KR20080086041A - 기판 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판 처리 장치를 개시한 것으로서, 개구부가 형성된 챔버의 벽체와 개구부를 개폐하는 도어 부재의 사이에 실링 부재가 제공되는 것을 구성상의 특징으로 가진다.
이러한 특징에 의하면, 챔버의 기밀을 유지하여, 외부의 파티클이 챔버 내로 유입되는 것을 방지하고, 챔버 내의 압력 손실을 최소화할 수 있는 기판 처리 장치를 제공할 수 있다.
챔버, 개구부, 도어, 실링 부재

Description

기판 처리 장치{APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE}
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치의 구성을 개략적으로 보여주는 평면도,
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치의 구성을 개략적으로 보여주는 측면도,
도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치에서 복층 구조의 챔버들을 개략적으로 보여주는 도면,
도 4는 도 3의 세정 챔버를 확대하여 보여주는 도면,
도 5는 도 4의 A 영역을 확대하여 보여주는 도면이다.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 >
10 : 기판 처리 장치 500 : 세정 챔버
503 : 개구부 504 : 측벽
505 : 홈 540 : 도어
560 : 실링 부재
본 발명은 반도체 제조 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 챔버의 개구부를 개폐하는 도어와 챔버의 벽체 사이에 실링 부재를 설치하여 챔버의 기밀을 유지하기 위한 기판 처리 장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 디바이스는 기판상에 여러 가지 물질을 박막 형태로 증착하고 이를 패터닝하여 제조된다. 이를 위하여 증착 공정, 사진 공정, 식각 공정 및 세정 공정 등 여러 단계의 서로 다른 단위 공정들이 요구된다.
각각의 단위 공정들은 기판을 처리하기 위한 설비들이 제공된 챔버 내에서 진행되며, 공정이 진행되지 않는 동안에는 챔버 내에 제공된 설비들의 유지 보수가 이루어진다. 챔버의 벽체에는 챔버의 유지 보수를 위한 개구부가 형성되고, 개구부는 도어에 의해 개폐된다.
그런데, 종래의 기판 처리 장치의 경우, 도어가 챔버의 벽체와 직접 접촉하여 밀착 지지된 상태에서 개구부를 밀폐시키기 때문에, 챔버의 벽체와 도어의 접촉 면들 사이에 존재하는 틈새를 통해 외부의 파티클들이 챔버 내로 유입되어 처리 공정의 불량을 야기할 수 있다.
따라서, 본 발명은 상술한 바와 같은 종래의 통상적인 기판 처리 장치가 가진 문제점을 감안하여 이를 해소하기 위해 창출된 것으로서, 본 발명의 목적은 기판 처리 공정이 진행되는 챔버의 기밀을 유지할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하기 위한 것이다.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 의한 기판 처리 장치는, 기판을 처리하는 장치에 있어서, 기판 처리 공정이 진행되는 공간을 제공하며, 상기 공간이 외부와 통하도록 개구부가 형성된 공정 챔버와; 상기 공정 챔버의 개구부를 개폐하는 도어 부재와; 상기 개구부가 형성된 상기 공정 챔버의 벽체와 상기 도어 부재의 사이에 제공되는 실링 부재;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상술한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 실링 부재는 내부에 기공이 형성되고 탄성을 가지는 재질로 이루어지는 것이 바람직하다.
본 발명의 일 특징에 따르면, 상기 실링 부재는 실리콘 재질로 이루어지는 것이 바람직하다.
본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 개구부 둘레의 상기 공정 챔버 벽체에는 상기 개구부의 가장자리를 따라 홈이 형성되고, 상기 실링 부재는 상기 홈에 삽입 설치되는 것이 바람직하다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 기판 처리 장치를 상세히 설명하기로 한다. 우선 각 도면의 구성 요소들에 참조 부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.
( 실시 예 )
본 실시 예에서는 기판 처리 장치로 세정 장치를 예로 들어 설명한다. 그러나 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되지 않으며, 기판 처리 공정이 진행될 수 있도록 일정 공간이 형성된 챔버 내에서 도포 , 현상, 식각 등과 같은 기판 처리 공정이 진행되는 다른 종류의 장치들에도 적용될 수 있다.
도 1 및 도 2는 각각 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치의 구성을 개략적으로 보여주는 평면도 및 측면도이고, 도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치에서 복층 구조의 챔버들을 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 기판 처리 장치(10)는 로딩/언로딩 유닛(100), 캐리어 이송 유닛(200), 캐리어 테이블(300), 기판 이송 유닛(400) 그리고 세정 챔버들(500)을 포함한다.
기판들이 수용된 캐리어(C)가 로딩/언로딩 유닛(100)에 놓인다. 로딩/언로딩 유닛(100)의 전방에는 캐리어 이송 유닛(200)이 배치되고, 캐리어 이송 유닛(200)의 타측 중앙부에는 기판 이송 유닛(400)이 배치된다. 기판 이송 유닛(400)은 캐리어 이송 유닛(200)에 수직한 방향으로 형성된 이송 로봇(430) 이동용 통로(410)를 가진다. 통로(410)의 양측에는 캐리어 테이블(300)과 세정 챔버들(500)이 순차적으로 각각 배치된다. 기판 이송 유닛(400)과, 기판 이송 유닛(400)의 양측에 배치된 캐리어 테이블(300) 및 세정 챔버들(500)은, 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 상층과 하층의 복층 구조로 배치될 수 있다. 이때, 캐리어 이송 유닛(200) 또한 복층 구조의 캐리어 테이블(300)에 대응하도록 복층 구조를 가질 수 있다. 그리고, 캐리어 이송 유닛(200), 캐리어 테이블(300), 기판 이송 유닛(400) 및 세정 챔버 들(500)의 상부에는 청정 공기가 상부에서 하부로 흐르도록 청정 공기를 공급하는 팬 필터 유닛(Fan Filter Unit)(250,450,550)이 각각 제공될 수 있다.
로딩/언로딩 유닛(100)은 캐리어(C)가 놓이는 인/아웃 포트(110)를 가지며, 로딩/언로딩 유닛(100)과 인접한 곳에는 공정 진행을 위해 운반된 캐리어(C) 또는 다음 공정으로 운반될 캐리어(C)가 보관되는 스톡커(Stocker, 120)가 제공될 수 있다. 기판을 수용하는 캐리어(C)는 오버헤드 트랜스퍼(Overhead Transfer), 오버헤드 컨베이어(Overhead Conveyor), 또는 자동 안내 차량(Automatic Guided Vehicle)과 같은 이송 수단(도시되지 않음)에 의해 로딩/언로딩 유닛(100)의 인/아웃 포트(110) 상에 놓인다. 캐리어(C)로는 전면 개방 일체식 포드(Front Open Unified Pod)와 같은 밀폐용 용기가 사용될 수 있다.
캐리어 이송 유닛(200)은 로딩/언로딩 유닛(100)의 전방에 배치되고, 로딩/언로딩 유닛(100)의 인/아웃 포트(110)에 놓인 캐리어(C)를 캐리어 테이블(300)로 이송한다. 캐리어 테이블(300)은 기판 이송 유닛(400)의 통로(410)을 중심으로 서로 마주보도록 통로(410)의 양측에 배치되며, 캐리어 이송 유닛(200)으로부터 전달된 캐리어(C)가 놓인다. 그리고, 캐리어 테이블(300)은 캐리어(C)의 도어를 개방하기 위한 오프터(Opner, 310)를 가진다.
기판 이송 유닛(400)은 캐리어 테이블(300)에 놓인 캐리어(C)로부터 세정 처리될 기판을 세정 챔버들(500)로 이송하거나, 세정 챔버들(500)에서 세정 처리된 기판을 캐리어 테이블(300)에 놓인 캐리어(C)로 이송한다. 기판 이송 유닛(400)은 캐리어 이송 유닛(200)의 중앙부에 수직한 방향으로 형성된 통로(410)를 가진다. 통로(410)의 내측에는 통로(410)의 길이 방향을 따라 이송 가이드(420)가 설치되고, 세정 챔버들(500)에 기판을 반출입하는 이송 로봇(430)이 이송 가이드(420)에 의해 안내되어 통로(410)의 길이 방향을 따라 이동한다. 또한, 이송 로봇(430)은 복층 구조로 배치된 세정 챔버들(500)에 대응하도록 수직 가이드(미도시)에 의해 안내되어 상하 방향으로 이동할 수 있다.
세정 챔버들(500)은 기판 이송 유닛(400)의 통로(410) 양측에 복수 개가 나란히 배치될 수 있다. 예를 들어, 세정 챔버들(500)은, 도 1에 도시된 바와 같이, 기판 이송 유닛(400)의 통로(410) 양측에 2 개씩 4 개가 한 층을 이루도록 배치될 수 있다. 그리고, 도 3에 도시된 바와 같이, 동일한 구조로 배치된 세정 챔버들(500)이 다른 하나의 층을 이루며 복층 구조로 배치될 수 있다.
도 4는 도 3의 세정 챔버들 중 어느 하나의 세정 챔버를 확대하여 보여주는 도면이고, 도 5는 도 4의 A 영역을 확대하여 보여주는 도면이다.
도 4 내지 도 5를 참조하면, 세정 챔버(500)는 기판이 놓이며 회전 가능한 기판 지지 부재(510)와, 기판 지지 부재(510)에 놓인 기판으로 세정액을 공급하는 약액 공급 부재(520) 및 기판 지지 부재(510)의 둘레에 배치되는 약액 회수 부재(530)를 포함한다. 약액 공급 부재(520)로부터 회전하는 기판상으로 세정액이 공급되고, 세정액에 의해 기판이 세정 처리되며, 기판의 세정 처리에 사용된 세정액은 약액 회수 부재(530)를 통해 회수된다. 그리고, 세정 챔버(500)에서 공정이 진행되는 동안 세정 챔버(500)의 상부에 설치된 팬 필터 유닛(550)에 의해 청정 공기가 하강 기류를 형성하며 상부에서 하부로 흐르고, 청정 공기는 배기 부재(미도시) 를 통해 배기된다. 이때, 청정 공기의 공급에 의해 세정 챔버(500)의 내부는 대기압 상태인 챔버의 외부보다 수 파스칼(Pa) 정도 높은 압력을 유지한다.
세정 챔버(500)의 일 측 측벽(502)에는 기판이 반출입되는 제 1 개구부(501)가 형성되고, 제 1 개구부(501)와 마주보는 타 측의 측벽(504)에는 챔버(500)의 유지 보수를 위한 제 2 개구부(503)가 형성된다. 제 2 개구부(503)는 공정 진행 시에는 닫혀 있어야 하고, 유지 보수 작업의 진행 시에는 열려 있어야 한다. 제 2 개구부(503)는 도어 부재(540)에 의해 닫히고 열리며, 제 2 개구부(503)가 닫힌 상태에서 세정 챔버(500)는 기밀을 유지하여야 한다.
세정 챔버(500)의 기밀이 유지되지 못하면, 외부의 파티클들이 세정 챔버(500) 내로 유입되어 공정 불량을 야기하거나, 또는 챔버(500) 내의 공기가 외부로 누출되어 챔버(500) 내에서 압력 손실이 발생할 수 있다. 여기서, 압력 손실이라 함은 팬 필터 유닛(550)으로부터 공급되는 청정 공기에 의해 세정 챔버(500) 내에 형성된 압력이 공기의 누출로 인하여 유지되지 못하는 경우를 말한다.
본 발명에서는 앞서 설명한 바와 같은 문제점을 해결하기 위해 제 2 개구부(503)가 형성된 챔버(500)의 측벽(504)과 도어 부재(540)의 사이에 실링 부재(560)를 제공한다. 실링 부재(560)는 제 2 개구부(503)가 형성된 챔버(500)의 측벽(504)에 형성되어 있는 홈(505)에 삽입 설치될 수 있다. 홈(505)은 제 2 개구부(503)의 가장자리를 따라 제 2 개구부(503) 둘레의 챔버(500) 측벽(504)에 형성된다. 이와 달리, 도어 부재(540)의 가장자리부에 홈(미도시)이 형성되고, 도어 부재(540)의 홈(미도시)에 실링 부재(560)가 삽입 설치될 수도 있다. 그리고, 실링 부재(560)는 내부에 기공이 형성되고 탄성을 가지는 재질로 이루어질 수 있으며, 예를 들어 실리콘 재질의 스폰지가 실링 부재(560)로 사용될 수 있다.
이와 같이, 개구부가 형성된 세정 챔버(500)의 측벽(504)과 도어 부재(540)의 사이에 실링 부재(560)가 제공됨으로써, 외부의 파티클이 챔버(500) 내로 유입되는 것을 방지할 수 있을 뿐만 아니라, 공기의 누출로 인한 챔버(500) 내부의 압력 손실을 최소화할 수 있다.
이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시 예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시 예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 의하면, 기판 처리 공정이 진행되는 챔버의 기밀을 유지할 수 있다.
그리고, 본 발명에 의하면, 외부의 파티클이 챔버 내로 유입되는 것을 방지하여 외부 파티클에 의한 공정 불량을 최소화할 수 있다.
또한, 본 발명에 의하면, 챔버 내의 압력 손실을 최소화할 수 있다.

Claims (4)

  1. 기판을 처리하는 장치에 있어서,
    기판 처리 공정이 진행되는 공간을 제공하며, 상기 공간이 외부와 통하도록 개구부가 형성된 공정 챔버와;
    상기 공정 챔버의 개구부를 개폐하는 도어 부재와;
    상기 개구부가 형성된 상기 공정 챔버의 벽체와 상기 도어 부재의 사이에 제공되는 실링 부재;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 실링 부재는 내부에 기공이 형성되고 탄성을 가지는 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 실링 부재는 실리콘 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 개구부 둘레의 상기 공정 챔버 벽체에는 상기 개구부의 가장자리를 따 라 홈이 형성되고,
    상기 실링 부재는 상기 홈에 삽입 설치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130019542A (ko) * 2011-08-17 2013-02-27 세메스 주식회사 실링 어셈블리 및 기판처리장치

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