KR20070115372A - 표시 패널 - Google Patents

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KR20070115372A
KR20070115372A KR1020060049672A KR20060049672A KR20070115372A KR 20070115372 A KR20070115372 A KR 20070115372A KR 1020060049672 A KR1020060049672 A KR 1020060049672A KR 20060049672 A KR20060049672 A KR 20060049672A KR 20070115372 A KR20070115372 A KR 20070115372A
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신경주
김시열
김장수
채종철
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삼성전자주식회사
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Abstract

제조 원가의 절감 및 제품의 신뢰성을 향상시킨 표시 패널이 개시된다. 표시 패널은 제1 베이스 기판 상의 화소 영역들에 형성된 스위칭 소자들과, 스위칭 소자들이 형성된 화소 영역들에 형성된 컬러필터들과, 각 스위칭 소자들 상에 서로 다른 컬러의 컬러필터들이 적층된 제1 차광 패턴을 포함하는 표시 기판 및 제1 베이스 기판과 대향하는 제2 베이스 기판 상에 직접 형성된 공통전극을 포함하는 대향 기판을 포함한다. 스위칭 소자 상에 제1 차광 패턴을 형성하고, 표시 기판과 대향하는 대향 기판에 형성될 차광층을 생략함으로써 제품의 제조 원가를 절감시킴과 동시에, 외부광의 차단 효율이 향상되어 제품의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
어레이 기판, 컬러필터, 차광 패턴

Description

표시 패널{DISPLAY PANEL}
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 표시패널의 평면도이다.
도 2는 도 1 의 I-I’라인을 따라 절단한 단면도이다.
도 3a 내지 도 3c는 본 발명의 제1 실시예에 따른 차광 패턴의 제조 순서를 개념적으로 도시한 도면들이다.
도 4a 내지 도 4c는 본 발명의 제2 실시예에 따른 차광 패턴의 제조 순서를 개념적으로 도시한 도면들이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
500 : 표시 패널 100 : 제1 기판
200 : 제2 기판 110 : 제1 베이스 기판
TFT : 스위칭 소자 120 : 어레이층
130 : 패시베이션층 140 : 제1 컬러필터층
150 : 제2 컬러필터층 160 : 제3 컬러필터층
170 : 제1 차광 패턴 172 : 제2 차광 패턴
180 : 제3 차광 패턴 210 : 제2 베이스 기판
본 발명은 표시 패널에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 제조 원가의 절감 및 제품의 신뢰성을 향상시키는 표시 패널에 관한 것이다.
일반적으로, 표시패널은 스위칭 소자를 포함하는 어레이 기판, 상기 어레이 기판과 대향하는 대향 기판 및 상기 어레이 기판과 대향 기판 사이에 개재되어 형성되는 액정층을 포함한다. 상기 어레이 기판은 스위칭 소자 상에 형성되어 상기 어레이 기판을 보호하는 동시에 평탄화시키는 유기 절연막을 더 포함한다.
상기 대향 기판은 블랙 매트릭스 패턴, 컬러필터들, 상기 블랙 매트릭스 패턴과 컬러필터들을 보호하는 동시에 평탄화시키는 평탄화층 및 공통 전극을 포함한다.
최근, 표시 패널의 원가 절감을 위해 어레이 기판에 형성하여 어레이 기판을 평탄화시키는 유기 절연막을 제거하고, 대향 기판에 형성하던 컬러필터들을 상기 어레이 기판 상에 형성하여 상기 어레이 기판을 보호하는 동시에 평탄화시키고 있다. 이외에도 표시 품질 및 제조 공정의 신뢰성을 유지시키면서도 표시 패널의 원가 절감을 위한 구조의 개발이 진행 중이다.
이에, 본 발명의 기술적 과제는 이러한 점에서 착안된 것으로 본 발명의 목적은 제조 원가의 절감 및 제품의 신뢰성을 향상시키는 표시 패널을 제공하는 것이다.
상기한 본 발명의 목적을 실현하기 위한 실시예에 따른 표시 패널은 제1 베이스 기판 상의 화소 영역들에 형성된 스위칭 소자들과, 상기 스위칭 소자들이 형성된 화소 영역들에 형성된 컬러필터들과, 각 스위칭 소자들 상에 서로 다른 컬러의 컬러필터들이 적층된 제1 차광 패턴을 포함하는 표시 기판 및 상기 제1 베이스 기판과 대향하는 제2 베이스 기판 상에 직접 형성된 공통전극을 포함하는 대향 기판을 포함한다.
이러한 표시 패널에 따르면, 스위칭 소자 상에 차광 패턴을 형성하고, 표시 기판과 대향하는 대향 기판에 형성될 차광층을 생략함으로써 제품의 제조 원가를 절감시킴과 동시에, 외부광의 차단 효율이 향상되어 제품의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명하고자 한다.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 표시패널의 평면도이다.
도 2는 도 1 의 I-I’라인을 따라 절단한 단면도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 표시 패널(500)은 제1 기판(100), 제1 기판(100)과 대향하여 형성된 제2 기판(200) 및 제1 기판(100)과 제2 기판(200) 사이에 개재되어 형성된 액정층(300)을 포함한다.
제1 기판(100)은 제1 베이스 기판(110) 상에 형성된 스위칭 소자(TFT1, TFT2, TFT3)들을 포함하는 어레이층(120), 패시베이션층(130), 제1 컬러필터층(140), 제2 컬러필터층(150), 제3 컬러필터층(160), 제1 차광 패턴(170) 및 화소 전극(PE)을 포함한다.
어레이층(120)은 제1 베이스 기판(110) 상에 형성된 게이트 배선(GL)들 및 게이트 배선(DL)들과 교차하는 소스 배선(DL)들을 포함한다. 게이트 배선(GL)들 및 소스 배선(DL)들이 복수의 화소 영역(B, G, R)을 정의하고, 제1 화소 영역(B)에는 제1 스위칭 소자(TFT1)가 형성된다. 제2 화소 영역(G)에는 제2 스위칭 소자(TFT2)가 형성되고, 제3 화소 영역(R)에는 제3 스위칭 소자(TFT3)가 형성된다.
제1 기판(100)은 제1, 제2 및 제3 화소 영역(B, G, R)이 하나의 단위로 반복적으로 배치된다. 각 스위칭 소자(TFT1, TFT2, TFT3)는 게이트 배선(GL)과 연결된 게이트 전극(GE), 소스 배선(DL)과 연결된 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE)을 포함한다. 각 스위칭 소자(TFT1, TFT2, TFT3)는 게이트 배선(GL) 및 게이트 전극(GE) 상에 형성된 게이트 절연막(111), 게이트 절연막(111) 상에 형성된 채널층을 더 포함한다.
게이트 절연막(111)은 예를 들어 질화 실리콘(SiNx)으로 이루어진다. 상기 채널층은 게이트 절연막(111) 상에 순차적으로 형성된 반도체층(112) 및 오믹 콘택층(113)을 포함한다. 예를 들어, 반도체층(112)은 아몰퍼스 실리콘(a-Si:H)으로 이루어지고, 오믹 콘택층(113)은 n+이온이 고농도로 도핑된 비정질 실리콘층(n+ a-Si)이다. 패시베이션층(130)은 어레이층(120) 상에 형성되어 어레이층(120)을 보호하는 절연막이다.
도 2 및 도 3c를 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 제1 차광 패턴(170)은 제1, 제2 및 제3 컬러필터층(140, 150, 160)이 순차적으로 적층되어 형 성된다. 제1 컬러필터층(140)은 예를 들어, 제1 화소 영역(B)에 형성된 블루 컬러필터이고, 제2 컬러필터층(150)은 제2 화소 영역(G)에 형성된 그린 컬러필터이며, 제3 컬러필터층(160)은 제3 화소 영역(R)에 형성된 레드 컬러필터이다.
제1 차광 패턴(170)의 층상 구조는 제1, 제2 및 제3 컬러필터층(140, 150, 160)의 적층 순서에 따라 달라질 수 있다. 본 발명의 실시예에 따른 제1 차광 패턴(170)은 상기 채널층의 상부를 커버하기 위해 상기 채널층의 면적보다 넓게 형성되거나 같게 형성되는 것이 바람직하다.
제2 차광 패턴(172)은 제1 기판(100)의 게이트 배선(GL) 및 소스 배선(DL) 상에 형성한다. 금속층인 게이트 배선(GL) 및 소스 배선(DL)과, 제2 차광 패턴(172)이 각 화소 영역(B, G, R)을 분리한다. 제2 차광 패턴(172)은 화소 전극(PE)이 통제하지 못하는 영역의 액정층(300)을 통과하는 광을 차단하여 표시패널(500)의 대비비(contrast ratio)를 향상시킨다. 제1 차광 패턴(170) 또는 제3 차광 패턴(180)과, 제2 차광 패턴(172)을 제1 기판(100)에 형성함으로써 제2 기판(200)에 상기 블랙 매트릭스층 및 오버 코팅층을 형성하지 않는다.
도 4c를 참조하면, 제3 차광 패턴(180)은 제1, 제2 및 제3 컬러필터층(142, 152, 162) 중 서로 다른 2개의 컬러필터층이 적층되어 형성된다. 예를 들어, 제1 컬러필터층(142) 및 제2 컬러필터층(152)이 적층되어 형성되거나, 제1 컬러필터층(142) 및 제3 컬러필터층(162)이 적층된 구조 또는 제2 컬러필터층(152) 및 제3 컬러필터층(162)이 적층된 구조 중 어느 하나의 적층 구조로 형성된다. 제3 차광 패턴(180)의 적층 구조와 동일한 층상 구조로 게이트 배선(GL)들 및 소스 배선(DL) 들 상에 제2 차광 패턴(172)을 형성할 수 있다.
제1, 제2 및 제3 컬러필터층(140, 150, 160) 상에 화소 전극(PE)이 형성된다. 화소 전극(PE)은 투명하면서도 도전성이 있는 물질로 형성된다. 화소 전극(PE)은 예를 들어, 산화 주석 인듐(Indium Tin Oxide, ITO), 산화 아연 인듐(Indium Zinc Oxide, IZO) 및 아몰퍼스 산화 주석 인듐(amorphous Indium Tin Oxide, a-ITO)등으로 형성된다. 드레인 전극(DE) 상의 화소 전극(PE)과 드레인 전극(DE)의 일단부가 각각 캐패시터 전극으로서 스토리지 캐패시터(Cst)를 정의한다.
제2 기판(200)은 제2 베이스 기판(210) 상에 형성된 공통 전극(CE)을 포함한다. 공통 전극(CE)은 화소 전극(PE)과 같이 투명하면서도 도전성이 있는 물질로 형성된다. 공통 전극(CE)은 제2 베이스 기판(210)과 직접적으로 접촉하도록 형성되고, 공통 전극(CE)은 제2 베이스 기판(210)의 전면에 평탄하게 형성된다.
본 발명의 실시예에 따른 공통 전극(CE)은 개구부(220)를 포함한다. 개구부(220)에 의해서 화소 전극(PE)과 개구부(220)를 포함하는 공통 전극(CE) 사이에 전계가 형성되는 경우, 액정층(300)의 액정 분자들이 방향성을 가지도록 하여 시야각을 확장할 수 있다.
한편, 제1 차광 패턴(170)은 복수의 컬러필터층이 적층되어 형성됨으로써 셀갭 유지부재로 이용할 수 있다. 상기 셀갭 유지부재는 제1 기판(100) 및 제2 기판(200) 사이에 형성되어 액정층(300)의 두께를 일정하게 유지시키는 부재이다. 제1 차광 패턴(170)을 상기 셀갭 유지부재로 이용하는 경우에는, 제1 차광 패턴(170)의 적층 두께와 액정층(300)의 두께가 같게 된다.
일반적으로, 기존의 어레이 기판은 스위칭 소자를 보호하기 위한 유기 절연층(미도시)을 더 형성했지만, 최근에는 표시 패널의 제조 원가를 감소시키기 위해 상기 유기 절연층을 형성하지 않고, 상기 어레이 기판 상에 컬러필터들을 형성하여 상기 유기 절연층의 역할을 상기 컬러필터들이 대신하도록 하고 있다.
이에 따라, 상기 기존의 어레이 기판과 대향하는 기존의 대향 기판에는 순차적으로 블랙 매트릭스층, 오버 코팅층 및 공통 전극층이 형성된다. 상기와 같은 구조에서 오버 코팅층을 형성하지 않는다면 표시 패널의 제조 원가를 더욱 더 감소시킬 수 있다.
그러나, 상기 공통 전극층을 패터닝하는 경우에 상기 오버 코팅층을 제거한 구조에서는 상기 블랙 매트릭스층이 상기 공통 전극층을 패터닝하는 물질에 의해 손상을 받게 되고, 상기 스위칭 소자와 대응되도록 형성된 블랙 매트릭스층을 제거하는 경우에는 백라이트 광 또는 외부광에 의해 상기 스위칭 소자의 채널층에 누설 전류가 발생하게 되는 문제점이 있다.
또한, 상기 기존의 대향 기판에 형성되는 상기 블랙 매트릭스층은 상기 기존의 어레이 기판에 형성된 스위칭 소자들을 커버하도록 중첩되어야 한다. 그러나, 상기 기존의 어레이 기판 및 상기 대향 기판을 얼라인시킬 때, 상기 블랙 매트릭스층이 상기 스위칭 소자를 완전히 커버하도록 중첩시키는데에 어려움이 있다.
이와 같은 문제들을 해결하기 위해서 본 발명의 실시예들에 다른 표시 패널(500)에 의하면 제1, 제2 및 제3 컬러필터층(140, 150, 160) 중 서로 다른 컬러필터층이 적층된 차광 패턴을 상기 어레이 기판 상에 형성하여 상기 오버 코팅층을 형성하는 단계를 생략할 수 있다.
또한, 상기 블랙 매트릭스를 형성하는 단계를 생략할 수 있다. 이에 따라, 제1 기판(100) 및 제1 기판(100)을 포함하는 표시 패널(500)의 제조 원가를 절감시킬 수 있다. 상기 차광 패턴은 상기 채널층을 커버하도록 형성되어 상기 채널층에 누설 전류가 발생하는 것을 방지하여 제품의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
제1 차광 패턴(170)이 제1 기판(100) 상에 형성됨으로써 표시 패널(500)의 광차단 효율이 제1 기판(100) 및 제2 기판(200) 간의 얼라인 마진에 의존하는 것이 아니라, 제1 기판(100) 상에 형성되는 제1 차광 패턴(170)을 구성하는 제1 컬러필터층(140), 제2 컬러필터층(150) 및 제3 컬러필터층(160)간의 중첩 마진에 의존하게 됨으로써 기존의 표시 패널보다 안정화된 구조를 갖게 된다. 이에 따라, 광차단 효율을 향상시킬 수 있다.
도 3a 내지 도 3c는 본 발명의 제1 실시예에 따른 차광 패턴의 제조 순서를 개념적으로 도시한 도면들이다. 특히, 도 3c는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ′라인을 따라 절단한 단면도이다.
도 2 및 도 3a를 참조하면, 제1 베이스 기판(110) 상에 스위칭 소자(TFT1, TFT2, TFT3)들을 포함하는 어레이층(120)을 형성한다.
제1 베이스 기판(110) 상에 게이트 금속층(미도시)을 형성하고, 상기 게이트 금속층을 패터닝하여 게이트 배선(GL) 및 게이트 전극(GE)을 형성한다. 게이트 배선(GL) 및 게이트 전극(GE) 상에 게이트 절연막(121)을 형성하고, 게이트 절연막(121) 상에 반도체층(122) 및 오믹 콘택층(123)을 순차적으로 적층한 후, 반도체 층(122) 및 오믹 콘택층(123)을 패터닝하여 채널층을 형성한다.
상기 채널층 상에 소스 금속층(미도시)을 형성하고, 상기 소스 금속층을 패터닝하여 소스 배선(DL), 스위칭 소자(TFT1, TFT2, TFT3)들의 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE)을 형성한다. 스위칭 소자(TFT1, TFT2, TFT3)들을 포함하는 어레이층(120) 상에 제1 컬러 포토레지스트층을 형성한다. 상기 제1 컬러 포토레지스트층은 감광 조성물인 광중합 개시제, 모노머, 바인더 등과 색상을 구현하는 안료(pigment)를 포함한다.
본 발명의 실시예에 따른 상기 제1 컬러 포토레지스트층은 상기 안료가 블루(blue) 색을 나타내는 블루 포토레지스트층이고, 외부광에 의해 노광되는 영역이 잔존하고, 상기 외부광이 차단되는 영역은 제거되는 네가티브형 포토레지스트이다.
상기 제1 컬러 포토레지스트층을 제1 마스크(600)로 패터닝한다. 제1 마스크(600)는 제1 비차광부(610), 제2 비차광부(612) 및 차광부(620, 622)을 포함한다. 상기 제1 컬러 포토레지스트층이 제1 마스크(600)에 의해 패터닝되어 제1 컬러필터층(140)을 형성한다.
제1 컬러필터층(140)은 제1 화소 영역(B), 소스 배선(DL)들, 제1 스위칭 소자(TFT1), 제2 스위칭 소자(TFT2) 및 제3 스위칭 소자(TFT3)상에 형성된다. 도시하지는 않았으나, 도 2에서와 같이 제2 차광 패턴(172)의 제1 컬러필터층(140)이 게이트 배선(GL)들 상에 형성된다. 제1, 제2 및 제3 스위칭 소자(TFT1, TFT2, TFT3) 상에 형성된 제1 컬러필터층(140)은 각각의 게이트 전극(GE)과 중첩되도록 형성된다.
도 3b를 참조하면, 제1 컬러필터층(140)을 포함하는 제1 베이스 기판(110) 상에 제2 컬러 포토레지스트층(미도시)을 형성한다. 본 발명의 실시예에 따른 상기 제2 컬러 포토레지스트층은 상기 안료가 그린(Green) 색을 나타내는 그린 포토레지스트층이다.
상기 제2 컬러 포토레지스트층은 제1 마스크(600)에 의해 패터닝되어 제2 컬러필터층(150)을 형성한다. 제2 컬러필터층(150)은 제1 컬러필터층(140)이 형성된 제1 스위칭 소자(TFT1), 제2 화소 영역(G), 제1 컬러필터층(140)이 형성된 제2 스위칭 소자(TFT2), 제1 컬러필터층(140)이 형성된 제3 스위칭 소자(TFT3) 상에 형성된다.
또한, 제1 컬러필터층(140)이 형성된 소스 배선(DL)들 상에 제2 컬러필터층(150)이 형성되고, 도 2에서와 같이 제2 차광 패턴(172)의 제2 컬러필터층(150)이 게이트 배선(DL)들 상에 형성된다.
도 3c를 참조하면, 제2 컬러필터층(150)을 포함하는 제1 베이스 기판(110) 상에 제3 컬러 포토레지스트층(미도시)을 형성한다. 본 발명의 실시예에 따른 상기 제3 컬러 포토레지스트층은 상기 안료가 레드(Red) 색을 나타내는 레드 포토레지스트층이다.
상기 제3 컬러 포토레지스트층은 제1 마스크(600)에 의해 제3 컬러필터층으로 패터닝된다. 제3 컬러필터층(160)은 제3 화소 영역(R)과, 제1 및 제2 컬러필터층(140, 150)이 형성된 제1, 제2 및 제3 스위칭 소자(TFT1, TFT2, TFT3) 상에 형성된다.
또한, 제2 컬러필터층(150)이 형성된 소스 배선(DL)들 상에 제3 컬러필터층(160)이 형성되어 제1, 제2 및 제3 컬러필터층(140, 150, 160)이 순차적으로 적층된 구조의 제1 차광 패턴(170)을 형성한다. 제1 차광 패턴(170)은 각 스위칭 소자(TFT1, TFT2, TFT3) 상에 형성된 제1 차광 패턴(170)들은 각 게이트 전극(GE)을 커버하여 누설 전류가 발생하는 것을 방지한다.
도 2에서와 같이 제2 차광 패턴(172)의 제3 컬러필터층(150)이 게이트 배선(DL)들 상에 형성되어 제1, 제2 및 제3 컬러필터층(140, 150, 160)이 순차적으로 적층된 구조의 제2 차광 패턴(172)을 형성한다. 제2 차광 패턴(172)은 금속층으로 형성된 게이트 배선(GL)들 및 소스 배선(DL)들 상에 형성됨으로써, 게이트 배선(GL)들 및 소스 배선(DL)들과 함께 상기 외부광의 차단 효율을 향상시킨다.
도면으로 도시하지는 않았으나, 도 2를 참조하면, 제1 베이스 기판(110) 상에 제1 차광 패턴(170)을 형성한 후, 각 스위칭 소자(TFT1, TFT2, TFT3)의 드레인 전극(DE)의 일단부를 노출시키는 콘택홀(CNT) 및 패시베이션층(130)을 노출시키는 홀을 형성한다.
콘택홀(CNT) 및 상기 홀을 포함하는 제1 베이스 기판(110) 상에 화소 전극(PE)을 도포하여 스위칭 소자(TFT1, TFT2, TFT3)들과 화소 전극(PE)을 전기적으로 연결하고, 상기 홀 상에 형성되는 화소 전극(PE)과 드레인 전극(DE)의 일단부가 스토리지 캐패시터(Cst)를 형성한다.
도 4a 내지 도 4c는 본 발명의 제2 실시예에 따른 차광 패턴의 제조 순서를 개념적으로 도시한 도면들이다. 본 발명의 제2 실시예에 따른 제1 기판의 어레이 층(120)을 형성하는 단계는 본 발명의 제1 실시예에 따른 제1 기판을 제조하는 단계와 대동소이하므로, 어레이층(120)의 형성 공정에 대한 설명은 생략한다. 도 4a 내지 도 4c는 게이트 배선(GL)들 및 소스 배선(DL)들 상에 형성되는 제2 차광 패턴(172)의 제조 단계에 대해서는 생략한다.
도 4a를 참조하면, 어레이층(120)을 포함하는 제1 베이스 기판(110) 상에 제1 컬러 포토레지스트층(미도시)을 형성한다. 상기 제1 컬러 포토레지스트층은 비차광부(710) 및 차광부(720)를 포함하는 제2 마스크(700)에 의해 패터닝되어 제1 컬러필터층(142)을 형성한다. 본 발명의 제2 실시예에 따른 제1 컬러필터층(142)은 블루 컬러필터층이고, 제1 화소 영역(B), 제1 스위칭 소자(TFT1) 및 제2 스위칭 소자(TFT2) 상에 형성된다.
도 4b를 참조하면, 제1 컬러필터층(142)을 포함하는 제1 베이스 기판(110) 상에 제2 컬러 포토레지스트층(미도시)을 형성한다. 상기 제2 컬러 포토레지스트층은 제2 마스크(700)에 의해 제2 컬러필터층(152)으로 패터닝된다. 본 발명의 제2 실시예에 따른 제2 컬러필터층(152)은 그린 컬러필터층이고, 제2 컬러필터층(152)은 제2 스위칭 소자(TFT2), 제2 화소 영역(G) 및 제3 스위칭 소자(TFT3) 상에 형성된다.
도 4c를 참조하면, 제2 컬러필터층(152)을 포함하는 제1 베이스 기판(110) 상에 제2 컬러 포토레지스트층(미도시)을 형성한다. 상기 제3 컬러 포토레지스트층은 제2 마스크(700)에 의해 제3 컬러필터층(162)으로 패터닝된다. 본 발명의 제2 실시예에 따른 제3 컬러필터층(162)은 레드 컬러필터층이고, 제1 컬러필터층(142) 이 형성된 제1 스위칭 소자(TFT1), 제1 컬러필터층(142)이 형성된 제3 스위칭 소자(TFT3) 및 제3 화소 영역(R) 상에 형성된다.
이에 따라, 제1, 제2 및 제3 스위칭 소자(TFT1, TFT2, TFT3) 상에 제1, 제2 및 제3 컬러필터층(142, 152, 162) 중 2개의 층이 선택되어 형성된 층상 구조의 제3 차광 패턴(180)이 형성된다.
본 발명의 제1 및 제2 실시예와 같은 제1 기판의 제조 방법 이외에도 마스크의 디자인을 변경하여 제1, 제2 및 제3 스위칭 소자(TFT1, TFT2, TFT3) 상에 다양한 조합으로, 적어도 2개 이상의 컬러필터층의 층상 구조를 가지는 제1 차광 패턴(170) 또는 제3 차광 패턴(180)을 형성할 수 있다.
하나의 제1 기판(100)이 제1 차광 패턴(170) 및 제3 차광 패턴(180)을 포함하도록 형성할 수 있다. 또한, 제1 기판(100)은 게이트 배선(GL)들 및 소스 배선(DL)들 상에 형성된 제2 차광 패턴(172)을 더 포함하도록 형성할 수 있다.
이와 같은 표시 패널에 따르면, 제1 기판 상에 형성된 스위칭 소자 상에 차광 패턴을 형성하고, 상기 제1 기판과 대향하는 제2 기판에 형성될 차광층을 생략함으로써 제품의 제조 원가를 절감시킬 수 있다.
또한, 상기 제1 기판 상에 직접 상기 차광 패턴이 형성됨으로써 외부광의 차단 효율이 표시 패널을 구성하는 표시 기판들의 얼라인 마진에 의존하지 않게 되어 상기 외부광 차단 효율을 향상시키고, 제품의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
이상 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

Claims (3)

  1. 제1 베이스 기판 상의 화소 영역들에 형성된 스위칭 소자들과, 상기 스위칭 소자들이 형성된 화소 영역들에 형성된 컬러필터들과, 각 스위칭 소자들 상에 서로 다른 컬러의 컬러필터들이 적층된 제1 차광 패턴을 포함하는 표시 기판; 및
    상기 제1 베이스 기판과 대향하는 제2 베이스 기판 상에 직접 형성된 공통전극을 포함하는 대향 기판을 포함하는 표시 패널.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1 차광 패턴은 상기 스위칭 소자의 게이트 전극 상에 형성된 채널층을 커버하는 것을 특징으로 하는 표시 패널.
  3. 제1항에 있어서, 상기 표시 기판은 게이트 배선들 및 소스 배선들 상에 형성된 제2 차광 패턴을 더 포함하고,
    상기 제2 차광 패턴은 서로 다른 컬러필터들이 적층되어 형성된 것을 특징으로 하는 표시 패널.
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