KR20080036903A - Touch cleaning apparatus for large area substrate - Google Patents

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Abstract

A contact cleaning apparatus for a large sized area is provided to increase cleaning force at a relatively small area through surface contact by applying a belt type brush. A contact cleaning apparatus for a large sized area comprises a conveyer, an upper belt brush portion(30), and a lower belt brush portion(40). The conveyer conveys a substrate(10). The upper belt brush portion surface-contacts with an upper surface of the conveyed substrate to clean an upper surface of the substrate. The lower belt brush portion surface-contacts with a lower surface of the conveyed substrate to clean a lower surface of the substrate. The upper belt brush portion and the lower belt brush portion include a plurality of rollers(31,32) and a belt brush(33). The plurality of rollers are spaced apart from each other by a predetermined distance and rotate. When the plurality of rollers rotate, the belt brush surface-contacts with the upper surface or the lower surface of the substrate.

Description

대면적 기판의 접촉식 세정장치{Touch cleaning apparatus for large area substrate}Touch cleaning apparatus for large area substrate

도 1은 종래 롤 브러시 세정장치의 구성도이다.1 is a block diagram of a conventional roll brush cleaning device.

도 2은 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 제1실시예에 따른 구성도이다.2 is a configuration diagram according to a first embodiment of the contact cleaning apparatus for a large area substrate of the present invention.

도 3은 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 제2실시예에 따른 구성도이다.3 is a configuration diagram according to a second embodiment of the contact cleaning apparatus for a large area substrate of the present invention.

도 4는 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 제3실시예에 따른 구성도이다.4 is a configuration diagram according to a third embodiment of the contact cleaning apparatus for a large area substrate of the present invention.

도 5는 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 제4실시예에 따른 구성도이다.5 is a configuration diagram according to a fourth embodiment of the contact cleaning apparatus for a large area substrate of the present invention.

도 6은 본 발명에 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 제5실시예에 따른 구성도이다.6 is a configuration diagram according to a fifth embodiment of the contact cleaning apparatus for a large area substrate in the present invention.

도 7은 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 제6실시예에 따른 구성도이다.7 is a configuration diagram according to a sixth embodiment of the contact cleaning apparatus for a large area substrate of the present invention.

도 8은 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 제7실시예에 따른 구성도이다.8 is a configuration diagram according to a seventh embodiment of the contact cleaning apparatus for a large area substrate of the present invention.

도 9는 도 8에 있어서, 주요부분 상세 구성도이다.9 is a detailed configuration diagram of the main part in FIG. 8.

도 10은 도 8에 있어서, 브러시 체결부에 체결된 브러시의 다른 구성도이다.FIG. 10 is another configuration diagram of the brush fastened to the brush fastening part in FIG. 8.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

10:기판 20:이송부10: Substrate 20: Transfer section

30:상부 벨트 브러시부 31,32:롤러30: Upper belt brush part 31, 32: Roller

33:벨트 브러시 34:압력조절판33: belt brush 34: pressure control plate

40:하부 벨트 브러시부 41,42:롤러40: lower belt brush part 41, 42: roller

43:벨트 브러시 44:압력조절판43: belt brush 44: pressure control plate

본 발명은 대면적 기판의 접촉식 세정장치에 관한 것으로, 특히 접촉식 세정장치와 대면적 기판의 접촉면적을 증가시킨 대면적 기판의 접촉식 세정장치에 관한 것이다.The present invention relates to a contact cleaning apparatus for a large area substrate, and more particularly, to a contact cleaning apparatus for a large area substrate in which the contact area between the contact cleaning apparatus and the large area substrate is increased.

일반적으로, 대면적 기판을 사용하는 평판 디스플레이의 제조공정에서는 세정액 등을 이용하여 상기 대면적 기판을 습식세정하고 있으며, 그 습식세정과정에서 상대적으로 큰 파티클을 제거하기 위하여 접촉식 세정장치를 사용하고 있다.In general, in the manufacturing process of a flat panel display using a large area substrate, the large area substrate is wet-cleaned using a cleaning liquid, etc., and a contact cleaning apparatus is used to remove relatively large particles in the wet cleaning process. have.

종래 대면적 기판의 접촉식 세정장치는 이송중인 기판의 상하면에 각각 접촉 되어 상호 반대방향으로 회전하는 롤 브러시(roll brush)를 사용하였으며, 이와 같은 종래 대면적 기판의 접촉식 세정장치를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Conventional contact cleaning device of a large-area substrate used a roll brush that is in contact with the upper and lower surfaces of the substrate being transported to rotate in opposite directions, attached to the conventional contact cleaning device of a large-area substrate When described in detail with reference to as follows.

도 1은 종래 대면적 기판의 접촉식 세정장치인 롤 브러시 세정장치의 단면 구성도이다.1 is a cross-sectional configuration diagram of a roll brush cleaning apparatus which is a conventional contact cleaning apparatus for a large area substrate.

도 1을 참조하면, 종래 롤 브러시 세정장치는 이송부(2)에 의해 이송되는 기판(1)의 상면에 접촉되며, 상호 소정거리 이격되는 복수의 상부 롤 브러시(3,4)와, 상기 상부 롤 브러시(3,4)와 기판(1)이 접촉하는 접촉부의 저면에 접촉되는 복수의 하부 롤 브러시(5,6)를 포함하여 구성된다.Referring to FIG. 1, a conventional roll brush cleaning apparatus contacts a top surface of a substrate 1 transferred by a transfer unit 2, and a plurality of upper roll brushes 3 and 4 spaced apart from each other by a predetermined distance, and the upper roll. It comprises a plurality of lower roll brushes (5, 6) in contact with the bottom surface of the contact portion in contact with the brush (3, 4) and the substrate (1).

상기 상부 롤 브러시(3,4)와 하부 롤 브러시(5,6)는 기판(1)이 처짐이 발생되지 않도록 기판(1)의 상하면에 마주보게 위치한다.The upper roll brushes 3 and 4 and the lower roll brushes 5 and 6 are positioned to face the upper and lower surfaces of the substrate 1 such that the substrate 1 does not sag.

상기 상부 롤 브러시(3,4)는 각각 회전방향을 반대로 할 수 있으며, 그 상부 롤 브러시(3,4)에 마주하는 하부 롤 브러시(5,6) 또한 회전방향이 반대가 된다.The upper roll brushes 3 and 4 may reverse the rotation directions, respectively, and the lower roll brushes 5 and 6 facing the upper roll brushes 3 and 4 also reverse the rotation directions.

이와 같은 구조에서 상기 상부 롤 브러시(3,4)와 하부 롤 브러시(5,6)는 이송되는 기판(1)의 이송방향에 대해 수직인 방향으로 선접촉되며, 그 접촉부분에서 상대적으로 크기가 큰 파티클을 제거하게 된다.In this structure, the upper roll brushes 3 and 4 and the lower roll brushes 5 and 6 are linearly contacted in a direction perpendicular to the conveying direction of the substrate 1 to be conveyed, and the size of the upper roll brushes 3 and 4 and the lower roll brushes 5 and 6 This will remove large particles.

그러나 상기 상부 롤 브러시(3,4)와 하부 롤 브러시(5,6)는 모두 선접촉되는 것으로, 세정력이 저하되는 문제점이 있었다. 이를 극복하기 위하여 상부 롤 브러시(3,4)와 하부 롤 브러시(5,6)를 각각 다수로 설치하여야 한다.However, the upper roll brush (3, 4) and the lower roll brush (5, 6) are all in line contact, there was a problem that the cleaning power is lowered. In order to overcome this, a plurality of upper roll brushes 3 and 4 and lower roll brushes 5 and 6 should be installed.

이처럼 세정력의 증가를 위해 다수의 롤 브러시와 이를 각각 구동하는 구동부를 사용해야 함으로써, 접촉식 세정장치의 설치 면적이 증가하게 되는 문제점이 있었다.As such, by using a plurality of roll brushes and a driving unit for driving each of them, the installation area of the contact cleaning device has been increased.

또한, 롤 브러시가 장축화되어 그 롤 브러시에 처짐이 발생할 수 있으며, 이에 접촉되는 기판(1)의 중앙부에서는 압력이 증가하여 기판(1)이 손상될 수 있으며, 기판(1)의 가장자리 부분에서는 접촉압력이 중앙부에 비해 낮아져 세정력이 저하되는 문제점이 있었다.In addition, the roll brush may be elongated and sag may occur in the roll brush. In the center portion of the substrate 1 which is in contact with the roll brush, pressure may increase, thereby damaging the substrate 1, and at the edge portion of the substrate 1. There was a problem that the contact pressure is lower than the central portion and the cleaning power is lowered.

상기와 같은 문제점을 감안한 본 발명은 설치면적을 최소화하면서도 세정력을 향상시킬 수 있는 대면적 기판의 접촉식 세정장치를 제공함에 그 목적이 있다.It is an object of the present invention to provide a contact cleaning apparatus for a large-area substrate that can improve cleaning power while minimizing an installation area.

또한, 본 발명의 다른 목적은 기판을 접촉식으로 세정할 때 기판이 손상되는 것을 최대한 방지할 수 있는 대면적 기판의 접촉식 세정장치를 제공함에 있다.In addition, another object of the present invention is to provide a contact cleaning apparatus for a large-area substrate that can prevent the substrate from being damaged as much as possible when the substrate is cleaned by contact.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 기판을 이송하는 이송부와, 상 기 이송되는 기판의 상면에 면접촉되어 기판의 상면을 세정하는 상부 벨트 브러시부와, 상기 이송되는 기판의 저면에 면접촉되어 기판의 저면을 세정하는 하부 벨트 브러시부를 포함한다.The present invention for achieving the above object is a transfer portion for transporting the substrate, the upper belt brush portion for cleaning the upper surface of the substrate by surface contact with the upper surface of the substrate to be transported, the surface contact with the bottom surface of the transported substrate And a lower belt brush portion for cleaning the bottom surface of the substrate.

상기와 같이 구성되는 본 발명의 바람직한 실시예들을 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.When described in detail with reference to the accompanying drawings, preferred embodiments of the present invention configured as described above are as follows.

<실시예 1><Example 1>

도 2는 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 제1실시예에 따른 구성도이다.2 is a configuration diagram according to a first embodiment of the contact cleaning apparatus for a large area substrate of the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 바람직한 실시예는 이송부(20)에 의해 이송되는 기판(10)의 상면에 면접촉되어 기판(10)의 상면을 세정하는 상부 벨트 브러시부(30)와, 상기 상부 벨트 브러시부(30)와 대응하는 위치의 기판(10)의 저면에 면접촉되어 기판(10)의 저면을 세정하는 하부 벨트 브러시부(40)로 구성된다.Referring to Figure 2, a preferred embodiment of the contact cleaning apparatus of the large-area substrate of the present invention is an upper belt for surface contact with the upper surface of the substrate 10 to be transported by the transfer unit 20 to clean the upper surface of the substrate 10 The brush part 30 and a lower belt brush part 40 which are in surface contact with the bottom surface of the substrate 10 at a position corresponding to the upper belt brush part 30 and clean the bottom surface of the substrate 10.

상기 상부 벨트 브러시부(30)는 상호 소정거리 이격되어 동일방향으로 회전하는 두 롤러(31,32)와, 상기 롤러(31,32)의 외주면에 감겨 두 롤러(31,32)의 회전에 따라 회전하며, 상기 기판(10)의 상면에 면접촉되어 기판(10)의 이송방향에 수직인 방향으로 그 기판(10)을 세정하는 벨트 브러시(33)를 포함한다.The upper belt brush part 30 is spaced apart from each other by two rollers 31 and 32 rotating in the same direction, and wound around the outer circumferential surfaces of the rollers 31 and 32 according to the rotation of the two rollers 31 and 32. And a belt brush 33 which rotates and cleans the substrate 10 in a direction perpendicular to the transfer direction of the substrate 10 by surface contact with the upper surface of the substrate 10.

상기 하부 벨트 브러시부(40)는 상호 소정거리 이격되어 동일방향으로 회전 하는 두 롤러(41,42)와, 상기 롤러(41,42)의 외주면에 감겨 두 롤러(41,42)의 회전에 따라 회전하며, 상기 기판(10)의 저면에 그 기판(10)의 이송방향에 수직한 방향으로 면접촉되어 그 기판(10)을 세정하는 벨트 브러시(43)를 포함한다. The lower belt brush part 40 is spaced apart from each other by a predetermined distance, and the two rollers 41 and 42 rotate in the same direction, and are wound around the outer circumferential surfaces of the rollers 41 and 42 as the two rollers 41 and 42 rotate. And a belt brush 43 which rotates and is in surface contact with the bottom surface of the substrate 10 in a direction perpendicular to the transfer direction of the substrate 10 to clean the substrate 10.

이하, 상기와 같이 구성되는 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 바람직한 실시예의 구성과 작용을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the configuration and operation of a preferred embodiment of the contact cleaning apparatus of the large-area substrate of the present invention configured as described above will be described in more detail.

먼저, 상부 벨트 브러시부(30)와 하부 벨트 브러시부(40)는 그 구성이 동일하며, 각각에 마련된 롤러(31,32)(41,42)의 회전방향은 서로 동일하다.First, the upper belt brush portion 30 and the lower belt brush portion 40 have the same configuration, and the rotation directions of the rollers 31, 32, 41, 42 provided in each are the same.

이에 따라 그 롤러(31,32,)(41,42)에 의해 구동되는 벨트 브러시(33,43) 또한 구동방향이 서로 동일 방향이 된다.Accordingly, the belt brushes 33, 43 driven by the rollers 31, 32, 41, 42 also have the same driving direction.

즉, 상부 벨트 브러시부(30)의 벨트 브러시(33)는 기판(10)의 상면에 접촉되어, 기판(10)의 이송방향에 대하여 우측으로 수직한 방향으로 회전하면서 기판(10)의 상면을 세정하게 되며, 하부 벨트 브러시부(40)의 벨트 브러시(43)는 기판(10)의 저면에 면접촉하여 그 기판(10)의 이송방향에 대하여 좌측으로 수직한 방향으로 회전하면서 기판(10)의 저면을 세정한다.That is, the belt brush 33 of the upper belt brush part 30 is in contact with the upper surface of the substrate 10 to rotate the upper surface of the substrate 10 while rotating in a direction perpendicular to the right side with respect to the transfer direction of the substrate 10. The belt brush 43 of the lower belt brush part 40 is in surface contact with the bottom surface of the substrate 10 and rotates in a direction perpendicular to the left side with respect to the transfer direction of the substrate 10. Clean the bottom.

이와 같은 구동에 의해 상기 이송되는 기판(10)은 편향힘을 받지 않게 된다. By this driving, the substrate 10 to be transferred is not subjected to a deflection force.

상기 벨트 브러시(33,43)는 각각 외주면에 브러시가 마련된 것이며, 그 브러시와 기판(10)의 접촉은 면접촉으로, 접촉면적을 증가시켜 세정력을 높일 수 있다.Each of the belt brushes 33 and 43 is provided with a brush on an outer circumferential surface thereof, and the contact between the brush and the substrate 10 is in surface contact, and the cleaning area may be increased by increasing the contact area.

이에 따라 종래 롤 브러시와 같이 다수의 롤 브러시를 사용할 필요가 없으며, 상대적인 설치면적을 줄일 수 있게 된다.Accordingly, it is not necessary to use a plurality of roll brushes as in the conventional roll brush, and the relative installation area can be reduced.

상기 상부 벨트 브러시부(30)와 하부 벨트 브러시부(40)는 각각 상하로 이동이 가능해야 한다. 이는 기판(10)과의 면접촉압력을 조절하기 위한 것이며, 이는 상부 벨트 브러시부(30)와 하부 벨트 브러시부(40) 각각에 마련된 롤러(31,32)(41,42)의 높이를 조정함으로써 가능하게 된다.The upper belt brush part 30 and the lower belt brush part 40 should be movable up and down, respectively. This is to adjust the surface contact pressure with the substrate 10, which adjusts the height of the rollers 31, 32, 41, 42 provided in the upper belt brush portion 30 and the lower belt brush portion 40, respectively. It is possible by doing this.

이와 같이 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치는 기판(10)의 세정을 위한 접촉면을 면접촉으로 함으로써, 상대적으로 좁은 면적에서도 더 우수한 세정력을 가지게 된다.As described above, the contact cleaning apparatus of the large-area substrate of the present invention has better cleaning power even in a relatively small area by making a surface contact with the contact surface for cleaning the substrate 10.

그리고, 상기 상부 벨트 브러시부(30)의 롤러(31,32)와 하부 벨트 브러시부(40)의 롤러(41,42)는 기판(10)이 진입하는 방향의 사이가 더 넓도록 경사지게 배치할 수 있다.The rollers 31 and 32 of the upper belt brush part 30 and the rollers 41 and 42 of the lower belt brush part 40 may be disposed to be inclined to be wider in a direction in which the substrate 10 enters. Can be.

이때의 경사각은 1 내지 10도의 범위에서 경사지게 한다.At this time, the inclination angle is inclined in the range of 1 to 10 degrees.

상기와 같은 롤러(31,32,41,42)의 배치에 의해 기판(10)이 상부 벨트 브러시부(30)와 하부 벨트 브러시부(40)의 사이로 이송되는 초기 과정에서 파손되는 것을 방지할 수 있다.By arranging the rollers 31, 32, 41, and 42 as described above, the substrate 10 may be prevented from being damaged in the initial process of being transported between the upper belt brush part 30 and the lower belt brush part 40. have.

이와 같은 롤러(31,32,41,42)의 경사 형태는 아래의 실시예들에서도 동일하게 적용될 수 있음은 물론이다.The inclined shape of the rollers 31, 32, 41, and 42 may be equally applied to the following embodiments.

<실시예 2><Example 2>

도 3은 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 제2실시예에 따른 구성도이다.3 is a configuration diagram according to a second embodiment of the contact cleaning apparatus for a large area substrate of the present invention.

도 3을 참조하면, 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 다른 실시예는 상기 실시예 1의 구성에서 상기 상부 벨트 브러시부(30)의 두 롤러(31,32)의 사이에 위치하여, 그 두 롤러(31,32)에 의해 구동되는 벨트 브러시(33)와 기판(10)과의 접촉압력을 조절할 수 있는 압력조절판(34)과, 상기 하부 벨트 브러시부(40)의 두 롤러(41,42)의 사이에 위치하여, 그 두 롤러(41,42)에 의해 구동되는 벨트 브러시(43)와 기판(10)과의 접촉압력을 조절할 수 있는 압력조절판(44)을 더 포함하여 구성된다.3, another embodiment of the contact cleaning apparatus of the large-area substrate of the present invention is located between the two rollers (31, 32) of the upper belt brush portion 30 in the configuration of the first embodiment, A pressure regulating plate 34 capable of adjusting the contact pressure between the belt brush 33 driven by the two rollers 31 and 32 and the substrate 10, and the two rollers 41 of the lower belt brush part 40. And a pressure regulating plate 44 positioned between the 42 and the belt brush 43 driven by the two rollers 41 and 42 to adjust the contact pressure between the substrate 10 and the belt brush 43. .

이때, 상기 상부 벨트 브러시부(30)의 두 롤러(31,32)와 상기 하부 벨트 브러시부(40)의 두 롤러(41,42)는 이송되는 기판(10)과 소정거리 이상 이격된 위치에서 회전가능하도록 고정된 것이며, 상기 압력조절판(34,44)의 상하 위치 조절에 의해 벨트 브러시(33,43)와 기판(10)의 접촉 압력을 조절할 수 있게 된다.In this case, the two rollers 31 and 32 of the upper belt brush part 30 and the two rollers 41 and 42 of the lower belt brush part 40 are spaced apart from the substrate 10 to be transported by a predetermined distance or more. It is fixed to the rotatable, it is possible to adjust the contact pressure of the belt brush (33, 43) and the substrate 10 by adjusting the vertical position of the pressure control plate (34, 44).

상기 상부 벨트 브러시부(30)의 두 롤러(31,32) 중 적어도 하나의 롤러는 구동롤러이며, 하부 벨트 브러시부(40)의 두 롤러(41,42) 중 적어도 하나의 롤러는 구동롤러이다.At least one of the two rollers 31 and 32 of the upper belt brush part 30 is a driving roller, and at least one of the two rollers 41 and 42 of the lower belt brush part 40 is a driving roller. .

즉, 상기 벨트 브러시(33,43)은 각각 롤러(31,32),(41,42)에 의해 구동되며, 그 벨트 브러시(33,43)와 면접촉되는 기판(10)의 상면과 저면의 접촉압력은 압력조절판(34,44)의 상하 이동에 의해 이루어진다.That is, the belt brushes 33 and 43 are driven by the rollers 31, 32 and 41 and 42, respectively, and the upper and lower surfaces of the substrate 10 are in surface contact with the belt brushes 33 and 43. The contact pressure is achieved by the vertical movement of the pressure regulating plates 34 and 44.

이와 같이 상기 압력조절판(34,44)이 적용되는 경우에는 상기 벨트 브러시(33,34)와 기판(10)의 접촉면에 고른 압력을 전달할 수 있어, 세정의 균일도가 향상되며, 세정 효율도 보다 향상시킬 수 있게 된다.As such, when the pressure regulating plates 34 and 44 are applied, even pressure may be transmitted to the contact surfaces between the belt brushes 33 and 34 and the substrate 10, thereby improving uniformity of cleaning and further improving cleaning efficiency. You can do it.

상기와 같은 면접촉식 세정공정이 진행되는 과정에서도 기판(10)의 상하부에서는 세정수가 분사 공급되는 것은 당연하다.Naturally, the cleaning water is sprayed and supplied from the upper and lower portions of the substrate 10 even during the surface contact cleaning process as described above.

상기의 실시예 1과 실시예 2에서는 롤러(31,32)(41,42)의 상하이동 또는 압력조절판(34,44)의 상하이동에 의해 기판(10)과 벨트 브러시(33,43)의 접촉압력이 조정되는 것을 설명하였으나, 롤러(31,32)(41,42)와 압력조절판(34,44)이 모두 상하 이동할 수 있다.In Examples 1 and 2, the substrate 10 and the belt brushes 33 and 43 are moved by the shanghai-dong of the rollers 31, 32, 41, 42 or the shank-dong of the pressure regulating plates 34, 44. Although the contact pressure has been described, both the rollers 31, 32, 41, 42 and the pressure regulating plates 34, 44 can move up and down.

예를 들어 상기 롤러(31,32)(41,42)는 그 상하 이동의 간격이 상대적으로 큰 것으로 하고, 상기 압력조절판(34,44)의 상하 이동은 미세 조정되도록 구성할 수 있다.For example, the rollers 31, 32, 41, 42 may be configured to have relatively large intervals of vertical movement, and the vertical movement of the pressure regulating plates 34 and 44 may be finely adjusted.

이는 비상 정지가 요구되는 상황에서 상기 롤러(31,32)(41,42) 중 상하로 대응하여 위치하는 롤러(31,41)(32,42)의 간격을 순간적으로 벌려 비상 정지시 기판(10)의 손상을 방지할 수 있도록 한 것이다. 이때 압력조절판(34,44) 또한 상기 롤러(31,32)(41,42)의 이동 거리만큼 이동된다.In the situation where emergency stop is required, the distance between the rollers 31, 41, 32, 42, which are located in the upper and lower sides of the rollers 31, 32, 41, 42, is increased momentarily, so that the board 10 ) To prevent damage. At this time, the pressure control plate (34, 44) is also moved by the moving distance of the roller (31, 32) (41, 42).

정상 동작시에는 상기 롤러(31,32)(41,42)의 위치를 고정한 상태에서 미세 조정이 가능한 압력조절판(34,44)의 위치를 미세조정하여 면접촉압력을 조정할 수 있게 된다.In the normal operation, the surface contact pressure can be adjusted by fine-adjusting the position of the pressure regulating plates 34 and 44 which can be finely adjusted while the positions of the rollers 31 and 32 and 41 and 42 are fixed.

<실시예 3><Example 3>

도 4는 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 제3실시예에 따른 구성도이다.4 is a configuration diagram according to a third embodiment of the contact cleaning apparatus for a large area substrate of the present invention.

도 4를 참조하면, 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 다른 실시예는 상기 도 2를 참조하여 설명한 실시예 1의 구성에서 상부 벨트 브러시부(30)와 하부 벨트 브러시부(40)를 각각 평면상에서 90도 회전시킨 것이며, 이에 따라 벨트 브러시(33)는 기판(10)의 이송방향측으로 구동되어 기판(10)의 상면을 세정하고, 벨트 브러시(43)는 기판(10)의 이송방향과는 반대방향으로 구동되어 기판(10)의 저면을 세정하게 된다.Referring to FIG. 4, another embodiment of the contact cleaning apparatus for a large-area substrate of the present invention uses the upper belt brush portion 30 and the lower belt brush portion 40 in the configuration of Embodiment 1 described with reference to FIG. 2. Each rotated 90 degrees on the plane, the belt brush 33 is driven to the conveying direction side of the substrate 10 to clean the upper surface of the substrate 10, the belt brush 43 is conveyed direction of the substrate 10 Is driven in the opposite direction to clean the bottom surface of the substrate 10.

이와 같은 실시예 3의 구체적인 작용은 실시예 1과 유사하여 그 상세한 설명 은 생략한다.The specific operation of the third embodiment is similar to the first embodiment, and a detailed description thereof will be omitted.

<실시예 4><Example 4>

도 5는 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 제4실시예에 따른 구성도이다.5 is a configuration diagram according to a fourth embodiment of the contact cleaning apparatus for a large area substrate of the present invention.

도 5를 참조하면, 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 다른 실시예는 상기 실시예 3에 실시예 2의 압력조절판(34,44)이 포함된 구조이다.Referring to FIG. 5, another embodiment of the contact cleaning apparatus for a large-area substrate of the present invention has a structure including the pressure regulating plates 34 and 44 of the second embodiment.

상기 압력조절판(34,44)에 의해 기판(10)의 상면 및 저면과 각각 접하는 벨트 브러시(33,43)의 접촉압력을 조절할 수 있게 되어, 기판(10)의 이송방향 또는 이송방향의 역방향으로 구동되는 형태로 기판(10)의 상면과 저면을 각각 세정할 수 있게 된다.The pressure regulating plates 34 and 44 make it possible to adjust the contact pressures of the belt brushes 33 and 43 in contact with the top and bottom surfaces of the substrate 10, respectively, in the conveying direction or in the opposite direction to the conveying direction of the substrate 10. The upper surface and the lower surface of the substrate 10 can be cleaned in a driven form.

<실시예 5><Example 5>

도 6은 본 발명에 따른 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 제5실시예에 따른 구성도이다.6 is a configuration diagram according to a fifth embodiment of the contact cleaning apparatus for a large area substrate according to the present invention.

도 6을 참조하면, 본 발명에 따른 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 다른 실시예는 이송부(20)에 의해 이송되는 기판(10)의 상면에 면접촉되어 기판(10)의 상면을 세정하는 상부 벨트 브러시부(30)와, 상기 상부 벨트 브러시부(30)와 대응하는 위치의 기판(10)의 저면에 면접촉되어 기판(10)의 저면을 세정하는 하부 벨트 브러시부(40)와, 상기 상부 밸트 브러시부(30)의 내측에 위치하여 기판(10)측으로 세정수를 분사하여 상기 상부 브러시부(30)와 기판(10)의 접촉압력을 증가시키는 상부 세정수분사부(51)와, 상기 하부 브러시부(40)의 내측에 위치하여 상기 기판(10) 측으로 세정수를 분사하여 상기 하부 브러시부(40)와 기판(10)의 접촉압력을 증가시키는 하부 세정수분사부(52)로 구성된다.Referring to FIG. 6, another embodiment of the contact cleaning apparatus for a large area substrate according to the present invention may be in surface contact with the upper surface of the substrate 10 transferred by the transfer unit 20 to clean the upper surface of the substrate 10. An upper belt brush portion 30 and a lower belt brush portion 40 which is in surface contact with the bottom surface of the substrate 10 at a position corresponding to the upper belt brush portion 30 to clean the bottom surface of the substrate 10; An upper washing water spraying unit 51 positioned inside the upper belt brush unit 30 to spray washing water toward the substrate 10 to increase contact pressure between the upper brush unit 30 and the substrate 10; It is located in the lower brush portion 40 is composed of a lower washing water injection portion 52 for spraying the washing water toward the substrate 10 to increase the contact pressure of the lower brush portion 40 and the substrate 10 do.

상기 상부 벨트 브러시부(30)는 상호 소정거리 이격되어 동일방향으로 회전하는 두 롤러(31,32)와, 상기 롤러(31,32)의 외주면에 감겨 두 롤러(31,32)의 회전에 따라 회전하며, 상기 기판(10)의 상면에 면접촉되어 기판(10)의 이송방향에 수직인 방향으로 그 기판(10)을 세정하는 벨트 브러시(33)를 포함한다.The upper belt brush part 30 is spaced apart from each other by two rollers 31 and 32 rotating in the same direction, and wound around the outer circumferential surfaces of the rollers 31 and 32 according to the rotation of the two rollers 31 and 32. And a belt brush 33 which rotates and cleans the substrate 10 in a direction perpendicular to the transfer direction of the substrate 10 by surface contact with the upper surface of the substrate 10.

상기 하부 벨트 브러시부(40)는 상호 소정거리 이격되어 동일방향으로 회전하는 두 롤러(41,42)와, 상기 롤러(41,42)의 외주면에 감겨 두 롤러(41,42)의 회전에 따라 회전하며, 상기 기판(10)의 저면에 그 기판(10)의 이송방향에 수직한 방향으로 면접촉되어 그 기판(10)을 세정하는 벨트 브러시(43)를 포함한다.The lower belt brush part 40 is spaced apart from each other by a predetermined distance, and the two rollers 41 and 42 rotate in the same direction, and are wound around the outer circumferential surfaces of the rollers 41 and 42 according to the rotation of the two rollers 41 and 42. And a belt brush 43 which rotates and is in surface contact with the bottom surface of the substrate 10 in a direction perpendicular to the transfer direction of the substrate 10 to clean the substrate 10.

상기 상부 세정수분사부(51)와 하부 세정수분사부(52)는 각각 상부 벨트 브러시부(30)의 롤러(31,32)의 사이와, 하부 벨트 브러시부(40)의 롤러(41,42)의 사이에 위치하며, 각각 기판(10)에 접촉되는 벨트 브러시(33,43)의 배면에 세정수를 분사하여 벨트 브러시(33,43)가 기판(10)에 밀착될 수 있도록 구성된다.The upper washing water spraying unit 51 and the lower washing water spraying unit 52 are between the rollers 31 and 32 of the upper belt brush unit 30 and the rollers 41 and 42 of the lower belt brush unit 40, respectively. Located between and, the cleaning brush is sprayed onto the back surfaces of the belt brushes 33 and 43 in contact with the substrate 10, respectively, so that the belt brushes 33 and 43 can be in close contact with the substrate 10.

상기의 상부 세정수분사부(51)와 하부 세정수분사부(52)는 각각 벨트 브러 시(33,43)에 비접촉식으로 압력을 가하게 됨으로써, 파티클의 발생이 없어 신뢰성이 향상되며, 세정수를 벨트 브러시(33,43)에 직접 분사하기 때문에 접촉식 세정에 의해 기판(10)이 손상되는 것을 방지할 수 있으며, 세정력도 높일 수 있다.The upper washing water spraying unit 51 and the lower washing water spraying unit 52 apply pressure to the belt brushes 33 and 43 in a non-contact manner, so that particles are not generated and reliability is improved. Since it directly sprays on (33,43), it is possible to prevent the substrate 10 from being damaged by contact cleaning, and the cleaning power can also be increased.

이와 같은 상부 및 하부 세정수분사부(51,52)의 작용에 의해 상기 벨트 브러시(33,43)는 위치에 관계없이 일정한 압력으로 기판(10)의 상면과 하면 각각에 접촉되게 할 수 있어 세정의 균일성을 확보할 수 있다.By the action of the upper and lower washing water spraying portions 51 and 52, the belt brushes 33 and 43 can be brought into contact with the upper and lower surfaces of the substrate 10 at a constant pressure regardless of the position. Uniformity can be secured.

<실시예 6><Example 6>

도 7은 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 제6실시예에 따른 구성도이다.7 is a configuration diagram according to a sixth embodiment of the contact cleaning apparatus for a large area substrate of the present invention.

도 7을 참조하면, 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 다른 실시예는 그 구성이 상기 실시예 1의 구성과 동일하나, 상기 벨트 브러시(33,43)가 각각 상호 인력이 작용하는 극의 자성체인 것을 특징으로 한다.Referring to FIG. 7, another embodiment of the contact cleaning apparatus of the large-area substrate of the present invention has the same configuration as that of the first embodiment, but the belt brushes 33 and 43 each have a positive attraction force. It is characterized in that the magnetic substance of.

즉, 상기 벨트 브러시(33)가 N극, 벨트 브러시(43)가 S극인 자성체이며, 이는 기판(10)을 사이에 두고 상호 인력이 작용하기 때문에 그 벨트 브러시(33,43)가 기판(10)의 상하면에 각각 균일한 압력으로 밀착된다.In other words, the belt brush 33 is a magnetic body having an N pole and the belt brush 43 is an S pole, and the belt brushes 33 and 43 are connected to the substrate 10 because mutual attraction forces act between the substrate 10. It adheres to the upper and lower surfaces of) at uniform pressure, respectively.

이와 같이 상기 벨트 브러시(33,43) 자체를 상호 인력이 작용하는 자성체로 하거나, 그 벨트 브러시(33,43) 내에 상호 인력이 작용하는 자성체를 심거나 부착 함으로써, 균일한 압력으로 세정이 가능하여 세정의 신뢰성을 높일 수 있다.As such, the belt brushes 33 and 43 themselves are made of magnetic materials that mutual attraction works, or by planting or attaching magnetic materials having mutual attraction forces in the belt brushes 33 and 43, cleaning can be performed at a uniform pressure. The reliability of cleaning can be improved.

<실시예 7><Example 7>

도 8은 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 제7실시예에 따른 구성도이다.8 is a configuration diagram according to a seventh embodiment of the contact cleaning apparatus for a large area substrate of the present invention.

도 8을 참조하면, 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치의 다른 실시예는 이송부(20)에 의해 이송되는 기판(10)의 상면에 면접촉되어 기판(10)의 상면을 세정하는 상부 벨트 브러시부(30)와, 상기 상부 벨트 브러시부(30)와 대응하는 위치의 기판(10)의 저면에 면접촉되어 기판(10)의 저면을 세정하는 하부 벨트 브러시부(40)로 구성하되,Referring to FIG. 8, another embodiment of the contact cleaning apparatus for a large-area substrate of the present invention is an upper belt that is in surface contact with an upper surface of the substrate 10 transported by the transfer unit 20 to clean the upper surface of the substrate 10. Brush portion 30 and the lower belt brush portion 40 which is in surface contact with the bottom surface of the substrate 10 at a position corresponding to the upper belt brush portion 30 to clean the bottom surface of the substrate 10,

상기 상부 벨트 브러시부(30)는 상호 소정거리 이격되어 동일방향으로 회전하는 두 롤러(31,32)와, 상기 롤러(31,32)의 외주면에 감겨 두 롤러(31,32)의 회전에 따라 회전하는 프로파일 벨트(35)와, 상기 프로파일 벨트(35)의 두께가 두꺼운 부분에 부착되며, 그 반대면에 집중도가 높은 브러시(37)가 고정되는 브러시 체결부(36)를 포함하여 구성된다.The upper belt brush part 30 is spaced apart from each other by two rollers 31 and 32 rotating in the same direction, and wound around the outer circumferential surfaces of the rollers 31 and 32 according to the rotation of the two rollers 31 and 32. It comprises a rotating profile belt 35, and a brush fastening portion 36 is attached to a thick portion of the profile belt 35, the brush 37 is fixed to a high concentration on the opposite side.

상기 하부 벨트 브러시부(40)는 상호 소정거리 이격되어 동일방향으로 회전하는 두 롤러(41,42)와, 상기 롤러(41,42)의 외주면에 감겨 두 롤러(41,42)의 회전에 따라 회전하는 프로파일 벨트(45)와, 상기 프로파일 벨트(45)의 두께가 두꺼운 부분에 부착되며, 그 반대면에 집중도가 높은 브러시(47)가 고정되는 브러시 체결부(46)를 포함하여 구성된다.The lower belt brush part 40 is spaced apart from each other by a predetermined distance, and the two rollers 41 and 42 rotate in the same direction, and are wound around the outer circumferential surfaces of the rollers 41 and 42 according to the rotation of the two rollers 41 and 42. It comprises a rotating profile belt 45, and a brush fastening portion 46 is attached to a thick portion of the profile belt 45, the brush 47 is fixed to a high concentration on the opposite side.

도 9는 상기 상부 벨트 브러시부(30)의 브러시 체결부(36)와 브러시(37)의 상세 단면 구성도이다.9 is a detailed cross-sectional configuration diagram of the brush coupling part 36 and the brush 37 of the upper belt brush part 30.

도 9를 참조하면, 상기 브러시 체결부(36)의 형상은 상기 프로파일 벨트(35)와의 접촉면적에 비해 상기 브러시(37)가 고정되는 면적이 더 넓으며, 그 브러시(37)를 고정하기 위한 다수의 홈을 구비한다.Referring to FIG. 9, the brush fastening portion 36 has a larger area where the brush 37 is fixed than the contact area with the profile belt 35, and for fixing the brush 37. It has a plurality of grooves.

그 브러시 체결부(36)의 홈에는 상기 다른 실시예들에서 보인 벨트 브러시(33)에 비하여 보다 치밀하고, 견고하게 브러시(37)를 심을 수 있으며, 따라서 브러시(37)의 집중도를 높일 수 있게 된다.In the groove of the brush fastening portion 36, the brush 37 can be planted more densely and firmly than the belt brush 33 shown in the other embodiments, so that the concentration of the brush 37 can be increased. do.

이와 같은 브러시(37) 집중도의 증가는 기판(10)에 직접 접촉되는 브러시(37)의 수를 늘려 세정력을 향상시킬 수 있다.The increase in the concentration of the brush 37 may increase the number of brushes 37 directly contacting the substrate 10 to improve cleaning power.

또한, 상기 브러시(37)는 기판(10)이 유입되는 측의 길이가 더 짧고, 반대편 측의 길이가 더 길게 구현할 수 있다. 이는 기판(10)이 상부 벨트 브러시부(30)와 하부 벨트 브러시부(40)의 사이로 이송되는 과정에서 손상되는 것을 방지할 수 있다.In addition, the brush 37 may have a shorter length of the side on which the substrate 10 is introduced and a longer length of the opposite side. This may prevent the substrate 10 from being damaged in the process of being transported between the upper belt brush part 30 and the lower belt brush part 40.

상기 브러시 체결부(36)의 재질은 우레탄이며, 용착 또는 나사결합에 의해 상기 프로파일 벨트(35)와 결합될 수 있으며, 이때 그 브러시 체결부(36) 내에 자성체를 삽입할 수 있으며, 그 브러시 체결부(36)에 삽입되는 자성체의 극성은 상기 하부 벨트 브러시부(40)의 브러시 체결부(46)에 삽입되는 자성체의 극성과는 다른 극성으로 한다.The material of the brush fastening part 36 is urethane, and may be combined with the profile belt 35 by welding or screwing. In this case, a magnetic material may be inserted into the brush fastening part 36, and the brush fastening may be performed. The polarity of the magnetic substance inserted into the portion 36 is different from the polarity of the magnetic substance inserted into the brush fastening portion 46 of the lower belt brush portion 40.

이와 같은 구조에 의하여 상기 하부 벨트 브러시부(40)와 상부 벨트 브러시부(30)의 사이에는 인력이 작용하게 되며 이에 따라 상부 벨트 브러시부(30)와 하부 벨트 브러시부(40)가 상기 기판(10)에 균일한 압력으로 밀착된다. 이와 같은 밀착에 의해 기판(10)은 균일하게 세정될 수 있다.By such a structure, an attractive force acts between the lower belt brush part 40 and the upper belt brush part 30, so that the upper belt brush part 30 and the lower belt brush part 40 are connected to the substrate ( 10) in close contact with uniform pressure. By such close contact, the substrate 10 may be uniformly cleaned.

상기 하부 벨트 브러시부(40)의 상세 구성은 상기 도 9의 상부 브러시부(30)의 구성과 동일하므로, 그 상세한 구성과 작용의 설명은 생략한다.Since the detailed configuration of the lower belt brush portion 40 is the same as that of the upper brush portion 30 of FIG. 9, the detailed description of the detailed structure and operation will be omitted.

도 10은 상기 브러시 체결부(36)에 체결된 브러시(37)의 다른 구성도이다.10 is another configuration diagram of the brush 37 fastened to the brush fastening part 36.

도 10을 참조하면, 브러시 체결부(36)의 외측으로 돌출된 부분이 상호 교차하도록 구성할 수 있다.Referring to FIG. 10, portions protruding outward from the brush fastening part 36 may cross each other.

이와 같은 구조는 브러시(37)를 교차 탄성 지지하여 기판(10)에서 파티클의 제거가 보다 용이하게 되어, 세정력을 향상시킬 수 있게 된다.Such a structure can cross-elastically support the brush 37, thereby making it easier to remove particles from the substrate 10, thereby improving cleaning power.

이상에서는 벨트에 접합되는 브러시 체결부(36)를 가지는 본 발명의 다른 실시예에 대해 설명하였으나, 상기 브러시 체결부(36)의 형상은 위의 실시예에 한정되지 않는다.In the above described another embodiment of the present invention having a brush fastening portion 36 bonded to the belt, the shape of the brush fastening portion 36 is not limited to the above embodiment.

예를 들면 연성의 재질의 판에 다수의 브러시를 조밀하게 심고, 그 브러시가 부착된 판을 벨트와 합착하는 구조를 예로 들 수 있다.For example, a structure may be mentioned in which a plurality of brushes are densely planted on a plate made of a soft material, and the plate on which the brush is attached is bonded to the belt.

이상에서는 본 발명을 특정의 바람직한 실시 예들을 들어 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상기한 실시 예들에 한정되지 않으며 본 발명의 개념을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능하다.The present invention has been shown and described with reference to certain preferred embodiments, but the present invention is not limited to the above-described embodiments and has ordinary skill in the art to which the present invention pertains without departing from the concept of the present invention. Various changes and modifications are possible by the user.

상기한 바와 같이 본 발명 대면적 기판의 접촉식 세정장치는 벨트형의 브러시를 적용하여 상대적으로 좁은 면적에서도 면접촉에 의해 세정력을 높일 수 있는 효과가 있다.As described above, the contact cleaning device of the large-area substrate of the present invention has an effect of increasing the cleaning power by surface contact even in a relatively small area by applying a belt-type brush.

또한, 본 발명은 대면적 기판과 브러시가 면접촉됨에 따라 대면적 기판과의 접촉압력이 분산되어 대면적 기판이 손상되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.In addition, according to the present invention, as the large area substrate and the brush are in surface contact, the contact pressure with the large area substrate is dispersed, thereby preventing the large area substrate from being damaged.

아울러 면접촉을 통해 대면적 기판을 세정하되, 그 접촉되는 면 전체의 압력을 균일하게 함으로써, 세정의 신뢰성과 세정력을 향상시키는 효과가 있다.In addition, while cleaning the large-area substrate through the surface contact, by uniformizing the pressure of the entire contacting surface, there is an effect of improving the reliability and cleaning power of the cleaning.

Claims (13)

기판을 이송하는 이송부;A transfer unit transferring a substrate; 상기 이송되는 기판의 상면에 면접촉되어 기판의 상면을 세정하는 상부 벨트 브러시부; 및An upper belt brush part which is in surface contact with the upper surface of the substrate to be cleaned to clean the upper surface of the substrate; And 상기 이송되는 기판의 저면에 면접촉되어 기판의 저면을 세정하는 하부 벨트 브러시부를 포함하는 대면적 기판의 접촉식 세정장치.And a lower belt brush portion which is in surface contact with the bottom surface of the substrate to be cleaned to clean the bottom surface of the substrate. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 상부 벨트 브러시부와 하부 벨트 브러시부는, The upper belt brush part and the lower belt brush part, 상호 소정거리 이격되며 회전하는 복수의 롤러; 및A plurality of rollers spaced apart from each other by a predetermined distance; And 상기 복수의 롤러 각각의 외주면에 감겨 그 복수의 롤러가 회전함에 따라 회전함과 아울러 상기 기판의 상면 또는 저면에 면접촉하는 벨트 브러시를 포함하는 대면적 기판의 접촉식 세정장치.And a belt brush wound around an outer circumferential surface of each of the plurality of rollers and rotating as the plurality of rollers rotates, the belt brush being in surface contact with the upper or lower surface of the substrate. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 상부 벨트 브러시부와 하부 벨트 브러시부의 벨트 브러시는 기판의 상면과 저면에 각각 접촉하되, 구동방향이 기판의 이송방향에 대하여 좌 또는 우측으로 수직인 방향인 것을 특징으로 하는 대면적 기판의 접촉식 세정장치.The belt brushes of the upper belt brush part and the lower belt brush part are in contact with the upper and lower surfaces of the substrate, respectively, and the contact direction of the large area substrate is characterized in that the driving direction is a direction perpendicular to the left or the right with respect to the transfer direction of the substrate. Cleaning device. 제3항에 있어서,The method of claim 3, 상기 하부 벨트 브러시부의 벨트 브러시는 상부 벨트 브러시부의 벨트 브러시와는 구동방향이 반대방향인 것을 특징으로 하는 대면적 기판의 접촉식 세정장치.The belt brush of the lower belt brush portion is a contact cleaning apparatus for a large area substrate, characterized in that the driving direction is opposite to the belt brush of the upper belt brush portion. 제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 2 to 4, 상기 복수의 롤러는 상하 이동이 가능하며, 그 상하 이동에 의해 상기 벨트 브러시와 기판의 면접촉압력을 조절하는 것을 특징으로 하는 대면적 기판의 접촉식 세정장치.The plurality of rollers are movable up and down, the contact cleaning apparatus for a large area substrate, characterized in that for adjusting the surface contact pressure of the belt brush and the substrate by the vertical movement. 제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 2 to 4, 상기 상부 벨트 브러시부에 마련된 상기 복수의 롤러의 사이에 위치하며, 상하 이동이 가능하여 상기 상부 벨트 브러시부의 벨트 브러시와 상기 기판의 상부 면접촉압력을 조절하는 제1압력조절판; 및A first pressure regulating plate positioned between the plurality of rollers provided in the upper belt brush part and configured to move upward and downward to adjust a belt brush of the upper belt brush part and an upper surface contact pressure of the substrate; And 상기 하부 벨트 브러시부에 마련된 상기 복수의 롤러의 사이에 위치하며, 상하 이동이 가능하여 상기 하부 벨트 브러시부의 벨트 브러시와 상기 기판의 하부 면접촉압력을 조절하는 제2압력조절판을 더 포함하는 대면적 기판의 접촉식 세정장치.Located between the plurality of rollers provided in the lower belt brush portion, it is possible to move up and down a large area further comprises a second pressure control plate for adjusting the belt brush of the lower belt brush portion and the lower surface contact pressure of the substrate Substrate contact cleaning device. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 상부 벨트 브러시부와 하부 벨트 브러시부 각각의 롤러 사이에 위치하여, 각각 기판 방향으로 세정수를 분사하는 상부 세정수분사부와 하부 세정수분사부를 더 포함하는 대면적 기판의 접촉식 세정장치.Located between the roller of each of the upper belt brush portion and the lower belt brush portion, the contact cleaning apparatus for a large area substrate further comprises an upper washing water spraying unit and a lower washing water spraying unit for spraying the washing water toward the substrate. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 상부 벨트 브러시부의 벨트 브러시부와 하부 벨트 브러시부의 벨트 브러시는 상호 인력이 작용하는 자성체인 것을 특징으로 하는 대면적 기판의 접촉식 세정장치.The belt brush part of the upper belt brush part and the belt brush part of the lower belt brush part are contact cleaning apparatuses of a large-area substrate, characterized in that the magnetic force acting on each other. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 상부 벨트 브러시부와 하부 벨트 브러시부의 벨트 브러시는,The belt brush of the upper belt brush portion and the lower belt brush portion, 상기 롤러에 의해 일방향으로 회전하는 벨트; 및A belt rotating in one direction by the roller; And 상기 벨트 상에 부착되며, 부착면의 반대면에는 브러시가 체결되는 브러시 체결부를 포함하는 대면적 기판의 접촉식 세정장치.A contact cleaning apparatus for a large-area substrate attached to the belt, the brush mounting portion on the opposite side of the attachment surface to which the brush is fastened. 제9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 브러시 체결부에는,The brush fastening portion, 상기 상부 벨트 브러시부와 하부 벨트 브러시부에 상호 인력이 작용하도록 자성체가 삽입되는 것을 특징으로 하는 대면적 기판의 접촉식 세정장치.Contact cleaning apparatus for a large-area substrate, characterized in that the magnetic material is inserted into the upper belt brush portion and the lower belt brush portion to the mutual attraction force. 제9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 브러시는 상기 브러시 체결부에 마련된 체결구에 체결되며, 그 체결구 외부로 노출된 브러시는 그 노출된 브러시의 중앙부에서 상호 교차되는 것을 특징으로 하는 대면적 기판의 접촉식 세정장치.And the brush is fastened to a fastener provided in the brush fastening part, and the brush exposed to the outside of the fastener intersects each other at the center of the exposed brush. 제9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 브러시는,The brush, 기판이 유입되는 측의 길이가 유출되는 측의 길이에 비해 상대적으로 더 짧은 것을 특징으로 하는 대면적 기판의 접촉식 세정장치.Contact cleaning apparatus for a large area substrate, characterized in that the length of the side on which the substrate is introduced is relatively shorter than the length of the side on which the substrate is introduced. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 상부 벨트 브러시부의 롤러와 하부 벨트 브러시부의 롤러는,The roller of the upper belt brush portion and the roller of the lower belt brush portion, 상기 기판이 유입되는 측의 사이 거리가 더 이격되도록 상호 반대방향으로 경사진 것을 특징으로 하는 대면적 기판의 접촉식 세정장치.Contact cleaning apparatus for a large-area substrate, characterized in that inclined in opposite directions so that the distance between the sides of the substrate is further inclined.
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