KR20080100986A - Manufacturing method for producing tin oxide powder, reaction apparatus for producing the same, and tin oxide powder manufactured by the same - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 산화 주석 제조용 반응 장치를 도시한 사시도이다. 1 is a perspective view showing a reaction apparatus for producing tin oxide according to an embodiment of the present invention.
도 2는 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 산화 주석 제조용 반응 장치를 도시한 사시도이다.Figure 2 is a perspective view showing a reaction apparatus for producing tin oxide according to another embodiment of the present invention.
도 3은 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 산화 주석 제조용 반응 장치를 도시한 사시도이다.3 is a perspective view showing a reaction apparatus for preparing tin oxide according to another embodiment of the present invention.
도 4는 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 산화 주석 제조용 반응 장치를 도시한 사시도이다.Figure 4 is a perspective view showing a reaction apparatus for producing tin oxide according to another embodiment of the present invention.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 산화 주석 제조용 반응 장치를 도시한 개념도이다.5 is a conceptual diagram illustrating a reaction apparatus for preparing tin oxide according to another embodiment of the present invention.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 산화 주석 분말의 제조 공정을 나타낸 흐름도이다.6 is a flowchart illustrating a process of preparing tin oxide powder according to an embodiment of the present invention.
도 7은 본 발명의 비교예 1에 의해 제조된 산화 주석 분말의 X선 회절 패턴 결과를 보여주는 그래프이다. 7 is a graph showing the results of the X-ray diffraction pattern of the tin oxide powder prepared by Comparative Example 1 of the present invention.
도 8은 본 발명의 실시예 3에 의해 제조된 산화 주석 분말로 제조한 소결체의 표면에 대한 전자 주사 현미경 사진이다.8 is an electron scanning micrograph of the surface of a sintered body made of tin oxide powder prepared according to Example 3 of the present invention.
도 9는 본 발명의 실시예 4에 의해 제조된 산화 주석 분말로 제조한 소결체의 표면에 대한 전자 주사 현미경 사진이다.9 is an electron scanning micrograph of the surface of a sintered body made of tin oxide powder prepared according to Example 4 of the present invention.
도 10은 본 발명의 실시예 5에 의해 제조된 산화 주석 분말로 제조한 소결체의 표면에 대한 전자 주사 현미경 사진이다.10 is an electron scanning micrograph of the surface of a sintered body made of tin oxide powder prepared according to Example 5 of the present invention.
[도면의 주요 부호에 대한 설명][Description of Major Symbols in Drawing]
50: 금속 주석50: metal tin
100, 200, 300, 400, 500: 산화 주석 제조용 반응 장치100, 200, 300, 400, 500: reactor for the production of tin oxide
120, 220, 320, 420, 520: 반응기120, 220, 320, 420, 520: reactor
140, 240, 340, 440: 금속 주석 지지용 받침 유닛140, 240, 340, 440: base unit for supporting metal tin
160: 자석 막대160: magnetic rod
180, 280, 380, 480, 580: 초음파 발생 유닛 180, 280, 380, 480, 580: Ultrasonic Generating Unit
182, 282, 382, 482, 582: 발진자182, 282, 382, 482, 582: oscillators
184, 284, 384, 484, 584: 진동자184, 284, 384, 484, 584: oscillator
270, 370, 470: 폭기 장치 270, 370, 470: aeration device
272, 372, 472: 기체 공급부(510과 같음) 272, 372, 472: gas supply (same as 510)
274, 374, 474: 기체 이송부 274, 374, 474: gas delivery unit
276, 376, 476: 버블 발생부276, 376, 476: bubble generator
490: 매질490: medium
510: 기체 유량 정밀 조절 장치(Mass Flow Controller, MFC)510: Mass Flow Controller (MFC)
540: 응축기 540: condenser
560: 밸브560: valve
590: 열 전도도 검출기(TCD)가 장착된 가스 크로마토그래피(GC)590: Gas Chromatography (GC) with Thermal Conductivity Detector (TCD)
본 발명은 산화 주석 분말의 제조 방법, 그 제조용 반응 장치 및 이로부터 제조된 산화 주석 분말에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 LCD, EL, FED 소자 등과 같은 디스플레이 소자의 고품질 투명전극층을 진공증착하는데 필요한 고밀도 ITO(Indium Tin Oxide) 타겟의 제조 및 대전, 정전 방지를 위해 사용될 수 있는 산화 주석 분말의 제조 방법, 그 제조용 반응 장치 및 이로부터 제조된 산화 주석 분말에 관한 것이다. The present invention relates to a method for producing a tin oxide powder, a reaction apparatus for producing the same, and a tin oxide powder prepared therefrom, and more particularly, high density required for vacuum deposition of high quality transparent electrode layers of display devices such as LCDs, ELs, and FED devices. The present invention relates to a method for producing tin oxide powder that can be used for the production and charging of indium tin oxide (ITO) targets, and electrostatic prevention, a reaction apparatus for producing the same, and tin oxide powder prepared therefrom.
투명전극으로 많이 사용되고 있는 ITO 필름은 통상적으로 ITO 타겟을 스퍼터링(sputtering)하여 유리기판과 같은 절연기판 상에 코팅하여 형성되며, 이 때 사용되는 ITO 타겟은 ITO 분말을 일정한 형상으로 성형하여 고온에서 소결하여 얻는다. 일반적으로 스퍼터링법에 의하여 고품질의 ITO 필름을 기판 상에 코팅하기 위 해서는 ITO 타겟의 소결 밀도가 높아야 하는데, 이는 저밀도의 ITO 타겟을 사용하는 경우 타겟 표면에서 노듈(nodule)이 쉽게 형성되어 ITO 필름의 품질 및 공정 수율을 저하시키기 때문이다. 따라서, 고품질의 ITO 투명전극층을 형성하기 위하여는 고밀도의 ITO 타겟을 사용하여야 하며, 이러한 고밀도의 ITO 타겟을 제조하기 위해서는 평균 입경이 작고 비표면적이 크며, 입도 분포가 균일하여 산화인듐과 고용체(solid solution)를 잘 이룰 수 있는 미세한 산화 주석 분말을 필요로 한다. 또한, 산화 주석 분말의 결정 크기가 각 방향으로 균일할수록 고용체를 이루기에 용이한 것으로 알려져 있다. ITO film, which is widely used as a transparent electrode, is generally formed by sputtering an ITO target and coating it on an insulating substrate such as a glass substrate. The ITO target used here is formed by sintering at high temperature by forming ITO powder into a constant shape. Get by In general, in order to coat a high quality ITO film on a substrate by the sputtering method, the sintered density of the ITO target must be high. This means that when a low density ITO target is used, nodules are easily formed on the surface of the ITO film. This is because the quality and the process yield are lowered. Therefore, in order to form a high quality ITO transparent electrode layer, a high density ITO target should be used, and in order to manufacture such a high density ITO target, the average particle size is small, the specific surface area is large, and the particle size distribution is uniform, so that indium oxide and solid solution (solid) It requires a fine tin oxide powder that can achieve a good solution). It is also known that the more uniform the crystal size of the tin oxide powder is in each direction, the easier it is to form a solid solution.
산화 주석 분말의 합성법에 관한 종래의 기술로는 산화 주석 전구체 용액 또는 그 전구체 용액을 중화 처리하여 고온, 고압으로 압출하는 압분법을 이용하는 방법이 있다. 하지만, 이 방법에 의해 생성되는 주석 산화물은 주석염을 전구체로 사용하기 때문에 추가적인 오염의 가능성이 있으며 이를 방지하기 위해서는 반응물인 주석염의 소비가 많고 고온, 고압으로 공정을 수행하여야 하기 때문에 안전성 및 경제성에 취약한 단점이 있다. Conventional techniques for synthesizing tin oxide powders include a method using a compacting method in which a tin oxide precursor solution or a precursor solution thereof is neutralized and extruded at high temperature and high pressure. However, the tin oxide produced by this method has the possibility of further contamination because it uses tin salt as a precursor. To prevent this, the consumption of tin salt, which is a reactant, is high, and the process must be performed at high temperature and high pressure. There is a weak point.
이 밖에도, 주석 금속을 양극으로 하고 질산암모늄 용액을 전해액으로 하여 수용액 중에서 주석을 전기 산화하여 메타스태닉산 (metastannic acid)을 얻고 이를 여과하여 세척하고 소결함으로써 산화 주석 분말을 얻는 방법이 있다. 하지만, 상기 방법은 반응 속도가 느리고 에너지 소비가 크며, 작업 안전성에 문제가 있으므로 대량 생산에 적용되기 어렵다는 단점이 있다.In addition, there is a method of obtaining tin oxide powder by electrooxidizing tin in an aqueous solution using tin metal as an anode and ammonium nitrate solution as an electrolyte to obtain metastannic acid, followed by filtration, washing, and sintering. However, the above method has a disadvantage in that it is difficult to apply to mass production because of slow reaction rate, high energy consumption, and problems in working safety.
또한, 나노 사이즈의 분말을 합성할 수 있는 방법으로 잘 알려진 기상법은 대량 생산에 적용되기 어려워 특수한 분말의 소량 합성에만 제한적으로 사용되고 있다. In addition, the gas phase method, which is well known as a method capable of synthesizing nano-sized powder, is difficult to be applied to mass production, and thus it is limited to only a small amount of synthesis of a special powder.
ITO 타겟을 제조하기 위한 산화 주석 분말의 합성법으로 현재 일반적으로 사용되는 방법은 액상법이다. 불순물 함량 조절을 쉽게 하기 위해 반응물로 고순도의 금속 주석을 사용하고, 금속 주석과 산 용액을 반응시켜 산화 주석 분말을 제조한다. 하지만, 상기 방법은 반응 속도가 느리므로 반응계의 온도를 높게 유지하거나, 금속 표면의 산화 반응 속도를 빠르게 하기 위해 반응물인 금속 주석의 크기를 작게 하는 방법 등을 사용하고 있다. 하지만, 상기 방법들은 모두 미세한 산화 주석 분말을 생산하기 위해 추가적인 에너지 소모가 많고 작업이 복잡하고 위험하며, 반응의 진행을 확인하는 것이 어려우므로 실제 공정에서 고품질의 산화 주석 분말을 제조함에 있어 난점이 있다.The method generally used as a synthesis method of tin oxide powder for producing an ITO target is the liquid phase method. In order to easily control the impurity content, a high purity metal tin is used as a reactant, and tin oxide powder is prepared by reacting the metal tin with an acid solution. However, since the reaction rate is slow, in order to keep the temperature of the reaction system high or to speed up the oxidation reaction rate of the metal surface, a method of reducing the size of metal tin, which is a reactant, is used. However, all of the above methods are difficult in producing high quality tin oxide powder in actual process because of the additional energy consumption, complicated operation and dangerous operation to produce fine tin oxide powder, and difficult to check the progress of the reaction. .
본 발명은 상기와 같은 문제점을 감안한 것으로서, 산화 주석 제조용 반응 장치의 구조를 개선하여 고밀도의 ITO 타겟을 제조하는데 사용될 수 있는 산화 주석 분말 제조용 반응 장치를 제공한다.In view of the above problems, the present invention provides a reaction apparatus for preparing tin oxide powder that can be used to manufacture a high density ITO target by improving the structure of the reaction apparatus for preparing tin oxide.
본 발명은 또한 상기 산화 주석 제조용 반응 장치를 이용하여 금속 주석과 질산의 반응 속도를 높이고, 보다 결정 크기가 미세한 산화 주석 분말의 제조 방법을 제공한다.The present invention also provides a method for producing a tin oxide powder having a higher crystallization rate and increasing the reaction rate of metal tin and nitric acid using the reaction apparatus for tin oxide production.
본 발명은 또한 각 결정 방향으로 균일하게 성장하여 고밀도의 타겟을 제조할 수 있는 산화 주석 분말을 제공함을 목적으로 한다. It is another object of the present invention to provide a tin oxide powder which can grow uniformly in each crystal direction to produce a high density target.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다. Technical problems to be achieved by the present invention are not limited to the technical problems mentioned above, and other technical problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.
본 발명의 일 특징에 따른 산화 주석 제조용 반응 장치는 반응기, 상기 반응기 바닥 면으로부터 소정 간격 이격되어 배치된 금속 주석 지지용 받침 유닛 및 상기 반응기 내부로 초음파를 공급하는 초음파 발생 유닛을 포함하며, 상기 금속 주석을 질산 수용액과 반응시켜 침전물을 생성하기 위한 반응 장치이다.The reaction apparatus for manufacturing tin oxide according to an aspect of the present invention includes a reactor, a support unit for supporting metal tins spaced a predetermined distance from the bottom surface of the reactor, and an ultrasonic wave generating unit for supplying ultrasonic waves into the reactor. A reaction apparatus for producing a precipitate by reacting tin with an aqueous solution of nitric acid.
또한, 상기 산화 주석 제조용 반응 장치는 기체를 공급하여 버블을 발생시키는 폭기 장치를 더 포함할 수 있다. 상기 폭기 장치는 기체를 공급하는 기체 공급부, 상기 기체 공급부로부터 공급된 기체를 반응기 내로 이송하는 기체 이송부, 및 상기 반응기 내부에 상기 기체 이송부로부터 이송된 기체를 불어 넣어 주어 버블을 발생시키는 버블 발생부를 포함한다.In addition, the reaction apparatus for producing tin oxide may further include an aeration device for generating bubbles by supplying gas. The aeration device includes a gas supply unit for supplying gas, a gas transfer unit for transferring the gas supplied from the gas supply unit into the reactor, and a bubble generating unit for blowing a gas transferred from the gas transfer unit into the reactor to generate bubbles do.
상기 기체는 비활성 기체, 질소 기체 및 압축공기로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 기체인 것을 특징으로 한다.The gas is characterized in that at least one gas selected from the group consisting of inert gas, nitrogen gas and compressed air.
또한, 상기 산화 주석 제조용 반응 장치는 열 전도도 검출기(TCD)가 장착된 가스 크로마토그래피(GC)를 더 포함할 수도 있다.In addition, the reaction apparatus for preparing tin oxide may further include gas chromatography (GC) equipped with a thermal conductivity detector (TCD).
상기 산화 주석 제조용 반응 장치에 포함되는 초음파 발생 유닛은 발진자 및 진동자를 포함한다. 상기 발진자는 상기 반응기 외부에 배치되고 초음파를 발생시키며, 상기 진동자는 상기 반응기 내부에 배치되거나 또는 상기 반응기의 외벽에 부착되어 있어, 상기 발진자로부터 발생된 초음파를 상기 반응기 내부로 전달하는 역할을 한다. The ultrasonic wave generation unit included in the reaction apparatus for producing tin oxide includes an oscillator and a vibrator. The oscillator is disposed outside the reactor and generates ultrasonic waves, and the vibrator is disposed inside the reactor or attached to an outer wall of the reactor, and serves to deliver ultrasonic waves generated from the oscillator into the reactor.
또는, 상기 초음파 발생 유닛은 초음파를 발생하는 발진자 및 상기 초음파를 상기 반응기에 전달하는 진동자를 포함하고, 상기 반응기와 상기 초음파 발생 유닛 사이에 배치된 매질을 통하여 상기 반응기에 초음파를 공급할 수 있다. Alternatively, the ultrasonic wave generating unit may include an oscillator for generating ultrasonic waves and a vibrator for transmitting the ultrasonic waves to the reactor, and may supply ultrasonic waves to the reactor through a medium disposed between the reactor and the ultrasonic wave generating unit.
상기 초음파의 세기는 0.1 내지 3kW인 것을 특징으로 한다.The intensity of the ultrasonic wave is characterized in that 0.1 to 3kW.
본 발명의 일 특징에 따른 산화 주석 분말의 제조 방법은 반응기 내에 금속 주석, 물 및 질산을 투입하여 침전을 형성시키는 침전 형성 반응 단계를 포함하며, 상기 침전 형성 반응 단계는 상기 반응기 내에 초음파를 공급하면서, 기체를 불어 넣어주어 상기 반응기 내부를 버블링시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.Method for producing a tin oxide powder according to an aspect of the present invention includes a precipitation forming reaction step of forming a precipitate by introducing metal tin, water and nitric acid in the reactor, wherein the precipitation forming reaction step while supplying ultrasonic waves into the reactor , Blowing a gas to bubble the inside of the reactor.
상기 침전 형성 반응 단계는 상기 반응기 내에 금속 주석 및 물을 투입하는 단계, 상기 반응기 내에 기체를 불어 넣어주는 단계, 상기 반응기 내에 초음파를 공급하는 단계 및 상기 반응기 내에 질산을 첨가하는 단계를 포함한다.The precipitation forming reaction step includes introducing metal tin and water into the reactor, blowing gas into the reactor, feeding ultrasonic waves into the reactor, and adding nitric acid into the reactor.
상기 초음파는 상기 질산의 첨가 전부터 상기 침전 형성 반응의 종료 시까지 상기 반응기 내부에 공급되는 것을 특징으로 하며, 상기 초음파의 세기는 0.1 내지 3kW이다.The ultrasonic waves are supplied into the reactor from before the nitric acid is added until the end of the precipitation formation reaction, and the intensity of the ultrasonic waves is 0.1 to 3 kW.
상기 기체는 비활성 기체, 질소 기체 및 압축공기로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 기체로서, 상기 반응기 내부에 1분당 반응기 용량의 1배 내지 5배의 속도로 공급되는 것을 특징으로 한다.The gas is at least one gas selected from the group consisting of inert gas, nitrogen gas and compressed air, characterized in that the inside of the reactor is supplied at a rate of 1 to 5 times the reactor capacity per minute.
상기 버블링은 상기 침전 형성 반응 중 상기 금속 주석의 전체 표면이 상기 질산에 노출되도록 유지될 수 있으며, 또한 상기 버블링이 상기 금속 주석의 표면에서 일어나도록 할 수 있다. The bubbling may be maintained such that the entire surface of the metal tin is exposed to the nitric acid during the precipitation formation reaction and may also cause the bubbling to occur on the surface of the metal tin.
상기 침전 형성 반응 단계로부터 형성된 침전은 11 내지 13 시간 동안 숙성되며, pH 4 내지 8로 중화된다.The precipitate formed from the precipitation formation reaction step is aged for 11 to 13 hours and neutralized to pH 4 to 8.
본 발명의 일 특징에 따른 산화 주석 분말은 [110] 방향의 결정 크기에 대한 [101] 방향의 결정 크기가 0.4 내지 1.6배이며, [211] 방향의 결정 크기는 0.6 내지 1.4배이다.The tin oxide powder according to one feature of the present invention has a crystal size in the [101] direction with respect to a crystal size in the [110] direction of 0.4 to 1.6 times, and a crystal size in the [211] direction of 0.6 to 1.4 times.
이하 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세하게 설명하도록 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 산화 주석 제조용 반응 장치를 도시한 사시도이다.1 is a perspective view showing a reaction apparatus for producing tin oxide according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 산화 주석 제조용 반응 장치(100)는 반응기(120), 자석 막대(160), 금속 주석 지지용 받침 유닛(140) 및 초음파 발생 유닛(180)을 포함한다. Referring to FIG. 1, the
산화 주석 분말을 제조함에 있어서, 먼저 반응기(120) 내에 금속 주석(50)을 넣고, 물과 질산을 반응기(120) 내에 투입한다. 이 때, 자기 교반기를 이용해 자석 막대(160)를 회전시켜 교반해 준다. 금속 주석과 질산의 반응으로 침전물인 메타스태닉산(metastannic acid, H2SnO3)이 생성된다. 아래의 반응식 1은 질산 수용액 중에 금속 주석이 존재하는 경우 금속 주석의 표면산화 반응을 나타낸다.In preparing the tin oxide powder, first, the
금속 주석과 질산의 반응은 접촉면인 금속 주석의 표면에서 일어나기 시작하므로 메타스태닉산은 금속 주석의 표면에 생성되고, NOx 기체(NO 및 NO2 기체)의 기포도 금속 주석의 표면에서 발생하게 된다. 따라서, 금속 주석의 표면에 생성물인 메타스태닉산과 NOx 기체의 기포가 머물게 되어 실질적으로 금속 주석과 질산의 반응 면적이 감소하게 되어 반응 속도가 떨어진다. Since the reaction of metal tin and nitric acid starts to occur on the surface of the metal tin, which is the contact surface, metastanic acid is formed on the surface of the metal tin, and bubbles of NOx gas (NO and NO 2 gas) also occur on the surface of the metal tin. Therefore, the bubbles of the metastanic acid and the NOx gas, which are products, remain on the surface of the metal tin, thereby substantially reducing the reaction area of the metal tin and nitric acid, thereby lowering the reaction rate.
또한, 종래의 반응 장치에는 금속 주석 지지용 받침 유닛(140)이 포함되어 있지 않아, 금속 주석이 반응기의 바닥면에 접촉한 상태에서 질산 수용액과 반응하게 된다. 이로 인해, 금속 주석과 질산이 반응할 수 있는 표면의 접촉 면적이 실질적으로 줄어들게 되고 반응이 진행됨에 따라 메타스테닉산에 금속 주석이 덮혀 반응 속도를 올리는 데 한계가 있다. In addition, the conventional reaction apparatus does not include the
따라서, 본 발명의 일 실시예에서는 금속 주석 지지용 받침 유닛(140)을 산화 주석 제조용 반응 장치(100)에 포함함으로써, 메타스태닉산이 반응기(120)의 바닥에 침전되어 반응물인 금속 주석(50)과 분리되도록 하며, 동시에 금속 주석(50)이 반응기(120)의 바닥면과 닿는 면적을 줄임으로써, 질산과의 접촉 면적을 증가시킨다. Accordingly, in one embodiment of the present invention, by including the
상기 금속 주석 지지용 받침 유닛(140)은 반응기(120)의 바닥에서 소정 거리만큼 이격되어 있고, 상기 받침 유닛(140)의 형상은 도 1에 도시된 사다리형 이외에도 다양한 형상을 가질 수 있다. 상기 받침 유닛(140)과 상기 반응기(120)의 연 결 부위의 위치도 도 1에 도시된 반응기의 바닥면뿐만 아니라, 반응기의 옆면, 반응기의 상부 또는 이들의 조합 등으로 다양할 수 있다.The
도 1에 도시된 바와 같이 금속 주석 지지용 받침 유닛(140) 상에 금속 주석이 위치하여, 금속 주석의 바닥면만이 금속 주석 지지용 받침대(140)와 접촉하고 있는 경우뿐만 아니라, 상기 받침 유닛(140)의 다양한 위치 및 형상에 따라 금속 주석의 바닥면 이외의 옆면이나 윗면 또는 이들의 조합이 상기 받침대(140)와 접촉하는 경우도 포함한다. As shown in FIG. 1, the metal tin is positioned on the metal
금속 주석 지지용 받침 유닛(140)에서 금속 주석(50)과 접촉되는 부위의 형상은 가장자리에 테두리가 있고 중앙이 개구된 형상, 메쉬 형상, 사다리 형상 등 다양할 수 있다. 따라서, 금속 주석의 바닥면이 반응기(120)의 바닥면과 완전히 접촉되어 있어 질산과의 반응이 원활하게 일어나지 않은 종래 기술과 달리, 금속 주석의 바닥면 중 일부 또는 전부가 질산과 접촉할 수 있게 되어 반응 면적을 높일 수 있다. The shape of the part contacting the
금속 주석 지지용 받침 유닛(140)의 재질은 석영으로 구성되며, 석영 이외에도 진한 질산과 고온에서 견딜 수 있는 물질이면 가능하다.The material of the
그리고, 상기 반응기(120)의 외부에 위치한 초음파 발생 유닛(180)은 발진자(182) 및 진동자(184)를 포함한다. 상기 발진자(182)는 외부의 전원 공급으로 초음파를 발생시키며, 상기 진동자(184)는 상기 초음파를 진동에 의해 전달하는 역할을 한다. 본 실시예에서 상기 진동자(184)는 상기 반응기(120)의 외부에 부착되어 있으나, 본 발명은 이에 한정되지 않으며 상기 진동자(184)는 상기 반응기(120) 의 내부에 위치할 수도 있다. 또한, 상기 진동자(184)가 상기 반응기(120)에 부착되는 위치는 다양할 수 있으며, 부착된 진동자(184)의 개수 역시 하나 이상일 수 있다. In addition, the
산화 주석 제조용 반응 장치(100)에 초음파 발생 유닛(180)을 설치함으로써, 초음파로 고에너지를 공급하여 반응 용액 내에 열점(hot spot)이 발생하게 되며, 이로 인해 국부적으로 마이크로 크기의 기포가 발생하여 터지게 됨에 따라 금속 주석(50)의 표면에 생성된 메타스태닉산의 제거가 용이하게 된다. 또한, 생성된 메타스태닉산이 상기 반응기(120)의 바닥에 쌓임에 따라 서로 뭉치게 되는 것을 방지하여, 제조된 산화 주석 분말의 물성을 향상시킬 수 있다. By installing the ultrasonic
이하에서는, 산화 주석 제조용 반응 장치가 기체를 버블링할 수 있는 폭기 장치를 더 포함한 경우에 대해 설명한다.Hereinafter, the case where the reaction apparatus for tin oxide production further includes an aeration apparatus capable of bubbling gas will be described.
도 2는 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 산화 주석 제조용 반응 장치를 도시한 사시도이다.Figure 2 is a perspective view showing a reaction apparatus for producing tin oxide according to another embodiment of the present invention.
도 2를 참조하면, 산화 주석 제조용 반응 장치(200)는 반응기(220), 금속 주석 지지용 받침 유닛(240), 폭기 장치(270) 및 초음파 발생 유닛(280)을 포함한다. 상기 반응기(220), 금속 주석 지지용 받침 유닛(240), 및 초음파 발생 유닛(280)은 도 1에서 설명한 바와 같으므로 중복된 설명을 생략하기로 하며, 이하에서는 폭기 장치(270)에 대해 상세히 설명하기로 한다. Referring to FIG. 2, the
상기 폭기 장치(270)는 기체 공급부(272), 기체 이송부(274), 및 버블 발생부(276)을 포함한다. 기체 공급부(272)는 반응기(220) 내부로 시간에 따른 일정량 의 기체를 공급하는 역할을 하며, 기체 이송부(274)는 기체 공급부(272)에서 반응기(220)의 내부로 기체를 이송한다. 상기 기체는 비활성 기체, 질소 기체 및 압축공기로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 기체인 것을 특징으로 한다. 상기 비활성 기체으로는 헬륨(He)이나 아르곤(Ar) 기체를 사용할 수 있으나, 본 발명은 이에 한정하지 않는다. The
기체 이송부(274)에 의해 이송된 기체는 버블 발생부(276)를 통해 반응기(220) 내부에서 버블링된다. 상기 반응식 1에 의하면, 금속 주석과 질산의 반응에 의해 생성되는 NOx 기체를 제거해 주면, 화학 평형 이론상 메타스태닉산의 생성 반응이 촉진된다. 따라서, 반응기 내에 기체를 버블링하면서 초음파를 공급하면, 금속 주석(50)의 표면에 기포 형태로 달라 붙어 있는 NOx 기체와 반응액 중에 녹아 있는 NOx 기체에 고에너지를 공급하여 갑작스런 팽창에 의하여 터지게 함으로써 이들의 제거를 원활히 하여 금속 주석과 질산의 반응 속도를 높일 수 있다. 또한, 기체를 버블링하면서 초음파 에너지를 공급함으로써 큰 기포뿐만 아니라 마이크로 기포를 보다 용이하게 발생시킴으로써 금속 주석(50)의 표면에 달라 붙어 있는 생성 물질을 금속 주석(50)의 표면으로부터 이탈시켜 금속 주석(50)과 질산의 접촉을 원활하게 할 수 있다. The gas transferred by the
반응기 내에 초음파를 공급하면서 기체를 불어 넣어주어 버블링시킬 때, 기체 유량 정밀 조절 장치(Mass Flow Controller, MFC)와 같은 장치를 이용하여 일정한 속도로 기체를 공급할 수 있다. 이 때, 기체를 불어 넣어주는 속도와 초음파의 세기는 반응기의 용량, 금속 주석의 무게, 첨가한 질산의 농도와 부피 등을 고려하 여 결정한다. When blowing the gas while supplying ultrasonic waves into the reactor, the gas may be supplied at a constant speed using a device such as a mass flow controller (MFC). At this time, the velocity of blowing gas and the intensity of the ultrasonic wave are determined in consideration of the capacity of the reactor, the weight of metal tin, and the concentration and volume of nitric acid added.
기체 공급 속도가 너무 느리면 금속 주석 표면에 달라 붙어 있는 기포나 생성 물질을 분리시키는데 있어서 어려움이 있을 수 있고, 반대로 기체 공급 속도가 지나치게 빠를 경우, 작업 안정성 및 경제성에 문제가 있을 수 있다. 따라서, 본 발명에서는 1분당 반응기 용량의 1배 내지 5배의 속도로 기체를 공급해준다. 바람직하게는 1분당 반응기 용량의 2배 내지 3.5배의 속도로 기체를 공급하며, 더욱 바람직하게는 1분당 반응기 용량의 2배 내지 3배의 속도로 기체를 공급해준다. 또한, 초음파의 공급이 과도한 경우 반응 시스템의 수명에 영향을 미치게 되고 너무 작은 경우 오히려 생성된 메타스태닉산끼리의 뭉침 현상을 가속할 수 있다. 따라서, 초음파의 세기는 100W 내지 3kW의 범위로 공급해준다. If the gas feed rate is too slow, it may be difficult to separate bubbles or product material that cling to the surface of the metal tin, on the contrary, if the gas feed rate is too fast, there may be problems in working stability and economics. Therefore, in the present invention, gas is supplied at a rate of 1 to 5 times the reactor capacity per minute. Preferably gas is supplied at a rate of 2 to 3.5 times the reactor capacity per minute, more preferably gas is supplied at a rate of 2 to 3 times the reactor capacity per minute. In addition, excessive supply of ultrasonic waves affects the life of the reaction system, and if it is too small, it may accelerate the aggregation of the generated metastanic acids. Therefore, the intensity of the ultrasonic wave is supplied in the range of 100W to 3kW.
이하에서는, 상기 산화 주석 제조용 반응 장치에 초음파 발생 유닛을 장착하는 다른 실시예에 대하여 설명한다. Hereinafter, another Example which mounts an ultrasonic wave generation unit in the said reaction apparatus for tin oxide manufacture is demonstrated.
도 3은 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 산화 주석 제조용 반응 장치를 도시한 사시도이다. 3 is a perspective view showing a reaction apparatus for preparing tin oxide according to another embodiment of the present invention.
도 3을 참조하면, 산화 주석 제조용 반응 장치(300)는 반응기(320), 금속 주석 지지용 받침 유닛(340), 폭기 장치(370) 및 초음파 발생 유닛(380)을 포함한다.Referring to FIG. 3, the
상기 초음파 발생 유닛(380)은 발진자(382) 및 진동자(384)를 포함하며, 상기 진동자(384)는 상기 반응기(320)의 외부 측면에 위치하여 초음파를 반응기(320) 내부로 공급한다. 본 실시예에서 상기 진동자(384)는 상기 반응기(320)의 외부 측면에 2개가 부착되어 있으나, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 상기 진동자(384) 의 개수 및 위치는 경우에 따라 달라질 수 있다. The ultrasonic
도 4는 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 산화 주석 제조용 반응 장치를 도시한 사시도이다. Figure 4 is a perspective view showing a reaction apparatus for producing tin oxide according to another embodiment of the present invention.
도 4를 참조하면, 산화 주석 제조용 반응 장치(400)는 반응기(420), 금속 주석 지지용 받침 유닛(440), 폭기 장치(470) 및 초음파 발생 유닛(480)을 포함하며, 상기 초음파 발생 유닛(480)은 발진자(482) 및 진동자(484)를 포함한다.Referring to FIG. 4, the
상기 초음파 발생 유닛(480)은 상기 반응기(420)를 외부에서 감싸는 형태로 배치되어 있고, 상기 반응기(420)와 상기 초음파 발생 유닛(480) 사이에 배치된 매질(490)을 통하여 상기 반응기(420)에 초음파를 공급한다. 상기 매질(490)은 일반적으로 물을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 초음파 발생 유닛(480) 내에 존재하는 발진자(482) 및 진동자(484)의 위치나 개수는 필요에 따라 임의로 변경될 수 있다. The ultrasonic
이하에서는 산화 주석 제조용 반응 장치에 실시간으로 반응 속도를 확인할 수 있는 측정 장치를 더 포함한 경우에 대해 설명한다.Hereinafter, a case in which the reaction apparatus for preparing tin oxide further includes a measuring device capable of confirming the reaction rate in real time will be described.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 산화 주석 제조용 반응 장치를 도시한 개념도이다.5 is a conceptual diagram illustrating a reaction apparatus for preparing tin oxide according to another embodiment of the present invention.
도 5를 참조하면, 산화 주석 제조용 반응 장치(500)는 열 전도도 검출기(Thermal Conductivity Detector, TCD)가 장착된 가스 크로마토그래피(Gas Chromatography, GC)(590)를 더 포함하는 것을 특징으로 한다. 상기 산화 주석 제조용 반응 장치(500)는 기체 유량 정밀 조절 장치(510), 반응기(520), 응축 기(540), 밸브(560), 초음파 발생 유닛(580) 및 열 전도도 검출기가 장착된 가스 크로마토그래피(590)을 포함하며, 필요에 따라 상기 구성들 중 일부만 포함할 수도 있다. Referring to FIG. 5, the
상기 산화 주석 제조용 반응 장치(500)는 반응기(520) 내부에 금속 주석 지지용 받침 유닛을 포함할 수도 있다. 또한 상기 반응 장치에 폭기 장치가 포함되어 기체를 버블링시키는 경우를 포함한다. The
이하에서는 산화 주석 제조용 반응 장치에 폭기 장치, 초음파 발생 장치 및 열 전도도 검출기가 장착된 가스 크로마토그래피가 더 포함된 경우에 대해 설명한다.Hereinafter, a case in which the reaction apparatus for preparing tin oxide further includes gas chromatography equipped with an aeration apparatus, an ultrasonic wave generator, and a thermal conductivity detector will be described.
폭기 장치에서 기체를 공급할 때, 기체 유량 정밀 조절 장치(510)를 이용하여 일정한 속도로 기체를 반응기(520) 내로 I1 방향으로 불어 넣어준다. 기체를 일정하게 공급하는 방법에는 기체 유량 정밀 조절 장치(MFC)를 사용하는 정량 공급과 기체 압력 조정 장치(regulator)를 사용하는 정압 공급이 있는데, 정압 공급은 반응기 내부의 압력이 변할 경우 그 공급량이 일정하지 않으므로, 본 발명에서는 기체 유량 정밀 조절 장치(MFC)를 사용한다. 상기 I1 방향은 도 3에 도시된 바와 같이 반응기(520)의 상부를 통해 기체를 불어 넣어주는 경우에 한정하지 않고, 반응기(520)의 내부로 기체를 공급하는 모든 경우를 포함한다.When the gas is supplied from the aeration device, the gas is blown into the
반응기(520) 내에서 금속 주석과 질산의 반응에 의해 생성된 NOx 기체와 폭기 장치로부터 공급된 기체는 응축기(540)를 거친 다음, I2 방향으로 배출되는데, 그 중 일부는 밸브(560)를 통해 샘플링되어 열 전도도 검출기가 장착된 가스 크로마토그래피(590)에서 NOx 기체의 농도가 측정된다. 상기 밸브(560)로는 압축공기로 자동 작동하는 6 way 밸브를 사용할 수 있으며, 본 발명은 이에 한정되지 않는다. 금속 주석과 질산의 반응에 의해 발생되는 NOx 기체의 농도를 측정함으로써, 금속 주석과 질산의 반응 속도를 알 수 있으며, 반응의 종말점을 찾을 수 있어 제조 공정의 효율성을 높일 수 있다.NOx gas produced by the reaction of metal tin and nitric acid in the
이하에서는 본 발명에 따른 산화 주석 분말의 제조 방법에 대하여 설명한다.Hereinafter, a method for producing tin oxide powder according to the present invention will be described.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 산화 주석 분말의 제조 공정을 나타낸 흐름도이다.6 is a flowchart illustrating a process of preparing tin oxide powder according to an embodiment of the present invention.
반응기 내에 금속 주석, 물, 및 질산을 투입(S11)하면 질산에 의해 금속 주석이 용해(S12)되면서 메타스태닉산이 침전물로 형성(S13)되며, 이는 상기 반응식 1에서 나타낸 바와 같다. 생성된 침전을 회수하고 물을 첨가한 후 소정의 시간 동안 pH를 조절하여 숙성(aging) 공정(S14)을 거치고 중화시킨다. 그 후 이와 같은 방법으로 얻어진 슬러리를 세척(S15), 여과하여 건조(S16), 분쇄한 후 소정의 온도에서 하소(S17)하여 산화 주석 분말(S18)을 얻게 된다. When metal tin, water, and nitric acid are added to the reactor (S11), metal tin is dissolved (S12) by nitric acid, and metastatic acid is formed as a precipitate (S13), as shown in
본 발명은 상기 금속 주석과 질산의 반응에 의한 침전 형성 단계(S11 내지 S13)에 있어서, 상기 반응기 내에 초음파를 조사하고 기체를 불어 넣어주어 상기 반응기 내부를 버블링시키는 단계를 포함할 수 있다. 상기 침전 형성 반응 단계(S11 내지 S13)는, 상기 반응기 내에 금속 주석 및 물을 투입하는 단계, 상기 반응기 내에 기체를 불어 넣어주는 단계, 상기 반응기 내에 초음파를 공급하는 단계 및 상기 반응기 내에 질산을 첨가하는 단계를 포함한다.The present invention may include a step of bubbling the inside of the reactor by irradiating ultrasonic waves and blowing gas into the reactor in the precipitation forming step (S11 to S13) by the reaction of the metal tin and nitric acid. The precipitation forming reaction step (S11 to S13), the step of introducing metal tin and water in the reactor, blowing a gas into the reactor, supplying ultrasonic waves into the reactor and adding nitric acid in the reactor Steps.
상기 초음파는 상기 질산의 첨가 전부터 상기 침전 형성 반응의 종료 시까지 상기 반응기 내부에 공급된다. 따라서, 질산 투입에 의한 침전 형성 반응이 12시간 동안 지속되는 경우 초음파 공급도 12시간 동안 계속 이루어지게 된다.The ultrasonic waves are supplied inside the reactor from before the addition of nitric acid to the end of the precipitation forming reaction. Therefore, when the precipitation formation reaction by nitric acid input is continued for 12 hours, the ultrasonic supply is also continued for 12 hours.
상기 기체는 비활성 기체, 질소 기체 및 압축공기로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 기체인 것을 특징으로 한다. 상기 비활성 기체로는 헬륨(He)이나 아르곤(Ar)을 사용할 수 있으나, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니다. The gas is characterized in that at least one gas selected from the group consisting of inert gas, nitrogen gas and compressed air. Helium (He) or argon (Ar) may be used as the inert gas, but the present invention is not limited thereto.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 산화 주석 분말의 제조 방법은 반응기 내부에 초음파를 조사하면서 기체로 버블링하여 상기 침전 형성 반응(S13) 중 금속 주석의 전체 표면이 상기 질산에 노출되도록 유지시키는 방법을 포함하는 것을 특징으로 한다. 금속 주석과 질산의 반응으로 금속 주석의 표면에는 반응에 의해 생성된 물질과 NOx 기체의 기포가 달라 붙어 있게 되므로, 반응기 내부를 초음파 및 기체로 버블링시켜 생성 물질과 NOx 기체의 기포를 금속 주석의 표면으로부터 이탈시킴으로써 금속 주석의 전체 표면이 질산에 노출될 수 있도록 한다. 이와 같은 작용은 초음파 에너지를 추가로 공급함으로써 가속시킬 수 있고 최대 효율을 나타내는 버블링 속도를 감소시킬 수 있다. 이는 작업의 편리성, 안전성 및 경제성 면에서 장점으로 작용한다. 또한, 상기 버블링이 상기 금속 주석의 표면에서 일어나도록 하는 경우 금속 주석의 표면에 달라 붙어 있는 생성 물질과 NOx 기체의 기포를 더 효과적으로 제거할 수 있다. 그리고, 기체를 반응기 내로 버블링함으로써 금속 주석과 질산의 실질적으로 반응 온도를 낮출 수 있어 제조 비용을 낮출 수 있는 장 점이 있다.In one embodiment of the present invention, the method for producing a tin oxide powder is bubbling with gas while irradiating the inside of the reactor with ultrasonic waves to maintain the entire surface of the metal tin during the precipitation forming reaction (S13) to be exposed to the nitric acid Characterized in that it comprises a. The reaction between metal tin and nitric acid causes bubbles of the material and NOx gas to adhere to the surface of the metal tin, so that the inside of the reactor is bubbled with ultrasonic waves and gas to bubble bubbles between the product material and the NOx gas. Departure from the surface allows the entire surface of the metal tin to be exposed to nitric acid. This action can be accelerated by the additional supply of ultrasonic energy and can reduce the bubbling rate, which indicates maximum efficiency. This is an advantage in terms of convenience, safety and economy of work. In addition, when the bubbling occurs on the surface of the metal tin, bubbles of the product and NOx gas that cling to the surface of the metal tin may be more effectively removed. In addition, by bubbling gas into the reactor, the reaction temperature of the metal tin and nitric acid can be substantially lowered, thereby lowering the manufacturing cost.
이하에서는 본 발명의 산화 주석 분말의 제조 방법과 관련하여, 침전을 숙성하는 시간과 침전을 중화하는 pH에 관하여 설명한다. Hereinafter, with regard to the method for producing the tin oxide powder of the present invention, the time for ripening the precipitate and the pH for neutralizing the precipitate will be described.
본 발명은 산화 주석을 제조함에 있어서, 금속 주석을 질산 수용액과 반응시켜 생성한 침전을 pH 4 내지 8로 조절하여 11 내지 13 시간 동안 숙성시키는 공정(S14)을 거친다. 상기 숙성 공정(S14)은 침전 생성 반응 과정에서 버블링을 하였는지 여부와 무관하게 적용될 수 있다. 즉, 버블링을 적용하여 침전을 생성한 경우뿐만 아니라, 버블링하지 않은 경우에도 상기 숙성 공정을 적용할 수 있다. In the present invention, in the preparation of tin oxide, the precipitation produced by reacting the metal tin with an aqueous solution of nitric acid is adjusted to pH 4 to 8 and subjected to a step of ripening for 11 to 13 hours (S14). The aging process (S14) may be applied regardless of whether or not bubbling in the precipitation production reaction process. That is, the aging process may be applied not only when bubbling is applied to generate precipitation but also when not bubbling.
금속 주석과 질산의 반응으로 생성된 메타스태닉산 침전은 반응 종료후 회수하여, 조절된 pH에서 소정의 시간 동안 숙성(aging)시킨다. 이 때, 숙성 시간과 pH에 따라 제조된 산화 주석 분말의 1차 입자 크기, 비표면적 및 결정 성장 방향의 균일한 정도가 달라진다. 숙성 시간이 짧으면, 침전 내에 잔류하는 이온의 농도가 높고 산화 주석 분말의 1차 입자 크기가 크며 비표면적이 작고, 결정 성장 방향이 불균일하다. 반대로, 숙성 시간이 너무 길면 제조 공정의 효율이 떨어지고, 산화 주석 분말의 입자 크기가 커진다. 또한, 적절한 숙성 시간을 갖지 않으면, 결정 성장 방향이 불균일하게 되고 이는 ITO 타겟 제조시 소결 밀도를 낮게 하는 원인이 된다. 따라서, 본 발명에서는 침전의 숙성 시간을 11 내지 13 시간, 바람직하게는 대략 12 시간으로 한다. The metastanic acid precipitate produced by the reaction of metal tin and nitric acid is recovered after the reaction is completed and aged for a predetermined time at a controlled pH. At this time, the uniformity of the primary particle size, specific surface area and crystal growth direction of the prepared tin oxide powder varies depending on the aging time and pH. If the aging time is short, the concentration of ions remaining in the precipitate is high, the primary particle size of the tin oxide powder is large, the specific surface area is small, and the crystal growth direction is nonuniform. On the contrary, too long aging time reduces the efficiency of the manufacturing process and increases the particle size of the tin oxide powder. In addition, without proper aging time, the crystal growth direction becomes nonuniform, which causes the sintered density to be lowered in the production of the ITO target. Therefore, in the present invention, the aging time of precipitation is 11 to 13 hours, preferably about 12 hours.
상기 메타스태닉산 침전에 암모니아수를 첨가하여 pH를 조절하여 숙성한 뒤 중화하고, 그 다음으로 원심 분리기를 통해 메타스태닉산의 세척(S15)을 수행하여 순수한 물을 첨가한 후, 종이 필터를 이용하여 여과하고 건조(S16)한다.Ammonia water was added to the metastatic acid precipitate to adjust the pH to mature, and then neutralized. Next, pure water was added by performing the washing of metastatic acid through a centrifuge (S15), and then using a paper filter. Filter and dry (S16).
침전 후 숙성 공정(S14) 동안에 입자 간의 물리적 결합(physical bonding)에 의해 뭉침 현상(agglomeration)이 일어나게 되는데, 이는 이후 하소 공정(S17)에서 화학 결합(chemical bonding)으로 바뀌게 된다. 이를 방지하기 위해서 외부 첨가제를 넣는 방안이 있으나, 불순물 함량이 증가될 수 있고, 반응액이 진한 질산액이므로 적절치 않다. 따라서, 본 발명에서는 외부 첨가제가 아니라 pH에 따라 입자 표면의 전하가 바뀌는 점을 이용하여 숙성 공정 동안 pH 4 내지 8의 범위에서 침전을 중화한다.Aggregation occurs by physical bonding between particles during the aging process (S14) after precipitation, which is then changed to chemical bonding in the calcination process (S17). In order to prevent this, there is a method of adding an external additive, but the impurity content may be increased, and the reaction solution is not suitable because of the concentrated nitric acid solution. Therefore, the present invention neutralizes precipitation in the range of pH 4 to 8 during the aging process, using the fact that the charge on the surface of the particles changes with pH rather than external additives.
이하 실시예를 통하여 본 발명에 따른 산화 주석 분말의 제조 방법을 더욱 상세하게 설명하나, 하기 실시예는 본 발명에 따른 제조 방법을 보다 더 구체적으로 설명하기 위한 예시적인 것으로서, 본 발명의 내용이 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the method of preparing the tin oxide powder according to the present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, which are illustrative examples for explaining the production method according to the present invention in more detail. It is not limited to an Example.
[실시예 1]Example 1
반응기, 금속 주석 지지용 받침 유닛 및 매질을 통해 반응기 내로 초음파를 공급하는 초음파 발생 유닛으로 이루어진 산화 주석 제조용 반응 장치를 이용하였다. 상기 초음파 발생 유닛으로는 대한 과학에서 제조한 DH·D300H 모델을 사용하였다.A reactor for producing tin oxide was used, which consisted of a reactor, a support unit for supporting metal tin, and an ultrasonic wave generating unit for supplying ultrasonic waves into the reactor through a medium. As the ultrasonic wave generating unit, a DH · D300H model manufactured by Korean Science was used.
금속 주석을 용량이 2L인 반응기 내의 금속 주석 지지용 받침 유닛 위에 투입한 후, 금속 주석 질량의 2.5배에 해당하는 증류수를 투입하고 상온에서 농도 60% 질산을 증류수와 같은 무게로 투입하였다. 자기 교반기로 자석 막대를 회전시켜 교반하고 초음파 발생 유닛을 이용하여 초음파를 공급하면서, 질산 첨가 개시로부터 12시간 동안 반응시켜 침전을 형성하였다. 이후 질산과 반응하지 않고 남은 금속 주석은 세척, 건조하여 질량을 측정하였다. After the metal tin was placed on the support unit for supporting the metal tin in a reactor having a capacity of 2 L, distilled water corresponding to 2.5 times the mass of the metal tin was added thereto, and 60% nitric acid at a room temperature was added with the same weight as the distilled water. The magnetic rod was rotated with a magnetic stirrer and stirred, and an ultrasonic wave was supplied using an ultrasonic generating unit, and reacted for 12 hours from the start of nitric acid addition to form a precipitate. Then, the metal tin remaining without reacting with nitric acid was washed and dried to measure mass.
침전된 메타스태닉산(metastannic acid)은 물 1.25kg을 첨가한 후 24시간 동안 숙성하여 28% 암모니아수로 중화하였다. 이렇게 얻은 슬러리는 원심 분리기를 통해 3번 세척을 수행한 다음 증류수 100mL를 더 첨가하고 종이 필터를 이용하여 여과하였다. 여과 후 얻어진 메타스태닉산을 105℃ 건조오븐에서 24시간 건조한 뒤, 분쇄기를 이용하여 1분간 분쇄하고, 600℃에서 3시간 하소하여 산화 주석 분말을 얻었다. 반응 후 남은 금속 주석의 질량은 표 1에 정리하였고, 생성된 산화 주석 분말의 1차 입자 크기 및 비표면적은 표 2에 정리하였다. Precipitated metastannic acid (metastannic acid) was added to 1.25kg of water, aged for 24 hours and neutralized with 28% ammonia water. The slurry thus obtained was washed three times using a centrifuge, and then 100 mL of distilled water was further added and filtered using a paper filter. The metastanic acid obtained after the filtration was dried in a 105 ° C. drying oven for 24 hours, and then ground for 1 minute using a grinder, and calcined at 600 ° C. for 3 hours to obtain a tin oxide powder. The mass of the metal tin remaining after the reaction is summarized in Table 1, and the primary particle size and specific surface area of the resulting tin oxide powder are summarized in Table 2.
[실시예 2]Example 2
도 4에 나타나 있는 산화 주석 제조용 반응 장치(400)를 이용하였다. 금속 주석(50)을 용량이 2L인 반응기(420) 내의 금속 주석 지지용 받침 유닛(440) 위에 투입한 후, 금속 주석 질량의 2.5배에 해당하는 증류수를 투입하고 상온에서 농도 60% 질산을 증류수와 같은 무게로 투입하였다. 이 때 질소 가스를 폭기 장치(470)를 이용하여 반응기 내로 1분당 10L의 속도로 불어 넣었으며, 초음파를 질산 첨가 전부터 공급하기 시작하여 반응 종료시까지 12시간 동안 공급하였다. 질산 첨가 개시로부터 12시간 후 질산과 반응하지 않고 남은 금속 주석은 세척, 건조하여 질 량을 측정하였다. The
침전된 메타스태닉산은 물 1.25kg을 첨가한 후 24시간 동안 숙성하여 28% 암모니아수로 중화하였다. 이렇게 얻은 슬러리는 원심 분리기를 통해 3번 세척을 수행한 다음 증류수 100mL를 더 첨가하고 종이 필터를 이용하여 여과하였다. 여과 후 얻어진 메타스태닉산을 105℃ 건조오븐에서 24시간 건조한 뒤, 분쇄기를 이용하여 1분간 분쇄하고, 600℃에서 3시간 하소하여 산화 주석 분말을 얻었다. 반응 후 남은 금속 주석의 질량은 표 1에 정리하였고, 생성된 산화 주석 분말의 1차 입자 크기 및 비표면적은 표 2에 정리하였다.Precipitated metastatic acid was added to 1.25 kg of water and aged for 24 hours to neutralize with 28% ammonia water. The slurry thus obtained was washed three times using a centrifuge, and then 100 mL of distilled water was further added and filtered using a paper filter. The metastanic acid obtained after the filtration was dried in a 105 ° C. drying oven for 24 hours, and then ground for 1 minute using a grinder, and calcined at 600 ° C. for 3 hours to obtain a tin oxide powder. The mass of the metal tin remaining after the reaction is summarized in Table 1, and the primary particle size and specific surface area of the resulting tin oxide powder are summarized in Table 2.
[실시예 3]Example 3
도 4에 나타나 있는 산화 주석 제조용 반응 장치(400)를 이용하였다. 금속 주석(50)을 용량이 2L인 반응기(420) 내의 금속 주석 지지용 받침 유닛(440) 위에 투입한 후, 금속 주석 질량의 2.5배에 해당하는 증류수를 투입하고 상온에서 농도 60% 질산을 증류수와 같은 무게로 투입하였다. 이 때 질소 가스를 폭기 장치(470)를 이용하여 반응기 내로 1분당 1L의 속도로 불어 넣었으며, 초음파를 질산 첨가 전부터 공급하기 시작하여 반응 종료시까지 12시간 동안 공급하였다. The
침전된 메타스태닉산은 물 1.25kg을 첨가한 후 9시간 동안 숙성하여 28% 암모니아수로 중화하였다. 이렇게 얻은 슬러리는 원심 분리기를 통해 3번 세척을 수행한 다음 증류수 100mL를 더 첨가하고 종이 필터를 이용하여 여과하였다. 여과 후 얻어진 메타스태닉산을 105℃ 건조오븐에서 24시간 건조한 뒤, 분쇄기를 이용하 여 1분간 분쇄하고, 600℃에서 3시간 하소하여 산화 주석 분말을 얻었다. Precipitated metastatic acid was added to 1.25kg of water and aged for 9 hours to neutralize with 28% ammonia water. The slurry thus obtained was washed three times using a centrifuge, and then 100 mL of distilled water was further added and filtered using a paper filter. The metastanic acid obtained after the filtration was dried for 24 hours in a 105 ° C. drying oven, pulverized for 1 minute using a grinder, and calcined at 600 ° C. for 3 hours to obtain a tin oxide powder.
이렇게 얻은 산화 주석 분말을 이용하여 ITO 타겟을 제조하여 상대 소결 밀도를 측정하였으며, 이에 따른 결과를 실시예 4 및 실시예 5에서 제조한 ITO 타겟의 상대 소결 밀도와 비교하여 표 3에 정리하였다. 또한, 상기 ITO 타겟의 표면에 대해 전자 주사 현미경으로 사진을 찍어 이를 도 8에 나타내었다. The tin oxide powder thus obtained was used to prepare an ITO target, and the relative sintered densities were measured. The results are summarized in Table 3 in comparison with the relative sintered densities of the ITO targets prepared in Examples 4 and 5. In addition, the surface of the ITO target was photographed with an electron scanning microscope and shown in FIG. 8.
[실시예 4]Example 4
침전된 메타스태닉산을 12시간 동안 숙성시킨 것을 제외하고는 모두 실시예 3과 동일한 과정을 거쳐서 산화 주석 분말을 제조하였다.A tin oxide powder was prepared in the same manner as in Example 3 except that the precipitated metastatic acid was aged for 12 hours.
이렇게 얻은 산화 주석 분말을 이용하여 ITO 타겟을 제조하여 상대 소결 밀도를 측정하여 실시예 3에 의해 제조된 소결체의 상대 소결 밀도와 그 차이를 구하여, 이에 따른 결과를 표 3에 정리하였다. 또한, 상기 ITO 타겟의 표면에 대해 전자 주사 현미경으로 사진을 찍어 이를 도 9에 나타내었다. The tin oxide powder thus obtained was used to prepare an ITO target, and the relative sintered density was measured to determine the relative sintered density and the difference between the sintered bodies prepared in Example 3, and the results are summarized in Table 3. In addition, the surface of the ITO target was photographed with an electron scanning microscope and shown in FIG. 9.
[실시예 5]Example 5
침전된 메타스태닉산을 15시간 동안 숙성시킨 것을 제외하고는 모두 실시예 3과 동일한 과정을 거쳐서 산화 주석 분말을 제조하였다.A tin oxide powder was prepared in the same manner as in Example 3 except that the precipitated metastatic acid was aged for 15 hours.
이렇게 얻은 산화 주석 분말을 이용하여 ITO 타겟을 제조하여 상대 소결 밀도를 측정하여 실시예 3에 의해 제조된 소결체의 상대 소결 밀도와 그 차이를 구하여, 이에 따른 결과를 표 3에 정리하였다. 또한, 상기 ITO 타겟의 표면에 대해 전 자 주사 현미경으로 사진을 찍어 이를 도 10에 나타내었다. The tin oxide powder thus obtained was used to prepare an ITO target, and the relative sintered density was measured to determine the relative sintered density and the difference between the sintered bodies prepared in Example 3, and the results are summarized in Table 3. In addition, the surface of the ITO target was photographed with an electron scanning microscope and shown in FIG. 10.
[비교예 1]Comparative Example 1
반응기 및 금속 주석 지지용 받침 유닛으로 이루어진 산화 주석 제조용 반응 장치를 이용하였다. A reaction apparatus for producing tin oxide was used, which consisted of a reactor and a support unit for supporting metal tin.
금속 주석을 용량이 2L인 반응기 내의 금속 주석 지지용 받침 유닛 위에 투입한 후, 자기 교반기로 교반하면서 금속 주석 질량의 2.5배에 해당하는 증류수를 투입하고 상온에서 농도 60% 질산을 증류수와 같은 무게로 투입하였다. 질산 첨가 개시로부터 12시간 동안 반응시켜 침전을 형성하였다. 이후 질산과 반응하지 않고 남은 금속 주석은 세척, 건조하여 질량을 측정하였다. The metal tin was placed on the support base for supporting the metal tin in a reactor having a capacity of 2 L, and then distilled water corresponding to 2.5 times the mass of the metal tin was stirred with a magnetic stirrer. Input. Reaction was formed for 12 hours from the start of nitric acid addition to form a precipitate. Then, the metal tin remaining without reacting with nitric acid was washed and dried to measure mass.
침전된 메타스태닉산(metastannic acid)은 물 1.25kg을 첨가한 후 24시간 동안 숙성하여 28% 암모니아수로 중화하였다. 이렇게 얻은 슬러리는 원심 분리기를 통해 3번 세척을 수행한 다음 증류수 100mL를 더 첨가하고 종이 필터를 이용하여 여과하였다. 여과 후 얻어진 메타스태닉산을 105℃ 건조오븐에서 24시간 건조한 뒤, 분쇄기를 이용하여 1분간 분쇄하고, 600℃에서 3시간 하소하여 산화 주석 분말을 얻었다. 반응 후 남은 금속 주석의 질량은 표 1에 정리하였고, 생성된 산화 주석 분말의 1차 입자 크기 및 비표면적은 표 2에 정리하였다. Precipitated metastannic acid (metastannic acid) was added to 1.25kg of water, aged for 24 hours and neutralized with 28% ammonia water. The slurry thus obtained was washed three times using a centrifuge, and then 100 mL of distilled water was further added and filtered using a paper filter. The metastanic acid obtained after the filtration was dried in a 105 ° C. drying oven for 24 hours, and then ground for 1 minute using a grinder, and calcined at 600 ° C. for 3 hours to obtain a tin oxide powder. The mass of the metal tin remaining after the reaction is summarized in Table 1, and the primary particle size and specific surface area of the resulting tin oxide powder are summarized in Table 2.
표 1의 결과를 보면, 산화 주석 제조용 반응 장치에 금속 주석 지지용 받침 유닛 및 초음파 발생 유닛을 포함한 실시예 1과 실시예 2의 경우가 상기 받침 유닛 및 초음파 발생 유닛을 포함하지 않은 비교예 1의 경우보다 금속 주석과 질산의 반응률이 높게 나타났음을 알 수 있다. 또한, 폭기 장치로 기체를 반응기 내로 불어 넣어준 실시예 2의 경우가 가장 반응률이 높게 나왔음을 알 수 있다. 즉, 동일한 조건 하에서는 산화 주석 제조용 반응 장치에 금속 주석 지지용 받침 유닛 및 초음파 발생 유닛이 포함되고, 폭기 장치로 기체를 버블링시킨 경우 금속 주석과 질산의 반응 속도가 가장 높게 나왔음을 보여준다. As a result of Table 1, the case of Examples 1 and 2 including the support unit and the ultrasonic wave generating unit for metal tin support in the reaction apparatus for producing tin oxide of Comparative Example 1 not including the support unit and the ultrasonic wave generating unit It can be seen that the reaction rate of metal tin and nitric acid was higher than that. In addition, it can be seen that the case of Example 2 in which gas was blown into the reactor by the aeration device showed the highest reaction rate. That is, under the same conditions, the reaction apparatus for preparing tin oxide includes a support unit for supporting tin and an ultrasonic wave generating unit, and shows that the reaction rate of metal tin and nitric acid is highest when the gas is bubbled through the aeration apparatus.
표 2에서 dXRD는 실시예 1내지 2 및 비교예 1에 의해 제조된 산화 주석 분말의 X선 회절 패턴에서 구한 반값폭(FWHM)으로부터 Sherr식을 이용하여 계산된 값이며, 이로부터 1차 입자 크기를 알 수 있다. 도 7은 비교예 1에 의해 제조된 산화 주석 분말의 X선 회절 패턴 결과를 보여주는 그래프로, 상기 그래프에서 가로축은 회절 각도(2 theta)를 나타내고, 세로축은 회절 세기(intensity)를 나타낸다. 표 2의 dXRD 값은 실시예 1, 실시예 2 및 비교예 1에 의해 제조된 산화 주석 분말에 대해 각각 X선 회절 패턴을 구한 다음, 상기 회절 패턴에서 첫 번째(1st) 피크, 두 번째(2nd) 피크 및 세 번째(3rd) 피크의 반값폭으로부터 계산된 값들을 평균한 것이다. 표 2의 결과로부터, 실시예 2의 경우 1차 입자 크기가 가장 작음을 알 수 있다.In Table 2, dXRD is a value calculated using Sherr's equation from the half width (FWHM) obtained from the X-ray diffraction pattern of the tin oxide powders prepared according to Examples 1 to 2 and Comparative Example 1, from which the primary particle size It can be seen. 7 is a graph showing the X-ray diffraction pattern results of the tin oxide powder prepared by Comparative Example 1, in which the horizontal axis represents the diffraction angle (2 theta) and the vertical axis represents the diffraction intensity (intensity). The dXRD values in Table 2 were obtained from the X-ray diffraction patterns of the tin oxide powders prepared in Example 1, Example 2 and Comparative Example 1, respectively, and then the first (1st) peak and second (2nd) in the diffraction pattern. ) Is the average of the values calculated from the half widths of the peak and the third (3rd) peak. From the results in Table 2, it can be seen that in Example 2, the primary particle size is the smallest.
표 2에서 분말의 비표면적(Surface Area)은 질소 흡착법으로 측정하여BET(Brunauer, Emmett, Teller)식으로 계산된 결과이다. 상기 표 2에서는 산화 주석 분말의 1차 입자 크기가 실시예 2에서 가장 작고, 비표면적의 값 역시 실시예 2의 경우 가장 큰 값을 보이는 바, 초음파를 공급하면서, 반응기 내로 기체를 1분당 10L의 속도로 버블링시킨 경우 가장 미세한 분말을 얻은 것을 알 수 있다. In Table 2, the specific surface area (Surface Area) of the powder is measured by nitrogen adsorption and is calculated by BET (Brunauer, Emmett, Teller). In Table 2, the primary particle size of the tin oxide powder is the smallest in Example 2, and the value of the specific surface area is also the largest in Example 2. Bars of 10 L of gas per minute are supplied while supplying ultrasonic waves. It can be seen that the finest powder was obtained when bubbling at speed.
표 3에서는 숙성 시간별 1차 입자 크기, 상대 소결 밀도 차이 및 비표면적의 값을 보여준다. dXRD값 중에서 1st, 2nd, 3rd 값은 앞서 설명한 바와 같이 X선 회절 패턴의 각 피크로부터 계산된 값이며, 각기 다른 결정 성장 방향에 대한 입자 크기를 나타낸다. X선 회절 패턴의 첫 번째(1st) 피크로부터 [110] 방향으로의 입자 크기, 두 번째(2nd) 피크로부터 [101] 방향으로의 입자 크기, 세 번째(3rd) 피크로부터 [211] 방향으로의 입자 크기를 구할 수 있다. Table 3 shows the values of the primary particle size, relative sintered density difference and specific surface area by aging time. Among the dXRD values, 1st, 2nd, and 3rd values are calculated from the respective peaks of the X-ray diffraction pattern as described above, and represent particle sizes for different crystal growth directions. Particle size from the first (1st) peak to the [110] direction, particle size from the second (2nd) peak to the [101] direction, and from the third (3rd) peak to the [211] direction of the X-ray diffraction pattern Particle size can be obtained.
실시예 3에서 [110] 방향으로의 입자 크기를 1이라고 할 때, [101] 방향으로의 입자 크기는 1.25, [211] 방향으로의 입자 크기는 6이다. 마찬가지로, 실시예 4에서 [110] 방향으로의 입자 크기를 1이라고 할 때, [101] 방향으로의 입자 크기는 0.45, [211] 방향으로의 입자 크기는 0.83이며, 실시예 5에서 [110] 방향으로의 입자 크기를 1이라고 할 때, [101] 방향으로의 입자 크기는 1.59, [211] 방향으로의 입자 크기는 1.35이다. When the particle size in the [110] direction is 1 in Example 3, the particle size in the [101] direction is 1.25, and the particle size in the [211] direction is 6. Similarly, when the particle size in the [110] direction is 1 in Example 4, the particle size in the [101] direction is 0.45 and the particle size in the [211] direction is 0.83, and in Example 5 [110] When the particle size in the direction is 1, the particle size in the [101] direction is 1.59, and the particle size in the [211] direction is 1.35.
표 3에서 9시간 동안 숙성된 산화 주석 분말의 경우 dXRD값의 분포가 넓으므로 상대적으로 결정이 균일하게 성장하지 않은 것을 알 수 있고, 이에 비해 12시간(실시예 4) 및 15시간(실시예 5) 동안 숙성된 산화 주석 분말은 dXRD 값의 분포가 크지 않으므로 실시예 3의 경우에 비해 상대적으로 결정이 균일하게 성장하였음을 알 수 있다.In Table 3, the tin oxide powder aged for 9 hours showed a wide distribution of dXRD values, so that the crystals did not grow uniformly, compared to 12 hours (Example 4) and 15 hours (Example 5). Since tin oxide powder aged during) was not large in the distribution of dXRD values, it can be seen that the crystals were grown uniformly compared to the case of Example 3.
이와 같이, X선 회절 패턴으로 산화 주석 분말의 결정 크기를 분석하면 주된 성장 방향인 [110], [101], [211] 방향으로의 결정 크기를 구할 수 있고, 숙성 시간이 12 시간인 실시예 4의 경우 산화 주석 분말이 각 결정 방향에 대해 가장 균일하게 성장하였음을 알 수 있다.As such, when the crystal size of the tin oxide powder is analyzed by the X-ray diffraction pattern, the crystal size in the [110], [101], and [211] directions, which are the main growth directions, can be obtained, and the aging time is 12 hours. In the case of 4 it can be seen that the tin oxide powder is most uniformly grown for each crystal direction.
표 3에서 상대 소결 밀도 차이는, 각 숙성 시간에 따른 산화 주석 분말로 ITO 타겟을 제조하여 타겟의 밀도를 측정한 다음 이론 밀도와의 차이를 구해 상대 밀도를 계산(예를 들어, 상대 밀도는 이론 밀도에 대해 99.5691%와 같이 나타남)하였다. 그 다음, 실시예 3에 의한 타겟의 밀도를 기준으로 실시예 4와 실시예 5에 의한 타겟의 밀도의 차이를 계산해 보았다. 즉, 상대 소결 밀도 차이는 실시예 4와 실시예 5의 상대 소결 밀도에서 실시예 3의 상대 밀도를 뺀 값이다. 그 결과, 12시간 동안 숙성시킨 실시예 4의 경우 소결 밀도가 가장 크게 나타났다. In Table 3, the relative sintered density difference is obtained by measuring the density of the target by making an ITO target with tin oxide powder according to each aging time, and calculating the difference from the theoretical density to calculate the relative density (e.g., Shown as 99.5691% for density). Then, the difference between the density of the target according to Example 4 and Example 5 was calculated based on the density of the target according to Example 3. In other words, the relative sintered density difference is a value obtained by subtracting the relative density of Example 3 from the relative sintered densities of Examples 4 and 5. As a result, the sintered density was the largest in Example 4 aged for 12 hours.
그리고, 실시예 3 내지 실시예 5의 비표면적값을 비교해보면, 실시예 3과 실시예 4의 경우가 유사하게 나타나나, 실시예 4의 경우에 소결 밀도가 더 크고, 1차 입자 크기도 결정 방향에 따라 균일하게 나타나므로, 12시간 동안 숙성시킬 경우 가장 미세하고 균일한 분말을 얻은 것을 알 수 있다. And, when comparing the specific surface area values of Examples 3 to 5, the case of Example 3 and Example 4 is similar, but in Example 4, the sintered density is larger and the primary particle size is also determined. Since it appears uniform along the direction, it can be seen that the finest and most uniform powder is obtained after aging for 12 hours.
이하에서는, 도 8 내지 도 10을 참조하여 본 발명에 따라 제조된 산화 주석 분말의 물성을 비교해 본다. Hereinafter, with reference to FIGS. 8 to 10 compare the physical properties of the tin oxide powder prepared according to the present invention.
도 8은 본 발명의 실시예 3에 의해 제조된 산화 주석 분말로 제조한 소결체의 표면에 대한 전자 주사 현미경 사진으로 배율은 1,000배이고, 도 9는 본 발명의 실시예 4에 의해 제조된 산화 주석 분말로 제조한 소결체의 표면에 대한 전자 주사 현미경 사진으로 배율은 1,100배이며, 도 10은 본 발명의 실시예 5에 의해 제조된 산화 주석 분말로 제조한 소결체의 표면에 대한 전자 주사 현미경 사진으로 배율은 1,000배이다. 각 사진을 비교해 볼 때, 도 9의 경우 입자 크기가 가장 작고 입도 분포가 균일하다. 8 is an electron scanning micrograph of the surface of the sintered body prepared from the tin oxide powder prepared according to Example 3 of the present invention, the magnification of which is 1,000 times, and FIG. 9 shows the tin oxide powder prepared according to Example 4 of the present invention. The magnification is 1,100 times the magnification of the surface of the sintered compact manufactured by the present invention. FIG. 10 is the magnification of the electron scanning micrograph of the surface of the sintered compact made of the tin oxide powder prepared according to Example 5 1,000 times. Comparing each picture, the particle size of FIG. 9 is the smallest and the particle size distribution is uniform.
상술한 바와 같이 본 발명에 따르면, 산화 주석 제조용 반응 장치에 초음파 발생 장치를 포함하여 반응 속도를 높일 수 있으며 미세한 산화 주석 분말을 얻을 수 있다. 또한, 기체를 반응기 내로 버블링하는 장치를 추가함으로써 보다 효과적으로 반응 속도를 높일 수 있으며, 보다 미세하고 균일한 산화 주석 분말을 제조할 수 있으며 상기 반응 장치에 측정 장치를 부가하여 실시간으로 반응 속도를 측정할 수 있어 제조 공정의 효율성을 높일 수 있다.As described above, according to the present invention, an ultrasonic wave generating apparatus is included in the reaction apparatus for preparing tin oxide, the reaction rate can be increased, and fine tin oxide powder can be obtained. In addition, by adding a device for bubbling gas into the reactor, it is possible to more effectively increase the reaction rate, to produce finer and more uniform tin oxide powder, and to add a measuring device to the reaction device to measure the reaction rate in real time. It can increase the efficiency of the manufacturing process.
또한, 본 발명에 의한 산화 주석 제조 방법에 의하면, 기체를 버블링하면서 초음파를 공급하여 반응 속도를 높일 수 있고, 기체를 불어 넣어주는 속도 및 초음파의 세기를 조절함으로써 산화 주석 분말의 1차 입자 크기 및 비표면적을 조절할 수 있다. 또한, 금속 주석과 질산의 반응에 의해 생성된 메타스태닉산의 숙성 시간과 pH를 조절함으로써 1차 입자 크기가 작고 비표면적이 크며, 결정 성장 방향이 고른 산화 주석 분말을 얻을 수 있어 고밀도의 ITO 타겟을 제조할 수 있다.In addition, according to the method for preparing tin oxide according to the present invention, the reaction rate can be increased by supplying ultrasonic waves while bubbling gas, and the primary particle size of the tin oxide powder is controlled by adjusting the rate of blowing gas and the intensity of ultrasonic waves. And specific surface area. In addition, by adjusting the maturation time and pH of the metastanic acid produced by the reaction of metal tin and nitric acid, a tin oxide powder having a small primary particle size, a large specific surface area, and an even crystal direction of crystal growth can be obtained. Can be prepared.
이상과 같이 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 그러므로, 본 발명의 범위는 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니 되며, 후술하는 특허청구범위뿐 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.As described above, although the present invention has been described with reference to limited embodiments and drawings, the present invention is not limited to the above embodiments, and those skilled in the art to which the present invention pertains various modifications and variations from such descriptions. This is possible. Therefore, the scope of the present invention should not be limited to the described embodiments, but should be determined not only by the claims below but also by the equivalents of the claims.
Claims (20)
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KR1020070047093A KR20080100986A (en) | 2007-05-15 | 2007-05-15 | Manufacturing method for producing tin oxide powder, reaction apparatus for producing the same, and tin oxide powder manufactured by the same |
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---|---|---|---|---|
WO2011021856A3 (en) * | 2009-08-18 | 2011-08-25 | Kim Young-Il | Oil-removing agent, and method and apparatus for preparing same |
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2007
- 2007-05-15 KR KR1020070047093A patent/KR20080100986A/en not_active Application Discontinuation
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WO2011021856A3 (en) * | 2009-08-18 | 2011-08-25 | Kim Young-Il | Oil-removing agent, and method and apparatus for preparing same |
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