KR20080032739A - Liquid crystal display device and a method of fabricating the same - Google Patents

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KR20080032739A KR1020060098308A KR20060098308A KR20080032739A KR 20080032739 A KR20080032739 A KR 20080032739A KR 1020060098308 A KR1020060098308 A KR 1020060098308A KR 20060098308 A KR20060098308 A KR 20060098308A KR 20080032739 A KR20080032739 A KR 20080032739A
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박순영
이경미
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엘지.필립스 엘시디 주식회사
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Abstract

An LCD(Liquid Crystal Display) device and a manufacturing method thereof are provided to overlap neighboring color filters to have optical density similar to the density of a black matrix, thereby improving an aperture ratio by replacing a function of the black matrix and improving an attachment margin. Plural pixel areas are defined on a substrate. A light blocking pattern is formed in a part of a pixel area boundary. Color filters(234a,234b,234c) are respectively formed in each of the pixel areas, and overlapped as being prolonged to another part of the pixel area boundary. The color filters include RGB(Red, Green and Blue) color filters. An optical density of the overlapped color filter is higher than 3.5.

Description

액정 표시 장치 및 그 제조 방법{Liquid Crystal Display device and a method of fabricating the same}Liquid crystal display device and a manufacturing method therefor {Liquid Crystal Display device and a method of fabricating the same}

도 1은 종래 액정 표시 장치의 일부를 보여주는 단면도.1 is a cross-sectional view showing a part of a conventional liquid crystal display device.

도 2는 컬러필터 기판의 일부를 보여주는 평면도.2 is a plan view showing a part of a color filter substrate;

도 3은 도 2의 A-A'을 따라 절단한 단면도.3 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of FIG. 2.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치의 일부를 보여주는 단면도.4 is a cross-sectional view illustrating a portion of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 5는 본 발명에 따른 컬러필터 기판을 보여주는 평면도. 5 is a plan view showing a color filter substrate according to the present invention.

도 6은 도 5의 B-B'를 따라 절단한 단면도.FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line BB ′ of FIG. 5.

<도면의 주요부분에 대한 부호 설명><Description of Signs of Major Parts of Drawings>

210 : 제 2 기판 216 : 데이터 배선210: second substrate 216: data wiring

230 : 제 1 기판 232 : 블랙 매트릭스230: first substrate 232: black matrix

234a : 적색 컬러필터 234b : 녹색 컬러필터234a: Red Color Filter 234b: Green Color Filter

234c : 청색 컬러필터 236 : 오버코트층234c: blue color filter 236: overcoat layer

본 발명은 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display device; LCD)에 관한 것으로, 특히 개구율을 향상시킨 액정 표시 장치 및 그 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device (LCD), and more particularly, to a liquid crystal display device having an improved aperture ratio and a manufacturing method thereof.

현대사회가 정보 사회화로 변해감에 따라 정보 표시 장치의 하나인 액정 표시 장치 모듈의 중요성이 점차로 증가되어 가고 있다. 지금까지 가장 널리 사용되고 있는 CRT(cathode ray tube)는 성능이나 가격적인 측면에서 많은 장점들이 있지만, 소형화 또는 휴대성 측면에서 많은 단점을 갖고 있다.As the modern society changes to information socialization, the importance of the liquid crystal display module, which is one of the information display devices, is gradually increasing. Cathode ray tube (CRT), which is widely used so far, has many advantages in terms of performance and cost, but has many disadvantages in terms of miniaturization or portability.

반면에 액정 표시 장치는 소형화, 경량화, 박형화, 저 전력소비화 등의 장점이 있어 상기 CRT의 단점을 극복할 수 있다.On the other hand, the liquid crystal display has advantages such as miniaturization, light weight, thinness, and low power consumption, thereby overcoming the disadvantages of the CRT.

통상, 액정 표시 장치는 전계를 이용하여 액정의 광투과율을 조절함으로써 화상이 표시된다. Usually, a liquid crystal display device displays an image by adjusting the light transmittance of a liquid crystal using an electric field.

도 1은 종래 액정 표시 장치의 일부를 보여주는 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing a part of a conventional liquid crystal display.

도 1에 도시된 바와 같이, 종래 액정 표시 장치(100)는 크게 컬러필터 기판과 박막트랜지스터 기판 및 액정층으로 이루어지는데, 상기 컬러필터 기판은 제 1 기판(130) 상에 크롬(Cr) 또는 수지로 된 블랙 매트릭스(BM: black matrix, 132)가 형성되어 있고, 상기 블랙 매트릭스(132)가 형성된 격자 공간에 적색 컬러필터(R)(134a), 녹색 컬러필터(G)(134b), 청색 컬러필터(B)(134c)가 형성되어 있다.As shown in FIG. 1, the conventional liquid crystal display 100 includes a color filter substrate, a thin film transistor substrate, and a liquid crystal layer. The color filter substrate is formed of chromium (Cr) or resin on the first substrate 130. A black matrix (BM) 132 is formed, and a red color filter (R) 134a, a green color filter (G) 134b, and a blue color are formed in the grid space where the black matrix 132 is formed. Filter (B) 134c is formed.

상기 제 1 기판(130) 상의 전 영역에는 오버코트층(136) 및 투명 금속으로 형성된 공통전극(138)이 배치되어 있다.An overcoat layer 136 and a common electrode 138 formed of a transparent metal are disposed on all regions of the first substrate 130.

상기 컬러필터 기판과 대응되는 상기 박막트랜지스터 기판은 제 2 기판(110) 상에 다수개의 게이트 배선(도시되지 않음)과 데이터 배선(116)이 교차되어 단위 화소 영역(P)을 정의하고, 상기 단위 화소 영역(P) 상에 스위칭 동작을 하는 박막 트랜지스터(TFT)와 화소 전극(129)이 배치되어 있다.In the thin film transistor substrate corresponding to the color filter substrate, a plurality of gate lines (not shown) and data lines 116 intersect each other on the second substrate 110 to define a unit pixel area P. The thin film transistor TFT and the pixel electrode 129 which perform a switching operation on the pixel region P are disposed.

그리고, 상기 박막 트랜지스터(TFT)는 상기 게이트 배선에서 돌출된 게이트 전극(121)과, 상기 게이트 전극(121) 상에 형성된 게이트 절연막(112)과, 상기 게이트 전극(121) 위치의 상기 게이트 절연막(112) 상에 반도체층(123)이 형성되어 있다.The thin film transistor TFT may include a gate electrode 121 protruding from the gate line, a gate insulating layer 112 formed on the gate electrode 121, and the gate insulating layer at a position of the gate electrode 121. The semiconductor layer 123 is formed on the 112.

상기 데이터 배선(115)에서 게이트 절연막(112) 상의 상기 게이트 전극(121) 위치로 연장된 소스 전극(125)과 상기 게이트 전극(121) 위치에서 상기 소스 전극(125)과 소정 이격되어 상기 게이트 절연막(112) 상에 형성된 드레인 전극(127)을 포함하여 이루어진다.A source electrode 125 extending from the data line 115 to a position of the gate electrode 121 on the gate insulating layer 112 and a predetermined distance from the source electrode 125 at a position of the gate electrode 121. And a drain electrode 127 formed on 112.

상기 반도체층(123)은 비정질 실리콘층으로 이루어진 액티브층(123a)과, 불순물이 주입된 실리콘층으로 이루어져 상기 소스 전극(125) 및 드레인 전극(127) 아래에 형성된 오믹 콘택층(123b)으로 이루어진다.The semiconductor layer 123 is formed of an active layer 123a made of an amorphous silicon layer and an ohmic contact layer 123b formed under the source electrode 125 and the drain electrode 127 by being made of a silicon layer implanted with impurities. .

그리고, 상기 데이터 배선(123) 아래에는 액티브층(123a)과 오믹 콘택층(123b)의 패턴이 더 형성되어 있다.Further, a pattern of an active layer 123a and an ohmic contact layer 123b is further formed below the data line 123.

상기 소스 및 드레인 전극(125, 127)이 형성된 제 2 기판(110) 전면에는 보호막(114)이 더 형성되어 있으며, 상기 드레인 전극(127)은 상기 화소 전극(129)과 보호막(114) 상에 형성된 콘택홀을 통하여 서로 접속하고 있다.A passivation layer 114 is further formed on an entire surface of the second substrate 110 on which the source and drain electrodes 125 and 127 are formed, and the drain electrode 127 is formed on the pixel electrode 129 and the passivation layer 114. It is connected to each other through the formed contact hole.

상기와 같은 구조를 갖는 액정표시장치는 상기 제 2 기판(130)의 화소 전극(129)과 상기 제 1 기판(110)의 공통전극(138) 사이에 발생되는 전계에 의하여 액정층의 액정 분자들을 회전시켜 광원의 투과율을 조절한다.In the liquid crystal display having the structure as described above, the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer are formed by an electric field generated between the pixel electrode 129 of the second substrate 130 and the common electrode 138 of the first substrate 110. Rotate to adjust the transmittance of the light source.

도 2는 컬러필터 기판의 일부를 보여주는 평면도이고, 도 3은 도 2의 A-A'를 따라 절단한 단면도이다.2 is a plan view showing a part of a color filter substrate, and FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG. 2.

도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 기판(130) 상에 단위 화소 영역의 경계와 박막 트랜지스터(TFT)와 대응되는 부분에 크롬(Cr) 또는 수지로 된 블랙 매트릭스(BM: black matrix, 132)가 형성되어 있고, 상기 단위 화소 영역(P)에 대응되는 부분에 적색 컬러필터(R)(134a), 녹색 컬러필터(G)(134b), 청색 컬러필터(B)(134c)가 형성되어 있다.As shown in FIGS. 2 and 3, a black matrix (BM: black) of chromium (Cr) or resin is formed on a portion of the first substrate 130 corresponding to the boundary of the unit pixel region and the thin film transistor TFT. A matrix 132 is formed, and a red color filter (R) 134a, a green color filter (G) 134b, and a blue color filter (B) 134c in a portion corresponding to the unit pixel region P. Is formed.

그런데, 액정 표시 장치가 대형화되면 될수록 기판의 크기(glass size)가 커지고 합착 마진의 증가가 요구됨에 따라 블랙 매트릭스의 임계치수(critical dimension;CD)가 증가되며 이는 개구율 저하시키는 문제점을 발생시킨다.However, as the size of the liquid crystal display becomes larger, the critical dimension (CD) of the black matrix increases as the glass size of the substrate increases and the increase in bonding margin is required, which causes a problem of lowering the aperture ratio.

본 발명은 액정 표시 장치에서 이웃하는 컬러 필터를 중첩하여 형성함으로써 블랙 매트릭스의 역할을 대체하여 개구율을 향상시킬 수 있는 액정 표시 장치 및 그 제조 방법을 제공하는 데 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device and a method of manufacturing the same, which can improve an aperture ratio by replacing a role of a black matrix by forming a neighboring color filter by overlapping the liquid crystal display device.

상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 액정 표시 장치는, 기판 상에 복수의 화소 영역이 정의되고, 상기 화소 영역 경계의 일부에 형성된 광 차단 패턴; 및 상기 복수의 화소 영역 각각에 형성되며 상기 화소 영역 경계의 다른 일부로 연장되어 서로 중첩된 컬러 필터들;을 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a liquid crystal display according to the present invention includes: a light blocking pattern in which a plurality of pixel regions are defined on a substrate and formed at a part of a boundary of the pixel region; And color filters formed in each of the plurality of pixel regions and extending to other portions of the boundary of the pixel region to overlap each other.

또한, 상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 액정 표시 장치는, 게이트 배선과 데이터 배선이 교차하여 화소 영역을 정의하고, 상기 교차 지점에 박막 트랜지스터가 형성된 제 1 기판; 상기 제 1 기판과 대향하는 제 2 기판; 상기 제 2 기판 상에서 상기 게이트 배선과 상기 박막 트랜지스터 중 적어도 어느 하나와 대응되는 위치에 형성된 광 차단 패턴; 및 상기 화소 영역에 대응되는 영역과 상기 데이터 배선에 대응되는 영역에 형성되어 이웃하는 화소 영역과의 경계에서 서로 중첩된 컬러 필터들;을 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, in order to achieve the above object, a liquid crystal display according to the present invention includes: a first substrate in which a gate line and a data line cross each other to define a pixel region, and a thin film transistor is formed at the crossing point; A second substrate facing the first substrate; A light blocking pattern formed at a position corresponding to at least one of the gate wiring and the thin film transistor on the second substrate; And color filters formed in a region corresponding to the pixel region and a region corresponding to the data line and overlapping each other at a boundary of a neighboring pixel region.

또한, 상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법은, 제 1 기판 상에 게이트 배선과 데이터 배선이 교차하여 화소 영역을 정의하고, 상기 교차 지점에 박막 트랜지스터를 형성하는 단계; 상기 제 1 기판과 대향하는 제 2 기판을 준비하는 단계; 상기 제 2 기판 상에서 상기 게이트 배선과 상기 박막 트랜지스터 중 적어도 어느 하나와 대응되는 위치에 광 차단 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 화소 영역에 대응되는 영역과 상기 데이터 배선에 대응되는 영역에 형성되어 이웃하는 화소 영역과의 경계에서 서로 중첩된 컬러 필터들을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, in order to achieve the above object, a method of manufacturing a liquid crystal display according to the present invention includes: defining a pixel region by crossing a gate line and a data line on a first substrate, and forming a thin film transistor at the crossing point. ; Preparing a second substrate facing the first substrate; Forming a light blocking pattern on a position corresponding to at least one of the gate line and the thin film transistor on the second substrate; And forming color filters formed in a region corresponding to the pixel region and a region corresponding to the data line and overlapping each other at a boundary between neighboring pixel regions.

여기서, 상기 화소 영역과 대응되는 위치에 형성되며, 이웃하는 화소 영역과의 경계에서 서로 중첩되는 컬러 필터들을 형성하는 단계에 있어서, 상기 제 2 기판 상에 제 1 컬러필터층을 형성하고 패터닝하여 제 1 화소 영역에 제 1 컬러 필터를 형성하는 단계; 상기 제 2 기판 상에 제 2 컬러필터층을 형성하고 패터닝하여 상기 제 1 컬러 필터와 소정 중첩되며 제 2 화소 영역에 제 2 컬러 필터를 형성하 는 단계;및 상기 제 2 기판 상에 제 3 컬러필터층을 형성하고 패터닝하여 상기 제 2 컬러 필터 및 제 1 컬러 필터와 소정 중첩되며 제 3 화소 영역에 제 3 컬러 필터를 형성하는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.Here, in the forming of the color filters formed at a position corresponding to the pixel region and overlapping each other at a boundary with a neighboring pixel region, a first color filter layer is formed and patterned on the second substrate to form a first color filter. Forming a first color filter in the pixel region; Forming and patterning a second color filter layer on the second substrate to form a second color filter overlapping the first color filter and overlapping the first color filter in a second pixel area; and a third color filter layer on the second substrate. And forming a third color filter by overlapping the second color filter and the first color filter to form a third color filter in the third pixel area.

이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치 및 그 제조 방법에 대하여 상세하게 설명하지만, 본 발명이 하기의 실시예에 제한되는 것은 아니며, 해당 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양한 다른 형태로 구현할 수 있을 것이다. 첨부된 도면에 있어서, 데이터 배선, 화소 영역, 컬러 필터, 블랙 매트릭스, 오버코트층 및 기타 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다. 본 발명에 있어서, 데이터 배선, 화소 영역, 컬러 필터, 블랙 매트릭스, 오버코트층 및 기타 구조물들이 "상에", "상부에", 또는 "하부에" 라는 용어 등이 사용되어 형성되는 것으로 언급된 경우에는 데이터 배선, 화소 영역, 컬러 필터, 블랙 매트릭스, 오버코트층 및 기타 구조물들이 직접 데이터 배선, 화소 영역, 컬러 필터, 블랙 매트릭스, 오버코트층 및 기타 구조물 들 위에 형성되거나 아래에 위치하는 것을 의미하거나, 다른 데이터 배선, 화소 영역, 컬러 필터, 블랙 매트릭스, 오버코트층 및 기타 구조물들이 기판 상에 추가로 형성될 수도 있음을 의미하는 것이다.Hereinafter, a liquid crystal display and a manufacturing method thereof according to an exemplary embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the following exemplary embodiments and has a general knowledge in the art. It will be apparent to those skilled in the art that the present invention may be embodied in various other forms without departing from the spirit of the invention. In the accompanying drawings, the dimensions of the data line, the pixel region, the color filter, the black matrix, the overcoat layer and other structures are shown in an enlarged scale than actual for clarity of the present invention. In the present invention, where the data wiring, the pixel region, the color filter, the black matrix, the overcoat layer and other structures are referred to as being formed using the terms "on", "upper", or "lower" or the like. This means that data wirings, pixel regions, color filters, black matrices, overcoat layers and other structures are formed directly over or below the data wirings, pixel regions, color filters, black matrix, overcoat layers and other structures, or otherwise. It means that data wirings, pixel regions, color filters, black matrices, overcoat layers and other structures may be further formed on the substrate.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치의 일부를 보여주는 단면도이다.4 is a cross-sectional view illustrating a portion of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 액정 표시 장치(200)는 컬러필터 기판과 박막트랜지스터 기판 및 액정층으로 이루어지는데, 상기 컬러필터 기판은 제 1 기판(230) 상에 크롬(Cr) 또는 수지로 된 블랙 매트릭스(BM: black matrix, 232)가 형성되어 있고, 상기 블랙 매트릭스(232)가 형성된 격자 공간에는 적색 컬러필터(R)(234a), 녹색 컬러필터(G)(234b), 청색 컬러필터(B)(234c)가 형성되어 있다.As shown in FIG. 4, the liquid crystal display 200 according to the present invention includes a color filter substrate, a thin film transistor substrate, and a liquid crystal layer. The color filter substrate is formed of chromium (Cr) on the first substrate 230. Or a black matrix (BM) 232 formed of a resin, and a red color filter (R) 234a, a green color filter (G) 234b, in a lattice space where the black matrix 232 is formed, Blue color filters (B) 234c are formed.

그리고, 상기 적색 컬러필터(234a)와 녹색 컬러필터(234b)는 후술될 데이터 배선(216)과 대응되는 영역에서 서로 중첩되어 형성되어 있다. The red color filter 234a and the green color filter 234b overlap each other in a region corresponding to the data line 216 to be described later.

상기 녹색 컬러필터(234b)와 청색 컬러필터(234c)도 데이터 배선(216)과 대응되는 영역에서 서로 중첩되어 형성되어 있다.The green color filter 234b and the blue color filter 234c are also overlapped with each other in a region corresponding to the data line 216.

그리고, 도시되지는 않았으나, 상기 게이트 배선에 대응되는 영역에는 블랙 매트릭스(232)가 형성되어 있고, 상기 박막 트랜지스터에 대응되는 영역에도 블랙 매트릭스(232)가 형성되어 있다.Although not shown, a black matrix 232 is formed in a region corresponding to the gate wiring, and a black matrix 232 is formed in a region corresponding to the thin film transistor.

상기 적색 컬러필터(R)(234a), 녹색 컬러필터(G)(234b) 및 청색 컬러필터(B)(234c) 중에서 데이터 배선(216)을 기준으로 서로 이웃하는 컬러필터를 중첩하여 중첩된 컬러필터를 블랙 매트릭스의 대체구조로서 형성할 수 있다.Colors superimposed by overlapping color filters adjacent to each other based on the data line 216 among the red color filter (R) 234a, the green color filter (G) 234b, and the blue color filter (B) 234c The filter can be formed as an alternative to the black matrix.

상기 중첩된 컬러필터는 개구율에 크게 영향을 주는 데이터 배선(216)과 대응되는 위치에서 형성되며 광학 밀도(optical density)는 3.5 이상을 구현하여 블랙 매트릭스를 대체시킴으로써, 상기 데이터 배선(216)과 대응되는 영역으로부터 블랙 매트릭스(232)를 제거할 수 있으므로 빛샘을 차단하면서도 개구율이 향상되는 효과가 있다.The overlapped color filter is formed at a position corresponding to the data line 216 which greatly affects the aperture ratio, and the optical density corresponds to the data line 216 by replacing the black matrix by implementing 3.5 or more. Since the black matrix 232 can be removed from the region, the aperture ratio is improved while blocking light leakage.

상기 제 1 기판(230) 상의 전 영역에는 오버코트층(236) 및 투명 금속으로 형성된 공통전극(238)이 배치되어 있다.An overcoat layer 236 and a common electrode 238 formed of a transparent metal are disposed on all regions of the first substrate 230.

하지만, 액정표시장치의 구조가 IPS(In-Plane Switching), FFS(Fringe Field Switching)모드 액정표시장치 처럼 제 2 기판 상에 화소 전극과 공통 전극이 모두 형성될 경우에는 상기 공통전극은 상기 제 1 기판 상에 형성하지 않는다.However, when the structure of the liquid crystal display device is formed of both the pixel electrode and the common electrode on the second substrate as in the in-plane switching (IPS) and fringe field switching (FFS) mode liquid crystal display devices, the common electrode is the first electrode. It is not formed on the substrate.

상기 제 1 기판(230)과 대응되는 상기 제 2 기판(210)은 다수 개의 게이트 배선과 데이터 배선(216)이 교차되어 단위 화소 영역(P)을 정의하고, 상기 단위 화소 영역(P) 상에 스위칭 동작을 하는 박막 트랜지스터(TFT)와 화소 전극(229)이 배치되어 있다.In the second substrate 210 corresponding to the first substrate 230, a plurality of gate lines and data lines 216 intersect to define a unit pixel region P, and on the unit pixel region P The thin film transistor TFT and the pixel electrode 229 that perform the switching operation are disposed.

그리고, 상기 박막 트랜지스터(TFT)는 상기 게이트 배선에서 돌출된 게이트 전극(221)과, 상기 게이트 전극(221) 상에 형성된 게이트 절연막(212)과, 상기 게이트 전극(221) 위치의 상기 게이트 절연막(212) 상에 반도체층(223)이 형성되어 있다.The thin film transistor TFT may include a gate electrode 221 protruding from the gate wiring, a gate insulating film 212 formed on the gate electrode 221, and the gate insulating film at a position of the gate electrode 221. The semiconductor layer 223 is formed on the 212.

상기 데이터 배선(216)에서 게이트 절연막(212) 상의 상기 게이트 전극(221) 위치로 연장된 소스 전극(225)과 상기 게이트 전극(212) 위치에서 상기 소스 전극(225)과 소정 이격되어 상기 게이트 절연막(212) 상에 형성된 드레인 전극(227)을 포함하여 이루어진다.A source electrode 225 extending from the data line 216 to a position of the gate electrode 221 on the gate insulating layer 212 and a predetermined distance from the source electrode 225 at the position of the gate electrode 212. And a drain electrode 227 formed on the 212.

상기 반도체층(223)은 비정질 실리콘층으로 이루어진 액티브층(223a)과, 불순물이 주입된 실리콘층으로 이루어져 상기 소스 전극(225) 및 드레인 전극(227) 아래에 형성된 오믹 콘택층(223b)으로 이루어진다.The semiconductor layer 223 includes an active layer 223a formed of an amorphous silicon layer, and an ohmic contact layer 223b formed under the source electrode 225 and the drain electrode 227, which is formed of a silicon layer implanted with impurities. .

그리고, 상기 데이터 배선(216) 아래에는 액티브층(223a)과 오믹 콘택층(223b)의 패턴이 더 형성되어 있다.Further, a pattern of an active layer 223a and an ohmic contact layer 223b is further formed under the data line 216.

상기 소스 및 드레인 전극(225, 27)이 형성된 제 2 기판(210) 전면에는 보호막(214)이 더 형성되어 있으며, 상기 드레인 전극(227)은 상기 화소 전극(229)과 보호막(214) 상에 형성된 콘택홀을 통하여 서로 접속하고 있다.A passivation layer 214 is further formed on an entire surface of the second substrate 210 on which the source and drain electrodes 225 and 27 are formed, and the drain electrode 227 is formed on the pixel electrode 229 and the passivation layer 214. It is connected to each other through the formed contact hole.

상기와 같은 구조를 갖는 액정 표시 장치는 상기 제 2 기판(210)의 화소 전극(229)과 상기 제 1 기판(230)의 공통전극(238) 사이에 발생되는 전계에 의하여 액정층의 액정 분자들을 회전시켜 광원의 투과율을 조절한다.In the liquid crystal display having the structure as described above, the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer are formed by an electric field generated between the pixel electrode 229 of the second substrate 210 and the common electrode 238 of the first substrate 230. Rotate to adjust the transmittance of the light source.

도 5는 본 발명에 따른 컬러필터 기판을 보여주는 평면도이고, 도 6은 도 5의 B-B'를 따라 절단한 단면도이다.5 is a plan view illustrating a color filter substrate according to the present invention, and FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line BB ′ of FIG. 5.

도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이, 적색 컬러필터(R)(234a), 녹색 컬러필터(G)(234b) 및 청색 컬러필터(B)(234c) 중에서 데이터 배선(216)을 기준으로 서로 이웃하는 컬러필터를 k의 폭만큼 중첩하여 형성할 수 있다.As shown in FIGS. 5 and 6, among the red color filter (R) 234a, the green color filter (G) 234b, and the blue color filter (B) 234c, each other based on the data line 216. Adjacent color filters may be formed to overlap each other by a width of k.

상기 컬러필터들 중에서 서로 중첩된 부분은 데이터 배선(216)과 대응되는 위치에 형성되며 상기 중첩된 컬러필터의 광학 밀도(optical density)는 3.5이상을 구현하여 블랙 매트릭스를 대체시킴으로써, 상기 데이터 배선(216)과 대응되는 영역에 블랙 매트릭스를 제거할 수 있으므로 빛샘을 차단하면서도 개구율이 향상되는 효과가 있다.The overlapping portions of the color filters are formed at positions corresponding to the data lines 216, and the optical density of the overlapped color filters is 3.5 or more to replace the black matrix, thereby replacing the black lines. Since the black matrix can be removed in the area corresponding to 216, the aperture ratio is improved while blocking light leakage.

또한, 이웃하는 컬러 필터를 중첩하여 광 차단 영역을 정의하는 것이므로 합착 마진의 증가에 따른 블랙 매트릭스 임계치수(critical dimension;CD) 증가로 인 해 발생될 수 있는 개구율 저하를 감소시킬 수 있다.In addition, since the light blocking area is defined by overlapping the neighboring color filters, the decrease in the aperture ratio, which may be caused by the increase of the black matrix critical dimension (CD) due to the increase in the bonding margin, may be reduced.

도 7a 내지 도 7g는 본 발명에 따른 액정표시장치의 컬러필터 기판을 제조하는 방법을 보여주는 공정 순서도이다.7A to 7G are flowcharts illustrating a method of manufacturing a color filter substrate of a liquid crystal display according to the present invention.

먼저, 기판 상에 광 차단 물질이 전면 도포되어 광 차단층이 형성된다. 상기 광 차단 물질은 크롬(Cr)을 포함하는 광 차단 금속 또는 광 차단 수지가 이용된다. First, a light blocking material is applied to the entire surface of the substrate to form a light blocking layer. As the light blocking material, a light blocking metal or a light blocking resin including chromium (Cr) is used.

이어서, 상기 광 차단층은 제1 마스크를 이용한 포토리소그래피공정에 의해 패터닝됨으로써 도 5에 도시된 바와 같이 블랙 매트릭스(232)가 형성된다.Subsequently, the light blocking layer is patterned by a photolithography process using a first mask to form a black matrix 232 as shown in FIG. 5.

상기 블랙 매트릭스(232)는 게이트 배선과 박막 트랜지스터 영역과 대응되는 영역에 형성될 수 있도록 한다.The black matrix 232 may be formed in a region corresponding to the gate line and the thin film transistor region.

도 7a 및 도 7b에 도시된 바와 같이, 상기 블랙 매트릭스(232)가 형성된 기판 상에 적색 수지가 전면 증착된 후 제2 마스크를 이용한 포토리소그래피공정에 의해 적색 수지가 패터닝됨으로써 적색 컬러필터(R)(234a)가 형성된다.As shown in FIGS. 7A and 7B, after the red resin is entirely deposited on the substrate on which the black matrix 232 is formed, the red resin is patterned by a photolithography process using a second mask. 234a is formed.

도 7c 및 도 7d에 도시된 바와 같이, 상기 적색 컬러필터(R)(234a)가 형성된 기판 상에 녹색 수지가 전면 형성된 후 제3 마스크를 이용한 포토공정에 의해 녹색 수지가 패터닝됨으로써 녹색 컬러필터(G)(234b)가 형성된다.As shown in FIGS. 7C and 7D, after the green resin is entirely formed on the substrate on which the red color filter (R) 234a is formed, the green resin is patterned by a photo process using a third mask. G) 234b is formed.

이때, 상기 녹색 컬러컬러필터(234b)는 상기 적색 컬러필터(234a)와 소정 폭(k)으로 중첩되도록 형성하고, 상기 중첩된 영역은 데이터 배선(216)과 대응되는 영역이 되도록 하는 것이 바람직하다.In this case, the green color filter 234b may be formed to overlap the red color filter 234a with a predetermined width k, and the overlapped area may be an area corresponding to the data line 216. .

도 7e 및 도 7f에 도시된 바와 같이, 상기 녹색 컬러필터(G)(234b)가 형성된 기판 상에 청색 수지가 전면 형성된 후 제4 마스크를 이용한 포토공정에 의해 청색 수지가 패터닝됨으로써 청색 컬러필터(B)(234c)가 형성된다.As shown in FIGS. 7E and 7F, after the blue resin is entirely formed on the substrate on which the green color filter (G) 234b is formed, the blue resin is patterned by a photo process using a fourth mask. B) 234c is formed.

상기 청색 컬러필터(B)(234c)는 이웃하는 녹색 컬러필터(G)(234b) 및 적색 컬러필터(R)(234a)와 소정 폭(k)으로 형성하며 상기 중첩된 영역은 데이터 배선(216)과 대응되는 영역이 되도록 하는 것이 바람직하다.The blue color filters (B) 234c are formed to have a predetermined width (k) with neighboring green color filters (G) 234b and red color filters (R) 234a, and the overlapped area is a data line 216. It is desirable to make the area correspond to

도 7g에 도시된 바와 같이, 상기 기판(230) 상의 전 영역에는 오버코트층(236) 및 투명 금속으로 형성된 공통전극(238)이 배치되어 있다.As illustrated in FIG. 7G, an overcoat layer 236 and a common electrode 238 formed of a transparent metal are disposed on all regions of the substrate 230.

이상, 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명에 따른 액정 표시 장치 및 이 제조 방법은 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함이 명백하다.As mentioned above, although the present invention has been described in detail through specific embodiments, the present invention has been described in detail, and the liquid crystal display and the manufacturing method according to the present invention are not limited thereto, and the present invention is not limited thereto. It is apparent that modifications and improvements are possible by those skilled in the art.

본 발명은 액정 표시 장치의 컬러필터 기판에서 이웃하는 컬러 필터를 중첩하여 블랙 매트릭스 정도의 광학 밀도를 가지도록 형성함으로써 블랙 매트릭스의 역할을 대체하여 개구율을 향상시키고 합착 마진을 개선하는 효과가 있다.The present invention has an effect of improving the aperture ratio and the bonding margin by replacing the role of the black matrix by overlapping the neighboring color filters in the color filter substrate of the liquid crystal display to have an optical density of about the black matrix.

Claims (12)

기판 상에 복수의 화소 영역이 정의되고, 상기 화소 영역 경계의 일부에 형성된 광 차단 패턴; 및A light blocking pattern on the substrate, the plurality of pixel regions being defined and formed at a portion of the pixel region boundary; And 상기 복수의 화소 영역 각각에 형성되며 상기 화소 영역 경계의 다른 일부로 연장되어 서로 중첩된 컬러 필터들;을 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러 필터 기판.And color filters formed in each of the plurality of pixel regions and extending to other portions of the pixel region boundary to overlap each other. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 컬러 필터들은 적색, 녹색, 청색 컬러 필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.And the color filters include red, green, and blue color filters. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 중첩된 컬러 필터의 광학 밀도(optical density)는 3.5 이상인 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.And an optical density of the superimposed color filter is 3.5 or more. 게이트 배선과 데이터 배선이 교차하여 화소 영역을 정의하고, 상기 교차점에 상기 게이트 배선 및 데이터 배선과 연결된 박막 트랜지스터가 형성된 제 1 기판;A first substrate on which a gate line and a data line cross each other to define a pixel area, and a thin film transistor connected to the gate line and the data line at the intersection point; 상기 제 1 기판과 대향하여 배치된 제 2 기판;A second substrate disposed opposite the first substrate; 상기 제 2 기판 상에서 상기 게이트 배선과 상기 박막 트랜지스터 중 적어도 어느 하나와 대응되는 영역에 형성된 광 차단 패턴; 및A light blocking pattern formed on a region corresponding to at least one of the gate wiring and the thin film transistor on the second substrate; And 상기 화소 영역에 대응되는 영역과 상기 데이터 배선에 대응되는 영역에 형성되어 이웃하는 화소 영역과의 경계에서 서로 중첩된 컬러 필터들;을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치. And color filters formed in a region corresponding to the pixel region and a region corresponding to the data line and overlapping each other at a boundary between neighboring pixel regions. 제 4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 컬러 필터들은 적색, 녹색, 청색 컬러 필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.And the color filters include red, green, and blue color filters. 제 4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 중첩되어 형성된 컬러 필터의 광학 밀도(optical density)는 3.5 이상인 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.And an optical density of the overlapped color filter is 3.5 or more. 제 4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 이웃하는 화소 영역과의 경계에서 서로 중첩되어 형성된 컬러 필터들은 서로 다른 색인 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.And color filters formed by overlapping each other at a boundary with the neighboring pixel region. 제 1 기판 상에 게이트 배선과 데이터 배선이 교차하여 화소 영역을 정의하고, 상기 교차 지점에 상기 게이트 배선 및 데이터 배선과 연결된 박막 트랜지스터 를 형성하는 단계;Forming a pixel region by crossing gate lines and data lines on a first substrate, and forming a thin film transistor connected to the gate lines and the data lines at the crossing points; 상기 제 1 기판과 대향하는 제 2 기판을 준비하는 단계;Preparing a second substrate facing the first substrate; 상기 제 2 기판 상에서 상기 게이트 배선과 상기 박막 트랜지스터 중 적어도 어느 하나와 대응되는 영역에 광 차단 패턴을 형성하는 단계; 및Forming a light blocking pattern on an area corresponding to at least one of the gate line and the thin film transistor on the second substrate; And 상기 화소 영역에 대응되는 영역과 상기 데이터 배선에 대응되는 영역에 형성되어 이웃하는 화소 영역과의 경계에서 서로 중첩된 컬러 필터들을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법. And forming color filters formed in a region corresponding to the pixel region and a region corresponding to the data line and overlapping each other at a boundary of a neighboring pixel region. 제 8항에 있어서,The method of claim 8, 상기 컬러 필터들은 적색, 녹색, 청색 컬러 필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.And the color filters include red, green, and blue color filters. 제 8항에 있어서,The method of claim 8, 상기 중첩되어 형성된 컬러 필터의 광학 밀도(optical density)는 3.5 이상인 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.The optical density of the overlapped color filter is 3.5 or more. 제 8항에 있어서,The method of claim 8, 상기 이웃하는 화소 영역과의 경계에서 서로 중첩되어 형성된 컬러 필터들은 서로 다른 색인 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.The color filters formed by overlapping each other at a boundary with the neighboring pixel region are different indices. 제 8항에 있어서,The method of claim 8, 상기 화소 영역과 대응되는 위치에 형성되며, 이웃하는 화소 영역과의 경계에서 서로 중첩되는 컬러 필터들을 형성하는 단계에 있어서,Forming color filters formed at positions corresponding to the pixel regions and overlapping each other at a boundary with a neighboring pixel region; 상기 제 2 기판 상에 제 1 컬러필터층을 형성하고 패터닝하여 제 1 화소 영역에 제 1 컬러 필터를 형성하는 단계;Forming and patterning a first color filter layer on the second substrate to form a first color filter in a first pixel region; 상기 제 2 기판 상에 제 2 컬러필터층을 형성하고 패터닝하여 상기 제 1 컬러 필터와 소정 중첩되며 제 2 화소 영역에 제 2 컬러 필터를 형성하는 단계;및Forming and patterning a second color filter layer on the second substrate to form a second color filter overlapping the first color filter and in a second pixel area; and 상기 제 2 기판 상에 제 3 컬러필터층을 형성하고 패터닝하여 상기 제 2 컬러 필터 및 제 1 컬러 필터와 소정 중첩되며 제 3 화소 영역에 제 3 컬러 필터를 형성하는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.Forming a third color filter layer on the second substrate and patterning the third color filter layer to form a third color filter in a third pixel region and overlapping the second color filter and the first color filter. The manufacturing method of the liquid crystal display device.
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