KR20070115367A - 반도체 제조설비의 웨이퍼 언로딩 위치 검출시스템 - Google Patents

반도체 제조설비의 웨이퍼 언로딩 위치 검출시스템 Download PDF

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KR20070115367A
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Abstract

본 발명은 생산성을 증대 또는 극대화할 수 있는 반도체 제조설비의 웨이퍼 언로딩 위치 검출시스템을 개시한다.웨이퍼를 지지하도록 평탄하게 형성된 척; 상기 웨이퍼를 상기 척의 설정된 위치에 이송시키는 로봇 암; 상기 로봇암에 탑재되는 웨이퍼와 동일 또는 유사한 반경을 갖고 소정의 두께를 갖도록 형성된 테스트 몸체; 상기 테스트 몸체의 가장자리에 형성되어 상기 테스트 몸체가 상기 로봇 암에 의해 상기 척 상으로 위치될 경우, 상기 척의 설정된 위치로부터의 거리를 감지하는 복수개의 센서; 및 상기 복수개의 센서에서 출력되는 감지신호를 이용하여 상기 로봇 암이 웨이퍼를 언로딩시키는 위치를 판단하고 상기 웨이퍼가 언로된 위치에서 상기 척의 설정된 위치까지의 정보를 나타내도록 제어신호를 출력하는 제어부를 포함함에 의해 상기 로봇 암의 웨이퍼 언로딩 위치를 용이하게 파악할 수 있기 때문에 생산성을 향상시킬 수 있다.
로봇(robot), 센서(sensor), 몸체, 제어부, 카메라(camera)

Description

반도체 제조설비의 웨이퍼 언로딩 위치 검출시스템{Detecting system for unloading position at the semiconductor device manufacturing equipment}
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 반도체 제조설비를 나타낸 평면도.
도 2 및 도 3은 도 1의 웨이퍼 이송 로봇을 나타낸 사시도 및 단면도.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 웨이퍼 언로딩 위치 검출 시스템을 개략적으로 나타낸 평면도.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
110 : 블레이드 120 : 로봇 암
130 : 윙 140 : 몸체
150 : 홀 160 : 테스트 몸체
170 : 센서
본 발명은 반도체 제조설비에 관한 것으로, 상세하게는 반도체 제조공정 챔 버간에 웨이퍼를 이송시키는 로봇 암이 상기 챔버 내에서 진공의 깨짐없이 상기 웨이퍼를 언로딩시키는 위치를 검출토록 형성된 반도체 제조설비의 웨이퍼 언로딩 위치 검출시스템에 관한 것이다.
최근 정보 통신 분야의 급속한 발달과, 컴퓨터와 같은 정보 매체의 대중화에 따라 반도체 장치도 비약적으로 발전하고 있다. 또한, 그 기능적인 면에 있어서 반도체 장치의 소자 고집적화 경향에 따라 기판에 형성되는 개별 소자의 크기를 줄이면서 한편으로 소자 성능을 극대화시키기 위해 여러 가지 방법이 연구 개발되고 있다.
일반적으로 반도체 디바이스(device)는 순수 실리콘 웨이퍼(silicon wafer) 상에 소정 회로패턴(pattern) 박막을 순차적으로 적층하는 과정을 반복함으로써 제조되는 바, 반도체 디바이스를 제조하기 위해서는 포토(photo)공정, 애싱(ashing)공정, 박막증착공정, 식각공정 등과 같은 다수의 단위공정을 반복 수행하게 된다.
이때, 이러한 다수의 단위공정은 크게 두가지 방식에 의해 이루어진다.
즉, 다수의 단위공정은 약 50여장씩의 웨이퍼를 동시에 처리하는 외엽(batch)식이나 1장씩의 웨이퍼를 낱개로 처리하는 매엽식에 의해 이루어진다.
여기에서, 외엽식 같은 경우 약 50여장씩의 웨이퍼를 동시에 처리하는 바 우수한 드루풋(throughput)을 얻을 수 있다는 점에서 많이 이용되고 있으며, 매엽식 같은 경우 1장씩의 웨이퍼를 낱개로 처리하는 바 매우 정밀한 공정구현이 가능하다는 점에서 많이 이용되고 있다.
그리고, 최근에는 웨이퍼를 낱개로 처리하는 매엽식이면서도 보다 향상된 드 루풋을 얻을 수 있는 멀티챔버(multi chamber)를 이용한 방식이 제반 단위공정에 점차 확대되고 있는 실정이다.
예컨대, 클러스터(cluster) 방식을 이용한 반도체 제조설비는 통상의 식각 공정이 이루어지는 복수개의 공정 챔버(process chamber)와, 상기 복수개의 공정 챔버를 서로 연통시키며 웨이퍼 이송로봇이 설치되는 트랜스퍼 챔버(transfer chamber)와, 상기 트랜스퍼 챔버의 일측에 장착되어 진공 상태의 상기 공정 챔버에서 상기 웨이퍼의 식각 공정이 진행될 수 있도록 대기중에서 저진공 상태로 다수개의 웨이퍼가 일괄적으로 로딩 또는 언로딩되는 로드락(load lock) 챔버와, 상기 로드락 챔버에 로딩된 웨이퍼를 일방향으로 정렬하는 정렬(aligning) 챔버와, 상기 공정 챔버에서 식각 공정이 완료된 웨이퍼를 세정하는 세정 챔버 등을 포함하여 이루어진다.
상기 트랜스퍼 챔버 내에 설치되는 상기 웨이퍼 이송로봇은 상기 로드락 챔버, 정렬 챔버, 공정 챔버 및 세정 챔버 간에 웨이퍼를 순차적으로 빠르게 로딩(Loading) 또는 언로딩 (Unloading)시키게 되는 바, 멀티챔버를 이용한 클러스터(cluster)방식의 반도체 제조설비는 매엽식에 비해 우수한 드루풋을 얻을 수 있으면서도 매우 정밀한 공정을 수행토록 할 수 있게 된다.
이와 같은 반도체 제조설비의 웨이퍼 이송로봇을 구체적으로 설명하면, 종래의 웨이퍼 이송로봇은 크게 웨이퍼를 지지하는 블레이드와, 상기 블레이드를 전진 또는 후진시키는 복수개의 로봇암과, 상기 복수개의 로봇암 각각을 연결하는 복수개의 윙을 하나의 중심 축으로 연결하여 회전시키고 상기 블레이드 및 복수개의 로 봇암을 승하강시키는 몸체를 포함하여 구성된다. 여기서, 상기 몸체는 상기 트랜스퍼 챔버에 고정 설치되며, 상기 블레이드는 상기 욍의 회전과 상기 암의 수축 또는 팽창에 의해 상기 공정 챔버 또는 상기 로드락 챔버 내부로 유입되어 상기 웨이퍼를 로딩 또는 언로딩시키도록 형성되어 있다. 또한, 상기 웨이퍼 이송 로봇은 상기 트랜스퍼 챔버를 개방시키도록 형성된 포트를 통해 상기 트랜스퍼 챔버의 내부에서 상기 웨이퍼가 이송되는 것을 외부의 작업자에게 보여질 수 있다.
반면, 상기 공정 챔버 또는 로드락 챔버는 해당 웨이퍼의 반도체 공정을 수행토록 하거나, 상기 웨이퍼가 탑재되는 웨이퍼 카세트가 위치되어야만 하기 때문에 상기 공정 챔버 또는 로드락 챔버의 내부를 개방시키기 위한 포트의 공간적인 제약을 받는다. 예컨대, 상기 공정 챔버의 경우, 상기 웨이퍼의 식각 공정 또는 증착 공정 시 반응가스가 상기 웨이퍼의 상단에서 분사되어야만 하기 때문에 상기 웨이퍼의 상단을 외부로 개방시킬 수 없다. 또한, 상기 공정 챔버는 상기 웨이퍼 이송 로봇의 상기 웨이퍼의 로딩 또는 언로딩 설정 시 상기 공정 챔버의 내부가 대기중에 노출된 후, 상기 공정 챔버의 상단이 개방되어야 한다. 또한, 상기 웨이퍼 이송 로봇은 작업자의 육안으로 상기 공정 챔버의 척 중심에 상기 블레이드 상의 웨이퍼의 중심이 대응되게 위치되도록 설정되어야만 한다.
하지만, 일반적인 반도체 제조설비는 다음과 같은 문제점이 있었다.
반도체 제조설비는 웨이퍼 언로딩 불량을 확인하거나, 상기 웨이퍼 언로딩 위치를 검출하기 위해 상기 공정 챔버에서의 해당 반도체 제조공정을 종료시키고 상기 공정 챔버의 내부를 대기중에 노출시킨 후 개방시켜야 하고, 로봇 암의 언로 딩 위치를 보정한 후 다시 상기 공정 챔버를 진공상태로 만들기 위한 장시간이 소요되어 공정차질이 발생될 수 있기 때문에 생산성이 떨어지는 단점이 있었다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은, 상기 공정 챔버를 대기중에 노출시키지 않고 웨이퍼 언로딩 불량을 확인하거나, 상기 웨이퍼 언로딩 위치를 검출하도록 하여 생산성을 증대 또는 극대화할 수 있는 반도체 제조설비의 웨이퍼 언로딩 위치 검출시스템을 제공하는 데 있다.
상기한 기술적 과제들의 일부를 달성하기 위한 본 발명의 양상(aspect)에 따른 반도체 제조설비의 웨이퍼 언로딩 위치 검출시스템은, 웨이퍼를 지지하도록 평탄하게 형성된 척; 상기 웨이퍼를 상기 척의 설정된 위치에 이송시키는 로봇 암; 상기 로봇암에 탑재되는 웨이퍼와 동일 또는 유사한 반경을 갖고 소정의 두께를 갖도록 형성된 테스트 몸체; 상기 테스트 몸체의 가장자리에 형성되어 상기 테스트 몸체가 상기 로봇 암에 의해 상기 척 상으로 위치될 경우, 상기 척의 설정된 위치로부터의 거리를 감지하는 복수개의 센서; 및 상기 복수개의 센서에서 출력되는 감지신호를 이용하여 상기 로봇 암이 웨이퍼를 언로딩시키는 위치를 판단하고 상기 웨이퍼가 언로된 위치에서 상기 척의 설정된 위치까지의 정보를 나타내도록 제어신호를 출력하는 제어부를 포함함을 특징으로 한다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 반도체 제조설비의 웨이퍼 언로딩 위치 검출시스템을 설명하면 다음과 같다. 본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예로 인해 한정되어 지는 것으로 해석되어져서는 안된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되어지는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어진 것이다.
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 반도체 제조설비를 나타낸 평면도이고, 도 2 및 도 3은 도 1의 웨이퍼 이송 로봇을 나타낸 사시도 및 단면도이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 반도체 제조설비는, 다수개의 웨이퍼(10)가 탑재되는 웨이퍼 카세트(12)가 로딩되는 로드락 챔버(50)와, 상기 로드락 챔버(50) 내부에 로딩되는 상기 웨이퍼 카세트(12) 내의 상기 웨이퍼(10)의 반도체 제조공정이 수행되는 복수개의 공정 챔버(20)와, 상기 공정 챔버(20) 및 상기 로드락 챔버(50)와 공통으로 연결되며 상기 공정 챔버(20) 및 상기 로드락 챔버(50)간에 진공 상태를 버퍼링하도록 형성된 트랜스퍼 챔버(40)와, 상기 트랜스퍼 챔버(40)의 내부에 형성되며, 상기 공정 챔버(20) 및 로드락 챔버(50) 간에 상기 웨이퍼(10)를 전송토록 형성된 웨이퍼 이송 로봇(42)을 포함하여 구성된다. 또한, 상기 공정 챔버(20)에 이송되는 웨이퍼(10)를 정렬하는 정렬 챔버(30)를 더 포함하여 구성된다.
여기서, 상기 트랜스퍼 챔버(40)는 상기 공정 챔버(20)와 상기 로드락 챔 버(50)간에 진공 상태를 버퍼링하기 위해 상기 공정 챔버(20) 및 상기 로드락 챔버(50)사이에서 개폐동작되는 슬릿 밸브(52)와, 상기 웨이퍼 이송 로봇(42)에 의한 상기 웨이퍼(10)의 전송 상태를 외부의 작업자에게 보여질 수 있도록 상기 웨이퍼 이송 로봇(42)의 상부를 개방시키면서 내부의 진공도를 유지시키기 위해 투명재질의 플레이트로 밀폐되는 포트를 포함하여 이루어진다.
반면, 상기 로드락 챔버(50)는 상기 웨이퍼 이송 로봇(42)에 의해 상기 웨이퍼 카세트(12) 내의 슬롯에서 상기 웨이퍼(10)가 수평으로 취출되거나 삽입되도록 형성되어 있기 때문에 외부에서 상기 웨이퍼 이송 로봇(42)의 동작을 정밀하게 관찰될 수 없다.
또한, 상기 공정 챔버(20)는 상기 웨이퍼 이송 로봇(42)에 의해 상기 웨이퍼(10)가 로딩되거나 언로딩되어 반도체 제조공정이 수행된다. 예컨대, 상기 공정 챔버(20)는 식각 공정이 이루어질 경우, 상기 웨이퍼(10)의 과열을 방지하기 위해 상기 웨이퍼(10)를 냉각시키는 냉매가 상기 웨이퍼(10)의 후면으로 유동되어야함으로 상기 웨이퍼(10)를 흡착 고정하는 척(도 4의 22)이 필수적으로 요구된다. 상기 척(22)은 상기 웨이퍼 이송 로봇(42)에 의해 전송되는 상기 웨이퍼(10)가 정확한 위치에 언로딩되어야만 상기 웨이퍼(10)를 고정시킬 수 있고, 상기 식각 공정 중에 상기 웨이퍼(10)의 후면으로 유동되는 상기 냉매가 누설되는 것을 방지토록 할 수 있다.
따라서, 상기 웨이퍼 이송 로봇(42)은 상기 공정 챔버(20) 및 로드락 챔버(50)간에 상기 웨이퍼(10)를 전송할 뿐만 아니라, 상기 공정 챔버(20)의 척(22) 과 상기 로드락 챔버(50)의 웨이퍼 카세트(12)에 상기 웨이퍼(10)를 정확하게 언로딩시켜야만 한다.
도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 웨이퍼 이송 로봇(42)은 상기 웨이퍼(10)를 지지하는 블레이드(110)와, 상기 블레이드(110)의 일측에 연결되어 서로 접하거나 멀어지면서 상기 블레이드(110)를 수평으로 전진 또는 후진시키는 복수개의 로봇 암(120)과, 상기 블레이드(110)가 연결된 상기 복수개의 로봇 암(120)의 타단 양측에 각각 연결되고 동일 중심 축을 갖는 복수개의 링(142)에 각각 연결되어 상기 복수개의 링(142)이 서로 반대방향으로 회전될 경우 상기 블레이드(110)를 수평으로 전진 또는 후진시키고, 서로 동일한 방향으로 회전될 경우 상기 중심축을 기준으로 상기 블레이드(110) 및 로봇 암(120)을 회전시키도록 형성된 복수개의 윙(130)과, 상기 복수개의 윙(130)에 연결된 상기 링(142)을 회전시키는 모터와 같은 회전 수단(148)과 상기 복수개의 링(142)이 독립적으로 회전되면서 지지되는 복수개의 베어링(144)을 구비한 몸체(140)를 포함하여 이루어진다.
여기서, 상기 블레이드(110)는 상기 웨이퍼(10)의 하단으로 삽입되어 상기 웨이퍼(10)를 지지하는 플레이트(plate)와, 적어도 하나 이상의 볼트와 같은 결합수단에 의해 상기 로봇 암(120)에 연결되는 피봇 암(pivot arm)과, 상기 피봇 암이 상기 플레이트에 연결되어 자유로이 회전될 수 있도록 상기 플레이트의 일측에 설치된 피봇 베어링(도시하지 않음)을 포함하는 어셈블리(assembly)로 이루어진다. 상기 블레이드(110)는 상기 웨이퍼(10)의 중심이 상기 블레이드(110)의 중심에 위치되도록 형성되어 있으며, 상기 블레이드(110)의 중심에 홀(150)이 형성되어 있 다. 또한, 상기 블레이드(110)는 이동간에 상기 웨이퍼(10)가 슬라이딩되지 않도록 소정 단차를 갖고 상기 웨이퍼(10)의 외주면을 감싸는 턱(도시하지 않음)이 형성되어 있다.
상기 복수개의 로봇 암(120)은 일측이 각각 상기 결합 수단에 의해 상기 블레이드(110)의 피봇 암에 연결되고, 타측이 상기 복수개의 윙(130) 말단에 각각 상기 피봇 베어링에 의해 연결된다. 이때, 상기 복수개의 로봇 암(120)은 상기 윙(130)이 서로 반대 방향으로 회전되면 상기 블레이드(110)를 전진 또는 후진시킬 수 있다.
예컨대, 상기 복수개의 윙(130)이 서로 평행하게 위치된 상태에서 상기 블레이드(110)를 초기 상태라고 할 경우, 상기 복수개의 윙(130) 및 링(142)이 상기 블레이드(110) 방향으로 동시에 회전되면 상기 블레이드(110)가 초기 상태보다 앞으로 전진한다. 또한, 상기 블레이드(110)가 초기 상태보다 전진한 상태에서 상기 복수개의 윙(130) 및 링(142)이 상기 블레이드(110)에 반대방향으로 동시에 회전되면 상기 블레이드(110)가 후진한다.
반면, 상기 복수개의 윙(130)이 평행 상태를 지나도록 회전되면 상기 로봇 암(120)이 접쳐지면서 상기 블레이드(110)를 전진시키는 듯 하지만, 상기 복수개의 윙(130)이 상기 복수개의 로봇 암(120)을 후진시키기 때문에 상기 블레이드(110)는 제자리에 위치된다.
그리고, 상기 복수개의 윙(130)은 상기 몸체(140)에서 상하로 형성된 복수개의 링(142)에 각각 나누어 결합되어 있다. 이때, 상기 복수개의 윙(130)은 상기 로 봇 암(120)과 결합되는 부분이 동일 또는 유사한 높이를 갖도록 수평상태이고, 상기 상하의 복수개의 링(142)에 의해 발생되는 단차를 극복하기 위해 둘 중에서 하나가 아래로 구부려지도록 형성되어 있다.
예컨대, 상기 복수개의 윙(130) 중에서 상부 링(142a)에 결합되는 제 1 윙(130a)이라 하고, 하부 링(142b)에 결합되어 구부려지도록 형성된 제 2 윙(130b)이라 칭하면, 상기 몸체(140)는 상기 상부 링(142a)을 회전시키기 위한 제 1 샤프트(146a)를 중심에 두고, 상기 하부 링(142b)을 회전시키기 위해 상기 제 1 샤프트(146a)의 외곽을 둘러싸는 제 2 샤프트(146b)를 구비한다. 도시되지는 않았지만, 상기 제 1 샤프트(146a)와 상기 상부 링(142a) 및 상기 제 2 샤프트(146b)와 상기 하부 링(142b)이 각각 직접 연결될 경우 무리한 동력이 상기 윙(130) 및 블레이드(110)에 전달될 수 있기 때문에 상기 제 1 샤프트(146a) 및 제 2 샤프트(146b)의 회전을 상기 복수개의 베어링(144)이 인접하는 부분에서 자기(magnet)적으로 상기 상부 링(142a) 및 하부 링(142b)을 회전시킨다.
즉, 상기 제 1 샤프트(146a) 및 제 2 샤프트(146b)에 형성된 소정의 원판(145) 외주면에 소정 간격으로 영구 자석을 형성하고, 상기 원판(145)의 외주면에 대응하여 회전되는 상기 상부 링(142a) 및 하부 링(142b)의 내면에 영구 자석을 형성하여 상기 제 1 샤프트(146a) 및 제 2 샤프트(146b)가 회전하면 상기 상부 링(142a) 및 하부 링(142b)이 영구 자석의 자기력(magnetic force)에 의해 회전된다. 물론, 상기 영구 자석의 자기장(magnetic field)은 상기 상부 링(142a) 및 하부 링(142b)이 회전하는 방향으로 형성되어야 한다.
한편, 상기 웨이퍼 이송 로봇(42)이 장시간 사용될 경우, 각종 부품의 유격 및 진동에 의해 정확한 위치에 웨이퍼(10)를 언로딩할 수 없게 되어 웨이퍼(10) 이송불량이 발생될 수 있다. 예컨대, 상기 로봇 암(120)을 수축 또는 팽창시키기 위해 상기 윙(130)이 회전되면서 상기 베어링(144)의 진동이 발생되고, 상기 진동으로부터 상기 윙(130)의 회전비가 틀어지거나 상기 로봇 암(120)의 수축 또는 팽창 정도가 달라지기 때문에 상기 공정 챔버(20) 내부의 상기 척(22) 상에서 상기 웨이퍼(10)의 언로딩 위치가 틀어져 공정 불량을 야기시킬 수 있다.
실제, 반도체 제조공정에서 이와 같은 상기 웨이퍼 이송 로봇(42)에 의한 상기 웨이퍼(10) 이송 불량을 찾아내기가 매우 어려우며, 상기 웨이퍼(10) 이송불량이 발생되더라도 상기 공정 챔버(20)의 공정 중간에 상기 웨이퍼 이송 로봇(42)의 정확한 언로딩 위치를 보정하기가 난이하다. 또한, 상기 공정 챔버(20)에서의 반도체 제조공정을 중단할 경우 생산성 측면에서 많은 손실을 야기시킬 수 있다.
따라서, 웨이퍼(10)와 유사한 모양을 갖고 상기 웨이퍼 이송 로봇(42)의 언로딩 위치를 정확하게 나타내는 웨이퍼(10) 언로딩 위치 검출시스템이 요구된다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 웨이퍼(10) 언로딩 위치 검출 시스템을 개략적으로 나타낸 평면도이다.
도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 반도체 제조설비의 웨이퍼(10) 언로딩 위치 검출시스템은, 웨이퍼(10)를 지지하도록 평탄하게 형성된 척(22)과, 상기 웨이퍼(10)를 상기 척(22)의 설정된 위치에 이송시키는 웨이퍼 이송 로봇(42)과, 상기 웨이퍼 이송 로봇(42)에 탑재되는 웨이퍼(10)와 동일 또는 유사한 반경을 갖고 소정의 두께를 갖도록 형성된 테스트 몸체(160)와, 상기 테스트 몸체(160)의 가장자리에 형성되어 상기 테스트 몸체(160)가 상기 웨이퍼 이송 로봇(42)에 의해 상기 척(22) 상으로 위치될 경우, 상기 척(22)의 설정된 위치로부터의 거리를 감지하는 복수개의 센서(170)를 포함하여 이루어진다.
도시되지는 않았지만, 상기 복수개의 센서(170)에서 출력되는 감지신호를 이용하여 상기 웨이퍼 이송 로봇(42)이 웨이퍼(10)를 언로딩시키는 위치를 판단하고 상기 웨이퍼(10)가 언로된 위치에서 상기 척(22)의 설정된 위치까지의 정보를 나타내도록 제어신호를 출력하는 제어부를 더 포함하여 구성된다.
여기서, 상기 테스트 몸체(160)는 상기 웨이퍼(10)와 동일 또는 유사한 모양으로 형성되고, 상기 웨이퍼 이송 로봇(42)의 블레이드(110)에 탑재되도록 형성된다. 예컨대, 상기 테스트 몸체(160)는 상기 웨이퍼(10)와 동일한 반경을 갖는 원형으로 형성되고, 상기 블레이드(110)에 형성된 홀(150)의 내부에 체결될 수 있도록 하방으로 소정의 단차를 갖고 돌출되는 돌출부(162)와, 상기 웨이퍼(10)가 지지되는 상기 척(22)의 가장자리에 대응되는 위치에 상기 센서(170)를 탑재시키기 위해 원형의 외곽으로 돌출되도록 형성된 복수개의 귀퉁이(174)를 포함하여 이루어진다.
또한, 상기 복수개의 센서(170)는 상기 테스트 몸체(160)의 중심이 상기 척(22)의 중심에 대응되는 위치로부터 벗어나는 정도를 감지할 수 있다. 예컨대, 상기 복수개의 센서(170)는 상기 척(22)의 외주면의 이미지를 촬상하는 카메라를 포함하여 이루어지며, 상기 공정 챔버(20) 내부에서 상기 카메라의 촬상을 보조하기 위해 소정의 가시광을 조사하는 플래시(174)를 더 포함하여 이루어진다. 도시되 지는 않았지만, 상기 복수개의 센서(170)는 상기 척(22)의 하부에서 제공되는 소정세기의 자기장을 감지하는 자기 센서(170)를 포함하여 이루어진다. 먼저, 상기 복수개의 카메라가 상기 척(22)의 외주면 이미지를 촬상하여 상기 제어부에 출력하면, 상기 제어부는 상기 척(22)의 외주면 이미지를 이용하여 상기 테스트 몸체(160)의 중심 위치를 계산하고, 상기 테스트 몸체(160)의 중심 위치가 상기 척(22)의 중심에서 벗어난 정도를 판단하고, 상기 테스트 몸체(160)의 중심이 상기 척(22)의 중심으로 이동되도록 제어신호를 출력할 수 있다. 반면, 복수개의 자기 센서(170)가 상기 척(22)의 중심으로 인가되는 상기 자기장의 세기를 감지하여 상기 제어부로 출력하면, 상기 제어부는 상기 자기장의 세기 감지신호를 이용하여 상기 테스트 몸체(160)의 중심 위치가 상기 척(22)의 중심에서 벗어난 정도를 판단하고, 상기 테스트 몸체(160)의 중심이 상기 척(22)의 중심으로 이동되도록 제어신호를 출력할 수도 있다. 이때, 상기 제어부에서 출력되는 제어신호에 의해 상기 테스트 몸체(160)의 중심 위치가 상기 척(22)의 중심에서 벗어나는 정도를 표시하는 표시부가 상기 센서(170)가 설치되는 반대방향의 상기 테스트 몸체(160)에 형성될 수도 있다.
따라서, 본 발명에 따른 반도체 제조설비의 웨이퍼(10) 언로딩 위치 검출시스템은 웨이퍼(10)와 동일 또는 유사한 모양과 반경을 갖도록 형성된 테스트 몸체(160)와, 상기 테스트 몸체(160)의 가장자리에서 설정된 위치를 감지하도록 형성된 센서(170)와, 상기 센서(170)에서 출력되는 감지 신호를 이용하여 상기 테스트 몸체(160)의 중심 위치가 설정된 위치에서 벗어나는 정도를 판단하도록 형성된 제 어부를 구비하여 공정 챔버(20)를 대기중에 노출시키지 않고 웨이퍼(10) 언로딩 불량을 확인하거나, 상기 웨이퍼(10) 언로딩 위치를 검출하도록 할 수 있기 때문에 생산성을 증대 또는 극대화할 수 있다.
또한, 상기한 실시예의 설명은 본 발명의 더욱 철저한 이해를 제공하기 위하여 도면을 참조로 예를 든 것에 불과하므로, 본 발명을 한정하는 의미로 해석되어서는 안될 것이다. 그리고, 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 본 발명의 기본적 원리를 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화와 변경이 가능함은 물론이다.
이상에서 상술한 바와 같이 본 발명에 의하면, 웨이퍼와 동일 또는 유사한 모양과 반경을 갖도록 형성된 테스트 몸체와, 상기 테스트 몸체의 가장자리에서 설정된 위치를 감지하도록 형성된 센서와, 상기 센서에서 출력되는 감지 신호를 이용하여 상기 테스트 몸체의 중심 위치가 설정된 위치에서 벗어나는 정도를 판단하도록 형성된 제어부를 구비하여 공정 챔버를 대기중에 노출시키지 않고 웨이퍼 언로딩 불량을 확인하거나, 상기 웨이퍼 언로딩 위치를 검출하도록 할 수 있기 때문에 생산성을 증대 또는 극대화할 수 있는 효과가 있다.

Claims (5)

  1. 웨이퍼를 지지하도록 평탄하게 형성된 척;
    상기 웨이퍼를 상기 척의 설정된 위치에 이송시키는 로봇 암;
    상기 로봇암에 탑재되는 웨이퍼와 동일 또는 유사한 반경을 갖고 소정의 두께를 갖도록 형성된 테스트 몸체;
    상기 테스트 몸체의 가장자리에 형성되어 상기 테스트 몸체가 상기 로봇 암에 의해 상기 척 상으로 위치될 경우, 상기 척의 설정된 위치로부터의 거리를 감지하는 복수개의 센서; 및
    상기 복수개의 센서에서 출력되는 감지신호를 이용하여 상기 로봇 암이 웨이퍼를 언로딩시키는 위치를 판단하고 상기 웨이퍼가 언로된 위치에서 상기 척의 설정된 위치까지의 정보를 나타내도록 제어신호를 출력하는 제어부를 포함함을 특징으로 하는 반도체 제조설비의 웨이퍼 언로딩 위치 검출시스템.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 테스트 몸체는, 상기 로봇 암의 블레이드 중심에 형성된 홀의 내부에 체결될 수 있도록 하방으로 소정의 단차를 갖고 돌출되는 돌출부와, 상기 웨이퍼가 지지되는 상기 척의 가장자리에 대응되는 위치에 상기 센서를 탑재시키기 위해 원형의 외곽으로 돌출되도록 형성된 복수개의 귀퉁이를 포함함을 특징으로 하는 반도 체 제조설비의 웨이퍼 언로딩 위치 검출시스템.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 복수개의 센서는 상기 척의 외주면의 이미지를 촬상하는 카메라를 포함함을 특징으로 하는 반도체 제조설비의 웨이퍼 언로딩 위치 검출시스템.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 복수개의 센서는 상기 척의 하부에서 제공되는 소정세기의 자기장을 감지하는 자기 센서를 포함함을 특징으로 하는 반도체 제조설비의 웨이퍼 언로딩 위치 검출시스템.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 센서가 설치되는 반대방향의 상기 테스트 몸체에 형성되고, 상기 제어부에서 출력되는 제어신호에 의해 상기 테스트 몸체의 중심 위치가 상기 척의 중심에서 벗어나는 정도를 표시하는 표시부를 더 포함함을 특징으로 하는 반도체 제조설비의 웨이퍼 언로딩 위치 검출시스템.
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