KR20080009518A - 난반사 보상필름의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 TAC 필름 상부에 보상필름을 합지하는 단계; 자외선 경화 수지에 무기입자 또는 고분자 유기입자 등을 혼합하여 광확산 조성물을 제조하는 단계; 상기 광확산 조성물을 보상필름 또는 위상차 필름의 상부에 코팅하여 광확산층을 형성하는 광확산층 코팅단계; 및 상기 광확산층을 포함하는 편광필름을 열경화 또는 광경화를 이용하여 경화하는 경화단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광확산층을 포함하는 난반사 보상필름 제조 방법 및 이러한 방법으로 제조된 난반사 보상필름에 관한 발명이다.
LCD cell에서 이용되는 보상필름 또는 위상차 필름은 통상적으로 편광소자와 LCD cell 사이에 위치하여 보상역할을 한다. 이러한 보상필름을 편광필름의 최외각에 배치한 후 방현코팅을 하여 투명성이 우수하고 방현성을 갖는 보상필름을 제작하여 디스플레이 표면을 눈부심 없이 볼 수 있도록 하였다.
난반사 필름, 보상필름, 난반사 방지 코팅층

Description

난반사 보상필름의 제조방법 및 상기 방법으로 제조된 편광필름{METHOD FOR MANUFACTURING OF ANTI-REFLECTIVE COMPENSATION FILM AND POLARIZED FILM USING THEREOF}
도 1은 본 발명에 따른 난반사 보상필름의 구조도이다.
도 2는 방현 처리된 필름을 보상필름에 합지한 필름의 구조도이다.
도 3은 본 발명에 따라 제조된 필름 및 비교예에 따라 제조된 필름의 투과율을 나타내는 그래프이다.
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
100 : 보상필름 200 : 난반사코팅층
200' : 점착제 300 : 방현처리 필름
본 발명은 난반사 보상필름 제조방법 및 이러한 방식으로 제조된 난반사 보상필름에 관한 발명이다. 보다 상세하게는 TAC 필름 상부에 보상필름을 합지하는 단계; 자외선 경화 수지에 무기입자 또는 고분자 유기입자 등을 혼합하여 광확산 조성물을 제조하는 단계; 상기 광확산 조성물을 보상필름 또는 위상차 필름의 상부에 코팅하여 광확산층을 형성하는 광확산층 코팅단계; 및 상기 광확산층을 포함하는 편광필름을 열경화 또는 광경화를 이용하여 경화하는 경화단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광확산층을 포함하는 난반사 보상필름 제조 방법 및 이러한 방법으로 제조된 난반사 보상필름에 관한 발명이다.
본 발명은 유기입자 또는 무기입자가 함유된 광확산 조성물을 보상필름에 코팅하여, 기존의 난반사 방지 편광필름보다 광확산정도(Haze), 투명도(Clarity), 난반사 효과 등이 우수한 편광필름을 제조하기 위한 방법이다.
CRT 디스플레이나 액정 디스플레이에서는 가속된 전자가 전면의 글래스 내측에 있는 형광체에 충돌하여 에너지를 방출하여 형광체가 발광해 적, 녹, 청의 광이 전면측으로 방출된다. 디스플레이를 실내에서 사용하는 경우, 형광등 등의 조명이 디스플레이 표면으로 입사하여 그 광이 반사되면 화면이 눈이 부시게되고, 화면의 인식이 어려워진다.
종래에는 투명 또는 반투명 수지체에 광확산 물질을 분산시킨 사례(일본 공개특허공보 소 55-46707호)가 있었다. 하지만 이러한 종래 기술은 후방 산란에 의하여 반사 성능을 확보하기 때문에 투과형 액정표시장치의 정면 휘도를 향상시키기 위해 사용되는 렌즈시트의 집중 효과를 저감시키는 문제가 있었다.
또한, 대부분의 경우 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 필름 일면에 코팅을 하여 난반사 필름을 제조하는데, 이러한 경우 편광필름의 전체 두께가 두꺼워지기 때문에 투명성 등에 문제가 발생한다.
본 발명은 상기 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 트리아세틸셀룰로오스 필름이 아닌 보상필름 또는 위상차 필름에 무기입자 및 유기입자가 포함된 광확산 물질을 코팅하여 난반사 보상필름을 제조한다. 따라서 내부에서 광이 발산되는 경우 광을 산란시켜 눈부심을 방지할 수 있고, 접착제를 이용하여 별개의 난반사 필름을 보상필름에 부착시키지 않기 때문에 두께가 얇고 투명성이 유지되는 난반사 기능 보상필름을 제조할 수 있다. 또한 공정이 단순하여 경제적이며 효율적인 필름 제작이 가능하다.
본 발명의 목적은 TAC 필름 상부에 보상필름을 합지하는 단계; 자외선 경화 수지에 무기입자 또는 고분자 유기입자 등을 혼합하여 광확산 조성물을 제조하는 단계; 상기 광확산 조성물을 보상필름 또는 위상차 필름의 상부에 코팅하여 광확산층을 형성하는 광확산층 코팅단계; 및 상기 광확산층을 포함하는 편광필름을 열경화 또는 광경화를 이용하여 경화하는 경화단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광확산층을 포함하는 난반사 보상필름 제조 방법 및 이러한 방법으로 제조된 난반사 보상필름을 통하여 달성할 수 있다.
이하에서 본 발명의 기술적 구성을 중심으로 상세히 설명한다.
본 발명은 난반사 보상필름 제조방법 및 이러한 방법으로 제조된 난반사 보상필름에 관한 것이다. 본 발명에 의한 난반사 보상필름의 제조방법은 TAC 필름 상부에 보상필름을 합지하는 단계; 자외선 경화 수지에 무기입자 또는 고분자 유기입 자 등을 혼합하여 광확산 조성물을 제조하는 단계; 상기 광확산 조성물을 보상필름 또는 위상차 필름의 상부에 코팅하여 광확산층을 형성하는 광확산층 코팅단계; 및 상기 광확산층을 포함하는 편광필름을 열경화 또는 광경화를 이용하여 경화하는 경화단계를 포함하여 구성된다. 이하 각각의 단계에 대하여 살펴본다.
(1) 보상필름의 합지단계
편광필름의 TAC 필름 외부에 점착제를 이용하여 보상필름 또는 위상차 필름을 합지시킨다. 보상필름 또는 위상차 필름은 LCD cell과 편광소자 사이에 위치하여 보상역할을 하는 것이 통상적이다. 최근에는 외부에서 구현되는 화상이 백라이트 광원을 사용함에도 불구하고 선명하게 보이지 않아서 이를 해결하기 위해 상판에 일축으로 연신된 필름이 편광필름의 광흡수축과 45도 각도를 이루면서 원편광을 이용하여 외부에서의 뚜렷한 화상 관측을 이루도록 하고 있다. 본 발명은 이러한 형태의 편광 필름에서, 편광필름의 최외각에 일축으로 연신된 보상필름의 표면에서 난반사를 일으키는 광확산 코팅층을 형성하도록 구성한다.
(2) 혼합액 제조단계
편광필름의 표면에서 광이 반사되어 눈부심이 발생하는 것을 방지하기 위하여, 통상적으로 이용되는 자외선 경화 수지에 무기입자 등의 메탈 혹은 고분자 유기입자 등을 혼합한다. 무기입자로는 SiO2, TiO2 등이 있으며, 유기입자로는 스틸렌 비드, 멜라민비드, 아크릴비드, 아크릴-스틸렌비드, 폴리카보이네이트비드, 폴리에틸렌비드, 폴리염화비닐비드 등을 이용할 수 있는데, 특히 스틸렌비드가 바람직하며 두 종류 이상의 유기 입자를 함께 사용할 수 있다. 상기 미립자는 모두 비응집성이기 때문에 투광성 수지와의 굴절율 차에 의해 효과적인 내부 산란성이 얻어져 면발광 방지가 가능해진다. 상기 광확산 조성물에 포함되는 물질 각각에 대해서는 이하에서 상세히 설명하기로 한다.
(3) 광확산층 코팅단계
광확산층을 코팅하기 위하여 본 발명에서는 인라인 코팅방식(in-line)을 사용한다. 인라인 코팅방식에 의하는 경우, 헤드는 나이프(Knife), 콤마(Comma), 다이(Die), 마이크로 그라비아, 그라비아, 닙(nip) 헤드방식 등을 채택할 수 있다.
본 발명에서 사용하는 광확산 조성물은 자외선 경화성수지, 경화제 그리고 광확산 미립자를 포함하여 구성된다. 코팅단계에서 사용하는 광확산 조성물의 각 구성 물질에 대하여 살펴본다.
< 자외선 경화성수지 >
광경화성수지로는 일반적으로 자외선 경화성수지를 사용한다. 광경화성수지로는 불포화 폴리에스테르 수지, 다관능 아크릴레이트 수지, 에폭시 아크릴 수지, 에폭시 아크릴레이트 수지, 우레탄, 우레탄 아크릴 레이트 등을 단독 또는 혼합하 여 사용할 수 있다. 본 발명에서 우레탄-아크릴레이트 수지를 사용하였으나, 사용가능한 경화성수지는 동일한 작용 효과를 나타낸다면 그 범위가 나열된 수지에 한정되지 않음은 물론이다.
< 경화제 >
본 발명에서의 경화제는 경화성수지에 존재하는 관능기의 형태에 따라서 적절히 선택 및 혼합하여 사용할 수 있으며, 바람직하게는 이소시아네이트계 화합물, 에폭시계 화합물, 아지리딘계 화합물, 금속 킬레이트 화합물, 금속 알콕사이드 금속염, 아민 화합물, 히드리진 화합물 등을 단독 또는 혼합하여 사용한다.
본 발명에서의 이소시아네이트계 화합물은 디페닐메탄 이소시아네이트(diphenylmethane isocyanate), 자이렌 디이소시아네이트(xylene diisocyanate) 등의 방향족 디이소시아네이트계 화합물, 헥사메틸 디이소시아네이트(hexamethyl diisocyanate) 등의 지방족 디이소시아네이트 화합물(aliphatic diisocyanate) 등을 단독 또는 혼합하여 사용한다.
또한, 본 발명에서의 에폭시계 화합물은 폴리에틸렌 글리콜 디글리시딜 에테르(polyethylene glycol diglycidyl ether), 디글리시딜 에테르(diglycidyl ether), 트리메틸올 프로판 트리글리시딜 에테르(trimethylol propane triglycidyl ether) 등을 단독 또는 혼합하여 사용한다.
본 발명에서의 경화제는 광확산 조성물 100중량%에 대하여 0.3중량% 내지 5.0중량% 사용하는 것이 바람직하다. 본 발명에서 경화제는 광확산 조성물의 분자량 또는 사슬 구조를 제어하기 위하여 사용하는 첨가제로서 전술한 범위에서 경화제를 사용하면 상 분리 현상 등을 억제하는 효과가 두드러진다.
< 광확산 미립자 >
본 발명에서의 광확산 미립자는 실리카, 탄산칼슘, 수산화알루미늄, 수산화마그네슘, 점토, 활석, 이산화티타늄, 산화세슘 등의 무기입자, 아크릴계 수지, 스티렌계 수지, 에폭시 수지, 실리콘 수지 등의 유기입자 또는 유기계 백색 안료를 사용한다. 또한 아크릴계 고분자를 점착 조성물의 주성분으로 하는 경우 광확산에 필요한 굴절율 및 확산 정도를 만족하는 고분자 비드가 바람직하다. 고분자 비드로는 멜라민 비드(굴절율 : 1.57), 아크릴 비드(굴절율:1.47), 아크릴-스티렌 비드(굴절율 : 1.54), 폴리카보네이트 비드, 폴리에틸렌 비드, 염화비닐 비드 등이 있다.
본 발명에서 사용하는 광확산 미립자는 스프레이 코팅 방식에 적합한 광확산 미립자를 사용하는 것이 바람직하며, 본 발명에서는 아크릴계 비드 또는 스티렌계 비드를 사용하는 것이 보다 바람직하다. 본 발명에서는 무기계 비드를 광확산 미립자로 사용하는 것도 바람직하다. 상기 아크릴계 비드, 스티렌계 비드 또는 무기계 비드는 단독 또는 혼합하여 사용할 수 있다.
본 발명에서 사용하는 아크릴계 비드는 에틸 아크릴레이트, 부틸 아크릴레이트, 아밀 아크릴레이트, 2-에틸헥실 아크릴레이트, 옥틸 아크릴레이트, 사이클로 헥실 아크릴레이트, 벤질 아크릴레이트, 부틸 메타크릴레이트, 2-에틸헥실 메타크릴레이트, 사이클로 헥실 메타크릴레이트, 벤질 헥실 메타크릴레이트, 사이클로 헥실 메타크릴레이트, 벤질 메타크릴레이트, 메틸 아크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트, 벤질 메카크릴레이트, 비닐 아세테이트, 스티렌, 아크릴로니트릴, 아크릴산, 메타크릴산, 무수말레인산, 이타콘산, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, N-메틸올아크릴아미드, 아크릴아미드, 메타크릴아미드, 글리시딜아미드, 라우릴아크릴레이트, 에톡시디에틸렌클리콜아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜아크릴레이트, 페녹시에틸아크릴레이트, 테트라히드로푸릴아크릴레이트, 이소보닐아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리틀테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 트리메틸올프로판아크릴산벤조에이트, 2-에틸헥실메타아크릴레이트, n-스테아릴메타아크릴레이트, 시클로헥실메타아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴메타아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타아크릴레이트, 2-히드록시부틸메타아크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리메타아크릴레이트, 글리세린디메타아크릴레이트, 글리세린디메타아크릴레이트헥사메틸렌디이소시아네이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트헥사메틸렌디이소시아네이트의 단량체 또는 올리고머를 단독 또는 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명에서 사용하는 스티렌계 비드는 스티렌, α-메틸스티렌, α-에틸스티렌, o-에틸스티렌, p-에틸스티렌, 2,4-디메틸스티렌 또는 비닐 톨루엔을 단독 또는 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명에서 사용하는 무기입자는 시리카(SiO2), 산화티타늄(TiO2), 산화지르코늄(ZrO2), 산화망간(MnO2), 산화코발트(CoO), 산화철(Fe2O3) 등을 단독 또는 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다.
광확산 미립자의 함량은 광확산 조성물 100중량%에 대하여 1중량% 내지 5중량%인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 2중량% 내지 4중량%이다. 광확산 미립자의 함량이 1중량% 보다 작으면 광확산 효과를 기대하기 어렵고, 5중량% 보다 크면 광확산 미립자가 과도하여 투과율을 감소시킬 수 있다.
본 발명에서 사용하는 광확산 미립자를 통하여 분산성이 우수하며 균일하고 높은 광확산성을 갖는 편광필름을 얻을 수 있다. 광확산 미립자의 형상은 구상 또는 침상인 것이 바람직하다. 또한 광확산 미립자는 다공 또는 중공 형태의 공동(空洞)의 무기입자 또는 유기입자인 것이 바람직하다. 공동의 무기입자 또는 유기입자란 광확산 미립자 각각의 내부 빈 공간이 다른 불순물에 의하여 채워지지 않고 속이 빈 상태로 유지되는 입자를 의미한다. 상기와 같은 동공의 형태를 제조하기 위 하여 포밍법(Forming method), 신터링법, 스트레칭법, 트랙 에칭법, 옵티멈법, 솔벤트 페이즈 세퍼레이션법, 추출법 등이 입자의 종류에 따라 적절하게 선택되어 사용될 수 있다.
광확산 미립자의 입자 직경은 1㎛ 내지 4㎛가 바람직하고, 보다 바람직하게는 2㎛ 내지 3㎛이다. 광확산 미립자의 입자 직경이 1㎛보다 작으면 만족스러운 광확산 효과를 얻기가 힘들고, 광확산성이 저하되어 화상이 알루미늄 색상으로 변색되는 단점이 있다. 또한 광확산 미립자의 입자 직경이 4㎛보다 크면 점착 조성물에서 광확산 미립자로 인해 화면의 배경이 거칠어지기 쉽고 화상 콘트라스트가 악화된다.
본 발명에서 광확산 미립자의 굴절율은 광확산 조성물의 굴절율에 대하여 0.01 내지 0.4 의 차이를 가지는 것이 바람직하다. 보다 바람직한 굴절율 차이는 0.07 내지 0.3이다. 굴절율 차이가 0.01 보다 작으면 광확산이 이루어지지 않고 굴절율차가 0.4보다 크면 내부 산란이 지나치게 크고 전체 광선 투과율이 약화되는 문제가 있다. 또한, 광확산 미립자의 굴절율은 광확산 조성물의 굴절율보다 낮아야 굴절율 조정이 용이하고 생산성이 향상된다.
상기 광확산층을 부가하는 경우, 광확산층의 표면에는 미세한 요철이 형성되는데, 미세 요철이 형성된 상기 광확산층의 표면은 10점 평균거칠기(Rz)가 1 내지 10㎛이며 평균경사(θa)가 15 내지 10˚가 되도록 한다. 10점 평균거칠기가 1㎛ 미만이면 필름의 산란입자로 인한 광확산성이 약화되며 10㎛보다 크면 광확산성이 강하게 되어 휘도가 낮아지므로 바람직하지 않다. 또한 평균경사가 15˚미만이면 광확산성이 약하게 되고 평균경사가 20˚보다 크면 광확산성이 강하게 되어 지나치게 정면 휘도가 낮아지므로 바람직하지 않다. 여기서 10점 평균거칠기는 피측정물의 단면곡선으로부터 기준 길이를 선택한 부분의 평균선에 대하여 가장 위에서 다섯번째까지 정상 높이의 평균값과 최고 깊이로부터 다섯번째까지의 바닥 깊이의 평균값과의 차이값이다. 또한 평균경사는 10점 평균거칠기를 구할 때의 측정과 동일한 측정방법으로 얻어지고, 피측정물의 단면곡선으로부터 기준길이를 선택한 부분의 평균선과 단면곡선이 이루는 각도의 평균값이다.
< 분산제 >
본 발명에서는 하드 코팅층을 보상 필름에 도포하기 위하여 분산제인 유기용매를 사용한다. 본 발명에서는 하드 코팅층 조성물이 고르게 분산될 수 있는 유기용매를 사용하는 것이 바람직하다. 하드 코팅층의 도포성, 부착성, 경도 강화 기능의 제고를 고려하여 유기용매를 선택한다.
본 발명에서 사용하는 유기용매는 알콜계 메탄올, 이소프로판올, 부탄올, t-부탄올, 이소부탄올 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 알콜, 케톤류의 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 케톤, 아세틸 아세톤 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 디케톤, 에스테르류의 에틸아세테이트, 부틸 아세테이트 등의 탄소수 1 내지 8의 포화 탄화수소계 에스테르, 에테르 알콜류의 에틸셀로솔브, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 1-메톡시-2-프로판올, 그 외에 N-메틸 피롤리돈, 에틸셀로솔브 아세테이트, 디아세톤 알콜 등을 단독 또는 혼합하여 사용한다. 또한, 방향족 탄화수소에 해당하는 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 에틸벤젠 등을 단독 또는 혼합하여 사용할 수도 있다.
유기용매는 하드 코팅층 조성물 100중량부에 대하여 20중량부 내지 110중량부인 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 30중량부 내지 80중량부이다. 유기용매의 함량이 하드 코팅층 조성물 100중량부에 대하여 20중량부보다 작을 때는 점도가 낮아 보상필름과의 도포성, 부착성 등이 떨어지며, 110중량부보다 클 때는 하드코팅층 조성물에 비하여 지나치게 많은 유기 용매를 사용함으로써 채산성이 떨어진다.
상기와 같은 조성물을 혼합하여 제조된 하드 코팅한 난반사 보상필름의 두께는 30 내지 60㎛ 인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 45 내지 55㎛이고, 상기 광확산층의 두께는 3 내지 15㎛인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 5 내지 10㎛이다. 싱기 광확산층의 두께가 3㎛보다 작을 때는 두께가 지나치게 얇아 내스크래칭성 및 내화학성을 확보하기 어려우며, 15㎛보다 클 때는 스핀코팅시 경제성이 떨어진다는 단점이 있다. 상기 두께를 갖는 경우 내스크래칭성 및 내화학성에 유리하며 표면 경도가 가장 적합하다.
부가적으로 상기 광확산 조성물에는 소포제, 피복성 개량제, 증점제, 유기 윤활제, 유기 중합체 입자, 산화방지제, 자외선 흡수제, 발포제 염료 등이 함유될 수 있다.
< 레벨링제 >
본 발명에서는 하드 코팅층의 표면을 고르게 하기 위하여 하드 코팅층 조성물에 레벨링제를 혼합하여 사용한다. 레벨링제는 실리콘 수지에 케톤이나 에스테르계 용제를 혼합하여 사용할 수 있다. 본 발명에 의한 레벨링제로는 실리콘 디아크릴레이트나 실리콘 폴리아크릴레이트 화합물을 단독 또는 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다.
레벨링제의 함량은 하드 코팅층 조성물 100중량%에 있어서 0.1중량% 내지 3중량%인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5중량% 내지 2중량%이다. 레벨링제가 0.1중량%보다 작으면 레벨링 효과를 기대하기 어려우며, 3중량% 이상인 경우는 경도가 약화될 우려가 있다.
(4) 경화단계
본 발명에 의한 경화단계는 편광필름의 제조공정에서 통상적으로 사용되는 경화방식을 사용한다.
경화 방식의 차이에 따라서 경화성수지 및 경화제가 달라질 수 있으며, 그 범위는 본 발명에서 구체적으로 언급한 경화성수지 그리고 경화제에 한정되지 않는 다.
본 발명에 의한 편광필름 제조방법에 의하여 만들어진 난반사 보상필름도, 본 발명의 권리범위에 해당한다. 상기 난반사 보상필름은 하단부로부터 TAC 필름, 보상필름, 광확산층 순서로 구성되어 있는 것을 특징으로 한다. 또한, 본 발명의 편광필름 제조방법에 의하여 만들어진 편광필름이 적용되는 화상표시장치도 본 발명의 권리범위에 해당한다. 본 발명에 의한 화상표시장치는 브라운관표시장치(CRT, cathode-ray tube), 액정표시장치(LCD, liquid crystal dispaly), 플라즈마표시장치(PDP, plasma display pannel) 및 유기전계발광 표시장치(OLED, organic light emitting diode)로 이루어진 그룹 중에서 적어도 하나인 화상표시장치이다.
이하에서는 본 발명에 바람직한 실시예와 본 발명과 비교되는 비교예를 통하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.
실시예 1)
자일렌(Xylene) 65중량%에 자외선 경화수지 35중량%, SiO2 1중량%(크기:1-4㎛), 레벨링제, 분산제를 혼합하여 혼합액을 제조한다. 상기 제조된 혼합액을 보상필름(세끼스이사의 ESSINA 필름)에 마이크로그라비어 코팅을 한다. 상기의 코팅된 필름을 건조 후 자외선을 조사하여 경화시켜 5㎛ 두께의 필름을 제조한다.
실시예 2)
자일렌(Xylene) 65중량%에 자외선 경화수지 35중량%, SiO2 2중량%(크기:1-4㎛), 레벨링제, 분산제를 혼합하여 혼합액을 제조한다. 상기 제조된 혼합액을 보상필름(세끼스이사의 ESSINA 필름)에 마이크로그라비어 코팅을 한다. 상기의 코팅된 필름을 건조 후 자외선을 조사하여 경화시켜 5㎛ 두께의 필름을 제조한다.
실시예 3)
자일렌(Xylene) 65중량%에 자외선 경화수지 35중량%, SiO2 4중량%(크기:1-4㎛), 레벨링제, 분산제를 혼합하여 혼합액을 제조한다. 상기 제조된 혼합액을 보상필름(세끼스이사의 ESSINA 필름)에 마이크로그라비어 코팅을 한다. 상기의 코팅된 필름을 건조 후 자외선을 조사하여 경화시켜 5㎛ 두께의 필름을 제조한다.
비교예 1)
씨클로올레핀 필름에 난반사 기능을 갖는 코팅층을 형성하지 않은 필름이다.
비교예 2)
편광필름에 방현기능을 구현하기 위하여, 방현처리된 트리아세틸셀룰로오스 필름을 점착제를 사용하여 씨클로올레핀 필름에 합지하여 난반사 필름을 제작하였다.
[표 1]은 본 발명에 의하여 만들어진 실시예에 해당하는 편광필름과 비교예에 해당하는 편광필름의 밀착성, 필름두께, 흐림도, 투명도 등을 비교하여 나타낸 표이다.
구분 밀착성 필름 두께 (㎛) 흐림도 (%) 투명도 (%)
실시예 1 100/100 35 13.60 60.1
실시예 2 100/100 35 25.30 40.7
실시예 3 100/100 35 48.90 32.0
비교예 1 - 30 0.85 95.0
비교예 2 - 85 27.10 42.1
실시예 1,2,3의 필름 두께는 35㎛로 일정하나, 비교예 2의 필름 두께는 씨클로올레핀 필름에 점착제를 이용하여 방현 처리된 트리아세틸셀룰로오스 필름을 합지하여 사용하였기 때문에 다소 두껍다. 또한 실시예 1의 흐림도는 비교예 2에 비하여 훨씬 낮으며, 투명도는 비교예 2에 비하여 월등하게 높으나, 실시예2,3의 투명도는 비교예 2에 비하여 매우 낮다.
[표 2]는 실시예 1,2,3 및 비교예 1,2를 비교한 색상값을 나타낸 표이다.
항목 L a b
실시예 1 90.2579 0.0134 0.4763
실시예 2 82.4149 0.0596 0.9169
실시예 3 75.5755 0.1540 1.3888
비교예 1 95.7495 0.0601 0.1738
비교예 2 86.4881 -0.0743 0.9306
이상, 본 발명을 구성을 중심으로 실시예와 비교예를 참조하여 상세하게 설명하였다. 그러나 본 발명의 권리범위는 상기 실시예에 한정되는 것은 아니라 첨부 된 특허청구범위 내에서 다양한 형태의 실시예로 구현될 수 있다. 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 가능한 다양한 변형 가능한 범위까지 본 발명의 청구 범위 기재의 범위 내에 있는 것으로 본다.
상기 기술적 구성을 통하여 본 발명은 광확산 조성물을 보상필름 또는 위상차 필름에 고르게 코팅하여 편광필름을 제조하는 방법 및 이러한 방법으로 제조한 편광필름을 제공하는 효과가 있다. 또한, 본 발명에 의하여 코팅되는 광확산층을 통하여 난반사 방지 및 시야각 향상 효과도 함께 얻을 수 있다. 더불어, 광확산층이 액정표시장치 내부에 존재하는 것보다 광확산정도(Haze), 투명도(Clarity), 시야각 등이 우수하다.

Claims (9)

  1. 난반사 보상필름을 제조하는 방법에 있어서,
    TAC 필름 상부에 보상필름을 합지하는 단계;
    자외선 경화 수지에 무기입자 또는 고분자 유기입자 등의 광확산 미립자를 혼합하여 광확산 조성물을 제조하는 단계;
    상기 광확산 조성물을 보상필름 또는 위상차 필름의 상부에 코팅하여 광확산층을 형성하는 광확산층 코팅단계; 및
    상기 광확산층을 포함하는 편광필름은 열경화 또는 광경화를 이용하여 경화하는 경화단계 포함하는 것을 특징으로 하는 난반사 보상필름 제조방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 광확산 조성물은 자외선 경화 수지, 경화제, 광확산 미립자, 분산제, 레벨링제를 포함하는 것을 특징으로 하는 난반사 보상필름을 구비한 광학소자 제조방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 무기입자는 SiO2, TiO2 인 것을 특징으로 하는 난반사 보상필름 제조방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 유기입자는 스틸렌비드, 멜라민비드, 아크릴비드, 아크릴-스틸렌비드, 폴리카보이네이트비드, 폴리에틸렌비드, 폴리염화비닐비드인 것을 특징으로 하는 난반사 보상필름 제조방법.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 코팅단계는 인라인 코팅방법에 의하는 것을 특징으로 하는 난반사 보상필름 제조방법.
  6. 제 1 항에 있어서,
    광확산 미립자의 입자 직경은 1㎛ 내지 4㎛인 것을 특징으로 하는 난반사 보상필름 제조방법.
  7. 제 1 항에 의한 난반사 보상필름 제조방법에 따른 난반사 보상필름에 있어서,
    상기 난반사 보상필름은 하단부로부터 TAC 필름, 보상필름, 광확산층 순서로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 난반사 보상필름.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 광확산층의 두께는 3 내지 15㎛인 것을 특징으로 하는 난반사 보상필름.
  9. 제 1 항에 의한 난반사 보상필름 제조방법에 따라 제조된 난반사 보상필름을 구비한 화상표시장치에 있어서, 브라운관표시장치(CRT, cathode-ray tube), 액정표시장치(LCD, liquid crystal dispaly), 플라즈마표시장치(PDP, plasma display pannel) 및 유기전계발광 표시장치(OLED, organic light emitting diode)로 이루어진 그룹 중에서 적어도 하나인 화상표시장치.
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