KR100817433B1 - Coating Structure of Resonator for Electrodeless Discharge Lamp - Google Patents

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Abstract

본 발명은 무전극 조명기기용 공진기의 코팅구조에 관한 것으로서, 본 발명에 의한 코팅구조는 상기 공진기의 상부표면에 Ag, Cu, Au 중의 적어도 어느 하나 이상의 조성으로 형성되는 브릿지층과, 상기 브릿지층의 상부표면 또는 하부표면 중의 적어도 어느 한 일면에 Al, Ni, Ni+B, B, W, Cr, Au, SiO2 중의 적어도 어느 하나 이상의 조성으로 형성되는 반사층을 포함하여 구성된다. 이때, 상기 브릿지층을 형성하지 아니하고 상기 공진기의 상부표면에 바로 상기 반사층을 형성할 수도 있다. The present invention relates to a coating structure of a resonator for an electrodeless lighting device, wherein the coating structure according to the present invention comprises a bridge layer formed of at least one composition of Ag, Cu, Au on the upper surface of the resonator, and At least one surface of the upper surface or the lower surface comprises a reflective layer formed of at least one composition of Al, Ni, Ni + B, B, W, Cr, Au, SiO 2 . In this case, the reflective layer may be formed directly on the upper surface of the resonator without forming the bridge layer.

본 발명에 의하면, 공진기의 전도성, 광효율 및 내열성 등이 크게 향상되며, 상온이나 고온에 있어서도 종래에 비하여 공진기 표면의 변색현상의 발생이 매우 장시간 억제된다. 또한, 종래와 같이 공진기 표면에 코팅되는 고가의 재료인 은을 이보다 저렴한 재료로서 대체하게 되므로 제조경비가 크게 절감된다.According to the present invention, the conductivity, light efficiency and heat resistance of the resonator are greatly improved, and generation of discoloration on the surface of the resonator is suppressed for a very long time even at room temperature or high temperature. In addition, manufacturing cost is greatly reduced because silver, which is an expensive material coated on the surface of the resonator, is replaced with a cheaper material as in the related art.

무전극조명기기, 공진기, 코팅구조, 브릿지층, 반사층 Electrodeless lighting device, resonator, coating structure, bridge layer, reflective layer

Description

무전극 조명기기용 공진기의 코팅구조 {Coating Structure of Resonator for Electrodeless Discharge Lamp}Coating Structure of Resonator for Electrodeless Lighting Equipment {Coating Structure of Resonator for Electrodeless Discharge Lamp}

도 1은 일반적인 무전극 조명기기를 설명하기 위한 개략 구조도.1 is a schematic structural diagram for explaining a general electrodeless lighting device.

도 2a는 일반적인 무전극 조명기기에 사용되는 공진기를 나타내는 사시도. Figure 2a is a perspective view showing a resonator used in a general electrodeless lighting device.

도 2b는 도 2a의 'A'부분에 대한 상세도.FIG. 2B is a detailed view of portion 'A' of FIG. 2A; FIG.

도 3은 본 발명에 의한 무전극 조명기기용 공진기의 상부면에 코팅되는 각 박막의 적층구조를 나타내는 개략구조도.Figure 3 is a schematic structural diagram showing a laminated structure of each thin film coated on the upper surface of the resonator for an electrodeless lighting device according to the present invention.

도 4a는 본 발명의 실시예 1에 의한 박막구조 단면의 전자현미경 사진.Figure 4a is an electron micrograph of the cross-section of the thin film structure according to Example 1 of the present invention.

도 4b는 본 발명의 실시예 3에 의한 박막구조 단면의 전자현미경 사진.Figure 4b is an electron micrograph of the cross-section of the thin film structure according to the third embodiment of the present invention.

본 발명은 마이크로파를 이용한 무전극 조명기기용 공진기에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 마이크로파를 이용한 무전극 조명기기용 공진기의 표면에 광특성 및 내열성을 향상시키는 박막층의 코팅구조에 관한 것이다. The present invention relates to a resonator for an electrodeless illuminator using microwaves, and more particularly, to a coating structure of a thin film layer for improving optical characteristics and heat resistance on the surface of a resonator for electrodeless illuminators using microwaves.

일반적으로 마이크로파를 이용한 무전극 조명기기는 무전극 플라즈마 전구에 마이크로파를 가하여 이로부터 가시광선 또는 자외선을 얻어내는 장치로서, 소위 플라즈마 램프로도 불리며, 통상적인 백열등이나 형광등에 비해 램프의 수명이 길고 조명의 효과가 우수하다.In general, an electrodeless lighting apparatus using microwaves is a device that obtains visible or ultraviolet rays from microwaves by applying microwaves to an electrodeless plasma bulb, which is also called a plasma lamp. The effect is excellent.

도 1은 일반적인 무전극 조명기기를 설명하기 위한 개략 구조도이다.1 is a schematic structural diagram for explaining a general electrodeless lighting device.

무전극 조명기기는 마이크로파를 생성시키는 마그네트론(1)과, 상기 마그네트론(1)으로부터 마이크로파를 전달하는 도파관(3)과, 상기 도파관(3)을 통해 전달된 마이크로파 에너지에 의해 내부에 봉입된 물질이 플라즈마화되면서 빛을 발생시키는 전구(5)와, 상기 도파관(3)과 전구(5)의 앞쪽에 씌워져 마이크로파가 누설되는 것을 차단하면서 상기 전구(5)에서 발광된 빛은 통과시키는 공진기(20)로 구성된다.The electrodeless lighting device includes a magnetron 1 for generating microwaves, a waveguide 3 for transmitting microwaves from the magnetron 1, and a material encapsulated therein by microwave energy transmitted through the waveguide 3. Light bulb 5 to generate light while being plasma, and the resonator 20 to cover the waveguide 3 and the front of the light bulb 5 to prevent the leakage of microwaves while passing the light emitted from the light bulb 5 It consists of.

또한, 무전극 조명기기는 상기 마그네트론(1)에 상용 교류전원을 고압으로 승압시켜 제공하는 고압 발생기(7)와, 상기 마그네트론(1)과 고압 발생기(7) 등을 냉각시키기 위한 냉각 장치(9)와, 상기 전구(5)에서 발생된 빛을 앞쪽으로 집중 반사시키는 반사갓(11)과, 상기 전구(5)를 회전시켜 빛을 방출하면서 발생되는 열을In addition, the electrodeless illuminator includes a high pressure generator 7 for boosting the commercial AC power to the magnetron 1 at a high pressure, and a cooling device 9 for cooling the magnetron 1, the high pressure generator 7, and the like. ), A reflection shade 11 for intensively reflecting the light generated by the bulb 5 forward, and heat generated while rotating the bulb 5 to emit light.

냉각시키는 전구모터(13) 및 전구축(15)이 추가로 구성된다.The bulb motor 13 and the bulb shaft 15 to cool are further configured.

무전극 조명기기의 일반적인 구동을 간단히 설명한다. The general operation of an electrodeless illuminator is described briefly.

먼저 고압 발생기(7)에 구동신호가 입력되면, 고압 발생기(7)는 외부로부터 교류 전원을 승압시켜 승압된 고압을 마그네트론(1)에 공급한다. 마그네트론(1)은 고압 발생기(7)로부터 공급된 고압에 의해 발진하면서 매우 높은 주파수를 갖는 마이크로파를 생성시키고, 이렇게 생성된 마이크로파는 도파관(3)을 통해 공진기(20) 내부로 방사되면서 전구(5) 내의 봉입된 물질을 방전시켜 고유한 방출 스펙트럼을 가지는 빛을 발생시키게 된다. 그리고, 상기 빛은 미러(12) 및 반사갓(11)을 통해 전방으로 반사되면서 조명기능을 하게 되는 것이다.First, when a driving signal is input to the high pressure generator 7, the high pressure generator 7 boosts AC power from the outside to supply the boosted high pressure to the magnetron 1. The magnetron 1 generates microwaves having a very high frequency while oscillating by the high pressure supplied from the high pressure generator 7, and the generated microwaves are radiated through the waveguide 3 into the resonator 20 and the bulb 5 is discharged. The encapsulated material in the cell is discharged to generate light having a unique emission spectrum. In addition, the light is reflected to the front through the mirror 12 and the reflector 11 to function as an illumination.

도 2a는 일반적인 무전극 조명기기에 사용되는 공진기를 나타내는 사시도이고, 도 2b는 도 2a의 'A'부분에 대한 상세도이다. FIG. 2A is a perspective view illustrating a resonator used in a general electrodeless lighting device, and FIG. 2B is a detailed view of portion 'A' of FIG. 2A.

공진기(20)는 금속망 형태로 이루어져 상기한 도파관(3)의 출구부(3a)에 조립됨으로써 도파관(3)을 통해 전송된 마이크로파를 차폐하여 마이크로파 에너지가 전구(5) 내에서 빛으로 변환되도록 하는 동시에 마이크로파가 외부로 누출되는 것은 차단하면서 전구(5)에서 발생된 빛은 외부로 투과시키는 역할을 한다.The resonator 20 is formed in the form of a metal mesh and is assembled to the outlet portion 3a of the waveguide 3 to shield microwaves transmitted through the waveguide 3 so that microwave energy is converted into light in the light bulb 5. At the same time, while preventing the leakage of microwaves to the outside serves to transmit the light generated from the light bulb (5) to the outside.

공진기(20)는 개방된 부분(20a) 쪽의 일부분을 제외하고 에칭 가공으로 복수의 홀(20b)이 형성된 원통부(21)와, 볼록한 모양으로 형성되어 원통부(21)의 앞부분에 연결되도록 에칭 가공으로 복수의 홀(20b)이 형성된 뚜껑부(25)로 구성된다. 이때, 원통부(21)는 마이크로파가 누설되는 것을 차단하면서 빛은 통과시키는 망상부(22)와, 상기 도파관(3)의 출구부에 고정될 수 있도록 에칭 가공되지 않은 비망상부(23)로 구성된다.The resonator 20 has a cylindrical portion 21 in which a plurality of holes 20b are formed by etching except for a part of the open portion 20a, and is formed in a convex shape so as to be connected to the front portion of the cylindrical portion 21. It consists of the lid part 25 in which the some hole 20b was formed by the etching process. At this time, the cylindrical portion 21 is composed of a reticular portion 22 through which light passes while blocking microwave leakage, and a non-reticular portion 23 which is not etched to be fixed to the outlet portion of the waveguide 3. do.

이때, 공진기(20)는 도파관(3)을 통해 전달되는 마이크로파를 차폐하면서 공진 영역을 형성하게 되므로, 높은 정밀도가 요구될 뿐만 아니라 전구(5)에서 발광되는 빛을 잘 투과시키고, 아울러 전구(5)에서 발생되는 열에 견딜 수 있는 내열성을 가져야 한다. 종래 공진기의 광효율을 증가하기 위한 기술은 국내특허공개공보 제2003-69722호, 제2001-19882호, 제2004-53668호 등에 기재되어 있다. In this case, since the resonator 20 forms a resonance region while shielding the microwaves transmitted through the waveguide 3, not only high precision is required but also the light emitted from the light bulb 5 is well transmitted, and the light bulb 5 Heat resistance must be able to withstand the heat generated from). Techniques for increasing the light efficiency of a conventional resonator are described in Korean Patent Publication Nos. 2003-69722, 2001-19882, 2004-53668, and the like.

일반적으로 종래의 공진기(20)는 스테인레스강 또는 인청동 재질로 제조되며, 전도성이나 반사도를 향상시키기 위하여 은(Ag)으로 되는 박막층이 그 표면에 도금되어 형성된다. In general, the resonator 20 of the related art is made of stainless steel or phosphor bronze material, and a thin film layer made of silver (Ag) is plated on the surface thereof to improve conductivity or reflectivity.

그러나, 이러한 종래의 기술은 고가의 은을 사용함으로써 제조경비가 많이 소요되어 경제성이 떨어지며, 또한 사용시 발생하는 150℃ 정도의 열에 의하여 상기 은 박막층이 쉽게 변색되어 반사도가 감소하므로 이를 방지하기 위하여 별도의 내열층 형성이 추가되어야 한다는 문제점이 있었다. 또한, 고열이 발생되는 전구(5) 주변에 위치하는 부분이 상기 은 박막층의 산화에 의한 부식이 쉽게 발생되고, 상온에서 20 내지 30일 정도로 방치될 때 상기 은 박막층의 변색현상이 발생하는 등의 심각한 문제점이 있었다.However, such a conventional technology is expensive to use a lot of manufacturing costs, the economical efficiency is reduced, and also because the silver thin film layer is easily discolored by the heat of about 150 ℃ generated during use to reduce the reflectance to prevent this There was a problem that heat-resistant layer formation should be added. In addition, when the portion located around the bulb 5 where high heat is generated is easily generated by oxidation of the silver thin film layer, and is left at about 20 to 30 days at room temperature, discoloration of the silver thin film layer occurs. There was a serious problem.

이에, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 상기의 문제점을 가지는 은을 대체함과 동시에 전도성, 광효율 및 내열성 등을 크게 향상시키고 제조경비를 절감할 수 있는 무전극 조명기기용 공진기의 코팅구조를 제공하는 데 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems, the object of the present invention is to replace the silver having the above problems and at the same time significantly improve the conductivity, light efficiency and heat resistance and can reduce the manufacturing cost The present invention provides a coating structure of a resonator for an electrodeless lighting device.

이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징으로서, 본 발명에 의한 무전극 조명기기용 공진기의 코팅구조는 상기 공진기의 상부표면에 Ag, Cu, Au 중의 적어도 어느 하나 이상의 조성으로 형성되는 브릿지층과, 상기 브릿지층의 상부표면 또는 하부표면 중의 적어도 어느 한 일면에 Al, Ni, Ni+B, B, W, Cr, Au, SiO2 중의 적어도 어느 하나 이상의 조성으로 형성되는 반사층을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.As a feature of the present invention for achieving the above object, the coating structure of the resonator for an electrodeless lighting device according to the present invention is a bridge layer formed of at least one composition of Ag, Cu, Au on the upper surface of the resonator, At least one surface of the upper surface or the lower surface of the bridge layer comprises a reflective layer formed of at least one composition of Al, Ni, Ni + B, B, W, Cr, Au, SiO 2 It is done.

또한, 본 발명의 다른 특징으로서 본 발명에 의한 무전극 조명기기용 공진기의 코팅구조는 상기 공진기의 상부표면에 Al, Ni, Ni+B, B, W, Cr, Au, SiO2 중의 적어도 어느 하나 이상의 조성으로 형성되는 반사층을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.In addition, as another feature of the present invention, the coating structure of the resonator for an electrodeless lighting device according to the present invention is at least one of Al, Ni, Ni + B, B, W, Cr, Au, SiO 2 on the upper surface of the resonator It is characterized by including a reflective layer formed of a composition.

또한, 본 발명의 다른 특징으로서 상기 브릿지층은 습식도금법, PVD법, CVD법 중 적어도 어느 하나 이상의 방법으로 형성되는 것을 특징으로 한다.In another aspect of the present invention, the bridge layer may be formed by at least one of wet plating, PVD, and CVD.

또한, 본 발명의 다른 특징으로서 상기 반사층은 Ni, Cr, Au 중의 적어도 어느 하나 이상의 조성인 경우 습식도금법, PVD법, CVD법 중 적어도 어느 하나 이상의 방법으로 형성되는 것을 특징으로 한다.In another aspect of the present invention, the reflective layer is formed of at least one of a wet plating method, a PVD method, and a CVD method in the case of at least one composition of Ni, Cr, and Au.

또한, 본 발명의 다른 특징으로서 상기 반사층은 Ni+B, B, W 중 적어도 어느 하나 이상의 조성인 경우 습식도금법으로 형성되는 것을 특징으로 한다.In addition, as another feature of the present invention, the reflective layer is formed by a wet plating method in the case of at least one composition of Ni + B, B, and W.

또한, 본 발명의 다른 특징으로서 상기 반사층은 Al 또는 SiO2 중 적어도 어느 하나 이상의 조성인 경우 PVD법 또는 CVD법 중 적어도 어느 하나 이상의 방법으로 형성되는 것을 특징으로 한다.In addition, the reflective layer is Al or SiO 2 as another feature of the present invention At least one of the composition is characterized in that formed by at least one or more of the PVD method or CVD method.

이하, 본 발명을 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, the present invention will be described in detail.

도 3은 본 발명에 의한 무전극 조명기기용 공진기의 상부면에 코팅되는 각 박막의 적층구조를 나타내는 개략구조도이다.3 is a schematic structural diagram showing a laminated structure of each thin film coated on the upper surface of the resonator for an electrodeless lighting device according to the present invention.

먼저, 본 발명에 의한 무전극 조명기기용 공진기는 종래의 구조를 갖는 공진기로서 그 표면(2)에 전도성을 향상시켜 전기저항을 감소시키도록 브릿지층(3)이 형성된다. 이때, 상기 공진기의 재질로서는 일반적으로 스테인레스강 또는 인청동 재질로 된다. 또한, 브릿지층(3)은 Ag, Cu, Au 등의 어느 하나 이상의 재료로서 습식도금, PVD(Physical Vapor Deposition), CVD(Chemical Vapor Deposition) 등의 방법으로 형성될 수 있다.First, the resonator for an electrodeless illuminator according to the present invention is a resonator having a conventional structure, and a bridge layer 3 is formed to improve electrical conductivity and reduce electrical resistance on the surface 2 thereof. In this case, the material of the resonator is generally made of stainless steel or phosphor bronze. In addition, the bridge layer 3 may be formed of any one or more materials such as Ag, Cu, Au, or the like by wet plating, physical vapor deposition (PVD), chemical vapor deposition (CVD), or the like.

또한, 본 발명에 의한 상기 공진기는 광특성 및 내열성을 향상시키기 위하여 브릿지층(3)의 상부 또는 하부 표면 중 적어도 어느 하나에 반사층(4)이 형성된다. 또는, 상기 공진기 상부면(2)에 브릿지층(3)을 형성하지 아니하고 직접 상기 공진기 상부면(2)에 반사층(4)을 형성하는 것도 가능하다. 따라서, 본 발명에 의하면, 공진기 상부면(2)에 코팅되는 박막(1)은 브릿지층(3)과 반사층(4)으로 이루어지거나, 또는 단지 반사층(4)만으로 이루어질 수 있다.In addition, the resonator according to the present invention, the reflective layer 4 is formed on at least one of the upper or lower surface of the bridge layer 3 in order to improve optical characteristics and heat resistance. Alternatively, the reflection layer 4 may be formed directly on the resonator upper surface 2 without forming the bridge layer 3 on the resonator upper surface 2. Therefore, according to the present invention, the thin film 1 coated on the resonator upper surface 2 may consist of the bridge layer 3 and the reflective layer 4, or may consist only of the reflective layer 4.

반사층(4)은 Al, Ni, Ni+B, B, W, Cr, Au, SiO2 중의 적어도 어느 하나 이상의 재료로서 습식도금, PVD, CVD 등의 방법으로 형성될 수 있다. 특히, 이 중에서도 Ni+B, B, W 등은 습식도금법을 이용하여 반사층(4)을 형성하는 것이 바람직하고, Al, SiO2 등은 PVD법이나 CVD법을 이용하여 반사층(4)을 형성하는 것이 바람직하다.The reflective layer 4 may be formed by at least one of Al, Ni, Ni + B, B, W, Cr, Au, and SiO 2 by wet plating, PVD, CVD, or the like. In particular, among these, it is preferable that Ni + B, B, W, etc. form the reflective layer 4 by the wet plating method, and Al, SiO 2 It is preferable to form the reflective layer 4 by PVD method or CVD method.

이하, 본 발명의 실시예에 대하여 설명한다. 본 발명이 하술하는 실시예는 본 발명의 전반적인 이해를 돕기 위하여 제공되는 것이며, 본 발명은 하기 실시예 로만 한정되는 것은 아니다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the Example of this invention is described. The embodiments described below are provided to aid the overall understanding of the present invention, and the present invention is not limited to the following examples.

실시예Example 1~4 1 ~ 4

본 실시예 1~4는 아래와 같이 각 실시예에 따른 광효율 특성을 관찰하였다.Examples 1 to 4 observed the light efficiency characteristics according to each example as follows.

먼저, 본 실시예 1에서는 도 3의 적층구조에 있어서 브릿지층(3)을 형성하지 아니하고, Ag, Al, Ni, Ni+B, SiO2, B, W, Cr 등의 재료로써 반사층(4)을 직접 공진기 상부면(2)에 대략 3 내지 10㎛ 범위의 두께로 형성하였다. 도 4a는 이에 따른 구조로서 브릿지층(3)을 형성하지 아니하고, Al 또는 W을 직접 공진기 상부면(2)에 코팅하여 반사층(4)을 형성하여 코팅한 것이며, 이렇게 형성된 반사층(4) 단면의 전자현미경사진을 보인다. 이때, A는 공진기 상부면(2)의 단면을, C는 반사층(4)의 단면을 가리키며, M은 전자현미경사진을 찍기 위한 수지 마운트이다. First, in the first embodiment, the bridge layer 3 is not formed in the laminated structure of FIG. 3, and the reflective layer 4 is made of Ag, Al, Ni, Ni + B, SiO 2 , B, W, Cr, or the like. Was formed directly on the resonator upper surface 2 to a thickness in the range of approximately 3-10 μm. FIG. 4A illustrates a structure in which the bridge layer 3 is not formed, and Al or W is directly coated on the upper surface 2 of the resonator to form a reflective layer 4. Show electron micrographs. At this time, A indicates a cross section of the resonator upper surface 2, C indicates a cross section of the reflective layer 4, and M is a resin mount for taking an electron micrograph.

본 실시예 1에 따른 광효율값을 하기 표 1에 나타낸다.The light efficiency values according to Example 1 are shown in Table 1 below.

표 1Table 1

반사층 재료Reflective layer material AgAg AlAl NiNi Ni+BNi + B SiO2 SiO 2 BB WW CrCr 광효율(%)Light efficiency (%) 9595 8989 9090 8989 9292 9292 9090 9090

또한, 본 실시예 2에서는 도 3의 적층구조에 있어서 브릿지층(3)을 Ag를 사용하여 형성한 후, 이 브릿지층(3)의 상부면에 Ag, Al, Ni, Ni+B, SiO2, B, W, Cr 등의 재료로써 반사층(4)을 형성하였다. 이때, 형성된 브릿지층(3) 및 반사층(4)의 두께는 각각 대략 3 내지 10㎛ 범위의 두께로 형성하였다. 그에 따른 광효율값을 하기 표 2에 나타낸다.In the second embodiment, after the bridge layer 3 is formed using Ag in the laminated structure of FIG. 3, Ag, Al, Ni, Ni + B, SiO 2 are formed on the upper surface of the bridge layer 3. The reflective layer 4 was formed of materials such as, B, W, and Cr. At this time, the thicknesses of the bridge layer 3 and the reflective layer 4 formed were each formed in a thickness of approximately 3 to 10 μm. The resulting light efficiency values are shown in Table 2 below.

표 2TABLE 2

반사층 재료Reflective layer material AgAg AlAl NiNi Ni+BNi + B SiO2 SiO 2 BB WW CrCr 광효율(%)Light efficiency (%) 9898 9393 9393 9292 9393 9292 9292 9393

또한, 본 실시예 3에서는 도 3의 적층구조에 있어서 브릿지층(3)을 Cu를 사용하여 형성한 후, 이 브릿지층(3)의 상부면에 실시예 2와 동일하게 반사층(4)을 형성하였다. 도 4b는 이에 따른 구조로서 브릿지층(3)을 Cu를 사용하여 형성한 후, Al 또는 W을 상기 브릿지층(3)의 상부면에 코팅하여 반사층(4)을 형성하여 코팅한 것이며, 이렇게 형성된 브릿지층(3) 및 반사층(4) 단면의 전자현미경사진을 보인다. 이때, A는 공진기 상부면(2)의 단면을, B는 브릿지층(3)의 단면을, C는 반사층(4)의 단면을 각각 가리키며, M은 전자현미경사진을 찍기 위한 수지 마운트이다. In the third embodiment, after the bridge layer 3 is formed of Cu in the laminated structure of FIG. 3, the reflective layer 4 is formed on the upper surface of the bridge layer 3 in the same manner as in the second embodiment. It was. FIG. 4B illustrates a structure in which the bridge layer 3 is formed using Cu, and then Al or W is coated on the upper surface of the bridge layer 3 to form a reflective layer 4. Electron micrographs of the cross section of the bridge layer 3 and the reflective layer 4 are shown. At this time, A denotes a cross section of the resonator upper surface 2, B denotes a cross section of the bridge layer 3, C denotes a cross section of the reflective layer 4, and M denotes a resin mount for taking an electron micrograph.

본 실시예 3에 따른 광효율값을 하기 표 3에 나타낸다.The light efficiency values according to Example 3 are shown in Table 3 below.

표 3TABLE 3

반사층 재료Reflective layer material AgAg AlAl NiNi Ni+BNi + B SiO2 SiO 2 BB WW CrCr 광효율(%)Light efficiency (%) 9797 9292 9191 9090 9292 9090 8989 9090

또한, 본 실시예 4에서는 도 3의 적층구조에 있어서 브릿지층(3)을 Au를 사용하여 형성한 후, 이 브릿지층(3)의 상부면에 실시예 2와 동일하게 반사층(4)을 형성하였다. 그에 따른 광효율값을 하기 표 4에 나타낸다.In the fourth embodiment, after the bridge layer 3 is formed of Au in the laminated structure of FIG. 3, the reflective layer 4 is formed on the upper surface of the bridge layer 3 in the same manner as in the second embodiment. It was. The resulting light efficiency values are shown in Table 4 below.

표 4Table 4

반사층 재료Reflective layer material AgAg AlAl NiNi Ni+BNi + B SiO2 SiO 2 BB WW CrCr 광효율(%)Light efficiency (%) 9898 9494 9292 9393 9494 9292 9191 9292

실시예Example 5~8 5 ~ 8

본 실시예 5~8은 아래와 같이 각 실시예에 따른 내열 특성을 관찰하였다.In Examples 5 to 8, the heat resistance according to each example was observed as follows.

먼저, 본 실시예 5에서는 도 3의 적층구조에 있어서 브릿지층(3)을 형성하지 아니하고, Ag, Al, Ni, Ni+B, SiO2, B, W, Cr 등의 재료로써 반사층(4)을 직접 공진기 상부면(2)에 대략 3 내지 10㎛ 범위의 두께로 형성하였다. 이에 따른 내열특성은 400℃에서 500시간 방치한 후 변색 여부를 관찰하여 확인하였으며, 이는 하기 표 5에 나타낸다.First, in the fifth embodiment, the bridge layer 3 is not formed in the laminated structure of FIG. 3, and the reflective layer 4 is made of Ag, Al, Ni, Ni + B, SiO 2 , B, W, Cr, or the like. Was formed directly on the resonator upper surface 2 to a thickness in the range of approximately 3-10 μm. The heat resistance according to this was confirmed by monitoring the discoloration after leaving for 500 hours at 400 ℃, which is shown in Table 5 below.

표 5Table 5

반사층 재료Reflective layer material AgAg AlAl NiNi Ni+BNi + B SiO2 SiO 2 BB WW CrCr 내열성Heat resistance 이상없음clear 이상없음clear 이상없음clear 이상없음clear 이상없음clear 이상없음clear 이상없음clear 이상없음clear

또한, 본 실시예 6에서는 도 3의 적층구조에 있어서 브릿지층(3)을 Cu를 사용하여 형성한 후, 이 브릿지층(3)의 상부면에 Ag, Al, Ni, Ni+B, SiO2, B, W, Cr 등의 재료로써 반사층(4)을 형성하였다. 이때, 형성된 브릿지층(3) 및 반사층(4)의 두께는 각각 대략 3 내지 10㎛ 범위의 두께로 형성하였다. 이에 따른 내열특성은 실시예 5와 마찬가지 방법으로 확인하였으며, 이는 하기 표 6에 나타낸다.In the sixth embodiment, after the bridge layer 3 is formed using Cu in the laminated structure of FIG. 3, Ag, Al, Ni, Ni + B, SiO 2 are formed on the upper surface of the bridge layer 3. The reflective layer 4 was formed of materials such as, B, W, and Cr. At this time, the thicknesses of the bridge layer 3 and the reflective layer 4 formed were each formed in a thickness of approximately 3 to 10 μm. The heat resistance according to this was confirmed in the same manner as in Example 5, which is shown in Table 6 below.

표 6Table 6

반사층 재료Reflective layer material AgAg AlAl NiNi Ni+BNi + B SiO2 SiO 2 BB WW CrCr 내열성Heat resistance 이상없음clear 이상없음clear 이상없음clear 이상없음clear 이상없음clear 이상없음clear 이상없음clear 이상없음clear

또한, 본 실시예 7에서는 실시예 5와 마찬가지로 브릿지층(3)을 형성하지 아니하고 직접 공진기 상부면(2)에 반사층(4)만을 형성하였다. 이에 따른 내열특성을 관찰하고자 상온, 300℃, 400℃, 500℃의 각 온도에서 방치한 후 변색현상이 시작되기까지의 시간을 측정하였다. 이는 하기 표 7에 나타내며, 여기서 비교예는 종래 의 은 박막층만 코팅된 공진기를 대상으로 한 측정값이다.In addition, in the seventh embodiment, similarly to the fifth embodiment, only the reflective layer 4 was formed on the upper surface 2 of the resonator without forming the bridge layer 3. In order to observe the heat resistance according to this, after leaving at the temperature of room temperature, 300 ℃, 400 ℃, 500 ℃ was measured the time until the discoloration phenomenon starts. This is shown in Table 7 below, where the comparative example is a measured value for a resonator coated with a conventional silver thin film layer only.

표 7TABLE 7

시험 온도Test temperature 비교예Comparative example 반사층 재료Reflective layer material 비고 Remarks AgAg AlAl NiNi Ni+BNi + B SiO2 SiO 2 BB WW CrCr 상온Room temperature 720720 2,0002,000 2,0002,000 2,0002,000 2,0002,000 2,0002,000 2,0002,000 2,0002,000 2,0002,000 2,000시간 경과후 시험종료Test ends after 2,000 hours 300℃300 ℃ 380380 1,4281,428 1,4381,438 1,4781,478 1,4881,488 1,3181,318 1,4351,435 1,4561,456 1,4571,457 400℃400 ℃ 120120 682682 675675 645645 623623 589589 647647 675675 662662 500℃500 ℃ 6060 302302 285285 246246 278278 256256 245245 357357 367367

또한, 본 실시예 8에서는 실시예 6과 마찬가지로 브릿지층(3) 및 반사층(4)을 형성하였다. 그리고, 이에 따른 내열특성은 실시예 7과 마찬가지로 변색현상이 시작되기까지의 시간을 측정하였다. 이는 하기 표 8에 나타내며, 여기서 비교예는 실시예 7과 동일하다.In the eighth embodiment, the bridge layer 3 and the reflective layer 4 were formed in the same manner as in the sixth embodiment. In addition, the heat resistance according to the measurement of the time until the discoloration phenomenon started as in Example 7. This is shown in Table 8 below, where the comparative example is the same as in Example 7.

표 8Table 8

시험 온도Test temperature 비교예Comparative example 반사층 재료Reflective layer material 비고 Remarks AgAg AlAl NiNi Ni+BNi + B SiO2 SiO 2 BB WW CrCr 상온Room temperature 720720 2,0002,000 2,0002,000 2,0002,000 2,0002,000 2,0002,000 2,0002,000 2,0002,000 2,0002,000 2,000시간 경과후 시험종료Test ends after 2,000 hours 300℃300 ℃ 380380 1,4281,428 1,5381,538 1,5181,518 1,5481,548 1,4321,432 1,5671,567 1,5751,575 1,5141,514 400℃400 ℃ 120120 721721 742742 702702 732732 724724 735735 734734 735735 500℃500 ℃ 6060 354354 345345 356356 345345 389389 345345 367367 347347

이상 상기 실시예들에서 살펴본 바와 같이, 본 발명에 의한 코팅구조는 종래의 은 박막층만 코팅한 공진기와 비교할 때, 이보다 훨씬 저렴한 가격의 조성재료를 사용하여 코팅함에도 불구하고, 비슷한 수준의 광효율을 유지하면서도 내열특성에 있어서 훨씬 우수한 특성을 나타낸다.As described in the above embodiments, the coating structure according to the present invention maintains a similar level of light efficiency, even though the coating using a composition material of much lower price than the conventional resonator coated with only a thin film layer of silver At the same time, it shows much better characteristics in heat resistance.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 코팅구조는 공진기 표면에 Ag, Cu, Au 등의 조성으로 되는 브릿지층 및 Al, Ni, Ni+B, B, W, Cr, Au, SiO2 등의 조 성으로 되는 반사층을 적층하여 코팅하거나, 또는 공진기 표면에 상기 반사층만을 적층하여 코팅함으로써 공진기의 전도성, 광효율 및 내열성 등이 크게 향상되며, 상온이나 고온에 있어서도 종래에 비하여 공진기 표면의 변색현상의 발생이 매우 장시간 억제된다.As described above, the coating structure according to the present invention is a bridge layer having a composition of Ag, Cu, Au, etc. on the surface of the resonator, and a combination of Al, Ni, Ni + B, B, W, Cr, Au, SiO 2, etc. By laminating and coating the reflective layer or laminating only the reflective layer on the surface of the resonator, the conductivity, light efficiency and heat resistance of the resonator can be greatly improved. It is suppressed for a very long time.

또한, 본 발명에 따른 코팅구조에 의하면, 종래와 같이 공진기 표면에 코팅되는 고가의 재료인 은을 이보다 훨씬 저렴한 재료로서 대체하게 되므로 제조경비가 크게 절감된다.In addition, according to the coating structure according to the present invention, since the expensive material to be coated on the surface of the resonator as conventionally replaced by a much cheaper material than the manufacturing cost is greatly reduced.

아울러 본 발명의 바람직한 실시예는 예시의 목적을 위해 개시된 것이며, 해당 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구나 본 발명의 사상과 범위 안에서 다양한 수정, 변경, 부가 등이 가능할 것이고, 이러한 수정, 변경, 부가 등은 특허청구범위에 속하는 것으로 보아야 한다.In addition, the preferred embodiment of the present invention is disclosed for the purpose of illustration, anyone of ordinary skill in the art will be possible to various modifications, changes, additions, etc. within the spirit and scope of the present invention, such modifications, changes, Additions and the like should be considered to be within the scope of the claims.

Claims (6)

무전극 조명기기용 공진기에 있어서,In the resonator for an electrodeless lighting device, 상기 공진기의 상부표면에 Ag, Cu, Au 중의 적어도 어느 하나 이상의 조성으로 형성되는 브릿지층과;A bridge layer formed on at least one of Ag, Cu, and Au on the upper surface of the resonator; 상기 브릿지층의 상부표면 또는 하부표면 중의 적어도 어느 한 일면에 Al, Ni+B, B, W, Cr, Au, SiO2 중의 적어도 어느 하나 이상의 조성으로 형성되는 반사층을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 무전극 조명기기용 공진기의 코팅구조.At least one of the upper surface or the lower surface of the bridge layer is characterized in that it comprises a reflective layer formed of at least any one composition of Al, Ni + B, B, W, Cr, Au, SiO 2 Coating structure of resonator for electrodeless lighting equipment. 무전극 조명기기용 공진기에 있어서,In the resonator for an electrodeless lighting device, 상기 공진기의 상부표면에 Al, Ni+B, B, W, Cr, Au, SiO2 중의 적어도 어느 하나 이상의 조성으로 형성되는 반사층을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 무전극 조명기기용 공진기의 코팅구조.A coating structure of a resonator for an electrodeless lighting device, characterized in that it comprises a reflective layer formed on at least one of Al, Ni + B, B, W, Cr, Au, SiO 2 composition on the upper surface of the resonator. 제 1항에 있어서, 상기 브릿지층은 습식도금법, PVD법, CVD법 중 적어도 어느 하나 이상의 방법으로 형성되는 것을 특징으로 하는 무전극 조명기기용 공진기의 코팅구조.The coating structure of a resonator for an electrodeless lighting device according to claim 1, wherein the bridge layer is formed by at least one of wet plating, PVD, and CVD. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 반사층은 Cr, Au 중의 적어도 어느 하나 이상의 조성인 경우 습식도금법, PVD법, CVD법 중 적어도 어느 하나 이상의 방법으로 형성되는 것을 특징으로 하는 무전극 조명기기용 공진기의 코팅구조.The resonator of claim 1 or 2, wherein the reflective layer is formed by at least one of wet plating, PVD, and CVD in the case of at least one of Cr and Au. Coating structure. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 반사층은 Ni+B, B, W 중 적어도 어느 하나 이상의 조성인 경우 습식도금법으로 형성되는 것을 특징으로 하는 무전극 조명기기용 공진기의 코팅구조.The coating structure of a resonator for an electrodeless lighting device according to claim 1 or 2, wherein the reflective layer is formed by a wet plating method in the case of at least one of Ni + B, B, and W. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 반사층은 Al 또는 SiO2 중 적어도 어느 하나 이상의 조성인 경우 PVD법 또는 CVD법 중 적어도 어느 하나 이상의 방법으로 형성되는 것을 특징으로 하는 무전극 조명기기용 공진기의 코팅구조.The method of claim 1 or 2, wherein the reflective layer is Al or SiO 2 The coating structure of the resonator for an electrodeless lighting device, characterized in that formed in at least any one or more of the PVD method or CVD method.
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