KR20080011038A - 광주사 장치 및 화상 형성 장치 - Google Patents

광주사 장치 및 화상 형성 장치 Download PDF

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Abstract

하우징(housing)과, 상기 하우징에 설치되고, 회전축 둘레에 편향면을 회전시켜 광빔(light beam)을 편향시키는 광편향기와, 상기 하우징에 설치되며, 상기 광편향기의 회전축과 교차하는 방향으로 상기 광빔을 사출(射出)하는 복수의 광원과, 상기 하우징에 설치되고, 상기 광편향기에 의해 편향된 상기 복수의 광빔을 피(被)주사면 위에서 결상시키는 결상(imaging) 광학계와, 상기 하우징에 설치되며, 상기 광편향기의 회전축과 교차하는 방향으로 입사(入射)하는 상기 광빔의 광로(光路)를 상기 광편향기의 회전축을 포함하는 면내(面內)로 변경하는 광로 변경 부재를 구비하는 광주사 장치를 제공한다.
하우징, 광빔, 광원, 광로 변경 부재, 광주사 장치

Description

광주사 장치 및 화상 형성 장치{LIGHT SCANNING DEVICE AND IMAGE FORMING DEVICE}
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 광주사 장치를 나타내는 사시도.
도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 광주사 장치를 나타내는 평면도.
도 3은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 광주사 장치를 나타내는 단면도.
도 4는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 광로 변경 광학계를 나타내는 사시도.
도 5는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 광로 변경 광학계를 나타내는 사시도.
도 6은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 광로 변경 광학계를 나타내는 사시도.
도 7은 본 발명의 실시예에 따른 광주사 장치를 나타내는 단면도.
도 8은 본 발명의 제 4 실시예에 따른 화상 형성 장치를 나타내는 단면도.
도 9의 (a)는 본 발명의 실시예에 따른 광주사 장치의 광원을 나타내는 단면도로서, 광빔이 거의 평행이 되는 광원의 배열예이고, 도 9의 (b)는 광빔이 거의 평행하지 않은 광원의 배열예를 나타내는 단면도.
도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
9 : 화상 형성 장치 10 : 광주사 장치
12 : 하우징(housing) 14 : 광학 베이스
16 : 광원 18 : 반사경
20 : 광로(光路) 변경 부재 24 : 다면경(多面鏡)
24A : 편향면 24B : 회전축
L : 광빔(light beam)
본 발명은 광주사 장치 및 상기 광주사 장치를 사용하는 화상 형성 장치에 관한 것이다.
레이저광 등의 광에 의해 피(被)주사물을 주사하는 광주사 장치로서는, 복수의 광원으로부터 출사(出射)되는 광빔(light beam)을 감광체 드럼 등의 피주사물에 대하여 주사하는 멀티빔(multibeam) 광원 주사 장치가 종래부터 존재한다(예를 들어 일본국 특허공개2001-10107호 공보 참조).
본 발명은 복수의 광원을 갖는 광주사 장치의 온도 변화에 의한 빔 위치 변동, 상대 위치 변동을 억제하여, 화상의 색어긋남이 적은 화상 형성 장치 및 상기 화상 형성 장치에서 사용되는 광주사 장치를 제공한다.
본 발명의 일 형태는 하우징(housing)과, 상기 하우징에 설치되고, 회전축 둘레에 편향면을 회전시켜 광빔을 편향시키는 광편향기와, 상기 하우징에 설치되며, 상기 광편향기의 회전축과 교차하는 방향으로 상기 광빔을 사출(射出)하는 복 수의 광원과, 상기 하우징에 설치되고, 상기 광편향기에 의해 편향된 상기 복수의 광빔을 피(被)주사면 위에서 결상시키는 결상(imaging) 광학계와, 상기 하우징에 설치되며, 상기 광편향기의 회전축과 교차하는 방향으로 입사(入射)하는 상기 광빔의 광로(光路)를 상기 광편향기의 회전축을 포함하는 면내(面內)로 변경하는 광로 변경 부재를 구비하는 광주사 장치이다.
본 형태의 광주사 장치는 상기 복수의 광원으로부터 사출된 상기 복수의 광빔을 각각 반사시켜 상기 광로 변경 부재에 입사시키는 복수의 반사경을 구비하고 있을 수도 있다.
상기 하우징은 베이스부를 갖고, 상기 광로 변경 부재를 통과한 상기 복수의 광빔은 상기 광편향기가 부착된 상기 베이스부로부터 떨어지는 방향으로 광로를 변경하는 구성일 수도 있다.
상기 하우징은 상기 베이스부로부터 직립하는 측벽을 갖고, 상기 복수의 광원은 상기 측벽에 설치되는 구성일 수도 있다.
상기 복수의 반사경은 상기 광원으로부터 사출되는 복수의 광빔을 포함하는 면으로부터 등거리(等距離) 위치에 부착될 수도 있다.
상기 광로 변경 부재는 복수의 반사면을 갖는 광학 소자를 조합시켜 구성될 수도 있다.
상기 광로 변경 부재는 프리즘일 수도 있다.
상기 복수의 반사경에 의해 반사된 상기 복수의 광빔은 서로 평행하도록 구성될 수도 있다.
본 형태의 광주사 장치는 적어도 하나의 광원 구동 회로 기판을 더 구비하고, 상기 복수의 광원은 동일한 광원 구동 회로 기판에 배치되는 구성일 수도 있다.
본 발명의 또 다른 형태는 상기 형태의 광주사 장치와, 상기 광주사 장치에 의해 정전(靜電) 잠상(潛像)이 형성되는 복수의 감광체와, 상기 정전 잠상을 토너 화상으로서 기록 매체에 전사하는 화상 형성부를 구비하는 화상 형성 장치이다.
본 형태의 광주사 장치의 구성에 의하면, 광편향기의 회전축과 평행한 방향으로 광원을 배치할 경우와 비교하여, 하우징이 열(熱)변형된 경우에도 복수의 광원의 자세 변동량의 상대차를 작게 할 수 있기 때문에, 광빔 광로의 상대 위치 변동을 작게 할 수 있다.
또한, 복수의 광빔 광로의 간격을 임의로 설정하는 것이 가능해지고, 복수의 반사경 통과 후의 복수의 광빔을 근접시키도록 광로를 설정할 수 있다. 이것에 의해, 광로 변경 부재를 소형화할 수 있고, 열에 의한 치수 변화의 영향을 작게 할 수 있기 때문에, 광빔의 광로 위치 변동을 작게 할 수 있다.
또한, 광로 변경 부재 통과 후에 하우징의 베이스부로부터 멀어지는 방향으로 광로 변경하도록 구성함으로써, 복수의 광원을 하우징의 베이스부 가까이에 배치할 수 있다. 그 때문에, 하우징의 열변형에 의한 복수의 광원의 자세 변동량 자체를 작게 할 수 있기 때문에, 광빔의 광로 위치 변동을 작게 할 수 있다.
측벽에 복수의 광원을 설치함으로써, 하우징과는 다른 유지 부재를 필요로 하지 않고, 동일한 하우징에 유지됨으로써 복수의 광원의 자세 변동량의 상대차를 작게 할 수 있기 때문에, 광빔 광로의 상대 위치 변동을 작게 할 수 있다.
복수의 반사경을 광빔의 배열면으로부터 등거리 위치에 부착시킴으로써, 복수의 반사경은 하우징이 열변형될지라도 거의 동일한 자세 변동을 한다. 그 때문에, 광빔 광로의 상대 위치 변동을 작게 할 수 있다.
광로 변경 부재를 예를 들어 복수의 반사경에 의해 구성함으로써, 저렴한 반사경의 조합에 의해, 주주사 방향으로 배열된 광빔을 광로 변경 부재에 의해 부주사 방향으로 배열 변환하는 구성을 취할 수 있다. 그 때문에, 각 광원의 베이스 부재면으로부터의 거리를 동일하게 할 수 있고, 하우징이 열변형된 경우에도 복수의 광원의 자세 변동량의 상대차를 작게 할 수 있기 때문에, 광빔의 광로 위치 변동을 작게 할 수 있다.
광로 변경 부재를 프리즘에 의해 구성함으로써 광학면끼리의 위치 정밀도를 높일 수 있고, 상기 각 광학면의 온도 변동에 의한 상대 자세 변동을 작게 할 수 있기 때문에, 광빔 광로의 상대 위치 변동을 작게 할 수 있다.
복수의 반사경이 각 입사 빔을 평행하게, 즉 동일한 방향으로 반사시킴으로써 하우징이 열변형된 경우에도 복수의 광원의 자세 변동량의 상대차를 작게 할 수 있기 때문에, 광빔 광로의 상대 위치 변동을 작게 할 수 있다.
복수의 광원을 동일한 광원 구동 회로 기판에 직접 배치함으로써, 복수의 광원의 온도 상승의 영향을 균일화할 수 있다. 그 때문에, 각 광원으로부터 출사되는 광빔의 파장차로부터 생기는 광학적 특성 변화를 작게 할 수 있다.
이러한 광주사 장치를 사용한 화상 형성 장치의 구성은, 본 구성을 갖고 있 지 않은 경우와 비교하여, 각 감광체에 조사하는 광빔의 상대 위치 변동을 작게 할 수 있고, 색어긋남을 작게 할 수 있다.
<장치 개요>
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대해서 설명한다.
도 1 내지 도 3에는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 광주사 장치가 나타나 있다.
도 1은 본 실시예에 따른 광주사 장치의 내부 구조를 나타내는 사시도이다.
도 1에 나타낸 바와 같이, 광주사 장치(10)는 광학 박스를 형성하는 하우징(12)의 내부에는 광학 부재의 부착부가 설치되는 저면부(底面部)로서, 광학 베이스(14)가 설치된다. 광학 베이스(14) 위에는 회전축(24B) 둘레를 편향면(24A)이 회전함으로써, 입사되는 광빔(L)을 주주사 방향(도 1 중 X방향)으로 편향시키는 다면경(多面鏡)(24)이 설치되어 있다.
광학 베이스(14)는 에지(edge)가 직립하고, 직립부(14A)가 하우징(12)의 측벽을 형성하고 있다. 직립부(14A)에는 다면경(24)의 회전축(24B)과 거의 직교하는 면을 따라, 즉 도 1에서 광학 베이스(14)로부터 소정의 간격 상부의 개소에 광빔을 사출하는 복수의 광원(16)이 설치되어 있다. 여기서 말하는 거의 직교한다는 것은 각도 90°로 회전축(24B)과 교차하는 면의 경우를 기준으로 하여, 여기서부터 약 3°까지의 각도 범위를 가리킨다.
도 2에 나타낸 바와 같이, 복수의 광원(16)은 동일한 광원 구동 회로 기판(16A) 위에 직접 설치되어 있다.
상기 회전축(24B) 방향, 즉 부주사 방향은 도 2 중 Y방향, 이것과 직교하는 방향, 즉 주주사 방향은 도 2 중 X방향이다.
복수의 광원(16)으로부터 사출된 광빔(L)은 각각 개구 조리개(17)로 원하는 직경까지 조여진 후, 반사경(18)에 의해 반사되어 광로 변경 부재(20)에 입사된다. 반사경(18)은 광학 베이스(14) 위에 설치된 고정 부재(19) 위에 Y방향의 위치가 동일해지도록 고정된다. 반사경(18)에 의해 반사된 각 광빔(L)은 동일한 방향으로 광로를 취하고, 광로 변경 부재(20)에 입사된다.
이 때 광원(16)으로부터 사출된 광빔(L)은 서로 거의 평행하고, 동일한 각도로 반사경(18)에 의해 입사/반사된다. 여기서 말하는 거의 평행하다는 것은, 예를 들어 광원(16)으로부터 사출되는 광빔(L)이 반사경(18)까지의 사이에 확산(擴散)도 교차도 하지 않고, 또한 도 9의 (a)에 나타낸 바와 같이, 복수의 광원(16)(여기서는 예로서 4개)의 부착 기준면(16B)(도 9의 (a) 중 사선부)을 포함하는, 주주사 평면(X평면)에 평행한 면(P)이 존재하는 것을 말한다. 반대로, 예를 들어 도 9의 (b)에 나타낸 바와 같이, 4개 광원(16)의 부착 기준면(16B)을 포함하는, 주주사 평면(X평면)에 평행한 면(X평면)이 존재하지 않는 경우에는, 본원에서는 거의 평행하지 않다고 한다.
광로 변경 부재(20)는 복수의 반사면을 구비하고, 입사한 광빔(L)을 반사시킨다. 광로 변경 부재(20)에 입사된 광빔(L)의 광로는, 도 3에 나타낸 바와 같이, 광학 베이스(14)로부터 거리 D1만큼 떨어진 개소를 통과하지만, 광로 변경 부재(20)로부터 사출되는 광빔(L)의 광로는 광학 베이스(14)로부터 거리 D2만큼 떨어진 개소를 통과한다. 이 때, D1 < D2이다.
광로 변경 부재(20)에 입사된 각 광빔(L)은 X방향으로 배열된 광원(16)과 동일한 배열 방향(주주사 방향)으로 나열되어 있고, 광로 변경 부재(20)로부터 사출되는 각 광빔(L)은 배열 방향이 Y방향(부주사 방향)으로 되어 부주사 방향으로 결상 기능을 가진 실린드리컬 렌즈(cylindrical lens)(22)에 입사된다.
실린드리컬 렌즈(22)로부터 사출된 광빔(L)은 미러(23)에 의해 반사되어 다면경(24)에 입사되고, 회전축(24B) 둘레를 회전하는 편향면(24A)에 의해 주주사 방향(X방향)으로 편향된다.
이 때 편향면(24A) 위에서는, 각 광빔(L)은 Y방향(부주사 방향)으로 배열되어 있다. 여기서 말하는 부주사 방향으로 배열된다는 것은, 예를 들어 다면경(24)의 편향면(24A)에서 회전축(24B)과, 소정의 빔 직경(광축 중심 강도(强度)로부터 약 -13.5%까지의 강도 범위를 빔 직경으로 정의함)의 광빔(L)이 4개 모두 포함되는 부주사 방향(Y방향)의 평면이 존재하는 것을 가리킨다.
편향된 광빔(L)은 결상 광학계(26)에 의해 정형(整形)되고, 부주사 방향으로 결상 기능을 가진 실린드리컬 미러(28), 방진(防塵) 윈도우(29)를 거쳐 감광체 드럼(30)(피주사면) 위에 빔 스폿(spot)으로서 결상된다.
<광로 변경 부재>
도 4에는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 광로 변경 부재가 나타나 있다.
도 4에 나타낸 바와 같이, 광로 변경 부재(20)는 복수의 미러(21A, 21B)를 구비하고, 입사되는 광빔(L)을 우선 미러(21A)가 반사하고, 이어서 미러(21B)가 반 사하여 실린드리컬 렌즈(22)에 입사되는 방향으로 광로를 변경한다.
입사하는 각 광빔(L)의 광로는 광원(16)과 마찬가지로, 다면경(24)의 회전축(24B)과 거의 직교하는 면을 따라(X방향으로) 배열되어 있지만, 미러(21B)에 의해 반사된 후는 부주사 방향(도 4 중 Y방향)으로 배열된다.
도 5에는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 광로 변경 부재가 나타나 있다.
도 5에 나타낸 바와 같이, 광로 변경 부재(20)는 복수의 반사면(21C, 21D)을 구비한 프리즘이며, 입사되는 광빔(L)을 우선 반사면(21C)이 반사하고, 이어서 반사면(21D)이 반사하여 실린드리컬 렌즈(22)에 입사되는 방향으로 광로를 변경한다.
입사하는 각 광빔(L)의 광로는 광원(16)과 마찬가지로, 다면경(24)의 회전축(24B)과 거의 직교하는 면을 따라(X방향으로) 배열되어 있지만, 반사면(21D)에 의해 반사된 후는 부주사 방향(도 5 중 Y방향)으로 배열된다.
도 6에는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 광로 변경 부재가 나타나 있다.
도 6에 나타낸 바와 같이, 광로 변경 부재(20)는 복수의 미러(21A, 21B)를 구비하고, 입사되는 광빔(L)을 우선 미러(21A)가 반사하고, 이어서 미러(21B)가 반사하여 실린드리컬 렌즈(22)에 입사되는 방향으로 광로를 변경한다.
미러(21A, 21B)는 프레임(21E)에 일체적으로 고정되고, 미러(21A, 21B), 프레임(21E)을 조합시킨 광로 변경 부재(20)를 1개의 부품으로서 취급하는 것이 가능한 구성으로 되어 있다. 광로 변경 부재(20)는 부착부(21F)에서 광학 베이스(14)에 설치된 부착부(14C)에 부착된다.
입사하는 각 광빔(L)의 광로는 광원(16)과 마찬가지로, 다면경(24)의 회전축 (24B)과 거의 직교하는 면을 따라(X방향으로) 배열되어 있지만, 미러(21B)에 의해 반사된 후는 부주사 방향(도 6 중 Y방향)으로 배열된다.
<하우징 변형과 광원 위치>
도 7에는 본 발명의 실시예에 따른 광주사 장치가 나타나 있다.
도 7은 본 실시예에 따른 광주사 장치의 내부 구조를 나타내는 단면도이다.
도 7에 나타낸 바와 같이, 광주사 장치(10)는 광학 박스를 형성하는 하우징(12)의 내부에 광학 베이스(14)가 설치되고, 광학 베이스(14) 위에는 회전축(24B) 둘레를 편향면(24A)이 회전함으로써, 입사되는 광빔(L)을 주주사 방향(도 7 중 X방향)으로 편향되는 다면경(24)이 설치되어 있다.
하우징(12)은 광주사 장치(10) 내외에 존재하는 열원(熱源)의 영향으로, 도 7에 점선으로 나타낸 초기 상태로부터 열에 의해 실선으로 나타낸 형상으로 변형된다.
광원(16)이 하우징(12)의 측벽에 설치되어 있는 경우, 광원(16)이 광학 베이스(14)로부터 떨어진 개소에 있으면(광원 위치·고(高)), 열에 의한 하우징(12) 변형에 의해 측벽의 각도 또한 변동되기 때문에, 광원(16B)으로부터 사출되는 광빔(LB)의 광축은 도 7과 같이 된다.
광원(16)이 하우징(12)의 측벽에 설치되어 있는 경우, 광원(16)이 광학 베이스(14)에 가까운 개소에 있으면(광원 위치·저(低)), 열에 의한 하우징(12) 변형에 의해 측벽의 각도 변동의 영향은 적기 때문에, 광원(16A)으로부터 사출되는 광빔(LA)의 광축은 도 7과 같이 된다.
<화상 형성 장치>
도 8에는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 화상 형성 장치가 나타나 있다.
도 8은 본 실시예에 따른 화상 형성 장치의 내부 구조를 나타내는 단면도이다.
도 8에 나타낸 바와 같이, 화상 형성 장치(9)는 옐로(Y), 마젠타(M), 시안(C), 블랙(K)용 각 감광체 드럼(30Y∼30K)을 갖는 현상 장치(31Y∼31K)와, 이들 감광체 드럼(30Y∼30K)에 접촉하는 1차 대전(帶電)용 대전 롤러와, 옐로(Y), 마젠타(M), 시안(C), 블랙(K) 각색의 화상 신호에 따라 변조된 광빔을 조사하는 광주사 장치(10)에 의해, 그 주요부가 구성되어 있다. 광주사 장치(10)는 상기 각 실시예에 기재된 광주사 장치로 한다.
화상 형성 장치(9)는 감광체 드럼(30Y, 30M, 30C, 30K)이 공통의 접평면(接平面)을 갖도록 일정한 간격을 두고 배치되어 있는 소위 탠덤식 컬러 프린터로 되어 있다. 표면 전위가 인가된 감광체 드럼(30Y∼30K) 표면에는 노광 장치로서의 광주사 장치(10)에 의해, 옐로(Y), 마젠타(M), 시안(C), 블랙(K)의 각색에 대응한 광빔(L)이 조사되고, 각 색마다의 입력 화상 정보에 따른 정전 잠상이 형성된다.
현상 롤러(33)에 현상 바이어스 전압을 인가하여 현상 롤러(33) 위의 토너를 감광체 드럼(30Y∼30K) 위에 형성된 정전 잠상에 전사시킴으로써, 옐로(Y), 마젠타(M), 시안(C), 블랙(K) 각색의 토너 화상이 형성된다.
상기 각 감광체 드럼(30Y∼30K) 위에 형성된 옐로(Y), 마젠타(M), 시안(C), 블랙(K) 각색의 토너상은 용지(P) 위에 위치맞춤을 행하고, 겹쳐 각각 전사된다. 이것에 의해, 용지(P) 위에는 Y단색 화상 위에 시안(C), 마젠타(M), 블랙(K) 색을 각각 겹친 4색 화상으로서 최종적인 풀 컬러(full-color) 토너상이 형성된다.
이상, 본 발명의 실시예에 대해서 설명했지만, 본 발명은 상기 실시예에 전혀 한정되지 않고, 본 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위에서 다양한 형태로 실시할 수 있다.
예를 들어, 상기 실시예에서는 4색 풀 컬러 레이저 빔 프린터를 예로 들었지만, 이것에 한정되지 않고, 예를 들어 3색 이하 또는 5색 이상의 프린터라도 상관없다.
또한, 편향 소자로서 폴리곤 미러를 사용했지만, 대신에 레조넌트(resonant) 스캐너 또는 갈바노(galvano) 미러를 사용해도 지장은 없다.
본 발명에 의하면, 복수의 광원을 갖는 광주사 장치의 온도 변화에 의한 빔 위치 변동, 상대 위치 변동을 억제하여, 화상의 색어긋남이 적은 화상 형성 장치 및 상기 화상 형성 장치에서 사용되는 광주사 장치를 제공할 수 있다.

Claims (10)

  1. 하우징(housing)과,
    상기 하우징에 설치되고, 회전축 둘레에 편향면을 회전시켜 광빔(light beam)을 편향시키는 광편향기와,
    상기 하우징에 설치되며, 상기 광편향기의 회전축과 교차하는 방향으로 상기 광빔을 사출(射出)하는 복수의 광원과,
    상기 하우징에 설치되고, 상기 광편향기에 의해 편향된 상기 복수의 광빔을 피(被)주사면 위에서 결상시키는 결상(imaging) 광학계와,
    상기 하우징에 설치되며, 상기 광편향기의 회전축과 교차하는 방향으로 입사(入射)하는 상기 광빔의 광로(光路)를 상기 광편향기의 회전축을 포함하는 면내(面內)로 변경하는 광로 변경 부재를 구비하는 광주사 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 복수의 광원으로부터 사출된 상기 복수의 광빔을 각각 반사시켜 상기 광로 변경 부재에 입사시키는 복수의 반사경을 구비하는 광주사 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 하우징은 베이스부를 갖고,
    상기 광로 변경 부재를 통과한 상기 복수의 광빔은 상기 광편향기가 부착된 상기 베이스부로부터 떨어지는 방향으로 광로를 변경하는 광주사 장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 하우징은 상기 베이스부로부터 직립하는 측벽을 갖고,
    상기 복수의 광원은 상기 측벽에 설치되는 광주사 장치.
  5. 제 2 항에 있어서,
    상기 복수의 반사경은 상기 광원으로부터 사출되는 복수의 광빔을 포함하는 면으로부터 등거리(等距離) 위치에 부착되는 광주사 장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 광로 변경 부재는 복수의 반사면을 갖는 광학 소자를 조합시켜 구성되는 광주사 장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 광로 변경 부재는 프리즘인 광주사 장치.
  8. 제 2 항에 있어서,
    상기 복수의 반사경에 의해 반사된 상기 복수의 광빔은 서로 평행인 광주사 장치.
  9. 제 1 항에 있어서,
    적어도 하나의 광원 구동 회로 기판을 더 구비하고,
    상기 복수의 광원은 동일한 광원 구동 회로 기판에 배치되는 광주사 장치.
  10. 제 1 항에 기재된 광주사 장치와,
    상기 광주사 장치에 의해 정전(靜電) 잠상(潛像)이 형성되는 복수의 감광체와,
    상기 정전 잠상을 토너 화상으로서 기록 매체에 전사하는 화상 형성부를 구비하는 화상 형성 장치.
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