KR20080028706A - 플라즈마 디스플레이 후면판의 형성장치의 제조방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 본 발명의 플라즈마 디스플레이 후면판(Plasma display panel-Rear panel; PRP)의 형성장치의 제조방법에 관한 것이다.

본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 후면판의 형성장치의 제조방법은 1) 투명기판에 금속 박막을 증착하는 단계; 2) 상기 금속 박막 위에 제1차 감광물질(PR)을 도포하는 단계; 3) 제 1차 Lithography를 실행하여 에칭용 PR패턴을 형성하는 단계; 4) 에칭 공정을 통해 금속 층(Metal layer)을 패터닝하는 단계; 5) 제2차 PR도포 후에 제2차 Lithograrhy를 실시하여 2차 PR패턴을 형성하는 단계; 6) 상기 2차 PR패턴 위로 전주도금을 실시하는 단계; 7) 상기 전주도금된 부분과 상기 투명기판 및 상기 2차 PR패턴을 이형시키는 단계; 를 포함하여 구성된다.

본 발명에 따르면, 대면적 PRP의 금속몰드의 형상 깊이를 최대화할 수 있어 대형 PRP의 제조에 적합한 금속몰드를 제공할 수 있으며, 아울러 형상깊이를 최대화 시킨 PRP를 제조가능케 함으로써 대형 PDP기판의 화질을 극대화시킬 수 있는 효과가 있다.

플라즈마 디스플레이 후면판(Plasma display panel-Rear panel; PRP), Lithograrhy, Photo-resist(PR)

Description

플라즈마 디스플레이 후면판의 형성장치의 제조방법{Manufacturing Method making apparatus for Plasma display panel-Rear panel}

도 1a는 종래의 스템퍼제조방식에 대한 공정도이다.

도 1b는 종래의 금속 에칭을 이용한 Roll형 몰드제조방식에 대한 개략도이다.

도 2는 본 발명의 실시예에 의한 PRP형성장치의 제작공정도이다.

** 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명**

10: 감광물질(PR) 20: 금속 층

30:투명기판 40: 감광물질(PR)

50: 전주체

본 발명의 플라즈마 디스플레이 후면판(Plasma display panel-Rear panel; PRP)의 형성장치의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 대면적 PRP의 금속몰드의 형상 깊이를 최대화할 수 있어 대형 PRP의 제조에 적합한 금속몰드를 제공할 수 있으며, 아울러 형상깊이를 최대화시킨 PRP를 제조가능케 함으로써 대형 PDP 기판의 화질을 극대화시킬 수 있는 PRP 형성장치의 제조방법에 관한 것이다.

PDP는 Ne,Xe 가스로 채워진 방전공간에 고전압의 전기장을 형성하여 발생하는 플라즈마 방전을 이용한 자발광 디스플레이이다. 근래에는 이러한 벽결이 TV 및 하이비젼 응용기기로서 적용가능성이 매우 높으며, 각종정보, OA기기용 표시장치로 응용범위가 확대되고 있다. 이러한 PDP의 후면기판인 PRP는 PDP의 화상 정보를 표시하는데 중요한 역할을 하는 핵심 부품으로 PDP의 전면판과 합착하여 플라즈마 방전공간을 형성해 준다. 또한, 외부에서 공급되는 전기신호를 PRP에 마련되어 있는 어드레스 전극에 의해 광학 신호로 변환하여 내부 벽면에 마련된 형광체를 여기시켜서 PDP가 천연색의 화상정보를 제공하도록 해주는 역할을 한다. PRP의 구조는 대형유기기판 위에 RGB의 Color를 선택적으로 발광시켜 주는 어드레스전극을 형성하고 전극과 전극 사이에 RGB 방전공간을 구분시켜 주는 격벽을 유전층 위에 설치하고 그 내면에 형광체를 설치하는 구조로 되어있다.

따라서, PDP의 방전공간의 확보는 화질과 직결되는 매우 중요한 요소이며, 이 때문에 대형화되는 PDP의 후면판(PRP)에서의 방전공간을 확보하는 것이 선결적인 문제라고 할 수 있다.

이러한 PRP형성하는 방법으로는 종래의 기술로 전주방식에 의한 스템퍼 제조방식과 금속 에칭을 이용한 Roll형 몰드 제조방식이 있다.

도 1a를 참조하여 종래의 스템퍼 제조방식(전주방식)을 살펴보면, 유리기판(101) 위에 포토레지스트층(109)을 형성하는 단계(S1), 노광, 현상 후에 원하는 형상의 피트 및 랜드(102)를 제조하는 단계(S2), 니켈도전성막(104)을 형성하는 단 계(S3), 니켈 전주막(105)을 형성하는 단계(S4), 유리기판을 분리하여 파더 보드(105,105)를 형성하는 단계(S5), Ar으로 플라즈마 처리 후 상기 파더보드 하측에 전주막(107)을 형성하는 단계(S6), 상기 파더보드를 분리하여 금속몰드(110)를 형성하는 단계(S7)로 이루어진다.

도 1b를 참조하여 종래의 Roll형 몰드 제조방식을 살펴보면, 구리가 도금되어 있는 Roll형 타입의 금속구조물에 Black코팅(일종의 감광성수지)을 실시하고 레이저로 Lithography 한 후 습식에칭을 실시하여 Roll형의 금속몰드(210)를 제조한다. 이러한 금속 에칭을 이용한 Roll형 몰드 제조방식에 의한 금속몰드의 경우(210)에 단면의 깊이를 일정한도 이상을 구현하면 단면(220)이 항아리 형상(230)으로 변형되게 된다.

그러나 이러한 종래의 전주를 이용한 스템퍼 제조방식과 에칭방식으로의 금형의 제조방식은 금속몰드의 깊이를 100㎛ 이상 구현할 수 없는 문제가 있었다. 특히 액상 PR을 이용한 스템퍼 방식으로는 42인치 이상의 대형면적에 170㎛ 이상의 두꺼운 PR을 균일하게 도포하기 어려운 문제가 있었다. 아울러 에칭법의 경우 170㎛ 이상 깊이를 구현하면 단면형상(220)이 항아리형(230)으로 되어 방전공간의 비균일성과 몰드의 말단이 붕괴되어 고화질의 색순도의 실현이 불가능해지는 문제도 있었다.

본 발명은 상술한 문제를 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 대면적 PRP의 금속몰드의 형상 깊이를 최대화할 수 있어 대형 PRP의 제조에 적 합한 금속몰드를 제공할 수 있으며, 아울러 형상깊이를 최대화시킨 PRP를 제조가능케 함으로써 대형 PDP기판의 화질을 극대화시킬 수 있는 PRP 형성장치의 제조방법을 제공함에 있다.

위와 같은 기술적 과제를 해결하기 위하여 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 후면판(Plasma display panel-Rear panel; PRP)의 형성장치의 제조방법은 1) 투명기판에 금속 박막을 증착하는 단계; 2) 상기 금속 박막 위에 제1차 감광물질(PR)을 도포하는 단계; 3) 제 1차 Lithography를 실행하여 에칭용 PR패턴을 형성하는 단계; 4) 에칭 공정을 통해 금속 층(Metal layer)을 패터닝하는 단계; 5) 제2차 PR도포 후에 제2차 Lithograrhy를 실시하여 2차 PR패턴을 형성하는 단계; 6) 상기 2차 PR패턴 위로 전주도금을 실시하는 단계; 7) 상기 전주도금된 부분과 상기 투명기판 및 상기 2차 PR패턴을 이형시키는 단계; 를 포함하여 구성되어 비교적 간이한 방법으로 대형 PRP에서의 고도의 색순도를 확보할 수 있는 방전공간을 확보 할 수 있는 금형장치를 제공한다.

또한, 본 발명은 상기 PR은 네거티브(negative) 또는 파지티브(positive)의 두 종류를 모두 사용할 수 있으며, 건(dry),습(wet)식에칭에 구애받지 않고 적용가능하며, 바람직하게는 DFR을 사용할 될 수 있다. 따라서, 상기 2) 단계 및 상기 5)단계는, 상기 제1차 및 제2차 감광물질이 Dry Film Resist 인 것을 특징으로 하는 PRP 형성장치의 제조방법을 제공하여 보다 효율적인 공정을 이룰 수 있도록 한다.

또한, 본 발명은 상기 5) 단계는, UV 전사를 통한 PRP 경화공정을 수행하는 것을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 PRP 형성장치의 제조방법을 제공하여, 더욱 정밀한 패턴의 감광패턴을 형성하여 이 후 정사다리 꼴 형상의 금속금형의 단면을 제조할 수 있도록 한다. 이러한 정사다리꼴 형상의 PR패턴을 통해 동일형상의 금속금형을 제조할 수 있다.

또한, 본 발명은 상기 제2차 PR패턴은 그 형상의 깊이가 100㎛ ~250㎛ 인것을 특징으로 하는 PRP 형성장치의 제조방법을 제공하여 대형화하는 PDP의 휘도 및 색순도를 향상시킬 수 있는 깊은 방전공간이 확보될 수 있도록 한다.

또한, 본 발명은 상기와 같은 공정으로 제작된 금속몰드를 제공한다. 구체적으로 투명기판에 금속박막을 증착 후 제 1차 PR을 도포하여 Lithography로 에칭용 PR패턴을 형성하고, 이후 에칭공정을 통해 금속층을 패터닝한 후, 제2차 PR을 도포하여 2차 PR 패턴을 형성하고, 상기 제 2차 PR 패턴 위로 전주도금한 후, 상기 전주도금부분과 투명기판 및 상기 2차 PR 패턴을 이형시켜 형성되는 것을 특징으로 하는 PRP 형성장치를 제공한다.

또한, 본 발명은 상기와 같은 공정을 통해서 제조되는 상기 PRP 형성장치는 금속 몰드의 깊이가 100㎛~250㎛ 인 것을 특징으로 하는 금속몰드를 제공하여 PDP 대형 후면판의 휘도와 색순도를 최대화할 수 있는 PRP 형성장치를 제공할 수 있다.

이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 구성 및 작용을 구체적으로 설명한다.

도 2를 참조하여 살펴보면, 본 발명은 투명기판(30)에 금속박막(20)을 증착 하여 형성시킨다. 상기 금속박막(20)을 증착시킨 후 그 위로 제 1차 감광물질(PR)을 도포한다(S10). 이 경우 상기 감광물질(10)은 어느 종류의 것이라도 무방하나, 바람직하게는 Dry Film Resist를 도포한다.

이후, Lithography를 이용하여 에칭용 PR패턴을 형성한다(제 1차 Lithography). 즉 도포 된 감광물질 위로 패턴이 형성된 포토마스크를 두고 자외선 등의 광을 조사하여 PR패턴을 경화시켜 형성한 후, 현상공정을 거쳐서 S20 단계에서처럼 PR패턴(10)을 형성한다. 이후에 에칭 공정을 통해 금속층(20)을 패터닝한다(S30). 물론 이 경우에 상기의 PR패턴은 일반적으로 사용되는 UV경화성 물질이면 무방하다.

다음으로는 상기 패터닝된 금속층(20)위로 제 2차 감광물질(40)을 도포한다. 이후 상기 제 2차 감광물질은 제 2차 Lithography 공정을 통해 정사다리 꼴 형상의 패턴(40)으로 구현되게 된다(S40). 이 경우 노광 방식은 배면노광을 실시하는 것이 보다 정밀한 정사다리 꼴 형상을 구현하는데 유리하다. 정사다리 꼴은 윗변과 아랫변은 평행하나 길이가 다르지만, 좌우의 마주보는 변의 길이가 같고 아랫각의 각도가 같은 사다리꼴 형상을 말한다. 이러한 정사다리 꼴 형상으로 PR패턴을 형성하는 것은 이후 금형에 의해 재현되는 PRP가 형성하는 방전공간이 보다 안정적인 방전을 하게 되며, 형광층에 의해 구현되는 광의 확산도의 향상과 색순도를 향상시킬 수 있기 때문이다. 상기의 방식으로 상기 제2차 PR패턴은 그 형상의 깊이가 100㎛ ~250㎛로 구현할 수 있으며, 더욱 바람직하게는 170㎛의 깊이로 형상의 깊이를 구현가능함으로써, 42인치 이상의 대형화에 적합한 금속금형을 제공함과 아울러 대형 후면기판의 품질을 향상할 수 있는 잇점이 있다.

상기 S40 단계 이후에는 전주도금방식으로 전주를 실시하여 전주층(50)을 형성 한다(S50). 그리고 상기 전주층을 형성 후 상기의 유리기판과 상기 정사다리 꼴 형상의 PR패턴을 제거하면 S60 단계에 도시된 바와 같은 전주체(50)가 형성되게 된다.

상술한 과정에 의해 형성되는 PRP형성장치, 즉 금형은 42인치 이상의 대면적의 금속금형을 제조하여 PRP의 대형화를 제작가능하게 할 수 있음은 물론, 그 공정에 있어서도 감광물질과 금속층과의 밀착력의 차이를 이용하여 현상능력을 극대화하며, 아울러 투명기판, 즉 글래스 위에 금속 Mask를 형성하여 노광시 발생하는 빛의 산란을 최소화할 수 있게 하여 제조공정의 효율성을 향상시킬 수 있다. 아울러 상기와 같은 방식으로 금속형을 제조시에는 상기의 정사다리 꼴의 PR패턴의 깊이를 조절할 수 있어, 종래에는 불가능했던 170㎛ 이상의 깊이를 가지는 금형깊이가 구현 가능해 지면서, 대형 PDP의 색순도와 휘도의 향상 및 PRP의 구조적 안정성을 기할 수 있게 하는 장점을 제공한다. 아울러 본원발명에 의하면 종래의 스템퍼 제조방식이나 롤형 금속 에칭 방식에 비해 제조시간 및 제조공정의 혁신적인 단축을 가져올 수 있는 잇점도 있다.

전술한 바와 같은 본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시예에 관해 설명하였다. 그러나 본 발명의 범주에서 벗어나지 않는 한도 내에서는 여러 가지 변형이 가능하다. 본 발명의 기술적 사상은 본 발명의 기술한 실시예에 국한되어 정 해져서는 안 되며, 특허청구범위뿐만 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.

본 발명에 따르면, 대면적 PRP의 금속몰드의 형상 깊이를 최대화할 수 있어 대형 PRP의 제조에 적합한 금속몰드를 제공할 수 있으며, 아울러 형상깊이를 최대화 시킨 PRP를 제조가능케 함으로써 대형 PDP기판의 화질을 극대화시킬 수 있는 효과가 있다.

Claims (7)

1) 투명기판에 금속 박막을 증착하는 단계;

2) 상기 금속 박막 위에 제1차 감광물질(PR)을 도포하는 단계;

3) 제 1차 Lithography를 실행하여 에칭용 PR패턴을 형성하는 단계;

4) 에칭 공정을 통해 금속 층(Metal layer)을 패터닝하는 단계;

5) 제2차 PR도포 후에 제2차 Lithograrhy를 실시하여 2차 PR패턴을 형성하는 단계;

6) 상기 2차 PR패턴 위로 전주도금을 실시하는 단계;

7) 상기 전주도금된 부분과 상기 투명기판 및 상기 2차 PR패턴을 이형시키는 단계; 를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 PRP 형성장치의 제조방법.

청구항 1에 있어서, 상기 2) 단계 및 상기 5)단계는,

상기 제1차 및 제2차 감광물질이 Dry Film Resist 인 것을 특징으로 하는 PRP 형성장치의 제조방법.

청구항 2에 있어서, 상기 5) 단계는,

UV 전사를 통한 PRP 경화공정을 수행하는 것을 포함하여 구성되는 것을 특징 으로 하는 PRP 형성장치의 제조방법.

청구항 3에 있어서, 상기 제 5) 단계는,

상기 제2차 PR패턴이 정사다리 꼴의 형상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 PRP 형성장치의 제조방법.

청구항 4에 있어서,

상기 제2차 PR패턴은 그 형상의 깊이가 100㎛ ~250㎛ 인것을 특징으로 하는 PRP 형성장치의 제조방법.

투명기판에 금속박막을 증착 후 제 1차 PR을 도포하여 Lithography로 에칭용 PR패턴을 형성하고, 이 후 에칭공정을 통해 금속층을 패터닝하고, 제2차 PR을 도포하여 2차 PR 패턴을 형성하고, 상기 제 2차 PR 패턴 위로 전주도금한 후, 상기 전주도금한 부분과 상기 투명기판 및 상기 2차 PR 패턴을 이형시켜 형성되는 것을 특징으로 하는 PRP 형성장치.

청구항 6에 있어서,

상기 PRP 형성장치는 금속 몰드의 깊이가 100㎛~250㎛ 인 것을 특징으로 하는 PRP 형성장치.

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