KR20080058763A - Apparatus for decompression drying - Google Patents

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KR20080058763A
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신동기
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Abstract

A decompression drying apparatus is provided to reduce the production preparation time and to cope with various models of the LCD panels actively. An upper chamber member is located at the upper portion of a housing and performs a pressure-reduction discharge process. A lower chamber portion is located at the lower portion of the upper chamber portion and performs the pressure-reduction discharge process. A substrate with the coated photosensitive film is moved inward and outward at the lower chamber portion. Plural support pins support the substrate at the pressure-reduction discharge process. A moving member moves the plural support pins. The plural support pins are arrayed at the boundary areas(122) of plural LCD panels(121) included to the substrate. An upper plate is located at the upper chamber portion. A discharge path is formed between the housing and the upper plate. Plural support pins are installed to a lower plate.

Description

감압 건조 장치{Apparatus for decompression drying} Apparatus for decompression drying

도 1은 본 발명에 따른 본 발명에 감압건조장치의 개략도1 is a schematic view of a pressure reduction drying apparatus according to the present invention

도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 지지핀 이동장치의 평면도2 is a plan view of a support pin moving device according to a first embodiment of the present invention;

도 3은 도 2의 A-A'단면도3 is a cross-sectional view taken along the line A-A 'of FIG.

도 4는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 횡축부의 개략도4 is a schematic view of a horizontal axis portion according to the first embodiment of the present invention;

도 5는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 지지핀 이동장치의 평면도5 is a plan view of a support pin moving device according to a second embodiment of the present invention;

도 6는 도 4의 B-B'단면도6 is a cross-sectional view taken along line B-B 'of FIG.

도 7은 본 발명의 제 2 실싱예에 따른 원통부의 개략도7 is a schematic view of a cylindrical portion according to a second example of sealing of the present invention;

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

100 : 감압건조장치 101 : 하우징100: decompression drying device 101: housing

102 : 기판 103 : 하부 챔버부102 substrate 103 lower chamber portion

104 : 상부 챔버부 105 : 하부 프레임104: upper chamber portion 105: lower frame

106 : 제 1 지지핀 107 : 리프트 핀106: first support pin 107: lift pin

108 : 서브 리프트 핀 125 : 횡축부108: sub lift pin 125: the horizontal axis portion

130 : 원통부130: cylindrical portion

본 발명은 감압건조 장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 감압건조 장치에서 기판을 지지하는 지지핀의 위치변경이 가능한 이동장치를 설치하여, 액정패널의 다양한 모델에 대하여 능동적으로 대처하고 생산준비 시간을 단축하는 감압건조 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a decompression drying apparatus, and more particularly, by installing a moving device capable of changing a position of a support pin supporting a substrate in a decompression drying apparatus, to actively cope with various models of a liquid crystal panel and to prepare a production time. It is related with the pressure reduction drying apparatus shortened.

일반적으로 액정표시장치(Liquid Crystal Display)는 투명한 절연 기판 상에 여러 번의 마스크 공정을 통하여 단위 화소를 형성하는 어레이 기판의 제조공정과 여러 번의 마스크 공정을 통하여 적색, 청색, 및 녹색의 컬러필터를 형성하는 컬러필터의 기판 제조공정을 진행한다. 이와 같은 어레이 기판과 컬러필터 기판이 형성되면, 두 개의 기판을 합착하고, 합착기판을 모니터 크기로 절단하는 그라인드 공정 등을 진행한다. In general, a liquid crystal display (LCD) forms a red, blue, and green color filter through a plurality of mask processes and an array substrate manufacturing process for forming a unit pixel through several mask processes on a transparent insulating substrate. The substrate manufacturing process of the color filter is performed. When the array substrate and the color filter substrate are formed, the two substrates are bonded to each other, and a grinding process of cutting the bonded substrate to a monitor size is performed.

액정표시소자의 제조공정 중에서, 마스크 공정을 진행하기 위해서는 광에 민감한 감광막을 기판 상에 도포하고, 마스크를 기판 상에 배열하기 전에 소프트 베이킹이라 불리는 건조과정을 통해 감광막의 용제를 제거하여 감광막의 하부막질과 감광막의 접합특성을 개선한다. 감광막의 용제를 증발시키기 위해서, 감압건조 장치를 사용하며, 감광막의 용제의 증발을 촉진하여, 신속하게 건조시키는 기능을 한다. 그리고, 감광막이 도포된 기판에 마스크를 근접시키고, 자외선을 조사하여 마 스크 상의 패턴을 전사시키고, 현상액으로 현상하여 패턴을 형성한다. In the manufacturing process of the liquid crystal display device, in order to proceed with the mask process, a photosensitive film sensitive to light is applied on the substrate, and before the mask is arranged on the substrate, the solvent of the photosensitive film is removed through a drying process called soft baking to form a lower portion of the photosensitive film. It improves the bonding property between the film quality and the photosensitive film. In order to evaporate the solvent of the photosensitive film, a reduced pressure drying device is used, and it functions to accelerate evaporation of the solvent of the photosensitive film and to dry it quickly. Then, the mask is brought close to the substrate on which the photoresist film is applied, ultraviolet rays are irradiated to transfer the pattern on the mask, and developed with a developer to form a pattern.

일반적으로 감압건조장치는 감압건조장치의 외곽을 구성하는 하우징과, 건조대상의 감광막이 도포되어 있는 기판을 건조시키는 하부 챔버부와, 하부 챔버부에서 건조공정을 수행할 때, 하부 챔버부를 감압상태로 배기시키는 상부 챔버부로 구성된다. 그리고, 하부 챔버부는, 하부 프레임과, 하부 프레임에 의해 지지되며, 기판을 건조할 때, 기판을 지지하는 다수의 지지핀과, 하부 프레임을 관통하고, 상하운동을 하며, 하부 챔버부의 내부에서 기판을 입출시킬 때, 이동을 위해 이송로봇의 암이 들어올 수 있는 공간을 확보하기 위한 다수의 리프트 핀과, 다수의 리프트 핀의 각각의 상부에 설치되며, 기판이 이동될 때 기판의 하부와 접촉하는 다수의 서브 리프트 핀과, 다수의 리프트 핀의 하부에 설치되며, 다수의 리프트 핀을 고정시키는 고정판과, 고정판을 상하로 구동시키는 실린더로 구성된다.In general, the decompression drying apparatus includes a housing constituting the outer portion of the decompression drying apparatus, a lower chamber portion for drying a substrate on which a photosensitive film to be dried is applied, and a lower chamber portion when the drying process is performed in the lower chamber portion. It consists of an upper chamber part to exhaust the furnace. The lower chamber portion is supported by the lower frame and the lower frame, and when the substrate is dried, a plurality of support pins for supporting the substrate, penetrate the lower frame, move upward and downward, and move the substrate inside the lower chamber portion. And a plurality of lift pins to secure a space for the arms of the transfer robot to move in, and to be installed on top of each of the plurality of lift pins, and to contact the bottom of the substrate when the substrate is moved. It is composed of a plurality of sub lift pins, a fixed plate which is installed below the plurality of lift pins, and fixes a plurality of lift pins, and a cylinder which drives the fixed plate up and down.

이와 같은 감압건조장치를 사용하여, 기판을 감압건조시키는 방법은, 감압건조장치에서, 다수의 리프트 핀이 상승하고, 이송로봇에 의해 기판을 반입되어, 다수의 리프트 핀 상에 안착하고, 다수의 리프트 핀이 하강하면서, 기판은 다수의 지지핀 상에 위치하고, 하부 챔버부를 감압 건조하여. 기판 상의 감광막의 용제를 휘발시키는 것에 의해, 건조를 완료한다. 그리고 건조를 완료한 기판은 다수의 리프트 핀이 재차 상승하고, 이송로봇의 암에 의해, 감압건조장치의 외부로 반출된다. In such a pressure-drying apparatus, a method of drying a substrate under reduced pressure includes a plurality of lift pins being lifted up, a substrate being loaded by a transfer robot, and seated on a plurality of lift pins. As the lift pin descends, the substrate is placed on the plurality of support pins, and the lower chamber portion is dried under reduced pressure. Drying is completed by volatilizing the solvent of the photosensitive film on a board | substrate. And the board | substrate which completed drying raises many lift pins again, and is carried out to the exterior of the pressure reduction drying apparatus by the arm of a transfer robot.

그런데, 감광막이 형성되어 기판을 건조할 때, 다수의 지지핀이 접촉한 부분과, 접촉하지 않은 부분은 용제의 휘발속도의 차이로 인해 얼룩이 발생한다. 휘발 속도의 차이는 감광막에 포함되는 응축된 용제에 의한 온도차이에 기인한다. 따라서, 감압건조시에 발생하는 얼룩이 액정패널에 영향을 주지 않도록 하기 위하여, 다수의 지지핀은 액정패널과 액정패널의 경계영역에 배치한다. 그러나, 기판에는 다수의 액정패널을 포함하고, 감압건조장치에서 건조공정을 진행하는 기판의 액정패널이 동일한 크기가 아니라, 종류에 따라 가변적이므로, 다수의 지지핀의 위치가 액정패널의 경계영역과 대응되지 않고, 액정패널의 내부에 위치하여, 액정패널에 얼룩을 발생시킬 수 있다. By the way, when the photosensitive film is formed and the substrate is dried, spots are generated due to the difference in the volatilization speed of the solvent between the parts where the plurality of support pins contact and the parts that do not contact. The difference of the volatilization rate is due to the temperature difference by the condensed solvent contained in the photosensitive film. Therefore, in order to prevent the unevenness generated during the vacuum drying from affecting the liquid crystal panel, a plurality of support pins are disposed at the boundary region of the liquid crystal panel and the liquid crystal panel. However, since the substrate includes a plurality of liquid crystal panels, and the liquid crystal panel of the substrate undergoing the drying process in the vacuum drying apparatus is not the same size but varies depending on the type, the position of the plurality of support pins is determined by the boundary region of the liquid crystal panel. Rather, the liquid crystal panel may be disposed inside the liquid crystal panel to cause spots on the liquid crystal panel.

따라서, 종래기술에서는 하부 프레임 상에 다수의 지지핀의 각각을 자석으로 고정시키고, 액정패널의 종류에 따라, 수작업에 의해 다수의 지지핀의 각각을 이동시켜, 원하는 위치에 고정한다. 일반적으로 감압건조장치에서 사용되는 지지핀은 통상적으로 20 ~ 30 개 정도이며, 수작업으로 교체하는 경우, 교체시간이 과다하게 소비되어, 다양한 제품의 생산에 능동적으로 대응하기 어렵고, 교체작업이 감압장치의 내부에서 이루어지므로, 이물질에 의한 오염의 가능성이 높은 문제가 있다. Therefore, in the prior art, each of the plurality of support pins is fixed with a magnet on the lower frame, and each of the plurality of support pins is manually moved according to the type of the liquid crystal panel to be fixed at a desired position. In general, the support pins used in the decompression drying apparatus are generally about 20 to 30, and when replacing by hand, the replacement time is excessively consumed, so that it is difficult to actively respond to the production of various products, and the replacement operation is a decompression device. Since the inside is made, there is a high possibility of contamination by foreign matter.

본 발명은 감압건조장치에서, 기판을 지지하는 지지핀의 위치변경이 가능한 이동장치를 설치하여, 액정패널의 다양한 모델에 대하여 능동적으로 대처하고 생산준비 시간을 단축하는 감압건조 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a reduced pressure drying apparatus for providing a moving device capable of changing a position of a support pin for supporting a substrate in a reduced pressure drying apparatus to actively cope with various models of a liquid crystal panel and to shorten a production preparation time. It is done.

특히 기판을 지지하는 다수의 지지핀을 횡방향으로 연결시키는 다수의 횡축부와, 다수의 횡축부를 연결시키는 종축부 및 종축부와 연결되는 구동부에 의해서, 다수의 지지핀을 액정패널의 경계영역에 일괄적 또는 개별적으로 배치시키는 것에 의해 생산준비 시간을 단축시키고, 액정패널의 다양한 모델에 능동적으로 대처할 수 있는 감압건조장치을 제공하는 것을 목적으로 한다.In particular, the plurality of support pins are connected to the boundary region of the liquid crystal panel by a plurality of horizontal axis portions connecting the plurality of support pins supporting the substrate in the horizontal direction, and a vertical axis portion connecting the plurality of horizontal axis portions and a driving portion connected to the vertical axis portions. It is an object of the present invention to provide a reduced pressure drying apparatus capable of shortening the production preparation time by batch or individually disposing and actively coping with various models of the liquid crystal panel.

또한, 기판을 지지하는 다수의 지지핀을 다수의 행으로 구성하여 횡방향으로 연결시키는 다수의 원통부와, 다수의 원통부를 연결시키는 종축부와 종축부와 연결되는 구동부에 의해서, 다수의 지지핀을 액정패널의 경계영역에 일괄적 또는 개별적으로 배치시키는 것에 의해 생산준비 시간을 단축시키고, 액정패널의 다양한 모델에 능동적으로 대처할 수 있는 감압건조장치을 제공하는 것을 목적으로 한다.In addition, a plurality of support pins are formed by a plurality of cylinders configured to form a plurality of support pins for supporting a substrate in a plurality of rows and connected in a lateral direction, and a drive portion connected to a longitudinal axis portion and a longitudinal axis portion to connect the plurality of cylindrical portions. It is an object of the present invention to provide a reduced pressure drying apparatus capable of shortening the production preparation time by collectively or individually disposing them in the boundary region of the liquid crystal panel and actively coping with various models of the liquid crystal panel.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 실시예에 따른 감압건조장치는, 하우징; 상기 하우징의 상부에 위치하며, 감압배기를 수행하는 상부 챔버부; 상기 상부 챔버부의 하부에 위치하고, 감광막이 도포된 기판이 입출되며, 감압건조를 수행하는 하부 챔버부; 감압건조 공정에서, 상기 기판을 지지하는 다수의 지지핀; 상기 다수의 지지핀을 이동시키는 이동수단;을 포함하는 것을 특징으로 한다.Decompression drying apparatus according to an embodiment of the present invention to achieve the above object, the housing; An upper chamber part positioned above the housing and configured to perform a reduced pressure exhaust; A lower chamber part positioned below the upper chamber part and receiving a substrate coated with a photoresist film, and performing reduced pressure drying; In the vacuum drying process, a plurality of support pins for supporting the substrate; And moving means for moving the plurality of support pins.

상기와 같은 감압건조장치에 있어서, 상기 이동수단에 의해서, 상기 다수의 지지핀을 상기 기판에 포함되는 있는 다수의 액정패널의 경계영역에 배열하는 것을 특징으로 한다.In the reduced pressure drying apparatus as described above, the plurality of support pins are arranged in the boundary region of the plurality of liquid crystal panels included in the substrate by the moving means.

상기와 같은 감압건조장치에 있어서, 상기 상부 챔버부에 설치되는 상부 플레이트; 상기 하우징과 상기 상부 플레이트의 사이에 형성되는 배기통로; 상기 다 수의 지지핀이 설치되는 하부 플레이트;를 포함하는 것을 특징으로 한다.In the reduced pressure drying apparatus as described above, the upper plate is installed in the upper chamber; An exhaust passage formed between the housing and the upper plate; And a lower plate on which the plurality of support pins are installed.

상기와 같은 감압건조장치에 있어서, 상기 다수의 지지핀은, 상기 다수의 지지핀을 횡방향으로 연결시킨 다수의 횡축부; 상기 다수의 횡축부의 각각을 연결시키는 종축부; 상기 종축부에 연결되며, 상기 다수의 횡축부의 이동을 위한 구동부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.In the reduced pressure drying apparatus as described above, the plurality of support pins, a plurality of horizontal shaft portion connecting the plurality of support pins in the horizontal direction; A vertical axis portion connecting each of the plurality of horizontal axis portions; And a driving part connected to the longitudinal axis part and configured to move the plurality of horizontal axis parts.

상기와 같은 감압건조장치에 있어서, 상기 구동부에 의해, 상기 다수의 횡축부를 일괄적 또는 개별적으로 구동시키는 것을 특징으로 한다.In the above-described pressure reduction drying apparatus, the plurality of horizontal shaft portions are collectively or individually driven by the driving portion.

상기와 같은 감압건조장치에 있어서, 상기 하부 플레이트는, 상기 다수의 횡축부가 설치되는 다수의 제 1 개구부; 상기 종축부가 설치되는 제 2 개구부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.In the reduced pressure drying apparatus as described above, the lower plate, a plurality of first openings in which the plurality of horizontal shaft portions are installed; And a second opening in which the longitudinal axis portion is installed.

상기와 같은 감압건조장치에 있어서, 상기 다수의 지지핀은, 상기 다수의 지지핀을 횡방향으로 연결시킨 다수의 원통부; 상기 다수의 횡축부의 각각을 연결시키는 종축부; 상기 종축부에 연결되며, 상기 다수의 횡축부의 이동을 위한 구동부; 를 포함하는 것을 특징으로 한다.In the reduced pressure drying apparatus as described above, the plurality of support pins, a plurality of cylindrical portions connecting the plurality of support pins in the transverse direction; A vertical axis portion connecting each of the plurality of horizontal axis portions; A driving part connected to the vertical axis part and configured to move the plurality of horizontal axis parts; Characterized in that it comprises a.

상기와 같은 감압건조장치에 있어서, 상기 구동부에 의해, 상기 다수의 원통부를 일괄적 또는 개별적으로 구동시키는 것을 특징으로 한다.In the above-described pressure reduction drying apparatus, the plurality of cylinders are collectively or individually driven by the driving unit.

상기와 같은 감압건조장치에 있어서, 상기 다수의 원통부의 각각은 편심축에 의해 회전되는 것을 특징으로 한다.In the decompression drying apparatus as described above, each of the plurality of cylindrical portions is rotated by an eccentric shaft.

상기와 같은 감압건조장치에 있어서, 상기 다수의 원통부의 각각은 상기 다수의 지지핀이 다수의 행으로 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.In the above-mentioned pressure reduction drying apparatus, each of the plurality of cylindrical portions is characterized in that the plurality of support pins are provided in a plurality of rows.

상기와 같은 감압건조장치에 있어서, 상기 구동부는 실린더 또는 모터인 것을 특징으로 한다.In the reduced pressure drying apparatus as described above, the driving unit is a cylinder or a motor.

상기와 같은 감압건조장치에 있어서, 상기 하우징의 하부에 설치되며, 상기 기판을 대기시키는 대기부를 포함하는 것을 특징으로 한다.In the reduced pressure drying apparatus as described above, it is installed on the lower portion of the housing, characterized in that it comprises a waiting portion for waiting the substrate.

상기와 같은 감압건조장치에 있어서, 상기 하부 플레이트를 관통하며, 상기 기판을 입출시킬 때 이송로봇의 암이 들어올 수 있는 공간을 확보하기 위한 다수의 리프트 핀을 포함하는 것을 특징으로 한다.In the decompression drying apparatus as described above, a plurality of lift pins penetrate the lower plate and include a plurality of lift pins to secure a space for the arm of the transfer robot to enter and exit the substrate.

상기와 같은 감압건조장치에 있어서, 상기 다수의 리프트 핀의 각각의 상부에 상기 기판의 하부와 접촉하는 다수의 서브 리프트 핀을 포함하는 것을 특징으로 한다.In the reduced pressure drying apparatus as described above, each of the plurality of lift pins is characterized in that it comprises a plurality of sub lift pins in contact with the bottom of the substrate.

상기와 같은 감압건조장치에 있어서, 상기 기판의 외곽부와 대응되는 상기 하부 플레이트 상에 설치되며, 고정되어 있는 다수의 제 2 지지핀을 포함하는 것을 특징으로 한다.In the reduced pressure drying apparatus as described above, it is provided on the lower plate corresponding to the outer portion of the substrate, characterized in that it comprises a plurality of second support pins that are fixed.

이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 본 발명에 감압건조장치의 개략도이고, 도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 지지핀 이동장치이고, 도 3은 도 2의 A-A'단면도이고 도 4는 본 발명의 제 1 실시예의 횡축부의 개략도이다.1 is a schematic diagram of a pressure reduction drying apparatus according to the present invention, Figure 2 is a support pin moving device according to a first embodiment of the present invention, Figure 3 is a cross-sectional view taken along line A-A 'of FIG. It is a schematic diagram of the horizontal axis part of 1st Example of this invention.

감압건조장치(100)는 감압건조장치(100)의 외곽을 구성하는 하우징(101)과, 건조대상의 감광막이 도포되어 있는 기판(102)을 건조시키는 하부 챔버부(103)와, 하부 챔버부(103)에서 건조공정을 수행할 때, 하부 챔버부(103)를 감압상태로 배기시키는 상부 챔버부(104)와, 카세트(도시하지 않음)로부터 기판(102)을 하부 챔버부(103)에 반입하기 전에 대기시키는 대기부(140)로 구성된다.The pressure reduction drying apparatus 100 includes a housing 101 constituting the outer portion of the pressure reduction drying apparatus 100, a lower chamber portion 103 for drying the substrate 102 on which the photosensitive film to be dried is applied, and a lower chamber portion. When performing the drying process at 103, the upper chamber portion 104 for evacuating the lower chamber portion 103 under reduced pressure, and the substrate 102 from the cassette (not shown) to the lower chamber portion 103. It consists of the waiting part 140 which waits before carrying in.

하부 챔버부(103)는, 하부 프레임(105)과, 하부 프레임(105)에 의해 지지되며, 기판(102)을 건조할 때, 기판(102)을 지지하는 다수의 제 1 지지핀(106)과, 기판(102)의 외곽부를 지지하는 다수의 제 2 지지핀(117)과, 하부 프레임(105)을 관통하고, 상하운동을 하며, 하부 챔버부(103)의 내부에서 기판(102)을 입출시킬 때, 이동을 위해 이송로봇의 암(도시하지 않음)이 들어올 수 있는 공간을 확보하기 위한 다수의 리프트 핀(107)과, 다수의 리프트 핀(107)의 각각의 상부에 설치되며, 기판(102)이 이동될 때 기판(102)의 하부와 접촉하는 다수의 서브 리프트 핀(108)과, 다수의 리프트 핀(107)의 하부에 설치되며, 다수의 리프트 핀(107)을 고정시키는 고정판(109)과, 고정판(109)을 상하로 구동시키는 제 1 실린더(110)로 구성된다.The lower chamber part 103 is supported by the lower frame 105 and the lower frame 105, and a plurality of first support pins 106 that support the substrate 102 when the substrate 102 is dried. And a plurality of second support pins 117 supporting the outer portion of the substrate 102 and the lower frame 105 to vertically move and move the substrate 102 inside the lower chamber 103. When entering and exiting, a plurality of lift pins 107 and a plurality of lift pins 107 are installed on top of each of the plurality of lift pins 107 so as to secure a space in which an arm (not shown) of the transfer robot can enter for movement. A plurality of sub lift pins 108 that are in contact with the lower portion of the substrate 102 when the 102 is moved, and a fixed plate that is installed under the plurality of lift pins 107 and fixes the plurality of lift pins 107. 109 and the first cylinder 110 for driving the fixed plate 109 up and down.

상부 챔버부(104)와 하부 챔버부(103)의 사이에는 기판(102)이 입출되고, 안착되는 건조부(111)가 설치되고, 상부 챔버부(104)는 상부 플레이트(112)와, 상부 플레이트(112)와 하우징(101)의 사이의 배기통로(112)와, 상부 플레이트(112)의 상부의 하우징(101)에 설치되는 배기구(113)로 구성된다. Between the upper chamber portion 104 and the lower chamber portion 103, a substrate 102 is entered and installed, and a drying portion 111 is mounted thereon. The upper chamber portion 104 includes an upper plate 112 and an upper portion. An exhaust passage 112 between the plate 112 and the housing 101 and an exhaust port 113 provided in the housing 101 of the upper portion of the upper plate 112.

하우징(101)의 하부에는 하부 플레이트(105)를 상하로 구동시키기 위한 모터(114)와, 모터(114)에 연결되는 연결축(115)와, 연결축(115)의 동력을 전달받아 하부 플레이트(105)를 상하로 이동시키기 위한 상하 구동축(116)이 설치되고, 대기부(140)는 기판(102)을 안착시키는 지지대(118)과, 지지대(118)의 상부에 설치되는 다수의 대기 지지핀(119)과, 지지대(118)를 고정시키는 고정 프레임(120)으로 구성된다.Under the housing 101, the motor 114 for driving the lower plate 105 up and down, the connecting shaft 115 connected to the motor 114, and the lower shaft plate receives power from the connecting shaft 115. Up and down drive shafts 116 are installed to move 105 up and down, and the standby unit 140 includes a support 118 for seating the substrate 102 and a plurality of air supports installed on the support 118. It is composed of a pin 119, a fixed frame 120 for fixing the support 118.

도 1과 같은 감압건조장치(100)에서 감광막이 도포되어 있는 기판(102)의 용제를 휘발시키는 과정은 다음과 같다. In the reduced pressure drying apparatus 100 as shown in FIG. 1, the process of volatilizing the solvent of the substrate 102 to which the photosensitive film is applied is as follows.

감압건조장치(100)에 다수의 리프트 핀(107)이 상승하고, 이송로봇에 의해 기판(102)이 반입되어, 다수의 리프트 핀(107) 상에 안착한다. 그리고, 다수의 리프트 핀(107)이 하강하면서, 기판(102)은 다수의 제 1 지지핀(106)과 다수의 제 2 지지핀(117) 상에 위치하고, 건조부(111)를 감압 건조하여. 기판(102) 상의 감광막의 용제(sovent)를 휘발시키는 것에 의해, 건조를 완료한다. 건조를 완료한 기판(102)은 다수의 리프트 핀(107)이 상승하고, 이송로봇의 암에 의해, 감압건조장치(100)의 외부로 반출된다. A plurality of lift pins 107 are raised to the pressure reduction drying apparatus 100, the substrate 102 is loaded by the transfer robot, and seated on the plurality of lift pins 107. As the plurality of lift pins 107 descend, the substrate 102 is positioned on the plurality of first support pins 106 and the plurality of second support pins 117, and the drying unit 111 is dried under reduced pressure. . Drying is completed by volatilizing the solvent of the photosensitive film on the board | substrate 102. FIG. On the substrate 102 that has been dried, a plurality of lift pins 107 are lifted up and carried out by the transfer robot arm to the outside of the reduced pressure drying apparatus 100.

그런데, 감광막이 형성되어 기판(102)을 건조할 때, 다수의 제 1 지지핀(106)과 다수의 제 2 지지핀(117)이 접촉한 부분과, 접촉하지 않은 부분은 용제의 휘발속도의 차이로 인해 얼룩이 발생한다. 휘발속도의 차이는 감광막에 포함되 는 응축된 용제에 의한 온도차이에 기인한다. 따라서, 감압건조시에 발생하는 얼룩이 액정패널(121)에 영향을 주지 않도록 하기 위하여, 다수의 제 1 지지핀(106)은 액정패널(121)과 액정패널(121)의 경계영역(122)에 배치하고, 다수의 제 2 지지핀(117)은 기판(102)의 외곽부(123)에 배치한다.By the way, when the photosensitive film is formed to dry the substrate 102, the portion where the plurality of first support pins 106 and the plurality of second support pins 117 come into contact with each other, and the portion that does not come into contact with the volatilization rate of the solvent The difference is due to staining. The difference in volatilization rate is due to the temperature difference due to the condensed solvent contained in the photoresist. Therefore, the first support pins 106 are disposed on the boundary region 122 of the liquid crystal panel 121 and the liquid crystal panel 121 in order to prevent stains generated during the vacuum drying from affecting the liquid crystal panel 121. The plurality of second support pins 117 are disposed on the outer portion 123 of the substrate 102.

그러나, 기판(102)에는 다수의 액정패널(121)을 포함하고, 감압건조장치(100)에서 건조공정을 진행하는 기판(102)의 액정패널(121)이 동일한 크기가 아니라, 종류에 따라 가변적이므로, 다수의 제 1 지지핀(106)의 위치가 액정패널(121)의 경계영역(122)과 대응되지 않고, 액정패널(121)의 내부에 위치하여, 액정패널(121)에 얼룩을 발생시킬 수 있다. 그리고, 다수의 제 2 지지핀(117)은 기판(102)의 외곽부(123)에 위치하는 것으로, 기판(102)의 포함되는 액정패널(121)의 종류가 변하여도, 외곽부(123)에는 영향을 주지 않는다.However, the substrate 102 includes a plurality of liquid crystal panels 121, and the liquid crystal panel 121 of the substrate 102 undergoing a drying process in the vacuum drying apparatus 100 is not the same size, but varies according to the type. Therefore, the positions of the plurality of first support pins 106 do not correspond to the boundary region 122 of the liquid crystal panel 121, but are located inside the liquid crystal panel 121, thereby causing stains on the liquid crystal panel 121. You can. In addition, the plurality of second support pins 117 are positioned at the outer portion 123 of the substrate 102, and the outer portion 123 may be changed even if the type of the liquid crystal panel 121 included in the substrate 102 changes. Does not affect.

따라서, 다양한 종류의 액정패널(121)에 대응되어 다수의 제 1 지지핀(106)을 재배치하기 위하여, 종래기술에서는 하부 프레임(105) 상에 다수의 제 1 지지핀(106)의 각각을 자석으로 고정시키고, 액정패널(121)의 종류에 따라, 수작업에 의해 다수의 제 1 지지핀(106)의 각각을 이동시켜, 원하는 위치에 고정하였으나, 교체시간이 과다하게 소비되어, 생산성이 저하되고, 또한 교체작업이 감압장치의 내부에서 이루어지므로, 이물질에 의한 오염의 가능성이 높은 문제가 있었다. Accordingly, in order to rearrange the plurality of first support pins 106 corresponding to the various types of liquid crystal panels 121, in the prior art, each of the plurality of first support pins 106 on the lower frame 105 may be magnetized. The plurality of first supporting pins 106 were moved by hand and fixed at a desired position according to the type of the liquid crystal panel 121, but the replacement time was excessively consumed, resulting in reduced productivity. In addition, since replacement work is performed inside the decompression device, there is a high possibility of contamination by foreign matter.

통상적으로 제 1 지지핀(106)은 20 ~ 30 개 정도를 설치하여 사용하는 것으로, 다수의 제 1 지지핀(106)을 동시에 원하는 위치로 재배치하기 위하여 본 발명의 제 1 실시예 및 제 2 실시예에서는 일괄적으로 다수의 제 1 지지핀(106)을 이동시키는 방법을 창안하였다. Typically, the first support pins 106 are installed by using about 20 to 30, and the first and second implementations of the present invention to relocate the plurality of first support pins 106 to a desired position at the same time. In the example, a method of moving a plurality of first support pins 106 in a batch has been devised.

도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 다수의 제 1 지지핀의 이동장치에 관한 것으로, 크기가 다른 액정패널(121)의 감압건조 공정을 수행하기 위하여, 다수의 제 1 지지핀(106)을 일괄적으로 이동시켜, 액정패널(121)의 경계영역(122)에 위치하도록 하는 지지핀 이동장치에 대하여 설명하면 다음과 같다.FIG. 2 relates to a moving device of a plurality of first support pins according to a first embodiment of the present invention. In order to perform a pressure reduction drying process of a liquid crystal panel 121 having a different size, a plurality of first support pins 106 are provided. ) Will be described as follows. The support pin shifting device for collectively moving the plurality of support pins to be positioned at the boundary region 122 of the liquid crystal panel 121 will be described.

하부 플레이트(105)의 상부에는, 횡방향으로 다수의 제 1 개구부(124)을 설치하고, 각각의 제 1 개구부(124)에는 다수의 제 1 지지핀(106)을 연결시키는 횡축부(125)와, 제 1 개구부(124)와 수직하며, 각각의 횡축부(125)를 연결하는 종축부(126)가 설치되는 제 2 개구부(127)를 형성한다. 종축부(126)에는 다수의 제 1 지지핀(106)을 이동시키기 위한 제 2 실린더(128)를 설치한다. 그리고, 다수의 제 1 개구부(124)는 다수의 제 1 지지핀(106)이 충분히 이동할 수 있는 공간을 확보하고 있어, 다른 종류의 액정패널(121)을 형성되는 기판(102)을 사용하여도, 액정패널(121)의 경계영역(122)에 배열하는 것이 가능하다. 그리고, 다수의 횡축부(125)의 각각은 개별적으로 동작하여 이동할 수 있도록 구성할 수 있다. 횡축부(125)의 각각이 별도로 이동하는 것에 의해 액정패널(121)의 크기에 더욱 능동적으로 다수 의 제 1 지지핀(106)을 재배치할 수 있다. 도면에서는 도시하지 않았지만, 다수의 횡축부(125)의 각각은 별도의 종축부(126)와 제 2 실린더(128)에 의해 구동한다. 그리고, 도 4는 본발명의 제 1 실시예의 횡축부의 개략도이고, 횡축부(125)는 제 1 개구부(124)의 내부에 설치되는 횡축(170)과 횡축(170) 상에 설치되는 다수의 제 1 지지핀(106)으로 구성된다. On the upper portion of the lower plate 105, a plurality of first openings 124 are provided in the transverse direction, and each of the first openings 124 is provided with a horizontal shaft portion 125 connecting a plurality of first supporting pins 106 to each other. And a second opening portion 127 perpendicular to the first opening portion 124 and provided with a vertical axis portion 126 connecting the horizontal shaft portions 125. The vertical shaft portion 126 is provided with a second cylinder 128 for moving the plurality of first support pins 106. In addition, the plurality of first openings 124 have a space in which the plurality of first support pins 106 can be sufficiently moved, and thus, even when a substrate 102 having a different type of liquid crystal panel 121 is used, It is possible to arrange in the boundary region 122 of the liquid crystal panel 121. In addition, each of the plurality of horizontal shaft portions 125 may be configured to be movable by moving individually. By moving each of the horizontal axes 125 separately, the plurality of first support pins 106 may be more actively relocated to the size of the liquid crystal panel 121. Although not shown in the figure, each of the plurality of horizontal shaft portions 125 is driven by separate longitudinal shaft portions 126 and the second cylinder 128. 4 is a schematic view of the horizontal axis portion of the first embodiment of the present invention, wherein the horizontal axis portion 125 is formed on the horizontal axis 170 and the horizontal axis 170 installed inside the first opening portion 124. It consists of one support pin 106.

도 2와 같은 다수의 제 1 지지핀(106)에 대한 이동장치를 사용하는 감압건조장치(100)에서는, 제 2 실린더(128)를 구동시켜, 다수의 제 1 지지핀(106)을 액정패널(121)의 경계영역(122)에 배치한 후에, 다수의 리프트 핀(107)이 상승하고, 이송로봇에 의해 기판(102)을 반입되어, 다수의 리프트 핀(107) 상에 안착한다. 그리고, 다수의 리프트 핀(107)이 하강하면서, 기판(102)은 다수의 제 1 지지핀(106)과 다수의 제 2 지지핀(117) 상에 위치하고, 건조부(111)를 감압 건조하여. 기판(102) 상의 감광막의 용제를 휘발시키는 것에 의해, 건조를 완료한다. 건조를 완료한 기판(102)은 다수의 리프트 핀(107)이 상승하고, 이송로봇의 암에 의해, 감압건조장치(100)의 외부로 반출된다. 그리고, 크기가 다른 액정패널(121)을 가진 기판(102)에 대한 감압건조 공정을 수행할 때는 이와 같은 다수의 제 1 지지핀(106)의 재배치 과정을 반복한다.In the reduced pressure drying apparatus 100 using the moving device for the plurality of first support pins 106 as shown in FIG. 2, the second cylinder 128 is driven to drive the plurality of first support pins 106 in the liquid crystal panel. After being placed in the boundary area 122 of 121, the plurality of lift pins 107 are raised, and the substrate 102 is loaded by the transfer robot and seated on the plurality of lift pins 107. As the plurality of lift pins 107 descend, the substrate 102 is positioned on the plurality of first support pins 106 and the plurality of second support pins 117, and the drying unit 111 is dried under reduced pressure. . Drying is completed by volatilizing the solvent of the photosensitive film on the board | substrate 102. FIG. On the substrate 102 that has been dried, a plurality of lift pins 107 are lifted up and carried out by the transfer robot arm to the outside of the reduced pressure drying apparatus 100. In addition, when the vacuum drying process is performed on the substrate 102 having the liquid crystal panel 121 having different sizes, the repositioning process of the plurality of first support pins 106 is repeated.

도 2와 같은 다수의 제 1 지지핀(106)에 대한 이동장치에 의해, 기판(102)을 건조부(111)에 반입하기 전에, 다수의 제 1 지지 고정핀(106)을 액정패널(121)의 경계영역(122)에 빠른 시간에 배치시킬 수 있으며, 또한 감압건조장치(100)의 내부 에서 수작업에 의한 교체작업을 하지 않기 때문에, 이물질에 의한 오염이 방지된다. By moving the plurality of first support pins 106 as shown in FIG. 2, the plurality of first support pins 106 may be transferred to the liquid crystal panel 121 before the substrate 102 is brought into the drying unit 111. Since it can be placed in the boundary region 122 of the () quickly and also does not replace the manual operation in the interior of the pressure reduction drying apparatus 100, contamination by foreign matters is prevented.

도 5는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 지지핀 이동장치이고, 도 6은 도 4의 B-B'단면도이고, 도 7은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 원통부의 개략도이다.Figure 5 is a support pin moving device according to a second embodiment of the present invention, Figure 6 is a cross-sectional view taken along line BB 'of Figure 4, Figure 7 is a schematic view of a cylindrical portion according to a second embodiment of the present invention.

하부 플레이트(105)의 상부에는, 횡방향으로 다수의 제 1 개구부(124)를 형성하고, 각각의 제 1 개구부(124)에는 원통부(130)가 설치되고, 원통부(130)에는 다수의 행으로 다수의 제 1 지지핀(106)이 배치되고, 각각의 원통부(130)를 연결하는 종축부(126)를 설치하기 위한 제 2 개구부(127)를 형성한다. 종축부(126)에는 다수의 원통부(130)를 회전시키기 위한 제 2 실린더(128)를 설치한다. 물론 제 2 실린더(128) 대신 모터를 설치할 수 있다. 그리고, 다수의 제 1 개구부(124)의 각각에는 원통부(130)이 회전할 수 있는 충분한 공간을 확보하고 있어, 다른 종류의 액정패널(121)을 형성되는 기판(102)을 사용하여도, 액정패널(121)의 경계영역(122)에 배열하는 것이 가능하다. In the upper portion of the lower plate 105, a plurality of first openings 124 are formed in the transverse direction, each of the first openings 124 is provided with a cylindrical portion 130, a plurality of cylindrical portions 130 A plurality of first support pins 106 are arranged in a row, and form a second opening 127 for installing a longitudinal axis portion 126 connecting each cylindrical portion 130. The vertical axis portion 126 is provided with a second cylinder 128 for rotating the plurality of cylindrical portions 130. Of course, a motor may be installed instead of the second cylinder 128. In addition, even if each of the plurality of first openings 124 has a sufficient space for the cylindrical portion 130 to rotate, a substrate 102 having a different type of liquid crystal panel 121 is used, It is possible to arrange in the boundary region 122 of the liquid crystal panel 121.

그리고, 원통부(130)는 편심축(131)에 의해 회전하고, 원통부(130) 상에는 다수의 행으로 다수의 제 1 지지핀(106)이 설치되어 있어, 원통부(130)의 회전에 의해, 다수의 제 1 지지핀(106)의 위치가 변하게 된다. 다시 말하면, 원통부(130)의 상에는 제 1 행의 다수의 제 1 지지핀(106)으로 기판(102)을 지지한 다음에 원통부(130)를 편심 회전시켜, 제 2 행의 다수의 제 1 지지핀(106)으로 기판(102)을 지지하게 하면, 제 1 행과 제 2 행은 동일한 위치가 아니라, 제 1 행과 제 2 행의 사이는 일정한 간격을 가지게 된다. 원통부(130)의 편심 회전에 의해, 다수의 제 1 지지핀(106)의 위치를 이동시켜 액정패널(121)의 경계영역(122)에 배열하는 것이 가능하다. 그리고 도 7은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 원통부의 개략도이며, 원통부(130)은 편심축(131)에 의해 회전하며, 원통부(130)의 표면에는 다수 행으로 다수의 제 1 지지핀(106)이 설치되어 있다. 또한 원통부(130)와 종축부(126)의 사이에는 원통부(130)의 회전을 위하여 직선운동을 회전으로 변환시키는 베벨기어 등이 설치할 수 있다. The cylindrical portion 130 is rotated by the eccentric shaft 131, and a plurality of first support pins 106 are provided on the cylindrical portion 130 in a plurality of rows, so that the cylindrical portion 130 is rotated. As a result, the positions of the plurality of first support pins 106 are changed. In other words, on the cylindrical portion 130, the substrate 102 is supported by the plurality of first support pins 106 in the first row, and then the cylindrical portion 130 is eccentrically rotated, so that the plurality of second rows in the second row are supported. When the substrate 102 is supported by the first support pin 106, the first row and the second row are not at the same position but have a predetermined distance between the first row and the second row. By the eccentric rotation of the cylindrical portion 130, it is possible to move the position of the plurality of first support pins 106 and arrange them in the boundary region 122 of the liquid crystal panel 121. And Figure 7 is a schematic view of a cylindrical portion according to a second embodiment of the present invention, the cylindrical portion 130 is rotated by the eccentric shaft 131, the surface of the cylindrical portion 130, the plurality of first support in a number of rows The pin 106 is provided. In addition, a bevel gear or the like may be installed between the cylindrical portion 130 and the longitudinal axis portion 126 to convert linear motion into rotation for rotation of the cylindrical portion 130.

따라서, 원통부(130) 상에 설치되는 다수의 제 1 지지핀(106)의 다수의 행의 간격은 액정패널(121)의 종류에 대응되도록 유지한다. 그리고, 다수의 원통부(130)의 각각은 개별적으로 동작하여 이동할 수 있도록 구성할 수 있다. 원통부(130)의 각각이 별도로 이동하는 것에 의해 액정패널(121)의 크기에 더욱 능동적으로 다수의 제 1 지지핀(106)을 재배치할 수 있다. 도면에서는 도시하지 않았지만, 다수의 원통부(130)의 각각은 별도의 종축부(126)와 제 2 실린더(128)에 의해 구동한다. Therefore, the interval of the plurality of rows of the plurality of first support pins 106 provided on the cylindrical portion 130 is maintained to correspond to the type of the liquid crystal panel 121. In addition, each of the plurality of cylindrical parts 130 may be configured to move by moving individually. By moving each of the cylindrical portions 130 separately, the plurality of first support pins 106 may be rearranged more actively in the size of the liquid crystal panel 121. Although not shown in the figure, each of the plurality of cylindrical portions 130 is driven by a separate longitudinal axis portion 126 and the second cylinder 128.

도 5와 같은 다수의 제 1 지지핀(106)에 대한 이동장치를 사용하는 감압건조장치(100)에서는, 제 2 실린더(128)에 의한 다수의 원통부(130)를 구동시켜, 다수의 제 1 지지핀(106)을 액정패널(121)의 경계영역(122)에 배치한 후에, 다수의 리프트 핀(107)이 상승하고, 이송로봇에 의해 기판(102)을 반입되어, 다수의 리프트 핀(107) 상에 안착한다. 그리고, 다수의 리프트 핀(107)이 하강하면서, 기판(102)은 다수의 제 1 지지핀(106)과 다수의 제 2 지지핀(117) 상에 위치하고, 건조부(111)를 감압 건조하여. 기판(102) 상의 감광막의 용제를 휘발시키는 것에 의해, 건조를 완료한다. 건조를 완료한 기판(102)은 다수의 리프트 핀(107)이 상승하고, 이송로봇의 암에 의해, 감압건조장치(100)의 외부로 반출된다. 그리고, 크기가 다른 액정패널(121)을 가진 기판(102)에 대한 감압건조 공정을 수행할 때는 이와 같은 다수의 제 1 지지핀(106)의 재배치 과정을 반복한다.In the reduced pressure drying apparatus 100 using the movement device for the plurality of first support pins 106 as shown in FIG. 5, the plurality of cylindrical portions 130 are driven by the second cylinder 128, thereby 1 After arranging the support pins 106 in the boundary region 122 of the liquid crystal panel 121, the plurality of lift pins 107 are raised, and the substrate 102 is loaded by the transfer robot, and the plurality of lift pins is lifted. It rests on 107. As the plurality of lift pins 107 descend, the substrate 102 is positioned on the plurality of first support pins 106 and the plurality of second support pins 117, and the drying unit 111 is dried under reduced pressure. . Drying is completed by volatilizing the solvent of the photosensitive film on the board | substrate 102. FIG. On the substrate 102 that has been dried, a plurality of lift pins 107 are lifted up and carried out by the transfer robot arm to the outside of the reduced pressure drying apparatus 100. In addition, when the vacuum drying process is performed on the substrate 102 having the liquid crystal panel 121 having different sizes, the repositioning process of the plurality of first support pins 106 is repeated.

본 발명의 실시예에 따른 진공증착기의 박막두께 측정장치는 다음과 같은 효과가 있다.Apparatus for measuring thin film thickness of a vacuum evaporator according to an embodiment of the present invention has the following effects.

본 발명에서는 다수의 지지핀을 횡방향으로 연결하는 횡축부 또는 원통부를 설치하고, 횡축부 또는 원통부의 각각을 종축부 및 이동장치에 연결하여, 액정패널의 크기에 따라, 빠른 시간 내에 다수의 지지핀을 일괄적으로 이동시켜 재배치가 가능하여 생산성을 개선할 수 있으며, 감압건조장치의 내부에서 수작업에 의한 교체작업을 하지 않기 때문에, 이물질에 의한 오염이 방지되는 효과가 있다.In the present invention, a horizontal axis portion or a cylindrical portion for connecting a plurality of support pins in the horizontal direction is provided, and each of the horizontal axis portion or the cylindrical portion is connected to the vertical axis portion and the moving device, depending on the size of the liquid crystal panel, a plurality of support in a short time The pins can be collectively moved and repositioned to improve productivity, and since there is no manual replacement work inside the decompression drying apparatus, contamination by foreign matters can be prevented.

Claims (15)

하우징;housing; 상기 하우징의 상부에 위치하며, 감압배기를 수행하는 상부 챔버부;An upper chamber part positioned above the housing and configured to perform a reduced pressure exhaust; 상기 상부 챔버부의 하부에 위치하고, 감광막이 도포된 기판이 입출되며, 감압건조를 수행하는 하부 챔버부;A lower chamber part positioned below the upper chamber part and receiving a substrate coated with a photoresist film, and performing reduced pressure drying; 감압건조 공정에서, 상기 기판을 지지하는 다수의 지지핀;In the vacuum drying process, a plurality of support pins for supporting the substrate; 상기 다수의 지지핀을 이동시키는 이동수단;Moving means for moving the plurality of support pins; 을 포함하는 것을 특징으로 하는 감압건조장치.Decompression drying apparatus comprising a. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 이동수단에 의해서, 상기 다수의 지지핀을 상기 기판에 포함되는 있는 다수의 액정패널의 경계영역에 배열하는 것을 특징으로 하는 감압건조장치.And said moving means arranges said plurality of support pins at boundary regions of said plurality of liquid crystal panels included in said substrate. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 상부 챔버부에 설치되는 상부 플레이트;An upper plate installed in the upper chamber part; 상기 하우징과 상기 상부 플레이트의 사이에 형성되는 배기통로;An exhaust passage formed between the housing and the upper plate; 상기 다수의 지지핀이 설치되는 하부 플레이트;A lower plate on which the plurality of support pins are installed; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 감압건조장치.Decompression drying apparatus comprising a. 제 3 항에 있어서, The method of claim 3, wherein 상기 다수의 지지핀은, The plurality of support pins, 상기 다수의 지지핀을 횡방향으로 연결시킨 다수의 횡축부;A plurality of horizontal shaft portions connecting the plurality of support pins in a horizontal direction; 상기 다수의 횡축부의 각각을 연결시키는 종축부;A vertical axis portion connecting each of the plurality of horizontal axis portions; 상기 종축부에 연결되며, 상기 다수의 횡축부의 이동을 위한 구동부;A driving part connected to the vertical axis part and configured to move the plurality of horizontal axis parts; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 감압건조장치.Decompression drying apparatus comprising a. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 구동부에 의해, 상기 다수의 횡축부를 일괄적 또는 개별적으로 구동시키는 것을 특징으로 하는 감압건조장치. And a plurality of horizontal shaft portions are collectively or individually driven by the driving portion. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 하부 플레이트는,The lower plate, 상기 다수의 횡축부가 설치되는 다수의 제 1 개구부;A plurality of first openings provided with the plurality of horizontal shaft portions; 상기 종축부가 설치되는 제 2 개구부;A second opening in which the longitudinal axis is installed; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 감압건조장치.Decompression drying apparatus comprising a. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 다수의 지지핀은, The plurality of support pins, 상기 다수의 지지핀을 횡방향으로 연결시킨 다수의 원통부;A plurality of cylinders connecting the plurality of support pins in a lateral direction; 상기 다수의 횡축부의 각각을 연결시키는 종축부;A vertical axis portion connecting each of the plurality of horizontal axis portions; 상기 종축부에 연결되며, 상기 다수의 횡축부의 이동을 위한 구동부;A driving part connected to the vertical axis part and configured to move the plurality of horizontal axis parts; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 감압건조장치Decompression drying apparatus comprising a 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 구동부에 의해, 상기 다수의 원통부를 일괄적 또는 개별적으로 구동시키는 것을 특징으로 하는 감압건조장치.And the drive unit drives the plurality of cylinders collectively or individually. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 다수의 원통부의 각각은 편심축에 의해 회전되는 것을 특징으로 하는 감압건조장치.And each of said plurality of cylindrical portions is rotated by an eccentric shaft. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 다수의 원통부의 각각은 상기 다수의 지지핀이 다수의 행으로 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 감압건조장치.Each of the plurality of cylindrical portions is a reduced pressure drying device, characterized in that the plurality of support pins are provided in a plurality of rows. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 구동부는 실린더 또는 모터인 것을 특징으로 하는 감압건조장치.The driving unit is a reduced pressure drying apparatus, characterized in that the cylinder or motor. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 하우징의 하부에 설치되며, 상기 기판을 대기시키는 대기부를 포함하는 것을 특징으로 하는 감압건조장치.The pressure reduction drying apparatus is installed in the lower portion of the housing, characterized in that it comprises a standby for waiting the substrate. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 하부 플레이트를 관통하며, 상기 기판을 입출시킬 때 이송로봇의 암이 들어올 수 있는 공간을 확보하기 위한 다수의 리프트 핀을 포함하는 것을 특징으로 하는 감압건조장치.And a plurality of lift pins penetrating the lower plate to secure a space for the arm of the transfer robot to enter and exit the substrate. 제 13 항에 있어서,The method of claim 13, 상기 다수의 리프트 핀의 각각의 상부에 상기 기판의 하부와 접촉하는 다수의 서브 리프트 핀을 포함하는 것을 특징으로 하는 감압건조장치.And a plurality of sub lift pins in contact with a lower portion of the substrate on each of the plurality of lift pins. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 기판의 외곽부와 대응되는 상기 하부 플레이트 상에 설치되며, 고정되어 있는 다수의 제 2 지지핀을 포함하는 것을 특징으로 하는 감압건조장치.And a plurality of second support pins which are installed on the lower plate corresponding to the outer portion of the substrate and are fixed.
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