KR20080072265A - 기판 처리 장치, 기판 이송 로봇, 기판 이송 로봇의 구동방법 - Google Patents

기판 처리 장치, 기판 이송 로봇, 기판 이송 로봇의 구동방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20080072265A
KR20080072265A KR1020070010768A KR20070010768A KR20080072265A KR 20080072265 A KR20080072265 A KR 20080072265A KR 1020070010768 A KR1020070010768 A KR 1020070010768A KR 20070010768 A KR20070010768 A KR 20070010768A KR 20080072265 A KR20080072265 A KR 20080072265A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
sensor
transfer robot
substrate transfer
peripheral unit
Prior art date
Application number
KR1020070010768A
Other languages
English (en)
Inventor
문인호
Original Assignee
세메스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 세메스 주식회사 filed Critical 세메스 주식회사
Priority to KR1020070010768A priority Critical patent/KR20080072265A/ko
Publication of KR20080072265A publication Critical patent/KR20080072265A/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67739Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H01L21/67742Mechanical parts of transfer devices

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Robotics (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Manipulator (AREA)

Abstract

기판 처리 장치가 제공된다. 기판 처리 장치는 연속적으로 배치된 다수의 배스(bath)와, 다수의 배스 중 하나의 배스에서 다른 배스로 기판을 이송시키는 기판 이송 로봇으로, 주변 유닛(unit)과의 거리 측정이 가능한 센서가 설치되어 주변 유닛과의 충돌을 방지할 수 있는 기판 이송 로봇을 포함한다.
기판 처리 장치, 센서, 기판 이송 로봇

Description

기판 처리 장치, 기판 이송 로봇, 기판 이송 로봇의 구동 방법{Apparatus for processing substrate, robot for carrying substrate, operating method thereof}
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 설명하기 위한 도면이다.
도 2는 도 1의 기판 이송 로봇을 설명하기 위한 사시도이다.
도 3은 레이저 센서를 설명하기 위한 도면이다.
도 4를 참조하여, 기판 이송 로봇의 동작을 설명한다.
(도면의 주요부분에 대한 부호의 설명)
1 : 기판 처리 장치 11~15 : 배스
100 : 기판 이송 로봇 110 : 바디부
120 : 헤드부 130 : 암부
140 : 척부 150 : 센서
본 발명은 기판 처리 장치, 기판 이송 로봇 및 기판 이송 로봇의 구동 방법에 관한 것이다.
반도체 장치를 제조하기 위해서는, 기판이 예컨대, 식각, 세정 및/또는 건조 등과 같은 다양한 제조 공정을 거쳐야 한다. 예를 들어, 식각 장치, 세정 장치, 건조 장치, 또는 식각, 세정, 건조 등이 연속적으로 이루어질 수 있는 기판 처리 장치를 이용하여, 기판에 다양한 제조 공정을 진행하게 된다.
이러한 기판 처리 장치 중에는, 소위 웨트 스테이션(wet station)이라고 불리며, 습식 식각, 세정 등 웨트 공정이 연속적으로 주로 이루어지는 장치가 있다. 웨트 스테이션은 연속적으로 배치된 다수의 배스(bath)와, 다수의 배스 중 하나의 배스에서 다른 배스로 기판을 이송시키는 기판 이송 로봇을 포함한다. 또한, 다수의 배스 중 일부 배스 사이에는 셔터(shutter)가 설치되어, 한쪽 배스의 처리액이 다른 배스로 넘어가지 않도록 할 수도 있다.
그런데, 기판 이송 로봇에는 충돌 방지 시스템이 없어서 주변 유닛, 예를 들어, 다른 기판 이송 로봇, 셔터 등에 충돌할 수 있다. 충돌로 인해서 기판 이송 로봇, 셔터 등이 파손될 수 있을 뿐만 아니라, 이송 중인 기판이 파손될 수 있다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 안정적인 동작이 가능한 기판 처리 장치를 제공하는 것이다.
본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는, 안정적인 동작이 가능한 기판 이송 로봇을 제공하는 것이다.
본 발명이 이루고자 하는 또 다른 기술적 과제는, 안정적인 동작이 가능한 기판 이송 로봇의 구동 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는 연속적으로 배치된 다수의 배스(bath)와, 다수의 배스 중 하나의 배스에서 다른 배스로 기판을 이송시키는 기판 이송 로봇으로, 주변 유닛(unit)과의 거리 측정이 가능한 센서가 설치되어 주변 유닛과의 충돌을 방지할 수 있는 기판 이송 로봇을 포함한다.
상기 다른 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 로봇은 좌우로 움직일 수 있는 바디부와, 바디부에 실치되고, 상하로 움직일 수 있는 헤드부와, 헤드부에 설치되고, 좌우로 움직일 수 있는 암부와, 암부에 설치되어, 기판을 고정시키는 척부와, 헤드부에 설치되고, 주변 유닛(unit)과의 거리 측정이 가능한 센서를 포함한다.
상기 또 다른 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 로봇의 구동 방법은 주변 유닛(unit)과의 거리 측정이 가능한 센서를 포함하는 기판 이송 로봇을 제공하고, 주변 유닛과의 거리를 센싱하고, 센싱한 거리가 기설정된 거리 범위 내에 들어오는 경우 인터락(interlock)을 거는 것을 포함한다.
본 발명의 기타 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.
비록 제1, 제2 등이 다양한 소자, 구성요소 및/또는 섹션들을 서술하기 위해 서 사용되나, 이들 소자, 구성요소 및/또는 섹션들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이다. 이들 용어들은 단지 하나의 소자, 구성요소 또는 섹션들을 다른 소자, 구성요소 또는 섹션들과 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 소자, 제1 구성요소 또는 제1 섹션은 본 발명의 기술적 사상내에서 제2 소자, 제2 구성요소 또는 제2 섹션일 수도 있음은 물론이다.
본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.
다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알 려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 설명하기 위한 도면이다. 도 2는 도 1의 기판 이송 로봇을 설명하기 위한 사시도이다. 도 3은 레이저 센서를 설명하기 위한 도면이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는 주로 웨트 스테이션(wet station)이라고 불리며, 습식 식각, 세정 등 웨트 공정이 연속적으로 주로 이루어지는 장치일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
우선 도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치(1)는 다수의 배스(bath)(11~15), 기판 이송 로봇(100_1, 100_2), 셔터(shutter)(20)를 포함한다.
다수의 배스(11~15) 내에는 기판 처리액 또는 기판 세정액 등이 담겨 있다.
기판 이송 로봇(100_1, 100_2)은 다수의 배스(11~15) 중 하나의 배스(11~15)에서 다른 배스(11~15)로 기판을 이송시키는 역할을 한다.
예를 들어, 제1 기판 이송 로봇(100_1)은 제1 배스(11)에서 제3 배스(13)까지를 담당하며, 제1 배스(11)에서 제2 배스(12)로, 제2 배스(12)에서 제3 배스(13)로 처리된 기판을 이송한다. 제2 기판 이송 로봇(100_2)은 제3 배스(13)에서 제5 배스(15)까지를 담당하며, 제3 배스(13)에서 제4 배스(14)로, 제4 배스(14)에서 제5 배스(15)로 처리된 기판을 이송한다.
또한, 다수의 배스(11~15) 중 일부 배스(11~15) 사이에는 셔터(20)가 설치되어, 한쪽 배스(11~15)의 처리액이 다른 배스(11~15)로 넘어가지 않도록 할 수 있는 데, 도 1에서는 제3 배스(13)와 제4 배스(14) 사이에 셔터(20)가 설치되어 있는 것으로 예시하여 도시하였다.
여기서, 제1 기판 이송 로봇(100_1)과 제2 기판 이송 로봇(100_2)은 제3 배스(13)에 동시에 접근할 수 있고, 이와 같은 경우 제1 및 제2 기판 이송 로봇(100_1, 100_2)은 서로 충돌할 수 있다. 또한, 제2 기판 이송 로봇(100_2)은 셔터(20)가 닫혀 있는 동안 제3 배스(13)에 접근하려 하면, 제2 기판 이송 로봇(100_2)은 셔터(20)와 충돌할 수 있다.
그런데, 본원 발명의 기판 처리 장치(1)에서는 각 기판 이송 로봇(100_1, 100_2)에 주변 유닛, 예를 들어, 다른 기판 이송 로봇(100_1, 100_2), 셔터(20)와의 거리 측정이 가능한 센서(150_1, 150_2)가 설치하여, 주변 유닛과의 충돌을 방지할 수 있다. 예를 들어, 기설정된 거리 안에 주변 유닛이 들어오게 되면, 인터락(interlock)을 걸어서 기판 이송 로봇 및 주변 유닛의 동작을 중지시킨다.
도 2를 참조하여, 이러한 동작을 하는 기판 이송 로봇(100_1, 100_2)을 보다 자세히 설명하면 다음과 같다.
기판 이송 로봇(100_1, 100_2)은 좌우로 움직일 수 있는 바디부(110)와, 바디부(110)에 실치되고 상하로 움직일 수 있는 헤드부(120)와, 헤드부(120)에 설치되고 좌우로 움직일 수 있는 암부(130)와, 암부(130)에 설치되어 기판을 고정시키는 척부(140)를 포함할 수 있다. 특히, 센서(150)는 바디부(110), 헤드부(120), 암부(130) 중 적어도 한 곳에 설치될 수 있는데, 도 2에서는 헤드부(120)에 설치되어 있는 것을 예시하였다.
한편, 센서(150)는 레이저 센서일 수 있다. 레이저 센서는 도 3에서와 같이, 발광부(151)와 수광부(152)를 포함하여 일정 범위의 거리 측정이 가능하다. 예를 들어, 발광부(151)에서 발산한 광이 일정 범위의 거리 내에 있는 물체(190)에 반사되고, 반사된 광이 수광부(152)에 의해서 흡수되는 방식을 사용할 수 있다.
도 4를 참조하여, 기판 이송 로봇의 동작을 설명한다. 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 이송 로봇의 구동 방법을 설명하기 위한 흐름도이다.
주변 유닛과의 거리를 계속적으로 센싱하고(S310), 센싱한 거리가 기설정된 거리 범위 내에 들어오는지 판단한다(S320). 기설정된 거리 범위 내에 들어오지 않으면 계속적으로 주변 유닛과의 거리를 센싱하고(S310), 기설정된 거리 범위 내에 들어올 경우 인터락을 걸어서 기판 이송 로봇 및 주변 유닛의 동작을 중지시킨다(S330).
이와 같이 함으로써, 기판 이송 로봇과 주변 유닛과의 충돌을 방지하고, 기판의 파손을 방지할 수 있다. 따라서, 기판 처리 장치, 기판 이송 로봇의 안정적인 동작을 보장할 수 있다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
상기한 바와 같은 기판 처리 장치, 기판 이송 로봇, 기판 이송 로봇의 구동 방법은 하나 이상의 효과가 있다.
첫째, 기판 이송 로봇과 주변 유닛과의 충돌을 방지할 수 있다.
둘째, 기판의 파손을 방지할 수 있다.
셋째, 기판 처리 장치, 기판 이송 로봇의 안정적인 동작을 보장할 수 있다

Claims (9)

  1. 연속적으로 배치된 다수의 배스(bath); 및
    상기 다수의 배스 중 하나의 배스에서 다른 배스로 기판을 이송시키는 기판 이송 로봇으로, 주변 유닛(unit)과의 거리 측정이 가능한 센서가 설치되어 주변 유닛과의 충돌을 방지할 수 있는 기판 이송 로봇을 포함하는 기판 처리 장치.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 기판 이송 로봇은,
    좌우로 움직일 수 있는 바디부와,
    상기 바디부에 실치되고, 상하로 움직일 수 있는 헤드부와,
    상기 헤드부에 설치되고, 좌우로 움직일 수 있는 암부와,
    상기 암부에 설치되고, 기판을 고정시키는 척부를 포함하는 기판 처리 장치.
  3. 제 2항에 있어서,
    상기 센서는 상기 바디부, 헤드부, 암부 중 적어도 한 곳에 설치된 기판 처리 장치.
  4. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 센서는 레이저 센서인 기판 처리 장치.
  5. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 주변 유닛은 이웃한 기판 이송 장치 또는 셔터인 기판 처리 장치.
  6. 좌우로 움직일 수 있는 바디부;
    상기 바디부에 실치되고, 상하로 움직일 수 있는 헤드부;
    상기 헤드부에 설치되고, 좌우로 움직일 수 있는 암부;
    상기 암부에 설치되어, 기판을 고정시키는 척부; 및
    상기 헤드부에 설치되고, 주변 유닛(unit)과의 거리 측정이 가능한 센서를 포함하는 기판 이송 로봇.
  7. 제 6항에 있어서,
    상기 센서는 레이저 센서인 기판 이송 로봇.
  8. 주변 유닛(unit)과의 거리 측정이 가능한 센서를 포함하는 기판 이송 로봇을 제공하고,
    주변 유닛과의 거리를 센싱하고,
    상기 센싱한 거리가 기설정된 거리 범위 내에 들어오는 경우 인터락(interlock)을 거는 것을 포함하는 기판 이송 로봇의 구동 방법.
  9. 제 8항에 있어서,
    상기 센서는 레이저 센서인 기판 이송 로봇의 구동 방법.
KR1020070010768A 2007-02-01 2007-02-01 기판 처리 장치, 기판 이송 로봇, 기판 이송 로봇의 구동방법 KR20080072265A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020070010768A KR20080072265A (ko) 2007-02-01 2007-02-01 기판 처리 장치, 기판 이송 로봇, 기판 이송 로봇의 구동방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020070010768A KR20080072265A (ko) 2007-02-01 2007-02-01 기판 처리 장치, 기판 이송 로봇, 기판 이송 로봇의 구동방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20080072265A true KR20080072265A (ko) 2008-08-06

Family

ID=39882624

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020070010768A KR20080072265A (ko) 2007-02-01 2007-02-01 기판 처리 장치, 기판 이송 로봇, 기판 이송 로봇의 구동방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20080072265A (ko)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101510075B1 (ko) * 2013-12-24 2015-04-08 전자부품연구원 로봇제어시스템 및 그 제어방법
KR20180077914A (ko) * 2016-12-29 2018-07-09 주식회사 테스 기판식각장치의 기판 식각 제어방법
KR20180099814A (ko) * 2016-03-30 2018-09-05 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 기판 처리 장치

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101510075B1 (ko) * 2013-12-24 2015-04-08 전자부품연구원 로봇제어시스템 및 그 제어방법
KR20180099814A (ko) * 2016-03-30 2018-09-05 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 기판 처리 장치
KR20180077914A (ko) * 2016-12-29 2018-07-09 주식회사 테스 기판식각장치의 기판 식각 제어방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8781787B2 (en) Substrate carrying mechanism, substrate carrying method and recording medium storing program including set of instructions to be executed to accomplish the substrate carrying method
KR101944147B1 (ko) 기판 반전 장치 및 기판 처리 장치
US8649900B2 (en) Stocker system and method of managing stocker
KR102043821B1 (ko) 마스크 전송 장치 및 전송 방법
JP2016063039A (ja) 基板処理装置および基板処理方法
KR20160078243A (ko) 기판 반송 장치 및 기판 반송 방법
US20160240412A1 (en) Substrate Detection Apparatus, Substrate Detection Method and Substrate Processing System
KR100862702B1 (ko) 기판 정렬 감지장치
KR20080072265A (ko) 기판 처리 장치, 기판 이송 로봇, 기판 이송 로봇의 구동방법
KR102189285B1 (ko) 다이들의 위치 정보를 획득하는 방법
US11626309B2 (en) Substrate treating apparatus and substrate treating method
KR101757815B1 (ko) 기판 중심 검출 방법, 기판 반송 방법, 반송 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치.
US9214375B2 (en) End effector having multiple-position contact points
US10283390B2 (en) Apparatus for processing substrate
US20060112978A1 (en) Apparatus and method for wet-treating wafers
US7361920B2 (en) Substrate processing apparatus and transfer positioning method thereof
KR20060124440A (ko) 웨이퍼 이송 장치
KR101765092B1 (ko) 기판 중심 검출 방법, 기판 반송 방법, 반송 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치.
CN111128796A (zh) 用于搬运半导体部件承载器的设备及方法
KR100481279B1 (ko) 반도체 제조에 사용되는 웨이퍼 보우트
KR101574202B1 (ko) 기판 감지 장치 및 이를 이용한 기판 처리 장치
KR101496444B1 (ko) 유리 기판 이송 방법 및 이를 이용하는 열처리 장치
KR20060037092A (ko) 반도체 소자 제조용 장비
KR101736873B1 (ko) 기판 중심 검출 방법, 기판 반송 방법, 반송 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치.
KR20100086261A (ko) 웨이퍼 이송 장치 및 그 이송 제어 방법

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination