KR20080009786A - 급속 배액 구조를 갖는 처리조 및 이를 구비한 습식 처리장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 처리조 및 이를 구비한 습식 세정 장치에 관한 것으로, 습식 처리 장치의 처리조에 있어서, 상기 처리조는 상기 처리조에 채워진 처리액을 배액하는 드레인 포트를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 처리조 하부에 드레인 포트가 마련되어 있어서 대용량의 폐처리액 배액에 소요되는 시간을 최소화할 수 있게 됨으로써 처리액 교환시간을 단축시킬 수 있게 된다.

반도체, 습식 처리, 처리조, 처리액

Description

급속 배액 구조를 갖는 처리조 및 이를 구비한 습식 처리 장치{TREATMENT BATH ADAPTED TO QUICK EXHAUST AND WET STATION HAVING THE SAME}

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 습식 처리 장치를 도시한 구성도.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 습식 처리 장치에 있어서 처리조를 도시한 사시도.

< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 >

10; 습식 처리 장치 100; 처리조

110; 내조 112; 외조

114; 드레인 포트 120; 처리액 공급라인

122; 처리액 순환라인 122A; 처리액 순환라인 입구

124; 처리액 배액라인 122B; 처리액 순환라인 출구

140; 처리액 순환부 142; 순환펌프

144; 히터 146; 필터

200; 처리액 저장탱크 300; 처리액 배액탱크

본 발명은 반도체 제조 장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 급속 배액 구조를 갖는 처리조 및 이를 구비한 습식 처리 장치에 관한 것이다.

통상적으로 반도체 웨이퍼와 같은 기판을 처리하는 반도체 습식 처리 장치는 처리조에 제공된 처리액이 순환하는 구조를 가지는 것이 통상적이다. 즉, 처리액을 처리조의 내조로 공급하고 잉여된 처리액은 처리조의 외조 바깥으로 넘쳐 흐르고, 외조로 넘친 처리액은 순환하여 다시 처리조의 내조로 재공급되는 시스템이다.

그런데, 최근 반도체 제조 장치의 개발의 최대 관심사는 고집적 경향에 대응할 수 있는 장비 개발과 장비 생산성(Equipment Throughput) 향상도 측면에서 주요과제로 부각되고 있다. 특히, 습식 처리 장치에 있어서 처리액의 교환시간이 길어지면 생산성 저하를 초래하므로 생산성 향상을 위해 처리액 교환시간의 단축이 중요시되고 있다. 그러므로, 처리액 교환시간을 단축시킬 수 있는 습식 처리 장치의 필요성이 있는 것이다.

본 발명은 종래 기술에서의 요구 내지 필요성에 부응하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 처리액 교환시간을 단축시킬 수 있는 처리조 및 이를 구비한 습식 처리 장치를 제공함에 있다.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 습식 처리 장치의 처리조는 처리액 교환시간을 단축시키기 위해 처리조 하단에 처리액 교환을 위한 배액 구조를 갖는 것을 특징으로 한다.

상기 특징을 구현할 수 있는 본 발명의 실시예에 따른 처리조는, 습식 처리 장치의 처리조에 있어서, 상기 처리조는 상기 처리조에 채워진 처리액을 배액하는 드레인 포트를 포함하는 것을 특징으로 한다.

본 실시예의 처리조에 있어서, 상기 처리조는 비교적으로 대용량의 내조와 상기 내조의 측면에 마련된 비교적으로 소용량의 외조를 포함하고, 상기 드레인 포트는 상기 내조의 하단에 형성된다.

본 실시예의 처리조에 있어서, 상기 처리액은 처리액 저장탱크로부터 상기 내조로 공급되고, 상기 내조에 채워지고 잉여되는 처리액은 상기 내조로부터 상기 외조로 제공되고, 상기 외조로 제공된 처리액은 상기 외조로부터 배출되어 처리액 순환부에서 순환되어 상기 내조로 재공급된다.

상기 특징을 구현할 수 있는 본 발명의 실시예에 따른 습식 처리 장치는, 처리액이 저장된 처리액 저장탱크; 상기 처리액 저장탱크로부터 상기 처리액을 제공받는 내조와, 상기 내조 측면에 배치되어 상기 내조에서 넘치는 처리액이 수용되는 외조로 이루어지고, 상기 내조 하단에 상기 처리액이 배액되는 드레인 포트가 마련된 처리조; 상기 외조로부터 배출되는 처리액의 순환경로를 제공하는 순환라인과, 상기 순환라인 상에 배치되어 상기 처리액을 흡입하는 펌프와, 상기 처리액을 여과시키는 필터가 배치된 처리액 순환부; 및 상기 드레인 포트를 통해 배액되는 처리액을 수용하는 처리액 배액탱크를 포함하는 것을 특징으로 한다.

본 실시예의 습식 처리 장치에 있어서, 상기 처리액 탱크에 연결되어 상기 내조로 제공되는 처리액의 흐름 경로를 제공하는 처리액 공급라인과, 상기 드레인 포트에 연결되어 상기 처리액 배액탱크로 배액되는 처리액의 흐름 경로를 제공하는 처리액 배액라인을 더 포함한다.

본 실시예의 습식 처리 장치에 있어서, 상기 처리액 순환라인은 상기 외조에 연결된 입구와 상기 내조에 연결된 출구를 포함하고, 상기 처리액 순환라인의 입구는 상기 외조의 측면에 연결되고 상기 처리액 순환라인의 출구는 상기 내조의 하단에 연결되어, 상기 처리액 순환라인의 입구를 통해 상기 외조로부터 배출되는 처리액은 상기 처리액 순환라인을 통해 상기 처리액 순환부에서 순환되어 상기 처리액 순환라인의 출구를 통해 상기 내조의 하단부로 재공급된다.

본 발명에 의하면, 처리조 하부에 드레인 포트가 마련되어 있어서 대용량의 폐처리액 배액에 소요되는 시간을 최소화할 수 있게 됨으로써 처리액 교환시간을 단축시킬 수 있게 된다.

이하, 본 발명에 따른 급속 배액 구조를 갖는 처리조 및 이를 구비한 습식 처리 장치를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.

본 발명과 종래 기술과 비교한 이점은 첨부된 도면을 참조한 상세한 설명과 특허청구범위를 통하여 명백하게 될 것이다. 특히, 본 발명은 특허청구범위에서 잘 지적되고 명백하게 청구된다. 그러나, 본 발명은 첨부된 도면과 관련해서 다음의 상세한 설명을 참조함으로써 가장 잘 이해될 수 있다. 도면에 있어서 동일한 참조부호는 다양한 도면을 통해서 동일한 구성요소를 나타낸다.

(실시예)

도 1은 본 발명에 따른 습식 처리 장치를 도시한 구성도이다.

도 1을 참조하면, 본 발명 습식 처리 장치(10)는 처리 공정(예; 식각 처리 또는 세정 처리 공정)에 소요되는 처리액이 채워지는 내조(110)와 외조(112)로 구성된 처리조(100)와, 처리조(100)로 공급되는 처리액이 저장된 처리액 저장탱크(200)와, 처리조(100)에서 배출된 처리액을 필터링하고 순환시켜 처리조(100)로 재공급시키는 처리액 순환부(140)와, 처리조(100)로부터 배액되는 처리액을 저장하는 처리액 배액탱크(300)로 구성된다.

처리액 순환부(140)는 처리액을 흡입하는 순환펌프(142)와 처리액의 온도를 셋팅하는 히터(144)와 처리액을 여과하는 필터(146)가 처리액 순환라인(122)에 순차로 배치되어 있다. 외조(112)에 채워지는 처리액의 양이 일정 레벨에 도달하면 순환펌프(142)가 동작하여 처리액이 외조(112)로부터 배출된다. 외조(112)로부터 배출된 처리액은 처리액 순환라인(122)을 타고 순환하여 내조(110)로 재공급된다. 처리액 순환부(130)에서의 처리액 순환시 처리액은 히터(144)에 의해 설정 온도로 셋팅되고, 필터(146)에 의해 여과되어 파티클 및 기타 오염물질이 걸러진다. 처리액 순환라인(122)의 입구(122A)는 외조(112)의 측면과 연결되고 출구(122B)는 내조(110)의 하단에 연결된다.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 습식 처리 장치에 있어서 처리조를 도시한 사시도이다.

도 2를 참조하면, 처리조(100)는 처리조(100)는 대체로 대용량의 내조(110)와, 내조(110)의 외측에 배치되는 비교적 소용량의 외조(112)로 구분된다. 내 조(110)에서는 처리액 저장탱크(200)로부터 처리액을 공급받아 피처리체(예; 실리콘 웨이퍼)에 대한 처리가 실제로 진행된다. 처리액이 내조(110)에 다 채워지면 잉여된 처리액은 외조(112)로 넘치게 된다. 내조(110)는 처리액 저장탱크(200)와 처리액 공급라인(120)으로 연결되어 있어 처리액이 처리액 공급라인(120)에 의해 처리액 저장탱크(200)로부터 내조(110)로 제공된다.

앞서 언급한 바와 같이, 처리액은 외조(112)로부터 처리액 순환 라인(122)의 입구(122A)를 통해 처리액 순환부(140)로 유입되어 순환하면서 히팅 및 필터링되고 출구(122B)를 통해 내조(110)의 하단부로 재공급된다. 선택적으로, 처리조(100) 상단에는 처리액에서 발생된 퓸(fume)을 막는 커버(130)가 더 구비될 수 있다. 커버(130)는 실린더(132)에 의해 구동되어 처리조(100) 상단을 개폐한다.

처리액을 폐기하거나 또는 기존의 처리액을 대신하여 새로운 처리액을 사용하려는 경우 현재 처리조(100)에 채워진 처리액을 배액시킬 필요가 있다. 이 경우 처리조(100)로부터 배액되는 처리액은 내조(110)의 하단에 마련된 드레인 포트(114)를 통해 배출된다. 드레인 포트(114)를 통해 배액되는 처리액은 처리액 배액라인(124)에 연결된 처리액 배액탱크(300)로 일시적으로 수용된다. 처리액 배액탱크(300)는 처리조(100)에 비해 크거나 같은 용량으로 설계될 수 있다. 내조(110)에 드레인 포트(140)가 마련되어 있음으로 해서 처리액의 배액에 소요되는 시간을 최소화할 수 있게 됨으로써 처리액 교환에 필요한 시간을 최소화할 수 있게 되는데 대용량의 처리액을 급속 배액하는데 특히 유용하다.

이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의 도가 아니며, 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 할 것이다.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 처리조 하부에 드레인 포트가 마련되어 있어서 대용량의 폐처리액 배액에 소요되는 시간을 최소화할 수 있게 됨으로써 처리액 교환시간을 단축시킬 수 있게 된다. 처리액 교환시간이 단축되면 습식 처리 준비시간이 그만큼 단축되므로 생산성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

Claims (6)

1. 습식 처리 장치의 처리조에 있어서,

   상기 처리조는 상기 처리조에 채워진 처리액을 배액하는 드레인 포트를 포함하는 것을 특징으로 하는 처리조.
2. 제1항에 있어서,

   상기 처리조는, 내조와, 상기 내조의 측면에 마련된 외조를 포함하고, 상기 드레인 포트는 상기 내조의 하단에 형성된 것을 특징으로 하는 처리조.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서,

   상기 처리액은 처리액 저장탱크로부터 상기 내조로 공급되고, 상기 내조에 채워지고 잉여되는 처리액은 상기 내조로부터 상기 외조로 제공되고, 상기 외조로 제공된 처리액은 상기 외조로부터 배출되어 처리액 순환부에서 순환되어 상기 내조로 재공급되는 것을 특징으로 하는 처리조.
4. 처리액이 저장된 처리액 저장탱크;

   상기 처리액 저장탱크로부터 상기 처리액을 제공받는 내조와, 상기 내조 측면에 배치되어 상기 내조에서 넘치는 처리액이 수용되는 외조로 이루어지고, 상기 내조 하단에 상기 처리액이 배액되는 드레인 포트가 마련된 처리조;

   상기 외조로부터 배출되는 처리액의 순환경로를 제공하는 순환라인과, 상기 순환라인 상에 배치되어 상기 처리액을 흡입하는 펌프와, 상기 처리액을 여과시키는 필터가 배치된 처리액 순환부; 및

   상기 드레인 포트를 통해 배액되는 처리액을 수용하는 처리액 배액탱크;

   를 포함하는 것을 특징으로 하는 습식 처리 장치.
5. 제4항에 있어서,

   상기 처리액 탱크에 연결되어 상기 내조로 제공되는 처리액의 흐름 경로를 제공하는 처리액 공급라인과, 상기 드레인 포트에 연결되어 상기 처리액 배액탱크로 배액되는 처리액의 흐름 경로를 제공하는 처리액 배액라인을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 습식 처리 장치.
6. 제4항에 있어서,

   상기 처리액 순환라인은 상기 외조에 연결된 입구와 상기 내조에 연결된 출구를 포함하고, 상기 처리액 순환라인의 입구는 상기 외조의 측면에 연결되고 상기 처리액 순환라인의 출구는 상기 내조의 하단에 연결되어, 상기 처리액 순환라인의 입구를 통해 상기 외조로부터 배출되는 처리액은 상기 처리액 순환라인을 통해 상기 처리액 순환부에서 순환되어 상기 처리액 순환라인의 출구를 통해 상기 내조의 하단부로 재공급되는 것을 특징으로 하는 습식 처리 장치.

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