KR100846211B1 - 미세패턴 인쇄방법 - Google Patents

미세패턴 인쇄방법 Download PDF

Info

Publication number
KR100846211B1
KR100846211B1 KR1020060128713A KR20060128713A KR100846211B1 KR 100846211 B1 KR100846211 B1 KR 100846211B1 KR 1020060128713 A KR1020060128713 A KR 1020060128713A KR 20060128713 A KR20060128713 A KR 20060128713A KR 100846211 B1 KR100846211 B1 KR 100846211B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
fine pattern
printing
ink
curing
pattern
Prior art date
Application number
KR1020060128713A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20080055403A (ko
Inventor
이택민
신동윤
김용성
조정대
김광영
강대동
이경주
Original Assignee
한국기계연구원
주식회사 제우스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 한국기계연구원, 주식회사 제우스 filed Critical 한국기계연구원
Priority to KR1020060128713A priority Critical patent/KR100846211B1/ko
Publication of KR20080055403A publication Critical patent/KR20080055403A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100846211B1 publication Critical patent/KR100846211B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/12—Production of screen printing forms or similar printing forms, e.g. stencils
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/168—Finishing the coated layer, e.g. drying, baking, soaking

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Printing Methods (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

본 발명은, 미세패턴 인쇄방법에 관한 것으로서, 격막에 의해 인쇄영역이 형성된 기판을 마련하는 단계와, 상기 인쇄영역에 잉크를 전이시켜 미세패턴을 인쇄하는 단계와, 상기 미세패턴을 연질경화시키는 단계와; 상기 연질경화된 미세패턴의 높이를 균일화하는 단계와, 상기 높이가 균일화된 미세패턴을 경화하는 단계를 포함하되; 상기 인쇄영역에 해당하는 상기 기판과 상기 격막의 내벽은 상기 잉크에 대해 친수성을 가지며, 상기 인쇄영역 외의 비인쇄영역은 상기 잉크에 대해 소수성을 갖는 것을 특징으로 한다.
이에 의하여, 미세패턴의 형상과 두께 및 표면거칠기가 균일하게 인쇄될 수 있으며, 중첩인쇄에도 미세패턴을 균일하게 인쇄할 수 있는 미세패턴 인쇄방법이 제공된다.
미세패턴, 인쇄, 잉크, 연질경화, 높이

Description

미세패턴 인쇄방법{Minute pattern printing method}
도 1은 종래 스크린 인쇄방법을 이용한 미세패턴 인쇄과정을 설명하기 위한 도면,
도 2는 도 1의 미세패턴 형성영역의 확대도,
도 3은 본 발명에 따른 미세패턴 인쇄방법에 대한 공정도,
도 4 내지 도 7은 도 3의 미세패턴 인쇄 예를 나타낸 도면,
도 8 내지 도 9는 도 3의 연질경화된 미세패턴의 높이를 균일화하는 가압부재의 예를 나타낸 도면,
도 11 및 도 12는 본 발명에 따른 미세패턴 인쇄방법에 의해 마련된 제품의 예를 나타낸 도면.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
I : 잉크 5 : 미세패턴
11 : 기판 13 : 격막
31 : 가압부재
본 발명은, 미세패턴 인쇄방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 미세패턴의 인쇄막 형상과 두께 및 표면거칠기가 일정하게 인쇄될 수 있는 미세패턴 인쇄방법에 관한 것이다.
종래 각종 반도체 소자의 회로패턴이나 디스플레이 기기의 광학소자 및 컬러필터 등에 형성되는 광학패턴 등의 미세패턴을 형성하는 방법으로는 리소그라피(lithography) 등의 공정을 포함하는 반도체 제조공정에 의해 이루어지는 것이 일반적이었다.
그러나, 이러한 반도체 제조공정에 의한 미세패턴의 형성 방법은 그 공정이 매우 복잡하고 고가의 장비를 필요로 하는 문제점이 있었다.
이에 따라 최근에는 소정의 인쇄기법을 이용하여 미세패턴을 형성하는 기술이 개발되고 있는데, 이 인쇄기법을 통한 미세패턴의 인쇄는 제조공정의 절감과 장비의 간소화에 의해 생산성 향상에 크게 이바지할 수 있는 장점이 있는 반면에, 반도체 제조공정에 비해 정밀도가 떨어지고 미세패턴의 두께(인쇄막의 두께)가 두껍고 일정하지 못하다는 단점이 있다.
일예로 스크린 인쇄를 이용한 미세패턴 인쇄방법 및 그 문제점에 대해 도 1 및 도 2를 참고하여 설명한다.
도 1에 도시된 바와 같이, 스크린 인쇄방법을 이용한 미세패턴 인쇄방법은 스크린틀(121) 내의 스크린(123)에 잉크(I)를 도포한 상태에서 스크린(123)을 스퀴지(131)로 하향 가압하면서 기판(101)의 일측으로부터 타측으로 이동시키면 기판(101)상에 잉크(I)가 전이되면서 기판(101)에 미세패턴(105)이 형성된다.
그런데, 이러한 스크린 인쇄방법에 의한 미세패턴(105)의 인쇄는 스퀴지(131)의 위치에 따라 스퀴지(131) 가압영역에서 스크린(123)과 기판(101) 사이의 각도가 달라지기 때문에, 스크린(123)의 장력에 의해 스퀴지(131)의 가압력이 변화한다.
즉, 도 1의 (b) 내지 (d) 공정에서 나타난 바와 같이, 스퀴지(131)의 최초 가압위치로부터 마지막 가압위치에 이를때 까지 기판(101)과 스크린(123)의 각도는 계속 변화(θ1>θ2>θ3)한다.
이는 스퀴지(131)가 지나가는 영역에서 스크린(123)이 기판(101)으로부터 이격되는 속도가 점점 느려지는 것을 의미함과 동시에, 스크린(123)의 장력에 의한 스퀴지(131)의 가압력이 계속 변화(P1<P2<P3)하게 되는 것을 의미한다.
이에 의해, 기판(101)상에 형성되는 미세패턴(105)의 형상과 인쇄두께(t, Δt: 높이) 및 표면거칠기가 불규칙하게 형성되는 문제점이 발생하게 된다.
한편, 도 2는 도 1의 미세패턴 형성영역의 확대도이다. 이 도면의 (a) 내지 (d)에 도시된 바와 같이, 미세패턴(105)의 인쇄는 스퀴지(131)가 스크린(123)과 잉크(I)를 가압하면서 스크린(123)의 오픈영역(125)을 지나면, 잉크(I)가 오픈영역(125)을 통해 기판(101)상에 전이되어 미세패턴(105)이 인쇄되는 것이다.
그러나, 기판(101)상에 전이된 잉크(I)는 그 표면장력에 의해 표면이 거의 원호상으로 형성되어 평활성을 갖지 못하게 되는데, 이러한 미세패턴(105)의 평활하지 못한 형상은 기판(101)상에 형성되는 다수의 미세패턴(105)들에서 전술한 도 1의 이유에 의해 그 형상과 두께(도 1의 t, Δt: 높이) 및 표면거칠기가 상이하게 형성되는 문제가 있었다.
이러한 미세패턴들의 인쇄 형상과 두께(높이) 및 표면거칠기의 불규칙한 차이는 미세패턴이 반도체 소자의 회로패턴으로 이용될 경우에는 각 회로패턴에서 저항의 차이로 발생하여 회로패턴의 성능에 치명적인 문제점으로 발생하게 된다.
또한, 미세패턴이 디스플레이 기기의 광학소자 및 컬러필터 등에 적용되는 경우에는 미세패턴들의 불규칙한 인쇄 형상과 두께(높이) 및 표면거칠기에 의해 광의 이동방향이나 투과율 등의 광학적 작용이 원하는데로 이루어질 수 없기 때문에, 디스플레이 기기 성능에 있어 치명적인 문제점을 발생시킨다.
특히, 미세패턴이 컬러필터의 R,G,B 패턴으로 적용되는 경우에는 R,G,B 패턴을 각각의 공정으로 3도 중첩인쇄를 실행하므로 먼저 인쇄된 패턴의 높이에 비해 나중에 인쇄되는 패턴의 높이가 필연적으로 높아질 수 밖에 없는 문제점이 있다. 이에 의해, 미세패턴 인쇄방법을 이용한 컬러필터의 제조가 사실상 불가능하다는 문제점이 있었다.
따라서, 본 발명의 목적은, 미세패턴의 형상과 두께 및 표면거칠기가 균일하게 인쇄될 수 있으며, 중첩인쇄에도 미세패턴을 균일하게 인쇄할 수 있는 미세패턴 인쇄방법을 제공하는 것이다.
상기 목적은, 본 발명에 따라, 미세패턴 인쇄방법에 있어서, 격막에 의해 인쇄영역이 형성된 기판을 마련하는 단계와, 상기 인쇄영역에 잉크를 전이시켜 미세패턴을 인쇄하는 단계와, 상기 미세패턴을 연질경화시키는 단계와, 상기 연질경화된 미세패턴의 높이를 균일화하는 단계와, 상기 높이가 균일화된 미세패턴을 경화하는 단계를 포함하되; 상기 인쇄영역에 해당하는 상기 기판과 상기 격막의 내벽은 상기 잉크에 대해 친수성을 가지며, 상기 인쇄영역 외의 비인쇄영역은 상기 잉크에 대해 소수성을 갖는 것을 특징으로 하는 미세패턴 인쇄방법에 의해 달성된다.
삭제
여기서, 상기 미세패턴을 인쇄하는 단계는 스크린 인쇄, 그라비아 인쇄, 플렉소 인쇄, 패드 인쇄, 잉크젯 인쇄 중 어느 하나로 이루어지는 것이 효과적이다.
그리고, 상기 미세패턴을 연질경화시키는 단계는 상기 기판의 인쇄영역에 전이된 잉크에 의해 형성된 미세패턴의 외표면을 경화시켜 막을 형성하고, 상기 미세패턴의 나머지 내부는 비경화시키는 단계인 것이 보다 바람직하다.
이때, 상기 잉크는 열경화성 잉크이며, 상기 연질경화시키는 단계와 상기 높이가 균일화된 미세패턴을 경화하는 단계는 열경화에 의해 이루어지는 것이 보다 효과적이다.
또는, 상기 잉크는 광경화성 잉크이며, 상기 연질경화시키는 단계와 상기 높이가 균일화된 미세패턴을 경화하는 단계는 광경화에 의해 이루어질 수 있다.
혹은, 상기 잉크는 자연경화성 잉크이며, 상기 연질경화시키는 단계와 상기 높이가 균일화된 미세패턴을 경화하는 단계는 자연경화에 의해 이루어질 수 있다.
또한, 상기 미세패턴의 높이를 균일화하는 단계는 상기 연질경화된 미세패턴의 상부영역을 소정의 가압부재로 일정한 가압력을 가하면서 평활하게 가압하는 단계인 것이 바람직하다. ,
이때, 상기 가압부재는 롤러, 평판, 블레이드 중 어느 하나인 것이 효과적이다.
또한, 상기 높이가 균일화된 미세패턴을 경화한 후 상기 격막을 제거하는 단계를 포함할 수 있다.
한편, 상기 목적은 본 발명의 다른 분야에 따라서, 반도체 소자의 회로패턴 형성방법에 있어서, 상기 회로패턴은 미세패턴 인쇄방법에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 회로패턴 형성방법에 의해서도 달성된다.
한편, 상기 목적은 본 발명의 또 다른 분야에 따라서, 광학소자의 광학패턴 형성방법에 있어서, 상기 광학패턴은 상기 미세패턴 인쇄방법에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학소자의 광학패턴 형성방법에 의해서도 달성된다.
한편, 상기 목적은 본 발명의 또 다른 분야에 따라서, 기판과, 상기 기판상에 형성되는 알(R),지(G),비(B)패턴을 갖는 디스플레이용 컬러필터 제조방법에 있어서, 상기 알(R),지(G),비(B)패턴은 상기 미세패턴 인쇄방법을 상기 기판상에 충접인쇄하여 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 컬러필터 제조방법에 의해서도 달성된다.
이하에서는 첨부된 도면을 참고하여 본 발명에 대해서 상세하게 설명한다.
도 3은 본 발명에 따른 미세패턴 인쇄방법에 대한 공정도이다. 이 도면에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 미세패턴 인쇄방법은 미세패턴(5)이 인쇄될 기판(11)을 마련하는 단계(S01)와; 기판(11)상에 미세패턴(5)을 인쇄하는 단계(S02)와; 미세패턴(5)을 연질경화시키는 단계(S03)와; 미세패턴(5)의 높이를 균일화하는 단계(S04)와; 미세패턴(5)을 경화시키는 단계(S05)를 포함한다.
기판(11)을 마련하는 단계(S01)는 미세패턴(5)이 인쇄될 인쇄영역(15)이 격막(13)에 의해 형성된 기판(11)을 마련하는 단계이다.
여기서, 미세패턴(5)이 반도체 소자의 회로패턴이나 광학소자의 격자패턴으로 이용될 경우 격막(13)은 평면투영시 상호 인접한 한 쌍씩 기판(11)의 판면을 따라 소정의 선형 구조를 가질 수 있으며, 미세패턴(5)이 디스플레이 기기의 컬러필터로 이용될 경우 격막(13)은 평면투영시 기판(11)의 판면에 메쉬형상으로 분포될 수 있다.
이때, 인쇄영역(15)의 내표면을 형성하는 기판(11)의 판면 및 격막(13)의 내벽은 잉크(I)에 대해 친수성을 갖도록 처리되고, 격막(13)의 상면을 포함한 비인쇄영역은 잉크(I)에 대해 소수성을 가지도록 처리됨으로써, 격막(13)의 인쇄영역(15) 내에서 잉크(I)가 외부로 이탈되지 않도록 한다. 이에 의해, 미세패턴(5)의 폭이나 외측 둘레 크기 및 형상을 균일하게 할 수 있다.
그리고, 격막(13)은 미세패턴(5)이 반도체 소자의 회로패턴이나 광학소자의 격자패턴으로 이용될 경우에는 미세패턴(5)을 형성한 후 후공정을 추가하여 도 11과 같이 격막(13)을 제거할 수 있으며, 미리 제거 가능한 마스크 등으로 격막층을 별도로 마련한 후 후공정으로 제거될 수 있다. 또는, 미세패턴(5)이 도 12와 같이, 디스플레이 기기의 컬러필터에 적용될 경우에는 미세패턴(5)을 형성한 후 그 구조를 그대로 유지하여 기판(11)의 판면에 메쉬형상의 블랙메트릭스(BM:Black Matrix)로 이용될 수 있다.
다음으로 미세패턴(5)을 인쇄하는 단계(S02)는 기판(11)의 인쇄영역(15)에 미세패턴(5)의 재료인 잉크(I)를 전이시키는 단계이다.
잉크(I)를 기판(11)상에 전이시키는 인쇄방법으로는 도 4 내지 도 7에 도시된 바와 같이, 스크린 인쇄방법(PR1)과 그라비아 인쇄방법(PR2) 및 플렉소 인쇄방법(PR3)과 패드 인쇄방법(PR4) 및 잉크젯 인쇄방법(미도시) 등의 다양한 인쇄방법이 이용될 수 있다.
그리고, 미세패턴(5)의 재료인 잉크(I)는 열경화성 잉크나 광경화성 잉크를 이용하는 것이 바람직하다. 물론, 자연경화될 수 있는 잉크를 이용할 수도 있다.
이 미세패턴(5)의 인쇄 단계에서 기판(11)의 인쇄영역(15) 내에 전이된 잉크(I)는 도 에 도시된 바와 같이, 상부표면이 비평활하고 각각의 높이가 상이한 형상으로 가지게 된다.
미세패턴(5)을 연질경화시키는 단계(S03)는 기판(11)의 인쇄영역(15)에 전이 된 잉크(I)에 의해 형성된 미세패턴(5)의 외표면은 경화시켜 막(5a)을 형성하고 미세패턴(5)의 나머지 내부(5b)는 비경화되도록 하여 미세패턴(5)이 연질의 상태가 되도록 경화시키는 단계이다.
여기서, 연질경화 방법으로는 열경화나 광경화 방법을 이용할 수도 있으며, 시간적 여유가 있는 미세패턴(5) 제조공정에서는 자연경화 방법을 이용할 수 있다.
이때, 열경화나 광경화 방법으로 미세패턴(5)을 연질경화시키는 경우에는 그 온도 및 경화방법이 잉크(I)의 종류에 따라 달라질수 있다. 그리고, 자연경화의 방법으로 미세패턴(5)을 연질경화시키는 경우에는 그 온도 및 경화시간이 잉크(I)의 종류에 따라 달라질 수 있음은 물론이다.
이러한 연질경화 공정은 후술할 미세패턴(5)의 높이를 균일화하는 단계에서 미세패턴(5)이 손상되거나 미세패턴(5)을 형성하는 잉크(I)가 손실되는 것을 방지하기 위한 것으로서, 이 연질경화 공정을 거친 미세패턴(5)은 소정의 외력이 가해지더라도 탄력적인 연성에 의해 손상 및 손실되지 않는다.
한편, 미세패턴(5)의 높이를 균일화하는 단계(S04)는 기판(11)의 인쇄영역(15)에서 연질경화된 비평활하고 불규칙한 두께(높이)와 표면거칠기를 갖는 미세패턴(5)의 상부영역을 소정의 가압부재(31)로 가압하여 미세패턴(5)의 상부영역을 평활하고 균일한 높이 및 표면거칠기로 형성하는 단계이다.
여기서, 가압부재(31)는 도 8내지 도 9에 도시된 바와 같이, 롤러(31a)나 평판(31b) 또는 블레이드(31c) 등으로 마련될 수 있으며, 이 외에도 미세패턴(5)을 균일하게 가압할 수 있는 여타 부재 및 방법을 이용할 수 있다.
이때, 가압부재(31)의 가압력과 가압속도는 미세패턴(5)이 손상되지 않는 정도로 가압부재(31) 전영역에서 균일해야 하는데, 가압부재(31)의 가압은 미세패턴(5)의 재료인 잉크(I)가 기판(11)의 인쇄영역(15)에 전이된 상태에서 연질경화된 후 이루지기 때문에, 전술한 종래 스크린의 장력이나 가압영역의 스크린 각도의 차이와 같은 원인이 배제되어 가압부재(31)를 일정압력과 속도로 가압할 수 있다. 이에 의해, 미세패턴(5)의 높이를 균일하게 가압할 수 있다.
미세패턴(5)을 경화시키는 단계(S05)는 미세패턴(5)의 높이가 균일화된 상태에서 미세패턴(5)을 경화시키는 단계이다.
여기서, 경화 방법으로는 미세패턴(5)을 가압부재(31)로 가압하면서 열경화나 광경화 방법을 이용하여 미세패턴(5)을 경화시키는 방법으로도 가능하며, 시간적 여유가 있는 미세패턴(5) 제조공정에서는 미세패턴(5)을 가압부재(31)로 가압한 상태에서 자연경화시키는 방법을 이용할 수 있다.
이때, 열경화나 광경화 방법으로 미세패턴(5)을 경화시키는 경우에는 그 온도 및 경화방법과 시간이 잉크(I)의 종류에 따라 달라질수 있다. 그리고, 자연경화의 방법으로 미세패턴(5)을 경화시키는 경우에도 그 온도 및 경화시간이 잉크(I)의 종류에 따라 달라질 수 있음은 물론이다.
이러한 경화 단계를 거친 미세패턴(5)들은 도 11 및 도 12에 도시된 바와 같이, 그 상부영역이 평활하면서 높이와 표면거칠기가 균일하고, 격막(13)에 의해 미 세패턴(5)의 폭이나 외측 둘레 크기 및 형상이 균일한 제품으로 제공된다(S06).
한편, 전술 및 도 11에 도시된 바와 같이, 미세패턴(5)이 반도체 소자의 회로패턴이나 광학소자의 격자패턴으로 이용될 경우에는 후공정으로 격막(13)을 제거하는 공정을 추가할 수 있다.
또한, 미세패턴(5)이 도 12와 같이, 디스플레이 컬러필터(50)의 R,G,B 패턴으로 적용되는 경우에는 전술한 본 발명에 따른 공정을 각 패턴에 반복적으로 실행하는 중첩인쇄를 통해 R,G,B 패턴의 형상과 두께 및 표면거칠기가 균일하게 할 수 있다. 이에 의해, 컬러필터 제조 공정을 포함한 중첩인쇄방법에 본 발명에 따른 미세패턴(5)의 인쇄방법을 용이하게 적용할 수 있다.
이와 같이, 본 발명에 따른 미세패턴(5) 인쇄방법은 미세패턴(5)의 재료인 잉크(I)를 기판(11)의 인쇄영역(15)에 인쇄한 후, 미세패턴(5)을 연질경화시키고 가압부재(31)를 이용하여 미세패턴(5)의 높이를 평활화 한 상태에서 미세패턴(5)을 경화시킴으로써, 미세패턴(5)의 형상과 두께 및 표면거칠기가 균일하게 할 수 있다.
전술 및 실시예에 서는 본 발명에 따른 미세패턴의 인쇄방법에 대해 회로패턴과 광학패턴 및 컬러필터의 R,G,B패턴을 예로 하여 설명하고 있지만, 본 발명에 따른 미세패턴 인쇄방법은, 전술한 예 외에도 다양한 분야에서 미세패턴을 형성하는 방법으로 적용될 수 있음은 물론이다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 미세패턴의 형상과 두께 및 표면거칠기가 균일하게 인쇄될 수 있으며, 중첩인쇄에도 미세패턴을 균일하게 인쇄할 수 있는 미세패턴 인쇄방법이 제공된다.

Claims (19)

  1. 미세패턴 인쇄방법에 있어서,
    격막에 의해 인쇄영역이 형성된 기판을 마련하는 단계와,
    상기 인쇄영역에 잉크를 전이시켜 미세패턴을 인쇄하는 단계와,
    상기 미세패턴을 연질경화시키는 단계와,
    상기 연질경화된 미세패턴의 높이를 균일화하는 단계와,
    상기 높이가 균일화된 미세패턴을 경화하는 단계를 포함하되;
    상기 인쇄영역에 해당하는 상기 기판과 상기 격막의 내벽은 상기 잉크에 대해 친수성을 가지며, 상기 인쇄영역 외의 비인쇄영역은 상기 잉크에 대해 소수성을 갖는 것을 특징으로 하는 미세패턴 인쇄방법.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    상기 미세패턴을 인쇄하는 단계는 스크린 인쇄로 이루어지는 것을 특징으로 하는 미세패턴 인쇄방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 미세패턴을 인쇄하는 단계는 그라비아 인쇄로 이루어지는 것을 특징으로 하는 미세패턴 인쇄방법.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 미세패턴을 인쇄하는 단계는 플렉소 인쇄로 이루어지는 것을 특징으로 하는 미세패턴 인쇄방법.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 미세패턴을 인쇄하는 단계는 패드 인쇄로 이루어지는 것을 특징으로 하는 미세패턴 인쇄방법.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 미세패턴을 인쇄하는 단계는 잉크젯 인쇄로 이루어지는 것을 특징으로 하는 미세패턴 인쇄방법.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 미세패턴을 연질경화시키는 단계는 상기 기판의 인쇄영역에 전이된 잉크에 의해 형성된 미세패턴의 외표면을 경화시켜 막을 형성하고, 상기 미세패턴의 나머지 내부는 비경화시키는 단계인 것을 특징으로 하는 미세패턴 인쇄방법.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 잉크는 열경화성 잉크이며, 상기 연질경화시키는 단계와 상기 높이가 균일화된 미세패턴을 경화하는 단계는 열경화에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 미세패턴 인쇄방법.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 잉크는 광경화성 잉크이며, 상기 연질경화시키는 단계와 상기 높이가 균일화된 미세패턴을 경화하는 단계는 광경화에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 미세패턴 인쇄방법.
  11. 제8항에 있어서,
    상기 잉크는 자연경화성 잉크이며, 상기 연질경화시키는 단계와 상기 높이가 균일화된 미세패턴을 경화하는 단계는 자연경화에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 미세패턴 인쇄방법.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 미세패턴의 높이를 균일화하는 단계는 상기 연질경화된 미세패턴의 상부영역을 소정의 가압부재로 일정한 가압력을 가하면서 평활하게 가압하는 것을 특징으로 하는 미세패턴 인쇄방법.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 가압부재는 롤러인 것을 특징으로 하는 미세패턴 인쇄방법.
  14. 제12항에 있어서,
    상기 가압부재는 평판인 것을 특징으로 하는 미세패턴 인쇄방법.
  15. 제12항에 있어서,
    상기 가압부재는 블레이드인 것을 특징으로 하는 미세패턴 인쇄방법.
  16. 제1항, 제3항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 높이가 균일화된 미세패턴을 경화한 후 상기 격막을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세패턴 인쇄방법.
  17. 반도체 소자의 회로패턴 형성방법에 있어서,
    상기 회로패턴은 상기 청구항 제16항의 미세패턴 인쇄방법에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 회로패턴 형성방법.
  18. 광학소자의 광학패턴 형성방법에 있어서,
    상기 광학패턴은 상기 청구항 제16항의 미세패턴 인쇄방법에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학소자의 광학패턴 형성방법.
  19. 기판과, 상기 기판상에 형성되는 알(R),지(G),비(B)패턴을 갖는 디스플레이용 컬러필터 제조방법에 있어서,
    상기 알(R),지(G),비(B)패턴은 상기 청구항 제1항, 제3항 내지 제15항 중 어느 한 항의 미세패턴 인쇄방법을 상기 기판상에 충접인쇄하여 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 컬러필터 제조방법.
KR1020060128713A 2006-12-15 2006-12-15 미세패턴 인쇄방법 KR100846211B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060128713A KR100846211B1 (ko) 2006-12-15 2006-12-15 미세패턴 인쇄방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060128713A KR100846211B1 (ko) 2006-12-15 2006-12-15 미세패턴 인쇄방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20080055403A KR20080055403A (ko) 2008-06-19
KR100846211B1 true KR100846211B1 (ko) 2008-07-15

Family

ID=39802238

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060128713A KR100846211B1 (ko) 2006-12-15 2006-12-15 미세패턴 인쇄방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100846211B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9869780B2 (en) 2014-10-10 2018-01-16 Samsung Electronics Co., Ltd. Organic-inorganic composite films and methods of manufacturing the same

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101037505B1 (ko) * 2009-01-07 2011-05-26 삼성전기주식회사 그라비아 인쇄법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법
CN114843430B (zh) * 2022-05-06 2024-09-20 深圳新源柔性科技有限公司 共面分形电芯、模组及制作方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005019535A (ja) * 2003-06-24 2005-01-20 Ricoh Co Ltd 電子デバイス及びその製造方法
KR20060038624A (ko) * 2004-10-30 2006-05-04 주식회사 하이닉스반도체 반도체 소자의 미세패턴 형성 방법
KR20060126213A (ko) * 2005-06-03 2006-12-07 삼성전자주식회사 반도체 소자의 미세 패턴 형성 방법
JP2006332615A (ja) * 2005-04-25 2006-12-07 Brother Ind Ltd パターン形成方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005019535A (ja) * 2003-06-24 2005-01-20 Ricoh Co Ltd 電子デバイス及びその製造方法
KR20060038624A (ko) * 2004-10-30 2006-05-04 주식회사 하이닉스반도체 반도체 소자의 미세패턴 형성 방법
JP2006332615A (ja) * 2005-04-25 2006-12-07 Brother Ind Ltd パターン形成方法
KR20060126213A (ko) * 2005-06-03 2006-12-07 삼성전자주식회사 반도체 소자의 미세 패턴 형성 방법

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9869780B2 (en) 2014-10-10 2018-01-16 Samsung Electronics Co., Ltd. Organic-inorganic composite films and methods of manufacturing the same

Also Published As

Publication number Publication date
KR20080055403A (ko) 2008-06-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4336343B2 (ja) ソフトモールドの製造方法
KR101381252B1 (ko) 임프린트 장치, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 박막패터닝 방법
US20070172969A1 (en) Additive printed mask process and structures produced thereby
JP5942551B2 (ja) ナノインプリント用マスターテンプレート及びレプリカテンプレートの製造方法
CN102371748B (zh) 辊模、其制造方法以及利用其制造薄膜图案的方法
KR20110011289A (ko) 잉크 패턴 형성 방법 및 잉크 패턴 인쇄 장치
KR20100035130A (ko) 임프린트 방법
KR100846211B1 (ko) 미세패턴 인쇄방법
JP6281592B2 (ja) レプリカテンプレートの製造方法
JP2012114158A (ja) インプリント方法およびインプリント装置
JP2017100367A (ja) スクリーンマスク及びスクリーンマスクの製造方法
JP2023138827A (ja) スクリーンマスク、スクリーンマスクの製造方法及び印刷物の製造方法
US20090184441A1 (en) Microstructure roller, microstructure fabrication method, tool for fabricating a microstructure roller
KR101367784B1 (ko) 쿠션성을 가지는 그라비아판 및 그 제조방법
KR101074077B1 (ko) 표시 장치용 차광층 및 이의 형성 방법
CN105644133B (zh) 用于胶印的移印版及其制备方法
JP4556391B2 (ja) 精細パターンの形成方法
KR101396771B1 (ko) 복합 임프린트-리소그래피에 의한 컬러필터기판 및 그 제조방법
JP4423916B2 (ja) 可撓性金属平板状の凹版を用いたパターン印刷装置
US20090183671A1 (en) Color filter fabrication apparatus
JP7501951B1 (ja) 印刷用メタルマスク
JP2007078805A (ja) 表面が平坦なカラーフィルタの作成方法
US7988899B2 (en) Stamper and method for making soft mold
JP7246677B2 (ja) スクリーンマスク、スクリーン印刷装置、及び印刷物の製造方法
KR101658956B1 (ko) 필름 마스크를 이용한 롤제판 제작방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130705

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140708

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150708

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160708

Year of fee payment: 9

LAPS Lapse due to unpaid annual fee