KR20080066324A - 소스 공급 장치 및 이를 포함하는 박막 증착 시스템 - Google Patents

소스 공급 장치 및 이를 포함하는 박막 증착 시스템 Download PDF

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Abstract

본 발명은 소스 공급 장치 및 이를 포함하는 박막 증착 시스템에 관한 것으로, 액상 원료 물질이 저장된 소스 용기와, 상기 액상 원료 물질 상측 영역의 상기 소스 용기 내에 마련된 적어도 하나의 트랩부와, 상기 액상 원료 물질 내측으로 연장되어 버블용 가스를 공급하는 제 1 파이프와, 상기 적어도 하나의 트랩부 상측에 연장되어 이송용 가스를 공급하는 제 2 파이프 및 상기 소스 용기 내의 기화된 액상 원료 물질을 출력하는 제 3 파이프를 포함하는 소스 공급 장치 및 이를 포함하는 박막 증착 시스템에 관한 것이다. 이와 같이 액상 원료 물질을 기화시키는 버블용 가스와 기화된 액상 원료 물질을 이송하는 이송용 가스를 분리 공급하여 기화된 액상 원료 물질을 출력 파이프에 제공할 수 있고, 출력 파이프 내부로 액상의 액상 원료 물질이 유입되는 것을 방지할 수 있다.
액상 원료 물질, 기화, 파이프, 트랩부, 소스 용기

Description

소스 공급 장치 및 이를 포함하는 박막 증착 시스템{Apparatus for supplying source and system for deopsing thin film having the same}
도 1은 종래의 소스 공급 장치를 설명하기 위한 개략도.
도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 박막 증착 시스템의 개략도.
도 3은 제 1 실시예에 따른 제 1 트랩부의 평면도.
도 4는 제 1 실시예에 따른 제 2 트랩부의 평면도.
도 5는 제 1 실시예의 변형예에 따른 제 2 트랜부의 평면도.
도 6은 제 1 실시예의 변형예에 따른 소스 공급 장치의 계략도.
도 7은 제 2 실시예에 따른 소스 공급 장치의 개략도.
도 8은 제 2 실시예의 변형예에 따른 소스 공급 장치의 개략도.
도 9는 제 3 실시예에 따른 소스 공급 장치의 개략도.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
10, 210 : 소스 용기 20 : 가스 공급부
30, 40, 240, 250, 260 : 파이프
100 : 박막 증착 장치 200 : 소스 공급 장치
220, 230 : 트랩부 300 : 가스 공급 장치
본 발명은 소스 공급 장치 및 이를 포함하는 박막 증착 시스템에 관한 것으로, 소정의 가스를 이용하여 액체 상태의 소스를 기화시켜 증착 장치에 공급하는 소스 공급 장치에 관한 것이다.
일반적으로 소스 공급 장치로 사용되는 버블러는 캐리어 가스를 이용하여 액상의 액상 원료 물질을 기화시켜 기화된 액상 원료 물질을 제공하는 장치이다.
도 1은 종래의 소스 공급 장치를 설명하기 위한 개략도이다.
도 1에 도시된 바와 같이 종래의 소스 공급 장치는 액상 원료 물질이 저장된 소스 용기(10)와, 캐리어 가스를 제공하는 캐리어 가스 공급부(20)와, 캐리어 가스를 소스 용기(10)에 전달하는 가스 파이프(30)와, 소스 용기(10)의 액상 원료 물질을 챔버(1)로 전달하는 이송 파이프(40)를 포함한다.
상기 가스 파이프(30)는 소스 용기(10) 내부로 인입된 끝단이 액상 원료 물질 내에 잠기게 된다. 따라서, 가스 파이프(30)를 통해 소스 용기(10) 내부로 공급되는 캐리어 가스에 의해 액상 원료 물질 내에 버블이 발생하게 되고, 이를 통해 액상 원료 물질을 기화시킨다. 이때, 상기 소스 용기(10) 내에 액상 원료 물질이 저장되어 있는 경우에는 액상 원료 물질이 완전히 기화되지 않은 상태로 상기 이송 파이프(40) 내부로 공급되는 경우가 발생한다. 이로인해 이송 파이프(40) 및 챔버(1) 내부가 오염되는 문제가 발생한다.
따라서, 본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위하여 소스 용기 내에 버블용 가스와 이송용 가스를 분리 공급하고, 별도의 트랩부를 두어 액상 원료 물질이 파이프 내부로 유입되는 것을 방지할 수 있는 소스 공급 장치 및 이를 포함하는 박막 증착 시스템을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
본 발명에 따른 액상 원료 물질이 저장된 소스 용기와, 상기 액상 원료 물질 상측 영역의 상기 소스 용기 내에 마련된 적어도 하나의 트랩부와, 상기 액상 원료 물질 내측으로 연장되어 버블용 가스를 공급하는 제 1 파이프와, 상기 적어도 하나의 트랩부 상측에 연장되어 이송용 가스를 공급하는 제 2 파이프 및 상기 소스 용기 내의 기화된 액상 원료 물질을 출력하는 제 3 파이프를 포함하는 소스 공급 장치를 제공한다.
상기 트랩부는, 상기 액상 원료 물질 상측 영역에 마련되어 제 1 직경의 관통홀을 갖는 제 1 트랩부와, 상기 제 1 트랩부 상측 영역에 마련되어 상기 제 1 직경 보다 작은 제 2 직경의 관통홀을 갖는 제 2 트랩부를 포함하는 것이 바람직하 다.
상기 제 2 파이프는 상기 제 1 및 제 2 트랩부 사이 공간으로 연장되는 것이 효과적이다. 상기 제 2 파이프는 상기 제 2 트랩부 상측 공간으로 연장되는 것이 가능하다.
상기 제 2 파이프의 끝단은 절곡되어 상기 트랩부의 상부 표면과 평행하게 연장되는 것이 효과적이다.
상기 제 2 파이프는 상기 제 3 파이프에 인접 배치되는 것이 효과적이다.
또한, 본 발명에 따른 버블용 가스와 이송용 가스를 공급하는 가스 공급 장치와, 액상 원료 물질을 저장하는 저장 용기와, 상기 액상 원료 물질 상측에 마련된 적어도 하나의 트랩부를 구비하고, 상기 버블용 가스를 액상 원료 물질에 공급하여 이를 기화시키고, 이송용 가스를 상기 액상 원료 물질 상측에 마련된 적어도 하나의 트랩부 상측에 공급하여 기화된 액상 원료 물질을 출력하는 가스 공급 장치 및 상기 기화된 액상 원료 물질을 제공받는 박막 증착 장치를 포함하는 박막 증착 시스템을 제공한다.
상기 가스 공급 장치는, 상기 액상 원료 물질 내측으로 연장되어 버블용 가스를 공급하는 제 1 파이프와, 상기 적어도 하나의 트랩부 상측에 연장되어 이송용 가스를 공급하는 제 2 파이프와, 상기 소스 용기 내의 기화된 액상 원료 물질을 출력하는 제 3 파이프를 포함하는 것이 바람직하다.
상기 액상 원료 물질 상측 영역에 마련되어 제 1 직경의 관통홀을 갖는 제 1 트랩부와, 상기 제 1 트랩부 상측 영역에 마련되어 상기 제 1 직경보다 작은 제 2 직경의 관통홀을 갖는 제 2 트랩부를 포함하고, 상기 제 2 파이프는 상기 제 1 및 제 2 트랩부 사이 공간으로 연장되거나, 상기 제 2 트랩부 상측 공간으로 연장되는 것이 효과적이다.
상기 제 1 및 제 2 파이프와 상기 가스 공급 장치 사이에 마련된 제 1 및 제 2 밸브와, 상기 제 3 파이프와 상기 박막 증착 장치 사이에 마련된 제 3 밸브를 포함하는 것이 바람직하다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 더욱 상세히 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다.
도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 박막 증착 시스템의 개략도이다.
도 3은 제 1 실시예에 따른 제 1 트랩부의 평면도이고, 도 4는 제 1 실시예에 따른 제 2 트랩부의 평면도이고, 도 5는 제 1 실시예의 변형예에 따른 제 2 트랜부의 평면도이다. 도 6은 제 1 실시예의 변형예에 따른 소스 공급 장치의 계략도이다.
도 2 내지 도 6을 참조하면, 본 실시예에 따른 박막 증착 시스템은 박막 증착 장치(100)와, 소스 공급 장치(200) 및 캐리어 가스 공급 장치(300)를 포함한다.
박막 증착 장치(100)는 도 2에 도시된 바와 같이 반응 공간을 갖는 챔버(110)와, 챔버(110) 내에 마련되어 기판(101)이 안치되는 기판 안치부(120)와, 소스 공급 장치(200)로부터 제공된 액상 원료 물질을 기판(101)에 균일하게 분사하는 분사부(130)를 포함한다.
박막 증착 장치(100)는 소스 공급 장치(200)로부터 기화된 액상 원료 물질을 가열시키켜 기판(101)에 소정의 박막을 형성한다. 이때, 기판(101) 상에 형성되는 박막은 액상 원료 물질에 따라 다양하게 변화될 수 있다. 박막 증착 장치(100)는 도시되지 않았지만, 소스 공급 장치(200)로부터 제공된 액상 원료 물질을 가열하는 가열 수단을 더 포함하고, 챔버 내부를 배기시키기 위한 배기 수단을 더 포함할 수 있다. 상기 가열 수단은 분사부(130) 내에 마련될 수 있다. 또한, 박막 증착 장치(100)는 기판 안치부(120) 또는 분사부(130)를 회전시키기 위한 회전 수단을 더 포함할 수 있다.
캐리어 가스 공급 장치(300)는 각기 버블용 및 이송용 가스를 소스 공급 장치(200)에 제공하는 제 1 및 제 2 가스 공급부(310, 320)를 포함한다.
제 1 및 제 2 가스 공급부(310, 320) 각각은 도시되지 않았지만, 가스가 저장된 저장탱크와, 가스의 유량을 제어하는 유량 제어기(Mass Flow Controller; MFC)를 구비한다. 이를 통해 본 실시예에서는 캐리어 가스 공급 장치(300)를 통해 버블용 가스와 이송용 가스를 소스 공급 장치(200)에 각기 제공할 수 있다. 물론 이에 한정되지 않고, 단일의 가스 공급부를 통해 소스 공급 장치에 버블용 가스와 이송용 가스를 공급할 수도 있다.
소스 공급 장치(200)는 액상 원료 물질이 저장된 소스 용기(210)와, 액상 원료 물질 상측 영역의 소스 용기(210) 내에 마련된 제 1 및 제 2 트랩부(220, 230)와, 액상 원료 물질 내측으로 연장되어 버블용 가스를 전달하는 제 1 파이프(240)와, 제 1 및 제 2 트랩부(220, 230) 사이 공간으로 연장되어 이송용 가스를 전달하는 제 2 파이프(250)와, 소스 용기(210) 내의 기화된 액상 원료 물질을 박막 증착 장치(100)에 제공하는 제 3 파이프(260)를 포함한다.
소스 용기(210)는 내부 저장 공간을 갖는 통 형상으로 제작되는 것이 바람직하다. 상기 내부 저장 공간에는 액상 원료 물질이 저장된다. 물론 파우더 형태의 액상 원료 물질이 저장될 수도 있다. 그리고, 상기 액상 원료 물질로 다양한 전구체들을 사용할 수 있다. 본 실시예에서는 액상 원료 물질로 TEMAZr(Zr(NEtMe)4)를 사용한다.
제 1 및 제 2 트랩부(220, 230)는 소스 용기(210)의 내부 저장 공간내에 마련되어 버블링에 의해 기화되지 않은 액상의 액상 원료 물질이 제 3 파이프(260)로 유입되는 것을 차폐하여 기화된 액상 원료 물질만이 제 3 파이프(260)으로 공급되도록한다. 상기 제 1 및 제 2 트랩부(220, 230)는 제 3 파이프의 유입구과 액상 원료 물질 사이 영역에 배치되는 것이 바람직하다.
제 1 트랩부(220)는 도 3에 도시된 바와 같이 복수의 관통홀(221)을 갖는 원형의 판 형상으로 제작된다. 물론 제 1 트랩부(220)의 형상은 이에 한정되지 않고, 소스 용기(210)의 내부 저장 공간의 수평 단면 형상에 따라 다각형 형상, 타원형상 등과 같은 다양한 형상으로 변형될 수 있다. 제 2 트랩부(230)는 도 4에 도시된 바와 같이 복수의 관통홀(231)을 갖는 판 형상으로 제작된다.
제 1 트랩부(220)는 액상 원료 물질 상측에 배치되고, 제 2 트랩부(230)는 제 1 트랩부(220)와 제 3 파이프(260) 사이에 배치된다. 이를 통해 액상의 액상 원료 물질이 1차로 제 1 트랩부(220)에 의해 그 유입이 차단되고, 2차로 제 2 트랩부(230)에 의해 차단된다. 이때, 제 2 트랩부(230)의 관통홀(231)의 직경이 제 1 트랩부(220)의 관통홀(221)의 직경 보다 더 작은 것이 바람직하다.
그리고, 도 5의 변형예에 도시된 바와 같이 제 2 트랩부(230)의 일부 영역 즉, 제 3 파이프(260) 하부 영역(도 5의 A 영역 참조)에는 관통홀(231)이 형성되지 않을 수 있다. 이를 통해 제 3 파이프(260) 하부에 위치한 제 2 트랩부(230)의 관통홀(231)을 통해 액상 원료 물질이 직접 유입되는 것을 방지할 수 있다. 제 1 및 제 2 트랩부(220, 230)간의 이격 거리는 분사되는 이송용 가스에 따라 적절하게 조절되는 것이 바람직하다. 그리고, 제 1 및 제 2 트랩부(220, 230)간의 이격 거리와, 제 2 트랩부(230)와 소스 용기(210)간의 이격 거리는 동일한 것이 효과적이다. 물론 이에 한정되지 않고, 제 1 및 제 2 트랩부(220, 230)간의 이격 거리가 제 2 트랩부(230)와 소스 용기(210) 간의 이격 거리보다 더 크거나 작을 수 있다.
이때, 버블용 가스가 액상 원료 물질 내부에 제공될 경우 버블링 시에 기화되지 않은 액상 덩어리 형태의 액상 원료 물질 일부가 액상 원료 물질 상측 영역으로 튕겨 나갈 수 있다. 그러나 본 실시예에서는 제 1 및 제 2 트랩부(220, 230)가 위치하여 이와 같이 액상 덩어리가 튕겨 나오더라도 제 3 파이프(260)로 유입되는 것을 방지한다.
제 1 파이프(240)는 캐리어 가스 공급 장치(300)의 제 1 가스 공급부(310)에 접속되어 소스 용기(210) 내부의 액상 원료 물질 내측으로 연장된다. 제 1 파이프(240)는 제 1 가스 공급부(310)로부터 제공되는 버블용 가스를 액상 원료 물질 내부로 배출한다. 액상 원료 물질 내부로 공급된 버블용 가스는 액상 원료 물질 내에서 버블을 발생시켜 액상 원료 물질의 거동을 활발하게 하여 이를 기화시킨다. 이때, 기화된 액상 원료 물질은 제 1 트랩부(220)의 관통홀(221)을 통과하여 제 1 트랩부(220)와 제 2 트랩부(230) 사이 공간으로 이동한다.
제 2 파이프(250)는 캐리어 가스 공급 장치(300)의 제 2 가스 공급부(320)에 접속되어 소스 용기(210) 내부의 제 1 및 제 2 트랩부(220, 230) 사이 공간으로 연장된다. 제 2 파이프(250)는 제 2 가스 공급부(320)로부터 제공되는 이송용 가스를 제 1 및 제 2 트랩부(220, 230) 사이 공간에 배출한다.
이때, 제 2 파이프(250)에 의해 제 1 및 제 2 트랩부(220, 230) 사이 공간으로 공급된 이송용 가스는 버블링에 의해 기화되어 제 1 및 제 2 트랩부 사이 영역으로 이동된 기화된 액상 원료 물질을 제 3 파이프(260)로 이송시키는 역할을 한다. 그리고, 상기 제 2 파이프(250)에 의해 제 1 및 제 2 트랩부(220, 230) 사이 공간으로 배출되는 이송용 가스는 제 1 및 제 2 트랩부(220, 230) 사이의 압력을 조절할 수 있다. 이때, 제 1 트랩부(220)와 제 2 트랩부(230)의 이격 거리에 따라 그 압력이 다양하게 변화될 수 있다. 또한, 제 2 파이프(250)에 의해 배출되는 이송용 가스는 제 1 트랩부(220)의 관통홀(221)을 통해 유입되는 액상의 액상 원료 물질의 일부를 기화시키거나 액상의 액상 원료 물질을 제 1 트랩부(220) 하부 영역으로 밀어낼 수도 있다.
제 3 파이프(260)는 박막 증착 장치(100)의 분사부(110)에 접속되어 소스 용기(210) 내부의 제 2 트랩부(230) 상측 공간으로 연장된다. 제 3 파이프(260)는 버블용 가스에 의해 기화되고, 이송용 가스에 의해 유입되는 기화된 액상 원료 물질을 박막 증착 장치(100)의 분사부(130)에 공급한다.
이와 같이 본 실시예에서는 제 1 파이프(240)를 통해 제공된 버블용 가스에 의해 액상의 액상 원료 물질이 기화되고, 제 2 파이프(250)를 통해 제공된 이송용 가스에 의해 기화된 액상 원료 물질이 제 3 파이프(260)를 통해 박막 증착 장치(100)로 제공될 수 있고, 액상의 액상 원료 물질이 제 3 파이프(260)로 유입되는 것을 차단할 수 있다. 그리고, 이를 통해 박막 증착 장치(100)로 유입되는 기화된 액상 원료 물질의 유량을 정밀하게 제어할 수 있게 된다.
이때, 제 1 및 제 2 파이프(240, 250)에 제공되는 버블용 가스와 이송용 가스의 유량은 박막 증착 장치(100)에 요구하는 가스 유량에 따라 적절히 조절되는 것이 바람직하다.
이때, 상기 버블용 가스와 이송용 가스의 유량은 제 1 및 제 2 가스 공급부(310, 320)의 유량 제어기에 의해 제어될 수 있다. 또한, 도 2에 도시된 바와 같이 제 1 파이프(240)의 일측에 제 1 밸브(241)가 마련되어 버블용 가스의 유량을 조절할 수 있고, 제 2 파이프(250)의 일측에 제 2 밸브(251)가 마련되어 이송용 가스의 유량을 조절할 수 있다. 또한, 제 3 파이프(260)의 일측에도 제 3 밸브(261) 가 마련되어 박막 증착 장치(100)로 제공되는 가스 유량을 제어할 수 있다. 물론 제 1 및 제 2 파이프(240, 250)의 직경을 조절하여 이들을 통해 공급되는 가스의 유량을 제어할 수도 있다.
그리고, 도 2에 도시된 바와 같이 상기 제 2 파이프(250)의 이송용 가스 배출구의 방향이 제 1 트랩부(220) 및/또는 제 2 트랩부(230)의 상부 및 하부 표면과 수직한 경우, 제 2 파이프(250)에서 배출되는 이송용 가스는 액상 원료 물질에 직접 분사되지 않고, 제 1 트랩부(220)의 상부 표면으로 분사된다. 이때, 제 2 파이프(250)의 이송 가스 배출구의 하부에 해당하는 제 1 트랩부(220) 영역에는 관통홀이 형성되지 않는 것이 바람직하다.
물론 이에 한정되지 않고, 도 6의 변형예에서와 같이 제 1 및 제 2 트랩부(220, 230) 사이 공간으로 연장된 제 2 파이프(250)의 끝단이 절곡되어 상기 제 1 트랩부(220) 및/또는 제 2 트랩부(230)의 상부 및 하부 표면과 수평한 방향으로 이송용 가스를 분사시킬 수 있다. 또한, 상기 이송용 가스를 상기 제 2 트랩부(230)의 하부 표면 방향으로 분사시킬 수도 있다.
그리고, 도 6의 변형예에서와 같이 소스 공급 장치(200)는 제 2 파이프(250)와 제 3 파이프(260) 간의 연통을 시키는 제 4 파이프(270) 및 제 4 파이프(270)에 설치되는 제 4 밸브(271)를 더 포함할 수 있다. 이를 통해 제 2 파이프(250)를 통해 제공되는 이송용 가스를 제 3 파이프(260)에 직접 공급할 수 있게 되어, 제 3 파이프(260) 내부는 물론 제 3 파이프(260)에 접속된 박막 증착 장치(100) 내부를 퍼지시킬 수 있다. 제 4 파이프(170)는 제 1 파이프(240)와 연통될 수도 있다.
또한, 본 발명에 따른 소스 공급 장치는 상술한 구조에 한정되지 않고, 상기 제 2 파이프가 제 2 트랩부 상측에 마련될 수 있다. 하기에서는 도면을 참조하여 본 발명의 제 2 실시예에 따른 소스 공급 장치를 설명한다. 후술되는 설명중 상술한 설명과 중복되는 설명은 생략한다. 후술되는 설명의 기술은 앞서 설명한 실시예에 적용될 수 있다.
도 7은 제 2 실시예에 따른 소스 공급 장치의 개략도이다. 도 8은 제 2 실시예의 변형예에 따른 소스 공급 장치의 개략도이다.
도 7 및 도 8을 참조하면, 본 실시예에 따른 소스 공급 장치는 내부 공간 내에 액상 원료 물질이 저장된 소스 용기(210)와, 상기 내부 공간 내에 마련된 제 1 및 제 2 트랩부(220, 230)와, 제 1 및 제 2 트랩부(220, 230)를 관통하여 액상 원료 물질 내측으로 연장된 제 1 파이프(240)와, 제 2 트랩부(230) 상측 공간으로 연장된 제 2 파이프(250)와, 제 2 트랩부(230) 상측 공간으로 연장되어 소스 용기(210) 내의 기화된 액상 원료 물질을 박막 증착 장치(100)에 제공하는 제 3 파이프(260)를 포함한다.
제 2 파이프(250)는 캐리어 가스 공급 장치(300)에 접속되어 소스 용기(210) 내부의 제 2 트랩부(230) 상측 공간으로 연장되어 캐리어 가스 공급 장치(300)로부터 제공되는 이송용 가스를 제 2 트랩부(230) 상측 공간에 배출한다.
액상의 액상 원료 물질은 제 1 파이프(240)로부터 공급된 버블용 가스에 의해 그 일부가 기화된다. 기화된 액상 원료 물질은 제 1 트랩부(220)와 제 2 트랩부(230)를 거쳐 제 2 트랩부(230) 상측 영역으로 확산한다. 제 2 트랩부(230) 상측 영역으로 이동한 기화된 액상 원료 물질은 제 2 트랩부(230) 상측 영역에 제 2 파이프(250)에 의해 제공된 이송용 가스에 의해 제 3 파이프(260)로 이송된다.
제 1 및 제 2 트랩부(220, 230)를 통해 액상 덩어리 형태의 액상 원료 물질의 유입을 차단할 수 있고, 제 2 트랩부(230)의 상측 영역으로 유입되는 액상 덩어리는 제 2 파이프(250)의 이송용 가스에 의해 기화되거나 제 2 트랩부(230) 하부 영역으로 밀려나게 된다. 이를 통해 제 2 파이프(250)의 이송용 가스는 제 1 및 제 2 트랩부(220, 230)를 거쳐 기화된 상태의 액상 원료 물질만을 제 3 파이프(260)로 이송시킬 수 있다.
여기서, 도시되지는 않았지만, 제 2 파이프(250)의 하단의 제 2 트랩부(230) 영역에는 관통홀(231)이 형성되지 않는 것이 바람직하다. 그리고, 도 8의 변형예에서와 같이 제 2 파이프(250)의 끝단이 절곡되어 이송 가스가 상기 제 2 트랩부(230)의 상부 표면에 대하여 수평 방향으로 배출될 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 소스 공급 장치는 상술한 구조에 한정되지 않고, 상기 제 2 파이프가 제 3 파이프에 인접 배치될 수 있다. 하기에서는 도면을 참조하여 본 발명의 제 3 실시예에 따른 소스 공급 장치를 설명한다. 후술되는 설명중 상술한 설명과 중복되는 설명은 생략한다. 후술되는 설명의 기술은 앞서 설명한 실시예들에 적용될 수 있다.
도 9는 제 3 실시예에 따른 소스 공급 장치의 개략도이다.
도 9를 참조하면, 본 실시예에 따른 소스 공급 장치(200)는 액상 원료 물질이 마련된 소스 용기(210)와, 버블용 가스를 통해 액상 원료 물질을 기화시키는 제 1 파이프(240)와, 기화된 액상 원료 물질을 박막 증착 장치(100)에 제공하는 제 3 파이프(260)과, 상기 제 3 파이프(260) 인접 영역에 배치하고 이송용 가스를 이용하여 기화된 액상 원료 물질을 제 3 파이프(260)로 이송하는 제 2 파이프(250)를 포함한다.
제 2 파이프(250)를 제 3 파이프(260)의 인접 영역에 배치시켜 액상 덩어리 형태의 액상 원료 물질이 제 3 파이프(260)로 유입되는 것을 방지할 수 있다.
또한, 도면에 도시된 바와 같이 제 1 파이프(240)의 일측에는 스파이럴 히터(spiral heater; 280)가 마련될 수 있다. 스파이럴 히터(280)는 제 1 밸브(241)와 소스 용기(210) 사이에 마련되는 것이 바람직하다. 물론 이에 한정되지 않고, 제 2 및 제 3 파이프(250, 260)의 일측에도 스파이럴 히터(280)가 마련되는 것이 바람직하다. 이와 같이 스파이럴 히터(280)를 통해 파이프 내부의 가스를 히팅하여 파이프 내부에서 가스 형태의 액상 원료 물질이 액화하는 것을 방지할 수 있다. 또한, 제 1 및 제 2 파이프(240, 250) 내부의 버블용 가스 및 이송용 가스의 온도를 상승시켜 소스 용기(210)에 제공하기 때문에 소스 용기(210)의 온도를 내릴 수 있어 이를 안정적으로 사용할 수 있다. 스파이럴 히터(280)의 설정 온도는 사용되는 소스(소스 용기 내의 물질)의 종류에 따라 절절한 온도 범위를 갖도록 조절하는 것이 바람직하다.
상술한 바와 같이 본 발명은 액상 원료 물질을 기화시키는 버블용 가스와 기 화된 액상 원료 물질을 이송하는 이송용 가스를 분리 공급하여 기화된 액상 원료 물질을 출력 파이프에 제공할 수 있고, 출력 파이프 내부로 액상의 액상 원료 물질이 유입되는 것을 방지할 수 있다.
또한, 본 발명은 액상 원료 물질이 마련된 소스 용기의 내측에 트랩부를 두어 액상 덩어리 형태의 액상 원료 물질이 출력 파이프 내부로 유입되는 것을 방지할 수 있다.
본 발명은 상기에서 서술된 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있다. 즉, 상기의 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하며 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명의 범위는 본원의 특허 청구 범위에 의해서 이해되어야 한다.

Claims (10)

  1. 액상 원료 물질이 저장된 소스 용기;
    상기 액상 원료 물질 상측 영역의 상기 소스 용기 내에 마련된 적어도 하나의 트랩부;
    상기 액상 원료 물질 내측으로 연장되어 버블용 가스를 공급하는 제 1 파이프;
    상기 적어도 하나의 트랩부 상측에 연장되어 이송용 가스를 공급하는 제 2 파이프; 및
    상기 소스 용기 내의 기화된 액상 원료 물질을 출력하는 제 3 파이프를 포함하는 소스 공급 장치.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 트랩부는,
    상기 액상 원료 물질 상측 영역에 마련되어 제 1 직경의 관통홀을 갖는 제 1 트랩부와,
    상기 제 1 트랩부 상측 영역에 마련되어 상기 제 1 직경 보다 작은 제 2 직경의 관통홀을 갖는 제 2 트랩부를 포함하는 소스 공급 장치.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 제 2 파이프는 상기 제 1 및 제 2 트랩부 사이 공간으로 연장된 소스 공급 장치.
  4. 청구항 2에 있어서,
    상기 제 2 파이프는 상기 제 2 트랩부 상측 공간으로 연장된 소스 공급 장치.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 제 2 파이프의 끝단은 절곡되어 상기 트랩부의 상부 표면과 평행하게 연장된 소스 공급 장치.
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 제 2 파이프는 상기 제 3 파이프에 인접 배치된 소스 공급 장치.
  7. 버블용 가스와 이송용 가스를 공급하는 가스 공급 장치;
    액상 원료 물질을 저장하는 저장 용기와, 상기 액상 원료 물질 상측에 마련된 적어도 하나의 트랩부를 구비하고, 상기 버블용 가스를 액상 원료 물질에 공급하여 이를 기화시키고, 이송용 가스를 상기 액상 원료 물질 상측에 마련된 적어도 하나의 트랩부 상측에 공급하여 기화된 액상 원료 물질을 출력하는 가스 공급 장치; 및
    상기 기화된 액상 원료 물질을 제공받는 박막 증착 장치를 포함하는 박막 증착 시스템.
  8. 청구항 7에 있어서, 상기 가스 공급 장치는,
    상기 액상 원료 물질 내측으로 연장되어 버블용 가스를 공급하는 제 1 파이프와,
    상기 적어도 하나의 트랩부 상측에 연장되어 이송용 가스를 공급하는 제 2 파이프와,
    상기 소스 용기 내의 기화된 액상 원료 물질을 출력하는 제 3 파이프를 포함하는 박막 증착 시스템.
  9. 청구항 8에 있어서,
    상기 액상 원료 물질 상측 영역에 마련되어 제 1 직경의 관통홀을 갖는 제 1 트랩부와, 상기 제 1 트랩부 상측 영역에 마련되어 상기 제 1 직경보다 작은 제 2 직경의 관통홀을 갖는 제 2 트랩부를 포함하고,
    상기 제 2 파이프는 상기 제 1 및 제 2 트랩부 사이 공간으로 연장되거나, 상기 제 2 트랩부 상측 공간으로 연장된 박막 증착 시스템.
  10. 청구항 8에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 파이프와 상기 가스 공급 장치 사이에 마련된 제 1 및 제 2 밸브와,
    상기 제 3 파이프와 상기 박막 증착 장치 사이에 마련된 제 3 밸브를 포함하는 박막 증착 시스템.
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