KR20080090473A - 기체 흡착성 복합체 시스템 및 이들의 제조방법 - Google Patents

기체 흡착성 복합체 시스템 및 이들의 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20080090473A
KR20080090473A KR1020087018441A KR20087018441A KR20080090473A KR 20080090473 A KR20080090473 A KR 20080090473A KR 1020087018441 A KR1020087018441 A KR 1020087018441A KR 20087018441 A KR20087018441 A KR 20087018441A KR 20080090473 A KR20080090473 A KR 20080090473A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
gas adsorption
adsorption system
polymer
nucleus
gas
Prior art date
Application number
KR1020087018441A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101209829B1 (ko
Inventor
치아라 베스코비
로레나 카타네오
로베르토 지안난토니오
지오르지오 롱고니
Original Assignee
사에스 게터스 에스.페.아.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 사에스 게터스 에스.페.아. filed Critical 사에스 게터스 에스.페.아.
Publication of KR20080090473A publication Critical patent/KR20080090473A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101209829B1 publication Critical patent/KR101209829B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K9/00—Use of pretreated ingredients
    • C08K9/04—Ingredients treated with organic substances
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J20/00—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
  • Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Gas Separation By Absorption (AREA)
  • Drying Of Gases (AREA)

Abstract

본 발명은 다공성이거나 흡착되는 기체에 투과성인 폴리머 매트릭스에 분산된 기체 흡착 성분으로 형성된 기체 흡착 시스템에 관한 것이며, 여기서, 기체 습수 성분은 흡착되는 기체를 화학적으로 고정할 수 있는 작용기를 지니는 하나 이상의 유기 또는 금속유기 라디칼이 결합되는 실리카 입자, 다면체 올리고머 실세스퀴옥산 및 스페로실리케이트로부터 선택된 중심 핵, 및 매트릭스 중합체중에 핵을 공정하는 작용성을 지니는 탄소원자의 쇄로 이루어진 하나 이상의 고정화 유기 라디칼로 이루어진다.

Description

기체 흡착성 복합체 시스템 및 이들의 제조방법{GAS SORBING COMPOSITE SYSTEMS AND METHODS FOR THEIR MANUFACTURING}
본 발명은 기체 흡착성 복합체 시스템, 및 이들의 제조방법에 관한 것이다.
기체 흡착 시스템 및 재료는 진공을 유지하거나 원치않는 미량의 기체를 제거하는 수단에 의해서 기체 대기의 조성을 조절하는 것이 필수적인 모든 분야의 산업에서, 특히, 텔레비젼, 컴퓨터를 위한 스크린으로 사용되는 디스플레이에서, 또는 그 밖의 전자 분야, 예컨대, 휴대용 컴퓨터, 및 휴대폰 등에서 광범위하게 사용되고 있다. 특히 중요한 경우의 디스플레이는, 예를 들어, 미국특허 제5,804,917 및 미국특허 제5,882,761호에 기재된 OLED(유기 발광 다이오드), 특히, "상부 발광 OLED(Top Emssion OLED)(TOLED)"로 공지된 최신 세대에 속하는 디스플레이이며; 후자에서는, 광은 이미지의 형성을 담당하는 시스템이 위치하는 표면에 대해서 반대에 있는 표면을 통해서, 즉, 게터 시스템(getter system)을 하우징하기에 가장 적합한 표면으로부터 디바이스(device)를 떠나는 것으로 예상된다. 그러한 경우에, 게터 시스템은 분명하게는 투명해야 한다. 이들의 중요성 때문에, 이하에서는, 이들 후자 타입의 디스플레이를 특별히 참조하지만, 본 발명의 교시사항은, 예를 들어, 플라즈마 스크린의 경우에서, 보다 일반적인 적용성을 지닌다.
산업에서 사용되는 기체 흡착 재료는 일반적으로 비표면적(중량 단위당 표면적)을 증가시켜서 주변 기체 환경과의 상호작용 용량 및 속도를 증가시키기 위한 미세하게 분산된 형태의 무기 화합물이고; 이들 재료의 예는 알칼리토금속 산화물, 예컨대, CaO 및 BaO (수분 흡착의 경우), 제올라이트(사용되는 특이적 제올라이트에 따라서, 상이한 기체, 예컨대, 수분, 탄소 산화물 또는 그 밖의 물질의 흡착의 경우), 또는 알루미나 등이다. 이들 재료의 공통적인 문제는 분말이 컴팩트 보디(compact body)를 형성하기에 충분한 유착성을 제공하지 않는다는 것이며; 이는 수분 흡착 후의 건조제의 경우에 특히 그러하다.
이러한 문제는 일반적으로 분산제 매트릭스내에 흡착 재료를 분산시켜 재료 입자를 고정된 위치에 유지시키면서 동시에 기체가 게터 그 자체를 향해서 통과되게 함으로써 처리된다. 이러한 해결 방법의 예는 다양한 문헌에서 보고되어 있다. 일본특허공보 제60-132274호에서는 실시콘 매트릭스에 분산된 전조제 재료를 개시하고 있으며; 미국특허 제3,704,806호에서는 열경화성 폴리머, 예컨대, 에폭시 수지로 이루어진 매트릭스내에 분산된 제올라이트를 포함하는 건조제 조성물을 개시하고 있고; 미국특허 제4,081,397호에서는 엘라스토머 폴리머에 분산된 알칼리토금속 산화물 입자를 포함하는 건조제 시스템을 개시하고 있고; 미국특허 제5,304,419호에서는 실리콘, 폴리우레탄 또는 이와 유사한 폴리머로 이루어진 매트릭스에 분산된 건조제 재료를 포함하는 건조제 조성물을 개시하고 있고; 미국특허 제5,591,379호에서는 다공성 유리 또는 세라믹의 매트릭스에 분산되는 제올라이트, 알루미나, 실리카겔, 알칼리토금속 산화물 및 알칼리금속 카르보네이트로부터 선택된 건조제를 포함하는 건조제 조성물을 개시하고 있으며; 미국특허 제6,226,890 B1에서는 건조제 재료(예, 알칼리토금속 산화물)가 건조제 재료, 예컨대, 실리콘, 에 폭시, 폴리아미드, 폴리메타크릴레이트 또는 그 밖의 물질에 의해서 수분 흡착 속도를 감소시키기 않거나 증가시키는 성질을 지니는 것으로 본 특허에서 일컬어지는 폴리머에 분산되는 건조제 시스템을 개시하고 있고; 마지막으로, 미국특허 제6,819,042 B2에서는 수지에 분산되는 건조제 재료, 예를 들어, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리부타디엔 및 폴리이소프렌으로 이루어진 건조제 시스템을 개시하고 있다.
공지된 흡착 시스템에 의해서 발생되는 첫 번째 일반적인 단점은 이들의 제조에 있다. 수분 흡착제, 예컨대, 알칼리토금속 산화물이 사용되는 경우, 공기에 노출됨으로 인해서 흡한 입자는 서로 유착되는 경향이 있으며, 이는 이들의 특성을 열화시키고, 그로 인해서 이들은 최종 흡착 시스템에서 요구되는 입자크기(granulometry) 및 균일한 분포를 더 이상 지니지 않는다.
또한, 이들 시스템은 일반적으로 매트릭스를 형성하게 될 재료에 이것이 액체일 때에(예를 들어, 중합전의 유기 재료 또는 용융 폴리머) 흡착 재료 입자를 현탁시킴으로써 형성되며; 적어도 현탁액의 형성시부터 매트릭스가 고형 입자의 침강을 방지하기에 충분한 점도에 도달할 때까지 시스템을 연속적인 교반하에 유지시키지 않는 한, 입자와 매트릭스 재료의 상이한 밀도 및 표면 에너지가 현탁액 중에서 해혼합(demixing)을 유발시킬 것이며; 그러나, 이는 이들 시스템을 위한 제조 과정이 명백히 복잡함을 나타내는 것이다.
또한, 상기된 과정의 수단에 의해서 얻은 매트릭스를 포함하는 시스템은 매트릭스 통합(consolidation) 동안에 응집하는 경향을 나타내는 흡착성 입자를 지닐 것이다.
또한, 특정의 흡착 시스템이 주어지고 이의 흡착 특성, 특히 기체 흡착성을 변화시키는 것이 요구되는 경우, 흡착 입자의 특성을 변화시킴으로써 새로운 제제를 다시 제공하는 것이 요구되며: 이는 일반적으로는 시스템의 레올로지(rheological) 성질의 연구를 시작으로 해서 균일하고 안정한 입자 분산을 달성하기 위해서 이의 제조 동안 어떻게 이들을 발전시킬 지에 대한 연구를 수행할 필요를 포함하고 있다.
마지막으로, 기체 흡착의 결과로, 이들 시스템은 흡착 입자의 화학적-물리적 변화에 기인하여 이들의 전체적인 물질적 성질, 특히, 광학적 성질, 예컨대, 굴절율 또는 광 방사선 흡수율이 변할 수 있다. 이러한 점이 특히 중요하며: 사실, 종래의 게터 시스템은 앞서 언급된 TOPED 스크린에서의 이들의 만족할 만한 사용을 보장하는 광학적 성질을 지니지 못한다.
본 발명의 목적은 종래의 단점을 극복하는 기체 흡착 시스템을 제공하는 것이다.
이러한 및 그 밖의 목적이 본 발명에 따라서 다공성이거나 흡착되는 기체에 대해서 투과성인 폴리머 매트릭스로 이루어진 투과성 분산제 수단에 분산된 기체 흡착 성분으로 이루어진 기체 흡착 시스템에 의해서 달성되는데, 상기 흡착 성분이 실리카 입자, 다면체 올리고머 실세스퀴옥산(silsesquioxane) 및 스페로실리케이트(spherosilicate)로부터 선택될 수 있는 중심 핵 및 매트릭스 폴리머 중에 핵을 고정하는 작용성을 지니는 탄소원자 쇄로 이루어진 하나 이상의 고정 유기 라디칼 로 이루어지며, 흡착되는 기체를 화학적으로 고정할 수 있는 작용기를 지니는 하나 이상의 유기 또는 금속유기 라디칼이 상기 중심 핵에 결합됨을 특징으로 하는 기체 흡착 시스템에 의해서 달성된다.
고정 유기 라디칼은 판데르 발스 상호작용, 수소결합, 공유결합 또는 이온 상호작용을 통해서 폴리머 매트릭스에 관해서 고정된 위치에 핵을 유지시킬 수 있다.
폴리머 매트릭스는 흡착되는 기체 화학종에 투과성인 어떠한 폴리머 재료로 제조될 수 있으며; 바람직하게는 이러한 폴리머는 추가의 첨가제의 사용을 필요로 하지 않으면서 수용 장치의 내벽에 고정되게 할 수 있는 유착 특성을 나타낸다.
일반적으로, 투과성 분산제 수단을 달성하기 위해서, 폴리머 및 이의 제조과정은 바람직하게는 폴리머 매체의 최대 유리 용적, 폴리머 쇄의 최대 순서(order) 및 규칙성, 및 최소 가교 등급, 최소 패킹 밀도 및 투과 화학종과의 최대 상호작용을 달성하게 하는 폴리머 및 그의 제조방법으로부터 선택된다.
투과성 분산제 수단의 달성을 위한 적합한 폴리머는, 예를 들어, 폴리아크릴레이트 및 폴리메타크릴레이트, 폴리에테르이미드(PEI), 폴리아미드(PA), 셀룰로오즈 아세테이트(CA), 셀룰로오즈 트리아세테이트(TCA), 폴리실록산(실리콘으로 공지됨), 폴리비닐 알코올(PVAL), 폴리에틸렌 옥사이드(PEO), 폴리에틸렌 글리콜(PEG), 폴리프로필렌 글리콜(PPG), 폴리비닐아세테이트(PVAC), 폴리에틸렌-비닐 알코올 코폴리머, 및 PA-PEO 및 폴리우레탄-PEO 코폴리머이다.
흡착 성분에 대한 기체의 높은 확산을 달성하기 위해서, 본 발명의 시스템의 폴리머 매트릭스는 다공성일 수 있다. 이러한 특정의 경우에, 적합한 폴리머는 투과성과 결부된 제한이 없기 때문에 아주 광범위하다.
본 발명의 기체 흡착 성분은 상이한 작용성을 지니는 둘 이상의 유기 라디칼이 결합되어 있는 중심 핵에 의해서 형성되며, 하기 상세히 기재된 바와 같이, 흡착 성분에 요구된 보조적 작용성을 주는 추가의 유기 라디칼이 결합 가능하다.
본 발명의 성분의 제 1 기본 작용성은 기체 흡착이다. 이러한 작용성을 나타내는 유기 라디칼은 흡착되는 기체를 화학적으로 고정할 수 있는 작용기를 지니고 있으며; 작용기의 정확한 특성은 흡착되는 기체에 좌우된다. 흡착되는 기체가 물인 경우에, 작용기는 에폭시기, (활성화된) 이중 및 삼중 결합, 유기 무수물, 선형 및 고리형 알콕사이드, 이소시아네이트기, 이소티오시아네이트기 및 용이하게 가수분해되는 금속유기기, 예컨대, 알콕시실란 및 금속 알콕사이드로부터 선택될 수 있다.
흡착되는 기체가 산소인 경우에, 작용기는 페놀, 아민 (바람직하게는 방향족), 티오에테르, 알데하이드 및 삼차 탄소원자로부터 선택될 수 있다.
흡착되는 기체가 CO인 경우에, 작용기는 리튬-기재 유기 금속 화합물의 존재하의 불포화 결합, 아미노 및 케톤기로부터 선택될 수 있다.
본 발명의 성분의 제 2 기본 작용기는 상기된 바와 같이 매트릭스 폴리머내에서 고정제 작용을 하여 매트릭스내의 성분의 혼화성, 폴리머 형성 전에 제공된 용매 및 모노머 또는 올리고머의 용액중의 성분의 용액 또는 현탁액의 안정성, 및 폴리머 매트릭스의 통합 동안의 핵의 균일한 공간적 분산을 가능하게 하는 탄소원 자의 쇄로 이루어진 유기 라디칼이다.
이러한 쇄의 화학적 특성은 매트릭스 폴리머가 얻어지는 초기 용액의 성분에 좌우된다. 일반적으로, 초기 용액 또는 현탁액이 비극성 용매 및 모노머, 예컨대, 탄화수소 또는 에테르로 이루어지는 경우에, 쇄는 탄화수소 라디칼로 이루어질 수 있으며; 반대로, 극성 용매 및 모노머, 예컨대, 알코올 또는 케톤의 경우에, 쇄는 극성기, 예컨대, 알코올기, 카르보닐기, 산, 염(예, 카르복실산, 예컨대, 소위 "지방산"의 염), 또는 아민 등을 지닐 수 있다.
모노머에 대해 높은 친화성을 지니는 유기 라디칼이 또한 최종 폴리머 매트릭스에 대해 그러한 친화성을 보유할 것이다. 예를 들어, 폴리머가 폴리비닐 알코올 또는 올리아미드인 경우에, 라디칼은 히드록실기를 지닐 수 있으며, 폴리머가 폴리에틸렌 또는 폴리프로필렌인 경우에, 라디칼은 탄화수소 쇄로 이루어지고, 마지막으로, 폴리머가 플루오로폴리머 부류(예, PTFE, PVDF, PVF, ETFE)에 속하는 경우에는, 라디칼은 불소화된 기(예, -CF2-)를 지닌다.
라디칼은 또한 공유결합에 의해서 폴리머 매트릭스에 결합될 수 있다. 그러한 결합은 유기 모노머/올리고머와의 공중합 반응 동안, 폴리머 매트릭스의 가교 반응 동안, 마지막으로, 상기 매트릭스상의 그라프팅 반응(grafting reaction) 동안에 형성될 수 있다.
첫 번째 경우에서, 예를 들어, 라디칼은 라디칼-기재 매카니즘에 의해서 올레핀과 공중합되는 알릴릭, 비닐 또는 스티렌기를 지니며; 그 예는 스티렌과 스티 렌기로 작용성화되는 다면체 올리고머 실세스퀴옥산(polyhedral oligomeric silsesquioxane) 핵의 공중합에 의해서 얻은 폴리-(스티릴-POSS-코-스티렌) 코폴리머이며; POSS®(POSS®는 하이브리드 플라스틱스 LLP (Hybrid Plastics LLP) 회사의 상표명이다)로 공지된 다면체 올리고머 실세스퀴옥산이 이하 더욱 광범위하게 기재되며; 또 다른 가능한 핵이 스페로실리케이트(spherosilicate) 부류에서 선택될 수 있다.
라디칼은 또한 가교 반응에 의해서 폴리머 매트릭스에 결합될 수 있다. 예를 들어, 하나 이상의 메타크릴기를 지닌 라디칼을 지니는 핵, 아크릴 수지 및 자외선에 민감한 광개시제를 포함하는 혼합물에 자외선을 조사함으로써, 라디칼의 불포화된 기가 수지와 반응하여 라디칼이 공유결합 C-C에 의해서 분산제에 결합되는 고도로 가교된 폴리머 매트릭스를 형성시킨다.
매트릭스-라디칼 공유결합은 또한 용액(폴리머 및 핵이 용해되는 경우)중에서 또는 건조한 상태(핵 및 개시제가 용매의 첨가 없이 폴리머 분말에 첨가되는 경우)로 라디칼 개시제에 의해서 발생되는 그라프팅 반응을 통해서 형성될 수 있다.
마지막으로, 분산제 폴리머 매트릭스는 또한 추가의 분산제 폴리머의 필요 없이 상이한 핵상에 위치한 고정화 쇄 사이의 반응에 의해서 형성될 수 있다. 예를 들어, 메타크릴레이트 POSS®은 라디칼 기재 메카니즘을 통해서 중합되어 매트릭스를 형성할 수 있다.
상기된 두 형태의 라디칼은 실리카 입자, 다면체 올리고머 실세스퀴옥산 및 스페로실리케이트로부터 선택될 수 있는 중심 핵에 연결된다. 중심 핵의 크기는 약 10Å 내지 100㎛, 바람직하게는 100Å 내지 10 ㎛의 범위일 수 있다.
본 발명의 첫 번째 가능한 형태의 핵을 형성시키는 실시카 입자는 일반적으로는 산소와 실리콘 화합물, 예컨대, SiCl4, Si(O-CH3)4 또는 Si(O-CH2-CH3)4 사이의 기체 상태에서의 반응에 의해서 얻으며; 이러한 반응으로부터 정전기 상호작용에 의해서 응집되어서 더 큰 크기의 입자를 형성하는 10 옹스트롬 정도의 크기를 지니는 SiO2 입자가 얻어진다. (수분) 공기에 대한 첫 번째 노출시에, 이들 입자는 히드록실기 -OH에 의해서 표면이 완전히 덮힌다. 이러한 형태의 핵 상에서 기체 흡착 유기 라디칼과 고정화 제제의 결합은 이들 -OH 기의 존재를 이용함으로써 반응, 예컨대, 하기 반응(I)으로 수행된다:
≡Si-OH + HO-R-X → ≡Si-O-R-X + H2O (I)
상기 식에서,
기호 ≡은 실리카 입자의 다른 원자와의 실리콘의 세 개의 결합을 나타내며, X는 R이 기체 흡착 작용성을 지니는 라디칼인 경우에는 기체 흡착기를 나타내며, 고정화 라디칼인 경우에는 단순히 수소 원자를 나타낸다.
본 발명의 흡착 성분의 두 번째 형태의 핵은 화학분야에서 POSS® 약어로 공지된 다면체 올리고머 실세스퀴옥산 분자이고; 이들 분자의 기본 구조는 입방체의 정점에 위치하는 8개의 실리콘 원자로 이루어지며, 각각의 실리콘 원자는 산소 브릿지에 의해서 세개의 다른 실리콘 원자에 연결되어 있고, 각각의 실리콘의 4 번째 원자가가 다른 유기 라디칼에 의해서 포화되고; 이러한 일반적인 구조는, 예를 들어, 하나 또는 두 개의 산소 브릿지를 개방시키고 그렇게 형성된 불포화 위치에 추가의 유기 라디칼을 첨가함으로써 변형될 수 있다. 간단하며 치환된 POSS® 및 이의 제조 방법이 예를 들어, 특허출원 EP 1208105호, WO 01/46295호 및 EP 1268635호에 개시되어 있으며; 이러한 경우에, 기체 흡착 라디칼 및 계면활성제 라디칼이 실리콘 원자중 하나에 직접적으로 결합되고; 이들 분자는 미국 매사추세츠 해티에스버그 소재의 하이브리드 플라스틱스 LLP 회사에서 판매되고 있다.
본 발명의 흡착 성분의 세 번째 형태의 핵은 화학구조 [ROSiO3 /2]n을 지니는 스페로실리케이트이며, 여기서, 각각의 실리콘 원자는 산소 브릿지에 의해서 세개의 다른 실리콘 원자에 연결되고 추가의 산소 원자에 연결되며, 추가의 산소원자의 다른 결합은 유기 기로 포화되어 있다. 스페로실리케이트의 제조 및 작용성화 과정이, 예를 들어, 문헌[Agaskar P.A., Inorg. Chem., 1990, 29, 1603 and in Agaskar P.A., Symposium on the colloidal chemistry of silica, 1992, vol. 63, n.1-2, pp. 131-138]에 기재되어 있다.
본 발명의 흡착 성분의 핵에 첨가될 수 있는 그 밖의 작용성은, 예를 들어, 흡착되는 기체가 물인 경우에, 핵에 대해서 물의 운반을 향상시키는 기체 흡착 촉매 및 쇄이다.
촉매의 경우에, 그러한 작용성을 지니는 하나 이상의 기가 이를 앞서 기재한 방법과 동일한 방법으로 핵에 결합시킴으로써 첨가될 수 있다. 추가로, 촉매 작용 성을 지니는 라디칼이 바람직하게는 기체 흡착 기를 지니는 라디칼에 인접된 위치에서 핵에 결합될 것이며; 이러한 상태는 두 작용 사이의 근접을 보장하고, 그러한 근접성은 촉매가 흡착 작용기에 대한 기체성 분자의 첨가 반응을 향상시키는 기능을 효과적으로 수행하게 하는데 필수적이고; 이러한 방식으로, 촉매 효율성(즉, 흡착 촉매 반응의 속도 및 선택성)이 최대화되고, 이는 두 작용성이 매트릭스 내에 연결되지 않은 분자상에 존재하는 경우에는 발생되지 않는 결과이며, 따라서, 이들의 서로간의 근접성은 동일한 매트릭스내의 이들의 분포에 대한 통계 방식에 의존적이다. 흡착되는 기체가 물인 경우에, 가능한 촉매는 브뢴스테드 산 기, 예컨대, -SO3H 기 또는 상표명 나피온®(Nafion®: Du Pont company's trademark) 또는 루이스 산 기, 예컨대, -BR2 기(여기서, R=H, CnH2n +1이다)이다. 대안적으로, 실리카 핵의 경우에, 촉매는 동일한 핵에 함침될 수 있으며; 이러한 경우에, 예를 들어, 염, 예컨대, 일부 금속 할라이드(SnCl4, FeCl3, TiCl4)를 사용하는 것이 가능하다.
흡착 성분에 첨가될 수 있는 그 밖의 보조 작용성은 흡착 성분에 H2O 분자를 운반하는 작용성이다(흡착되는 기체가 물인 경우). 흡착 성분에 대한 제거되는 기체의 접근성은 사실 매트릭스 내의 이의 운반, 즉, 주어진 온도에서의 기체 확산 계수에 의해서 결정된다. 본 발명의 시스템의 투과성 매트릭스의 경우에 높은 그러한 계수는 양호한 기체 순흐름(net gas flow)이 흡착 성분에 도달하게 하며; 그러나, 그러한 흐름은 바람직하게는 핵에 대해서 그러한 흐름을 집중시키고 그를 향 해 배향시킴으로써 증가될 수 있다. 이는 특정의 기체에 대해서 높은 친화성을 나타내며, 핵에 화학적으로 연결되어 있고, 매트릭스내에 침지되어 있는 하나 이상의 쇄에 의해서 달성될 수 있다. 예를 들어, 물의 경우에, 투과성 폴리실록산 매트릭스를 사용하고 실리카 핵 또는 POSS®를 하나 이상의 폴리고플리콜 또는 올리고에테르로 작용성화시킴으로써 실시카 핵 또는 POSS®에 도달하는 순흐름을 증가시키는 것이 가능하다.
바람직한 구체예에서, 본 발명의 게터 시스템은 상기된 바와 같이 가시광선에 투명한 추가의 성질을 지니며; 이러한 방식으로, 본 발명의 시스템은 상기된 TOLED 타입 스크린에서의 적용에 적합한 것으로 입증되고 있다.
이러한 특정의 경우에, 분산 매체는 무정형이면서, 폴리머 매트릭스내의 분산된 핵이 나노구조이고 약 200 나노미터 또는 그 이하 정도의 크기를 지닌다 이러한 두 가지 추가의 요건의 첫 번째 이유는 폴리머가 단지 완전히 결정상이거나 완전히 무정형인 경우에 투명하다는 것이며: 완전히 결정상인 폴리머를 얻는 것은 근본적으로 불가능하기 때문에, 무엇보다도 분말이 매체중에 분산되어야 하는 본 발명의 경우에, 완전히 무정형인 폴리머를 사용하는 것이 필요하다. 두 번째 요건은 짧은 가시광선 파장(약 400nm)의 절반 보다 작은 크기의 입자는 서로간의 상호작용을 가능하게 하지 않으며, 그로 인해서 분산제 매체의 투명성을 변화시키지 않는다는 사실로부터 유도되며; 바람직하게는 입자는 약 100nm 보다 작은 크기를 지닌다.
첫 번째 요건에 부합되게 하기 위해서, 예를 들어, 무정형 구조를 보장하기에 적합한 제조 과정에 의해서 얻은 앞서 거론된 투과성 폴리아크릴레이트 및 폴리메타크릴레이트, 폴리에테르이미드(PEI), 폴리아미드(PA), 셀룰로오즈 아세테이트(CA), 셀룰로오즈 트리아세테이트(TCA), 폴리실록산 (또한 실리콘으로 공지됨), 폴리 비닐 알코올(PVAL), 폴리에틸렌 옥사이드(PEO), 폴리에틸렌 글리콜(PEG), 폴리프로필렌 글리콜(PPG), 폴리비닐아세테이트(PVAC), 폴리에틸렌-비닐 알코올 코폴리머, 및 PA-PEO 및 폴리우레탄-PEO 코폴리머를 사용하는 것이 가능하다.
나노기공 폴리머 매트릭스가 선택되고 이것이 투명해야 하는 경우에, 기공의 크기는 100nm 미만, 바람직하게는 80nm 미만이어야 한다.
두 번째 관점으로, 본 발명은 앞서 기재하고 있는 시스템을 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 시스템은 분산제 매체 중에 핵의 현탁액을 형성시킴으로써 제조될 수 있으며, 이 경우는 분산제 매체가 충분히 낮은 점도를 지니는 경우이다. 대안적으로, 폴리머를 용해시켜 분산제 매체를 형성시키는 것이 가능한 용매중에 핵의 현탁액을 제조하는 것이 가능하다. 적합한 용매는 선택된 폴리머에 좌우되며, 유기 화학 분야에서 공지되어 있고; 용매의 예는 폴리아크릴레이트 및 폴리메타크릴레이트의 경우 클로로포름, 아세톤, 테트라히드로푸란 및 톨루엔; 폴리아미드의 경우 포름산 및 N-메틸피롤리돈; 폴리디메틸실록산의 경우 헵탄 또는 톨루엔 디에틸 에테르이다. 대안으로, 핵과 폴리머 전구체(예, 폴리머를 형성하게 될 올리고머 또는 모노머) 사이의 현탁액을 형성시키고, 예를 들어, UV 방사선의 조사에 의해서 동일반응계내(in-situ) 폴리머 형성을 유발시키는 것이 가능하다. 대안적으로는 고정화 쇄를 통해서 핵들 사이에 중합되었거나 중합되어야 할 핵의 현탁액을 형성시키는 것이 가능하며(이러한 경우에, 최종 폴리머 매트릭스는 이들이 상호 반응한 후의 그러한 고정화 쇄와 같은 공간을 차지한다); 또한 이러한 마지막 경우에는, 분산제 매트릭스의 형성이, 예를 들어, UV 방사선의 조사에 의해서 동일반응계내에서 발생할 수 있다. 초기 용액(이러한 용액이 분산제 매체 또는 이의 전구체를 제공하는 폴리머를 함유하는 경우), 또는 이미 핵을 내부에 지니는 저비점 폴리머를 적합한 모울드내에 부을 수 있거나, 예를 들어, 세리그라피(serigraphy)에 의해서 또는 특히 미소전자공학 산업에서의 스핀-코팅(spin-coating), 딥-코팅(dip-coating), 스프레이-코팅 또는 잉크젯 인쇄로 알려진 통상의 기술에 의해서 최종 하우징(예, OLED 스크린)의 내부 표면상에 부착시킬 수 있다.
혼합물은 용매를 추출함으로써, 현장 중합(on site polymerization)에 의해서, 또는 저융점이 폴리머를 용융 상태로 유지시키는 사실에 의해서 보장되는 경우에서의 냉각에 의해서 "고형화(solidify)"(이러한 경우에, 예컨대 주어진 모양을 유지할 만큼 극히 높은 점도 물질로서의 "고체(solid)"로 일컬어짐)될 수 있다.
나노기공 매트릭스를 얻는 것이 요구되는 경우에, 일반적으로 이용되는 기술, 예를 들어, 소위 포로겐 제제(porogen agent)(예, 본 기술분야에서 두문자어로 BTRC-PEG로 공지되어 있으며 열에 의해서 분해되어 매트릭스에 다공성을 형성시키는 고도로 분지된 분자, 예컨대, 벤젠트리카르복실릭 및 폴리에틸렌 글리콜의 에스테르)를 사용하는 기술중 하나 또는 소위 폴리머 상 분리를 이용하는 것이 가능하 며; 후자의 기술에서, 핵과 분산제 매트릭스를 발생시키는데 사용되는 폴리머가 제 2 폴리머와 혼합되고, 그 혼합물은 기판에 부착되며(예, 스핑 코팅에 의해서), 얻은 층이 후속적으로 제 2 폴리머에 선택적인 용매로 처리되고, 이러한 용매를 제 2 폴리머를 용해시켜서 다공 구조를 형성시킨다. 초기 폴리머의 분자량이 적합하게 선택되면 나노기공 구조를 얻는 것이 가능하다.

Claims (35)

  1. 다공성이거나 흡착되는 기체에 투과성인 폴리머 매트릭스중에 분산된 기체 흡착 성분에 의해서 형성된 기체 흡착 시스템으로서, 기체 흡착 성분이 실리카 입자, 다면체 올리고머 실세스퀴옥산 및 스페로실리케이트로부터 선택될 수 있는 중심 핵 및 매트릭스 폴리머중에 상기 핵을 고정하는 작용성을 지니는 탄소원자의 쇄로 이루어진 하나 이상의 고정화 유기 라디칼로 이루어지며, 흡착되는 기체를 화학적으로 고정할 수 있는 작용기를 지니는 하나 이상의 유기 또는 금속유기 라디칼이 상기 중심 핵에 결합됨을 특징으로 하는 기체 흡착 시스템.
  2. 제 1항에 있어서, 작용기가 에폭시, 활성화된 이중 및 삼중결합, 유기 무수물, 선형 및 고리형 알콕사이드, 이소시아네이트, 이소티오시아네이트 및 용이하게 가수분해 가능한 금속유기 기로부터 선택되는, 물 흡착를 위한 기체 흡착 시스템.
  3. 제 1항에 있어서, 작용기가 페놀, 아민, 티오에테르, 알데하이드 및 3차 탄소원자로부터 선택되는, 산소 흡착를 위한 기체 흡착 시스템.
  4. 제 1항에 있어서, 작용기가 리튬 함유 유기금속 화합물의 존재하의 불포화된 결합, 아미노 및 케톤으로부터 선택되는, 일산화탄소 흡착를 위한 기체 흡착 시스템.
  5. 제 1항에 있어서, 폴리머 매트릭스가 탄화수소 및 에테르로부터 선택된 재료로 이루어지며, 고정화 라디칼이 탄화수소를 기재로 하는 기체 흡착 시스템.
  6. 제 1항에 있어서, 폴리머 매트릭스가 알코올, 케톤 및 아미드로부터 선택된 재료로 이루어지고, 고정화 라디칼이 알코올 기, 카르보닐 기, 산, 염 및 아민으로부터 선택된 치환체를 지니는 기체 흡착 시스템.
  7. 제 1항에 있어서, 폴리머 매트릭스가 플루오로폴리머로 이루어지며, 고정화 라디칼이 플루오르화된 기를 지니는 기체 흡착 시스템.
  8. 제 1항에 있어서, 고정화 라디칼이 공유결합에 의해서 폴리머 매트릭스에 결합되는 기체 흡착 시스템.
  9. 제 8항에 있어서, 공유결합이 고정화 라디칼과 유기 모노머/올리고머 사이의 공중합 반응에 의해서 형성되는 기체 흡착 시스템.
  10. 제 9항에 있어서, 공유결합이 올레핀과 알릴릭, 비닐 또는 스티렌 기를 지니는 고정화 라디칼 사이의 공중합 반응에 의해서 형성되는 기체 흡착 시스템.
  11. 제 10항에 있어서, 공유결합이 폴리스티렌과 POSS®로 공지된 분자 사이의 공중합에 의해서 형성되는 기체 흡착 시스템.
  12. 제 10항에 있어서, 공유결합이 폴리스티렌과 스페로실리케이트 사이의 공중합에 의해서 형성되는 기체 흡착 시스템.
  13. 제 8항에 있어서, 공유결합이 폴리머 매트릭스의 가교 반응에 의해서 형성되는 기체 흡착 시스템.
  14. 제 13항에 있어서, 가교 반응이 하나 이상의 메타크릴 기를 지닌 라디칼을 지니는 핵, 아크릴 수지 및 자외선에 민감한 광개시제를 포함하는 혼합물을 자외선으로 조사(irradiating)함으로써 수행되는 기체 흡착 시스템.
  15. 제 8항에 있어서, 공유결합이 매트릭스상에서의 그라프팅(grafting) 반응에 의해서 형성되는 기체 흡착 시스템.
  16. 제 15항에 있어서, 그라프팅 반응이 매트릭스 폴리머와 고정화 라디칼의 분자가 용해되는 용액중에서 라디칼-기재 개시제에 의해서 수행되는 기체 흡착 시스템.
  17. 제 15항에 있어서, 그라프팅 반응이 고정화 라디칼의 분자, 폴리머 분말 및 그라프팅 반응의 라디칼-기재 개시제를 함유하는 혼합물중에서 건조한 상태로 수행되는 기체 흡착 시스템.
  18. 제 8항에 있어서, 폴리머 매트릭스가 상이한 핵상에 위치한 고정화 쇄들 사이의 중합에 의해서 형성되는 기체 흡착 시스템.
  19. 제 1항에 있어서, 핵의 크기가 10Å 내지 1㎛ 범위인 기체 흡착 시스템.
  20. 제 1항에 있어서, 기체 흡착 촉매화 기를 지니는 치환체가 핵에 결합되는 기체 흡착 시스템.
  21. 제 20항에 있어서, 흡착되는 기체가 물이고, 촉매 기가 브뢴스테드(Broensted) 및 루이스(Lewis) 산으로부터 선택되는 기체 흡착 시스템.
  22. 제 21항에 있어서, 브뢴스테드 산이 -SO3H 기 및 나피온(Nafion)으로부터 선택되는 기체 흡착 시스템.
  23. 제 21항에 있어서, 루이스 산이 -BR2기이고, 여기서 R이 H, CnH2n +1인 기체 흡착 시스템.
  24. 제 21항에 있어서, 핵이 실리카 입자인 경우, 촉매가 핵에 함침되는 금속 할라이드인 기체 흡착 시스템.
  25. 제 2항 또는 제 21항에 있어서, 물 분자의 핵으로의 운반을 증진시키는 쇄가 핵에 추가로 결합되는 기체 흡착 시스템.
  26. 제 25항에 있어서, 물 분자의 핵으로의 운반을 증진시키는 쇄가 올리고글리콜 및 올리고에테르로부터 선택되는 기체 흡착 시스템.
  27. 제 1항에 있어서, 기체 흡착성이고 가시광선에 투명하며, 폴리머 매트릭스가 완전한 무정형 폴리머로 형성되고, 핵의 크기가 약 200 나노미터 이하인 기체 흡착 시스템.
  28. 제 27항에 있어서, 무정형 폴리머가 폴리아크릴레이트, 폴리메타크릴레이트, 폴리에테르이미드, 폴리아미드, 셀룰로오즈 아세테이트 및 트리아세테이트, 폴리실록산, 폴리비닐 알코올, 폴리에틸렌 옥사이드, 폴리에틸렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜, 폴리비닐아세테이트, 폴리에틸렌-비닐 알코올 코폴리머, 및 폴리아미드-폴리에틸렌 옥사이드 코폴리머 및 폴리우레탄-폴리에틸렌 옥사이드 코폴리머로부터 선택되는 기체 흡착 시스템.
  29. 제 28항에 있어서, 매트릭스가 나노기공성이며, 기공의 크기가 100 나노미터 미만인 기체 흡착 시스템.
  30. 제 1항의 기체 흡착 시스템을 제조하는 방법으로서, 용매중의 기체 흡착 성분과 매트릭스 폴리머 또는 이의 전구체의 현탁액을 제조하고, 이어서, 용매를 추출함을 포함하여 기체 흡착 시스템을 제조하는 방법.
  31. 제 30항에 있어서, 용매 추출이 폴리머 전구체의 현탁 중합 후에 수행되는, 기체 흡착 시스템을 제조하는 방법.
  32. 제 1항의 기체 흡착 시스템을 제조하는 방법으로서, 가열에 의해서 액상으로 유지는 폴리머 또는 이의 전구체중의 기체 흡착 성분의 현탁액을 제조하고, 이어서, 현탁액을 냉각에 의해서 고형화시킴을 포함하여 기체 흡착 시스템을 제조하는 방법.
  33. 제 32항에 있어서, 냉각에 의한 고형화가 폴리머 전구체의 중합 후에 수행되 는, 기체 흡착 시스템을 제조하는 방법.
  34. 제 1항의 기체 흡착 시스템을 제조하는 방법으로서, 폴리머 전구체중의 기체 흡착 성분의 현탁액을 제조하고, 폴리머 전구체를 UV 방사선에 의한 조사에 의해서 중합시킴을 포함하여 기체 흡착 시스템을 제조하는 방법.
  35. 제 1항의 기체 흡착 시스템을 제조하는 방법으로서, 기체 흡착 성분의 고정화 라디칼을 그들 자체 사이에 중합되게 함을 포함하여 기체 흡착 시스템을 제조하는 방법.
KR1020087018441A 2005-12-27 2006-12-22 기체 흡착성 복합체 시스템 및 이들의 제조방법 KR101209829B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
IT002496A ITMI20052496A1 (it) 2005-12-27 2005-12-27 Sistemi compositi assorbitori di gas e metodi per la loro produzione
ITMI2005A002496 2005-12-27

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20080090473A true KR20080090473A (ko) 2008-10-08
KR101209829B1 KR101209829B1 (ko) 2012-12-11

Family

ID=37779257

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020087018441A KR101209829B1 (ko) 2005-12-27 2006-12-22 기체 흡착성 복합체 시스템 및 이들의 제조방법

Country Status (9)

Country Link
US (1) US8153553B2 (ko)
EP (1) EP1966297B1 (ko)
JP (1) JP2009521326A (ko)
KR (1) KR101209829B1 (ko)
CN (1) CN101432352B (ko)
CA (1) CA2633394A1 (ko)
IT (1) ITMI20052496A1 (ko)
RU (1) RU2417122C2 (ko)
WO (1) WO2007074494A1 (ko)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9004971B2 (en) 2010-12-30 2015-04-14 Samsung Display Co., Ltd. Organic luminescence display device having getter pattern and method of manufacturing the same
KR20190047993A (ko) * 2017-10-30 2019-05-09 엘지디스플레이 주식회사 터치 스크린 일체형 표시 장치
KR20190059103A (ko) * 2017-11-22 2019-05-30 한국에너지기술연구원 산화방지 기능을 가진 일산화탄소 흡착제 및 이의 제조방법
KR20190086478A (ko) * 2016-11-14 2019-07-22 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니 금속-함유 중합체 재료를 포함하는 복합 과립

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ITMI20070690A1 (it) 2007-04-03 2008-10-04 Getters Spa Metodo per l'assorbimento di contaminanti gassosi mediante assorbitori nanostrutturati in forma di fibra
US20090098359A1 (en) 2007-10-11 2009-04-16 Waller Jr Clinton P Hydrophilic porous substrates
ITMI20072087A1 (it) 2007-10-30 2009-04-30 Getters Spa Metodo per la produzione di un assorbitore composito per la rimozione di h2o costituito da sali igroscopici disciolti in una matrice polimerica
ITMI20082206A1 (it) * 2008-12-12 2010-06-13 Getters Spa Materiale composito per la protezione di dispositivi sensibili ad h2o costituito da nanozeoliti disperse in una matrice polimerica
US9440182B2 (en) 2008-12-24 2016-09-13 General Electric Company Liquid carbon dioxide absorbents, methods of using the same, and related systems
US20100154431A1 (en) * 2008-12-24 2010-06-24 General Electric Company Liquid carbon dioxide absorbent and methods of using the same
KR20170070278A (ko) * 2009-02-12 2017-06-21 코베스트로 도이칠란드 아게 반사-방지/연무-방지 코팅
WO2011069077A1 (en) * 2009-12-04 2011-06-09 Ohio University Composite membrane for polymer electrolyte membrane fuel cell
EP2675560B1 (en) * 2011-02-14 2019-08-28 Dionex Corporation Liquid chromatographic column including a ligand comprising a polyhedral oligomeric silsequioxane moiety, and liquid chromatografic method using the column
CN102199262B (zh) * 2011-04-12 2013-06-05 厦门大学 一种多面体齐聚倍半硅氧烷基双亲嵌段共聚物及制备方法
ITMI20112387A1 (it) * 2011-12-27 2013-06-28 Getters Spa Combinazione di materiali getter e dispositivo getter contenente detta combinazione di materiali getter
KR101874523B1 (ko) * 2017-08-23 2018-07-04 (주)부흥산업사 메탄올 카보닐레이션에 의한 초산제조용 불균일 촉매
CN112892170A (zh) * 2021-01-19 2021-06-04 嘉兴职业技术学院 生态食品吸水剂
CN113024832B (zh) * 2021-03-15 2022-05-27 海信视像科技股份有限公司 气体吸附复合材料、阻燃hips复合材料以及显示设备

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4081397A (en) 1969-12-22 1978-03-28 P. R. Mallory & Co. Inc. Desiccant for electrical and electronic devices
US3704806A (en) 1971-01-06 1972-12-05 Le T Im Lensoveta Dehumidifying composition and a method for preparing the same
JPS61291021A (ja) 1985-06-18 1986-12-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd 乾燥剤の固形化方法
US5304419A (en) 1990-07-06 1994-04-19 Alpha Fry Ltd Moisture and particle getter for enclosures
US5804917A (en) 1995-01-31 1998-09-08 Futaba Denshi Kogyo K.K. Organic electroluminescent display device and method for manufacturing same
JPH09148066A (ja) 1995-11-24 1997-06-06 Pioneer Electron Corp 有機ｅｌ素子
JPH10279730A (ja) * 1997-04-02 1998-10-20 Toyota Motor Corp 塗装樹脂品
FR2774093B1 (fr) * 1998-01-26 2000-03-17 Air Liquide Nouveau gel de silice incorporant des motifs polyazacycloalcanes, procede de preparation et utilisation
JP4415417B2 (ja) 1999-03-31 2010-02-17 東亞合成株式会社 消臭性接着剤組成物
FR2796645B1 (fr) * 1999-07-23 2001-09-14 Air Liquide Nouveau gel de silice incorporant des motifs polyazacycloalcanes comportant plus de six atomes d'azote, procede de preparation et utilisation
US6226890B1 (en) 2000-04-07 2001-05-08 Eastman Kodak Company Desiccation of moisture-sensitive electronic devices
US6819042B2 (en) 2000-05-17 2004-11-16 Dynic Corporation Organic EL device and method for its manufacture
EP1323468A1 (en) * 2001-12-31 2003-07-02 Grace GmbH & Co. KG Adsorbing material comprised of porous functional solid incorporated in a polymer matrix
JP4831519B2 (ja) * 2003-05-19 2011-12-07 東洋製罐株式会社 アミン担持多孔質シリカ、該多孔質シリカを含有する樹脂組成物及び該樹脂組成物を含有する多層構造体
JP2005029768A (ja) 2003-06-18 2005-02-03 Bridgestone Corp ゴム組成物

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9004971B2 (en) 2010-12-30 2015-04-14 Samsung Display Co., Ltd. Organic luminescence display device having getter pattern and method of manufacturing the same
KR20190086478A (ko) * 2016-11-14 2019-07-22 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니 금속-함유 중합체 재료를 포함하는 복합 과립
KR20190047993A (ko) * 2017-10-30 2019-05-09 엘지디스플레이 주식회사 터치 스크린 일체형 표시 장치
US11199918B2 (en) 2017-10-30 2021-12-14 Lg Display Co., Ltd. Display apparatus with integrated touch screen
KR20190059103A (ko) * 2017-11-22 2019-05-30 한국에너지기술연구원 산화방지 기능을 가진 일산화탄소 흡착제 및 이의 제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
WO2007074494A1 (en) 2007-07-05
CN101432352A (zh) 2009-05-13
EP1966297B1 (en) 2016-11-23
US8153553B2 (en) 2012-04-10
RU2008130896A (ru) 2010-02-10
ITMI20052496A1 (it) 2007-06-28
US20080312072A1 (en) 2008-12-18
JP2009521326A (ja) 2009-06-04
CN101432352B (zh) 2012-06-06
KR101209829B1 (ko) 2012-12-11
CA2633394A1 (en) 2007-07-05
RU2417122C2 (ru) 2011-04-27
EP1966297A1 (en) 2008-09-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101209829B1 (ko) 기체 흡착성 복합체 시스템 및 이들의 제조방법
He et al. General way to construct micro-and mesoporous metal–organic framework-based porous liquids
Merkel et al. Sorption, transport, and structural evidence for enhanced free volume in poly (4-methyl-2-pentyne)/fumed silica nanocomposite membranes
CA2658027C (en) Coated molecular sieve
Shu et al. A general strategy for adhesion enhancement in polymeric composites by formation of nanostructured particle surfaces
CN101222977B (zh) 含在低渗透率设备中分配的多孔材料内插入的活性相的吸气剂体系
Ahmad et al. Surface modification in inorganic filler of mixed matrix membrane for enhancing the gas separation performance
Haas Hybrid inorganic–organic polymers based on organically modified Si‐Alkoxides
Zhu et al. Facile covalent crosslinking of zeolitic imidazolate framework/polydimethylsiloxane mixed matrix membrane for enhanced ethanol/water separation performance
Cong et al. Brominated poly (2, 6-diphenyl-1, 4-phenylene oxide) and its silica nanocomposite membranes for gas separation
Kurahashi et al. Role of block copolymer surfactant on the pore formation in methylsilsesquioxane aerogel systems
JP2015504452A (ja) リンローディング粒子ならびにそれらを調製および使用する方法
Wang et al. Toward MOF@ polymer core–shell particles: design principles and potential applications
Bae et al. Transparent metal–organic framework/polymer mixed matrix membranes as water vapor barriers
Sanli et al. Silylation from supercritical carbon dioxide: A powerful technique for modification of surfaces
Li et al. Superhydrophobic sodium alginate/cellulose aerogel for dye adsorption and oil–water separation
AU2021326002C1 (en) Microporous aerogel
JP2008530312A (ja) ポリヘドラルオリゴメリックシルセスキオキサンによる多孔性制御
KR20160119267A (ko) 중합체 매트릭스에 분산된 표면 관능화된 나노제올라이트를 기재로 하는 ｈ2ｏ에 민감성 장치 보호용 복합 재료
Ramachandran et al. Porous Hybrid Materials with POSS
Sangermano et al. UV‐Cured PDMS for Oil Removal from Wastewater
Boday Silica aerogel-polymer nanocomposites and new nanoparticle syntheses
BR102018076101A2 (pt) Esponja de polidimetilsiloxano funcionalizada, processo e aplicação

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
A302 Request for accelerated examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20151119

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161124

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171124

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181122

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191126

Year of fee payment: 8