KR20080001331A - Supporting system of a substrate for lcd and the operating method thereof - Google Patents

Supporting system of a substrate for lcd and the operating method thereof Download PDF

Info

Publication number
KR20080001331A
KR20080001331A KR1020060059693A KR20060059693A KR20080001331A KR 20080001331 A KR20080001331 A KR 20080001331A KR 1020060059693 A KR1020060059693 A KR 1020060059693A KR 20060059693 A KR20060059693 A KR 20060059693A KR 20080001331 A KR20080001331 A KR 20080001331A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
electromagnet
support pin
plate
glass
liquid crystal
Prior art date
Application number
KR1020060059693A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
김재철
Original Assignee
엘지.필립스 엘시디 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지.필립스 엘시디 주식회사 filed Critical 엘지.필립스 엘시디 주식회사
Priority to KR1020060059693A priority Critical patent/KR20080001331A/en
Publication of KR20080001331A publication Critical patent/KR20080001331A/en

Links

Images

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26—DRYING
    • F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B5/00—Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat
    • F26B5/04—Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat by evaporation or sublimation of moisture under reduced pressure, e.g. in a vacuum
    • F26B5/042—Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat by evaporation or sublimation of moisture under reduced pressure, e.g. in a vacuum for drying articles or discrete batches of material in a continuous or semi-continuous operation, e.g. with locks or other air tight arrangements for charging/discharging
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • H01L21/6875—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a plurality of individual support members, e.g. support posts or protrusions

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Drying Of Solid Materials (AREA)

Abstract

A substrate supporting system for an LCD(Liquid Crystal Display) and an operating method thereof are provided to change automatically and freely arrangement of glass supporting pins supporting glasses within a vacuum dry device, thereby preventing generation of errors and improving quality. A substrate supporting system for an LCD comprises a plate(210), supporting pins(211) and an electromagnet(215). On the plate, a glass is disposed. The supporting pin is formed on the plate. The electromagnet moves the supporting pin. The supporting pin includes magnetic material. The system further comprises a controller for applying an electric signal to the electromagnet.

Description

액정 표시 장치용 기판 지지 시스템 및 그 운용 방법{supporting system of a substrate for LCD and the operating method thereof}Substrate support system for liquid crystal display and its operating method

도 1은 종래 진공 건조 장치에서 감광제가 도포된 글래스가 장착되어 있는 상태를 도시한 단면도.1 is a cross-sectional view showing a state in which a glass coated with a photosensitive agent is mounted in a conventional vacuum drying apparatus.

도 2a 및 2b는 종래 진공 건조 장치에서 플레이트의 표면에 형성되는 글래스 지지핀에 의해 지지되는 글래스의 평면도.Figures 2a and 2b is a plan view of the glass supported by the glass support pin formed on the surface of the plate in a conventional vacuum drying apparatus.

도 3은 본 발명에 따른 액정 표시 장치의 진공 건조 장치를 개략적으로 보여주는 단면도.3 is a cross-sectional view schematically showing a vacuum drying apparatus of the liquid crystal display according to the present invention.

도 4는 본 발명에 따른 진공 건조 장치에서 글래스 지지핀이 올려진 플레이트를 구체적으로 도시한 평면도.Figure 4 is a plan view specifically showing a plate on which the glass support pin is raised in the vacuum drying apparatus according to the present invention.

도 5는 본 발명에 따른 진공 건조 장치에서 글래스 지지핀이 올려진 플레이트를 구체적으로 도시한 단면도.Figure 5 is a cross-sectional view specifically showing a plate on which the glass support pin is raised in the vacuum drying apparatus according to the present invention.

도 6은 본 발명에 따른 진공 건조 장치에서 글래스 지지핀이 올려진 플레이트를 도시한 단면도.Figure 6 is a cross-sectional view showing a plate on which the glass support pin is raised in the vacuum drying apparatus according to the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호 설명><Description of Signs of Major Parts of Drawings>

200 : 글래스 210, 310 : 플레이트(plate)200: glass 210, 310: plate

211, 311 : 글래스 지지핀 215a, 315a : 수평 전자석 라인211, 311: glass support pins 215a, 315a: horizontal electromagnet lines

215b, 315b : 수직 전자석 라인 250 : 챔버 215b, 315b: vertical electromagnet line 250: chamber

260 : 제어부260 control unit

본 발명은 공정 설비에 관한 것으로, 보다 상세하게는 진공 건조 장치에서 액정 표시 장치의 기판을 지지하는 시스템과 그 운용 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to process equipment, and more particularly, to a system for supporting a substrate of a liquid crystal display in a vacuum drying apparatus and a method of operating the same.

일반적으로, 평판형 표시장치의 하나인 액정 표시 장치(Liquid Crystal Diplay device)는 음극선관 (CRT)에 비해 시인성이 우수하고 평균소비전력도 같은 화면크기의 CRT에 비해 작을 뿐만 아니라 발열량도 작기 때문에 플라즈마표시장치(PDP: Plasma Display Panel)나 전계방출표시장치(FED: Field Emission Display)와 함께 최근에 휴대폰이나 컴퓨터의 모니터, 텔레비젼의 차세대 표시장치로서 각광받고 있다. In general, the liquid crystal display device (Liquid Crystal Diplay device), which is one of the flat panel display devices, has a higher visibility than the cathode ray tube (CRT) and has a smaller average power consumption than the CRT of the same screen size. Along with a display device (PDP: Plasma Display Panel) and a field emission display (FED: Field Emission Display), it has recently been in the spotlight as a next generation display device for monitors of mobile phones, computers, and televisions.

이러한 액정표시장치는 특수하게 표면 처리된 2개의 얇은 유리판 사이에 고체와 액체의 중간물질인 액정물질을 형성하여 상,하 유리판 위의 전극의 전압 차로 액정분자의 배열을 변화시킴으로써 명암을 발생시켜 영상을 표시하는 작동원리를 갖는데, 이 액정 표시 장치는 문자가 표시되는 패널 스스로 빛을 내지 못하므로 표시내용을 시각적으로 인식할 수 있도록 하기 위하여 램프 등의 광원을 필요로 하게 된다. Such a liquid crystal display forms a liquid crystal material, which is an intermediate material between a solid and a liquid, between two thin glass plates that have been specially treated and generates a contrast by changing the arrangement of liquid crystal molecules by a voltage difference between electrodes on the upper and lower glass plates. The liquid crystal display device does not emit light by the panel on which characters are displayed and thus requires a light source such as a lamp to visually recognize the display content.

상기 액정 표시 장치는 화소 단위를 이루는 액정 셀의 형성 공정을 동반하는 패널 상판 및 하판의 제조공정과, 액정 배향을 위한 배향막의 형성 및 러빙(rubbing) 공정과, 상판 및 하판의 합착 공정과, 합착된 상판 및 하판 사이에 액정을 주입하고 봉지하는 공정 등의 여러 공정을 거쳐 완성되게 된다. The liquid crystal display device includes a process of manufacturing a top and a bottom panel, a process of forming and rubbing an alignment layer for liquid crystal alignment, a bonding process of a top and a bottom plate, and a bonding process, together with a process of forming a liquid crystal cell forming a pixel unit. It is completed through a number of processes, such as the process of injecting and encapsulating a liquid crystal between the upper and lower plates.

한편, 상기 상판 및 상기 하판의 각 층을 형성하는 공정 단계에서 패턴을 형성하게 되는데, 이때 일반적으로 포토리소그라피(photolithography) 공정을 수행하게 된다. Meanwhile, a pattern is formed in a process step of forming each layer of the upper plate and the lower plate, and in this case, a photolithography process is generally performed.

상기 포토리소그라피(photolithography)는 빛에 민감한 감광제(photoresist)를 사용하여 글래스(glass)와 같은 기판(substrate) 상에 원하는 패턴을 형성코자 할 때 널리 이용되는 사진공정으로서, 액정 표시 장치의 제조시 없어서는 안될 필수불가결한 공정중의 하나로 취급되고 있다.The photolithography is a photo process widely used to form a desired pattern on a substrate such as glass using a photoresist sensitive to light. It is treated as one of the indispensable processes.

상기 공정시에는 통상, 점액성 액체 상태의 감광제가 사용되므로, 얇고 균일한 막을 얻기 위하여 스핀 코팅, 슬릿 코팅 등의 같은 방법으로 감광제를 도포(coating)하고 있다. Since the photosensitive agent in a viscous liquid state is used normally at the said process, in order to obtain a thin and uniform film | membrane, the photosensitive agent is coated by the same method, such as spin coating and a slit coating.

따라서, 도포 작업이 완료된 후에는 마스크를 배열하기 전에 선작업으로서, 먼저 진공건조장치(Vacuum dryer) 내에서 가건조 과정을 거쳐 감광제의 용제(solvent)를 제거해 주어야 한다. Therefore, after the coating operation is completed, as a preliminary work before arranging the mask, the solvent of the photosensitive agent should be removed through a temporary drying process in a vacuum dryer.

이처럼 용제 제거 작업을 별도 더 실시하는 것은 하부 막질과 감광제 간의 접합 특성를 향상시키기 위함이다.The additional solvent removal operation is performed to improve the bonding property between the lower film quality and the photosensitive agent.

도 1은 종래 진공 건조 장치에서 감광제가 도포된 글래스가 장착되어 있는 상태를 도시한 단면도이다. 1 is a cross-sectional view showing a state in which a glass coated with a photosensitive agent is mounted in a conventional vacuum drying apparatus.

도 1에 도시된 바와 같이, 감광제가 도포된 글래스(100)는 글래스 지지핀(111)이 부착된 진공 건조 장치의 플레이트(plate)(110) 상에 장착되어 있다.As shown in FIG. 1, the glass 100 coated with the photosensitive agent is mounted on a plate 110 of a vacuum drying apparatus to which a glass support pin 111 is attached.

따라서, 감광제 도포가 완료된 글래스(100)가 로봇 암이나 트랜스퍼에 의해 공급되면, 공급된 글래스(100)가 로봇 암이나 트랜스퍼에 의해 플레이트(110) 상의 글래스 지지핀(111) 상에 장착 완료된다. Therefore, when the glass 100 on which the photosensitive agent is applied is supplied by the robot arm or the transfer, the supplied glass 100 is completed to be mounted on the glass support pin 111 on the plate 110 by the robot arm or the transfer.

이후, 상기 로봇 암이나 트랜스퍼를 진공 건조 장치로부터 빼내고, 진공 건조 장치 내부를 진공 상태로 만든 다음, 건조 작업을 실시하여 감광제의 솔벤트 성분을 제거함과 동시에 이를 가건조시키는 방식으로 설비 구동이 이루어지게 된다.Subsequently, the robot arm or transfer is removed from the vacuum drying apparatus, the inside of the vacuum drying apparatus is vacuumed, and the drying operation is performed to remove the solvent component of the photosensitive agent, and at the same time, to drive the equipment. .

도 2a 및 도 2b는 도 1을 위에서 내려다 본 평면도를 나타낸 것이다.2A and 2B show a plan view from above of FIG. 1.

도 2a 및 2b는 종래 진공 건조 장치에서 플레이트(110)의 표면에 형성되는 글래스 지지핀(111)에 의해 지지되는 글래스(100)의 평면도이다.2A and 2B are plan views of the glass 100 supported by the glass support pins 111 formed on the surface of the plate 110 in the conventional vacuum drying apparatus.

상기 감광제가 도포된 글래스(100)가 글래스 지지핀(111)의 팁 부분에 올려지는 방식으로 장착된다.The glass 100 coated with the photosensitizer is mounted in such a way that it is mounted on the tip portion of the glass support pin 111.

상기 글래스(100)에는 통상 복수의 패턴(101a, 101b)이 정의되어 있다.In the glass 100, a plurality of patterns 101a and 101b are usually defined.

여기서, 상기 패턴(101a, 101b)은 액정 표시 장치의 어레이 기판 제조 공정시에 형성되는 패턴일 수도 있고 하나의 단위액정표시패널일 수도 있다.The patterns 101a and 101b may be patterns formed during an array substrate manufacturing process of a liquid crystal display, or may be a unit liquid crystal display panel.

특히, 하나의 진공 건조 장치 내로 다양한 모델의 패턴(101a, 101b)이 배치된 글래스(100)가 출입하는데, 어떤 임의의 모델에 있어서는 글래스 지지핀(111)이 패턴(101a)에 오버랩되지 않지만, 크기와 글래스(100) 상에서의 배치가 변한 새로 운 모델을 진공 건조할 경우에는 상기 글래스 지지핀(111)이 새로운 패턴(101b)에 접촉되어 노광 공정시 얼룩무늬를 형성할 수 있다.In particular, the glass 100 on which various models of patterns 101a and 101b are arranged enters into one vacuum drying apparatus. In some models, the glass support pin 111 does not overlap the pattern 101a. When vacuum drying a new model having a changed size and arrangement on the glass 100, the glass support pin 111 may contact the new pattern 101b to form a spot pattern during an exposure process.

즉, 도 2a에 예시된 모델의 경우, 글래스 지지핀(111)이 패턴(101a)에 중복하지 않지만, 도 2b에 예시된 모델의 경우는 글래스 지지핀(111)에 의해 새로운 ㅍ패턴(101b)이 중복되는 모습을 도시하고 있다.That is, in the case of the model illustrated in FIG. 2A, the glass support pin 111 does not overlap the pattern 101a, but in the case of the model illustrated in FIG. 2B, the glass support pin 111 is used to create a new pattern 101b. This overlapping state is shown.

그러므로 도 2b의 경우에는 노광공정시 글래스(100)와 접촉되는 글래스 지지핀(111)에 의해 얼룩무늬가 발생할 수 있다.Therefore, in the case of FIG. 2B, the speckle may be generated by the glass support pin 111 contacting the glass 100 during the exposure process.

이는 글래스의 두께는 점점 얇아지고 포토레지스트 등의 레진의 감도 등이 향상되기 때문이며, 상기 글래스(100)를 진공 건조 장치에 올려놓기 위해 글래스 지지핀(111)을 사용하는 경우, 이 핀(111)의 형태가 얼룩으로 그대로 글래스(100)에 투영되어 표시소자의 품질 불량을 일으킨다. 즉, 글래스 지지핀(111)이 닿는 부분의 글래스(100) 내에 점(spot) 형태의 얼룩이 잔존하게 되는 것이다.This is because the thickness of the glass becomes thinner and the sensitivity of the resin such as photoresist is improved, and when the glass support pin 111 is used to place the glass 100 on a vacuum drying apparatus, the pin 111 is used. Is projected onto the glass 100 as unevenness, causing a poor quality of the display element. That is, spot-like stains remain in the glass 100 at the portion where the glass support pins 111 touch.

본 발명은 진공 건조 장치 내의 글래스를 지지하는 글래스 지지핀의 배치를 자동으로 자유롭게 바꿀 수 있도록 하여 불량 발생 및 품질 저하를 막을 수 있도록 한 액정 표시 장치용 기판 지지 시스템 및 그 운용 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate support system for a liquid crystal display device and a method of operating the same, which can automatically change the arrangement of the glass support pins for supporting the glass in the vacuum drying apparatus, thereby preventing defects and quality deterioration.

상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 액정 표시 장치용 기판 지지 시스템은, 글래스가 올려지는 플레이트와; 상기 플레이트 상에 형성된 지지핀과; 상기 지지핀을 움직이는 전자석을 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a liquid crystal display substrate support system according to the present invention includes a plate on which glass is placed; A support pin formed on the plate; It characterized in that it comprises an electromagnet for moving the support pin.

또한, 상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 액정 표시 장치용 기판 지지 시스템의 운용 방법은, 챔버 내에 지지핀이 올려진 플레이트를 준비하는 단계와; 상기 플레이트에 형성된 전자석을 작동시켜 상기 지지핀을 원하는 위치로 이동시키는 단계와; 상기 지지핀 상에 기판을 장착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, in order to achieve the above object, a method of operating a substrate support system for a liquid crystal display device according to the present invention includes the steps of preparing a plate on which the support pins are mounted in the chamber; Operating the electromagnet formed on the plate to move the support pin to a desired position; And mounting a substrate on the support pin.

이하, 첨부한 도면을 참조로 하여 본 발명에 따른 글래스 지지 시스템에 대해서 구체적으로 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail with respect to the glass support system according to the present invention.

도 3은 본 발명에 따른 액정 표시 장치의 진공 건조 장치를 개략적으로 보여주는 단면도이다.3 is a cross-sectional view schematically showing a vacuum drying apparatus of the liquid crystal display according to the present invention.

도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 액정 표시 장치의 진공 건조 장치는 챔버(250) 내에서 글래스 지지핀(211)이 형성된 플레이트(210) 상에 기판 예를 들어, 글래스(200)가 장착되어 있다.As shown in FIG. 3, in the vacuum drying apparatus of the liquid crystal display according to the present invention, a substrate, for example, glass 200, is placed on a plate 210 on which glass support pins 211 are formed in the chamber 250. It is installed.

상기 플레이트(210) 하부에는 매트릭스(matrix) 형태로 수평 전자석 라인들(LP1, LP2, LP3, LP4, LP5,...LPm)(215a)과, 수직 전자석 라인들(LH1, LH2, LH3, LH4, LH5,...LHn)(215b)로 이루어진 전자석(215)이 형성되어 있다.Under the plate 210, horizontal electromagnet lines LP1, LP2, LP3, LP4, LP5, ... LPm 215a and vertical electromagnet lines LH1, LH2, LH3, LH4 in a matrix form. , An electromagnet 215 consisting of LH5, ... LHn) 215b is formed.

상기 수평 전자석 라인들(215a)과 상기 수직 전자석 라인들(215b)은 서로 접촉되지 않도록 교차한다.The horizontal electromagnet lines 215a and the vertical electromagnet lines 215b intersect so as not to contact each other.

상기 글래스 지지핀(211)은 마그네틱(magnetic) 재질의 하부 지지핀(211a)과 플라스틱 또는 수지 계열로 이루어진 상부 지지핀(211b)으로 이루어질 수 있으며, 글래스 지지핀(211)은 상기 플레이트(210) 상에 탈,부착이 가능하도록 배치되어 있 다.The glass support pin 211 may be formed of a lower support pin 211a of a magnetic material and an upper support pin 211b made of plastic or resin, and the glass support pin 211 may include the plate 210. It is arranged to be detachable.

상기 하부 지지핀(211a)은 상기 전자석(215)과 전자장 형성이 가능하도록 구성되어 있으며, 상기 상부 지지핀(211b)은 뾰족한 형태로 글래스(200)와의 접촉 면적을 최소화하면서 손상을 주지 않도록 한다.The lower support pin 211a is configured to form an electromagnetic field with the electromagnet 215, and the upper support pin 211b is pointed to prevent damage while minimizing a contact area with the glass 200.

그리고, 감광제 도포가 완료된 글래스(200)가 로봇 암이나 트랜스퍼에 의해 공급되면, 공급된 글래스(200)가 로봇 암이나 트랜스퍼에 의해 플레이트(210) 상의 마그네틱 글래스 지지핀(211) 상에 장착 완료된다. When the glass 200 on which the photosensitive agent is applied is supplied by the robot arm or the transfer, the supplied glass 200 is completed to be mounted on the magnetic glass support pin 211 on the plate 210 by the robot arm or the transfer. .

이후, 상기 로봇 암이나 트랜스퍼를 진공 건조 장치의 챔버(250)로부터 빼내고, 챔버(250)를 진공 상태로 만든 다음, 건조 작업을 실시하여 감광제의 솔벤트 성분을 제거함과 동시에 이를 가건조시키는 방식으로 설비 구동이 이루어지게 된다.Thereafter, the robot arm or transfer is removed from the chamber 250 of the vacuum drying apparatus, the chamber 250 is vacuumed, and a drying operation is performed to remove the solvent component of the photosensitive agent and to dry it at the same time. The drive is made.

이때, 상기 글래스 지지핀(211)이 패턴 하부에 위치하여 얼룩 불량이 나타날 수 있으므로, 이를 사전에 계산하여 상기 감광제 도포가 완료된 글래스(200)가 진공 건조 장치로 반입되기 전에 글래스 지지핀(211)의 위치를 변경해야 한다.At this time, since the glass support pin 211 may be located under the pattern and stain defects may appear, the glass support pin 211 may be calculated beforehand and before the glass 200 on which the photosensitive agent is applied is brought into the vacuum drying apparatus. You must change the position of.

상기 글래스 지지핀(211)의 위치는 상기 수평 전자석 라인(215a), 수직 전자석 라인(215b)을 각각 구동하여 상기 마그네틱 재질의 글래스 지지핀(211)을 끌어당기거나 밀어냄으로써 글래스 지지핀(211)의 위치를 자동으로 변경할 수 있다.The glass support pin 211 is positioned to drive the horizontal electromagnet line 215a and the vertical electromagnet line 215b to pull or push the glass support pin 211 of the magnetic material, respectively. The position of can be changed automatically.

도 4 및 도 5는 본 발명에 따른 진공 건조 장치에서 글래스 지지핀이 올려진 플레이트를 구체적으로 도시한 평면도 및 단면도이다.4 and 5 are a plan view and a cross-sectional view showing in detail the plate on which the glass support pin is mounted in the vacuum drying apparatus according to the present invention.

도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 플레이트(210) 상에는 마그네틱 재질의 글래스 지지핀(211)이 소정의 위치에 배치되어 있다. 상기 플레이트(210) 하부에는 수평 전자석 라인(215a)과 수직 전자석 라인(215b)이 매트릭스 형태로 형성되어 있다.As shown in FIG. 4 and FIG. 5, the glass support pin 211 of magnetic material is disposed at a predetermined position on the plate 210. A horizontal electromagnet line 215a and a vertical electromagnet line 215b are formed in a matrix form under the plate 210.

이때, 하나의 진공 건조 장치 내로 다양한 모델의 패턴이 형성된 글래스가 출입하는데, 어떤 임의의 모델에 있어서는 글래스 지지핀(211)이 패턴에 접촉하지 않지만, 크기와 글래스 상에서의 배치가 변한 새로운 모델을 진공 건조할 경우에는 상기 글래스 지지핀(211)이 패턴에 중복되지 않도록 비(非) 유효 영역으로 상기 글래스 지지핀(211)을 이동시킬 필요가 있다.At this time, the glass in which various models of the pattern are formed enters and exits into one vacuum drying apparatus. In some models, the glass support pin 211 does not contact the pattern, but the new model whose size and arrangement on the glass is changed is vacuumed. When drying, it is necessary to move the glass support pin 211 to an ineffective area so that the glass support pin 211 does not overlap the pattern.

상기 비 유효 영역은 상기 글래스 지지핀이 하부에 위치하여 포토리소그래피 공정에서 영향을 받는다 하더라도, 실제 패턴이 이루어지지 않거나, 잘못된 패턴이 형성된다 하더라도 상관없는 더미 패턴 영역 등을 말한다. 또는 상기 비 유효 영역은 단위 액정표시패널과 단위 액정표시패널 사이의 영역일 수 있다.The non-effective area refers to a dummy pattern area that does not matter even if the glass support pin is located below and affected by the photolithography process, even if an actual pattern is not formed or an incorrect pattern is formed. Alternatively, the non-effective area may be an area between the unit liquid crystal display panel and the unit liquid crystal display panel.

따라서, 제어부(260)에서 상기 글래스 지지핀(211)을 계산된 위치로 이동시키기 위하여 적절한 수평, 수직 전자석 라인(215a, 215b)에 전기신호를 가하며, 상기 전자석과 마그네틱 재질의 글래스 지지핀(211) 사이의 힘에 의하여 상기 글래스 지지핀(211)은 원하는 위치로 이동하게 된다.Therefore, the control unit 260 applies an electrical signal to the appropriate horizontal and vertical electromagnet lines 215a and 215b to move the glass support pin 211 to the calculated position, and the glass support pin 211 of the magnetic material and the magnetic material. The glass support pins 211 are moved to a desired position by the force between them.

도 6은 본 발명에 따른 진공 건조 장치에서 글래스 지지핀이 올려진 플레이트를 도시한 단면도이다.Figure 6 is a cross-sectional view showing a plate on which the glass support pin is raised in the vacuum drying apparatus according to the present invention.

도 6에 도시된 바와 같이, 플레이트(310) 내부에 전자석 라인들(315)이 형성될 수도 있다.As shown in FIG. 6, electromagnet lines 315 may be formed inside the plate 310.

따라서, 본 발명에 따른 진공 건조 장치에서 자동화된 시스템에 의하여 상기 글래스 지지핀(311)을 원하는 위치로 이동시킬 수 있으므로, 작업자가 지지핀의 이동이 필요할 때마다 수동으로 글래스 지지핀(311)을 이동시켜 작업 시간을 불필요하게 소모할 필요가 없고, 수동으로 글래스 지지핀(311)을 이동시킴에 따른 작업 실수 및 장비 가동률 로스(loss)가 최소화될 수 있다.Therefore, since the glass support pin 311 can be moved to a desired position by an automated system in the vacuum drying apparatus according to the present invention, the worker manually moves the glass support pin 311 whenever the support pin needs to be moved. There is no need to move the work time unnecessarily, and work mistakes and equipment utilization loss caused by manually moving the glass support pin 311 can be minimized.

또한, 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명에 따른 액정 표시 장치용 기판 지지 시스템 및 진공 건조 장치는 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함이 명백하다.In addition, the present invention has been described in detail through specific embodiments, which are intended to specifically describe the present invention, and the substrate support system and the vacuum drying apparatus for the liquid crystal display device according to the present invention are not limited thereto. It is apparent that modifications and improvements are possible by those skilled in the art within the scope of the idea.

본 발명은 진공 건조 장치 내의 글래스를 지지하는 글래스 지지핀의 배치를 자동으로 자유롭게 바꿀 수 있도록 하여 불량 발생을 방지하고 품질을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.The present invention has the effect that it is possible to automatically change the arrangement of the glass support pin for supporting the glass in the vacuum drying apparatus to prevent defects and improve the quality.

또한, 작업자가 지지핀의 이동이 필요할 때마다 수동으로 지지핀을 이동시켜 작업 시간을 불필요하게 소모할 필요가 없어 작업 실수 및 장비 가동률 로스(loss)가 최소화되는 효과가 있다.In addition, the operator does not need to manually move the support pin every time the movement of the support pin is unnecessary, thus reducing the work error and equipment operation rate loss.

Claims (14)

글래스가 올려지는 플레이트와;A plate on which the glass is placed; 상기 플레이트 상에 형성된 지지핀과;A support pin formed on the plate; 상기 지지핀을 움직이는 전자석을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 기판 지지 시스템.And a electromagnet for moving the support pins. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 지지핀은 마그네틱 재질을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 기판 지지 시스템.The support pin is a substrate support system for a liquid crystal display device characterized in that it comprises a magnetic material. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 전자석에 전기신호를 인가하는 제어부가 더 포함된 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 기판 지지 시스템.And a control unit for applying an electrical signal to the electromagnet. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 전자석은 수직 전자석 라인들과 수평 전자석 라인들이 접촉되지 않으며 교차되게 형성된 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 기판 지지 시스템.And said electromagnet is formed so that vertical electromagnet lines and horizontal electromagnet lines are not in contact with each other. 제 4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 수직 전자석 라인들과 수평 전자석 라인들은 개별적으로 작동되는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 기판 지지 시스템.And said vertical electromagnet lines and said horizontal electromagnet lines are operated separately. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 지지핀은 마그네틱 재질로 이루어진 하부 지지핀과, 플라스틱 또는 수지 계열의 상부 지지핀으로 이루어진 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 기판 지지 시스템.The support pin is a substrate support system for a liquid crystal display device, characterized in that consisting of a lower support pin made of a magnetic material, and an upper support pin of a plastic or resin series. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 전자석은 상기 플레이트 내부에 형성된 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 기판 지지 시스템.The electromagnet is formed in the plate, the substrate support system for a liquid crystal display device. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 전자석은 상기 플레이트 하부에 형성된 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 기판 지지 시스템.And the electromagnet is formed under the plate. 챔버 내에 지지핀이 올려진 플레이트를 준비하는 단계와;Preparing a plate with supporting pins in the chamber; 상기 플레이트에 형성된 전자석을 작동시켜 상기 지지핀을 원하는 위치로 이동시키는 단계와;Operating the electromagnet formed on the plate to move the support pin to a desired position; 상기 지지핀 상에 기판을 장착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액 정 표시 장치용 기판 지지 시스템의 운용 방법.And mounting a substrate on the support pins. 제 9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 지지핀은 마그네틱 재질을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 기판 지지 시스템의 운용 방법.The support pin is a method of operating a substrate support system for a liquid crystal display device characterized in that it comprises a magnetic material. 제 9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 전자석에 전기신호를 인가하는 제어부가 더 포함된 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 기판 지지 시스템의 운용 방법.And a control unit for applying an electrical signal to the electromagnet. 제 9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 전자석은 수직 전자석 라인들과 수평 전자석 라인들이 접촉되지 않으며 교차되게 형성되고, 상기 수직 전자석 라인들과 수평 전자석 라인들은 개별적으로 작동되는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 기판 지지 시스템의 운용 방법.And wherein the electromagnets are formed so that the vertical electromagnet lines and the horizontal electromagnet lines are not in contact with each other, and the vertical electromagnet lines and the horizontal electromagnet lines are operated separately. 제 9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 전자석은 상기 플레이트 내부 또는 하부에 형성된 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 기판 지지 시스템의 운용 방법.And the electromagnet is formed inside or under the plate. 제 9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 플레이트에 형성된 전자석을 작동시켜 상기 지지핀을 원하는 위치로 이동시키는 단계에 있어서, 상기 지지핀은 비(非)유효 영역으로 이동되는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 기판 지지 시스템의 운용 방법.Operating the electromagnet formed in the plate to move the support pin to a desired position, wherein the support pin is moved to an ineffective region.
KR1020060059693A 2006-06-29 2006-06-29 Supporting system of a substrate for lcd and the operating method thereof KR20080001331A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060059693A KR20080001331A (en) 2006-06-29 2006-06-29 Supporting system of a substrate for lcd and the operating method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060059693A KR20080001331A (en) 2006-06-29 2006-06-29 Supporting system of a substrate for lcd and the operating method thereof

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20080001331A true KR20080001331A (en) 2008-01-03

Family

ID=39213365

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060059693A KR20080001331A (en) 2006-06-29 2006-06-29 Supporting system of a substrate for lcd and the operating method thereof

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20080001331A (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101698565B (en) * 2009-11-16 2011-12-07 黑龙江省农业科学院农村能源研究所 Distribution system of magnetic supports in vacuum glass
US20150323249A1 (en) * 2013-04-22 2015-11-12 Hefei Boe Optoelectronics Technology Co., Ltd. Pre-curing equipment for alignment layer
KR20160124339A (en) * 2015-04-17 2016-10-27 주식회사 야스 Chuck with substrate monitoring sensor
CN107062828A (en) * 2017-06-09 2017-08-18 京东方科技集团股份有限公司 A kind of Minton dryer
CN111261573A (en) * 2020-01-20 2020-06-09 京东方科技集团股份有限公司 Support frame, vacuum drying device, drying system and substrate drying method
KR20200143774A (en) * 2019-06-17 2020-12-28 세메스 주식회사 Vacuum dryer

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101698565B (en) * 2009-11-16 2011-12-07 黑龙江省农业科学院农村能源研究所 Distribution system of magnetic supports in vacuum glass
US20150323249A1 (en) * 2013-04-22 2015-11-12 Hefei Boe Optoelectronics Technology Co., Ltd. Pre-curing equipment for alignment layer
KR20160124339A (en) * 2015-04-17 2016-10-27 주식회사 야스 Chuck with substrate monitoring sensor
CN107062828A (en) * 2017-06-09 2017-08-18 京东方科技集团股份有限公司 A kind of Minton dryer
KR20200143774A (en) * 2019-06-17 2020-12-28 세메스 주식회사 Vacuum dryer
CN111261573A (en) * 2020-01-20 2020-06-09 京东方科技集团股份有限公司 Support frame, vacuum drying device, drying system and substrate drying method
CN111261573B (en) * 2020-01-20 2024-02-27 京东方科技集团股份有限公司 Support frame, vacuum drying device, drying system and substrate drying method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101255294B1 (en) Printing Apparatus and Method of manufacturing Liquid Crystal Display Device using the same
KR20080001331A (en) Supporting system of a substrate for lcd and the operating method thereof
CN100501576C (en) Apparatus and method for soft baking photoresist on substrate
JP2007144983A (en) Printer system and pattern forming method using that
JP4812422B2 (en) Exposure apparatus, exposure method, and manufacturing method of display panel substrate
Nishimura et al. Photolithography
US7390422B2 (en) Method for manufacturing printing plate
KR20110104427A (en) Apparatus for proximity exposure, method for controlling temperature of stage in apparatus for proximity exposure, and method for manufacturing display panel plate
JP5334675B2 (en) Proximity exposure apparatus, method for preventing mask misalignment of proximity exposure apparatus, and method for manufacturing display panel substrate
KR20070057494A (en) Apparatus and method for totally patterning lcd color filter and alignment layer
JP5339744B2 (en) Proximity exposure apparatus, substrate moving method of proximity exposure apparatus, and display panel substrate manufacturing method
JP4929845B2 (en) Exposure equipment
KR101949331B1 (en) Array test apparatus
JP2013205709A (en) Exposure device
US20070048676A1 (en) Method for manufacturing printing plate
JP2009036925A (en) Exposure device, exposure method, and manufacturing method of display panel substrate
KR20090021970A (en) Coating apparatus
KR20090093541A (en) Supporting apparatus and supporting method for substrate
JP5320552B2 (en) Proximity exposure apparatus, mask holding method of proximity exposure apparatus, and display panel substrate manufacturing method
JP2011243609A (en) Reduced-pressure drying device and method
KR101222930B1 (en) Vacuum chuck used in manufacturing substrate
KR20050064888A (en) Polyimide repair apparatus
JP2001272922A (en) Method and device of manufacturing electrooptical device
KR101099725B1 (en) Apparatus for coating photoresist
JP4830751B2 (en) Substrate alignment device

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination