KR20080064414A - 광주사장치 - Google Patents

Abstract

중심점을 용이하게 찾을 수 있는 에프-세타 렌즈가 구비된 광주사장치를 제공한다. 이러한 광주사장치는 광을 주사하는 광원과, 광원에서 주사된 광을 편향시키는 폴리곤 미러와, 폴리곤 미러에 의해 편향되는 광을 감광드럼에 결상시키는 에프-세타 렌즈와, 에프-세타 렌즈의 중심점을 찾는 프로브를 구비하며, 에프-세타 렌즈에는 에프-세타 렌즈의 중심점을 찾을 수 있도록 폴리곤 미러에서 편향된 광의 주주사방향 또는 부주사방향으로 에프-세타 렌즈의 출사면 양쪽 끝에 미소 돌출되도록 각각 형성된 중심마크가 구비된다. 제공된 광주사장치에 의하면 광의 주주사방향 또는 부주사방향으로 출사면의 양쪽 끝에 형성된 중심마크의 사이의 중심점을 프로브가 감지하여 용이하게 에프-세타 렌즈의 중심점을 찾을 수 있다.

Description

광주사장치{Laser scanning unit}

도 1은 본 발명에 따른 광주사장치를 도시한 사시도이다.

도 2a, 2b는 도 1에 도시된 에프-세타 렌즈를 도시한 사시도이다.

도 3은 본 발명에 따른 광주사장치에서 에프-세타 렌즈의 중심점을 찾는 과정을 설명하기 위해 도시한 도면이다.

**도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명**

10 : 광원 20 : 콜리메이팅 렌즈

30 : 실린더 렌즈 40 : 폴리곤 미러

50 : 에프-세타 렌즈 51 : 리브

52 : 입사면 53 : 출사면

55, 55' : 중심마크 60 : 반사미러

70 : 감광드럼 90 : 프로브

본 발명은 광주사장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 용이하게 에프-세타 렌즈의 중심점을 찾을 수 있도록 에프-세타 렌즈에 중심마크가 형성된 광주사장치 에 관한 것이다.

일반적으로, 광주사장치(Laser scaning unit,LSU)는 화상신호에 대응하여 균일한 전위로 대전되어 있는 감광드럼의 표면에 레이저빔을 조사하여 정전잠상을 형성하는 장치이다.

이러한 광주사장치는 레이저빔을 발생시키는 광원, 콜리메이팅 렌즈, 실린더렌즈, 폴리곤 미러, 에프-세타 렌즈 및 반사미러 등 복수의 광학계로 구성되어 있다.

한편, 상술한 광주사장치 중 에프-세타 렌즈는 최근 들어 에프-세타 렌즈는 대량의 양산용이성과 비용 절감을 고려할 때 사출성형공정을 통해 다양한 형태를 가지도록 설계된다. 이와 같이 사출성형공정을 통해 에프-세타 렌즈는 플라스틱 즉, 고분자 재료의 고화 및 냉각과정에 수반되는 수축을 피할 수 없기 때문에 설계형상과 대비하여 최종 제품의 곡률 및 표면형상의 오차가 많이 발생된다.

따라서, 통상의 에프-세타 렌즈는 사출성형 시 곡률 및 표면형상의 오차가 제품에 적용되어 광학성능이 좋지 못하므로 이를 분석하여 금형코어를 보정하게 된다.

그러나, 종래의 에프-세타 렌즈 특히, 원뿔형상의 에프-세타 렌즈는 주주사방향의 중심반경이 매우 크게 형성되어 면의 굴곡이 거의 없다. 이와 같이 에프-세타 렌즈의 일면의 골곡이 없으면 이 에프-세타 렌즈를 통한 정확한 주사를 위해 에프-세타 렌즈의 중심점을 찾는 프로브가 정확한 중심점 위치를 찾기 어려운 문제점이 있다.

또한, 상기와 같이 프로브가 에프-세타 렌즈의 정확한 중심점을 찾지 못하면 이 에프-세타 렌즈의 오차가 다르게 분석되어 금형코어의 보정을 다시 해야하는 번거로움이 있다.

따라서, 본 발명은 이와 같은 문제점을 감안한 것으로서, 본 발명의 목적은 프로브가 에프-세타 렌즈의 중심점을 용이하게 찾을 수 있는 광주사장치를 제공하는데 있다.

이와 같은 목적을 구현하기 위한 본 발명에 따른 광주사장치는 광을 주사하는 광원과, 상기 광원에서 주사된 광을 편향시키는 폴리곤 미러와, 상기 폴리곤 미러에 의해 편향되는 광을 감광드럼에 결상시키는 에프-세타 렌즈를 포함하며,

상기 에프-세타 렌즈에는 상기 에프-세타 렌즈의 중심점을 찾을 수 있도록 상기 폴리곤 미러에서 편향된 광의 주주사방향 또는 부주사방향으로 형성된 중심마크가 구비된 것을 특징으로 한다.

상기 에프-세타 렌즈는 몸체를 이루는 리브와, 상기 리브의 일면에 형성되어 상기 폴리곤 미러에서 편향된 광이 입사되는 입사면과, 상기 리브의 타면에 형성되어 광이 출사되는 출사면을 구비하며,

상기 중심마크는 광의 주주사방향 또는 부주사방향으로 상기 출사면의 양쪽 끝에 미소 돌출되도록 각각 형성된 것을 특징으로 한다.

상기 중심마크는 상기 출사면에서 상기 출사면의 유효면을 벗어나는 위치에 구비된 것을 특징으로 한다.

상기 광주사장치에는 상기 출사면에 미소 돌출된 각각의 중심마크의 중심점을 감지하여 상기 에프-세타 렌즈의 중심점을 찾는 프로브가 더 구비된 것을 특징으로 한다.

상기 리브는 상기 출사면의 유효면의 표면보다 일정 부분 높게 형성되어 상기 유효면에 스크래치가 일어나는 것을 방지하는 것을 특징으로 하는 광주사장치.

이하에서는 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하기로 한다.

도 1에 도시된 것과 같이, 본 발명의 광주사장치는 광원(10)과, 콜리메이팅 렌즈(20)와, 실린더 렌즈(30)와, 폴리곤 미러(40)와, 에프-세타 렌즈(50)와, 반사미러(60)를 즉, 복수의 광학계를 포함하여 구성한다.

구체적으로, 광원(10)은 레이저 다이오드와 같이 광을 발생시키는 장치로, 화상 신호에 따라 광을 콜리메이팅 렌즈(20)를 향해 주사한다.

콜리메이팅 렌즈(20)는 광원(10)에서 주사된 광을 평행광 또는 수렴광으로 변환시키고, 실린더 렌즈(30)는 콜리메이팅 렌즈(20)를 통과하면서 변환된 평행광 또는 수렴광을 부주사 방향으로 집광시킨다.

폴리곤 미러(40)는 외측면에 복수의 반사면이 구비되고, 모터(미도시)에 의해 고속으로 회전하면서 실린더 렌즈(30)를 통과한 광을 감광드럼(7O)을 향해 일정 각도 범위 내에서 편향시킨다.

에프-세타 렌즈(50)는 폴리곤 미러(40)에 의해 일정 각도 범위 내에서 편향되는 광을 등속으로 주사시킨다.

반사미러(60)는 에프-세타 렌즈(50)를 통과한 광을 감광드럼(7O)을 향해 반사시키고, 감광드럼(7O)으로 입사되는 광의 입사각을 조정한다. 본 발명에 의한 광주사유닛이 설치되는 화상형성장치의 감광드럼(7O) 설치 위치에 따라 반사미러(60)의 설치 각도를 결정하여 그 반사각을 조정함으로써 감광드럼(7O)으로 입사되는 광의 입사각을 조정할 수 있다.

또한, 도시되지는 않았지만 광주사장치는 동기신호 검출을 위한 광검출미러 및 광검출센서를 구비한다. 이때, 광검출미러는 반사미러(60)의 전방 옆쪽에 설치되고 에프-세타 렌즈(50)를 통과한 광의 일부를 동기신호 검출을 위한 광검출센서로 반사시킨다.

이때, 상술한 에프-세타 렌즈(50)에는 도 2a에 도시된 바와 같이 몸체를 이루는 리브(51)가 마련되며, 이 리브(51)에는 폴리곤 미러(40)로부터 반사된 광이 입사되는 입사면(52)과 광이 출사되는 출사면(53)이 형성되어 있다.

리브(51)는 유효면 즉, 입사면(52)과 출사면(53)에서 광이 주주사방향 및 부주사방향으로 편향되어 지나가는 면을 보호하는 역할을 하며, 이때의 리브(51)는 유효면의 표면보다 일정 부분 높게 형성되어 에프-세타 렌즈(50)의 보관 시 유효면에 스크래치가 일어나는 것을 방지하게 된다.

입사면(52)은 상술한 바와 같이 리브(51)의 일면 즉, 폴리곤 미러(40)에 대응되는 면에 형성되어 폴리곤 미러(40)로부터 반사된 광이 입사되며, 출사면(53)은 리브(51)의 타면에 형성되어 감광드럼(70) 측으로 광이 출사된다.

한편, 본 발명에 따른 에프-세타 렌즈(50)는 특히, 도시된 바와 같은 원뿔형상의 에프-세타 렌즈는 중심반경이 평면에 가까워 중심점을 프로브(90)를 통한 중심점을 찾기가 용이하지 않다.

이를 방지하기 위해 본 발명에서는 출사면(53)에 중심마크(55)가 형성되는데, 이 중심마크(55)는 에프-세타 렌즈(50)의 사출성형 시 음각성형을 통해 광의 주주사방향으로 출사면(53)의 양쪽 끝에 미소 돌출되도록 각각 형성된다.

여기서, 출사면(53)에서 주주사방향으로 돌출되도록 형성된 중심마크(55)는 광의 유효면에 벗어나도록 마련되는데, 출사면(53)을 통해 출사되는 광이 중심마크(55)에 의해 간섭 및 산란되는 것이 없도록 하기 위함이다. 그리고, 중심마크(55)는 사각형상으로 도시되어 있으나 마름모, 원형, 트랙형 등 다양한 형상으로 이루어 질 수도 있다.

또한, 도 2b에 도시된 바와 같이 중심마크(55')는 광의 부주사방향으로 출사면(53)의 양쪽 끝에 각각 형성될 수도 있다. 이때의 중심마크(55')는 일실시예와 마찬가지로 출사면(53)으로부터 미소 돌출되도록 형성되며, 광의 유효면에 벗어나도록 마련되어 출사면(53)을 통해 출사되는 광이 중심마크(55')에 의해 간섭 및 산란되는 것이 없도록 한다.

한편, 도 3은 본 발명에 따른 광주사장치에서 에프-세타 렌즈의 중심점을 찾는 과정을 설명하기 위해 도시한 도면이다. 도 3에 도시된 바와 같이 에프-세타 렌즈(50)의 중심점은 프로브(90)를 통해 찾게 되는데, 본 발명에서는 에프-세타 렌 즈(50)의 출사면(53)에 형성된 중심마크(55)를 통해 에프-세타 렌즈(50)의 중심점을 찾는다.

이때, 중심마크(55)는 광의 주주사방향으로 출사면(53)에 미소 돌출되어 있는데, 도시된 바와 같이 프로브(90)가 이동되어 출사면(53)의 양쪽 끝에 각각 형성된 중심마크(55)를 감지한다.

상기와 같이 프로브(90)가 주주사방향으로 미소 돌출된 두 개의 중심마크(55)를 감지하게 되면, 본 발명에서는 각 중심마크(55) 사이의 중심점이 에프-세타 렌즈(50)의 중심점임을 알 수 있다.

또한, 에프-세타 렌즈(50)의 중심점은 도 2b에 도시된 부주사방향으로 출사면(53)에 미소 돌출된 중심마크(55')를 통해서도 찾을 수 있다. 즉, 프로브(90)가 부주사방향으로 미소 돌출된 두 개의 중심마크(55')를 감지함으로써, 이 두 개의 중심마크 (55')사이의 중심점을 찾으면 본 발명의 에프-세타 렌즈(50) 중심점을 찾을 수 있는 것이다.

따라서, 본 발명에서는 출사면(53)에 형성된 중심마크(55,55')에 의해 에프-세타 렌즈(50)의 중심반경이 평면에 가까운 경우라도 프로브(90)가 에프-세타 렌즈(50)의 중심점을 용이하게 찾을 수 있으므로 에프-세타 렌즈(50)의 오차가 다르게 분석되는 것을 사전에 방지할 수 있다. 또한, 본 발명의 중심마크(55,55')는 광의 유효면에 벗어나는 위치에 배치되어 이 중심마크(55,55')로 인해 출사면(53)을 통해 출사되는 광의 간섭 및 산란되는 것을 방지할 수도 있다.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에서는 에프-세타 렌즈에 중심마크를 마련하여 프로브가 용이하게 에프-세타 렌즈의 중심점을 찾을 수 있는 효과가 있다.

Claims (5)

1. 광을 주사하는 광원과, 상기 광원에서 주사된 광을 편향시키는 폴리곤 미러와, 상기 폴리곤 미러에 의해 편향되는 광을 감광드럼에 결상시키는 에프-세타 렌즈를 포함하는 광주사장치에 있어서,

   상기 에프-세타 렌즈에는 상기 에프-세타 렌즈의 중심점을 찾을 수 있도록 상기 폴리곤 미러에서 편향된 광의 주주사방향 또는 부주사방향으로 형성된 중심마크가 구비된 것을 특징으로 하는 광주사장치.
2. 제 1항에 있어서,

   상기 에프-세타 렌즈는 몸체를 이루는 리브와, 상기 리브의 일면에 형성되어 상기 폴리곤 미러에서 편향된 광이 입사되는 입사면과, 상기 리브의 타면에 형성되어 광이 출사되는 출사면을 구비하며,

   상기 중심마크는 광의 주주사방향 또는 부주사방향으로 상기 출사면의 양쪽 끝에 미소 돌출되도록 각각 형성된 것을 특징으로 하는 광주사장치.
3. 제 2항에 있어서,

   상기 중심마크는 상기 출사면에서 상기 출사면의 유효면을 벗어나는 위치에 구비된 것을 특징으로 하는 광주사장치.
4. 제 2항에 있어서,

   상기 광주사장치에는 상기 출사면에 미소 돌출된 각각의 중심마크의 중심점을 감지하여 상기 에프-세타 렌즈의 중심점을 찾는 프로브가 더 구비된 것을 특징으로 하는 광주사장치.
5. 제 2항에 있어서,

   상기 리브는 상기 출사면의 유효면의 표면보다 일정 부분 높게 형성되어 상기 유효면에 스크래치가 일어나는 것을 방지하는 것을 특징으로 하는 광주사장치.

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