KR20070111717A - 전도성 라인을 포함하는 평판 표시 장치 모기판 및 이의제조방법 - Google Patents

전도성 라인을 포함하는 평판 표시 장치 모기판 및 이의제조방법 Download PDF

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KR20070111717A
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문현율
김진활
김태희
백형렬
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삼성전자주식회사
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Abstract

투명 기판의 크랙 불량이나 깨짐 불량을 용이하게 검출할 수 있는 전도성 라인을 포함하는 평판 표시 장치 모기판 및 이의 제조방법이 제공된다. 평판 표시 장치 모기판은 투명 기판과, 투명 기판의 외주면 전체를 따라 형성되고, 서로 인접하여 이격된 양단을 가지는 전도성 라인을 포함한다.
평판 표시 장치 모기판, 크랙, 깨짐, 전도성 라인

Description

전도성 라인을 포함하는 평판 표시 장치 모기판 및 이의 제조방법{Mother Substrate of flat panel display comprising conductive line and method of producing the same}
도 1a는 본 발명의 제1 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판의 정면도이다.
도 1b는 도 1a의 Ib-Ib′선을 따라 자른 단면도이다.
도 2는 크랙 불량이 없는 본 발명의 제1 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판에 대해 통전 여부를 측정한 개략도이다.
도 3은 크랙 불량이 있는 본 발명의 제1 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판에 대해 통전 여부를 측정한 개략도이다.
도 4a는 본 발명의 제2 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판의 정면도이다.
도 4b는 도 4a의 IVb-IVb′선을 따라 자른 단면도이다.
도 5는 본 발명의 제3 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판의 정면도이다.
도 6a는 도 5의 A 부분을 확대한 본 발명의 제3 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판의 부분 확대도이다.
도 6b는 도 6a의 VIb-VIb′선을 따라 자른 단면도이다.
도 7은 본 발명의 제1 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판의 제조방법을 나타낸 개략도이다.
도 8a 내지 도 8f는 본 발명의 제2 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판의 제조방법을 나타낸 단면도이다.
(도면의 주요부분에 대한 부호의 설명)
100: 평판 표시 장치 모기판 110: 투명 기판
210: 전도성 라인 221, 222: 전도성 패드
231: 게이트 전극 232: 게이트 라인
본 발명은 전도성 라인을 포함하는 평판 표시 장치 모기판 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 크랙 불량이나 깨짐 불량을 용이하게 검출할 수 있는 전도성 라인을 포함하는 평판 표시 장치 모기판 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
현대 사회가 고도로 정보화 되어감에 따라 표시 장치는 대형화 및 박형화에 대한 시장의 요구에 직면하고 있으며, 종래의 CRT 장치로는 이러한 요구를 충분히 만족시키지 못함에 따라 PDP(Plasma Display Panel) 장치, PALC(Plasma Address Liquid Crystal display panel) 장치, LCD(Liquid Crystal Display) 장치, OLED(Organic Light Emitting Diode) 장치 등으로 대표되는 평판 표시 장치가 차세대 표시 장치로서 활발하게 연구되고 있다. 이들 평판 표시 장치는 전극 등을 형성하고, 광을 투과시킬 수 있는 투명 기판을 포함한다.
투명 기판으로서 깨지기 쉬운 유리 기판 등이 이용되는 경우, 투명 기판 위에 전극 등 다양한 층을 형성하기 위해 투명 기판을 이동시키는 과정에서 투명 기판에 크랙 불량이나 깨짐 불량이 발생할 우려가 있다.
투명 기판에 크랙 불량이나 깨짐 불량이 발생하는 경우 후속 공정을 수행하지 못하여, 평판 표시 장치의 제조 공정이 중단되며, 이러한 불량을 조기에 발견하지 못하고, 일련의 공정을 수행한 후에 발견하게 되면 시간 및 비용면에서 큰 손실을 가져올 수 있다.
그러나, 투명 기판에 발생하는 크랙 불량이나 깨짐 불량은 기판이 투명하여 검출하기 어렵다. 종래에는 광 센서를 이용하거나, 내선 CCD 주사(In line Charge Coupled Device Scanning)방법으로 이러한 불량을 검출하여 왔으나, 광 센서를 이용하는 방법은 투명 기판에 미세한 균열이 발생한 경우에는 이를 감지하기 어렵거나, 투명 기판을 이동시키는 중에는 감도를 맞추기 어려울 수 있고, 내선 CCD 주사 방법은 투명 기판의 크랙 불량 등을 검출하기 보다는 파티클 등의 결함을 검출하기 위한 것이며, 측정 장치가 복잡하고, 고비용일 수 있다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 크랙 불량 및 깨짐 불량을 용이하게 검출할 수 있는 평판 표시 장치 모기판을 제공하고자 하는 것이다.
본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는, 이러한 평판 표시 장치 모기판의 제조방법을 제공하고자 하는 것이다.
본 발명의 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으 며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 제1 실시예에 따른 평판 표시 장치 모기판은, 투명 기판과, 상기 투명 기판의 외주면 전체를 따라 형성되고, 서로 인접하여 이격된 양단을 가지는 전도성 라인을 포함한다.
또한, 상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 제1 실시예에 따른 평판 표시 장치 모기판의 제조방법은, 투명 기판을 제공하고, 상기 투명 기판의 외주면 전체를 따라, 서로 인접하여 이격된 양단을 가지도록 전도성 라인을 형성하는 것을 포함한다.
기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명한다. 본 발 명의 실시예들에 따른 평판 표시 장치 모기판은 평판 표시 장치에 사용될 수 있으며, 예를 들어 PDP 패널 어셈블리용 베이스 기판, PDP 필터용 지지 기판, LCD 장치의 TFT(Thin film Transistor) 기판 및 컬러필터 기판 등에 사용될 수 있다. 본 발명의 실시예들에 따른 평판 표시 장치 모기판이 사용되는 평판 표시 장치의 종류가 특히 제한되는 것은 아니나 편의상 LCD 장치에 사용되는 평판 표시 장치 모기판을 예로 들어 설명하도록 한다.
도 1a 및 도 1b를 참조하여 본 발명의 제1 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판에 대하여 상세히 설명한다. 도 1a는 본 발명의 제1 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판의 정면도이다. 도 1b는 도 1a의 Ib-Ib′선을 따라 자른 단면도이다.
본 발명의 제1 실시예에 따른 평판 표시 장치 모기판(100)은 도 1a 및 도 1b에 나타낸 바와 같이 투명 기판(110)과 투명 기판(110)의 외주면 전체를 따라 형성된 전도성 라인(210)을 포함한다.
먼저, 도 1a 및 도 1b를 참조하여 투명 기판(110) 및 전도성 라인(210)에 대하여 좀 더 상세히 설명한다.
투명 기판(110)은 LCD 장치를 구성하는 전극, 절연층 등을 지지한다.
투명 기판(110)은 LCD 장치의 휘도를 과도하게 감소시키지 않도록 투명한 재질로 이루어진다. 예를 들면, 이하에 한정되는 것은 아니지만, 투명도가 좋은 유리 기판, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PolyEthylene Terephthalate; PET), 폴리 카보네이트(PolyCarbonate; PC), 아크릴 수지가 사용될 수 있다.
이러한 투명 기판(110)은 하나의 투명 기판(110)에서 복수의 LCD 장치가 제 조될 수 있도록 넓은 평판 형상으로 제공될 수 있다. 투명 기판(110)은 면적이 넓어 이동 중 크랙 불량이나 깨짐 불량이 발생하기 쉬우며, 특히 이들 투명 기판(110) 위에 LCD 장치를 구성하는 다양한 소자들을 형성하는 공정 중에 크랙 불량이나 깨짐 불량이 발생하여 전체 공정을 중단시킬 수 있다.
전도성 라인(210)은 투명 기판(110) 위에 형성되어 투명 기판(110)에 크랙 불량이나 깨짐 불량이 발생한 경우, 전류계에 전류가 흐르지 않아 이러한 불량을 용이하게 검출할 수 있도록 한다.
전도성 라인(210)은 투명 기판(110)의 외주면 전체를 따라 형성되고, 이격된 양단을 가질 수 있다. 이 경우 상술한 양단은 서로 인접하여 이격되는데, 이격 거리(l)는 예컨대, 5 ~ 10 mm일 수 있다. 여기서 '인접하여 이격'의 의미는 프로브를 상술한 양단에 접촉시키는 경우 통전 여부를 확인할 수 있도록, 상술한 양단이 이격 거리(l)만큼 떨어져 있다는 의미이며, 전도성 라인(210)에 단선 부분이 존재한다는 것은 아니다. 상술한 크랙 불량이나 깨짐 불량은 투명 기판(110)의 외주면의 외곽부에서 발생하는 경우가 많으며, 전도성 라인(210)을 이러한 위치로 배치함으로써 육안으로는 검출하기 어려운 크랙 불량 또는 깨짐 불량을 용이하게 검출할 수 있다.
또한, 전도성 라인(210)은 투명 기판(110)의 외주면의 최외곽으로부터 1 ~ 5 mm 이격되어 형성될 수 있다. 전도성 라인(210)이 외주면의 최외곽으로부터 이격되어 배치됨으로써, 투명 기판(110)의 이동 중 전도성 라인(210)이 손상되지 않아 투명 기판(110)의 크랙 불량이나 깨짐 불량 여부를 용이하게 검출할 수 있다.
전도성 라인(210)의 폭은 특히 제한되지 않으며, 공정 오차를 확보하기 위해 좁은 폭을 가질 수 있다. 또한, 전도성 라인(210)의 두께도 특히 제한되지 않으며, 후속 공정에의 영향 및 비용을 고려하여 이 또한 가능한 한 얇은 것일 수 있다.
전도성 라인(210)은 게이트 전극, 소스 전극 및 드레인 전극을 형성할 때 사용되는 설비 및 공정과 동일한 설비 및 공정을 사용하여 형성될 수 있다. 전도성 라인(210)은 투명 기판(110) 위에 전도성 라인(210)을 구성하는 물질을 스퍼터링한 후, 포토레지스트를 도포하고, 마스크를 통해 상기 포토레지스트를 노광 및 현상하며, 스퍼터링된 물질을 식각함으로써 형성할 수 있다.
한편, 전도성 라인(210)은 페이스트 상의 전도성 혼합물을 투명 기판(110) 위에 도포하여 형성될 수도 있다. 페이스트 상의 전도성 혼합물은 금속 또는 금속 산화물과 같은 전도성 물질을 바인더 수지에 분산시켜 제조할 수 있다.
이러한 페이스트 상의 전도성 혼합물은, 예를 들어 스크린 인쇄법 등에 의해 투명 기판(110) 위에 형성될 수 있다.
이러한 전도성 라인(210)을 구성하는 물질은 LCD 장치의 전극 물질과 동일한 물질일 수 있다. 즉, 전도성 라인(210)은 LCD 장치의 전극에 사용되는 금속 또는 금속 산화물, 예를 들어 Cr, Al, Ta, Mo, Mo-W, Al-Nd, Ti-Al, ITO, IZO, ZnO-Al, In2O3 등의 물질로 형성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상술한 본 발명의 제1 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판(100)은 투명 기판(110)에 크랙 불량이나 깨짐 불량이 발생한 경우 전도성 라인(210)에 전류가 흐 르지 않아, 이러한 불량을 용이하게 검출할 수 있다.
이하, 도 2 및 도 3을 들어 본 발명의 제1 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판(100)의 크랙 불량 및 깨짐 불량 여부를 검출한 결과를 설명한다. 도 2는 크랙 불량이 없는 본 발명의 제1 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판에 대해 통전 여부를 측정한 개략도이다. 도 3은 크랙 불량이 있는 본 발명의 제1 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판에 대해 통전 여부를 측정한 개략도이다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 검류계(1200)는 지시 바늘(1230)이 구비된 본체(1240), 프로브(1211, 1212) 및 프로브(1211, 1212)에서 검출된 전류가 본체(1240)로 통하도록 하는 도선(1221, 1222)을 포함한다.
도 2에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판(100)에 크랙 불량 및 깨짐 불량이 없는 경우, 전도성 라인(210) 전체에서 단선 부분이 존재하지 않아 전도성 라인(210)에 전압 인가시 전류가 원활하게 흐르게 된다. 전류가 유입되면, 전도성 라인(210)에 접촉되는 프로브(1211, 1212)를 통해 검류계(1200)의 지시 바늘(1230)이 이동하여 전류의 세기를 표시한다. 상술한 바와 같이 전류가 검출되는 경우 평판 표시 장치 모기판(100)은 크랙 불량 및 깨짐 불량이 없는 양호한 상태임을 확인할 수 있다.
반면, 도 3에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판(100)에 크랙 불량(120) 또는 깨짐 불량(미도시)이 있는 경우, 전도성 라인(210)에 단선 부분이 존재하여 전도성 라인(210)에 전압 인가시 전류가 흐르지 않고, 이에 따라 검류계(1200)의 지시 바늘(1230)도 이동하지 않는다. 상술한 바와 같이 전류가 검출되지 않는 경우 평판 표시 장치 모기판(100)은 크랙 불량 또는 깨짐 불량이 있는 불량한 기판임을 신속히 확인할 수 있다.
검류계(1200)를 이용하여, 후술하는 실시예들에서도 전도성 라인(210)의 통전 여부를 확인할 수 있으며, 이에 따라, LCD 장치의 후속 공정에서도 평판 표시 장치 모기판(100)에 크랙 불량 또는 깨짐 불량이 발생했는지 여부를 확인할 수 있다.
이하, 도 4a 및 도 4b를 참조하여, 본 발명의 제2 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판에 대해 상세히 설명한다. 도 4a는 본 발명의 제2 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판의 정면도이다. 도 4b는 도 4a의 IVb-IVb′선을 따라 자른 단면도이다. 설명의 편의상, 상기 제1 실시예의 도면에 나타낸 각 부재와 동일 기능을 갖는 부재는 동일 부호로 나타내고, 따라서 그 설명은 생략한다. 본 실시예의 평판 표시 장치 모기판(101)은, 도 4a 및 도 4b에 나타낸 바와 같이, 제1 실시예의 평판 표시 장치 모기판(100)과 다음을 제외하고는 기본적으로 동일한 구조를 갖는다. 즉, 도 4a 및 도 4b에 도시된 바와 같이, 본 실시예의 평판 표시 장치 모기판(101)은 전도성 패드(221, 222)를 더 포함한다.
전도성 패드(221, 222)는 전술한 검류계의 프로브와 넓은 접촉면을 가지도록 전도성 라인(210)의 양단으로부터 확장되어 형성될 수 있다. 전도성 패드(221, 222)는 전도성 라인(210) 보다 넓은 면적으로 형성되어, 통전시 전류 검출이 용이하도록 한다.
이러한 각각의 전도성 패드(221, 222)는 전도성 라인(210)과 마찬가지로 서 로 인접하여 이격되도록 형성되어, 유리 기판(110)에 크랙 불량 유무에 따라 통전 여부를 용이하게 검출할 수 있다. 이 경우, 이격 거리(l)는, 예컨대 5 ~ 10 mm일 수 있다.
전도성 패드(221, 222)은 전도성 라인(210)과 동일한 재료, 즉 금속 또는 금속 산화물로 이루어질 수 있다. 전도성 패드(221, 222)가 전도성 라인(210)과 동일한 재료로 형성됨으로써, 저항 발생이 감소되어 통전을 원활하게 할 수 있다.
상술한 본 발명의 제2 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판(101)은 전도성 패드(221, 222)를 더 포함하여 검출기의 프로브와 전도성 패드(221, 222)가 넓은 접촉면을 가짐으로써 투명 기판(110)에 발생하는 크랙 불량 및 깨짐 불량을 용이하게 검출할 수 있다.
이하, 도 5 내지 도 6b를 참조하여, 본 발명의 제3 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판에 대해 상세히 설명한다. 도 5는 본 발명의 제3 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판의 정면도이다. 도 6a는 도 5의 A 부분을 확대한 본 발명의 제3 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판의 부분 확대도다. 도 6b는 도 6a의 VIb-VIb'선을 따라 자른 단면도이다. 설명의 편의상, 이전 실시예들의 도면에 나타낸 각 부재와 동일 기능을 갖는 부재는 동일 부호로 나타내고, 따라서 그 설명은 생략한다. 본 실시예의 평판 표시 장치 모기판(102)은, 도 5 내지 도 6b에 나타낸 바와 같이, 이전 실시예들의 평판 표시 장치 모기판과 다음을 제외하고는 기본적으로 동일한 구조를 갖는다. 즉, 본 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판(102)은 전도성 라인(210)이 TFT 기판용 게이트 전극(231)과 동일층으로 이루어질 수 있다.
도 5 내지 도 6b를 참조하면, 평판 표시 장치 모기판(102)에는 복수의 TFT 기판을 형성하기 위한 셀이 형성되어 있으며, 각 셀은 TFT 기판을 형성하기 위해 복수의 게이트 전극(231)을 포함한다. 여기서, 게이트 전극(231)은 게이트 라인(232)과 함께 투명 기판(110) 위에 형성될 수 있다. 게이트 전극(231) 및 게이트 라인(232)은 금속 물질을 스퍼터링에 의해 증착한 후, 패턴이 설계된 마스크를 이용하여, 포토리소그래피 공정으로 포토레지스트를 형성한 다음, 습식 또는 건식 식각법을 이용해 금속 물질을 선택적으로 식각함으로써 형성될 수 있다.
게이트 전극(231) 및 게이트 라인(232)은, 예를 들어 Cr, Al, Ta, Mo, Mo-W과 같은 금속으로 형성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 이러한 게이트 전극(231)을 구성하는 물질들은 유리 기판과 같은 투명 기판(110)에 대한 밀착력이 강하고, 식각 가공이 용이하여 게이트 전극(231)은 전도성 라인(210) 및 전도성 패드(221, 222)와 함께 형성될 수 있다.
전도성 라인(210) 및 전도성 패드(221, 222)는 LCD 장치의 제조시 추가 공정이나 설비의 투자 없이 게이트 전극(231)과 함께 동일층으로 형성될 수 있다. 한편, 도 6a에 도시한 바와 같이, 투명 기판(110) 위에는 전도성 라인(210) 및 전도성 패드(221, 222)뿐만 아니라 투명 기판(110)에 접촉된 절연층(300), 반도체층(400), 저항성 접촉층(510, 520, 530), 소스 전극(610, 620) 및 드레인 전극(630)이 순서대로 적층될 수 있으며, 전도성 라인(210)과 전도성 패드(221, 222)는 소스 전극(610, 620) 및 드레인 전극(630)과 함께 형성될 수도 있다. 또한, 전도성 라인(210) 및 전도성 패드(221, 222)는 보호막(700) 상부에 위치하는 화소 전 극(800)과 함께 형성될 수도 있으며, 이 경우 전도성 라인(210) 및 전도성 패드(221, 222)의 구성 물질은 ITO(Indium Tin Oxide) 또는 IZO(Indium Zinc Oxide) 등일 수 있다.
본 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판(102)도 이전 실시예에서와 같이, 프로브와 넓은 접촉면을 가지도록 전도성 라인(210)의 양단으로부터 확장되어 형성된 전도성 패드(221, 222)를 더 포함할 수 있음은 물론이다. 전도성 패드(221, 222)는 서로 인접하여 이격되도록 형성되며, 이 경우 이격 거리(l)는 예컨대 5 ~ 10 mm일 수 있다.
또한, 전도성 라인(210) 및 전도성 패드(221, 222)는 투명 기판(110)의 외주면의 최외곽으로부터 1 ~ 5 mm 이격되어 형성될 수 있다.
상술한 본 발명의 제3 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판(102)은 게이트 전극(231) 형성시 동일층으로 전도성 라인(210)을 형성함으로써, 제조 설비 및 비용면에서 간편하게 전도성 라인(210)을 형성할 수 있다.
도시하지는 않았지만, 이하 본 발명의 제4 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판에 대해 설명한다. 본 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판은 컬러필터 기판을 제조하는 데 제공될 수 있으며, 하나의 평판 표시 장치 모기판 내에 다수의 컬러필터 기판을 형성할 수 있다. 본 실시예에 따른 평판 표시 장치 모기판은 전도성 라인, 전도성 패드와 함께 공통 전극을 더 포함한다.
각 컬러필터 기판에는 블랙 매트릭스, 오버 코트층뿐만 아니라 다수의 공통전극이 포함되며, 이러한 공통전극 형성시 전도성 라인 및 전도성 패드를 함께 형 성할 수 있다. 이 경우, 전도성 라인 및 전도성 패드는 ITO, IZO 등의 재료로 구성될 수 있다. 전도성 라인 및 전도성 패드는 컬러필터 기판의 제조 공정 초기에 별도로 형성될 수 있음은 물론이나, 이들을 공통전극 형성시 함께 형성하는 경우, 공정이 간편하고, 경제적일 수 있다.
본 발명의 제4 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판을 이용하여 컬러필터용 평판 표시 장치 모기판에서도 크랙불량 및 깨짐 불량을 용이하게 검출할 수 있다.
이상의 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판은, TFT 기판 또는 컬러필터 기판을 다수개 제조할 수 있는 대형 기판에 적용될 수 있으나, 개개의 TFT 기판 또는 컬러필터 기판에 제공되는 패널용 기판, 즉 대평 기판을 각각의 셀로 절단한 후의 기판에도 적용될 수 있다.
이하, 도 7을 참조하여, 본 발명의 제1 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판의 제조방법을 설명한다. 도 7은 본 발명의 제1 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판의 제조방법을 나타낸 개략도이다.
도 7을 참조하면, 먼저 투명 기판을 제공한다(S100).
투명 기판은 이전의 실시예에서 설명한 바와 같이, 투명하고, 절연층을 지지하도록 충분한 강성을 가진 것으로 제공된다.
이러한 투명 기판은 후술하는 전도성 라인을 형성하는 단계 이전에 이물질이 남아있지 않도록 세정하여, 전도성 라인을 형성하는 공정을 준비한다.
이후, 상기 투명 기판의 외주면 전체를 따라, 서로 인접하여 이격된 양단을 가지도록 전도성 라인을 형성한다(S200).
전도성 라인을 패터닝하여 형성하는 공정을 설명하면, 우선 상기 투명 기판 위에 금속막 또는 금속 산화물막을 증착한다. 금속막 또는 금속 산화물막은 스퍼터링 또는 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 등의 방법으로 형성될 수 있으나, 이들 증착 방법에 한정되는 것은 아니다.
전도성 라인 및 전도성 패드는 게이트 전극, 소스 전극, 드레인 전극 또는 화소 전극의 형성에 앞서 공정 초기에 형성될 수 있다. 이 경우 전도성 라인 및 전도성 패드는 동일한 금속 또는 금속 산화물로 이루어질 수 있다.
이후, 상기 금속막 또는 금속 산화물막 위에 포토레지스트를 도포한다.
다음으로, 상기 도포된 포토레지스트를 패턴이 형성된 마스크를 통해 노광하고, 현상한다. 마스크는 투명 기판의 외주면 전체를 따라, 서로 인접하여 이격된 양단을 가지는 전도성 라인을 형성하도록 패터닝한다. 노광 및 현상을 수행하여 패터닝된 포토레지스트는 후속 공정에서 형성될 전도성 라인 및 전도성 패드의 형상을 정의한다.
마지막으로, 상기 패터닝된 포토레지스트에 의해 정의되는 상기 금속막 또는 금속 산화물막을 식각한다. 즉, 패터닝된 포토레지스트의 형상을 따라, 금속막 또는 금속 산화물막을 선택적으로 식각하여, 전도성 라인 및 전도성 패드를 형성한다. 이 경우 습식 식각법 또는 건식 식각법을 모두 이용할 수 있다.
또한, 전도성 라인을 형성하는 공정은 페이스트 상의 전도성 혼합물을 투명 기판 위에 도포하여 수행할 수도 있다.
이 공정은 금속 또는 금속 산화물과 같은 전도성 물질을 바인더 수지에 분산시켜 제조하여, 페이스트 상의 전도성 혼합물을 제공하고, 제공된 페이스트 상의 전도성 혼합물을, 예를 들어 스크린 인쇄법 등에 의해 투명 기판 위에 도포함으로써 수행할 수 있다.
본 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판의 제조방법을 이용하여, 크랙 불량 및 깨짐 불량을 용이하게 검출할 수 있는 평판 표시 장치 모기판을 제조할 수 있다.
다음으로, 도 8a 내지 도 8f를 참조하여, 본 발명의 제2 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판의 제조방법을 설명한다. 도 8a 내지 도 8f는 본 발명의 제2 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판의 제조방법을 나타낸 단면도이다. 본 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판의 제조방법은, 전도성 라인을 형성하는 것은 상기 투명 기판 상에 게이트 전극층을 형성하고, 상기 게이트 전극층을 패터닝하여 게이트 전극을 형성함과 동시에 수행하는 점에서 본 발명의 제1 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판의 제조방법과 차이가 있다.
도 8a를 참조하면, 투명 기판(110) 위에 금속을 증착하여 게이트 전극층 및 전도성 라인층을 이루는 금속막(200)을 형성한다. 상술한 바와 같이, 예를 들어 스퍼터링, PECVD 등의 방법으로 증착 공정을 수행할 수 있다. 본 발명의 제2 실시예에 따른 평판 표시 장치 모기판의 제조방법은 후술하는 바와 같이 게이트 전극과 전도성 라인을 동시에 형성하는 공정이므로, 게이트 전극에 적합한 금속을 이용하 여 증착 공정을 수행할 수 있다.
도 8b를 참조하면, 투명 기판(110) 위에 형성된 금속막(200) 위에 포토레지스트(900)를 도포한다. 포토레지스트(900)의 도포 공정은 예를 들어, 스핀 코팅에 의해 수행하여 균일한 두께의 포토레지스트를 형성할 수 있다.
도 8c 및 도 8d를 참조하면, 전도성 라인, 전도성 패드 및 게이트 전극을 형성하도록 패턴(1010a, 1010b, 1010c, 1010d)이 형성된 마스크(1000)를 통해 포토레지스트(900)를 노광 및 현상하여 전도성 라인 및 전도성 패드를 정의하는 포토레지스트 패턴(910, 921) 및 게이트 전극 및 게이트 라인을 정의하는 포토레지스트 패턴(931, 932)을 형성한다.
포토레지스트 패턴(910, 921)에 의해 정의되는 전도성 라인은 상술한 투명 기판의 외주면 전체를 따라, 서로 인접하여 이격된 양단을 가지도록 형성될 수 있으며, 이 경우, 상술한 전도성 라인이 상술한 투명 기판의 외주면의 최외곽으로부터 1 ~ 5 mm 이격되어 형성될 수 있다.
도 8e를 참조하면, 금속막(200)을 식각하여, 각 포토레지스트 패턴(910, 921, 931, 932)에 의해 정의된 게이트 전극(231), 게이트 라인(232), 전도성 라인(210) 및 전도성 패드(221)를 형성한다. 이 경우 식각 방식으로는 건식 식각 및 습식 식각 등 통상의 식각 방식이 이용될 수 있다.
도 8f를 참조하면, 상기 식각 단계 이후, 포토레지스트 패턴(910, 921, 931, 932)을 스트립하여 게이트 전극(231), 게이트 라인(232), 전도성 라인(210) 및 전도성 패드(221)를 형성한다. 즉, 전도성 라인(210)을 형성하는 것은 전도성 라 인(210)이 프로브와 넓은 접촉면을 가지도록 상기 양단으로부터 확장되어 형성된 전도성 패드를 더 포함하도록 형성하는 것을 포함할 수 있다.
이상 본 발명의 제2 실시예에 의한 평판 표시 장치 모기판의 제조방법을 설명하였으며, 본 실시예에서 TFT 기판 제조시 전도성 라인(210) 및 전도성 패드(221)를 게이트 전극(231) 및 게이트 라인(232)과 함께 형성하는 공정을 예로 들어 설명하였으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 전도성 라인(210) 및 전도성 패드(221)는 소스 전극, 게이트 전극 또는 화소전극과 동시에 형성될 수 있으며, 컬러필터 기판 제조 공정의 경우 공통 전극과 동시에 형성될 수도 있다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
상술한 바와 같이 본 발명에 따른 평판 표시 장치 모기판에 의하면, 화상 표시 장치의 외곽에 별도의 전도성 라인을 구성하여, 투명 기판에 발생할 수 있는 크랙 불량이나 깨짐 불량을 용이하게 검출할 수 있다.

Claims (8)

  1. 투명 기판; 및
    상기 투명 기판의 외주면 전체를 따라 형성되고, 서로 인접하여 이격된 양단을 가지는 전도성 라인을 포함하는 평판 표시 장치 모기판.
  2. 제1 항에 있어서, 상기 전도성 라인은 상기 투명 기판 위에 형성된 게이트 전극과 동일층으로 이루어진 평판 표시 장치 모기판.
  3. 제2 항에 있어서, 프로브와 넓은 접촉면을 가지도록 상기 전도성 라인의 상기 양단으로부터 확장되어 형성된 전도성 패드를 더 포함하는 평판 표시 장치 모기판.
  4. 제2 항에 있어서, 상기 전도성 라인은 상기 투명 기판의 외주면의 최외곽으로부터 1 ~ 5 mm 이격되어 형성되는 평판 표시 장치 모기판.
  5. 투명 기판을 제공하고,
    상기 투명 기판의 외주면 전체를 따라, 서로 인접하여 이격된 양단을 가지도록 전도성 라인을 형성하는 것을 포함하는 평판 표시 장치 모기판의 제조 방법.
  6. 제5 항에 있어서, 상기 전도성 라인을 형성하는 것은 상기 투명 기판 상에 게이트 전극층을 형성하고, 상기 게이트 전극층을 패터닝하여 게이트 전극을 형성함과 동시에 수행하는 평판 표시 장치 모기판의 제조 방법.
  7. 제6 항에 있어서, 상기 전도성 라인을 형성하는 것은 상기 전도성 라인이 상기 양단으로부터 확장되어 형성된 전도성 패드를 더 포함하도록 형성하는 것을 포함하는 평판 표시 장치 모기판의 제조 방법.
  8. 제6 항에 있어서, 상기 전도성 라인은 상기 투명 기판의 외주면의 최외곽으로부터 1 ~ 5 mm 이격되어 형성되는 평판 표시 장치 모기판의 제조 방법.
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