KR20070107436A - Resonator of plasma lighting system and fabricating method for the same - Google Patents

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KR20070107436A
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Abstract

A resonator for a plasma lighting system and a fabricating method thereof are provided to perform the optimum design of a lamp easily and prevent formation of a shadow, without forming a welding portion. A photoresist film is formed on a film mask with a mesh pattern(S305), and then the film mask with the photoresist film is laminated on a master body(S310). The mesh pattern with the photoresist film is formed on the master body(S320), and then the master body is plated to form a resonator(S330). The resonator is detached from the master body(S340). Prior to the step of forming the resonator, a releasing material is coated on the master body with the mesh pattern.

Description

무전극 조명기기의 공진기 및 그 제조방법{Resonator of plasma lighting system and fabricating method for the same}Resonator of non-electrode lighting equipment and its manufacturing method {Resonator of plasma lighting system and fabricating method for the same}

도 1은 종래의 무전극 조명기기를 도시한 단면도,1 is a cross-sectional view showing a conventional electrodeless lighting device,

도 2는 종래의 무전극 조명기기를 구성하는 공진기의 사시도,2 is a perspective view of a resonator constituting a conventional electrodeless lighting device,

도 3은 본 발명에 따른 공진기의 제조 순서도,3 is a manufacturing flowchart of the resonator according to the present invention;

도 4a 내지 도 4h는 본 발명의 제1실시예에 따른 공진기 제조 공정도,4a to 4h is a manufacturing process diagram of the resonator according to the first embodiment of the present invention,

도 5a 내지 도 5e는 본 발명의 제2실시예에 따른 공진기 제조 공정도.5A to 5E are diagrams illustrating a resonator manufacturing process according to a second embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for main parts of the drawings>

400a, 400b, 400c : 마스터 바디 410, 510 : 필름 마스크400a, 400b, 400c: Master Body 410, 510: Film Mask

420, 520 : 감광막 430 : 도금장치의 반응조420, 520: photosensitive film 430: reaction vessel of the plating apparatus

440 : 메쉬 구조의 도금층 530 : 메쉬 형태의 홈440: plating layer of the mesh structure 530: mesh-shaped groove

540 : 마스킹 물질540: masking material

본 발명은 무전극 조명기기의 공진기 및 그 제조방법에 관한 것으로, 특히, 도금공정을 이용한 공진기 제조를 통해 용접부위가 존재하지 않는 무전극 조명기기의 공진기 및 그 제조방법에 관한 것이다. The present invention relates to a resonator of an electrodeless illuminator and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a resonator of an electrodeless illuminator and a method of manufacturing the same, through which a resonator is manufactured using a plating process.

무전극 조명기기는 무전극 플라즈마 전구에 마이크로파를 가하여 이로부터 가시광선 또는 자외선을 발광시키는 장치로서, 통상적인 백열등이나 형광등에 비해 램프의 수명이 길고, 조명의 효과가 우수한 특징을 가지고 있다.An electrodeless lighting device is a device that applies microwaves to an electrodeless plasma bulb and emits visible light or ultraviolet rays therefrom. The electrodeless lighting device has a longer lamp life and excellent lighting effect than a conventional incandescent or fluorescent lamp.

도 1은 일반적인 무전극 조명기기의 단면을 나타낸 것으로써, 케이싱(1)의 내부에 장착하여 마이크로파를 생성하는 마그네트론(2)과 마그네트론(2)에 상용 교류전원을 고압으로 승압하여 공급하는 고압 발생기(3)와, 마그네트론(2)의 출구부에 연통하여 마그네트론(2)에서 생성한 마이크로파를 전달하는 도파관(4)과, 내부에 발광물질을 봉입하고 도파관(4)을 통해 전달한 마이크로파 에너지에 의해 봉입한 물질이 플라즈마화 하면서 빛을 발생하는 전구(5)와, 도파관(4)과 전구(5)의 앞쪽에 씌워져 마이크로파는 차단하면서 상기 전구(5)에서 발광된 빛은 통과하는 공진기(6)와, 공진기(6)를 수용하여 전구에서 발생하는 빛을 직진하도록 집중 반사하는 반사경(7)과, 전구(5) 후방측의 공진기(6) 내부에 장착하여 마이크로파는 통과하면서 빛은 반사하는 유전체 거울(8)과, 케이싱(1)의 일측에 구비하여 마그네트론(2)과 고압 발생기(3)를 냉각하는 냉각팬 조립체(9)로 구성되어 있다.1 is a cross-sectional view of a typical electrodeless lighting device, which is mounted on the inside of the casing 1, a high voltage generator for boosting and supplying commercial AC power to a high voltage to the magnetron 2 and the magnetron 2 to generate microwaves. (3), the waveguide (4) which communicates with the outlet of the magnetron (2) and transmits the microwaves generated by the magnetron (2), and the microwave energy that is filled with a luminescent material therein and transmitted through the waveguide (4). A light bulb 5 generating light while the encapsulated material is plasma-formed, and a resonator 6 which is covered in front of the waveguide 4 and the light bulb 5 to block microwaves while passing light emitted from the light bulb 5. And a reflector (7) for accommodating the resonator (6) to intensively reflect the light generated by the light bulb to go straight, and a dielectric mounted inside the resonator (6) behind the bulb (5) to reflect light while passing microwaves. roughness Is composed of 8 and a cooling fan assembly (9) for cooling the magnetron 2 and the high voltage generator 3, and provided at one side of the casing (1).

그 중, 공진기(6)는, 금속망의 형태로 이루어져 상기한 도파관(4)에 조립됨 으로써 상기 도파관(4)을 통해 전송된 마이크로파를 차폐하여 마이크로파 에너지가 상기한 전구(5)내에서 빛으로 변환되는 동시에 마이크로파가 외부로 누출되는 것은 차단하면서 전구(5)에서 발생된 빛은 외부로 투과시키는 역할을 하게 된다.Among them, the resonator 6 is formed in the form of a metal net and assembled to the waveguide 4 so as to shield the microwaves transmitted through the waveguide 4 so that the microwave energy is light in the light bulb 5. The light emitted from the light bulb 5 is transmitted to the outside while the microwave is blocked while being leaked to the outside.

이와 같은 공진기(6)를 첨부된 도2를 참조하여 설명하면, 개방된 부분(21)의 일부분을 제외하고 에칭 가공으로 다수의 홀(22)이 형성된 원통부(24)와, 볼록한 모양으로 형성되어 상기 원통부(24)의 앞부분에 연결되도록 에칭 가공으로 다수의 홀이 형성된 캡부(25)로 이루어진다.The resonator 6 described above will be described with reference to FIG. 2. The cylindrical part 24 having a plurality of holes 22 formed by etching is formed in a convex shape except for a part of the open part 21. And a cap portion 25 having a plurality of holes formed by etching to be connected to the front portion of the cylindrical portion 24.

그리고, 원통부(24)는 마이크로파가 누설되는 것을 차단하면서 빛은 통과시키는 메쉬부(22)와, 도파관(3)의 출구부에 고정될 수 있도록 에칭 가공되지 않은 비메쉬부(23)로 구성된다.The cylindrical portion 24 is composed of a mesh portion 22 through which light passes while preventing the leakage of microwaves, and a non-mesh portion 23 which is not etched to be fixed to the outlet portion of the waveguide 3. do.

이와 같은 공진기(6)는 도파관(4)을 통해 전달되는 마이크로파를 차폐하면서 공진 영역을 형성하게 되므로 정밀도가 요구될 뿐만 아니라 전구(5)에서 발광되는 빛을 잘 투과시키고, 아울러 전구(5)에서 발생되는 열에 견딜 수 있는 내열성을 가져야 한다.Since the resonator 6 forms a resonance region while shielding the microwaves transmitted through the waveguide 4, the resonator 6 not only requires precision but also transmits light emitted from the light bulb 5 well, and at the same time, It must have heat resistance to withstand the heat generated.

이러한 공진기(6)를 제조하기 위한 종래의 제조방법을 상세히 설명하면 다음과 같다.The conventional manufacturing method for manufacturing the resonator 6 will be described in detail as follows.

스테인레스강 또는 인청동으로 이루어진 소정 두께의 금속 박판을 사각모양 또는 원모양으로 절단하여 기본 모재를 형성한다.The metal sheet having a predetermined thickness made of stainless steel or phosphor bronze is cut into a square shape or a circular shape to form a basic base material.

그리고, 기본 모재에 염화철 용액 등으로 식각(etching)공정을 수행하여 메쉬 구조를 갖는 홀들을 형성한다.Then, an etching process is performed on the base material with an iron chloride solution to form holes having a mesh structure.

이와 같이, 기본 모재에 메쉬 구조가 형성되면 도 2와 같이 원통의 형상으로 용접하여 원통부(21)를 형성한 후, 형성된 용접부의 상부에 캡부(25)를 용접하여 일측의 부분만이 개방된 공진기(6)를 형성하였다. As such, when the mesh structure is formed on the basic base material, the cylindrical portion 21 is formed by welding in a cylindrical shape as shown in FIG. 2, and then only one portion of one side is opened by welding the cap portion 25 to the upper portion of the formed weld portion. The resonator 6 was formed.

상기 공진기의 표면에 광 반사층인 은(Ag) 도금층을 형성하기 위하여 니켈(Ni)을 이용한 하지 도금을 수행한다. 니켈(Ni)은 공진기와 은(Ag)과의 부착력을 향상시키기 위한 것이다.Underground plating using nickel (Ni) is performed to form a silver (Ag) plating layer, which is a light reflection layer, on the surface of the resonator. Nickel (Ni) is for improving the adhesion between the resonator and silver (Ag).

이후, 진공 열처리를 수행하고 산화 알루미늄(Al2O3) 등의 세라믹 소재를 증착시키거나, 광 촉매물질인 산화 티타늄(TiO2)이함유된 산화물을 도포하여 내열 투명층을 형성함으로써 공진기(6)를 형성공정을 완료한다.Thereafter, a vacuum heat treatment is performed and a ceramic material such as aluminum oxide (Al 2 O 3 ) is deposited, or an oxide containing titanium oxide (TiO 2 ), which is a photocatalytic material, is applied to form a heat resistant transparent layer to thereby form a heat resistant transparent layer. Complete the forming process.

그러나, 상기한 바와 같은 종래 기술로 공진기(6)를 제작할 경우, 다음과 같은 문제점이 존재한다.However, when the resonator 6 is manufactured by the prior art as described above, the following problems exist.

첫째, 종래의 기술로 공진기를 제작할 경우 박판을 형성하는 공정에 있어서 열간 압연 및 냉각 압연 공정을 수행하여 형성하나, 그 공정이 매우 복잡하고 고 비용일 뿐 아니라 금속이 박막화되는 과정에 있어서 금속 내부의 고유 결정 구조가 파괴되어 금속 박판의 성질이 변하게 된다.First, when the resonator is manufactured according to the prior art, it is formed by performing hot rolling and cold rolling in the thin plate forming process, but the process is not only very complicated and expensive, but also in the process of thinning the metal. The intrinsic crystal structure is destroyed, which changes the properties of the metal sheet.

둘째, 메쉬 구조가 형성된 박판을 용접하여 공진기 형상의 제작 시, 수십 내지 수백 마이크로 선폭의 메쉬 구조를 직접 용접하여 형성함으로써 공정상 어려움존재하며 이로 인하여 공정 수율이 저하되며, 용접을 통해 제작된 공진기는 원통부 및 캡부의 일측에 용접 부위(26, 27)가 존재함으로써, 공진기의 전자파 집속 대칭 성을 상실하게 되어 램프의 최적 설계가 어려우며, 캡부를 용접한 용접부위(27)는 램프의 그림자를 발생시키게 되고, 상기 용접부위(26, 27)가 내열 내식성에 취약하여 진공 열처리등 부가적인 공정이 필요한 문제점이 있다.Secondly, when fabricating a resonator shape by welding a thin plate formed with a mesh structure, it is difficult to process by directly welding a mesh structure of tens to hundreds of micro-line widths, and thus the process yield is lowered, and the resonator manufactured by welding The presence of the welding portions 26 and 27 on one side of the cylindrical portion and the cap portion results in loss of electromagnetic wave focusing symmetry of the resonator, making it difficult to design the lamp optimally, and the welding portion 27 welding the cap portion generates shadows of the lamp. Since the welding parts 26 and 27 are vulnerable to heat resistance corrosion resistance, there is a problem that an additional process such as vacuum heat treatment is required.

또한, 평판의 메쉬 박판을 용접하여 입체 공진기를 형성함으로써, 복층 구조 및 복잡한 입체 구조물을 형성할 수 없다.In addition, by forming a three-dimensional resonator by welding a mesh thin plate of a flat plate, a multilayer structure and a complicated three-dimensional structure cannot be formed.

셋째, 메쉬 박판을 사용하여 공진기를 형성한 후, 광 반사층을 형성하기 위한 도금공정에 있어서, 냉각 압연재인 메쉬 박판과 도금된 광 반사층간의 부착력이 떨어져 하지 도금이 필수적으로 요구되며, 메쉬 박판과 광 반사층간의 부착력 저하로 인해 공진기의 열 전도성 및 전기 전도성이 떨어지는 문제점이 존재한다.Third, in the plating process for forming the light reflection layer after forming the resonator by using the mesh thin plate, the base plate plating is indispensably required because the adhesion between the cold rolled mesh thin plate and the plated light reflecting layer is poor. There is a problem in that the thermal conductivity and the electrical conductivity of the resonator are deteriorated due to the decrease in adhesion between the reflective layers.

넷째, 공진기의 표면에 형성되는 광 반사층인 은(Ag)은 조기 변색으로 인하여 반사율이 현저히 저하되고, 내화학성, 내식성 및 내열성에 한계가 있으며, 내열 투명층인 산화티타늄(TiO2)은 주변에 유해화학물질이 존재할 경우 그 기능을 제대로 수행하지 못하는 단점이 있다.Fourth, silver (Ag), which is a light reflection layer formed on the surface of the resonator, has a significantly lower reflectance due to premature discoloration, and is limited in chemical resistance, corrosion resistance, and heat resistance, and titanium oxide (TiO 2 ), a heat-resistant transparent layer, is harmful to the surroundings. The presence of chemicals has the disadvantage of not functioning properly.

본 발명은 금속 박판을 형성하지 않고도 용이하게 무전극 조명기기의 공진기를 형성할 수 있는 제조방법을 제공함에 그 목적이 있다.An object of the present invention is to provide a manufacturing method which can easily form a resonator of an electrodeless lighting device without forming a metal thin plate.

본 발명의 다른 목적은 용접부위가 존재하지 않는 무전극 조명기기의 공진기 및 그 제조방법을 제공함에 있다.Another object of the present invention is to provide a resonator and a method of manufacturing the electrodeless lighting device does not have a welding site.

본 발명의 또 다른 목적은 형상 자유도가 우수한 무전극 조명기기의 공진기 및 그 제조방법을 제공함에 있다.Still another object of the present invention is to provide a resonator of an electrodeless lighting device having excellent shape freedom and a method of manufacturing the same.

본 발명의 또 다른 목적은 내화학성, 내열성 및 내식성이 우수한 무전극 조명기기의 공진기 및 그 제조방법을 제공함에 있다.Still another object of the present invention is to provide a resonator of an electrodeless lighting device having excellent chemical resistance, heat resistance, and corrosion resistance, and a method of manufacturing the same.

본 발명의 또 다른 목적은 공진기를 구성하는 다층의 금속들간의 부착력을 향상시킬 수 있는 무전극 조명기기의 공진기 제조방법을 제공함에 있다.Still another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a resonator for an electrodeless lighting device that can improve adhesion between multilayer metals constituting the resonator.

본 발명의 또 다른 목적은 전자파 차폐 성능이 우수한 무전극 조명기기의 공진기 및 그 제조방법을 제공함에 있다.Still another object of the present invention is to provide a resonator of an electrodeless lighting device having excellent electromagnetic shielding performance and a method of manufacturing the same.

본 발명의 또 다른 목적은 저가의 대량 생산이 가능한 무전극 조명기기의 공진기 및 그 제조방법을 제공함에 있다. It is still another object of the present invention to provide a resonator and a method of manufacturing the electrodeless lighting device capable of mass production at low cost.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 무전극 조명기기 공진기의 형성방법은 메쉬 패턴이 형성된 필름 마스크상에 감광막을 형성하는 단계, 상기 감광막이 형성된 상기 필름 마스크를 마스터 바디에 라미네이팅하는 단계, 상기 마스터 바디에 감광막으로 이루어진 메쉬 패턴을 형성하는 단계, 상기 마스터 바디를 도금하여 공진기를 형성하는 단계 및 형성된 상기 공진기를 상기 마스터로부터 분리하는 단계를 포함한다.In order to achieve the above object, a method of forming an electrodeless illuminator resonator of the present invention comprises the steps of: forming a photoresist film on a film mask on which a mesh pattern is formed; laminating the film mask on which the photoresist film is formed on a master body; Forming a mesh pattern formed of a photosensitive film on the master body, plating the master body to form a resonator, and separating the formed resonator from the master.

본 발명에 있어서, 상기 도금하여 공진기를 형성하는 단계 이전에 메쉬 패턴이 형성된 상기 마스터 바디에 이형물질(예를 들어 산화물)을 코팅하는 단계를 더 포함한다. In the present invention, the method further includes coating a release material (for example, an oxide) on the master body on which the mesh pattern is formed before the plating to form the resonator.

또한, 본 발명의 무전극 조명기기 공진기의 다른 형성방법은 메쉬 패턴이 형성된 필름 마스크상에 감광막을 형성하는 단계, 감광막이 형성된 상기 필름 마스크를 마스터 바디에 라미네이팅하는 단계, 상기 마스터 바디에 감광막으로 이루어진 메쉬 패턴을 형성하는 단계, 상기 마스터 바디를 식각하여 홈을 형성하는 단계, 상기 마스터 바디의 홈에 마스킹 물질을 형성하는 단계, 상기 마스터 바디를 도금하여 공진기를 형성하는 단계 및 형성된 상기 공진기를 상기 마스터로부터 분리하는 단계를 포함한다.In addition, another method of forming an electrodeless illuminator resonator of the present invention comprises the steps of forming a photoresist film on the film mask formed with a mesh pattern, laminating the film mask on which the photosensitive film is formed on the master body, the photosensitive film formed on the master body Forming a mesh pattern, etching the master body to form a groove, forming a masking material in the groove of the master body, plating the master body to form a resonator, and forming the resonator of the master Separating from.

본 발명에 있어서, 마스터 바디는 스테인레스 강(SUS), 니켈(Ni), 구리(Cu) 또는 그의 합금을 이용하여 형성하는 것이 바람직하다.In the present invention, the master body is preferably formed using stainless steel (SUS), nickel (Ni), copper (Cu) or an alloy thereof.

본 발명에 있어서, 감광막이 형성된 상기 필름 마스크를 마스터 바디에 라미네이팅 하는 단계는, 상기 마스터 바디와 상기 감광막이 부착될 수 있도록 하는 것이 바람직하다.In the present invention, the step of laminating the film mask on which the photosensitive film is formed on the master body, it is preferable to allow the master body and the photosensitive film to be attached.

본 발명에 있어서, 감광막으로 이루어진 메쉬 패턴을 형성하는 단계는, 상기 마스터 바디를 노광하는 단계, 상기 필름 마스크를 상기 마스터 바디로부터 제거하는 단계, 상기 마스터 바디에 존재하는 감광막을 현상하는 단계 및 상기 마스터 바디를 세척하는 단계를 포함하는 것이 바람직하다.In the present invention, the forming of the mesh pattern formed of the photoresist film may include exposing the master body, removing the film mask from the master body, developing the photoresist film present in the master body, and the master. It is preferred to include the step of washing the body.

본 발명에 있어서, 메쉬 패턴이 형성된 마스터를 도금하여 공진기를 형성하는 단계는, 플레니토리칼 또는 패들 유니트 탱크를 이용하여 입체 도금하는 것이 바람직하다.In the present invention, the step of forming the resonator by plating the master on which the mesh pattern is formed is preferably three-dimensional plating using a planetary or paddle unit tank.

본 발명에 있어서, 형성된 상기 공진기를 상기 마스터로부터 분리한 후, 상기 마스터로부터 분리된 공진기에 광 반사층을 형성하는 단계 및 상기 광 반사층을 보호하기 위한 내열 투명층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것이 바람직하다.In the present invention, after separating the formed resonator from the master, it is preferable to further include forming a light reflection layer in the resonator separated from the master and forming a heat-resistant transparent layer for protecting the light reflection layer. .

본 발명에 있어서, 마스터 바디를 식각하여 홈을 형성하는 단계는, 상기 마스터 바디의 표면이 철계 금속일 경우, 염화철(Ⅲ)용액을 이용하며, 상기 마스터 바디의 표면이 동계 금속일 경우, 황산염 용액을 이용하여 습식식각하는 것이 바람직하다.In the present invention, the step of etching the master body to form a groove, when the surface of the master body is iron-based metal, using an iron (III) chloride solution, when the surface of the master body is copper-based, sulfate solution It is preferable to wet wet using.

본 발명에 있어서, 마스터 바디 홈에 마스킹 물질을 형성하는 단계 이전에 홈이 형성된 상기 마스터 바디에 이형물질(예를 들어 중크롬산 나트륨)을 코팅하는 단계를 더 포함한다.In the present invention, the method may further include coating a release material (eg, sodium dichromate) on the grooved master body before the forming of the masking material on the master body groove.

본 발명에 있어서, 마스터 바디의 홈에 마스킹 물질을 형성하는 단계는, 에폭시계열의 고분자, 테프론 및 산화실리콘 중 어느 하나를 사용하여 형성하는 것이 바람직하다.In the present invention, the forming of the masking material in the groove of the master body is preferably formed using any one of an epoxy-based polymer, Teflon, and silicon oxide.

본 발명에 있어서, 마스터 바디와 감광막의 부착은 60℃ 내지 120℃의 온도와, 20psi 내지 50psi의 압력을 가하여 부착하는 것이 바람직하다.In the present invention, the attachment of the master body and the photosensitive film is preferably performed by applying a temperature of 60 ° C to 120 ° C and a pressure of 20psi to 50psi.

본 발명에 있어서, 메쉬 패턴이 형성된 마스터의 도금은 복수회 수행하여 마스터 바디의 표면에 도금층을 다층으로 형성하는 것이 바람직하다.In the present invention, it is preferable that the plating of the master on which the mesh pattern is formed is performed a plurality of times to form a plating layer on the surface of the master body in multiple layers.

본 발명에 있어서, 광 반사층은 알루미늄(Al) 또는 은(Ag)을 도금하여 형성하며, 내열 투명층은 산화규소 또는 산화 알루미늄을 화학증착 또는 플라즈마 증착으로 형성하는 것이 바람직하다.In the present invention, the light reflection layer is formed by plating aluminum (Al) or silver (Ag), and the heat-resistant transparent layer is preferably formed of silicon oxide or aluminum oxide by chemical vapor deposition or plasma deposition.

본 발명에 있어서, 광 반사층은 알루미늄(Al)을 25㎛ 내지 40㎛의 두께 형성하고, 상기 내열 투명층은 상기 알루미늄(Al)층 전면을 아노다이징 공정하여 산화 알루미늄(Al2O3)으로 형성하는 것이 바람직하다.In the present invention, the light reflecting layer is formed of aluminum (Al) of 25 ㎛ to 40 ㎛ thickness, the heat-resistant transparent layer is formed of aluminum oxide (Al 2 O 3 ) by anodizing the entire surface of the aluminum (Al) layer. desirable.

본 발명에 있어서, 도금층은 니켈(Ni), 코발트(Co), 철(Fe), 구리(Cu), 은(Ag) 및 알루미늄(Al) 중 적어도 어느 하나 이상을 포함하는 물질을 사용하여 형성하는 것이 바람직하다.In the present invention, the plating layer is formed using a material containing at least one of nickel (Ni), cobalt (Co), iron (Fe), copper (Cu), silver (Ag) and aluminum (Al). It is preferable.

따라서, 본 발명은 원기둥 형상의 공진기에 있어서, 상기 공진기의 하부는 개방되고, 상기 공진기의 상부는 원 또는 반구 형상이며, 상기 공진기의 하부를 제외한 전체면에는 빛을 통과시키는 반면 전자파를 차폐시키기 위한 메쉬가 균일하게 형성되며, 상기 공진기는 도금공정에 의해 일체화되어 있다.Accordingly, the present invention is a cylindrical resonator, the lower portion of the resonator is open, the upper portion of the resonator is a circular or hemispherical shape, while passing the light through the entire surface except the lower portion of the resonator for shielding electromagnetic waves The mesh is formed uniformly, and the resonator is integrated by a plating process.

본 발명은 반구 형상의 공진기에 있어서, 상기 공진기의 하부는 개방되고, 상기 공진기의 하부를 제외한 전체면에는 빛을 통과시키는 반면 전자파를 차폐시키기 위한 메쉬가 균일하게 형성되며, 상기 공진기는 도금공정에 의해 일체화되어 있다.In the hemispherical resonator, a lower part of the resonator is opened, and a mesh for shielding electromagnetic waves is uniformly formed on the entire surface except the lower part of the resonator. It is integrated by.

또한, 본 발명의 공진기는 단층 또는 다층으로 형성되어 있으며, 광 반사층및 상기 광 반사층을 보호하기 위한 내열 투명층을 포함한다.In addition, the resonator of the present invention is formed in a single layer or multiple layers, and includes a light reflecting layer and a heat resistant transparent layer for protecting the light reflecting layer.

본 발명의 공진기는 니켈(Ni), 코발트(Co), 철(Fe), 구리(Cu), 은(Ag) 및 알루미늄(Al) 중 적어도 어느 하나 이상을 포함하여 형성된다.The resonator of the present invention includes at least one of nickel (Ni), cobalt (Co), iron (Fe), copper (Cu), silver (Ag), and aluminum (Al).

본 발명의 광 반사층은 알루미늄(Al) 또는 은(Ag)으로, 내열 투명층은 산화 알루미늄(Al2O3) 또는 산화 규소(SiO2)로 각각 수 ㎛의 두께로 형성되어 있다.The light reflecting layer of the present invention is formed of aluminum (Al) or silver (Ag), and the heat-resistant transparent layer is formed of aluminum oxide (Al 2 O 3 ) or silicon oxide (SiO 2 ) each having a thickness of several μm.

앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.The foregoing terms or words used in this specification and claims are not to be construed as being limited to the common or dictionary meanings, and the inventors properly define the concept of terms in order to explain their invention in the best way. It should be interpreted as meaning and concept corresponding to the technical idea of the present invention based on the principle that it can.

따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.Therefore, the embodiments described in the specification and the drawings shown in the drawings are only the most preferred embodiment of the present invention and do not represent all of the technical idea of the present invention, various modifications that can be replaced at the time of the present application It should be understood that there may be equivalents and variations.

이하에서 본 발명을 더욱 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명의 무전극 조명기기의 공진기는 종래와 달리 용접부위가 존재하지 않는 것으로, 도 3에 도시된 순서도를 참조하여 설명하면 다음과 같다.Unlike the conventional resonator of the electrodeless lighting device of the present invention, there is no welding site, which will be described with reference to the flowchart shown in FIG. 3.

마스터 바디를 가공(S300)한다. 마스터 바디는 공진기를 형성하기 위한 틀로서 마스터 바디의 외형에 따라 공진기의 형상이 결정되며, 마스터 바디의 재질은 스테인레스 강(SUS), 니켈(Ni), 구리(Cu) 또는 그의 합금을 이용하여 형성할 수 있다.The master body is processed (S300). The master body is a frame for forming the resonator. The shape of the resonator is determined according to the outer shape of the master body, and the material of the master body is formed using stainless steel (SUS), nickel (Ni), copper (Cu), or an alloy thereof. can do.

한편, 공진기의 메쉬 패턴을 디자인(S305)한다.On the other hand, the mesh pattern of the resonator is designed (S305).

메쉬 패턴의 디자인(S305)은 메쉬 패턴이 형성된 필름 마스크(film mask)상에 감광성 고분자인 감광제(photo resist)를 균일한 두께로 도포한 후 건조하여 감광막을 형성한다.Design of the mesh pattern (S305) is applied to a uniform thickness of the photoresist (photo resist) of the photosensitive polymer on a film mask on which the mesh pattern is formed to form a photoresist film.

마스터 바디와 메쉬 패턴 디자인의 형성과정이 완료되면, 마스터 바디에 메쉬 패턴이 디자인된 필름 마스크를 라미네이팅(laminating)한다(S310). 이때, 마스터 바디의 표면에 감광막이 부착될 수 있도록 라미네이팅하는 것이 중요하다.When the process of forming the master body and the mesh pattern design is completed, laminating the film mask in which the mesh pattern is designed on the master body (S310). At this time, it is important to laminate so that the photosensitive film may be attached to the surface of the master body.

이후, 노광, 현상 및 필름 마스크 제거공정을 순차적으로 수행하여 마스터 바디에 메쉬 패턴을 형성(S320) 한다.Thereafter, exposure, development and film mask removal processes are sequentially performed to form a mesh pattern on the master body (S320).

마스터 바디에 메쉬 패턴의 형성(S320)은 일실시예로서, 마스터 바디 표면에 감광막으로 메쉬 패턴을 형성할 수 있으며, 다른 실시예로서, 마스터 바디 표면을 직접 식각하여 메쉬 패턴을 형성할 수 있다.Forming a mesh pattern on the master body (S320) as an embodiment, it is possible to form a mesh pattern on the master body surface with a photosensitive film, in another embodiment, the master body surface may be directly etched to form a mesh pattern.

메쉬 패턴이 형성된 마스터 바디를 도금장치에 침지하여 도금공정을 수행하기 전, 이형물질을 코팅하는 단계를 부가적으로 수행할 수 있다.Before the plating process is performed by immersing the master body having the mesh pattern formed in the plating apparatus, the step of coating the release material may be additionally performed.

마스터 바디의 표면에 스테인리스 강(SUS)일 경우는, 이형물질을 코팅하는 단계가 불필요하나, 그 외의 물질로 마스터 바디의 표면이 형성되어 있을 경우 금속물질과 부착력이 떨어지는 이형물질을 코팅함으로써 이후 공정인 공진기의 박리를 용이하게 할 수 있다.If the surface of the master body is made of stainless steel (SUS), the step of coating the release material is unnecessary, but if the surface of the master body is formed of other materials by coating a release material that is less adhesion to the metal material and subsequent processes Peeling of the phosphorus resonator can be facilitated.

메쉬 패턴이 형성된 마스터 바디를 도금장치에 침지하여 도금 공정을 수행하여 공진기를 형성(S330)한다. The resonator is formed by immersing the master body on which the mesh pattern is formed in the plating apparatus to perform a plating process (S330).

마스터 바디에 형성된 메쉬 패턴으로 인하여 마스터 바디 표면에 메쉬 구조 의 도금층이 즉, 공진기가 형성된다.Due to the mesh pattern formed on the master body, a plated layer having a mesh structure, that is, a resonator is formed on the surface of the master body.

그리고, 양극에 금속물질을 달리 적용하여 도금공정을 반복적으로 수행할 경우, 다층의 금속재질로 이루어진 공진기를 용이하게 형성할 수 있다.In addition, when the plating process is repeatedly performed by applying a different metal material to the anode, a resonator made of a multilayer metal material may be easily formed.

또한, 본 발명은 도금공정을 이용하여 단층 또는 다층의 공진기를 형성함으로써 각각의 도금층간의 밀착력이 우수하여 공진기의 열전도성 및 전기 전도성이 향상되는 이점이 있다.In addition, the present invention has an advantage of improving the thermal conductivity and electrical conductivity of the resonator by forming a resonator of a single layer or a multi-layer using the plating process is excellent adhesion between the respective plating layers.

도금 공정이 완료되면, 마스터 바디의 표면에 형성된 메쉬 구조의 도금층을 마스터 바디로부터 분리하는 박리 공정을 수행(S340)함으로써 용접부위가 존재하지 않는 공진기를 형성할 수 있다.When the plating process is completed, by performing a peeling process of separating the plating layer of the mesh structure formed on the surface of the master body from the master body (S340) it is possible to form a resonator without a welding site.

따라서, 박리 공정 후, 획득되는 공진기는 마스터의 표면 형상과 동일한 형상을 나타내며, 개구율이 80% 이상의 정교한 메쉬를 포함한다.Thus, after the peeling process, the resonator obtained exhibits the same shape as the surface shape of the master, and includes an elaborate mesh having an opening ratio of 80% or more.

필요에 따라서 형성된 공진기는 진공 열처리하여 도금층에 부착된 이물질 및 도금층 내부에 함입된 기체성분을 제거할 수 있다.If necessary, the resonator may be vacuum-treated to remove foreign matters adhered to the plating layer and gaseous components embedded in the plating layer.

상기와 같이 형성된 공진기에 도금 공정을 수행하여 광 반사층(S350)을 형성한다. 광 반사층은 반사율이 90% 이상인 금속 재질의 소재로서, 은(Ag), 알루미늄(Al) 등이 이에 해당한다.The light reflection layer S350 is formed by performing a plating process on the resonator formed as described above. The light reflection layer is made of a metal material having a reflectance of 90% or more, and corresponds to silver (Ag), aluminum (Al), and the like.

상기의 일련의 공정을 통해 형성한 공진기의 표면에 광 반사층의 보호를 위한 내열 투명층(S360)을 형성하여 무전극 조명기기용 공진기 제조공정을 완료한다. The heat-resistant transparent layer S360 is formed on the surface of the resonator formed through the series of processes to complete the resonator manufacturing process for the electrodeless lighting device.

이하, 도 4 내지 도 5e를 참조하여 제1실시예 내지 제3실시예를 설명하면 다 음과 같다.Hereinafter, the first to third embodiments will be described with reference to FIGS. 4 to 5E.

[제1실시예][First Embodiment]

본 발명의 제1실시예는 마스터 바디의 표면에 메쉬 패턴을 형성하는 방법에 관한 것으로, 도 4a 내지 도 4h를 참조하여 설명하면 다음과 같다.A first embodiment of the present invention relates to a method of forming a mesh pattern on the surface of a master body, which will be described below with reference to FIGS. 4A to 4H.

본 발명의 제1실시에에서는 마스터 바디 표면에 감광막의 메쉬 패턴을 형성한다. In the first embodiment of the present invention, a mesh pattern of a photosensitive film is formed on the surface of the master body.

본 발명은 공진기 형성을 위한 틀인 마스터(master) 바디를 가공함에 있어서, 스테인리스 강(SUS), 니켈(Ni), 구리(Cu)를 이용하여 마스터 바디를 형성한다.The present invention forms a master body using stainless steel (SUS), nickel (Ni), and copper (Cu) in processing a master body, which is a frame for forming a resonator.

도 4a에서는 형성된 마스터 바디(400a, 400b)를 도시한 것으로 상부가 원형인 원기둥(400a), 상부가 반구형인 원기둥(400b) 및 반구(400c)등의 다양한 형태로 마스터 바디(400a, 400b, 400c)를 형성할 수 있으며, 이렇게 형성된 마스터 바디(400a, 400b, 400c)의 외형에 따라 공진기의 형상이 결정된다.In FIG. 4A, the master bodies 400a and 400b are formed, and the master bodies 400a, 400b, and 400c have various shapes, such as a cylindrical cylinder 400a having an upper portion, a cylinder 400b having a hemispherical shape, and a hemisphere 400c having an upper portion. ), And the shape of the resonator may be determined according to the outer shapes of the master bodies 400a, 400b, and 400c thus formed.

더욱 상세하게는, 본 발명에 제1실시예에 따른 마스터 바디(400a, 400b, 400c)는 스테인리스 강재(SUS)를 이용하여 철제봉을 형성한 후, 제작된 철제봉에 구리(Cu) 또는 니켈(Ni)을 수 ㎜이상 도금하여 형성한다.More specifically, after the master body (400a, 400b, 400c) according to the first embodiment of the present invention to form a steel bar using a stainless steel (SUS), copper (Cu) or nickel on the produced steel bar It is formed by plating (Ni) several mm or more.

한편, 메쉬 패턴을 형성하기 위한 메쉬 패턴의 디자인은 메쉬 패턴이 형성된 필름 마스크(410)의 상부에 감광제를 균일하게 도포하여 형성한다.On the other hand, the design of the mesh pattern for forming the mesh pattern is formed by uniformly applying a photosensitive agent on the upper portion of the film mask 410 on which the mesh pattern is formed.

감광제의 도포공정은 실크 스크린(silk screen) 또는 스핀 코터(spin coater)를 사용하여 수백 ㎛ 두께로 도포하며, 감광제를 도포한 후, 베이크(bake) 공정을 수행하여 감광제 내에 존재하는 용제를 제거한다.The photosensitive agent is coated with a silk screen or spin coater to a thickness of several hundred μm, and after the photosensitive agent is applied, a bake process is performed to remove the solvent present in the photosensitive agent. .

도 4d에 도시된 바와 같이, 준비된 마스터 바디에 감광막(420)이 형성된 필름 마스크(410)를 부착하는 라미네이팅(laminating) 공정을 수행한다.As shown in FIG. 4D, a laminating process of attaching the film mask 410 on which the photosensitive film 420 is formed is performed on the prepared master body.

라미네이팅 공정 시 마스터 바디(400a)에 감광막(420)이 부착될 수 있도록 하며, 감광막(420)이 형성된 필름 마스크(410)를 위치시킨 후, 일정한 온도와 압력을 가하여 라미네이팅한다.The photosensitive film 420 may be attached to the master body 400a during the laminating process, and the film mask 410 on which the photosensitive film 420 is formed is positioned and then laminated by applying a constant temperature and pressure.

본 발명의 제1실시예에서는 원통부는 90℃ 내지 120℃의 온도범위에서 20 psi 내지 50psi의 압력으로 라미네이팅하며, 캡부는 60℃ 내지 90℃의 온도범위에서 20psi 내지 50psi의 압력으로 라미네이팅한다.In the first embodiment of the present invention, the cylindrical portion is laminated at a pressure of 20 psi to 50 psi at a temperature range of 90 ° C to 120 ° C, and the cap portion is laminated at a pressure of 20 psi to 50 psi at a temperature range of 60 ° C to 90 ° C.

마스터 바디(400a)에 감광막(420)이 형성된 필름 마스크(410)를 라미네이팅하는 공정이 완료되면 도 4e와 같이 전면 노광 공정을 수행한다.When the process of laminating the film mask 410 on which the photosensitive film 420 is formed on the master body 400a is completed, the entire surface exposure process is performed as shown in FIG. 4E.

이후, 감광막의 현상공정 및 세척 공정을 수행하여 마스터 바디(400a) 표면에 감광막(420)으로 이루어진 메쉬 패턴이 형성된다.Subsequently, a mesh pattern formed of the photosensitive film 420 is formed on the surface of the master body 400a by performing the developing process and the cleaning process of the photosensitive film.

메쉬 패턴이 형성된 마스터 바디를 도금장치에 침지하여 도금공정을 수행하기 전, 이형물질을 코팅하는 단계를 부가적으로 수행할 수 있다.Before the plating process is performed by immersing the master body having the mesh pattern formed in the plating apparatus, the step of coating the release material may be additionally performed.

마스터 바디의 표면에 스테인리스 강(SUS)일 경우는, 이형물질을 코팅하는 단계가 불필요하나, 그 외의 물질로 마스터 바디의 표면이 형성되어 있을 경우 금속물질과 부착력이 떨어지는 산화물과 같은 물질을 이형물질로 사용하여 마스터 바디의 표면을 코팅함으로써 이후 공정인 공진기의 박리를 용이하게 할 수 있다. If the surface of the master body is made of stainless steel (SUS), it is not necessary to coat the release material, but when the surface of the master body is formed of other materials, the release material may be a material such as an oxide having a poor adhesion with a metal material. By coating the surface of the master body using a can facilitate the peeling of the resonator is a subsequent process.

그리고, 마스터 바디(400a)는 도금 장치의 반응조(430)에 침지하여 도금 공 정을 수행한다.Then, the master body 400a is immersed in the reaction tank 430 of the plating apparatus to perform a plating process.

도금 장치는 입체 균일 도금 및 확산이 가능한 장치를 사용하는 것이 바람직하며, 플래니토리칼 또는 패들 유니트 탱크 등이 이에 해당한다.As the plating apparatus, it is preferable to use a device capable of stereoscopic uniform plating and diffusion, and this corresponds to a planetary or paddle unit tank.

이때, 마스터 바디(400a)에 형성된 메쉬 패턴으로 인하여 마스터 바디(400a) 표면에 메쉬 구조의 도금층 즉, 공진기가 형성되며, 양극에 금속물질을 달리 적용하여 도금 공정을 반복적으로 수행할 경우 다층의 금속 재질로 이루어진 공진기를 용이하게 형성할 수 있다.At this time, due to the mesh pattern formed on the master body 400a, a plating layer having a mesh structure, that is, a resonator is formed on the surface of the master body 400a, and when the plating process is repeatedly performed by applying a different metal material to the anode, the multi-layer metal The resonator made of a material can be easily formed.

도금 물질은 철계 금속(Ni, Co, Fe 등), 동계 금속(Cu, Al, Ag 등) 및 철계 금속과 동계 금속의 합금을 이용하여 단층 또는 다층으로 도금하여 공진기를 형성한다.The plating material is plated in a single layer or multiple layers using an iron metal (Ni, Co, Fe, etc.), a copper metal (Cu, Al, Ag, etc.) and an alloy of the iron metal and the copper metal to form a resonator.

도금 공정이 완료되면, 마스터 바디(400a)의 표면에 존재하는 감광막(420)을 제거한 후 도 4h에 도시된 바와 같이, 마스터 바디(400a)의 표면에 형성된 메쉬 구조의 도금층(440)을 마스터 바디(400a)로부터 분리하는 박리 공정을 수행(S340)함으로써 용접부위가 존재하지 않는 공진기를 형성한다.When the plating process is completed, after removing the photosensitive film 420 on the surface of the master body 400a, as shown in Figure 4h, the master body of the plating layer 440 of the mesh structure formed on the surface of the master body 400a By performing a peeling process to separate from the (400a) (S340) to form a resonator in which no weld site exists.

따라서, 박리 공정 후, 획득되는 공진기는 마스터의 표면 형상과 동일한 형상을 나타내며, 개구율이 80% 이상의 정교한 메쉬를 포함한다.Thus, after the peeling process, the resonator obtained exhibits the same shape as the surface shape of the master, and includes an elaborate mesh having an opening ratio of 80% or more.

상기의 일련의 공정을 통해 형성된 공진기는 용접부위가 존재하지 않아 공진기의 전자파 집속 대칭성을 형성할 수 있으며, 마스터 바디의 표면 형상에 따라 공진기의 형상이 결정되므로, 마스터 바디의 다양화를 통해 공진기의 입체 자유도가 증가할 수 있게 된다.The resonator formed through the above series of processes can form the electromagnetic wave focusing symmetry of the resonator because there is no welding site, and the shape of the resonator is determined according to the surface shape of the master body. Stereoscopic degrees of freedom can be increased.

박리 공정이 완료된 공진기는 도금 공정을 재수행하여 광반사층을 형성한다.After the peeling process is completed, the resonator performs a plating process again to form a light reflection layer.

광 반사층은 은(Ag), 알루미늄(Al)등으로 형성할 수 있으며, 형성 두께는 수㎛의 두께로 형성함이 바람직하다.The light reflection layer may be formed of silver (Ag), aluminum (Al), or the like, and the formation thickness is preferably formed to a thickness of several μm.

그리고 상기 광 반사층을 보호하기 위하여 그 표면에 내열 투명층을 형성한다.And a heat-resistant transparent layer is formed on the surface to protect the light reflection layer.

내열 투명층은 산화 규소(SiO2)층 또는 산화 알루미늄(Al2O3)층을 화학증착(CVD) 또는 플라즈마 증착(PVD)을 이용하여 형성함으로써, 공진기 제조공정을 완료한다.The heat-resistant transparent layer forms a silicon oxide (SiO 2 ) layer or an aluminum oxide (Al 2 O 3 ) layer by chemical vapor deposition (CVD) or plasma deposition (PVD), thereby completing the resonator manufacturing process.

[제2실시예]Second Embodiment

본 발명의 제2실시예는 마스터 바디의 표면을 에칭하여 메쉬 패턴을 형성하였다는 점을 제외하고는 제1실시예와 동일하다.The second embodiment of the present invention is the same as the first embodiment except that the surface of the master body is etched to form a mesh pattern.

이하, 첨부된 도 5a 내지 도 5e를 참조하여 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, with reference to the accompanying Figures 5a to 5e as follows.

본 발명의 제2실시예는 제1실시예와 동일한 방법으로 마스터 바디(500)를 형성하며, 메쉬 패턴이 형성된 필름 마스크(510)상에 감광제를 도포하는 메쉬 패턴 디자인을 수행한다.The second embodiment of the present invention forms the master body 500 in the same manner as the first embodiment, and performs a mesh pattern design in which a photosensitive agent is applied onto the film mask 510 on which the mesh pattern is formed.

다만, 본 발명의 제2실시예에서는 감광제의 타입을 제1실시예와 상이한 것으로 형성한다.However, in the second embodiment of the present invention, the type of photosensitive agent is formed to be different from that of the first embodiment.

예를 들어, 본 발명의 제1실시예에서 사용된 감광제의 타입이 양성일 경우, 본 발명의 제2실시예에서 사용되는 감광제의 타입은 음성이며, 제1실시예에서 사용된 감광제의 타입이 음성일 경우, 제2실시예에서 사용되는 감광제의 타입은 양성이 바람직하다. For example, when the type of photosensitive agent used in the first embodiment of the present invention is positive, the type of photosensitive agent used in the second embodiment of the present invention is negative, and the type of photosensitive agent used in the first embodiment is negative. In this case, the type of photosensitive agent used in the second embodiment is preferably positive.

그리고, 준비된 마스터 바디(500)에 감광막이 형성된 필름 마스크(510)를 부착하는 라미네이팅(laminating) 공정을 수행하고, 노광, 현상 및 세척공정을 순차적으로 하여 마스터 바디에 감광막을 이용한 메쉬 패턴을 형성한다.Then, a laminating process of attaching the film mask 510 on which the photoresist film is formed is performed on the prepared master body 500, and exposure, development, and washing processes are sequentially performed to form a mesh pattern using the photoresist film on the master body. .

이때, 본 발명의 제2실시예에서는 제1실시예와 상이한 타입의 감광제를 사용하였으므로, 도 5c에 도시된 바와 같이, 마스터 바디(500)에 형성된 메쉬 패턴 즉, 감광막(520)의 패턴은 제1실시예와 반대로 형성된다.In this case, since the second embodiment of the present invention uses a different type of photosensitive agent from the first embodiment, as shown in FIG. 5C, the mesh pattern formed on the master body 500, that is, the pattern of the photoresist film 520 may be formed. It is formed as opposed to the first embodiment.

이후, 마스터 바디(500)에 형성된 메쉬 패턴을 마스크로 사용하여 마스터 바디를 식각하는 식각공정을 수행한다. Thereafter, an etching process of etching the master body is performed using the mesh pattern formed on the master body 500 as a mask.

마스터 바디의 식각은 식각용액을 이용한 습식식각을 적용한다.The etching of the master body is applied by wet etching using an etching solution.

이를 더욱 상세히 설명하면, 식각 대상물인 마스터 바디의 표면이 철계 금속일 경우, 염화철(Ⅲ) 육수화물(FeCl3?6H2O)에 소정량의 물과 불산(HF)을 혼합하여 제조된 식각 용액을 이용하며, 식각 대상물인 마스터 바디의 표면에 동계 금속일 경우, 염화철((Ⅲ) 육수화물에 소정량의 물과 불산을 혼합하여 제조된 식각 용액을 이용하거나, 과산화수소, 유기산, 황산염, 고리형 아민 화합물 및 탈이온수를 혼합하여 제조된 식각 용액을 이용하여 마스터 바디의 표면을 식각한다.In more detail, when the surface of the master body as an etching target is an iron-based metal, an etching solution prepared by mixing a predetermined amount of water and hydrofluoric acid (HF) in iron (III) chloride hexahydrate (FeCl 3 ~ 6H 2 O) In the case of a copper metal on the surface of the master body, which is an object to be etched, using an etching solution prepared by mixing a predetermined amount of water and hydrofluoric acid with iron ((III) hexahydrate, or using hydrogen peroxide, organic acid, sulfate, cyclic The surface of the master body is etched using an etching solution prepared by mixing an amine compound and deionized water.

따라서, 본 발명의 제2실시예에 따른 마스터 바디(500)의 표면은 도 5d와 같 이 메쉬 형태의 홈(530)이 형성된다.Therefore, the surface of the master body 500 according to the second embodiment of the present invention is formed with a groove 530 of the mesh form as shown in Figure 5d.

메쉬 형태의 홈(530)에 마스킹 물질을 매립하기 전, 이형물질을 코팅하는 단계를 부가적으로 수행할 수 있다.Before filling the masking material in the groove 530 of the mesh form, the step of coating the release material may be additionally performed.

마스터 바디의 표면에 스테인리스 강(SUS)일 경우는, 이형물질을 코팅하는 단계가 불필요하나, 그 외의 물질로 마스터 바디의 표면이 형성되어 있을 경우 금속물질과 부착력이 떨어지는 이형물질을 코팅함으로써 이후 공정인 공진기의 박리를 용이하게 할 수 있다.If the surface of the master body is made of stainless steel (SUS), the step of coating the release material is unnecessary, but if the surface of the master body is formed of other materials by coating a release material that is less adhesion to the metal material and subsequent processes Peeling of the phosphorus resonator can be facilitated.

이때, 이형물질은 중크롬산 나트륨을 사용하여 코팅한다.At this time, the release material is coated using sodium dichromate.

마스터 바디에 코팅된 중크롬산 나트륨은 박리 공정에 의해 제거가 되지 않으므로 반 영구적으로 사용할 수 있어, 복수회의 공진기 형성공정을 용이하게 한다.Sodium dichromate coated on the master body can be used semi-permanently because it is not removed by the peeling process, facilitating a plurality of resonator forming processes.

이후, 마스킹 공정을 통해 도 5e에 나타난 바와 같이 메쉬 형태의 홈(530)에 마스킹 물질(540)을 매립한다.Thereafter, the masking material 540 is buried in the groove 530 of the mesh form as shown in FIG. 5E through a masking process.

마스킹 물질은 에폭시계열의 고분자, 테프론 및 산화막 중 어느 하나를 이용한다.The masking material may be any one of an epoxy-based polymer, a teflon, and an oxide film.

이후, 수행되는 도금공정 및 박리, 광반사층 형성 및 내열 투명층 형성공정 등은 제1실시예와 동일한 방법으로 수행한다.Thereafter, the plating process and the peeling, the light reflection layer forming and the heat-resistant transparent layer forming process are performed in the same manner as in the first embodiment.

본 발명의 제2실시예를 통하여 형성된 마스터는 그 바디 표면에 홈 형태의 메쉬 패턴이 식각되어 형성되어 있으므로, 제1실시예와 달리 반 영구적으로 재사용이 가능한 이점이 있다.The master formed through the second embodiment of the present invention is formed by etching the mesh pattern of the groove shape on the body surface, there is an advantage that can be semi-permanently reused unlike the first embodiment.

따라서 제1실시예와 달리 마스터 바디 표면에 한 번의 메쉬 패턴 형성공정으로, 다수개의 공진기를 제조할 수 있어 제조단가를 절감할 수 있는 이점이 있다. Therefore, unlike the first embodiment, it is possible to manufacture a plurality of resonators in one mesh pattern forming process on the surface of the master body, thereby reducing the manufacturing cost.

[제3실시예]Third Embodiment

본 발명의 제3실시예는 제1실시예 또는 제2실시예를 통해 공진기를 형성하고, 광 반사층을 알루미늄(Al)을 이용하여 형성한다. The third embodiment of the present invention forms a resonator through the first embodiment or the second embodiment, and forms a light reflection layer using aluminum (Al).

알루미늄(Al)은 은(Ag)에 비하여 변색성, 내화학성 및 내열성이 우수한 이점이 있다.Aluminum (Al) has advantages in discoloration, chemical resistance, and heat resistance as compared to silver (Ag).

따라서, 본 발명의 제3실시예를 통해 형성된 공진기는 광 반사율, 내화학성 및 내열성이 우수하다. Therefore, the resonator formed through the third embodiment of the present invention is excellent in light reflectance, chemical resistance and heat resistance.

알루미늄(Al) 광 반사층은 도금공정을 이용하여 25㎛ 내지 40㎛의 두께로 형성한다.The aluminum (Al) light reflection layer is formed to a thickness of 25 μm to 40 μm using a plating process.

이후, 알루미늄(Al) 광 반사층이 형성된 공진기에 내열 투명층을 형성하는 공정을 수행한다. Thereafter, a process of forming a heat resistant transparent layer in a resonator in which an aluminum (Al) light reflection layer is formed is performed.

내열 투명층은 알루미늄(Al) 광 반사층의 표면을 산화함으로써, 산화 알루미늄막(Al2O3)으로 형성한다.The heat resistant transparent layer is formed of an aluminum oxide film (Al 2 O 3 ) by oxidizing the surface of the aluminum (Al) light reflection layer.

이때, 산화알루미늄막(Al2O3)의 형성공정은 아노다이징 처리를 통하여 용이하게 형성할 수 있다.In this case, the forming process of the aluminum oxide film (Al 2 O 3 ) can be easily formed through anodizing treatment.

아노다이징이란 금속의 표면에 얇은 산화막을 형성하여 금속의 내부를 보호 하는 방법으로써, 황산 등과 같은 용액에서 공진기를 양극으로 작용하게 하여 공진기의 표면 즉, 알루미늄 막의 산화작용을 촉진시켜 균일한 두께의 산화 알루미늄막(Al2O3)을 형성한다.Anodizing is a method of protecting the inside of a metal by forming a thin oxide film on the surface of the metal. By anodizing the resonator in a solution such as sulfuric acid, it promotes the oxidation of the surface of the resonator, that is, the aluminum film. A film Al 2 O 3 is formed.

본 발명의 제3실시예를 통해 형성된 산화 알루미늄막의 형성 두께는 약 5㎛ 내지 15㎛이다.The formation thickness of the aluminum oxide film formed through the third embodiment of the present invention is about 5㎛ to 15㎛.

따라서, 본 발명의 제3실시예는 알루미늄(Al)을 이용하여 공진기의 광 반사층을 형성함으로써 은(Ag)을 이용하여 형성한 광 반사층에 비하여 내열성, 내화학성 및 내식성을 향상시킬 수 있으며, 아노다이징 처리하여 내열 투명층(Al2O3)을 형성하여 공정의 편의성을 도모할 수 있는 동시에 공정 비용이 절감되는 이점이 있다.Therefore, in the third embodiment of the present invention, by forming the light reflection layer of the resonator using aluminum (Al), heat resistance, chemical resistance, and corrosion resistance can be improved compared to the light reflection layer formed using silver (Ag), and anodizing By processing to form a heat-resistant transparent layer (Al 2 O 3 ) it is possible to facilitate the process and at the same time has the advantage of reducing the process cost.

본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적 의미로 한정해서 해석되어서는 아니되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.The terms or words used in this specification and claims are not to be construed as being limited to their usual or dictionary meanings, and the inventors may appropriately define the concept of terms in order to best describe their invention. It should be interpreted as meaning and concept corresponding to the technical idea of the present invention based on the principle that the present invention.

따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.Therefore, the embodiments described in the specification and the drawings shown in the drawings are only the most preferred embodiment of the present invention and do not represent all of the technical idea of the present invention, various modifications that can be replaced at the time of the present application It should be understood that there may be equivalents and variations.

본 발명을 통하여 제조된 무전극 조명기기의 공진기는 도금 공정을 통해 형성함으로써 금속 결정구조의 파괴를 막을 수 있어 금속의 성질을 그대로 유지하여 공진기를 형성할 수 있으며, 이와 더뷸어 공진기에 용접 부위가 존재하지 않아 공진기의 전자파 집속 대칭성을 유지할 수 있어 램프의 최적 설계가 용이하고, 그림자의 발생을 방지할 수 있는 효과가 있다.The resonator of the electrodeless lighting device manufactured according to the present invention can be formed through a plating process to prevent the destruction of the metal crystal structure, thereby maintaining the properties of the metal as it is, forming a resonator. Since it does not exist, it is possible to maintain the electromagnetic wave focusing symmetry of the resonator, so that the optimum design of the lamp is easy and there is an effect of preventing the occurrence of shadows.

또한, 본 발명을 통하여 제조된 무전극 조명기기의 공진기는 다층으로 형성할 수 있어 전자파 차단 특성 및 내열 특성이 우수한 이점이 있다.In addition, the resonator of the electrodeless lighting device manufactured through the present invention can be formed in a multi-layer has the advantage of excellent electromagnetic wave blocking characteristics and heat resistance characteristics.

본 발명을 통하여 제조된 무전극 조명기기의 공진기는 복잡한 입체 구조물을 용접공정 없이 용이하게 성형할 수 있어 형상 자유도가 확대되는 효과가 있다.The resonator of the electrodeless lighting device manufactured through the present invention can easily form a complicated three-dimensional structure without a welding process, thereby increasing the shape freedom.

본 발명을 통하여 제조된 무전극 조명기기의 공진기는 광반사층간의 밀착력을 향상시켜 공진기의 열전도성 및 전기전도성이 우수하며, 내화학성, 내식성 및 내열성이 향상되는 효과가 있다.The resonator of the electrodeless lighting device manufactured by the present invention improves the adhesion between the light reflection layers, thereby improving the thermal conductivity and the electrical conductivity of the resonator, and improving the chemical resistance, corrosion resistance, and heat resistance.

본 발명은 도금 공정을 통하여 공진기를 형성함으로써 다양한 금속 소재를 이용한 공진기의 제작이 용이하며, 저가의 공정비용으로 실현할 수 있어 양산화에 유리한 이점이 있다.The present invention is easy to manufacture a resonator using a variety of metal materials by forming a resonator through a plating process, it can be realized at a low process cost has an advantage in mass production.

Claims (28)

메쉬 패턴이 형성된 필름 마스크상에 감광막을 형성하는 단계;Forming a photoresist film on the film mask on which the mesh pattern is formed; 상기 감광막이 형성된 상기 필름 마스크를 마스터 바디에 라미네이팅하는 단계;Laminating the film mask on which the photosensitive film is formed on a master body; 상기 마스터 바디에 감광막으로 이루어진 메쉬 패턴을 형성하는 단계;Forming a mesh pattern formed of a photosensitive film on the master body; 상기 마스터 바디를 도금하여 공진기를 형성하는 단계; 및Plating the master body to form a resonator; And 형성된 상기 공진기를 상기 마스터로부터 분리하는 단계Separating the formed resonator from the master 를 포함하는 무전극 조명기기의 공진기 제조방법.Resonator manufacturing method of an electrodeless lighting device comprising a. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 도금하여 공진기를 형성하는 단계 이전에 메쉬 패턴이 형성된 상기 마스터 바디에 이형물질을 코팅하는 단계를 더 포함하는 무전극 조명기기의 공진기 제조방법.And coating a release material on the master body on which the mesh pattern is formed before the plating to form the resonator. 메쉬 패턴이 형성된 필름 마스크상에 감광막을 형성하는 단계;Forming a photoresist film on the film mask on which the mesh pattern is formed; 감광막이 형성된 상기 필름 마스크를 마스터 바디에 라미네이팅하는 단계;Laminating the film mask on which the photoresist film is formed to a master body; 상기 마스터 바디에 감광막으로 이루어진 메쉬 패턴을 형성하는 단계;Forming a mesh pattern formed of a photosensitive film on the master body; 상기 마스터 바디를 식각하여 홈을 형성하는 단계;Etching the master body to form a groove; 상기 마스터 바디의 홈에 마스킹 물질을 형성하는 단계;Forming a masking material in the groove of the master body; 상기 마스터 바디를 도금하여 공진기를 형성하는 단계; 및Plating the master body to form a resonator; And 형성된 상기 공진기를 상기 마스터로부터 분리하는 단계Separating the formed resonator from the master 를 포함하는 무전극 조명기기의 공진기 제조방법.Resonator manufacturing method of an electrodeless lighting device comprising a. 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,The method according to claim 1 or 3, 상기 마스터 바디는 스테인레스 강(SUS), 니켈(Ni), 구리(Cu) 또는 그의 합금을 이용하여 형성하는 무전극 조명기기의 공진기 제조방법.The master body is made of stainless steel (SUS), nickel (Ni), copper (Cu) or an alloy thereof. 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,The method according to claim 1 or 3, 상기 감광막이 형성된 상기 필름 마스크를 마스터 바디에 라미네이팅 하는 단계는,Laminating the film mask on which the photosensitive film is formed on a master body, 상기 마스터 바디와 상기 감광막이 부착될 수 있도록 하는 무전극 조명기기의 공진기 제조방법.The resonator manufacturing method of the electrodeless lighting device to be attached to the master body and the photosensitive film. 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,The method according to claim 1 or 3, 상기 감광막으로 이루어진 메쉬 패턴을 형성하는 단계는,Forming a mesh pattern made of the photosensitive film, 상기 마스터 바디를 노광하는 단계;Exposing the master body; 상기 필름 마스크를 상기 마스터 바디로부터 제거하는 단계;Removing the film mask from the master body; 상기 마스터 바디에 존재하는 감광막을 현상하는 단계; 및 Developing a photoresist film present on the master body; And 상기 마스터 바디를 세척하는 단계Washing the master body 를 포함하는 무전극 조명기기의 공진기 제조방법.Resonator manufacturing method of an electrodeless lighting device comprising a. 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,The method according to claim 1 or 3, 상기 메쉬 패턴이 형성된 마스터를 도금하여 공진기를 형성하는 단계는,Forming a resonator by plating the master on which the mesh pattern is formed, 플레니토리칼 또는 패들 유니트 탱크를 이용하여 입체 도금하는 무전극 조명기기의 공진기 제조방법.Method of manufacturing a resonator for an electrodeless lighting device which is three-dimensionally plated using a planetary or paddle unit tank. 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,The method according to claim 1 or 3, 상기 형성된 상기 공진기를 상기 마스터로부터 분리한 후, After separating the formed resonator from the master, 상기 마스터로부터 분리된 공진기에 광 반사층을 형성하는 단계; 및 Forming a light reflecting layer in the resonator separated from the master; And 상기 광 반사층을 보호하기 위한 내열 투명층을 형성하는 단계Forming a heat-resistant transparent layer for protecting the light reflection layer 를 더 포함하는 무전극 조명기기의 공진기 제조방법.Resonator manufacturing method of an electrodeless lighting device further comprising. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 이형물질은 산화물인 무전극 조명기기의 공진기 제조방법.The release material is an oxide resonator manufacturing method of the electrodeless lighting device. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 마스터 바디를 식각하여 홈을 형성하는 단계는,Etching the master body to form a groove, 상기 마스터 바디의 표면이 철계 금속일 경우, 염화철(Ⅲ)용액을 이용하며, 상기 마스터 바디의 표면이 동계 금속일 경우, 황산염 용액을 이용하여 습식식각하는 무전극 조명기기의 공진기 제조방법.If the surface of the master body is an iron-based metal, using a ferric chloride (III) solution, when the surface of the master body is a copper-based metal, wet etching with a sulfate solution using a resonator manufacturing method of the electrode. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 마스터 바디의 홈에 마스킹 물질을 형성하는 단계 이전에 홈이 형성된 상기 마스터 바디에 이형물질을 코팅하는 단계를 더 포함하는 무전극 조명기기의 공진기 제조방법.And coating a release material on the grooved master body before forming the masking material in the groove of the master body. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 마스터 바디의 홈에 마스킹 물질을 형성하는 단계는,Forming a masking material in the groove of the master body, 에폭시계열의 고분자, 테프론 및 산화실리콘 중 어느 하나를 사용하여 형성하는 무전극 조명기기의 공진기 제조방법.A method of manufacturing a resonator for an electrodeless lighting device formed using any one of an epoxy-based polymer, Teflon, and silicon oxide. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, 상기 부착은,The attachment is, 60℃ 내지 120℃의 온도와, 20psi 내지 50psi의 압력을 가하여 부착하는 무전극 조명기기의 공진기 제조방법.A method of manufacturing a resonator for an electrodeless lighting device, which is attached by applying a temperature of 60 ° C to 120 ° C and a pressure of 20psi to 50psi. 제 7 항에 있어서, The method of claim 7, wherein 상기 도금은,The plating is 니켈(Ni), 코발트(Co), 철(Fe), 구리(Cu), 은(Ag) 및 알루미늄(Al) 중 적어도 어느 하나 이상을 포함하는 물질을 사용하여 형성하는 무전극 조명기기의 공진기 제조방법.Fabrication of a resonator for an electrodeless lighting device formed using a material containing at least one of nickel (Ni), cobalt (Co), iron (Fe), copper (Cu), silver (Ag), and aluminum (Al) Way. 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 광 반사층은 알루미늄(Al) 또는 은(Ag)을 도금하여 형성하는 무전극 조명기기의 공진기 제조방법.The light reflecting layer is a resonator manufacturing method of an electrodeless lighting device is formed by plating aluminum (Al) or silver (Ag). 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 내열 투명층은 산화규소 또는 산화 알루미늄을 화학증착 또는 플라즈마 증착으로 형성하는 무전극 조명기기의 공진기 제조방법.The heat-resistant transparent layer is a resonator manufacturing method of an electrodeless lighting device to form silicon oxide or aluminum oxide by chemical vapor deposition or plasma deposition. 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 광 반사층은 알루미늄(Al)을 25㎛ 내지 40㎛의 두께 형성하고,The light reflection layer is formed of aluminum (Al) of 25 ㎛ to 40 ㎛ thickness, 상기 내열 투명층은 상기 알루미늄(Al)을 아노다이징하여 산화 알루미늄(Al2O3)으로 형성하는 무전극 조명기기의 공진기 제조방법. The heat-resistant transparent layer is a resonator manufacturing method of an electrodeless lighting device to anodize the aluminum (Al) to form aluminum oxide (Al 2 O 3 ). 제 11 항에 있어서,The method of claim 11, 상기 이형물질은 중크롬산 나트륨인 무전극 조명기기의 공진기 제조방법.The release material is a sodium dichromate sodium resonator manufacturing method of the lighting device. 제 14 항에 있어서, The method of claim 14, 상기 도금은,The plating is 복수회 수행하여 마스터 바디의 표면에 도금층을 다층으로 형성하는 무전극 조명기기의 공진기 제조방법.Method of manufacturing a resonator of an electrodeless lighting device to perform a plurality of times to form a plating layer on the surface of the master body in a multilayer. 원기둥 형상의 공진기에 있어서,In the cylindrical resonator, 상기 공진기의 하부는 개방되고, 상기 공진기의 상부는 원 또는 반구 형상이며, A lower portion of the resonator is open, and an upper portion of the resonator is circular or hemispherical, 상기 공진기의 하부를 제외한 전체면에는 빛을 통과시키는 반면 전자파를 차폐시키기 위한 메쉬가 균일하게 형성되며,While the entire surface except the lower portion of the resonator passes the light while forming a uniform mesh to shield the electromagnetic waves, 상기 공진기는 도금공정에 의해 일체화되는 무전극 조명기기의 공진기.The resonator is a resonator of the electrodeless lighting device is integrated by a plating process. 반구 형상의 공진기에 있어서,In the hemispherical resonator, 상기 공진기의 하부는 개방되고, The lower part of the resonator is opened, 상기 공진기의 하부를 제외한 전체면에는 빛을 통과시키는 반면 전자파를 차폐시키기 위한 메쉬가 균일하게 형성되며,While the entire surface except the lower portion of the resonator passes the light while forming a uniform mesh to shield the electromagnetic waves, 상기 공진기는 도금공정에 의해 일체화되는 무전극 조명기기의 공진기.The resonator is a resonator of the electrodeless lighting device is integrated by a plating process. 제 20 항 또는 제 21 항에 있어서,The method of claim 20 or 21, 상기 공진기는 단층 또는 다층으로 형성된 무전극 조명기기의 공진기.The resonator is a resonator of an electrodeless lighting device formed of a single layer or multiple layers. 제 20 항 또는 제 21 항에 있어서,The method of claim 20 or 21, 상기 공진기는 광 반사층 및 The resonator is a light reflection layer and 상기 광 반사층을 보호하기 위한 내열 투명층을 포함하는 무전극 조명기기의 공진기.A resonator of an electrodeless illuminator comprising a heat-resistant transparent layer for protecting the light reflecting layer. 제 22 항에 있어서,The method of claim 22, 상기 공진기는 니켈(Ni), 코발트(Co), 철(Fe), 구리(Cu), 은(Ag) 및 알루미늄(Al) 중 적어도 어느 하나 이상을 포함하는 무전극 조명기기의 공진기.The resonator includes at least one of nickel (Ni), cobalt (Co), iron (Fe), copper (Cu), silver (Ag) and aluminum (Al). 제 23 항에 있어서,The method of claim 23, 상기 광 반사층은 알루미늄(Al) 또는 은(Ag)인 무전극 조명기기의 공진기. The light reflecting layer is aluminum (Al) or silver (Ag) resonator of the electrodeless lighting device. 제 23 항에 있어서,The method of claim 23, 상기 내열 투명층은 산화 알루미늄(Al2O3) 또는 산화 규소(SiO2)인 무전극 조명기기의 공진기.The heat-resistant transparent layer is a resonator of an electrodeless lighting device is aluminum oxide (Al 2 O 3 ) or silicon oxide (SiO 2 ). 제 25 항에 있어서,The method of claim 25, 상기 광 반사층은 수 ㎛의 두께인 무전극 조명기기의 공진기.The light reflection layer is a resonator of an electrodeless lighting device having a thickness of several μm. 제 26 항에 있어서,The method of claim 26, 상기 내열 투명층은 수 ㎛의 두께인 무전극 조명기기의 공진기.The heat-resistant transparent layer is a resonator of the electrodeless lighting device having a thickness of several μm.
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