KR20080024793A - Chip remover of glass for flat display panel - Google Patents

Chip remover of glass for flat display panel Download PDF

Info

Publication number
KR20080024793A
KR20080024793A KR1020060089415A KR20060089415A KR20080024793A KR 20080024793 A KR20080024793 A KR 20080024793A KR 1020060089415 A KR1020060089415 A KR 1020060089415A KR 20060089415 A KR20060089415 A KR 20060089415A KR 20080024793 A KR20080024793 A KR 20080024793A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
fluid
belt
foreign material
foreign matter
Prior art date
Application number
KR1020060089415A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
이돈형
김영익
Original Assignee
주식회사 디엠에스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 디엠에스 filed Critical 주식회사 디엠에스
Priority to KR1020060089415A priority Critical patent/KR20080024793A/en
Publication of KR20080024793A publication Critical patent/KR20080024793A/en

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B5/00—Cleaning by methods involving the use of air flow or gas flow
    • B08B5/02—Cleaning by the force of jets, e.g. blowing-out cavities
    • B08B5/023—Cleaning travelling work
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1316—Methods for cleaning the liquid crystal cells, or components thereof, during manufacture: Materials therefor

Abstract

An apparatus for removing a foreign material of a substrate for a flat panel display is provided to reduce a defective product by restraining scratches. A foreign material removing belt(1) is rotated by a driving source and disposed to be adjacent to a substrate(G). A fluid spraying unit(3) is disposed at an inner side of the foreign material removing belt and sprays a fluid to the inner side of the foreign material removing belt so as for the foreign material removing belt to be tightly attached to the substrate. A fluid supply device(8) supplies the fluid to the fluid spray unit. The fluid spray unit includes a fluid chamber(4) for temporarily storing the fluid supplied from the fluid supply device and a perforated plate(5) combined with the fluid chamber and spraying the fluid of the fluid chamber to the inner surface of the foreign material removing belt.

Description

평판 디스플레이용 기판의 이물질 제거장치{Chip remover of glass for flat display panel}Chip remover of glass for flat display panel

도 1은 본 발명의 제1 실시 예를 설명하기 위한 기판의 이물질 제거장치의 구성도이다.1 is a block diagram of a foreign material removal apparatus of a substrate for explaining a first embodiment of the present invention.

도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ부를 잘라서 본 단면도이다.FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line II-II of FIG. 1. FIG.

도 3은 도 1의 Ⅲ-Ⅲ부를 잘라서 본 단면도이다.3 is a cross-sectional view taken along the line III-III of FIG. 1.

도 4는 도 2의 유체 분사부를 상세하게 도시한 도면이다.4 is a view showing in detail the fluid injection portion of FIG.

도 5는 본 발명의 작용을 설명하기 위한 도면이다.5 is a view for explaining the operation of the present invention.

도 6은 본 발명의 제2 실시 예를 설명하기 위한 기판의 이물질 제거 장치의 구성도이다.6 is a configuration diagram of a foreign material removing apparatus of a substrate for explaining a second embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

1, 21 : 이물질 제거 벨트 3, 23 : 유체 분사부 4a, 24a : 공간1, 21: foreign material removal belt 3, 23: fluid injection parts 4a, 24a: space

4 : 유체 쳄버 5 : 다공판 8 : 유체 공급 장치 13 : 세정수 분사부 15 : 세정수 공급장치DESCRIPTION OF SYMBOLS 4 Fluid chamber 5 Perforated plate 8 Fluid supply apparatus 13 Washing water injection part 15 Washing water supply apparatus

본 발명은 평판 디스플레이용 기판의 이물질 제거 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 평판 디스플레이 패널(flat display panel)의 제작에 이용되며, 기판에 묻어있는 칩(chip)을 제거하는 평판 디스플레이용 기판의 이물질 제거 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for removing foreign substances from a substrate for a flat panel display, and more particularly, to a foreign substance of a substrate for a flat panel display used for manufacturing a flat display panel and removing chips from the substrate. Relates to a removal device.

일반적으로 엘시디 모듈 공정에서 기판(Glass) 전체를 부착하기 전에 기판에 묻어 있는 이물질(chip)을 제거하는 공정을 거치게 된다. 이러한 이물질 제거 공정은 이물질 제거를 위한 이물질 제거 벨트 등을 이용할 수 있다. 즉, 이물질 제거용 벨트의 하부에 기판을 배치하고 이물질 제거용 벨트의 상부에 유체를 분사할 수 있는 에어 노즐 형태의 슬릿형 블로워 유닛을 배치한다. 그리고 블로어 유닛을 통하여 에어를 이물질 제거용 벨트에 분사하여 기판에 상술한 벨트가 밀착되도록 한다. 이 과정에서 벨트는 회전을 하면서 기판의 상부에 묻어 있는 이물질(chip)을 제거할 수 있는 것이다. In general, the LCD module process removes the chips on the substrate before attaching the entire glass. The foreign material removal process may use a foreign material removal belt or the like for removing the foreign material. That is, the substrate is disposed under the foreign material removing belt and the slit blower unit in the form of an air nozzle capable of injecting a fluid on the upper part of the foreign material removing belt is disposed. Then, the air is blown to the belt for removing foreign substances through the blower unit so that the above-described belt is in close contact with the substrate. In this process, the belt rotates to remove chips from the top of the substrate.

그러나 이러한 종래의 이물질 제거 장치는 이물질 제거용 벨트의 전면에 노즐을 통하여 에어가 직접 분사되므로 벨트에 작용하는 공기압의 분포가 균일하지 못하여 기판과 균일한 접촉이 이루어지지 않게 된다. 따라서 이물질 제거가 충분하게 이루어지지 않으며, 또한, 기판의 표면에 스크래치가 발생되거나 또는 골이 패이는 등의 기판이 손상되는 폐단이 발생되는 문제점이 있다. 또한, 장기간 이물질 제거용 벨트를 사용하는 경우 벨트의 안쪽 면에 블로워 유닛이 접촉하여 블로워 유닛의 표면에 마모가 발생하여 장치의 내구성을 감소시키는 문제점이 있다.However, in the conventional foreign matter removing device, since air is directly injected through the nozzle on the front surface of the foreign matter removing belt, the distribution of air pressure acting on the belt is not uniform, and thus the uniform contact with the substrate is not made. Therefore, there is a problem in that the removal of foreign matters is not made sufficiently, and the closed end of the substrate is damaged such as scratches or dents on the surface of the substrate. In addition, when using the belt for removing foreign substances for a long time there is a problem that the blower unit is in contact with the inner surface of the belt to cause wear on the surface of the blower unit to reduce the durability of the device.

따라서 본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로서, 본 발명의 목적은 이물질 제거용 벨트를 균일하게 기판에 접촉시켜 이물질이 잘 제거될 수 있도록 하고, 스크래치의 발생을 억제하여 불량품의 발생을 줄일 수 있는 평판 디스플레이용 기판의 이물질 제거 장치를 제공하는데 있다. Therefore, the present invention has been proposed to solve the above problems, and an object of the present invention is to uniformly contact the substrate for removing the foreign matter so that the foreign matter can be removed well, suppress the occurrence of scratches to prevent the occurrence of defective products The present invention provides a device for removing foreign matter from a substrate for a flat panel display.

상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 구동원에 의하여 회전하며 기판에 인접하여 배치되는 이물질 제거 벨트, 상기 이물질 제거 벨트의 내면 측에 배치되어 상기 이물질 제거 벨트의 내측에 유체를 분사하여 상기 이물질 제거 벨트가 상기 기판에 밀착되도록 하는 유체 분사부, 상기 유체 분사부에 유체를 공급하는 유체 공급 장치를 포함하며, 상기 유체 분사부는 상기 유체 공급 장치에서 공급되는 유체가 일시적으로 저장되는 유체 쳄버와, 상기 유체 쳄버에 결합되어 상기 유체 쳄버의 유체를 상기 이물질 제거 벨트의 안쪽면으로 분사하는 다공판을 포함하는 평판 디스플레이용 기판의 이물질 제거 장치를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention, the foreign material removal belt is rotated by a drive source and disposed adjacent to the substrate, the foreign material removal belt is disposed on the inner surface side of the foreign material removal belt by spraying a fluid inside the foreign material removal belt to remove the foreign material A fluid injector for supplying fluid to the fluid injector, the fluid injector allowing the belt to be in close contact with the substrate, wherein the fluid injector comprises a fluid chamber for temporarily storing the fluid supplied from the fluid supply device; Provided is a debris removal device of a flat panel display substrate coupled to a fluid chamber and including a porous plate for injecting a fluid of the fluid chamber to the inner surface of the debris removal belt.

상기 기판의 이물질 제거 장치는, 상기 기판을 기준으로 양면에 각각 배치되는 것이 바람직하다.It is preferable that the foreign substance removal apparatus of the said board | substrate is arrange | positioned at both surfaces with respect to the said board | substrate, respectively.

상기 기판의 이물질 제거 장치는, 상기 기판과 상기 이물질 제거 벨트 사이에 세정수를 공급하는 세정수 분사부가 제공되는 것이 바람직하다.The foreign material removing apparatus of the substrate is preferably provided with a washing water injection unit for supplying the cleaning water between the substrate and the foreign material removing belt.

상기 이물질 제거 벨트는 구동원에 의하여 회전하는 무한 회전 벨트로 이루어지며, 외측면에 이물질 제거를 위한 연마면이 제공되는 것이 바람직하다.The foreign material removing belt is made of an endless rotating belt rotated by a drive source, it is preferable that the outer surface is provided with a polishing surface for removing foreign matter.

상기 다공판은 세라믹계로 이루어지는 것이 바람직하다.It is preferable that the said porous plate consists of ceramics.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 제1 실시 예를 설명하기 위하여 전체적인 구성 설명을 위한 사시도이고, 도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ부를 잘라서 본 단면도이며, 도 3은 도 1의 Ⅲ-Ⅲ를 잘라서 본 단면도로, 평판 디스플레이용 기판의 이물질 제거 장치를 도시하고 있다. 본 발명의 기판 이물질 제거 장치는 기판(G)의 상부에 모터(M) 등의 구동원에 의하여 무한 회전을 하는 이물질 제거 벨트(1)가 배치되고, 이 이물질 제거 벨트(1)의 내부 쪽에는 유체 분사부(3)가 배치된다. 1 is a perspective view for explaining the overall configuration of the first embodiment of the present invention, Figure 2 is a cross-sectional view of the cut II-II of Figure 1, Figure 3 is a cross-sectional view cut out III-III of FIG. In addition, the foreign matter removal apparatus of the board | substrate for flat panel displays is shown. In the substrate foreign matter removing apparatus of the present invention, a foreign matter removing belt (1) for infinite rotation by a driving source such as a motor (M) is disposed on an upper portion of the substrate (G), and the fluid is disposed inside the foreign matter removing belt (1). The injection part 3 is arrange | positioned.

이물질 제거 벨트(1)는 모터(M) 등의 구동원에 의하여 회전하는 다수의 롤러(R1, R2, R3, R4)들에 의하여 무한 회전할 수 있도록 배치된다. 즉, 롤러(R1, R2, R3, R4)들은, 도 1에 도시하고 있는 바와 같이, 소정의 간격으로 떨어진 위치에 배치되고, 그 외주면에 이물질 제거 벨트(1)가 배치되어 무한 회전되는 구조로 이루어진다. 그리고 이물질 제거 벨트(1)는 외주면 측이 기판(G)에 있는 이물질을 제거할 수 있는 연마면(1a)으로 이루어지는 것이 바람직하다. The foreign material removal belt 1 is disposed to be able to rotate indefinitely by a plurality of rollers R1, R2, R3, and R4 that are rotated by a driving source such as a motor M. That is, the rollers R1, R2, R3, and R4 are arranged at positions spaced apart at predetermined intervals, as shown in FIG. 1, and have a structure in which the foreign matter removing belt 1 is disposed on the outer circumferential surface thereof to rotate indefinitely. Is done. And the foreign material removal belt 1 is preferably made of a polishing surface (1a) that can remove the foreign matter on the outer peripheral surface side of the substrate (G).

이러한 이물질 제거 벨트(1)는 기판(G)이 롤러(R) 등의 기판 이송장치에 의하여 y 방향으로 이동되는 것을 기준으로 할 때 기판(G) 면에 인접하는 부분이 x축 방향으로 이동될 수 있다. 그러나 이물질 제거 벨트(1)의 회전 방향은 본 발명에서 도시하여 설명한 예에 한정되는 것은 아니며, x축과 반대 방향으로 이동하는 것도 가능하다.The foreign matter removal belt 1 is a portion adjacent to the surface of the substrate G when the substrate G is moved in the y direction by a substrate transfer device such as a roller R. Can be. However, the rotation direction of the foreign matter removing belt 1 is not limited to the example described and illustrated in the present invention, and may move in a direction opposite to the x-axis.

유체 분사부(3)는, 도 2, 도 3 및 도 4에 도시하고 있는 바와 같이, 순수(D.I water) 또는 공기 등의 유체를 수용할 수 있는 공간이 제공된 유체 쳄버(4)를 구비하고 있고, 이 쳄버(4)의 하부에 유체를 배출할 수 있는 다공판(5)이 결합된다. 유체 쳄버(4)와 다공판(5)은 체결부재에 의한 통상의 결합 방법에 의하여 결합되는 것이 가능하다. 유체 쳄버(4)는 그 내부 공간(4a)를 구비하고 유체 공급 장치(8)에서 공급되는 유체를 일시적으로 저장하는 버퍼(buffer)의 역할을 하며 유체의 압력을 1차적으로 균일하게 유지할 수 있다. 그리고 다공판(5)은 유체 쳄버(4)의 내부 공간(4a)에 있는 유체가 균일하게 배출되도록 하기 위한 것으로, 다수의 미세한 구멍이 뚫려져 있으며 물 또는 공기 등을 비교적 전 영역에서 2차적으로 압력의 균일성을 유지하면서 분사할 수 있다. 이러한 다공판(5)은 내구성이 우수한 세라믹 계열로 이루어지는 것이 바람직하다. 다공판(5)은 이물질 제거 벨트(1)의 내면 측에서 일정한 거리(D, 도 5에 도시하고 있음)가 떨어진 위치에 배치되는 것이 바람직하다. 이러한 다공판(5)의 배치 구조는 유체가 분사되어 이물질 제거 벨트(1)의 많은 면적이 동시에 균일한 압력으로 기판(G)에 밀착되도록 하면서도 다공판(11)이 이물질 제거 벨트(1)의 내주면에 접촉되어 마모되는 것을 방지하기 위한 것이다. 유체 분사부(3)는 별도의 유체공급장치(8)로부터 공기 또는 물 등을 소정의 압력으로 공급받을 수 있는 구조로 이루어지는 것 바람직하다.The fluid injection part 3 is provided with the fluid chamber 4 provided with the space which can accommodate fluid, such as DI water or air, as shown to FIG. 2, FIG. 3, and FIG. The lower portion of the chamber 4 is coupled to the porous plate 5 capable of discharging the fluid. The fluid chamber 4 and the porous plate 5 can be joined by a conventional joining method by a fastening member. The fluid chamber 4 has an internal space 4a and acts as a buffer for temporarily storing the fluid supplied from the fluid supply device 8 and can maintain the pressure of the fluid first uniformly. . In addition, the porous plate 5 is for uniformly discharging the fluid in the internal space 4a of the fluid chamber 4, and a plurality of minute holes are drilled, and water or air, etc. are secondary to all areas. Spraying can be performed while maintaining pressure uniformity. The porous plate 5 is preferably made of a ceramic series excellent in durability. The porous plate 5 is preferably arranged at a position away from the inner surface side of the foreign matter removing belt 1 by a certain distance (D, shown in FIG. 5). The arrangement of the porous plate 5 allows the fluid to be injected so that the large area of the foreign matter removing belt 1 is in close contact with the substrate G at the same time with a uniform pressure, while the porous plate 11 is connected to the foreign matter removing belt 1. It is for preventing contact with the inner circumferential surface. The fluid injection unit 3 is preferably made of a structure capable of receiving air or water from a separate fluid supply device 8 at a predetermined pressure.

그리고 이물질 제거 벨트(1)의 일측에는 기판(G)과 이물질 제거 벨트(1) 사 이에 세정수를 공급할 수 있는 세정수 분사부(13)가 배치된다. 세정수 분사부(13)는 별도의 세정수 공급장치(15)에 의하여 세정수를 공급받을 수 있는 구조로 이루어질 수 있다. 이러한 세정수 분사부(13)에 의하여 분사된 세정수는 기판(G)과 이물질 제거 벨트(1) 사이에 유입되어 세정수 층(13a)을 이루면서 기판(G)에 작용하는 진동 또는 충격을 흡수하면서도 기판(G)에 있는 이물질을 세척하는 역할도 동시에 할 수 있다. 물론 기판(G)은 별도의 이송 롤러(R)들에 의하여 이송될 수 있음은 당연하다.In addition, one side of the debris removal belt 1 is provided with a washing water injection unit 13 capable of supplying washing water between the substrate G and the debris removal belt 1. The washing water injection unit 13 may have a structure capable of receiving the washing water by a separate washing water supply device 15. The washing water sprayed by the washing water spraying unit 13 flows between the substrate G and the foreign substance removing belt 1 to absorb the vibration or shock acting on the substrate G while forming the washing water layer 13a. At the same time it can also play a role of cleaning the foreign matter on the substrate (G). Of course, the substrate G may be transferred by separate transfer rollers R.

이와 같이 이루어지는 본 발명의 평판 디스플레이용 기판의 이물질 제거 장치의 작동되는 과정을 설명하면 다음과 같다. 우선 기판(G)이 이송 롤러(R)들에 의하여 이송된다. 이때에 이물질 제거 벨트(1)의 연마면(1a, 도 2에서는 기판(G)에 가장 가까운 쪽에 배치되는 연마면)은 기판(G)의 일면이 접촉될 수 있도록 가까운 위치에 배치된다. 이때 세정수 분사부(13)에서 세정수가 분사되면서 세정수 층(13a, 도 5에 도시하고 있음)이 이물질 제거 벨트(1)와 기판(G) 사이로 미세한 두께를 가지면서 흐르게 된다. 그리고 유체 분사부(3)를 이루는 유체 쳄버(4)의 내부 공간(4a)에 공급된 유체는 1차적으로 압력이 균일하게 되며, 다공판(5)을 통하여 2차적으로 균일한 압력으로 이물질 제거 벨트(1)의 내면 측으로 분사된다. 이 다공판(5)에서 분사되는 유체는 비교적 넓은 면적의 이물질 제거 벨트(1)를 기판(G) 측으로 밀착시킨다. 이러한 상태에서 이물질 제거 벨트(1)가 화살표 방향(기판에 근접한 측에서 x 방향)으로 회전하며, 기판(G) 역시 화살표 방향(y 방향)으로 이동하면서 이물질 제거 벨트(1)와 기판(G)이 접촉하면서 기판(G)에 존재하는 이물 질(chip)이 제거될 수 있는 것이다.Referring to the operation of the foreign matter removal apparatus of the flat panel display substrate of the present invention made as described above are as follows. First, the substrate G is conveyed by the conveying rollers R. As shown in FIG. At this time, the polishing surface 1a of the foreign substance removal belt 1 (the polishing surface disposed on the side closest to the substrate G in FIG. 2) is disposed at a position close to the one surface of the substrate G so as to be in contact. At this time, the washing water is injected from the washing water spraying unit 13 so that the washing water layer 13a (shown in FIG. 5) flows with a fine thickness between the foreign matter removing belt 1 and the substrate G. In addition, the fluid supplied to the internal space 4a of the fluid chamber 4 constituting the fluid injector 3 has a uniform pressure, and removes foreign substances at a second uniform pressure through the porous plate 5. It is injected to the inner surface side of the belt 1. The fluid injected from the porous plate 5 closely adheres the foreign matter removal belt 1 having a relatively large area to the substrate G side. In this state, the foreign matter removing belt 1 rotates in the direction of the arrow (the x direction from the side close to the substrate), and the substrate G also moves in the arrow direction (y direction) while the foreign substance removing belt 1 and the substrate G are moved. During this contact, foreign matter (chip) existing in the substrate G can be removed.

또한 본 발명의 유체 분사부(3) 구조는, 다공판(5)에서 분사되는 유체에 의하여 이물질 제거 벨트(1)의 넓은 면적을 기판(G)에 접촉시키면서 이물질 제거 벨트(1)와 다공판(5) 사이에 공간이 형성되도록 하여 이물질 제거 벨트(1)가 다공판(5)에 직접 접촉되는 것을 방지할 수 있다. 따라서 본 발명은 다공판(11)의 마모를 줄여 평판 디스플레이용 기판의 이물질 제거장치의 내구성을 증대시킬 수 있다.In addition, the structure of the fluid ejection section 3 of the present invention allows the foreign matter removal belt 1 and the porous plate to contact the substrate G with a large area of the foreign matter removal belt 1 by the fluid injected from the porous plate 5. A space is formed between (5) to prevent the foreign matter removing belt 1 from directly contacting the porous plate 5. Therefore, the present invention can reduce the wear of the porous plate 11 to increase the durability of the foreign matter removal apparatus of the substrate for a flat panel display.

도 6은 본 발명의 제2 실시 예를 설명하기 위하여 도 2에 대응되는 도면으로, 평판 디스플레이용 기판의 이물질 제거장치를 도시하고 있다. 본 발명의 제2 실시 예는 제1 실시 예와 비교하여 다른 점만을 설명하고 제1 실시 예와 동일한 부분은 제1 실시 예의 설명으로 대치한다. 본 발명의 제1 실시 예는 기판(G)의 일측에 평판 디스플레이용 기판의 이물질 제거장치가 배치된 구조를 도시하여 설명하였으나, 제2 실시 예는 기판(G)의 양측에 평판 디스플레이용 기판의 이물질 제거장치가 배치된 점에 차이가 있다. 즉, 기판(G)의 상면 뿐 만 아니라 기판(G)의 상면에 배치된 평판 디스플레이용 기판의 이물질 제거장치와 동일한 구조가 기판(G)의 하면에도 배치되는 것이다. 다시 말하면, 기판(G)의 하면 측에는 이물질 제거 벨트(21)가 기판(G)의 하부에 배치된다. 그리고 이물질 제거 벨트(21)는 모터(M2) 등의 구동원에 의하여 무한 회전을 할 수 있으며, 이 이물질 제거 벨트(21)의 내부 쪽에는 유체 분사부(23)가 배치된다. 그리고 이물질 제거 벨트(21)는 모터(M2) 등의 구동원에 의하여 회전하는 다수의 롤러(R5, R6, R7, R8)들에 의하여 무한 회전할 수 있다. 그리고 이물질 제거 벨트(21)는 외주면 측이 기판(G)에 있는 이물질을 제거할 수 있는 연마면(21a)으로 이루어지는 것이 바람직하다. 또한, 상술한 유체 분사부(23)는 내부에 공간(24a)가 제동된 유체 쳄버(24) 및 이 유체 쳄버(24)에 결합되는 다공판(25)을 구비하며, 기판(G)에 인접하는 부분에 유체를 균일하게 분사하는 다공판(25)이 배치된다. 이러한 제2 실시 예의 구성 및 작용은 제1 실시 예와 동일하다. 제1 실시 예가 기판의 일면 만에 붙어 있는 이물질(chip)을 제거하는 구조를 가지고 있는데 비하여 이러한 제2 실시 예는 기판(G)의 양측면에 있는 이물질(chip)을 동시에 제거할 수 있어 작업 효율이 증대될 수 있는 것이다.FIG. 6 is a view corresponding to FIG. 2 for explaining a second exemplary embodiment of the present invention, and illustrates an apparatus for removing foreign matter from a substrate for a flat panel display. The second embodiment of the present invention describes only the differences from the first embodiment, and the same parts as the first embodiment are replaced with the description of the first embodiment. In the first embodiment of the present invention, a structure in which a foreign substance removing device of a flat panel display substrate is disposed on one side of the substrate G is described. However, the second embodiment of the present invention is a flat panel display substrate on both sides of the substrate G. The difference is that the debris removal device is arranged. That is, not only the upper surface of the substrate G but also the same structure as the foreign matter removing apparatus of the flat panel display substrate disposed on the upper surface of the substrate G is disposed on the lower surface of the substrate G. In other words, the foreign substance removal belt 21 is disposed under the substrate G on the lower surface side of the substrate G. In addition, the foreign matter removal belt 21 may be rotated indefinitely by a drive source such as a motor M2, and the fluid injection unit 23 may be disposed at an inner side of the foreign matter removal belt 21. In addition, the foreign material removal belt 21 may be infinitely rotated by a plurality of rollers R5, R6, R7, and R8 rotated by a driving source such as a motor M2. And the foreign matter removal belt 21 is preferably made of a polishing surface (21a) that can remove the foreign matter on the outer peripheral surface side of the substrate (G). In addition, the above-described fluid ejection section 23 includes a fluid chamber 24 having a space 24a braked therein and a porous plate 25 coupled to the fluid chamber 24 and adjacent to the substrate G. The porous plate 25 which distributes the fluid uniformly is arrange | positioned at the part to be made. The configuration and operation of this second embodiment are the same as in the first embodiment. While the first embodiment has a structure for removing foreign matter (chip) attached to only one surface of the substrate, this second embodiment can remove the foreign matter (chip) on both sides of the substrate (G) at the same time working efficiency It can be increased.

이상을 통해 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited thereto, and various modifications and changes can be made within the scope of the claims and the detailed description of the invention and the accompanying drawings. Naturally, it belongs to the scope of the invention.

이와 같이 본 발명은 다공판을 통하여 분사되는 유체에 의하여 이물질 제거 벨트의 넓은 면적이 동시에 균일하게 기판에 밀착되어 이물질 제거가 효율적으로 이루어지고 기판의 스크래치를 줄여 제품의 불량을 방지할 수 있는 효과가 있다. As described above, the present invention has the effect that the large area of the foreign matter removal belt is uniformly adhered to the substrate by the fluid sprayed through the porous plate at the same time to remove the foreign matter efficiently and reduce the scratch of the substrate to prevent the defect of the product. have.

Claims (5)

구동원에 의하여 회전하며 기판에 인접하여 배치되는 이물질 제거 벨트;A debris removal belt rotating by the drive source and disposed adjacent to the substrate; 상기 이물질 제거 벨트의 내면 측에 배치되어 상기 이물질 제거 벨트의 내측에 유체를 분사하여 상기 이물질 제거 벨트가 상기 기판에 밀착되도록 하는 유체 분사부;A fluid injection unit disposed on an inner surface side of the debris removal belt to inject fluid into the debris removal belt so that the debris removal belt is in close contact with the substrate; 상기 유체 분사부에 유체를 공급하는 유체 공급 장치를 포함하며,It includes a fluid supply device for supplying a fluid to the fluid injection portion, 상기 유체 분사부는 상기 유체 공급 장치에서 공급되는 유체가 일시적으로 저장되는 유체 쳄버와, 상기 유체 쳄버에 결합되어 상기 유체 쳄버의 유체를 상기 이물질 제거 벨트의 안쪽면으로 분사하는 다공판을 포함하는 평판 디스플레이용 기판의 이물질 제거 장치.The fluid ejection unit may include a fluid chamber in which fluid supplied from the fluid supply device is temporarily stored, and a porous plate coupled to the fluid chamber to inject fluid from the fluid chamber to an inner surface of the debris removal belt. Foreign material removal device for the substrate. 청구항 1에 있어서, The method according to claim 1, 상기 평판 디스플레이용 기판의 이물질 제거 장치는, The foreign material removal device of the substrate for a flat panel display, 상기 기판을 기준으로 양면에 각각 배치되는 평판 디스플레이용 기판의 이물질 제거 장치.Device for removing foreign matter of a flat panel display substrate that is disposed on both sides with respect to the substrate. 청구항 1에 있어서, The method according to claim 1, 상기 평판 디스플레이용 기판의 이물질 제거 장치는, The foreign material removal device of the substrate for a flat panel display, 상기 기판과 상기 이물질 제거 벨트 사이에 세정수를 공급하는 세정수 분사 부가 제공된 평판 디스플레이용 기판의 이물질 제거 장치.And a foreign matter removing apparatus for a flat panel display provided with a washing water spraying unit for supplying washing water between the substrate and the foreign substance removing belt. 청구항 1에 있어서, The method according to claim 1, 상기 이물질 제거 벨트는 구동원에 의하여 회전하는 무한 회전 벨트로 이루어지며, 외측면에 이물질 제거를 위한 연마면이 제공되는 평판 디스플레이용 기판의 이물질 제거 장치.The foreign material removing belt is made of an endless rotating belt rotated by a drive source, foreign matter removal apparatus of the flat panel display substrate provided with a polishing surface for removing foreign matter on the outer surface. 청구항 1에 있어서, The method according to claim 1, 상기 다공판은 세라믹계로 이루어지는 평판 디스플레이용 기판의 이물질 제거 장치.The porous plate is a foreign material removal device of the substrate for flat panel display made of a ceramic.
KR1020060089415A 2006-09-15 2006-09-15 Chip remover of glass for flat display panel KR20080024793A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060089415A KR20080024793A (en) 2006-09-15 2006-09-15 Chip remover of glass for flat display panel

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060089415A KR20080024793A (en) 2006-09-15 2006-09-15 Chip remover of glass for flat display panel

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20080024793A true KR20080024793A (en) 2008-03-19

Family

ID=39412979

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060089415A KR20080024793A (en) 2006-09-15 2006-09-15 Chip remover of glass for flat display panel

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20080024793A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101007362B1 (en) * 2008-11-05 2011-01-13 (주)와이티에스 The variable air pressing device of the belt to clean and grind display panels
KR101382472B1 (en) * 2014-01-27 2014-04-08 한동희 Apparatus for washing panel
US20170043382A1 (en) * 2015-08-12 2017-02-16 Boe Technology Group Co., Ltd. Panel polishing device and panel cleaning equipment
CN111804669A (en) * 2020-07-14 2020-10-23 段晓丽 Dust collecting equipment for chip packaging processing

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101007362B1 (en) * 2008-11-05 2011-01-13 (주)와이티에스 The variable air pressing device of the belt to clean and grind display panels
KR101382472B1 (en) * 2014-01-27 2014-04-08 한동희 Apparatus for washing panel
US20170043382A1 (en) * 2015-08-12 2017-02-16 Boe Technology Group Co., Ltd. Panel polishing device and panel cleaning equipment
US9937533B2 (en) * 2015-08-12 2018-04-10 Boe Technology Group Co., Ltd. Panel polishing device and panel cleaning equipment
CN111804669A (en) * 2020-07-14 2020-10-23 段晓丽 Dust collecting equipment for chip packaging processing

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101350022B1 (en) Apparatus and method for edge processing of a sheet of brittle material
KR101091095B1 (en) Module for cleaning a substrate and Apparatus for processing a substrate having the same
KR20010088380A (en) Cleaning apparatus
JP6315547B2 (en) Substrate processing equipment
KR20070108818A (en) Panel washing machine and washing method
KR101614423B1 (en) System for Cleaning Panel
KR20080024793A (en) Chip remover of glass for flat display panel
KR20100091037A (en) Unit for cleaning glass substrate and system for cleaning glass substrate having the same
KR100975129B1 (en) Slit coater having nozzle lip cleaner
KR100691473B1 (en) Air knife module for drying substrate and drying device using thereof
JP2001121096A (en) Roll brush cleaning device
JP6060140B2 (en) Dry fingerprint cleaning device
KR20100006337A (en) Fluid ejection apparatus and cleaning method thereof
KR101736783B1 (en) An eco-friendly Steam Cleaning System
KR20140134378A (en) Apparatus for jetting fluid and apparatus for cleaning a substrate having the same
KR20180060033A (en) An apparatus for cleaning a grinding surface plate
KR101007688B1 (en) Nozzle for jetting a cleaning solution and apparatus for cleaning a substrate having the same
KR200295029Y1 (en) Apparatus for cleaning a panel
KR20110082385A (en) Apparatus and method for cleaning substrae
KR20150076857A (en) Apparatus and method for treating substrate
JP3602264B2 (en) Cleaning device and fluid ejection mechanism to be equipped in the device
KR101075483B1 (en) Substrate cleaning apparatus and method using the same
KR100725038B1 (en) Apparatus for treating substrate
KR19980060366U (en) Air Knife Cleaning / Drying Equipment
CN101081396A (en) Substrates fixed disk cleaning unit, cleaning device and cleaning method

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E90F Notification of reason for final refusal
E601 Decision to refuse application
E801 Decision on dismissal of amendment