KR20080048738A - 액정표시장치용 마스크 및 이를 이용한 액정표시장치의제조 방법 - Google Patents

액정표시장치용 마스크 및 이를 이용한 액정표시장치의제조 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 액정표시장치용 마스크 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조 방법에 관한 것으로, 특히 액정표시장치용 마스크는 기판 상에 서로 이격하여 형성된 제 1 및 제 2 전극 패턴, 상기 제 1 및 제 2 전극 패턴 사이에, 상기 제 1 및 제 2 전극 패턴으로부터 각각 동일 간격으로 이격되어 형성되며, 상기 제 1 및 제 2 전극 패턴 사이의 영역에 대응하는 부위에 회절 효과를 주는 회절 패턴, 상기 회절 패턴과 인접한 상기 제 1 전극 패턴 또는 제 2 전극 패턴 상에 형성된 보상 패턴을 포함하여 구성됨을 특징으로 한다.
액정표시장치, OPC패턴, 4mask, 회절 노광

Description

액정표시장치용 마스크 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조 방법{THE MASK FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND THE METHOD FOR FABRICATING THE ONE USING THE SAME}
도 1은 종래 기술에 의한 액정표시장치를 나타내는 평면도
도 2는 종래 기술에 의한 액정표시장치용 마스크의 일부분을 나타내는 평면도
도 3은 종래 기술에 의한 액정표시장치용 마스크로 노광시 발생하는 문제점을 나타내는 도면
도 4는 본 발명에 의한 액정표시장치를 나타내는 평면도
도 5는 본 발명에 의한 액정표시장치용 마스크를 나타내는 평면도
도 6은 도 5의 B부분을 확대한 평면도
도 7a 내지 도 7c는 본 발명에 의한 액정표시장치의 제조방법을 나타내는 공정평면도
도 8은 본 발명에 의한 액정표시장치용 마스크로 노광한 액정표시장치의 일부분을 나타내는 도면
<도면의 주요 부호의 설명>
417 : 데이터 라인 패턴
217a, 417a : 소스 전극 패턴
219, 419 : 드레인 전극 패턴
215, 415 : 회절 패턴
435 : 홈
본 발명은 금속패턴의 불량 방지를 위한 액정표시장치용 마스크 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조 방법에 관한 것으로, 특히 회절 노광시 채널에서 소스 전극과 드레인 전극이 단락되는 것을 방지하기 위한 액정표시장치용 마스크 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조 방법에 관한 것이다.
정보화 사회가 발전함에 따라 표시장치에 대한 요구도 다양한 형태로 점증하고 있으며, 이에 부응하여 근래에는 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel), ELD(Electro Luminescent Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display) 등 여러 가지 평판 표시 장치가 연구되어 왔고, 일부는 이미 여러 장비에서 표시장치로 활용되고 있다.
그 중에, 현재 화질이 우수하고 경량, 박형, 저소비 전력의 장점으로 인하여 이동형 화상 표시장치의 용도로 CRT(Cathode Ray Tube)를 대체하면서 LCD가 가장 많이 사용되고 있으며, 노트북 컴퓨터의 모니터와 같은 이동형의 용도 이외에도 방송신호를 수신하여 디스플레이하는 텔레비전, 및 컴퓨터의 모니터 등으로 다양하게 개발되고 있다.
이와 같이 액정표시장치가 일반적인 화면 표시장치로서 다양한 부분에 사용되기 위해서는 경량, 박형, 저소비전력의 특징을 유지하면서도 고정세, 고휘도, 대면적 등 고품위 화상을 얼마나 구현할 수 있는가에 발전의 관건이 걸려 있다고 할 수 있다.
종래의 액정표시장치는 주로 총 5마스크(게이트 라인, 반도체층, 데이터 라인, 콘택홀, 화소 전극)를 사용하여 제조함으로써 공정 단가가 증가하고 공정이 복잡하다는 문제가 있다.
따라서, 최근에는 회절마스크를 사용하여 반도체층과 데이터 라인을 하나의 마스크를 사용하여 동시에 형성하는 기술이 제안되고 있다. 즉, 4마스크(게이트 라인, 반도체층 및 데이터 라인, 콘택홀, 화소전극)를 사용하여 액정표시장치를 제조하는 기술이 개발되고 있다.
도 1은 종래 기술에 의한 4마스크 공정으로 제조한 액정표시장치를 나타내는 평면도이다.
먼저, 제 1 마스크를 이용하여 기판 상에 일방향으로 게이트 라인(111) 및 이로부터 돌출되는 게이트 전극(111a)을 형성한다.
이어, 제 2 마스크를 이용하여 게이트 라인(111)과 교차하여 화소 영역을 정의하는 제 1 반도체층(113) 및 이로부터 돌출되어 게이트 전극(111a) 상부에 제 2 반도체층(115), 제 1 반도체층(113) 상부에 데이터 라인(117), 데이터 라인(117)으로부터 돌출되어 제 2 반도체층 상부에 서로 이격되는 소스 전극(117a) 및 드레인 전극(119)을 형성한다.
이어, 데이터 라인(117), 소스/드레인 전극(117a, 119)을 포함한 기판 전면에 보호막(도시하지 않음)을 형성하고, 제 3 마스크를 이용하여 드레인 전극(119) 상부의 일부를 노출시키는 콘택홀(121)을 형성한다.
이어, 제 4 마스크를 이용하여 콘택홀(121)을 통해 드레인 전극(119)과 전기적으로 연결되는 화소 전극(123)을 화소 영역에 형성한다.
이때, 소스 전극(117a)과 드레인 전극(119)의 모양은 다양한 형태로 형성될 수 있다. 그 가운데 한가지 형태로써, 도 1에 도시한 바와 같이, 소스 전극(117a)이 'ㄷ' 형태로 형성되고, 드레인 전극(119)이 소스 전극(117a)의 'ㄷ'형태의 내부로 들어오는 모양으로 형성될 수 있다.
상기에서, 제 2 마스크를 사용하는 공정에서는 제 1, 제 2 반도체층(113, 115)과 데이터 라인(117), 소스 전극(117a), 드레인 전극(119)을 동시에 패터닝하기 위하여 회절 마스크를 사용하여 회절 노광 공정을 거치게 된다. 따라서 이를 패터닝하기 위하여 사용되는 회절 마스크에 대해 더 자세히 알아본다.
도 2는 도 1의 액정표시장치의 제 1, 제 2 반도체층(113, 115)과 데이터 라인(117), 소스 전극(117a), 드레인 전극(119)을 형성하기 위한 마스크의 일부분을 나타내는 평면도로써, 특히 도 1의 A부분(소스 전극, 드레인 전극, 제 2 반도체층이 형성되는 부분)에 대응하는 부분을 나타내는 평면도이다.
도 1의 A부분에 대응하는 부분의 마스크는 소스 전극(117a)에 대응하는 부분을 차광하는 소스 전극 패턴(217a)과, 드레인 전극(119)에 대응하는 부분을 차광하 는 드레인 전극 패턴(219)과, 소스 전극 패턴(217a) 및 드레인 전극 패턴(219)과 각각 동일한 간격으로 이격되어 형성되는 회절 패턴(215)으로 구성되어 있다.
상기에서, 소스 전극 패턴(217a)은 'ㄷ'형태로 형성되고, 드레인 전극 패턴(219)이 소스 전극 패턴(217a)의 'ㄷ'형태의 내부로 들어오는 모양으로 형성된다. 이때, 소스 전극 패턴(217a)과 드레인 전극 패턴(219) 사이의 채널은 서로 평행한 제 1, 제 2 수평부(230a, 230e)와, 이에 수직한 수직부(230c)와, 제 1, 제 2 수평부(230a, 230e) 및 수직부(230c)를 사선 형태로 이어주는 제 1, 제 2 사선부(230b, 230d)로 이루어져 있다.
이러한 마스크를 사용하여 포토 레지스트를 노광 및 현상하는 경우 소스 전극 패턴(217a) 및 드레인 전극 패턴(219)에 대응하는 부분의 포토 레지스트는 제 1 두께를 갖고, 소스 전극 패턴(217a)과 드레인 전극 패턴(219) 사이의 영역에 대응하는 부분의 포토 레지스트는 제 2 두께를 갖게 되며, 나머지 부분은 포토 레지스트가 모두 제거된다. 이때, 제 1 두께는 제 2 두께보다 더 큰 값을 갖게 된다.
이후, 포토 레지스트를 에싱하게 되면, 회절 패턴(215) 및 그 양 옆의 두 개의 슬릿에 대응하는 부분의 포토 레지스트는 모두 제거되어야 한다.
그러나 상기와 같은 종래 기술에 의한 액정표시장치용 마스크를 사용하여 액정표시장치를 제조하는 경우, 특히 수직부(230c)에 대응하는 부분에서 불량이 발생하여 에싱 후에 포토 레지스트가 모두 제거되지 않음으로써, 도 3에 도시된 바와 같이, 소스 전극(117a)과 드레인 전극(119)이 서로 단락되는 문제점이 발생하게 되는 것이다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로서, 반도체층과 데이터 라인을 동시에 형성하기 위하여 회절마스크를 사용하여 액정표시장치를 제조하는 경우에 회절마스크에 광근접 효과를 보상하기 위해 홈의 형태로 보상 패턴을 삽입함으로써, 채널 영역에서 소스 전극과 드레인 전극이 단락되는 것을 방지하기 위한 액정표시장치용 마스크 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조 방법에 관한 것이다.
상기와 같은 목적에 따른 본 발명에 의한 액정표시장치용 마스크는 기판 상에 서로 이격하여 형성된 제 1 및 제 2 전극 패턴, 상기 제 1 및 제 2 전극 패턴 사이에, 상기 제 1 및 제 2 전극 패턴으로부터 각각 동일 간격으로 이격되어 형성되며, 상기 제 1 및 제 2 전극 패턴 사이의 영역에 대응하는 부위에 회절 효과를 주는 회절 패턴, 상기 회절 패턴과 인접한 상기 제 1 전극 패턴 또는 제 2 전극 패턴 상에 형성된 보상 패턴을 포함하여 구성됨을 특징으로 한다.
또한, 상기와 같은 목적에 따른 본 발명에 의한 액정표시장치용 마스크는 투명한 기판, 상기 기판 상에 일방향으로 형성되는 금속 라인 패턴, 상기 금속 라인 패턴으로부터 돌출되며, 서로 이격하여 평행한 제 1 및 제 2 수평부, 상기 제 1, 제 2 수평부에 수직한 수직부, 상기 제 1, 제 2 수평부와 수직부를 각각 연결하는 제 1, 제 2 사선부를 포함하여 이루어져 'ㄷ'자 형태로 형성된 소스 전극 패턴, 상기 소스 전극 패턴의 수직부에 형성된 홈, 상기 소스 전극 패턴과 이격되고 상기 소스 전극 패턴의 제 1, 제 2 수평부 사이로 들어오는 드레인 전극 패턴, 및 상기 소스 전극 패턴과 드레인 전극 패턴에 각각 동일 간격으로 이격되어 형성된 회절 패턴을 포함하여 구성됨을 특징으로 한다.
상기와 같은 목적에 따른 본 발명에 의한 액정표시장치의 제조 방법은 기판 상에 일방향으로 게이트 라인 및 이에 돌출하는 게이트 전극을 형성하는 단계, 상기 게이트 라인 및 게이트 전극을 포함한 기판 전면에 게이트 절연막을 형성하는 단계, 앞서 설명한 마스크를 이용하여 상기 게이트 라인과 교차하여 화소 영역을 정의하는 제 1 반도체층 및 이로부터 돌출되어 상기 게이트 전극 상부에 제 2 반도체층, 제 1 반도체층 상부에 데이터 라인 및 이로부터 돌출되어 제 2 반도체층 상부에 서로 이격되도록 'ㄷ' 형태의 소스 전극 및 상기 'ㄷ' 형태의 내부로 들어가는 드레인 전극을 형성하는 단계, 상기 데이터 라인, 소스 전극, 드레인 전극을 포함한 기판 전면에 보호막을 형성하는 단계, 상기 드레인 전극 상부의 일부가 노출되도록 상기 보호막에 콘택홀을 형성하는 단계, 및 상기 콘택홀을 통해 상기 드레인 전극과 전기적으로 연결되도록 화소 전극을 상기 화소 영역에 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
이하, 첨부된 도면을 참고하여 본 발명에 의한 액정표시장치용 마스크 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조 방법의 실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다.
본 발명에 의한 액정표시장치용 마스크를 기판에 대응시키고, UV광을 스캔하는 방식으로 노광하는 경우에 빛의 굴절하는 특성에 의한 광근접 효과(OPE : Optical Proximity Effect) 에 의한 패턴 왜곡의 발생을 방지할 수 있다.
액정표시장치에서는 반도체층 상부에 소스 전극과 드레인 전극이 서로 이격되어 형성되어, 트랜지스터의 역할을 하도록 이루어져 있으나, 광근접 효과에 의하여 소스 전극과 드레인 전극이 서로 단락되면 더 이상 트랜지스터의 역할을 할 수 없게 되는바, 본 발명에서는 이를 방지하고자 하는 것이다.
도 4는 본 발명에 의한 액정표시장치를 나타내는 평면도이고, 도 5는 본 발명에 의한 액정표시장치용 마스크를 나타내는 평면도이고, 도 6은 도 5의 B부분을 확대한 평면도이다.
본 발명에 의한 액정표시장치는 기판 상에 일방향으로 형성되는 게이트 라인(311) 및 이로부터 돌출되는 게이트 전극(311a)과, 게이트 라인(311)과 교차하여 화소 영역을 정의하는 제 1 반도체층(313) 및 이로부터 돌출되어 게이트 전극 상부에 형성되는 제 2 반도체층(315)과, 제 1 반도체층(313) 상부에 형성되는 데이터 라인(317)과, 데이터 라인으로부터 돌출되어 제 2 반도체층 상부에 서로 이격되어 형성되는 소스 전극(317a) 및 드레인 전극(319)과, 데이터 라인(317), 소스/드레인 전극(317a, 319)을 포함한 기판 전면에 드레인 전극(319) 상부의 일부를 노출시키는 콘택홀(321)이 형성되어 있는 보호막(도시하지 않음)과, 콘택홀(321)을 통해 드레인 전극(319)과 전기적으로 연결되며 화소 영역에 형성되는 화소 전극(323)으로 구성되어 있다.
이때, 소스 전극(317a)은 'ㄷ' 형태로 형성되고, 드레인 전극(319)이 소스 전극(317a)의 'ㄷ' 형태의 내부로 들어오는 모양으로 형성된다.
이하에서는 도 5 및 도 6을 참고하여, 제 1, 제 2 반도체층(313, 315), 데이 터 라인(317), 소스/드레인 전극(317a, 319)을 형성하기 위한 마스크에 대해 설명한다.
본 발명에 의한 액정표시장치용 마스크는 투명한 유리 기판 상에 일방향으로 형성되는 데이터 라인 패턴(417)과, 이로부터 돌출되어 'ㄷ' 형태로 형성되는 소스 전극 패턴(417a)과, 소스 전극 패턴(417a)과 소정 간격 이격되고 소스 전극 패턴(417a)의 'ㄷ'형태의 내부로 들어오는 모양으로 형성되는 드레인 전극 패턴(419)과, 소스 전극 패턴(417a) 및 드레인 전극 패턴(419)에 각각 동일 간격으로 이격되어 형성된 회절 패턴(415)으로 구성되어 있다.
도 6을 통해 B부분을 확대하여 소스 전극 패턴(417a), 드레인 전극 패턴(419), 회절 패턴(415)을 더 자세히 살펴보면, 소스 전극 패턴(417a)과 드레인 전극 패턴(419) 사이의 채널은 서로 평행한 제 1, 제 2 수평부(430a, 430e)와, 이에 수직한 수직부(430c)와, 제 1, 제 2 수평부(430a, 430e) 및 수직부(430c)를 사선 형태로 이어주는 제 1, 제 2 사선부(430b, 430d)로 이루어져 있다.
수직부(430c)에 해당하는 소스 전극 패턴(417a)으로부터 들어간 길이(d)가 0.1㎛이고, 폭(l)이 1.0㎛인 홈(435)이 형성되어 있다. 이는 기판에 마스크를 대응시키고, UV광을 스캔하는 방식으로 노광하는 경우에 빛의 굴절하는 특성에 의한 광근접 효과(OPE : Optical Proximity Effect)에 의해 패턴 왜곡이 발생하는 것을 고려하여 홈 형상의 보상 패턴을 삽입한 것이다.
즉, 적절한 깊이와 폭을 가진 홈(435)을 소스 전극 패턴(417a)의 수직부(430c)에 형성하고, 이를 이용하여 액정표시장치의 제조시, 채널에서 소스 전 극(317a)과 드레인 전극(319)이 단락되는 것을 방지할 수 있다.
상기와 같은 보상 패턴은 서로 이격하여 형성된 두 개의 전극 패턴을 형성할 때 적용가능하다. 즉, 기판 상에 서로 이격하여 형성된 제 1 및 제 2 전극 패턴과, 제 1 및 제 2 전극 패턴 사이에 제 1 및 제 2 전극 패턴으로부터 각각 동일 간격으로 이격되어 형성되며, 제 1 및 제 2 전극 패턴 사이의 영역에 대응하는 부위에 회절 효과를 주는 회절 패턴과, 상기 회절 패턴과 인접한 상기 제 1 전극 패턴 또는 제 2 전극 패턴 상에 형성된 보상 패턴을 포함하여 구성된 액정표시장치용 마스크를 사용하여 제 1 전극 패턴과 제 2 전극 패턴이 서로 단락되는 문제점을 방지할 수 있다.
이때, 보상 패턴은 홈의 형상을 갖고, 제 1 전극 패턴과 제 2 전극 패턴이 대응되는 영역의 중심부에 형성된다.
도 7a 내지 도 7c는 본 발명에 의한 액정표시장치의 제조방법을 나타내는 공정평면도이다.
도 7a와 같이, 투명한 절연 기판(도시하지 않음) 상에 구리(Cu), 알루미늄(Al), 알루미늄 합금(AlNd), 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr) 중 어느 하나의 물질로 제 1 금속물질층을 증착한다.
이어, 제 1 마스크를 사용하여 포토 및 식각 공정을 통해 제 1 금속물질층을 패터닝하여 기판상에 일방향으로 게이트 라인(311) 및 이에 돌출하는 게이트 전극(331a)을 형성한다. 다음으로 게이트 라인(311) 및 게이트 전극(331a)을 포함한 기판 전면에 실리콘 질화물(SiNx) 또는 실리콘 산화물(SiOx) 등의 절연물질을 증착 하여 게이트 절연막(도시하지 않음)을 형성한다.
도 7b와 같이, 기판 전면에 비정질 실리콘층을 적층하고, 그 상부에 구리(Cu), 알루미늄(Al), 알루미늄 합금(AlNd), 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 몰리브덴-텅스텐(MoW) 중 어느 하나로 제 2 금속물질층을 증착한 후, 그 상부에 감광성 물질인 포토 레지스트를 도포한다.
이어, 도 5 및 도 6을 통하여 상기에서 설명한 본 발명의 액정표시장치용 마스크를 제 2 마스크로 사용하여 포토 레지스트를 노광 및 현상한다. 이때, 제 2 마스크는 회절마스크로써, 데이터 라인 패턴(417), 소스 전극 패턴(417a), 드레인 전극 패턴(419)에 대응되는 포토 레지스트는 그대로 남아있고, 두 개의 슬릿과 회절 패턴(415)에 대응되는 포토 레지스트는 데이터 라인 패턴(417), 소스 전극 패턴(417a), 드레인 전극 패턴(419)에 대응되는 포토 레지스트보다 낮은 두께를 가지며, 나머지 부분의 포토 레지스트는 모두 제거된다.
이어, 현상된 포토 레지스트를 마스크로 하여 제 2 금속물질층 및 비정질 실리콘층을 식각하여, 게이트 라인(311)과 교차하여 화소 영역을 정의하는 제 1 반도체층(313) 및 이로부터 돌출되어 게이트 전극 상부에 제 2 반도체층(315)을 형성한다.
이어, 현상된 포토 레지스트를 산소(O2) 에싱(ashing) 공정을 통해 낮은 두께를 가진 포토 레지스트를 모두 제거한다. 에싱된 포토 레지스트를 사용하여 제 2 금속물질층을 식각하여, 제 1 반도체층(313) 상부에 데이터 라인(317)과, 데이터 라인으로부터 돌출되어 제 2 반도체층 상부에 서로 이격되도록 소스 전극(317a) 및 드레인 전극(319)을 형성한다.
이때, 소스 전극(317a)은 'ㄷ' 형태로 형성되고, 드레인 전극(319)이 소스 전극(317a)의 'ㄷ' 형태의 내부로 들어오는 모양으로 형성된다.
또한, 소스 전극(317a)과 드레인 전극(319) 사이는 채널이 형성되는 부분으로, 광근접 효과를 고려한 보상 패턴을 홈의 형태로 삽입한 마스크를 이용하여 패터닝함으로써, 채널에서 소스 전극(317a)과 드레인 전극(319)이 단락되는 것을 방지할 수 있다.
도 7c와 같이, 데이터 라인(317), 소스/드레인 전극(317a, 319)을 포함한 기판 전면에 무기재료인 SiNx, SiO2를 화학기상증착 방법으로 증착하거나 또는 유기재료인 BCB(Benzocyclobutene), 아크릴계 수지(acryl resin)를 도포하여 보호막(도시하지 않음)을 형성한다.
이어, 제 3 마스크로 보호막 상부에 드레인 전극(319) 상부의 일부를 노출시키는 콘택홀(321)을 형성한다.
이어, 콘택홀(321)을 포함한 기판 전면에 ITO(Indium Tin Oxide) 또는 IZO(Indium Zinc Oxide) 등의 투명한 금속을 증착하고, 포토 및 식각 공정을 통해 투명한 금속을 선택적으로 패터닝하여 콘택홀(321)을 통해 드레인 전극(319)과 전기적으로 연결되는 화소 전극(323)을 화소 영역에 형성한다.
도 8은 본 발명에 의한 액정표시장치용 마스크로 노광한 액정표시장치의 소 스 전극(317a) 및 드레인 전극(319) 부분을 나타내는 도면으로 소스 전극(317a)과 드레인 전극(319)이 일정하게 소정간격 이격되어 형성되어 불량이 발생하지 않음을 확인할 수 있다.
상기 실시예에서는 본 발명에 의한 액정표시장치용 마스크의 소스 전극 패턴(417a)의 수직부(430c)에 깊이(d)가 0.1㎛이고, 폭(l)이 1.0㎛인 홈(435)이 형성되어 있다. 그러나 상기 수치에 한정되는 것이 아니며, 채널의 폭, 길이, 슬릿의 선폭, 노광 에너지, 스캔 속도 등에 따라 변할 수 있으며, 이는 본 발명의 보호범위에 속함이 당연하다.
상기에서 홈(435)의 깊이(d)와 폭(l)의 수치는 실험에 의해 결정되었으며, 샘플용 액정표시장치를 깊이(d)와 폭(l)을 변화시켜가며 형성하여 소스 전극과 드레인 전극의 단락 여부를 테스트하고, 최적화된 지점의 수치를 선택하여 액정표시장치를 양산하는데 사용한다.
한편, 이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.
상기한 바와 같은 본 발명에 의한 액정표시장치용 마스크 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조 방법은 다음과 같은 효과가 있다.
반도체층과 데이터 라인을 동시에 형성하기 위하여 회절마스크를 사용하여 액정표시장치를 제조하는 경우에 회절마스크에 광근접 효과를 보상하기 위해 홈의 형태로 보상 패턴을 삽입하여 채널에서 소스 전극과 드레인 전극이 단락되는 것을 방지하는 효과가 있다.

Claims (9)

  1. 기판 상에 서로 이격하여 형성된 제 1 및 제 2 전극 패턴;
    상기 제 1 및 제 2 전극 패턴 사이에, 상기 제 1 및 제 2 전극 패턴으로부터 각각 동일 간격으로 이격되어 형성되며, 상기 제 1 및 제 2 전극 패턴 사이의 영역에 대응하는 부위에 회절 효과를 주는 회절 패턴; 및
    상기 회절 패턴과 인접한 상기 제 1 전극 패턴 또는 제 2 전극 패턴 상에 형성된 보상 패턴을 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 액정표시장치용 마스크.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 보상 패턴은 홈의 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 마스크.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 보상 패턴은 상기 제 1 전극 패턴과 상기 제 2 전극 패턴이 대응되는 영역의 중심부에 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 마스크.
  4. 투명한 기판;
    상기 기판 상에 일방향으로 형성되는 금속 라인 패턴;
    상기 금속 라인 패턴으로부터 돌출되며, 서로 이격하여 평행한 제 1 및 제 2 수평부, 상기 제 1, 제 2 수평부에 수직한 수직부, 상기 제 1, 제 2 수평부와 수직부를 각각 연결하는 제 1, 제 2 사선부를 포함하여 이루어져 'ㄷ'자 형태로 형성된 소스 전극 패턴;
    상기 소스 전극 패턴의 수직부에 형성된 홈;
    상기 소스 전극 패턴과 이격되고 상기 소스 전극 패턴의 제 1, 제 2 수평부 사이로 들어오는 드레인 전극 패턴; 및
    상기 소스 전극 패턴과 드레인 전극 패턴에 각각 동일 간격으로 이격되어 형성된 회절 패턴을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 마스크.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 홈은 광근접 효과를 보상하기 위한 보상패턴인 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 마스크.
  6. 제 4 항에 있어서,
    상기 홈은 소스 전극 패턴으로부터 들어간 길이가 0.1㎛이고, 폭이 1.0㎛인 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 마스크.
  7. 제 4 항에 있어서,
    상기 홈은 상기 소스 전극 패턴의 수직부와 드레인 전극 패턴이 대응되는 영역의 중심부에 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 마스크.
  8. 기판 상에 일방향으로 게이트 라인 및 이에 돌출하는 게이트 전극을 형성하는 단계;
    상기 게이트 라인 및 게이트 전극을 포함한 기판 전면에 게이트 절연막을 형성하는 단계;
    상기 제 1 항 내지 제 7 항의 마스크를 이용하여 상기 게이트 라인과 교차하여 화소 영역을 정의하는 제 1 반도체층 및 이로부터 돌출되어 상기 게이트 전극 상부에 제 2 반도체층, 제 1 반도체층 상부에 데이터 라인 및 이로부터 돌출되어 제 2 반도체층 상부에 서로 이격되도록 'ㄷ' 형태의 소스 전극 및 상기 'ㄷ' 형태의 내부로 들어가는 드레인 전극을 형성하는 단계;
    상기 데이터 라인, 소스 전극, 드레인 전극을 포함한 기판 전면에 보호막을 형성하는 단계;
    상기 드레인 전극 상부의 일부가 노출되도록 상기 보호막에 콘택홀을 형성하는 단계; 및
    상기 콘택홀을 통해 상기 드레인 전극과 전기적으로 연결되도록 화소 전극을 상기 화소 영역에 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
  9. 제 4 항에 있어서,
    상기 제 1, 제 2 반도체층, 데이터 라인, 소스/드레인 전극을 형성하는 단계 는,
    상기 기판 전면에 비정질 실리콘층 및 금속 물질층을 적층하고, 포토 레지스트를 도포하는 단계;
    상기 제 1 항 내지 제 3 항의 마스크를 사용하여 상기 포토 레지스트를 노광 및 현상하는 단계;
    상기 현상된 포토 레지스트를 마스크로 하여 상기 비정질 실리콘층 및 금속 물질층을 식각하여 상기 게이트 라인과 교차하여 화소 영역을 정의하는 제 1 반도체층 및 이로부터 돌출되어 상기 게이트 전극 상부에 제 2 반도체층을 형성하는 단계;
    상기 현상된 포토 레지스트를 에싱하는 단계; 및
    상기 에싱된 포토 레지스트를 마스크로 하여 상기 금속 물질층을 식각하여 제 1 반도체층 상부에 데이터 라인 및 이로부터 돌출되어 제 2 반도체층 상부에 서로 이격되도록 'ㄷ' 형태의 소스 전극 및 상기 'ㄷ' 형태의 내부로 들어오는 드레인 전극을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8952384B2 (en) 2012-04-06 2015-02-10 Boe Technology Group Co., Ltd. TFT, mask for manufacturing the TFT, array substrate and display device
CN112925136A (zh) * 2021-03-29 2021-06-08 绵阳惠科光电科技有限公司 一种驱动电路的控制开关、阵列基板和显示面板
CN112925137A (zh) * 2021-03-29 2021-06-08 绵阳惠科光电科技有限公司 一种驱动电路的控制开关、阵列基板和显示面板

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3278057B2 (ja) * 1998-12-14 2002-04-30 日本電気株式会社 半導体製造プロセスの光近接効果補正方法およびマスクデータ形成方法
KR100640210B1 (ko) * 2002-12-31 2006-10-31 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시소자 및 그 제조방법
KR101097675B1 (ko) * 2003-12-02 2011-12-22 엘지디스플레이 주식회사 박막 트랜지스터 및 그 제조 방법

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8952384B2 (en) 2012-04-06 2015-02-10 Boe Technology Group Co., Ltd. TFT, mask for manufacturing the TFT, array substrate and display device
JP2015514321A (ja) * 2012-04-06 2015-05-18 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司 Ｔｆｔ、該ｔｆｔを製造するマスク、アレイ基板及び表示装置
KR101530460B1 (ko) * 2012-04-06 2015-06-19 보에 테크놀로지 그룹 컴퍼니 리미티드 박막 트랜지스터와 이를 제조하기 위한 마스크, 어레이 기판 및 디스플레이 장치
EP2677543A4 (en) * 2012-04-06 2015-08-26 Boe Technology Group Co Ltd THIN FILM TRANSISTOR, MASK PLATE FOR ITS MANUFACTURE, ARRAY SUBSTRATE AND DISPLAY DEVICE
CN112925136A (zh) * 2021-03-29 2021-06-08 绵阳惠科光电科技有限公司 一种驱动电路的控制开关、阵列基板和显示面板
CN112925137A (zh) * 2021-03-29 2021-06-08 绵阳惠科光电科技有限公司 一种驱动电路的控制开关、阵列基板和显示面板

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