KR20080055403A - 미세패턴 인쇄방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 미세패턴 인쇄방법에 관한 것으로서, 격막에 의해 인쇄영역이 형성된 기판을 마련하는 단계와; 상기 인쇄영역에 잉크를 전이시켜 미세패턴을 인쇄하는 단계와; 상기 미세패턴을 연질경화시키는 단계와; 상기 연질경화된 미세패턴의 높이를 균일화하는 단계와; 상기 높이가 균일화된 미세패턴을 경화하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
이에 의하여, 미세패턴의 형상과 두께 및 표면거칠기가 균일하게 인쇄될 수 있으며, 중첩인쇄에도 미세패턴을 균일하게 인쇄할 수 있는 미세패턴 인쇄방법이 제공된다.
미세패턴, 인쇄, 잉크, 연질경화, 높이

Description

미세패턴 인쇄방법{Minute pattern printing method}
도 1은 종래 스크린 인쇄방법을 이용한 미세패턴 인쇄과정을 설명하기 위한 도면,
도 2는 도 1의 미세패턴 형성영역의 확대도,
도 3은 본 발명에 따른 미세패턴 인쇄방법에 대한 공정도,
도 4 내지 도 7은 도 3의 미세패턴 인쇄 예를 나타낸 도면,
도 8 내지 도 9는 도 3의 연질경화된 미세패턴의 높이를 균일화하는 가압부재의 예를 나타낸 도면,
도 11 및 도 12는 본 발명에 따른 미세패턴 인쇄방법에 의해 마련된 제품의 예를 나타낸 도면.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
I : 잉크 5 : 미세패턴
11 : 기판 13 : 격막
31 : 가압부재
본 발명은, 미세패턴 인쇄방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 미세패턴의 인쇄막 형상과 두께 및 표면거칠기가 일정하게 인쇄될 수 있는 미세패턴 인쇄방법에 관한 것이다.
종래 각종 반도체 소자의 회로패턴이나 디스플레이 기기의 광학소자 및 컬러필터 등에 형성되는 광학패턴 등의 미세패턴을 형성하는 방법으로는 리소그라피(lithography) 등의 공정을 포함하는 반도체 제조공정에 의해 이루어지는 것이 일반적이었다.
그러나, 이러한 반도체 제조공정에 의한 미세패턴의 형성 방법은 그 공정이 매우 복잡하고 고가의 장비를 필요로 하는 문제점이 있었다.
이에 따라 최근에는 소정의 인쇄기법을 이용하여 미세패턴을 형성하는 기술이 개발되고 있는데, 이 인쇄기법을 통한 미세패턴의 인쇄는 제조공정의 절감과 장비의 간소화에 의해 생산성 향상에 크게 이바지할 수 있는 장점이 있는 반면에, 반도체 제조공정에 비해 정밀도가 떨어지고 미세패턴의 두께(인쇄막의 두께)가 두껍고 일정하지 못하다는 단점이 있다.
일예로 스크린 인쇄를 이용한 미세패턴 인쇄방법 및 그 문제점에 대해 도 1 및 도 2를 참고하여 설명한다.
도 1에 도시된 바와 같이, 스크린 인쇄방법을 이용한 미세패턴 인쇄방법은 스크린틀(121) 내의 스크린(123)에 잉크(I)를 도포한 상태에서 스크린(123)을 스퀴지(131)로 하향 가압하면서 기판(101)의 일측으로부터 타측으로 이동시키면 기판(101)상에 잉크(I)가 전이되면서 기판(101)에 미세패턴(105)이 형성된다.
그런데, 이러한 스크린 인쇄방법에 의한 미세패턴(105)의 인쇄는 스퀴지(131)의 위치에 따라 스퀴지(131) 가압영역에서 스크린(123)과 기판(101) 사이의 각도가 달라지기 때문에, 스크린(123)의 장력에 의해 스퀴지(131)의 가압력이 변화한다.
즉, 도 1의 (b) 내지 (d) 공정에서 나타난 바와 같이, 스퀴지(131)의 최초 가압위치로부터 마지막 가압위치에 이를때 까지 기판(101)과 스크린(123)의 각도는 계속 변화(θ1>θ2>θ3)한다.
이는 스퀴지(131)가 지나가는 영역에서 스크린(123)이 기판(101)으로부터 이격되는 속도가 점점 느려지는 것을 의미함과 동시에, 스크린(123)의 장력에 의한 스퀴지(131)의 가압력이 계속 변화(P1<P2<P3)하게 되는 것을 의미한다.
이에 의해, 기판(101)상에 형성되는 미세패턴(105)의 형상과 인쇄두께(t, Δt: 높이) 및 표면거칠기가 불규칙하게 형성되는 문제점이 발생하게 된다.
한편, 도 2는 도 1의 미세패턴 형성영역의 확대도이다. 이 도면의 (a) 내지 (d)에 도시된 바와 같이, 미세패턴(105)의 인쇄는 스퀴지(131)가 스크린(123)과 잉크(I)를 가압하면서 스크린(123)의 오픈영역(125)을 지나면, 잉크(I)가 오픈영역(125)을 통해 기판(101)상에 전이되어 미세패턴(105)이 인쇄되는 것이다.
그러나, 기판(101)상에 전이된 잉크(I)는 그 표면장력에 의해 표면이 거의 원호상으로 형성되어 평활성을 갖지 못하게 되는데, 이러한 미세패턴(105)의 평활하지 못한 형상은 기판(101)상에 형성되는 다수의 미세패턴(105)들에서 전술한 도 1의 이유에 의해 그 형상과 두께(도 1의 t, Δt: 높이) 및 표면거칠기가 상이하게 형성되는 문제가 있었다.
이러한 미세패턴들의 인쇄 형상과 두께(높이) 및 표면거칠기의 불규칙한 차이는 미세패턴이 반도체 소자의 회로패턴으로 이용될 경우에는 각 회로패턴에서 저항의 차이로 발생하여 회로패턴의 성능에 치명적인 문제점으로 발생하게 된다.
또한, 미세패턴이 디스플레이 기기의 광학소자 및 컬러필터 등에 적용되는 경우에는 미세패턴들의 불규칙한 인쇄 형상과 두께(높이) 및 표면거칠기에 의해 광의 이동방향이나 투과율 등의 광학적 작용이 원하는데로 이루어질 수 없기 때문에, 디스플레이 기기 성능에 있어 치명적인 문제점을 발생시킨다.
특히, 미세패턴이 컬러필터의 R,G,B 패턴으로 적용되는 경우에는 R,G,B 패턴을 각각의 공정으로 3도 중첩인쇄를 실행하므로 먼저 인쇄된 패턴의 높이에 비해 나중에 인쇄되는 패턴의 높이가 필연적으로 높아질 수 밖에 없는 문제점이 있다. 이에 의해, 미세패턴 인쇄방법을 이용한 컬러필터의 제조가 사실상 불가능하다는 문제점이 있었다.
따라서, 본 발명의 목적은, 미세패턴의 형상과 두께 및 표면거칠기가 균일하게 인쇄될 수 있으며, 중첩인쇄에도 미세패턴을 균일하게 인쇄할 수 있는 미세패턴 인쇄방법을 제공하는 것이다.
상기 목적은, 본 발명에 따라, 미세패턴 인쇄방법에 있어서, 격막에 의해 인쇄영역이 형성된 기판을 마련하는 단계와; 상기 인쇄영역에 잉크를 전이시켜 미세패턴을 인쇄하는 단계와; 상기 미세패턴을 연질경화시키는 단계와; 상기 연질경화된 미세패턴의 높이를 균일화하는 단계와; 상기 높이가 균일화된 미세패턴을 경화하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세패턴 인쇄방법에 의해 달성된다.
여기서, 상기 인쇄영역에 해당하는 상기 기판과 상기 격막의 내벽은 상기 잉크에 대해 친수성을 가지며, 상기 인쇄영역 외의 비인쇄영역은 상기 잉크에 대해 소수성을 갖는 것이 바람직하다.
이때, 상기 미세패턴을 인쇄하는 단계는 스크린 인쇄, 그라비아 인쇄, 플렉소 인쇄, 패드 인쇄, 잉크젯 인쇄 중 어느 하나로 이루어지는 것이 효과적이다.
그리고, 상기 미세패턴을 연질경화시키는 단계는 상기 기판의 인쇄영역에 전이된 잉크에 의해 형성된 미세패턴의 외표면을 경화시켜 막을 형성하고, 상기 미세패턴의 나머지 내부는 비경화시키는 단계인 것이 보다 바람직하다.
이때, 상기 잉크는 열경화성 잉크이며, 상기 연질경화시키는 단계와 상기 높이가 균일화된 미세패턴을 경화하는 단계는 열경화에 의해 이루어지는 것이 보다 효과적이다.
또는, 상기 잉크는 광경화성 잉크이며, 상기 연질경화시키는 단계와 상기 높이가 균일화된 미세패턴을 경화하는 단계는 광경화에 의해 이루어질 수 있다.
혹은, 상기 잉크는 자연경화성 잉크이며, 상기 연질경화시키는 단계와 상기 높이가 균일화된 미세패턴을 경화하는 단계는 자연경화에 의해 이루어질 수 있다.
또한, 상기 미세패턴의 높이를 균일화하는 단계는 상기 연질경화된 미세패턴의 상부영역을 소정의 가압부재로 일정한 가압력을 가하면서 평활하게 가압하는 단계인 것이 바람직하다. ,
이때, 상기 가압부재는 롤러, 평판, 블레이드 중 어느 하나인 것이 효과적이다.
또한, 상기 높이가 균일화된 미세패턴을 경화한 후 상기 격막을 제거하는 단계를 포함할 수 있다.
한편, 상기 목적은 본 발명의 다른 분야에 따라서, 반도체 소자의 회로패턴 형성방법에 있어서, 상기 회로패턴은 미세패턴 인쇄방법에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 회로패턴 형성방법에 의해서도 달성된다.
한편, 상기 목적은 본 발명의 또 다른 분야에 따라서, 광학소자의 광학패턴 형성방법에 있어서, 상기 광학패턴은 상기 미세패턴 인쇄방법에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학소자의 광학패턴 형성방법에 의해서도 달성된다.
한편, 상기 목적은 본 발명의 또 다른 분야에 따라서, 기판과, 상기 기판상에 형성되는 알(R),지(G),비(B)패턴을 갖는 디스플레이용 컬러필터 제조방법에 있어서, 상기 알(R),지(G),비(B)패턴은 상기 미세패턴 인쇄방법을 상기 기판상에 충접인쇄하여 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 컬러필터 제조방법에 의해서도 달성된다.
이하에서는 첨부된 도면을 참고하여 본 발명에 대해서 상세하게 설명한다.
도 3은 본 발명에 따른 미세패턴 인쇄방법에 대한 공정도이다. 이 도면에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 미세패턴 인쇄방법은 미세패턴(5)이 인쇄될 기판(11)을 마련하는 단계(S01)와; 기판(11)상에 미세패턴(5)을 인쇄하는 단계(S02)와; 미세패턴(5)을 연질경화시키는 단계(S03)와; 미세패턴(5)의 높이를 균일화하는 단계(S04)와; 미세패턴(5)을 경화시키는 단계(S05)를 포함한다.
기판(11)을 마련하는 단계(S01)는 미세패턴(5)이 인쇄될 인쇄영역(15)이 격막(13)에 의해 형성된 기판(11)을 마련하는 단계이다.
여기서, 미세패턴(5)이 반도체 소자의 회로패턴이나 광학소자의 격자패턴으로 이용될 경우 격막(13)은 평면투영시 상호 인접한 한 쌍씩 기판(11)의 판면을 따라 소정의 선형 구조를 가질 수 있으며, 미세패턴(5)이 디스플레이 기기의 컬러필터로 이용될 경우 격막(13)은 평면투영시 기판(11)의 판면에 메쉬형상으로 분포될 수 있다.
이때, 인쇄영역(15)의 내표면을 형성하는 기판(11)의 판면 및 격막(13)의 내벽은 잉크(I)에 대해 친수성을 갖도록 처리되고, 격막(13)의 상면을 포함한 비인쇄영역은 잉크(I)에 대해 소수성을 가지도록 처리됨으로써, 격막(13)의 인쇄영역(15) 내에서 잉크(I)가 외부로 이탈되지 않도록 한다. 이에 의해, 미세패턴(5)의 폭이나 외측 둘레 크기 및 형상을 균일하게 할 수 있다.
그리고, 격막(13)은 미세패턴(5)이 반도체 소자의 회로패턴이나 광학소자의 격자패턴으로 이용될 경우에는 미세패턴(5)을 형성한 후 후공정을 추가하여 도 11과 같이 격막(13)을 제거할 수 있으며, 미리 제거 가능한 마스크 등으로 격막층을 별도로 마련한 후 후공정으로 제거될 수 있다. 또는, 미세패턴(5)이 도 12와 같이, 디스플레이 기기의 컬러필터에 적용될 경우에는 미세패턴(5)을 형성한 후 그 구조를 그대로 유지하여 기판(11)의 판면에 메쉬형상의 블랙메트릭스(BM:Black Matrix)로 이용될 수 있다.
다음으로 미세패턴(5)을 인쇄하는 단계(S02)는 기판(11)의 인쇄영역(15)에 미세패턴(5)의 재료인 잉크(I)를 전이시키는 단계이다.
잉크(I)를 기판(11)상에 전이시키는 인쇄방법으로는 도 4 내지 도 7에 도시된 바와 같이, 스크린 인쇄방법(PR1)과 그라비아 인쇄방법(PR2) 및 플렉소 인쇄방법(PR3)과 패드 인쇄방법(PR4) 및 잉크젯 인쇄방법(미도시) 등의 다양한 인쇄방법이 이용될 수 있다.
그리고, 미세패턴(5)의 재료인 잉크(I)는 열경화성 잉크나 광경화성 잉크를 이용하는 것이 바람직하다. 물론, 자연경화될 수 있는 잉크를 이용할 수도 있다.
이 미세패턴(5)의 인쇄 단계에서 기판(11)의 인쇄영역(15) 내에 전이된 잉크(I)는 도 에 도시된 바와 같이, 상부표면이 비평활하고 각각의 높이가 상이한 형상으로 가지게 된다.
미세패턴(5)을 연질경화시키는 단계(S03)는 기판(11)의 인쇄영역(15)에 전이 된 잉크(I)에 의해 형성된 미세패턴(5)의 외표면은 경화시켜 막(5a)을 형성하고 미세패턴(5)의 나머지 내부(5b)는 비경화되도록 하여 미세패턴(5)이 연질의 상태가 되도록 경화시키는 단계이다.
여기서, 연질경화 방법으로는 열경화나 광경화 방법을 이용할 수도 있으며, 시간적 여유가 있는 미세패턴(5) 제조공정에서는 자연경화 방법을 이용할 수 있다.
이때, 열경화나 광경화 방법으로 미세패턴(5)을 연질경화시키는 경우에는 그 온도 및 경화방법이 잉크(I)의 종류에 따라 달라질수 있다. 그리고, 자연경화의 방법으로 미세패턴(5)을 연질경화시키는 경우에는 그 온도 및 경화시간이 잉크(I)의 종류에 따라 달라질 수 있음은 물론이다.
이러한 연질경화 공정은 후술할 미세패턴(5)의 높이를 균일화하는 단계에서 미세패턴(5)이 손상되거나 미세패턴(5)을 형성하는 잉크(I)가 손실되는 것을 방지하기 위한 것으로서, 이 연질경화 공정을 거친 미세패턴(5)은 소정의 외력이 가해지더라도 탄력적인 연성에 의해 손상 및 손실되지 않는다.
한편, 미세패턴(5)의 높이를 균일화하는 단계(S04)는 기판(11)의 인쇄영역(15)에서 연질경화된 비평활하고 불규칙한 두께(높이)와 표면거칠기를 갖는 미세패턴(5)의 상부영역을 소정의 가압부재(31)로 가압하여 미세패턴(5)의 상부영역을 평활하고 균일한 높이 및 표면거칠기로 형성하는 단계이다.
여기서, 가압부재(31)는 도 8내지 도 9에 도시된 바와 같이, 롤러(31a)나 평판(31b) 또는 블레이드(31c) 등으로 마련될 수 있으며, 이 외에도 미세패턴(5)을 균일하게 가압할 수 있는 여타 부재 및 방법을 이용할 수 있다.
이때, 가압부재(31)의 가압력과 가압속도는 미세패턴(5)이 손상되지 않는 정도로 가압부재(31) 전영역에서 균일해야 하는데, 가압부재(31)의 가압은 미세패턴(5)의 재료인 잉크(I)가 기판(11)의 인쇄영역(15)에 전이된 상태에서 연질경화된 후 이루지기 때문에, 전술한 종래 스크린의 장력이나 가압영역의 스크린 각도의 차이와 같은 원인이 배제되어 가압부재(31)를 일정압력과 속도로 가압할 수 있다. 이에 의해, 미세패턴(5)의 높이를 균일하게 가압할 수 있다.
미세패턴(5)을 경화시키는 단계(S05)는 미세패턴(5)의 높이가 균일화된 상태에서 미세패턴(5)을 경화시키는 단계이다.
여기서, 경화 방법으로는 미세패턴(5)을 가압부재(31)로 가압하면서 열경화나 광경화 방법을 이용하여 미세패턴(5)을 경화시키는 방법으로도 가능하며, 시간적 여유가 있는 미세패턴(5) 제조공정에서는 미세패턴(5)을 가압부재(31)로 가압한 상태에서 자연경화시키는 방법을 이용할 수 있다.
이때, 열경화나 광경화 방법으로 미세패턴(5)을 경화시키는 경우에는 그 온도 및 경화방법과 시간이 잉크(I)의 종류에 따라 달라질수 있다. 그리고, 자연경화의 방법으로 미세패턴(5)을 경화시키는 경우에도 그 온도 및 경화시간이 잉크(I)의 종류에 따라 달라질 수 있음은 물론이다.
이러한 경화 단계를 거친 미세패턴(5)들은 도 11 및 도 12에 도시된 바와 같이, 그 상부영역이 평활하면서 높이와 표면거칠기가 균일하고, 격막(13)에 의해 미 세패턴(5)의 폭이나 외측 둘레 크기 및 형상이 균일한 제품으로 제공된다(S06).
한편, 전술 및 도 11에 도시된 바와 같이, 미세패턴(5)이 반도체 소자의 회로패턴이나 광학소자의 격자패턴으로 이용될 경우에는 후공정으로 격막(13)을 제거하는 공정을 추가할 수 있다.
또한, 미세패턴(5)이 도 12와 같이, 디스플레이 컬러필터(50)의 R,G,B 패턴으로 적용되는 경우에는 전술한 본 발명에 따른 공정을 각 패턴에 반복적으로 실행하는 중첩인쇄를 통해 R,G,B 패턴의 형상과 두께 및 표면거칠기가 균일하게 할 수 있다. 이에 의해, 컬러필터 제조 공정을 포함한 중첩인쇄방법에 본 발명에 따른 미세패턴(5)의 인쇄방법을 용이하게 적용할 수 있다.
이와 같이, 본 발명에 따른 미세패턴(5) 인쇄방법은 미세패턴(5)의 재료인 잉크(I)를 기판(11)의 인쇄영역(15)에 인쇄한 후, 미세패턴(5)을 연질경화시키고 가압부재(31)를 이용하여 미세패턴(5)의 높이를 평활화 한 상태에서 미세패턴(5)을 경화시킴으로써, 미세패턴(5)의 형상과 두께 및 표면거칠기가 균일하게 할 수 있다.
전술 및 실시예에 서는 본 발명에 따른 미세패턴의 인쇄방법에 대해 회로패턴과 광학패턴 및 컬러필터의 R,G,B패턴을 예로 하여 설명하고 있지만, 본 발명에 따른 미세패턴 인쇄방법은, 전술한 예 외에도 다양한 분야에서 미세패턴을 형성하는 방법으로 적용될 수 있음은 물론이다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 미세패턴의 형상과 두께 및 표면거칠기가 균일하게 인쇄될 수 있으며, 중첩인쇄에도 미세패턴을 균일하게 인쇄할 수 있는 미세패턴 인쇄방법이 제공된다.

Claims (19)

  1. 미세패턴 인쇄방법에 있어서,
    격막에 의해 인쇄영역이 형성된 기판을 마련하는 단계와;
    상기 인쇄영역에 잉크를 전이시켜 미세패턴을 인쇄하는 단계와;
    상기 미세패턴을 연질경화시키는 단계와;
    상기 연질경화된 미세패턴의 높이를 균일화하는 단계와;
    상기 높이가 균일화된 미세패턴을 경화하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세패턴 인쇄방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 인쇄영역에 해당하는 상기 기판과 상기 격막의 내벽은 상기 잉크에 대해 친수성을 가지며, 상기 인쇄영역 외의 비인쇄영역은 상기 잉크에 대해 소수성을 갖는 것을 특징으로 하는 미세패턴 인쇄방법.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 미세패턴을 인쇄하는 단계는 스크린 인쇄로 이루어지는 것을 특징으로 하는 미세패턴 인쇄방법.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 미세패턴을 인쇄하는 단계는 그라비아 인쇄로 이루어지는 것을 특징으로 하는 미세패턴 인쇄방법.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 미세패턴을 인쇄하는 단계는 플렉소 인쇄로 이루어지는 것을 특징으로 하는 미세패턴 인쇄방법.
  6. 제2항에 있어서,
    상기 미세패턴을 인쇄하는 단계는 패드 인쇄로 이루어지는 것을 특징으로 하는 미세패턴 인쇄방법.
  7. 제2항에 있어서,
    상기 미세패턴을 인쇄하는 단계는 잉크젯 인쇄로 이루어지는 것을 특징으로 하는 미세패턴 인쇄방법.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 미세패턴을 연질경화시키는 단계는 상기 기판의 인쇄영역에 전이된 잉크에 의해 형성된 미세패턴의 외표면을 경화시켜 막을 형성하고, 상기 미세패턴의 나머지 내부는 비경화시키는 단계인 것을 특징으로 하는 미세패턴 인쇄방법.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 잉크는 열경화성 잉크이며, 상기 연질경화시키는 단계와 상기 높이가 균일화된 미세패턴을 경화하는 단계는 열경화에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 미세패턴 인쇄방법.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 잉크는 광경화성 잉크이며, 상기 연질경화시키는 단계와 상기 높이가 균일화된 미세패턴을 경화하는 단계는 광경화에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 미세패턴 인쇄방법.
  11. 제8항에 있어서,
    상기 잉크는 자연경화성 잉크이며, 상기 연질경화시키는 단계와 상기 높이가 균일화된 미세패턴을 경화하는 단계는 자연경화에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 미세패턴 인쇄방법.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 미세패턴의 높이를 균일화하는 단계는 상기 연질경화된 미세패턴의 상부영역을 소정의 가압부재로 일정한 가압력을 가하면서 평활하게 가압하는 것을 특징으로 하는 미세패턴 인쇄방법.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 가압부재는 롤러인 것을 특징으로 하는 미세패턴 인쇄방법.
  14. 제12항에 있어서,
    상기 가압부재는 평판인 것을 특징으로 하는 미세패턴 인쇄방법.
  15. 제12항에 있어서,
    상기 가압부재는 블레이드인 것을 특징으로 하는 미세패턴 인쇄방법.
  16. 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 높이가 균일화된 미세패턴을 경화한 후 상기 격막을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세패턴 인쇄방법.
  17. 반도체 소자의 회로패턴 형성방법에 있어서,
    상기 회로패턴은 상기 청구항 제16항의 미세패턴 인쇄방법에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 회로패턴 형성방법.
  18. 광학소자의 광학패턴 형성방법에 있어서,
    상기 광학패턴은 상기 청구항 제16항의 미세패턴 인쇄방법에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학소자의 광학패턴 형성방법.
  19. 기판과, 상기 기판상에 형성되는 알(R),지(G),비(B)패턴을 갖는 디스플레이용 컬러필터 제조방법에 있어서,
    상기 알(R),지(G),비(B)패턴은 상기 청구항 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항의 미세패턴 인쇄방법을 상기 기판상에 충접인쇄하여 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 컬러필터 제조방법.
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