KR20080044699A - Method for testing a bare die - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 베어 다이의 검사 방법의 단계를 도시한 흐름도이다.1 is a flow chart showing the steps of a method of inspecting a bare die according to an embodiment of the present invention.
도 2 내지 도 5는 본 발명의 실시예에 따른 베어 다이의 검사 방법의 각 단계를 도시한 도면으로서, 도 2는 웨이퍼를 다이싱하여 베어 다이를 개별화하는 단계를 도시한 사시도이다.2 to 5 are diagrams illustrating each step of the inspection method of the bare die according to the exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a perspective view illustrating individualizing the bare die by dicing the wafer.
도 3은 베어 다이를 검사용 기판에 부착하는 단계를 도시한 단면도이다.3 is a cross-sectional view illustrating a step of attaching a bare die to an inspection substrate.
도 4는 베어 다이의 전기적 불량 여부를 검사하는 단계를 도시한 단면도이다.4 is a cross-sectional view illustrating a step of inspecting a bare die for electrical failure.
도 5는 베어 다이를 검사용 기판으로부터 분리하는 단계를 도시한 단면도이다.5 is a cross-sectional view illustrating the step of separating the bare die from the inspection substrate.
도 6은 도 3의 베어 다이를 검사용 기판에 부착하는 단계의 또 다른 실시예를 도시한 단면도이다. 6 is a cross-sectional view of yet another embodiment of attaching the bare die of FIG. 3 to an inspection substrate.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
10: 웨이퍼 20: 베어 다이10: wafer 20: bare die
30: 검사용 기판 32: 양면 테이프30: inspection substrate 32: double-sided tape
34: 나노 패턴층 36: 나노 헤어34: nano pattern layer 36: nano hair
42: 프루빙부42: proofing part
본 발명은 베어 다이의 검사 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 웨이퍼에서 다이싱된 베어 다이를 프루빙하는 베어 다이의 검사 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of inspecting a bare die, and more particularly, to a method of inspecting a bare die which probes a bare die diced on a wafer.
통상적으로 반도체 제조 공정은 웨이퍼 제조 및 회로설계 공정과, 상기 설계 회로에 따라서 웨이퍼를 가공하는 공정과, 상기 가공된 웨이퍼를 다이싱(dicing)하여 베어 다이를 제조한 뒤에 상기 베어 다이를 패키징 및 상기 반도체 패키지를 검사하는 단계를 거친다. In general, a semiconductor fabrication process includes a wafer fabrication and circuit design process, a process of processing a wafer according to the design circuit, a dicing of the processed wafer to manufacture a bare die, and then packaging and fabricating the bare die. Inspect the semiconductor package.
종래에는 통상적으로 베어 다이를 제조하는 단계에서는 상기 베어 다이의 전기적 불량 유무를 검사하지 않았다. 이는 상기 베어 다이 단계에서의 불량률이 그리 커지 않았기 때문이다. 따라서 상기 베어 다이의 불량 여부는 상기 패키징 단계 이후에 검사하였다.Conventionally, in the manufacturing of the bare die, the bare die is not inspected for electrical defects. This is because the failure rate in the bare die step is not so large. Therefore, the bare die was checked for defects after the packaging step.
그런데, 최근에는 상기 반도체 패키지가 복수의 층으로 이루어진 다층 패키지와 같이, 복수의 베어 다이를 구비하고 있다. 따라서 하나의 반도체 패키지에서 베어 다이의 불량이 발생할 가능성이 커지게 된다. 이 경우, 상기 패키징 단계 이후에 베어 다이의 불량 여부를 검사 시에, 상기 베어 다이 하나에 불량이 발생하더라도 패키징 단계 이후이므로 전체 반도체 패키지가 불량 처리되어서 사용하지 못하게 된다는 문제점이 있다.In recent years, however, the semiconductor package includes a plurality of bare dies, such as a multilayer package having a plurality of layers. Therefore, the possibility of a bare die failure in one semiconductor package increases. In this case, when inspecting whether the bare die is defective after the packaging step, even if a defect occurs in one of the bare dies, there is a problem that the entire semiconductor package is defectively processed and cannot be used.
이러한 문제점을 해결하기 위하여, 웨이퍼를 다이싱한 후에 그 상태로 베어 다이를 프루빙(probing) 장비에 접속시켜서 상기 베어 다이의 불량 여부를 검사할 수 있다. 그러나 이 경우에는, 웨이퍼를 다이싱하는 공정에서 상기 베어 다이가 바르게 정렬이 되지 않을 수 있다. 이에 따라서 정확한 베어 다이의 불량 여부 검사가 이루어지지 않을 수 있다. In order to solve this problem, after the wafer is diced, the bare die may be connected to the probing equipment in the state so that the bare die may be inspected for defects. In this case, however, the bare die may not be properly aligned in the process of dicing the wafer. As a result, an accurate bare die inspection may not be performed.
따라서 본 발명은, 반도체 패키징 단계 전에 베어 다이의 전기적 불량 여부를 검사하는 베어 다이의 검사 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a method of inspecting a bare die for inspecting whether the bare die is electrically defective before the semiconductor packaging step.
본 발명의 다른 목적은, 베어 다이가 바르게 정렬 후에 상기 베어 다이의 전기적 불량 여부를 검사할 수 있는 베어 다이의 검사 방법을 제공하는 것이다. Another object of the present invention is to provide a method of inspecting a bare die, which can inspect whether the bare die is electrically defective after the bare die is correctly aligned.
따라서 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 베어 다이의 검사 방법은: 웨이퍼를 다이싱하여 이루어진 베어 다이들을 소정의 간격으로 이격 배치하여 검사용 기판 상에 부착하는 단계와; 상기 검사용 기판 상에 부착된 베어 다이들의 전기적 불량 여부를 검사하는 단계와; 상기 적어도 하나의 베어 다이를 상기 검사용 기판에서 분리하여 반도체 패키징하는 단계를 포함한다.Accordingly, a method of inspecting a bare die according to a preferred embodiment of the present invention includes: attaching bare dies formed by dicing a wafer at predetermined intervals and attaching the bare dies to a test substrate; Inspecting whether the bare dies attached to the inspection substrate are electrically defective; Separating the at least one bare die from the inspection substrate and packaging the semiconductor.
이 경우, 상기 검사용 기판의 상기 베어 다이가 부착되는 면에는 양면 테이프가 부착되어 있으며, 상기 베어 다이들을 검사용 기판 상에 부착하는 단계는, 상기 베어 다이와 검사용 기판을 상기 양면 테이프를 통하여 접착함으로써 이루어질 수 있다.In this case, a double-sided tape is attached to a surface to which the bare die of the inspection substrate is attached, and the attaching of the bare dies to the inspection substrate may include bonding the bare die and the inspection substrate through the double-sided tape. This can be done by.
이와 달리, 상기 베어 다이들을 검사용 기판 상에 부착하는 단계는, 상기 베어 다이들과 검사용 기판 사이를 반데르 발스 힘(van der waals force)에 의해 접착함으로써 이루어질 수 있다. 이 경우, 상기 기판의 상기 베어 다이들이 부착되는 면에는 나노 패턴층이 형성되고, 상기 나노 패턴층이 상기 베어 다이들과의 유격이 일정 거리 이하인 경우 분산력이 발생하여 상기 베어 다이를 부착하는 것이 바람직하다.Alternatively, the step of attaching the bare dies on the inspection substrate may be accomplished by adhering between the bare dies and the inspection substrate by van der waals force. In this case, a nano pattern layer is formed on a surface to which the bare dies of the substrate are attached, and when the clearance between the bare dies is less than a predetermined distance, dispersion force is generated to attach the bare dies. Do.
이 경우, 상기 나노 패턴층은 상기 검사용 기판으로 돌출 형성되며 나노 단위의 두께를 가진 나노 헤어들이 분산 배치된 헤어부를 구비하는 것이 바람직하다. In this case, the nano-pattern layer is preferably provided with a hair protruding to the inspection substrate and the nano hairs having a thickness of nano units are arranged dispersed.
또한, 상기 적어도 하나의 베어 다이를 상기 검사용 기판에서 분리하는 단계는, 적어도 상기 나노 패턴층에 열을 가함으로써 이루어질 수 있다.The separating of the at least one bare die from the inspection substrate may be performed by applying heat to at least the nanopattern layer.
한편, 상기 다이싱된 베어 다이들을 소정의 간격으로 이격하는 단계는, 상기 각각의 베어 다이들 사이의 간격을 상기 각각의 베어 다이를 테스트하는 프루빙부 사이의 간격과 동일하도록 이격하는 것이 바람직하다.Meanwhile, the dicing of the diced bare dies by a predetermined interval may be such that the interval between the respective bare dies is equal to the interval between the probe parts for testing the bare dies.
이하, 첨부된 도면을 참조하며 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment of the present invention.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 베어 다이의 검사 방법을 도시한 흐름도이다.1 is a flowchart illustrating a method of inspecting a bare die according to a preferred embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 본 발명의 베어 다이의 검사 방법은, 가공된 웨이퍼를 다 이싱(dicing)하여 이루어진 베어 다이들을 소정의 간격으로 이격 배치하여 검사용 기판 상에 부착하는 단계(S10)와, 상기 검사용 기판 상에 부착된 베어 다이들의 전기적 불량 여부를 검사하는 단계(S20)와, 상기 적어도 하나의 베어 다이를 상기 검사용 기판에서 분리하여 소팅하는 단계(S30)를 포함한다.Referring to FIG. 1, the method for inspecting a bare die according to the present invention may include attaching a bare die formed by dicing a processed wafer at predetermined intervals and attaching the bare dies on an inspection substrate (S10); And inspecting (S20) an electrical failure of bare dies attached to the inspection substrate, and separating and sorting the at least one bare die from the inspection substrate (S30).
도 2는 가??된 웨이퍼를 다이싱하는 공정의 일예를 도시한 도면이다. 이 경우, 웨이퍼 가공이란 규소 등의 반도체 소재봉을 절단하여 웨이퍼(10)를 제조하고, 상기 웨이퍼(10) 상에 배선 패턴을 형성시키는 공정이다. 웨이퍼(10)를 다이싱하는 공정이란 상기 가공된 웨이퍼(10)를 절단(sawing)하여 복수의 베어 다이(bare die)(20)들로 분리하는 공정이다. 상기 공정은 예를 들어 다이아몬드 톱과 같은 절단 수단(5)을 통하여 이루어질 수 있다.2 is a diagram illustrating an example of a process of dicing a provisioned wafer. In this case, wafer processing is a process of manufacturing the
도 3 내지 도 5는 본 발명의 각각의 단계를 도시한 도면이다. 도 3 내지 도 5를 참고하여 본 발명의 각각의 단계를 설명하면, 먼저 도 3에 도시된 바와 같이, 웨이퍼 다이싱된 베어 다이(20)들을 소정의 간격으로 이격 배치하여 검사용 기판(30) 상에 부착하는 단계를 거친다. 즉, 다이싱되어 분리된 각각의 베어 다이(20)들을 이동하여 별도의 검사용 기판(30) 상에 부착시키는데, 이 단계에서 상기 검사용 기판(30) 상에서 각각의 베어 다이(20)들이 소정의 간격으로 이격되도록 부착한다. 본 단계는, 상기 웨이퍼 다이싱 공정에 의하여 개별화된 베어 다이(20)들 각각이 프루빙 장비(probing apparatus)에 의하여 프루빙되기 위한 최적의 배열 상태가 되도록 한다. 3 to 5 show each step of the invention. 3 to 5, each step of the present invention will be described. First, as illustrated in FIG. 3, the wafer diced bare dies 20 are spaced at predetermined intervals so that the
전기적 불량 여부를 확인하기 위해서는, 각각의 베어 다이(20)들이 서로 전 기적으로 이격되어 있어야 하며, 상기 검사장비의 상기 각각의 베어 다이(20)를 프루빙하는 프루빙부(42; 도 4 참조)에 정확히 대응되도록 배치되어야 한다. 그러나 웨이퍼(10) 다이싱 단계를 거치면서, 상기 베어 다이(20)들의 이격 거리가 너무 가깝게 되거나, 약간의 충격이나 진동에서도 정렬 오차가 발생할 가능성이 커지게 된다. 따라서, 웨이퍼(10)을 다이싱하여 개별화된 베어 다이(20)들을 별도의 검사용 기판(30)에 소정의 이격 거리를 두고 부착시킴으로써 상기와 같은 문제점을 해결할 수 있다.In order to check whether there is an electrical failure, each of the
그 후에, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 검사용 기판(30) 상에 부착된 베어 다이(20)들의 전기적 불량 여부를 검사하는 단계를 거친다. 상기 단계는 프루빙 장비(40)에 의하여 행해질 수 있다. 상기 프루빙 장비(40)에는 상기 베어 다이(20) 각각과 대응되는 프루빙부(42)들이 배치되어 있으며, 상기 프루빙부(42)에는 상기 베어 다이(20)의 패드들과 접촉되어 전기적 불량 여부를 검사할 수 있는 탐침(45)들이 배치되어 있다. 이 경우, 상기 검사용 기판(30)에 의하여 검사 받기 정확한 위치에 베어 다이(20)들이 정렬될 수 있으므로, 정확하고, 안정적으로 전기적 검사를 행할 수 있게 된다. Thereafter, as shown in FIG. 4, the
그 후에 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 적어도 하나의 베어 다이(20)를 상기 검사용 기판(30)에서 분리하여 소팅하게 된다. Thereafter, as shown in FIG. 5, the at least one
소팅된 베어 다이(20)들은 반도체 패키징하는 단계를 거치게 되어서 반도체 패키지를 이루게 된다. 반도체 패키징하는 단계는 리드 프레임에 베어 다이(20)를 어태치하는 다이 어태치 공정과, 리드 프레임의 내측 리드(inner lead)와 베어 다 이(20)의 패드 사이를 와이어 본딩하는 와이어 본딩 공정과, 상기 리드 프레임 및 베어 다이(20)를 몰딩하는 공정을 거칠 수 있다. 최근에는 와이어 본딩 공정을 생략하고, 상기 베어 다이(20)의 패드를 직접 리드 프레임 등의 프레임에 부착할 수도 있다. The sorted
상기 반도체 패키지는, 다층의 베어 다이(20)가 구비된 다층 패키지일 수 있다. 상기 단계에서는 전기적으로 양호한 베어 다이(20)를 패키징하므로, 베어 다이(20) 자체의 전기적 불량으로 인하여 패키지 불량이 발생하지 않게 된다.The semiconductor package may be a multilayer package provided with a
한편, 상기 베어 다이(20)들을 검사용 기판(30) 상에 부착하는 단계에서는, 웨이퍼(10)에서 다이싱된 베어 다이(20)들이 상기 검사용 기판(30)에 분리 가능하게 부착되어야 한다. Meanwhile, in the attaching the
상기 검사용 기판(30) 상에 베어 다이(20)들을 부착하는 하나의 예로서, 도 3 내지 도 5에 도시된 바와 같이 양면 테이프(32)를 사용할 수 있다. 이 경우, 상기 검사용 기판(30)의 상기 베어 다이(20)가 부착되는 면에는 양면 테이프(32)가 부착되어 있으며, 상기 베어 다이(20)들을 검사용 기판(30) 상에 부착하는 단계는, 상기 베어 다이(20)와 검사용 기판(30)을 상기 양면 테이프(32)를 통하여 접착될 수 있다. 이 경우 상기 양면 테이프(32)는 높은 부착력을 가지면서도, 일정 조건에서는 분리가 쉽게 될 수 있는 소재로 이루어지는 것이 바람직하다.As an example of attaching the bare dies 20 to the
이와 달리, 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 베어 다이(20)들을 검사용 기판(30) 상에 부착하는 단계는, 상기 베어 다이(20)들과 검사용 기판(30) 사이를 반데르 발스 힘(van der waals force)에 의해 접착함으로써 이루어질 수 있다. 즉, 검사용 기판(30)의 일 부재의 분자와 베어 다이(20)의 분자 사이에 인력이 발생하도록 하여서, 상기 베어 다이(20)가 상기 검사용 기판(30)에 부착되도록 하고, 상기 베어 다이(20)들을 검사용 기판(30)으로부터 분리하는 단계에서, 상기 베어 다이(20)와 검사용 기판(30) 사이의 반데르 발스 힘을 제거함으로써 간단히 이루어질 수 있다. In contrast, as shown in FIG. 6, the step of attaching the bare dies 20 to the
여기서, 반데르 발스 힘이란 분산력(dispersion force)이라고도 하는데, 전기적으로 중성인 분자 사이에서 작용하는 약한 인력을 일컫는다. 상술하면, 비극성 분자들이 아주 가깝게 접근하면 한 분자의 원자핵이 인접 분자의 전자 구름을 끌어당겨 그 인접 분자가 부분적으로 극성을 띠게 되는 유발 이중 극자(induced dipole)를 형성함으로써 분자들 사이에 약한 정전기적 인력이 작용하게 되는데, 이 힘을 분산력이라 한다. Here, van der Waals forces, also called dispersion forces, are weak forces that act between electrically neutral molecules. Specifically, when the non-polar molecules come in close proximity, the weak nucleus between the molecules is caused by the formation of induced dipoles in which the nucleus of one molecule attracts the electron cloud of the adjacent molecule, causing the adjacent molecule to be partially polarized. The attraction force is acting, this force is called dispersion force.
이 경우, 상기 기판의 상기 베어 다이(20)들이 부착되는 면에는 나노 패턴층(34)이 형성되고, 상기 나노 패턴층(34)이 상기 베어 다이(20)들과의 유격이 일정 거리 이하인 경우 분산력이 발생하여 상기 베어 다이(20)를 부착하도록 할 수 있다. In this case, the nano-
이 경우, 상기 나노 패턴층(34)은 상기 검사용 기판(30)으로 돌출 형성되며 나노 단위의 두께를 가진 나노 헤어(36)들이 분산 배치되어 이루어질 수 있다. 상기 나노 헤어(36)는 나노 구조물의 일종으로, 속이 찬 기둥 형태 또는 말단이 다양한 형태를 가진 높은 구조물을 지칭하며, 나노 헤어(36) 각각이 분자의 역할을 함으로써, 보다 용이하게 이에 인접한 베어 디이 분자와 반데르 발스 결합력을 가 질 수 있다. 상기 검사용 기판(30) 상에 나노 헤어(36)를 제작하는 공정 기술은, 예로 들어 증착에 의한 나노 헤어(36) 제조 방법이나, 식각에 의한 나노 헤어(36) 제조 방법 등 다양하게 알려져 있다. In this case, the
또한, 도면에는 도시되지 않으나, 상기 베어 다이들을 검사용 기판 상에 부착하는 단계는, 진공 상태로 상기 베어 다이들을 검사용 기판 상에 흡착함으로써 이루어질 수 있다. 이를 위하여 상기 검사용 기판 상에 적어도 하나의 진공 척이 형성되어서, 상기 진공 척에 베어 다이들을 부착할 수 있다. 이와 달리, 상기 검사용 기판 상에 복수의 진공 홀이 형성되어서 상기 진공 홀들을 통하여 상기 베어 다이를 흡착하여 부착할 수도 있다. Further, although not shown in the drawings, the step of attaching the bare dies on the inspection substrate may be performed by adsorbing the bare dies on the inspection substrate in a vacuum state. To this end, at least one vacuum chuck may be formed on the inspection substrate to attach bare dies to the vacuum chuck. Alternatively, a plurality of vacuum holes may be formed on the inspection substrate to adsorb and attach the bare die through the vacuum holes.
한편, 상기 검사용 기판(30)으로부터 베어 다이(20)를 분리하는 단계는, 적어도 상기 나노 패턴층(34)에 소정 이상의 열을 가함으로써 이루어질 수 있다. 상기 나노 패턴층(34)에 열을 가하게 되면, 나노 헤어(36)의 분자와 베어 다이(20) 분자 사이의 분자 운동을 활성화시킴에 의해 검사용 기판(30)과 베어 다이(20) 사이에 작용하는 반데르 발스 힘을 약화시킴으로써, 상기 검사용 기판(30)으로부터 베어 다이(20)를 분리할 수 있다. 한편, 본 명세서에 있어서 "나노 패턴층(34)에 열을 가한다"는 의미는 나노 패턴층(34)에 직접 또는 간접적으로 가열하는 모든 동작 및 구성을 포괄하도록 해석된다. Meanwhile, the separating of the bare die 20 from the
본 발명에 의하면, 반도체 패키징 단계 전의 베어 다이의 상태에서, 상기 베어 다이의 전기적 불량 여부를 확인한다. 따라서 상기 베어 다이의 전기적 불량으 로 인하여 반도체 패키지가 불량되는 것이 방지됨으로써, 반도체 패키지의 불량률을 감소시킬 수 있고, 이에 따라서 제조 원가를 감소시킬 수 있다.According to the present invention, in the state of the bare die before the semiconductor packaging step, it is determined whether the bare die is electrically defective. Therefore, the semiconductor package is prevented from being defective due to the electrical failure of the bare die, thereby reducing the defective rate of the semiconductor package, thereby reducing the manufacturing cost.
또한, 상기 베어 다이들을 바람직한 이격 거리를 가지고 정렬한 채로, 상기베어 다이의 전기적 불량 여부를 검사할 수 있음으로써, 베어 다이의 불량 여부를 보다 정확하고 안정적이며 신속하게 검사할 수 있다. In addition, the bare dies can be inspected with the desired separation distance, and the bare dies can be inspected for electrical defects, so that the bare dies can be inspected more accurately, stably and quickly.
본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속하는 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, this is merely exemplary, and any person skilled in the art to which the present invention pertains may have various modifications and equivalent other embodiments. Will understand. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E90F | Notification of reason for final refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |