 성형 구성요소(22, 30)로 입사광 빔(3)의 빔 프로파일을 변형하는 단계를 포함하되,
    공간적으로 변동 가능한 광학 성질은 입사광 빔(3)의 편광에 대해 공간적으로 변동가능한 영향 및 공간적으로 변동 가능한 반사도 중 하나인, 광 빔을 생성하는 방법.
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