KR20070118122A - 신규 레조르시놀 유도체 - Google Patents

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KR20070118122A
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esters
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KR1020077023794A
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비잔 하리치안
조스 귈러모 로사
존 스티븐 베이저
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유니레버 엔.브이.
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Abstract

본 발명은 하기 화학식 I 및/또는 B의 신규 4-치환된 레조르시놀 유도체 및 그의 합성 방법, 미용 조성물 및 그의 사용 방법, 특히 피부 미백 및/또는 지성 또는 지루성 피부의 외관을 감소시키기 위한 사용 방법에 관한 것이다.
<화학식 I>
Figure 112007074203018-PCT00014
<화학식 B>
Figure 112007074203018-PCT00015
상기 식들에서,
X1 및/또는 X2는 수소 (H), 직쇄 또는 분지쇄의 포화 또는 불포화 C1-C12 알킬, 알케닐 또는 아실 기를 나타내고; 바람직하게는 X1 및/또는 X2는 수소 (H); 직쇄 또는 분지쇄의 포화 또는 불포화 C1-C12 알킬 또는 아실 기 나타내고;
R1 및/또는 R2는 수소 (H), 직쇄 또는 분지쇄의 시클릭 또는 비시클릭 포화 또는 불포화 C1-C12 알킬, 알케닐, 시클로알킬 또는 시클로알케닐 기를 나타내고;
n은 0 또는 1이고; n이 0인 경우, 고리는 O, N 또는 S인 1개의 헤테로원자를 함유하거나 함유하지 않고/거나 1개의 이중 결합을 함유하거나 함유하지 않는 시클로펜틸이고; n이 1인 경우, 고리는 O, N 또는 S인 1개의 헤테로원자를 함유하거나 함유하지 않고/거나 1개의 이중 결합을 함유하거나 함유하지 않는 시클로헥실이고;
m은 1 내지 6의 정수를 나타낸다.
레조르시놀 유도체, 지성 피부, 지루성 피부, 피부 미백

Description

신규 레조르시놀 유도체 {NOVEL RESORCINOL DERIVATIVES}
본 발명은 신규 4-치환된 레조르시놀 유도체, 이를 함유하는 미용 조성물, 및 이를 사용하는 미용 방법 및 제조 방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 피부 미용 활성제로서 신규 4-치환된 레조르시놀 유도체, 미용 조성물, 및 피부 미백을 위해, 지성(oily) 또는 지루성(greasy) 피부의 외관의 감소 및/또는 다른 미용 피부 잇점을 위해 이를 사용하는 방법에 관한 것이다.
많은 사람들은 그들의 피부 색소침착 정도를 염려한다. 예를 들어, 검버섯 또는 주근깨가 있는 사람들은 이러한 침착된 부분이 덜 두드러지기를 원할 것이다. 다른 사람들은 일광 노출에 의한 피부 색소침착이 줄어들기를 원하거나 또는 본래의 피부색을 밝게 하기를 원할 것이다. 이러한 요구를 충족시키기 위해 멜라닌 세포에서 색소 생성을 감소시키는 제품들을 개발하려는 많은 시도들이 이루어졌다. 그러나, 지금까지 확인된 물질들은 효능이 적거나 또는 바람직하지 않은 부작용, 예를 들어 독성 또는 피부 자극을 초래하는 경향이 있다. 따라서, 전체적인 효율성이 개선된 새로운 피부 미백제가 계속해서 요구되고 있다.
피지는 피지세포 (피부의 피지선 세포)에 의해 생성된 후 피부 표면으로 분비되는 피부 기름이다. 피지는 수많은 성분들, 트리글리세리드 또는 지방산 약 57%로 이루어져 있다. 피지의 약 12%는 스쿠알렌이고, 피지의 약 3%는 스테롤 에스테르이고, 피지의 약 25%는 왁스 에스테르이고, 피지의 약 1 내지 약 2%는 콜레스테롤이다. 종종 바람직하지 않은 피부 상태는 "지성 피부"이며, 이러한 상태는 피부 상의 과량의 피지로부터 야기된다. 지성 피부는 번들거리고 바람직하지 않은 외관 및 불쾌한 촉감과 관련되어 있으며 다양한 연령대에서 나타난다. 과도한 피지 생성은 미용상 바람직하지 않으며, 피부 상태 여드름과 관련되어 있다. 따라서, 피지를 조절하거나 지성 또는 지루성 피부의 외관을 감소시키는 제공하는 미용 제품 및 방법은 매우 바람직하다.
레조르시놀 유도체는 일반적으로 공지된 화합물이며, 예를 들어 포화 카르복실산 및 레조르시놀을 염화아연의 존재하에 축합시키고 얻어진 축합물을 아연 아말감/염산으로 환원시키는 방법 (Lille. J. Bitter, LA. Peiner. V, Tr. Nauch-Issled. Inst. slantsev 1969, No. 18, 127), 또는 레조르시놀 및 상응하는 알킬 알코올을 200 내지 400℃의 고온에서 알루미나 촉매의 존재하에 반응시키는 방법 (GB 1 581 428)에 의해 용이하게 얻을 수 있다.
레조르시놀 유도체는 피부 및 모발에 미용상의 이점이 있다. 특정 레조르시놀 유도체, 특히 4-치환된 레조르시놀 유도체는 피부 미백용 미용 조성물로 유용하다. 레조르시놀 유도체는 US 4 959 393 (토리하라(Torihara) 등); US 6 132 740 (휴(Hu) 등); US 6 504 037 (브래들리(Bradley) 등); 및 JP 2001-010925 및 JP 2000-327557를 비롯한 많은 문헌에 기재되어 있다. 쿠마린으로부터 유도될 수 있는 피부 미백 화합물은 US 2004/0042983에 기재되어 있다. 이들 화합물 중 몇몇은 제제화하기 곤란하고/거나 피부를 자극할 수 있다.
본 출원인은 본 발명에 이르러 피부 미용, 특히 피부 미백에 이로운 신규 화합물을 발견하였다.
다른 측면에서, 본 발명은 4-치환된 레조르시놀 유도체가 지성 또는 지루성 피부의 외관을 감소시킨다는 발견에 기초한다. 이들 화합물의 일반 화학식 및 구조는 하기에서 보다 자세히 검토된다. 특히, 신규 4-치환된 레조르시놀 유도체가 미용상 피부에 효과적이라는 것이 밝혀졌다.
<발명의 요약>
본 발명에 이르러, 본 출원인은 피부 미백 및/또는 피지 억제 활성을 비롯한 피부 미용 활성을 갖는 신규 4-치환된 레조르시놀 유도체를 발견하였다. 따라서, 본 발명은 하기 신규 화학식 I의 화합물, 이를 포함하는 미용 조성물 및 미용 방법, 특히 피부 미백용 및/또는 지성 또는 지루성 피부의 외관을 감소시키기 위한 미용 조성물 및 미용 방법, 및 본 발명의 화합물의 제조 방법을 제공한다.
Figure 112007074203018-PCT00001
상기 식에서,
X1 및/또는 X2는 수소 (H), 직쇄 또는 분지쇄의 포화 또는 불포화 C1-C12 알 킬, 알케닐 또는 아실 기를 나타내고; 바람직하게는 X1 및/또는 X2는 수소 (H); 직쇄 또는 분지쇄의 포화 또는 불포화 C1-C12 알킬 또는 아실 기 나타내고; 보다 바람직하게는 X1 및/또는 X2는 수소를 나타내고;
R1 및/또는 R2는 수소 (H), 직쇄 또는 분지쇄의 시클릭 또는 비시클릭 포화 또는 불포화 C1-C12 알킬, 알케닐, 시클로알킬 또는 시클로알케닐 기를 나타내고; 바람직하게는 R1 및/또는 R2는 수소 (H) 또는 C1 알킬기 (즉, 메틸기)를 나타내고; 보다 바람직하게는 R1 및/또는 R2는 수소를 나타내고;
n은 0 또는 1이고; n이 0인 경우, 고리는 O, N 또는 S와 같은 1개의 헤테로원자를 함유하거나 함유하지 않고/거나 1개의 이중 결합을 함유하거나 함유하지 않는 시클로펜틸이고; n이 1인 경우, 고리는 O, N 또는 S와 같은 1개의 헤테로원자를 함유하거나 함유하지 않고/거나 1개의 이중 결합을 함유하거나 함유하지 않는 시클로헥실이고;
m은 1, 2, 3, 4, 5, 6 (즉, 1 내지 6의 정수)이고; m이 2인 경우 R2는 융합되거나 융합되지 않을 수 있다.
바람직한 화합물에는 n = 0, m = 1, R2 = H, 알킬 및/또는 알케닐 (고리 중 임의의 위치)인 화합물; n = 1, m = 1, R2 = H, 알킬 및/또는 알케닐 (고리 중 임의의 위치)인 화합물; n = 0, m = 2 내지 5, R2 = H, 알킬 및/또는 알케닐 (고리 중 임의의 위치에서 임의의 치환 패턴으로)인 화합물; 및 n = 1, m = 2 내지 6, R2 = H, 알킬 및/또는 알케닐 (고리 중 임의의 위치에서 임의의 치환 패턴으로)인 화합물이 포함된다.
R1, X1 및 X2가 각각 H이고 m이 1인 경우, 상기 화합물은 하기 화학식 B로 나타낸다.
Figure 112007074203018-PCT00002
본 발명에 따른 미용 조성물은
(a) 화학식 I, 바람직하게는 화학식 B의 4-치환된 레조르시놀 유도체 약 0.0001 중량% 내지 약 50 중량%, 바람직하게는 약 0.01 중량% 내지 약 5 중량%; 및
(b) 미용상 허용되는 비히클
을 포함한다.
본 발명의 조성물은 벤조페논-1, 벤조페논-2, 벤조페논-3, 벤조페논-4, 벤조페논-8, DEA, 메톡시신나메이트, 에틸 디히드록시프로필-PABA, 글리세릴 PABA, 호모살레이트, 메틸 안트라닐레이트, 옥토크릴렌, 옥틸 디메틸 PABA, 옥틸 메톡시신나메이트 (파르솔(Parsol) MCX), 옥틸 살리실레이트, PABA, 2-페닐벤즈이미다졸-5-술폰산, TEA 살리실레이트, 3-(4-메틸벤질리덴)-캄포, 벤조페논-6, 벤조페논-12, 4-이소프로필 디벤조일 메탄, 부틸 메톡시 디벤조일 메탄 (파르솔 1789), 에토크릴렌 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 유기 일광차단제를 추가로 포함할 수 있다.
또한, 본 발명의 미용 조성물은 알파-히드록시산 및 에스테르, 베타-히드록시산 및 에스테르, 폴리히드록시산 및 에스테르, 코즈산 및 에스테르, 페룰산 및 페룰레이트 유도체, 바닐산 및 에스테르, 디오산 및 에스테르, 레티놀, 레티날, 레티닐 에스테르, 크레아틴, 히드로퀴논, t-부틸 히드로퀴논, 오디 추출물, 감초 추출물, 레조르시놀 유도체 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 피부 유익제를 추가로 포함할 수 있다.
본 발명의 화합물 및 조성물은 본 발명의 피부 미백용 미용 방법 및/또는 지성 또는 지루성 피부의 외관을 감소시키는 미용 방법, 바람직하게는 피부 미백용 미용 방법으로서 피부에 도포될 수 있다.
다른 측면에서, 본 발명은 하기 두가지 반응식들 중 하나를 갖는, 화학식 I의 신규 레조르시놀 화합물의 합성 방법에 관한 것이다.
Figure 112007074203018-PCT00003
상기 식에서, a, b 및 c는 하기 반응 단계, 시약 및 조건을 나타낸다:
(a) α-알킬벤질 알코올 유도체 (또는 치환된 α-알킬벤질 알코올 유도체, 예를 들어 R2 기를 m개 가짐), 산 촉매;
(b) 수소, 촉매 (예를 들어, 5% Pd/C), 용매 (예를 들어, 산성 조건);
(c) 아실화 (예를 들어, 아세트산 무수물, 트리에틸아민) 또는 알킬화 (예를 들어, 알킬 할라이드, 염기);
또는
Figure 112007074203018-PCT00004
시약 및 조건:
(a) 시클로알킬마그네슘 할라이드 유도체 (또는 치환된 시클로알킬마그네슘 할라이드 유도체, 예를 들어 R2 기를 m개 가짐), 유기 용매;
(b) 산성 조건 (예를 들어, 아세트산 무수물);
(c) 수소, 촉매 (예를 들어, 5% Pd/C), 용매 (예를 들어, 산성 조건).
본 발명은 피부색 미백 및/또는 지성 또는 지루성 피부의 외관의 감소를 비롯한 미용 피부 잇점을 위한 신규 4-치환된 레조르시놀 유도체, 미용 조성물 및 그의 사용 방법 및 제조 방법에 관한 것이다.
본원에서 사용되는 용어 "미용 조성물"이란 리브-온(leave-on) 및 워시-오프(wash-off) 제품을 비롯하여 인간 피부에의 국소 도포용 조성물을 나타내려는 것이다.
본원에서 사용되는 용어 "피부"는 얼굴, 목, 가슴, 등, 팔, 겨드랑이, 손, 다리 및 두피 상의 피부를 포함한다.
실시예에서 또는 명확하게 지시된 것을 제외하고, 본 명세서에서 물질의 양 또는 반응 조건, 물질의 물성 및/또는 사용을 나타내는 모든 수치는 용어 "약"에 의해 임의로 변경되는 것으로 이해되어야 한다. 모든 양은 달리 언급이 없는 한 조성물의 중량에 의한 것이다.
확실히 하기 위해서, 용어 "포함하는"은 포함함, 이루어짐, 함유함, 구성됨 및/또는 필수적으로 구성됨을 의미한다. 또한, "포함하는"의 통상적인 의미로 상기 용어는 열거된 단계, 구성성분, 성분 또는 특징이 전부일 필요는 없다.
본원에서 용어 "지성 또는 지루성 피부의 외관을 감소시키는"은 개별 피부를 피지 억제 활성제를 포함하는 조성물과 접촉시킨 후 일어나는 피부 피지의 임의의 검출가능한 감소, 예를 들어 맨눈으로 보이는 감소를 일컫음을 의미한다.
<신규 4-치환된 레조르시놀 유도체>
본 발명은 하기 화학식 I의 신규 레조르시놀 유도체에 기초한다. 따라서, 본 발명은 신규 화학식 I의 화합물, 이를 포함하는 미용 조성물 및 방법, 특히 피부 미백용 및/또는 지성 또는 지루성 피부의 외관을 감소시키기 위한 미용 조성물 및 방법, 및 본 발명의 화합물의 제조 방법을 제공한다.
<화학식 I>
Figure 112007074203018-PCT00005
상기 식에서,
X1 및/또는 X2는 수소 (H), 직쇄 또는 분지쇄의 포화 또는 불포화 C1-C12 알킬, 알케닐 또는 아실 기를 나타내고; 바람직하게는 X1 및/또는 X2는 수소 (H); 직쇄 또는 분지쇄의 포화 또는 불포화 C1-C12 알킬 또는 아실 기 나타내고;
R1 및/또는 R2는 수소 (H), 직쇄 또는 분지쇄의 시클릭 또는 비시클릭 포화 또는 불포화 C1-C12 알킬, 알케닐, 시클로알킬 또는 시클로알케닐 기를 나타내고; 바람직하게는 R1 및/또는 R2는 수소 (H) 또는 C1 알킬기 (즉, 메틸기)를 나타내고; 보다 바람직하게는 R1 및/또는 R2는 수소를 나타내고;
n은 0 또는 1이고; n이 0인 경우, 고리는 O, N 또는 S와 같은 1개의 헤테로원자를 함유하거나 함유하지 않고/거나 1개의 이중 결합을 함유하거나 함유하지 않는 시클로펜틸이고; n이 1인 경우, 고리는 O, N 또는 S와 같은 1개의 헤테로원자를 함유하거나 함유하지 않고/거나 1개의 이중 결합을 함유하거나 함유하지 않는 시클로헥실이고;
m은 1, 2, 3, 4, 5, 6 (즉, 1 내지 6의 정수)이고; m이 2인 경우 R2는 융합되거나 융합되지 않을 수 있다.
바람직한 화합물에는 n = 0, m = 1, R2 = H, C1-C12 알킬 및/또는 알케닐 (고리 중 임의의 위치)인 화합물; n = 1, m = 1, R2 = H, C1-C12 알킬 및/또는 알케닐 (고리 중 임의의 위치)인 화합물; n = 0, m = 2 내지 5, R2 = H, C1-C12 알킬 및/또는 알케닐 (고리 중 임의의 위치에서 임의의 치환 패턴으로)인 화합물; 및 n = 1, m = 2 내지 6, R2 = H, C1-C12 알킬 및/또는 알케닐 (고리 중 임의의 위치에서 임의의 치환 패턴으로)인 화합물이 포함된다.
4-치환된 시클로알킬-메틸 레조르시놀의 보다 구체적인 실시양태의 예로는 하기 화학식 B의 화합물이 포함된다.
<화학식 B>
Figure 112007074203018-PCT00006
상기 식에서,
R2는 수소 (H), 직쇄 또는 분지쇄의 시클릭 또는 비시클릭 포화 또는 불포화 C1-C12 알킬, 알케닐, 시클로알킬 또는 시클로알케닐 기를 나타내고; 바람직하게는 R2는 수소 (H) 또는 C1 알킬기 (즉, 메틸기)를 나타내고; 보다 바람직하게는 R2는 수소를 나타내고;
n은 0 또는 1이고; n이 0인 경우, 고리는 O, N 또는 S인 1개의 헤테로원자를 함유하거나 함유하지 않고/거나 1개의 이중 결합을 함유하거나 함유하지 않는 시클로펜틸이고; n이 1인 경우, 고리는 O, N 또는 S인 1개의 헤테로원자를 함유하거나 함유하지 않고/거나 1개의 이중 결합을 함유하거나 함유하지 않는 시클로헥실이다.
바람직한 화합물은 4-시클로펜틸 메틸 레조르시놀, 4-시클로헥실 메틸 레조르시놀이다.
본 발명에 따른 미용 조성물은
(a) 화학식 I, 또는 바람직하게는 화학식 B의 4-치환된 레조르시놀 유도체 0.0001 중량% 내지 50 중량%; 및
(b) 미용상 허용되는 비히클
을 포함한다.
레조르시놀 유도체의 양은 바람직하게는 미용 조성물 총량의 0.00001% 내지 10%, 보다 바람직하게는 0.001 내지 7%, 가장 바람직하게는 0.01% 내지 5%의 범위이다.
본 발명의 화합물 및 조성물은 본 발명의 피부 미백용 미용 방법 및/또는 지성 또는 지루성 피부의 외관을 감소시키는 미용 방법, 및/또는 다른 미용 피부 잇점을 위한 미용 방법으로서 피부에 도포될 수 있다.
이론에 의해 제한되기를 원하지는 않지만, 본 출원인은 안정한 결합을 갖는 신규 분자 구조가 다른 4-치환된 레조르시놀 유도체 구조보다 산화 및 변색에 보다 덜 민감하며 보다 안정하다고 믿는다. 또한, 본 발명의 분자의 독특한 구조, 특히 메틸렌기가 독특하고 유리한 관능성에 이르게 한다는 것이 믿어진다. 예를 들어, 메틸렌기는 레조르시놀 잔기 (편평 입체화학을 가짐)와 유도체 잔기 사이의 스페이서(spacer)로서 작용하여, 메틸렌기 주위의 유도체 잔기가 자유롭게 회전할 수 있는 중심을 제공하며, 이는 다른 효과 중에서 다른 효소 결합 특성에 이르게 하는 것이라고 믿어진다.
<신규 레조르시놀 유도체의 합성 방법>
본 발명은 하기 두가지 반응식들 중 하나를 갖는, 화학식 I의 신규 레조르시놀 화합물의 합성 방법을 포함한다.
<반응식 i>
Figure 112007074203018-PCT00007
상기 식에서, a, b 및 c는 하기 반응 단계, 시약 및 조건을 나타낸다:
(a) α-알킬벤질 알코올 유도체 (또는 치환된 α-알킬벤질 알코올 유도체, 예를 들어 R2 기를 m개 가짐), 산 촉매;
(b) 수소, 촉매 (예를 들어, 5% Pd/C), 용매 (예를 들어, 산성 조건);
(c) 아실화 (예를 들어, 아세트산 무수물, 트리에틸아민) 또는 알킬화 (예를 들어, 알킬 할라이드, 염기);
<반응식 ii>
Figure 112007074203018-PCT00008
시약 및 조건:
(a) 시클로알킬마그네슘 할라이드 유도체 (또는 치환된 시클로알킬마그네슘 할라이드 유도체, 예를 들어 R2 기를 m개 가짐), 유기 용매;
(b) 산성 조건 (예를 들어, 아세트산 무수물);
(c) 수소, 촉매 (예를 들어, 5% Pd/C), 용매 (예를 들어, 산성 조건).
<피부 유익제>
바람직한 미용 조성물은 인간의 피부에 도포하기에 적합한 것이며, 이는 임의로, 하지만 바람직하게는 피부 유익제를 포함한다.
적합한 피부 유익제에는 노화 방지제, 주름 감소제, 피부 화이트닝제, 여드름 방지제 및 피지 감소제가 포함된다. 이들의 예로는 알파-히드록시산 및 에스테르, 베타-히드록시산 및 에스테르, 폴리히드록시산 및 에스테르, 코즈산 및 에스테르, 페룰산 및 페룰레이트 유도체, 바닐산 및 에스테르, 디오산 (예컨대, 세바스산 및 아졸레산) 및 에스테르, 레티놀, 레티날, 레티닐 에스테르, 크레아틴, 히드로퀴논, t-부틸 히드로퀴논, 니아신아미드, 오디 추출물, 감초 추출물, 및 상기 논의된 4-치환된 레조르시놀 유도체 이외의 레조르시놀 유도체가 포함된다.
<미용상 허용되는 담체>
유기 일광차단제 화합물 및 본 발명의 레조르시놀 유도체와 함께 피부 유익제는 통상적으로 미용 기재와 함께 사용된다. 적합한 미용 담체는 당업자에게 널리 공지되어 있다. 미용 기재는 피부 유익제를 위해 통상적으로 사용되는 임의의 기재일 수 있으므로 중요하지는 않다. 본 발명의 피부 유익제가 도포가능한 특정 미용 제제에는 크림, 연고, 에멀젼, 로션, 오일, 팩 및 부직 와이프(nonwoven wipe)가 포함된다. 크림 기재는 예를 들어, 밀랍, 세틸 알코올, 스테아르산, 글리세린, 프로필렌 글리콜, 프로필렌 글리콜 모노스테아레이트, 폴리옥시에틸렌 세틸 에테르 등이다. 로션 기재에는 예를 들어, 올레일 알코올, 에탄올, 프로필렌 글리콜, 글리세린, 라우릴 에테르, 소르비탄 모노라우레이트 등이 포함된다.
미용상 허용되는 비히클은 조성물 내 피부 유익 성분을 위한 희석제, 분산제 또는 담체로서 작용하여, 조성물이 피부에 도포될 때 이들의 분배를 용이하게 할 수 있다.
상기 비히클은 수성, 무수 또는 에멀젼일 수 있다. 바람직하게는, 조성물은 수성 또는 에멀젼, 특히 유중수 또는 수중유 에멀젼, 바람직하게는 수중유 에멀젼이다. 물이 존재한다면, 5 내지 99 중량%, 바람직하게는 20 내지 70 중량%, 최적으로는 40 내지 70 중량%의 범위일 수 있는 양일 것이다.
물 이외에, 비교적 휘발성인 용매가 또한 본 발명의 조성물 중의 담체로서 작용할 수 있다. 가장 바람직한 것은 1가 C1-C3 알칸올이다. 이들로는 에틸 알코올, 메틸 알코올 및 이소프로필 알코올이 포함된다. 1가 알칸올의 양은 1 내지 70 중량%, 바람직하게는 10 내지 50 중량%, 최적으로는 15 내지 40 중량%의 범위일 수 있다.
연화제 물질도 또한 미용상 허용되는 담체로 작용할 수 있다. 이들은 실리콘유 및 합성 에스테르 형태일 수 있다. 연화제의 양은 0.1 내지 50 중량%, 바람직하게는 1 내지 20 중량%의 범위일 수 있다.
실리콘유는 휘발성 및 비휘발성 종류로 분류될 수 있다. 본 명세서에서 사용되는 용어 "휘발성"은 주변 온도에서 측정가능한 증기압을 갖는 물질을 지칭한다. 휘발성 실리콘유는 3 내지 9개, 바람직하게는 4 내지 5개의 규소 원자를 함유하는 시클릭 또는 직쇄 폴리디메틸실록산으로부터 선택되는 것이 바람직하다. 직쇄 휘발성 실리콘 물질은 일반적으로 25℃에서 약 5 센티스토크 미만의 점도를 갖는 반면에 시클릭 물질은 전형적으로 약 10 센티스토크 미만의 점도를 갖는다. 연화제 물질로서 유용한 비휘발성 실리콘유에는 폴리알킬 실록산, 폴리알킬아릴 실록산 및 폴리에테르 실록산 공중합체가 포함된다. 본 발명에 유용한 본질적으로 비휘발성인 폴리알킬 실록산으로는, 예를 들어 25℃에서 약 5,000,000 내지 약 25,000,000 센티스토크의 점도를 갖는 폴리디메틸 실록산이 포함된다. 본 발명의 조성물에 유용한 바람직한 비휘발성 연화제는 25℃에서 약 10 내지 약 400 센티스토크의 점도를 갖는 폴리디메틸 실록산이다.
에스테르 연화제의 예는 다음과 같다:
(1) 10 내지 20개의 탄소 원자를 갖는 지방산의 알케닐 또는 알킬 에스테르. 이들의 예로는 이소아라키딜 네오펜타노에이트, 이소노닐 이소나노노에이트, 올레일 미리스테이트, 올레일 스테아레이트 및 올레일 올레에이트가 포함된다.
(2) 에테르-에스테르, 예를 들어 에톡실화 지방 알코올의 지방산 에스테르.
(3) 다가 알코올 에스테르. 에틸렌 글리콜 모노- 및 디-지방산 에스테르, 디에틸렌 글리콜 모노- 및 디-지방산 에스테르, 폴리에틸렌 글리콜 (200 내지 6000) 모노- 및 디-지방산 에스테르, 프로필렌 글리콜 모노- 및 디-지방산 에스테르, 폴리프로필렌 글리콜 2000 모노올레에이트, 폴리프로필렌 글리콜 2000 모노스테아레이트, 에톡실화 프로필렌 글리콜 모노스테아레이트, 글리세릴 모노- 및 디-지방산 에스테르, 폴리글리세롤 폴리-지방 에스테르, 에톡실화 글리세릴 모노스테아레이트, 1,3-부틸렌 글리콜 모노스테아레이트, 1,3-부틸렌 글리콜 디스테아레이트, 폴리옥시에틸렌 폴리올 지방산 에스테르, 소르비탄 지방산 에스테르, 및 폴리옥시에틸렌 소르비탄 지방산 에스테르가 만족스러운 다가 알코올 에스테르이다.
(4) 왁스 에스테르, 예를 들어 밀랍, 경랍, 미리스틸 미리스테이트, 스테아릴 스테아레이트 및 아라키딜 베헤네이트.
(5) 스테롤 에스테르, 예를 들어 콜레스테롤 지방산 에스테르.
10 내지 30개의 탄소 원자를 갖는 지방산도 본 발명의 조성물에 대한 미용상 허용되는 담체로서 포함될 수 있다. 이의 범위를 예시하면, 펠라르곤산, 라우르산, 미리스트산, 팔미트산, 스테아르산, 이소스테아르산, 히드록시스테아르산, 올레산, 리놀레산, 리시놀레산, 아라키드산, 베헨산 및 에루크산이 있다.
다가 알코올형 습윤제도 본 발명의 조성물에 미용상 허용되는 담체로서 사용될 수 있다. 습윤제는 연화제의 효과를 상승시키고, 피부 건조를 감소시키고, 피부 촉감을 개선하는 것을 돕는다. 전형적인 다가 알코올로는 글리세롤, 폴리알킬렌 글리콜, 보다 바람직하게는 알킬렌 폴리올 및 그의 유도체, 예를 들어 프로필렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜, 폴리에틸렌 글리콜 및 그의 유도체, 소르비톨, 히드록시프로필 소르비톨, 헥실렌 글리콜, 1,3-부틸렌 글리콜, 1,2,6-헥산트리올, 에톡실화 글리세롤, 프로폭실화 글리세롤 및 이들의 혼합물이 포함된다. 습윤제의 양은 조성물의 0.5 내지 30 중량%, 바람직하게는 1 내지 15 중량%의 범위일 수 있다.
증점제도 본 발명에 따른 조성물의 미용상 허용되는 담체의 일부로서 사용될 수 있다. 전형적인 증점제에는 가교된 아크릴레이트 (예를 들어 카르보폴(Carbopol) 982), 소수성-변형 아크릴레이트 (예를 들어, 카르보폴 1382), 셀룰로스 유도체 및 천연 고무가 포함된다. 유용한 셀룰로스 유도체는 나트륨 카르복시메틸셀룰로스, 히드록시프로필 메틸셀룰로스, 히드록시프로필 셀룰로스, 히드록시에틸 셀룰로스, 에틸 셀룰로스 및 히드록시메틸 셀룰로스이다. 본 발명에 적합한 천연 고무로는 구아, 크산탄, 스클레로튬, 카라기난, 펙틴 및 이러한 고무들의 조합이 포함된다. 증점제의 양은 0.0001 내지 5 중량%, 통상적으로는 0.001 내지 1 중량%, 최적으로는 0.01 내지 0.5 중량%의 범위일 수 있다.
물, 용매, 실리콘, 에스테르, 지방산, 습윤제 및/또는 증점제는 함께 1 내지 99.9 중량%, 바람직하게는 80 내지 99 중량%의 양으로 미용상 허용되는 담체를 구성할 것이다.
유중수 에멀젼 또는 수중유 에멀젼을 제공하기 위해 오일 또는 오일성 물질이 유화제와 함께 존재할 수 있으며, 이는 사용되는 유화제의 평균 친수성-친유성 발란스 (HLB)에 상당히 의존한다.
계면활성제도 본 발명의 미용 조성물에 존재할 수 있다. 리브-온 제품에 대해, 계면활성제의 총 농도는 조성물의 0.1 내지 40 중량%, 바람직하게는 1 내지 20 중량%, 최적으로는 1 내지 5 중량%의 범위일 것이다. 클렌저 및 비누와 같은 워시-오프 제품에 대해, 계면활성제의 총 농도는 약 1 내지 약 90%의 범위일 것이다.
계면활성제는 음이온성, 비이온성, 양이온성 및 양쪽성 계면활성제로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다. 특히 바람직한 비이온성 계면활성제는 소수기 1 몰당 에틸렌 옥시드 또는 프로필렌 옥시드 2 내지 100 몰과 축합된 C10-C20 지방 알코올 또는 산 소수기를 갖는 것; 알킬렌 옥시드 2 내지 20 몰과 축합된 C2-C10 알킬 페놀; 에틸렌 글리콜의 모노- 및 디-지방산 에스테르; 지방산 모노글리세리드; 소르비탄, 모노- 및 디-C8-C20 지방산; 블록 공중합체 (에틸렌 옥시드/프로필렌 옥시드); 및 폴리옥시에틸렌 소르비탄 뿐만 아니라 이들의 조합이다. 알킬 폴리글리코시드 및 사카라이드 지방 아미드 (예를 들어 메틸 글루콘아미드)도 적합한 비이온성 계면활성제이다.
바람직한 음이온성 계면활성제로는 비누, 알킬 에테르 술페이트 및 술포네이트, 알킬 술페이트 및 술포네이트, 알킬벤젠 술포네이트, 알킬 및 디알킬 술포숙시네이트, C8-C20 아실 이세티오네이트, 아실 글루타메이트, C8-C20 알킬 에테르 포스페이트 및 이들의 조합을 들 수 있다.
본 발명의 미용 조성물은 거품발생 계면활성제를 임의로 함유한다. "거품발생 계면활성제"는 물과 조합되고 기계적으로 진탕시 포움 또는 거품을 생성하는 계면활성제를 의미한다. 바람직하게는, 거품발생 계면활성제는 마일드해야하며, 충분한 세정 또는 청정 잇점을 제공하나 피부를 과하게 건조시키지 않으며 상기 기재된 거품발생 기준을 충족시켜야 함을 의미한다. 본 발명의 미용 조성물은 거품발생 계면활성제를 0.01% 내지 50%의 농도로 함유할 수 있다.
<임의의 구성성분>
본 발명의 미용 조성물에는 다양한 다른 가소제, 엘라스토머, 칼라민, 안료, 산화방지제, 킬레이트제 및 향료, 및 유기 일광차단제 및 일광차단제, 예컨대 UV 확산제 (이는 전형적으로는 산화티타늄 및 산화아연으로 세밀하게 분류됨)가 첨가될 수 있다.
기타 부가적인 보조 성분들도 미용 조성물에 첨가될 수 있다. 이러한 성분들로는 착색제, 불투명화제 및 향료가 포함될 수 있다. 이러한 기타 부가적인 보조 성분들의 양은 조성물의 0.001 내지 20 중량%의 범위일 수 있다.
<유기 일광차단제>
본 발명의 미용 조성물에는 일광에 과다 노출시 유해한 효과로부터 보호하는 유기 일광차단제가 포함된다. 본 발명의 조성물을 위한 유기 일광차단제는 290 내지 400 nm의 범위의 자외선을 흡수하는 하나 이상의 발색단 기를 갖는 유기 일광차단제이다. 발색단 유기 일광차단제는 하기 카테고리(특정 예들)로 분류될 수 있다: p-아미노벤조산, 그의 염 및 그의 유도체 (에틸, 이소부틸, 글리세릴 에스테르; p-디메틸아미노벤조산); 안트라닐레이트 (o-아미노벤조에이트; 메틸, 멘틸, 페닐, 벤질, 페닐에틸, 리날릴, 테르피닐 및 시클로헥세닐 에스테르); 살리실레이트 (옥틸, 아밀, 페닐, 벤질, 멘틸, 글리세릴 및 디프로필렌글리콜 에스테르); 신남산 유도체 (멘틸 및 벤질 에스테르, 알파-페닐 신나모니트릴; 부틸 신나모일 피루베이트); 디히드록시신남산 유도체 (움벨리페론, 메틸움벨리페론, 메틸아세토-움벨리페론); 트리히드록시신남산 유도체 (에스쿨레틴, 메틸에스쿨레틴, 다프네틴, 및 글루코시드, 에스쿨린 및 다프닌); 탄화수소 (디페닐부타디엔, 스틸벤); 디벤잘아세톤 및 벤잘아세토페논; 나프톨술포네이트 (2-나프톨-3,6-디술폰산 및 2-나프톨-6,8-디술폰산의 나트륨 염); 디히드록시-나프트산 및 그의 염, o- 및 p-히드록시비페닐디술포네이트; 쿠마린 유도체 (7-히드록시, 7-메틸, 3-페닐); 디아졸 (2-아세틸-3-브로모인다졸, 페닐 벤족사졸, 메틸 나프톡사졸, 다양한 아릴 벤조티아졸); 퀴닌 염 (비술페이트, 술페이트, 클로라이드, 올레에이트 및 탄네이트); 퀴놀린 유도체 (8-히드록시퀴놀린 염, 2-페닐퀴놀린); 히드록시- 또는 메톡시-치환된 벤조페논; 우르산 및 빌로우르산; 탄닌산 및 그의 유도체 (예를 들어, 헥사에틸에테르); (부틸 카르비틸) (6-프로필 피페로닐) 에테르; 히드로퀴논; 벤조페논 (옥시벤존, 술이소벤존, 디옥시벤존, 벤조레조르시놀, 2,2',4,4'-테트라히드록시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 옥타벤존); 4-이소프로필디벤조일메탄; 부틸메톡시디벤조일메탄; 에토크릴렌; 및 4-이소프로필-디벤조일메탄).
2-에틸헥실 p-메톡시신나메이트, 4,4'-t-부틸 메톡시디벤조일메탄, 2-히드록시-4-메톡시벤조페논, 옥틸디메틸 p-아미노벤조산, 디갈로일트리올레에이트, 2,2-디히드록시-4-메톡시벤조페논, 에틸 4-[비스(히드록시프로필)]아미노벤조에이트, 2-에틸헥실-2-시아노-3,3-디페닐아크릴레이트, 2-에틸헥실살리실레이트, 글리세릴 p-아미노벤조에이트, 3,3,5-트리메틸시클로헥실살리실레이트, 메틸안트라닐레이트, p-디메틸아미노벤조산 또는 아미노벤조에이트, 2-에틸헥실 p-디메틸아미노벤조에이트, 2-페닐벤즈이미다졸-5-술폰산, 2-(p-디메틸아미노페닐)-5-술포니오벤족사조산 및 이들의 혼합물이 특히 유용하다.
적합한 시판되는 유기 일광차단제는 하기 표에서 확인된다.
CTFA명 상표명 공급업체
벤조페논-1 벤조페논-2 벤조페논-3 벤조페논-4 벤조페논-6 벤조페논-8 메톡시신나메이트 에틸 디히드록시프로필-PABA 글리세릴 PABA 호모살레이트 메틸 안트라닐레이트 옥토크릴렌 옥틸 디메틸 PABA 옥틸 메톡시신나메이트 옥틸 살리실레이트 PABA 2-페닐벤즈이미다졸-5-술폰산 TEA 살리실레이트 3-(4-메틸벤질리덴)-캄포 벤조페논-12 4-이소프로필 디벤조일 메탄 부틸 메톡시 디벤조일 메탄 에토크릴렌 UVINUL 400 UVINUL D-50 UVINUL M-40 UVINUL MS-40 UVINUL D-49 SPECRA-SORB UV-24 BERNEL HYDRO AMERSCREEN P NIPA G.M.P.A. KEMESTER HMS SUNAROME UVA UVINUL N-539 AMERSCOL 파르솔 MCX SUNAROME WMO PABA EUSOLEX 232 SUNAROME W EUSOLEX 6300 UVINUL 408 EUSOLEX 8020 파르솔 1789 UVINUL N-35 바스프 케미칼 캄파니 바스프 케미칼 캄파니 바스프 케미칼 캄파니 바스프 케미칼 캄파니 바스프 케미칼 캄파니 아메리칸 시안아미드 베르넬 케미칼 아머콜 코포레이션 니파 랩스. 훈코 케미칼 펠톤 월드와이드 바스프 케미칼 캄파니 아머콜 코포레이션 베르넬 케미칼 펠톤 월드와이드 내셔날 스타치 EM 인더스트리즈 펠톤 월드와이드 EM 인더스트리즈 바스프 케미칼 캄파니 EM 인더스트리즈 기바우단 코포레이션 바스프 케미칼 캄파니
미용 조성물 중 유기 일광차단제의 양은 일반적으로 0.01% 내지 20%의 범위, 바람직하게는 0.1% 내지 10%의 범위이다.
유기 일광차단제로는 효과적이고 시판된다는 점에서 파르솔 MCX 및 파르솔 1789가 바람직하다.
<조성물의 용도>
본 발명에 따른 조성물은 인간 피부에 국소 도포용 미용 제품, 바람직하게는 미용 피부 미백용 및/또는 지성 또는 지루성 피부의 외관의 감소용, 보다 바람직하게는 피부 미백용 미용 제품으로서 주로 의도된다.
사용시, 소량, 예를 들어 약 0.1 내지 약 5 ml의 조성물을 적합한 용기 또는 도포기로부터 피부의 노출된 영역에 도포하며, 그 후 필요한 경우, 이것을 손 또는 손가락 또는 적합한 장치를 사용하여 피부에 펴고/거나 문지른다.
<제품 형태 및 팩키징>
본 발명의 미용 조성물은 4,000 내지 10,000 mPas의 점도 (내부 유동성 마찰)를 갖는 로션, 10,000 내지 20,000 mPas의 점도를 갖는 유동성 크림 또는 20,000 내지 100,000 mPas 또는 그 이상의 점도를 갖는 크림으로 제형화할 수 있다. 조성물을 그의 점도 및 소비자가 원하는 용도에 맞는 적절한 용기에 포장할 수 있다. 예를 들어, 로션 또는 유동성 크림은 병 또는 롤-볼 (roll-ball) 도포기, 또는 추진제로 추진되는 에어로졸 장치, 또는 손가락으로 조작하기에 적합한 펌프가 장착된 용기에 포장될 수 있다. 조성물이 크림인 경우에는, 조성물은 간단히 비변형성 병 또는 짜서 쓰도록 된 용기, 예컨대 튜브 또는 뚜껑 달린 병에 저장될 수 있다.
본 발명은 또한 본원에서 정의된 바와 같이 미용상 허용되는 조성물을 함유하는 밀폐 용기를 제공한다.
하기 특정 실시예는 본 발명을 추가로 예시하는 것이며, 본 발명을 이에 제한하는 것이 아니다.
실시예 1 내지 7
조성물 세트를 본 발명의 범위 내에서 제조하고, 하기 표에 열거하였다. 조성물은 중량 백분율이다.
성분 상표명 및 CTFA명 상 1 2 3 4 5 6 7
스테아르산 A 14.9 14.9 12.9 17.9 14.0 14.0 14.0
나트륨 세테아릴 술페이트 A 1.0 1.0 1.5 1.5 1 1 1
미르즈 59 A 2.0 1.5 2 2 2 2 2
스팬 60 A 2.0 1.5 2 2 2 2 2
프로필 파라벤 A 0.10 0.10 0.10 0.10 0.10 0.10 0.10
BHT A 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1
디메티콘 A 0.50 0.75 0.75 0.75 0.75
물 B BAL* BAL BAL BAL BAL BAL BAL
EDTA B 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04
페물렌 TR 2 B 0.10 0.05 0.05 0.05 0.05
메틸 파라벤 B 0.15 0.15 0.15 0.15 0.15 0.15 0.15
파르솔 MCX C 0.75 1.25 1 1 0.75 0.75 0.75
파르솔 1789 C 0.40 0.4 0.4 0.4 0.4 0.4
미세화 산화티타늄 C 0.2 0.2 0.2
프로필렌 글리콜 D 8 8 8
트란스쿠톨 D 4 4 4
4-시클로펜틸 메틸 레조르시놀 D 0.05 2.0 2.0 3.5
4-시클로헥실 메틸 레조르시놀 D 2.5
4-시클로티안 메틸 레조르시놀 D 3.51
4-시클로아미도 메틸 레조르시놀 D 5.0
* BAL = 100%가 되게 하는 양
상기 표의 실시예 1 내지 7의 조성물을 하기 방법으로 제조하였다: 상 A를 75℃로 가열하였다. 상 B를 상 A와는 별도의 용기에서 75℃로 가열하였다. 그 후, 상들을 뒤집어지도록 열로 혼합하여 합하였다. 상 C를 예비혼합하고 가온한 후, 상 A 및 B가 혼합된 후 즉시 첨가하였다. 상 D를 예비용해하고 60℃에서 주요 포트에 첨가하였다. 혼합물을 40℃까지 냉각시킨 후 팩킹하였다.
실시예 8
본 실시예는 4-시클로헥실 메틸 레조르시놀의 피부 미백 활성을 나타낸다.
머쉬룸 티로시나제 분석
머쉬룸 티로시나제 억제는 멜라닌 합성을 감소시켜 피부 미백 효과를 나타내는 지표이다.
시약:
분석 완충액: 포스페이트 (100 mM, pH 7.0)
머쉬룸 티로시나제 스톡 용액 (시그마-알드리히, 배치 #023K7024): 분석 완충액 중 0.2 mg/ml
L-DOPA 스톡 용액: 분석 완충액 중 1.05 mM
시험 화합물 스톡 용액: DMSO 중 10 mM
분석 조건:
머쉬룸 티로시나제: 분석 완충액 중 0.1 mg/ml
L-DOPA: 분석 완충액 중 0.5 mM
시험 화합물: 다양한 농도, 2.5% 최종 [DMSO]
온도: 실온
절차:
시험 화합물 (스톡 용액 5 ㎕)을 96-웰 플레이트의 웰에 첨가한 후, L-DOPA (L-3, 4-디히드록시페닐알라닌; 스톡 용액 95 ㎕)을 첨가하였다. 머쉬룸 티로시나제 (스톡 용액 10O ㎕)를 각 웰에 첨가함으로써 반응을 개시시키고, 흡광도를 490 nm에서 30초 내지 2분의 시간에 걸쳐서 모니터링하였다. 시험 화합물의 존재 또는 부재하의 초기 반응 속도를 계산하고(Δ490 nm/분), 시험 화합물의 억제 %를 하기 식을 이용하여 계산하였다:
Figure 112007074203018-PCT00009
상기 식에서, vo는 화합물의 부재하의 초기 반응 속도이고, v는 머쉬룸 티로시나제의 부재하의 반응의 기울기이고, vi는 시험 화합물의 존재하의 반응의 기울기이다. 데이타 분석 소프트웨어를 이용하여 데이타 (억제 % 대 [시험 화합물])를 핏팅하고, 50% 억제에서의 시험 화합물의 농도 (IC50)를 핏팅된 데이타로부터 결정하였다.
명칭 IC50 (μM)
4-시클로헥실메틸 레조르시놀 (CHMR) 0.95
4-에틸 레조르시놀 (ER) 1.10
IC50 값은 대조군에 비해 50% 티로시나제 억제를 가져오는 피부 미백제 농도를 지칭한다 (최소 농도에서의 최대 티로시나제 억제를 얻는 것이 목적임).
상기 데이타는 시클로헥실 메틸 레조르시놀 및 에틸 레조르시놀이 비교될만한 효능을 갖는다는 것을 나타내는 것으로 보인다.
실시예 9
본 실시예는 4-시클로헥실 메틸 레조르시놀의 피부 피지 억제 활성을 나타낸다.
피지세포 분석 절차:
성인 남성으로부터 얻은 인간 피지세포의 이차 배양물을 96-웰 조직 배양 플레이트 (팩카드)에서 전면 생장 후 3일까지 성장시켰다. 피지세포 성장 배지는 14 ㎍/ml 소 뇌하수체 추출물, 0.4 ㎍/ml 히드로코르티손, 5 ㎍/ml 인슐린, 10 ng/ml 표피 성장 인자, 1.2 x 10-10 M 콜레라 독소, 100 유닛/ml 페니실린 및 100 ㎍/ml 스트렙토마이신으로 보충된 클로네틱스(Clonetics) 각질세포 기재 배지 (Clonetics Keratinocyte Basal Medium; KBM)로 구성되었다.
모든 배양물은 37℃에서 7.5% CO2의 존재하에 인큐베이션하였다. 배지는 주 당 3회 바꾸었다.
실험 당일에 성장 배지를 제거하고, 피지세포를 무균 둘베코 변형 이글 배지 (DMEM; 페놀 레드 비함유)로 3회 세척하였다. 에탄올에 용해시킨 시험 제제 2 마이크로리터를 함유하는 각 샘플(삼중)에 신선한 DMEM을 첨가하였다. 대조군은 에탄올 단독을 첨가한 것으로 구성되었다. 각 플레이트를 20 시간 동안 인큐베이터로 회수한 후, 14C-아세테이트 완충액 (5 mM 최종 농도, 56 mCi/mmol 특이적 활성)를 첨가하였다. 피지세포를 4 시간 동안 인큐베이터로 회수한 후, 각 배양물을 포스페이트 완충 염수로 3회 헹구어, 비결합 표지를 제거하였다. 팩카드 탑카운트 섬광 계수기를 이용하여 피지세포에 남아있는 방사성 표지를 결정하였다. 스투던트 t-검정을 이용하여 통계 유의성 (p 값)을 계산하였다. 얻은 결과를 표 4에 요약하였다. 공지된 피지 억제제인 페놀 레드를 양성 대조군으로서 사용하였다.
처리 대조군 (에탄올)의 % p 값
10 μM CHMR 100 μM CHMR 98.9 69.3 0.3657 0.0036
28 μM 페놀 레드 280 μM 페놀 레드 84.4 45.9 0.0581 0.0007
데이타는 약 100 마이크로몰의 농도에서 CHMR (시클로헥실 메틸 레조르시놀)이 비히클 대조군과 비교하여 피지세포 지질 합성을 통계학적으로 유의하게 감소시킨다는 것을 나타내는 것으로 보인다.
본 명세서에서 예시되고 기재된 본 발명의 특정 형태는 오직 대표적인 것을 나타내기 위한 것이라는 것을 이해해야 한다. 본 명세서에서 제안된 것들을 포함하나 이에 제한되지 않은 변형이 개시된 내용의 명확한 교시를 벗어나지 않고 예시된 실시양태 내에서 가능하다. 따라서, 본 발명의 전체 범위를 결정함에 있어서 하기 첨부된 청구의 범위에 참고되어야 한다.

Claims (16)

  1. 하기 화학식 I의 화합물.
    <화학식 I>
    Figure 112007074203018-PCT00010
    상기 식에서,
    X1 및/또는 X2는 수소 (H), 직쇄 또는 분지쇄의 포화 또는 불포화 C1-C12 알킬, 알케닐 또는 아실 기를 나타내고;
    R1 및/또는 R2는 수소 (H), 직쇄 또는 분지쇄의 시클릭 또는 비시클릭 포화 또는 불포화 C1-C12 알킬, 알케닐, 시클로알킬 또는 시클로알케닐 기를 나타내고;
    n은 0 또는 1이고;
    n이 0인 경우, 고리는 O, N 또는 S인 1개의 헤테로원자를 함유하거나 함유하지 않고/거나 1개의 이중 결합을 함유하거나 함유하지 않는 시클로펜틸이고;
    n이 1인 경우, 고리는 O, N 또는 S인 1개의 헤테로원자를 함유하거나 함유하지 않고/거나 1개의 이중 결합을 함유하거나 함유하지 않는 시클로헥실이고;
    m은 1 내지 6의 정수이다.
  2. 제1항에 따른 화합물을 피부에 도포하는 것을 포함하는, 지성 또는 지루성 피부의 외관을 감소시키는 미용 방법.
  3. 제1항에 따른 화합물을 피부에 도포하는 것을 포함하는, 피부 미백 미용 방법.
  4. 하기 화학식 B의 화합물.
    <화학식 B>
    Figure 112007074203018-PCT00011
    상기 식에서,
    R2는 수소 (H), 직쇄 또는 분지쇄의 시클릭 또는 비시클릭 포화 또는 불포화 C1-C12 알킬, 알케닐, 시클로알킬 또는 시클로알케닐 기이고;
    n은 0 또는 1이고;
    n이 0인 경우, 고리는 O, N 또는 S인 1개의 헤테로원자를 함유하거나 함유하지 않고/거나 1개의 이중 결합을 함유하거나 함유하지 않는 시클로펜틸이고;
    n이 1인 경우, 고리는 O, N 또는 S인 1개의 헤테로원자를 함유하거나 함유하지 않고/거나 1개의 이중 결합을 함유하거나 함유하지 않는 시클로헥실이다.
  5. 제4항에 따른 화학식 B의 화합물을 피부에 도포하는 것을 포함하는, 피부 미백, 및/또는 지성 또는 지루성 피부의 외관을 감소시키는 미용 방법.
  6. (a) 제1항에 따른 화학식 I의 화합물 0.0001 내지 50 중량%; 및
    (b) 미용상 허용되는 담체
    를 포함하는 미용 조성물.
  7. 제6항에 있어서, 벤조페논-1, 벤조페논-2, 벤조페논-3, 벤조페논-4, 벤조페논-8, DEA, 메톡시신나메이트, 에틸 디히드록시프로필-PABA, 글리세릴 PABA, 호모살레이트, 메틸 안트라닐레이트, 옥토크릴렌, 옥틸 디메틸 PABA, 옥틸 메톡시신나메이트 (파르솔(Parsol) MCX), 옥틸 살리실레이트, PABA, 2-페닐벤즈이미다졸-5-술폰산, TEA 살리실레이트, 3-(4-메틸벤질리덴)-캄포, 벤조페논-6, 벤조페논-12, 4-이소프로필 디벤조일 메탄, 부틸 메톡시 디벤조일 메탄 (파르솔 1789), 에토크릴렌 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 유기 일광차단제를 추가로 포함하는 미용 조성물.
  8. 제6항에 있어서, 상기 화학식 I의 화합물이 0.01 내지 5 중량%의 양으로 존재하는 것인 미용 조성물.
  9. 제1항에 있어서, 4-시클로펜틸 메틸 레조르시놀, 4-시클로헥실 메틸 레조르시놀 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화학식 I의 화합물.
  10. 제6항에 있어서, 알파-히드록시산 및 에스테르, 베타-히드록시산 및 에스테르, 폴리히드록시산 및 에스테르, 코즈산 및 에스테르, 페룰산 및 페룰레이트 유도체, 바닐산 및 에스테르, 디오산 및 에스테르, 레티놀, 레티날, 레티닐 에스테르, 크레아틴, 히드로퀴논, t-부틸 히드로퀴논, 오디 추출물, 감초 추출물, 레조르시놀 유도체 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 피부 유익제를 추가로 포함하는 미용 조성물.
  11. 제7항에 있어서, 상기 유기 일광차단제가 상기 미용 조성물의 1 내지 10 중량%의 양으로 존재하고, 상기 유기 일광차단제 대 상기 화학식 I의 화합물의 중량비가 10000:1 내지 1:10000인 미용 조성물.
  12. 제10항에 있어서, 상기 피부 유익제가 알파-히드록시산, 베타-히드록시산, 폴리히드록시산, 히드로퀴논, t-부틸 히드로퀴논, 4-치환된 레조르시놀 유도체 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 미용 조성물.
  13. 제6항에 따른 미용 조성물을 피부에 도포하는 것을 포함하는, 피부 미백 미용 방법.
  14. 제6항에 따른 미용 조성물을 피부에 도포하는 것을 포함하는, 지성 또는 지루성 피부의 외관을 감소시키는 미용 방법.
  15. 하기 반응을 포함하는, 제1항에 따른 화학식 I의 화합물의 합성 방법.
    Figure 112007074203018-PCT00012
    상기 식에서, a, b 및 c는 하기 반응 단계, 시약 및 조건을 나타낸다:
    (a) 알파-알킬벤질 알코올 유도체 또는 치환된 알파-알킬벤질 알코올 유도체, 산 촉매;
    (b) 수소, 촉매, 용매;
    (c) 아실화 또는 알킬화.
  16. 하기 반응을 포함하는, 제1항에 따른 화학식 I의 화합물의 합성 방법.
    Figure 112007074203018-PCT00013
    상기 식에서, a, b 및 c는 하기 반응 단계, 시약 및 조건을 나타낸다:
    (a) 시클로알킬마그네슘 할라이드 유도체 또는 치환된 시클로알킬마그네슘 할라이드 유도체, 유기 용매;
    (b) 산성 조건;
    (c) 수소, 촉매, 용매.
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