KR20070085991A - 마이크로 유체 시스템용 지지유닛 및 그 제조방법 - Google Patents

마이크로 유체 시스템용 지지유닛 및 그 제조방법 Download PDF

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쿠니히코 아카이
히로시 카와조에
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히다치 가세고교 가부시끼가이샤
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Abstract

본 발명은, 고정층 중에 적어도 1개의 중공 필라멘트의 일부가 임의의 형상으로 부설되고, 고정되어 있는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛에 관한 것으로, 고정층은, 기재상, 보호층상 또는 중간층상에 설치되어 있어도 좋다. 이것에 의해, 부설된 중공 필라멘트의 외경사양이 다른 경우나, 상기 중공 필라멘트가 교차하는 경우라도 표면 요철이 적고, 또한, 중공 필라멘트가 교차부에서 위치 어긋남을 일으키지 않는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛 및 그 제조방법을 제공할 수 있다.

Description

마이크로 유체 시스템용 지지유닛 및 그 제조방법{SUPPORT UNIT FOR MICRO FLUID SYSTEM AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME}
본 발명은, 중공 필라멘트를 유로로 한 마이크로 유체 시스템용 지지유닛 및 그 제조방법에 관한 것이다.
화학이나 생화학의 분야에서는, MEMS(Micro Electro Mechanical System)기술을 응용한, 반응계나 분석장치의 소형화에 관한 연구가 진행되고 있어, 구성 요소의 하나로 되는 마이크로 펌프, 마이크로 밸브와 같은 단일기능을 갖는 기계요소(마이크로 머신)의 연구 개발이 현재 행해지고 있다(예컨대, 쇼오지, 「화학공업」, 화학공업사, 2001년 4월, 제52권, 제4호, p.45-55 및 마에다, 「일렉트로닉스 실장학회지」, 사단법인 일렉트로닉스 실장학회, 2002년 1월, 제5권, 제1호, p.25 -26 참조.).
최근, 이들의 기능을 미소유로를 개재하여 회로(시스템)로 하여, 목적의 화학반응이나 화학 분석을 행하려고 하는 연구가 성행되고 있다. 일반적으로 그들 시스템의 완성형은, 마이크로 리액터(Micro Reactor System), 마이크로 화학분석 시스템(Micro Total Analysis System:μTAS) 등이라 호칭되고 있다. 현재, 이 미소유로로서, 예컨대, 유리 등의 표면에 에칭 등으로 형성한 홈을 미소유로로 하는 칩형 기판이 제안되어 있다. 이 칩형 유로기판은, 반도체 또는 프린트 배선기판의 포토리소그래피―기술을 응용한 것이다.
한편, 중공 필라멘트를 유로로 하는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛은, 칩형 유로기판에서는 어려웠던 유로층의 다층화(교차)가 용이하거나, 유로인 중공 필라멘트의 재료를 선택하는 것이 용이하거나 하는 등의 특징이 있고, 복잡한 유로회로를 형성하는데도 유익하다. 그 제법은, 필름상의 재료 위에 임의형상으로 부설된 중공 필라멘트군을, 동일한 필름상 재료에서 라미네이트 하는 방법 등이 제안되어 있다(예컨대, 일본국특개 2004-174701호 공보 참조.).
부설하는 장치로서는, 예컨대, 일본국특공소 50-9346호 공보에는 도선에 하중과 초음파 진동을 인가하면서 부설할 수 있는 장치, 일본국특공평 7-95622호 공보에는 하중의 인가와 레이저광을 조사하면서 부설할 수 있는 장치, 일본국특개 2001-59910호 공보에는 배선체(광섬유)에 하중을 인가하고, 접착제 층면에 포선(布線)하는 포선장치가 제안되어 있다.
발명의 개시
그러나, 전술한 바와 같은 라미네이트 하는 방법에 의하면, 부설된 중공 필라멘트의 외경 사양이 다른 경우나, 상기 중공 필라멘트가 교차하는 부분에서는, 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 표면에 요철이 생겨버린다. 그리고 상기 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 표면에 강한 외력이 가해졌을 경우, 볼록부분에 힘이 집중하고, 중공 필라멘트가 파손하거나, 변형하거나 하는 문제가 있었다. 더욱이 중공 필라멘트의 변형은, 필라멘트내의 유로형상의 변형도 야기하고, 유체의 막힘이나 압력손실을 크게 하는 등의 문제가 있었다. 더욱이, 부설되는 중공 필라멘트의 수가 많아지게 되면, 중공 필라멘트끼리의 교차는 증가하여 요철수가 증가하는 문제가 있었다.
그리고, 전술의 라미네이트 하는 방법에 의하면, 중공 필라멘트의 교차를 갖는 부분에 있어서 라미네이트 압력에 의해 중공 필라멘트가 파손하거나 변형하거나 하기 쉬워, 라미네이트할 때에 완충재를 적당히 사용하지 않으면 안되었다.
또한, 전술의 라미네이트 하는 방법에 의하면, 외경이 다른 복수의 중공 필라멘트를 갖는 부분에 있어서 라미네이트의 압력에 의해 외경이 보다 큰 중공 필라멘트일수록 파손하거나 변형하거나 하기 쉬워, 라미네이트할 때에 완충재를 적당히 사용하지 않으면 안되었다.
또한, 중공 필라멘트의 교차부에서는, 기재와 중공 필라멘트가 접하는 면적이 감소하는 것으로부터, 중공 필라멘트의 고정력이 약해지고, 중공 필라멘트가 움직이고, 위치 어긋남을 일으킨다는 문제가 있었다.
본 발명은 이와 같은 과제를 해결하기 위해서 이루어진 것이며, 표면 요철이 적고, 또한, 라미네이트 하는 방법에 비하여 마이크로 유체 지지유닛 제조시의 중공 필라멘트 교차부 및 외경이 다른 복수의 중공 필라멘트를 갖는 부분에서의 파손ㆍ변형을 억제할 수 있고, 더욱이, 중공 필라멘트의 교차부에서의 위치 어긋남을 저감할 수 있는, 마이크로 유체 시스템용 지지유닛 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명은, (1) 기재와, 상기 기재상에 설치된 고정층을 갖고, 상기 고정층 중에 적어도 1개의 중공 필라멘트의 일부가 임의의 형상으로 부설되고, 고정되어 있는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (2) 기재 및 고정층의, 적어도 일부를 덮는 보호층을 갖는 상기 (1) 기재의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (3) 보호층과, 상기 보호층상에 설치된 고정층을 갖고, 상기 고정층 중에 적어도 1개의 중공 필라멘트의 일부가 임의의 형상으로 부설되고, 고정되어 있는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (4) 중간층과, 상기 중간층상에 설치된 고정층을 갖고, 상기 고정층 중에 적어도 1개의 중공 필라멘트의 일부가 임의의 형상으로 부설되고, 고정되어 있는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (5) 고정층 중에 적어도 1개의 중공 필라멘트의 일부가 임의의 형상으로 부설되고, 고정되어 있는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (6) 기재와 고정층과의 사이에 중간층을 설치하고 있는 상기 (1) 또는 (2) 기재의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (7) 보호층과 고정층과의 사이에 중간층을 설치하고 있는 상기 (3) 기재의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (8) 중간층이, 접착능을 갖는 층, 또는, 완충능을 갖는 층, 또는, 이형능을 갖는 층인 상기 (4), (6) 또는 (7) 기재의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (9) 적어도 1개의 중공 필라멘트의 단부가 기재 단부로부터 밀려 나오고, 여장부(余長部)를 갖는 상기 (1), (2) 또는 (6) 기재의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (10) 적어도 1개의 중공 필라멘트의 단부가 보호층 단부로부터 밀려 나오고, 여장부를 갖는 상기 (2), (3), (6) 또는 (7) 기재의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (11) 적어도 1개의 중공 필라멘트의 단부가 고정층 단부로부터 밀려 나오고, 여장부를 갖는 상기 (1)∼(10) 어느 하나에 기재된 마이크로 유체 시스템용 지지유닛에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (12) 적어도 1개의 중공 필라멘트의 중간부의 외벽의 적어도 일부가, 고정층으로부터 노출하고 있는 상기 (1)∼(11) 어느 하나에 기재된 마이크로 유체 시스템용 지지유닛에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (13) 적어도 1개의 중공 필라멘트 중간부의 외벽의 적어도 일부가, 보호층으로부터 노출하고 있는 상기 (12) 기재의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (14) 적어도 1개의 중공 필라멘트 중간부의 외벽이 고정층으로부터 노출하지 않고 있는 상기 (1)∼(11) 어느 하나에 기재된 마이크로 유체 시스템용 지지유닛에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (15) 중공 필라멘트가, 2개 이상인 상기 (1)∼(14) 어느 하나에 기재된 마이크로 유체 시스템용 지지유닛에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (16) 2개 이상의 중공 필라멘트가, 2종류 이상의 다른 외경을 갖는 중공 필라멘트로 이루어지는 상기 (15) 기재의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (17) 적어도 1개의 중공 필라멘트가, 교차부를 갖도록 부설되어 있는 상기 (1)∼(16) 어느 하나에 기재된 마이크로 유체 시스템용 지지유닛에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (18) 중공 필라멘트가 부설된 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께가, 모든 중공 필라멘트의 외경보다도 두꺼운 상기 (1)∼(17) 어느 하나에 기재된 마이크로 유체 시스템용 지지유닛에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (19) 중공 필라멘트가 부설된 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께가, 교차부에 있어서의 중공 필라멘트의 두께의 합계보다도 두꺼운 상기 (1)∼(18) 어느 하나에 기재된 마이크로 유체 시스템용 지지유닛에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (20) 중공 필라멘트가 부설된 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께가, 평탄한 상기 (1)∼(19) 어느 하나에 기재된 마이크로 유체 시스템용 지지유닛에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (21) 고정층이, 고화시킨 니스인 상기 (1)∼(20) 어느 하나에 기재된 마이크로 유체 시스템용 지지유닛에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (22) 고화(固化) 전의 니스가 유동성을 갖는 상기 (21) 기재의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (23) 중공 필라멘트가 부설된 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께가, 중공 필라멘트가 부설되어 있지 않은 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께의 100∼120%인 상기 (1)∼(22) 어느 하나에 기재된 마이크로 유체 시스템용 지지유닛에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (24) 중공 필라멘트가 부설된 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께가, 중공 필라멘트가 부설되어 있지 않은 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께의 100∼110%인 상기 (1)∼(22) 어느 하나에 기재된 마이크로 유체 시스템용 지지유닛에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (25) 중공 필라멘트가 부설된 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께가, 중공 필라멘트가 부설되어 있지 않은 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께의 100∼105%인 상기 (1)∼(22) 어느 하나에 기재된 마이크로 유체 시스템용 지지유닛에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (26) 중공 필라멘트가 부설된 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께가, 중공 필라멘트가 부설되어 있지 않은 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께의 100∼103%인 상기 (1)∼(22) 어느 하나에 기재된 마이크로 유체 시스템용 지지유닛에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (27) 적어도 1개의 중공 필라멘트가 교차부를 갖도록 부설되고 있어, 상기 교차부의 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께가, 교차부 이외의 중공 필라멘트가 부설되어 있는 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께의 100∼120%인 상기 (1)∼(26) 어느 하나에 기재된 마이크로 유체 시스템용 지지유닛에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (28) 적어도 1개의 중공 필라멘트가 교차부를 갖도록 부설되고 있어, 상기 교차부의 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께가, 교차부 이외의 중공 필라멘트가 부설되어 있는 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께의 100∼110%인 상기 (1)∼(26) 어느 하나에 기재된 마이크로 유체 시스템용 지지유닛에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (29) 적어도 1개의 중공 필라멘트가 교차부를 갖도록 부설되고 있어, 상기 교차부의 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께가, 교차부 이외의 중공 필라멘트가 부설되어 있는 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께의 100∼105%인 상기 (1)∼(26) 어느 하나에 기재된 마이크로 유체 시스템용 지지유닛에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (30) 적어도 1개의 중공 필라멘트가 교차부를 갖도록 부설되고 있어, 상기 교차부의 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께가, 교차부 이외의 중공 필라멘트가 부설되어 있는 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께의 100∼103%인 상기 (1)∼(26) 어느 하나에 기재된 마이크로 유체 시스템용 지지유닛에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (31) 적어도 이하의 (i), (ii) 및 (iii)의 공정을 구비하는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법에 관한 것이다.
(i) 기재상에, 적어도 1개의 중공 필라멘트를 임의의 형상으로 부설하는 공정
(ii) 상기 중공 필라멘트의 적어도 일부를 포함하는 소정의 부분을 니스로 덮는 공정
(iii) 상기 니스의 전부 또는 일부를 고화시키는 공정
또한, 본 발명은, (32) 적어도 이하의 (i), (ii), (iii) 및 (iv)의 공정을 구비하는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법에 관한 것이다.
(i) 기재상에, 적어도 1개의 중공 필라멘트를 임의의 형상으로 부설하는 공정
(ii) 상기 중공 필라멘트의 적어도 일부를 포함하는 소정의 부분을 니스로 덮는 공정
(iii) 상기 니스의 전부 또는 일부를 고화시키는 공정
(iv) 소정의 부분에 보호층을 형성하는 공정
또한, 본 발명은, (33) 적어도 이하의 (v), (vi) 및 (vii)의 공정을 구비하는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법에 관한 것이다.
(v) 기재상의 소정의 부분을 니스로 덮는 공정
(vi) 상기 니스 중에 적어도 1개의 중공 필라멘트의 적어도 일부를 침지하는 공정, 또는, 니스에 적어도 1개의 중공 필라멘트를 띄우는 공정
(vii) 상기 니스의 전부 또는 일부를 고화시키는 공정
또한, 본 발명은, (34) 적어도 이하의 (v), (vi), (vii) 및 (viii)의 공정을 구비하는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법에 관한 것이다.
(v) 기재상의 소정의 부분을 니스로 덮는 공정
(vi) 상기 니스 중에 적어도 1개의 중공 필라멘트의 적어도 일부를 침지하는 공정, 또는, 니스에 적어도 1개의 중공 필라멘트를 띄우는 공정
(vii) 상기 니스의 전부 또는 일부를 고화시키는 공정
(viii) 소정의 부분에 보호층을 형성하는 공정
또한, 본 발명은, (35) 적어도 이하의 (ix), (vi), (vii) 및 (x)의 공정을 구비하는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법에 관한 것이다.
(ix) 용기 중에 니스를 충전하는 공정
(vi) 상기 니스 중에 적어도 1개의 중공 필라멘트의 적어도 일부를 침지하는 공정, 또는, 니스에 적어도 1개의 중공 필라멘트를 띄우는 공정
(vii) 상기 니스의 전부 또는 일부를 고화시키는 공정
(x) 용기의 적어도 일부를 제거하는 공정
또한, 본 발명은, (36) 적어도 이하의 (ix), (vi), (vii), (x) 및 (viii)의 공정을 구비하는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법에 관한 것이다.
(ix) 용기 중에 니스를 충전하는 공정
(vi) 상기 니스 중에 적어도 1개의 중공 필라멘트의 적어도 일부를 침지하는 공정, 또는, 니스에 적어도 1개의 중공 필라멘트를 띄우는 공정
(vii) 상기 니스의 전부 또는 일부를 고화시키는 공정
(x) 용기의 적어도 일부를 제거하는 공정
(viii) 소정의 부분에 보호층을 형성하는 공정
또한, 본 발명은, (37) 적어도 이하의 (ix), (vi), (vii), (viii) 및 (x)의 공정을 구비하는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법에 관한 것이다.
(ix) 용기 중에 니스를 충전하는 공정
(vi) 상기 니스 중에 적어도 1개의 중공 필라멘트의 적어도 일부를 침지하는 공정, 또는, 니스에 적어도 1개의 중공 필라멘트를 띄우는 공정
(vii) 상기 니스의 전부 또는 일부를 고화시키는 공정
(viii) 고화된 니스의 표면에 보호층을 형성하는 공정
(x) 용기의 적어도 일부를 제거하는 공정
또한, 본 발명은, (38) 기재상에 적어도 1개의 중공 필라멘트를 부설하기 전에, 상기 기재와 상기 적어도 1개의 중공 필라멘트와의 사이에 중간층을 설치하는 공정을 더 포함하는 상기 (31) 또는 (32) 기재의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (39) 기재상의 소정의 부분을 니스로 덮기 전에, 상기 기재상에 중간층을 설치하는 공정을 더 포함하는 상기 (33) 또는 (34) 기재의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (40) 용기 중에 니스를 충전하기 전에, 용기 표면상에 중간층을 설치하는 공정을 더 포함하는 상기 (35)∼(37) 어느 하나에 기재된 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (41) 적어도 1개의 중공 필라멘트의 전부 또는 일부를 중간층상에 임의의 형상으로 부설하는 공정을 포함하는 상기 (38)∼(40) 어느 1항에 기재된 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (42) 중간층이, 접착능을 갖는 층, 또는, 완충능을 갖는 층, 또는, 이형능을 갖는 층인 상기 (38)∼(41) 어느 하나에 기재된 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (43) 언제물(堰堤物)을 설치하고, 니스에 의해 소정의 부분을 덮는 상기 (31)∼(34) 어느 하나에 기재된 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (44) 니스의 전부 또는 일부를 고화시킨 후에, 적어도 중간층의 일부를 제거하는 공정을 더 포함하는 상기 (38)∼(43) 어느 1항에 기재된 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (45) 니스의 전부 또는 일부를 고화시킨 후에 적어도 기재의 일부를 제거하는 공정을 더 포함하는 상기 (31)∼(34), (38), (39) (42)∼(44) 어느 하나에 기재된 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (46) 니스 중에 미리 임의의 형상으로 고정된 중공 필라멘트를 침지시키는 것, 또는, 니스에 미리 임의의 형상으로 고정된 중공 필라멘트를 띄우는 상기 (33)∼(45) 어느 하나에 기재된 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (47) 중공 필라멘트가, 미리 기재상, 또는, 중간층을 갖는 기재의 중간층상에 임의 형상으로 부설되고, 고정되어 있는 상기 (46) 기재의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (48) 니스 중에서 중공 필라멘트를 임의의 형상으로 고정하는 상기 (33)∼(37) 어느 하나에 기재된 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (49) 니스가 유동성을 갖는 상기 (31)∼(48) 어느 하나에 기재된 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, (50) 니스를 제거하는 공정을 더 포함하는 상기 (31)∼(49) 어느 하나에 기재된 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법에 관한 것이다.
본원의 개시는, 2004년 12월 9일에 출원된 일본국특원 2004-356662호에 기재된 주제와 관련되어 있고, 그 개시내용은 인용에 의해 여기에 원용된다.
발명을 실시하기 위한 최선의 형태
본 발명의 실시형태 및 공정을, 도면을 참조해서 설명한다. 이하의 도면의 기재에 있어서, 동일 또는 유사의 부분에는 동일 또는 유사의 부호로 나타내고 있다. 다만, 도면은 모식적인 것이며, 두께와 평면치수와의 관계, 각 층의 두께의 비율 등은 현실의 것과는 다르다. 따라서, 구체적인 두께나 치수는 이하의 설명을 대조해서 판단해야 할 것이다. 또한, 도면 상호간에 있어서도 서로의 치수의 관계나 비율이 다른 부분이 포함되어 있는 것은 물론이다.
중공 필라멘트는, 시판의 각종 재질의 튜브를 사용할 수 있고, 목적에 따라서 임의의 재질의 것을 선택하면 좋다. 예컨대, 폴리염화비닐수지(PVC), 폴리염화비닐리덴수지, 폴리아세트산비닐수지, 폴리비닐알코올수지(PVA), 폴리스티렌수지(PS), 아크릴로니트릴ㆍ부타디엔ㆍ스티렌 공중합체(ABS), 폴리에틸렌수지(PE), 에틸렌ㆍ아세트산비닐 공중합체수지(EVA), 폴리프로필렌수지(PP), 폴리4-메틸펜텐수지(TPX), 폴리메틸메타크릴레이트수지(PMMA), 폴리에테르에테르케톤수지(PEEK), 폴리이미드수지(PI), 폴리에테르이미드수지(PEI), 폴리페닐렌설파이드수지(PPS), 아세트산셀룰로오스, 4불화에틸렌수지(PTFE), 4불화ㆍ6불화프로필렌수지(FEP), 4 불화에틸렌ㆍ퍼플루오로알콕시에틸렌 공중합체(PFA), 4불화에틸렌ㆍ에틸렌 공중합체(ETFE), 3불화염화에틸렌수지(PCTFE), 불화비닐리덴수지(PVDF), 폴리에틸렌테레프탈레이트수지(PET), 폴리아미드수지(나일론 등, PA), 폴리아세탈수지(POM), 폴리페닐렌옥사이드수지(PPO), 폴리카보네이트수지(PC), 폴리우레탄수지, 폴리에스테르 엘라스토머, 폴리올레핀수지, 실리콘수지 등의 유기재질이나, 유리, 석영, 카본 등의 무기재질 등을 들 수 있다.
본 발명에 있어서의 중공 필라멘트의 내경 및 외경은 목적에 따라 선택하면 좋다. 특히, 밀리리터(mL)∼마이크로리터(μL) 단위의 유체를 흘리는 것으로부터, 내경은, φ0.05mm∼1.5㎜ 정도의 것이 바람직하다. 이와 같은 지름의 중공 필라멘트를 제작하는 경우는, 예컨대, 폴리이미드(PI), 폴리에테르에테르케톤(PEEK), 폴리에테르이미드(PEI), 폴리페닐렌설파이드(PPS), 4불화에틸렌ㆍ퍼플루오로알콕시에틸렌 공중합체(PFA) 등의 재질이 특히 적합하다. 중공 필라멘트의 내경을 φ0.05mm 미만으로 하면, 중공 필라멘트의 내벽면과 유체와의 계면저항의 영향을 무시할 수 없게 되는 경향이 있다. 중공 필라멘트에 흘리고 있는 유체에 화학반응을 생기게 하는 경우는, 중공 필라멘트는 내약품성을 구비하는 것이 좋다.
또한, 중공 필라멘트에 흘리고 있는 유체에 광을 조사하고, 광화학 반응을 생기게 하거나, 분광 분석을 하거나 하는 경우는, 중공 필라멘트에 광투과성이 있으면 좋다. 광투과율은 목적에 따른 값에서 좋고, 목적 파장에 있어서 80% 이상인 것이 바람직하고, 90% 이상이면 최적이다. 이렇게 하기 위해서는, 예컨대, 소정 개소의 중공 필라멘트와 후술하는 고정층, 기재, 또는 보호층 등을 투명하게 하는 것, 소정 개소의 중공 필라멘트를 노출시키고, 또한 적어도 이 개소의 중공 필라멘트를 투명하게 하는 것 등을 행하는 것에 의해 실시가능하다.
본 발명은, 고정층 중에 적어도 1개의 중공 필라멘트의 일부가 임의의 형상으로 부설되고, 고정되어 있는 것을 특징으로 한다. 고정층의 재료로서는, 고화시킨 니스가 바람직하다. 니스의 재질은, 에폭시수지, 멜라민수지, 시아네이트에스테르수지, 페놀수지, 실리콘수지, 또는 겔상 물질, 천연고무, 또는 실리콘 고무 등을 들 수 있다. 고화 전의 니스는, 유동성을 갖는 것이 바람직하고, 고정층은 니스의 전부 또는 일부를 고화시켜 얻어진 고정층이 바람직하다.
니스는, 열 혹은 광에 의해 고화하는 니스가 바람직하다. 여기에서 말하는 고화는, 일반적인 액-고체 전이를 가리키는 것 이외에, 광경화, 열경화 등의 경화 반응, 겔화 이외에, 용제 함유량을 감소시키거나, 니스 온도를 내리거나 함으로써 니스의 유동성을 낮추는 것 등도 가리킨다. 예컨대, 고분자량 합성고무나 실리콘 수지계의 니스가 적당하다.
고분자량 합성고무의 니스로서는, 예컨대, 토넥스주식회사제의 상품명 비스타넥스 MML-120과 같은 폴리이소부틸렌이나, 니뽄제온주식회사제의 상품명 니폴N1432 등의 아크릴로니트릴부타디엔고무나, 듀퐁사제의 하이파론(등록상표)20과 같은 클로로설폰화 폴리에틸렌 등을 이용할 수 있다. 또한, 필요에 따라서 이들 재료에 가교제를 배합할 수도 있다.
실리콘 수지계의 니스로서는, 고분자량의 폴리디메틸실록산 또는 폴리메틸페닐실록산으로 이루어져 말단에 실라놀기를 갖는 실리콘 고무와, 메틸실리콘 레진 또는 메틸페닐실리콘과 같은 실리콘 레진을 주성분으로 한 실리콘 접착재가 적합하다. 응집력을 제어하기 위해서 각종 가교를 행하여도 좋다. 예컨대, 실란의 부가반응, 알콕시 축합반응, 아세톡시 축합반응, 과산화물 등에 의한 라디컬 반응 등에 의해 가교를 행할 수 있다. 이와 같은 니스로서 시판의 것에서는, YR3286(GE도시바실리콘 주식회사제, 상품명)이나 TSR1521(GE도시바실리콘 주식회사제, 상품명), DKQ9-9009(다우코닝제, 상품명) 등이 있다.
감광성 니스로서는, 예컨대, 프린트 기판의 에칭 레지스트로서 사용되고 있는 드라이필름 레지스트, 솔더레지스트 잉크, 프린트 기판의 감광성 빌드업재 등의 니스를 적용할 수 있다. 구체적으로는, 히다치화성공업주식회사제의 상품명 H-K440이나 치바가이기사제의 프로비마 등이 있다. 특히, 빌드업 배선판 용도로서 제공되고 있는 포토비어 재료는, 프린트 배선판의 제조공정이나 땜납에 의한 부품 실장공정에도 견딜 수 있다. 이와 같은 재료로서는, 광에 의해 가교가능한 관능기를 갖는 공중합체 혹은 단량체를 포함한 조성물, 및/또는 광 이외에 열로 가교가능한 관능기와 열중합 개시제를 혼합한 조성물이면 어느 것도 사용가능하다.
그 밖의 니스로서는, 예컨대, 에폭시 수지, 브롬화 에폭시 수지, 고무변성 에폭시 수지, 고무분산 에폭시 수지 등의 지환식 에폭시 수지 또는 비스페놀A계 에폭시 수지 및 이들 에폭시 수지의 산변성물 등을 들 수 있다. 특히 광조사를 행하여 광경화를 행하는 경우에는 이들 에폭시 수지와 불포화산과의 변성물이 바람직하다. 불포화산으로서는, 예컨대, 무수말레인산 무수물, 테트라히드로프탈산 무수물, 이타콘산 무수물, 아크릴산, 메타크릴산 등을 들 수 있다. 이들은 에폭시 수지의 에폭시기에 대하여 등량 또는 등량 이하의 배합 비율로 불포화 카본산을 반응시키는 것에 의해 얻어진다. 이외에도 멜라민 수지, 시아네이트에스테르 수지와 같은 열경화성 재료, 혹은 이것과 페놀 수지의 조합 등도 바람직한 적용예의 하나이다. 그 밖에는 가요성 부여재의 사용도 적당한 조합이며, 그 예로서는 아크릴로니트릴부타디엔 고무, 천연 고무, 아크릴 고무, SBR, 카본산변성 아크릴로니트릴부타디엔 고무, 카본산변성 아크릴 고무, 가교 NBR 입자, 카본산변성 가교 NBR입자 등을 들 수 있다. 이와 같은 여러가지 수지성분을 가하므로써 광경화성, 열경화성이라는 기본성능을 유지한 채 경화물에 여러가지 성질을 부여하는 것이 가능하게 된다. 예컨대 에폭시 수지나 페놀 수지와의 조합에 의해 경화물에 양호한 전기절연성을 부여하는 것이 가능하게 된다. 고무 성분을 배합할 때에는 경화물에 강인한 성질을 부여함과 동시에, 산화성 약액에 의한 표면처리에 의해 경화물 표면의 조화(粗化)를 간단하게 행하는 것이 가능하게 된다.
또한, 니스에는 통상 사용되는 첨가제(중합안정제, 레벨링제, 안료, 염료 등)를 첨가해도 좋다. 또한 필러를 배합하는 것도 전혀 지장 없다. 필러로서는 실리카, 용융 실리카, 탈크, 알루미늄, 수화 알루미나, 황산바륨, 수산화칼슘, 에로질, 탄산칼슘 등의 무기 미립자, 분말상 에폭시 수지, 분말상 폴리이미드 입자 등의 유기 미립자, 분말상 폴리테트라플루오로에틸렌 입자 등을 들 수 있다. 이들 필러에는 미리 커플링 처리를 실시하고 있어도 좋다. 이들의 분산은 니더, 볼밀, 비드밀, 3-롤 밀 등 기지의 혼련방법에 의해 달성된다.
더욱이 니스로서는, 겔 재료를 이용할 수 있다. 시판의 것으로서는 초연질 우레탄 수지(주식회사 엑실코포레이션제)나 실리콘 엘라스토머 SYLGARD184(다우코닝아시아 주식회사제 상품명), 광고화 재료로서 Technovit 2000LC(Heraeus Kulzer사제 상품명) 등을 들 수 있다.
니스의 양이나 점도 등은 목적에 따라 임의로 선택하면 좋다. 예컨대, 유동성이 좋은 물질이면, 중공 필라멘트가 복수인 경우에 각 중공 필라멘트 사이에 니스가 삽입하기 쉬워진다. 또한, 교차부로의 유입도 좋아진다. 그 때문에, 이들의 중공 필라멘트를 고정하는 작용이 한층 증가하므로 바람직하다.
니스로 덮는 방법은, 오토필름 어플리케이터, 커튼 코트, 스프레이 코트, 스핀 코트, 도포 등을 각종 선택하여 이용할 수 있다. 또한, 특히 두껍게 덮는 경우는, 언제물을 설치하고, 니스의 소정 범위 이외에 유동을 방지하면 좋다. 니스의 유동성이 좋은 경우, 중공 필라멘트와 기재의 사이, 교차한 중공 필라멘트의 사이 등의 극간에 들어가기 쉽고, 잔존 기포 등이 생기기 어려워진다.
또한, 소정의 부분을 니스로 덮을 때, 계를 감압하에 두는 등 하므로써, 중공 필라멘트의 유지력을 증가시키는 경우가 있다. 예컨대, 소정의 부분을 니스로 덮을 때에, 복잡 패턴이나 고밀도 교차부 등에서는 중공 필라멘트끼리의 사이나, 중공 필라멘트와 기재 혹은 접착제층과의 사이에 가능한 공극에 니스가 들어가기 쉬워져, 중공 필라멘트의 유지력이 증가한다. 또한, 니스를 고화시키기 전에 계를 감압하에 두는 것이라도, 상기와 동일한 효과가 얻어진다. 더욱이, 소정의 부분을 니스로 덮을 때, 또는, 니스를 고화시키기 전에, 계를 감압하에 두므로써, 니스 중의 잔존 기포을 저감할 수 있다. 예컨대, 2액형 에폭시 수지 등은, 고화시키는 공정에서 니스 내에 기포가 발생하기 쉽다. 이와 같은 니스를 이용할 경우는, 소정의 부분을 니스로 덮는 공정 전에, 상기 니스를 감압하에 두는 등 하여도 기포발생을 저감시킬 수 있다.
본 발명의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛은, 기재를 더 갖고, 상기 기재상에 고정층이 설치되어 있어도 좋다. 기재의 재질, 형상, 사이즈 등은 목적에 따라 선정하면 좋다. 기재의 두께의 적정한 범위는 목적이나 요구되는 기능에 따라 다르다.
예컨대, 기재에 전기절연성을 요구하는 경우는, 프린트 배선판 등에 이용되어 있는 에폭시 수지판이나 폴리이미드 수지판이나, 플렉시블 배선판에 이용되어 있는 듀퐁사제의 캅톤(등록상표)필름으로 대표되는 것 같은 폴리이미드 필름이나, 도오레 주식회사제의 루미라(등록상표)필름으로 대표되는 것 같은 PET필름을 선정하는 것이 바람직하다. 기재의 판두께(필름 두께)는, 0.05mm 이상인 것이 바람직하다. 또한, 기재에 방열성을 요구하는 경우는, 예컨대, 알루미늄(Al)판, 구리(Cu)판, 스테인레스판, 티탄(Ti)판 등의 금속제의 판을 선정함으로써 방열성을 만족시킬 수 있다. 또한, 기재에 광투과성을 요구하는 경우는, 유리, 석영판 등 투명 무기재료의 판이나, 폴리카보네이트나 아크릴 등 투명 유기재료의 판이나 필름을 선정하는 것이 바람직하다.
기재의 판두께(필름 두께)는, 0.5mm 이하인 것이 바람직하다. 더욱이, 기재의 표면에 구리 등의 금속 패턴을 에칭이나 도금으로 형성한 소위 플렉시블 회로기판이나 프린트 회로기판을 이용해도 좋다. 이렇게 하므로써, 마이크로 머신, 발열 소자, 압전소자, 온도ㆍ압력ㆍ변형ㆍ진동ㆍ전압ㆍ자계 등 각종 센서나 저항ㆍ콘덴서ㆍ코일ㆍ트랜지스터나 IC 등의 전자부품, 더욱이 반도체 레이저(LD), 발광 다이오드(LED), 및 포토다이오드(PD) 등의 광부품 등, 여러가지 부품이나 소자를 실장하는 단자나 회로를 형성할 수 있어, 시스템화가 용이해진다.
중공 필라멘트를 기재 또는 고화한 니스 등의 고정층에서 고정하는 것은, 프리 상태로 하는 것과 비교하여, 주위의 온도ㆍ전장ㆍ자장 등 여러가지 환경을 제어하기 쉽다고 하는 우수한 메리트가 있다. 이것은, 화학반응이나 화학분석을 행할 때에 유리하고, 특히 마이크로화된 반응계 및 분석계에 있어서 유효하다. 또한, 다른 부품과의 얼라이먼트가 용이해서 접속하기 쉽다거나, 다수의 중공 필라멘트를 컴팩트에 수용할 수 있다거나 하는 이점도 있다.
중공 필라멘트를 기재상에 부설하는 방법으로서는, 공지의 부설방법을 사용할 수 있다. 예컨대, 기재에 중공 필라멘트를 융착시키는 방법(중공 필라멘트나 기재의 적어도 일부를 용융 등 하고, 고정하는 방법이며, 이 경우, 기재에 중공 필라멘트의 일부가 매립된 구조로 되어도 좋다.)이나, 후술하는 중간층 위에 부설하는 방법(이 경우, 중간층에 중공 필라멘트가 매립된 구조로 되어도 좋다.), 기재 또는 중간층상에 접착제를 이용하면서 부설하는 방법이나, 기재의 중공 필라멘트를 부설하는 개소에 에칭이나 도금 등에 의해 오목상의 패턴을 형성하고, 거기에 중공 필라멘트를 부설하는 방법이나, 기재 또는 중간층의 중공 필라멘트를 부설하는 개소에 에칭이나 도금이나 포토 패터닝 등에 의해 오목상의 패턴을 형성하고, 거기에 중공 필라멘트를 부설하는 방법 등을 들 수 있다. 이 접착제로서는, 일반적으로 시판되고 있는 접착제나 상기에 기재 또는 니스로서 기재한 각종 재료를 사용할 수 있다.
구체적인 부설의 방법으로서는, NC포선기 등의 시판의 장치를 적용할 수 있다. 예컨대, 도선에 하중과 초음파 진동을 인가하면서 부설할 수 있는 장치, 하중 인가와 레이저광을 조사하면서 부설할 수 있는 장치, 배선체(광섬유)에 하중을 인가하고, 접착제 층면에 포선하는 장치 등을 들 수 있다.
NC포선기는, 수치제어되어 초음파 진동으로 하중 출력 제어가 가능하고, 이 NC포선기를 이용하는 것에 의해, 중공 필라멘트의 부설 패턴을 정밀에 제어할 수 있다. 구체적으로는, NC포선기를 기재에 대하여, 수평으로 이동시키면서, 중공 필라멘트에 하중 및 초음파에 의한 진동을 걸어서 부설한다.
또한, 본 발명의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛은, 고정층과 보호층을 갖고, 상기 보호층상에 상기 고정층이 설치되어 있어도 좋다. 또한, 고정층과 보호층과 기재를 갖고, 상기 고정층과 상기 기재와의 적어도 일부를 덮는 보호층이 설치되어 있어도 좋다.
보호층의 형성은, 고화 니스의 표면개질이나 각종 재료의 도포, 접착, 적층 등이 그 방법으로서 들 수 있다. 구체적인 보호층의 재료로서는, 상기에 기재 또는 니스로서 든 각종 재료를 사용할 수 있다.
또한 고정층의 표면에는, 기재 등의 위에서 중공 필라멘트가 부설하기 쉽도록, 중간층으로서, 접착능을 갖는 층(이하, 접착제층이라 한다.)를 가져도 좋다. 구체적으로는, 기재와 고정층과의 사이에, 또는 보호층과 고정층과의 사이에, 또는 고정층의 편면에, 중간층을 설치할 수 있다. 또, 「중간층」은, 반드시 2개의 층의 사이에 없더라도 좋은 것으로 한다.
상기와 같은 접착제층으로서는, 니토전공주식회사제 형식번호 No.500이나 쓰리엠사제의 상품명 VHB A-10, A-20, A-30 등의 아크릴수지계의 양면 점착테이프 등이나, 동방산업사제 실리콘계 점착제 시트 상품명 6AO5AW 등의 실리콘계의 접착제가 바람직하다.
또한, 기재와 고정층을 이형시킬 경우에는, 중간층은 이형능을 갖는 층이 바람직하다. 예컨대, 불소수지나 실리콘 수지의 재질이 사용된다. 구체적으로는, 불소계 이형제인 몰드 스폿 MR-K681(아사히가라스주식회사제 상품명)이나 프리리스시리즈(주식회사 네오스제), 실리콘형 이형제 KF412SP(신에츠화학공업주식회사제 상품명) 등이 사용된다.
또한, 접착제층으로서는 상기 니스로서 기재한 재료를 사용할 수 있다. 더욱이, 감광성 수지를 이용하는 경우는, 액상의 수지를 롤 코트, 커튼 코트, 딥 코트 등의 방법으로 도포하여 접착제층을 형성하는 방식이나, 절연수지를 커리어 필름상에서 필름화하여 라미네이트로 접합시키는 방식을 이용할 수 있다.
구체적으로는, 히다치화성공업주식회사제의 포토비아필름 상품명 BF-8000 등을 들 수 있다.
또한, 중간층으로서는, 접착능을 갖는 층, 이형능을 갖는 층 이외에, 완충능을 갖는 층도 들 수 있다. 완충능을 갖는 층은, 예컨대 기재로서 기재한 각종 재질이 사용할 수 있는 것 이외에, 실리콘 수지나 연질 우레탄 수지의 겔체, 고무체, 발포체 등으로 대표되는 저경도 또는 저탄성의 쿠션성이 우수한 재질, PET, PEEK, PPS 등으로 대표되는 내마찰ㆍ마모성, 내약품성, 내유성, 가스 배리어성 등 화학물질내성 및 물리특성이 우수한 엔지니어링 플라스틱, 금속 등의 재질을 들 수 있다.
중공 필라멘트의 단면외형상은, 사용 목적에 따라 임의로 선택하면 좋다. 예컨대, 제조시에 상기 중공 필라멘트를 회전이나 X, Y방향 동작하는 포선 헤드에 의해 임의 패턴으로 포선하는 포선장치를 이용하는 경우는, 장치내의 끌고 돌아다닐 때에 진동 등에 의한 막힘이나 걸림을 방지하기 위하여, 원형 혹은 타원형 등의 단면외형상에 굴곡점이 없는 것이 바람직하다. 그 밖에, 예컨대 삼각형이나 4각형 등의 다각형체, 연속 자유곡선으로 그려진 형상, 또는 이들을 조합시킨 형상도 사용할 수 있다.
중공 필라멘트의 단면유로형상은, 사용 목적에 따라 임의로 선택하면 좋다. 예컨대, 중공 필라멘트의 단면외형상으로 나타낸 형상을 사용할 수 있다. 통상은, 한번에 그릴 수 있는 형상이다. 또한, 혈액 등의 불용해 미립자를 포함하는 혼합 유체를 흘리는 경우는, 침전이나 액굄에 의한 막힘이나 부정류가 일어나기 쉽기 때문에, 굴곡점이 없는 형상이 바람직하다. 더욱이, 액굄이 생기기 어려운 타원형상이 보다 바람직하고, 원형형상이면 더욱 바람직하다.
더욱이, 중공 필라멘트의 단면유로중공부의 수는, 사용 목적에 따라 임의로 선택하면 좋다. 통상은, 하나의 중공 필라멘트에 유로는 하나이지만, 복수의 유체를 한개의 중공 필라멘트에서 취급하고 싶은 경우 등은, 유로를 복수 갖고 있어도 좋다. 예컨대, 내시경 등에 이용하는 복수의 유로중공부(다공)를 갖는 중공 필라멘트(루멘 타입)가 사용된다. 이들의 단면유로형상은 각각 다르더라도 좋고, 목적에 따라 사이즈나 형상을 선택하면 좋다. 중공 필라멘트의 단면외형상으로 나타낸 형상을 사용할 수 있다.
적어도 1개의 중공 필라멘트의 단부가 기재 단부, 보호층 단부 또는 고정층 단부로부터 밀려 나오고, 여장부를 갖는 것이 바람직하다. 이것에 의해 외부의 장치나 외부의 부재의 유로와 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 유로가 간단히 접속할 수 있다.
적어도 1개의 중공 필라멘트의 중간부의 외벽의 적어도 일부가, 고정층으로부터 노출하고 있거나, 보호층으로부터 노출하고 있는 것이 바람직하다. 이것에 의해 중공 필라멘트의 임의인 중간부에 외부로부터 광, 열 등의 인가가 용이하게 되어, 온도 컨트롤이나 반응 제어, 유로 및 유체의 관찰이 가능하게 된다. 중공 필라멘트나 기재 등의 구성 재료에, 투명성이 높은 재료를 이용하면, 광학적인 관측을 하기 쉽다. 또한, 열전도성이 높은 재료를 이용하면 열의 인가가 용이해진다. 더욱이 중공 필라멘트의 외벽에 가공을 가하는 것이 용이하게 되어, 예컨대, 센서나 압전소자 등을 실장이나, 구멍이나 슬릿 등의 가공을 하기 쉬워진다. 구멍 가공을 하므로써 유로내에 열전대 등의 센서의 삽입이나, 유체의 주입, 채취 등이 가능하게 된다. 또한, 유로의 분지부로 하는 것도 가능하다.
적어도 1개의 중공 필라멘트의 중간부의 외벽은, 고정층으로부터 노출하지 않고 있어도 좋다. 이것에 의해 중공 필라멘트의 고정층으로의 유지력이 증가한다. 또한, 중공 필라멘트에 외력이 직접 가해지는 것을 방지할 수 있고, 상기 중공 필라멘트의 변형을 억제할 수 있다. 또한, 상기 중공 필라멘트로의 광이나 열이 전해 지는 것을 억제하거나, 완충하거나 할 수 있다. 예컨대, 고정층이나 기재에 저열전도성 또는 고내열성 또는 차광성 등의 목적에 따른 적절한 재료를 선택하면, 상기 중공 필라멘트의 재료에 의하지 않고, 유로에 열의 전도가 억제되거나, 광이 닿는 것을 막거나 할 수 있고, 주변환경에 영향을 받기 어려워진다.
중공 필라멘트는, 1개이어도 좋지만, 2개 이상인 것이 바람직하다. 또한, 재질이나 형상 등은 목적에 따라서 각각 선택할 수 있다.
더욱이, 2개 이상의 중공 필라멘트가, 2종류 이상의 다른 외경을 갖는 중공 필라멘트로 이루어져도 좋다.
적어도 1개의 중공 필라멘트가, 교차부를 갖도록 부설되어 있어도 좋고, 동일한 중공 필라멘트내에서 교차해도, 다른 중공 필라멘트와 교차해도 좋다. 이들에 의해, 복수 유로를 갖는 복잡한 유체회로이어도 장소를 요하지 않기 때문에, 중공 필라멘트의 고밀도화가 달성된다. 또한, 중공 필라멘트가 교차하거나, 다른 외경을 갖거나 하더라도, 표면의 요철이 적은 마이크로 유체 시스템용 지지유닛이 얻어진다.
중공 필라멘트가 부설된 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께는, 모든 중공 필라멘트의 외경보다도 두꺼운 것, 교차부에 있어서 중공 필라멘트의 두께의 합계보다도 두꺼운 것이 각각 바람직하다. 이것에 의해, 고정층의 표면이 평탄한 마이크로 유체 시스템용 지지유닛이 얻어진다. 또, 여기에서 평탄은, 표면이 중공 필라멘트의 형상에 영향을 주지 않는 상태를 나타낸다.
또한, 중공 필라멘트가 부설된 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께가, 중공 필라멘트가 부설되어 있지 않은 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께의 100∼120%인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 100∼110%이며, 더욱 바람직하게는 100∼105%이며, 특히 바람직하게는 100∼103%이다.
더욱이, 적어도 1개의 중공 필라멘트가 교차부를 갖도록 부설되어 있는 경우는, 상기 교차부의 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께가, 교차부 이외의 중공 필라멘트가 부설되어 있는 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께의 100∼120%인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 100∼110%이고, 더욱 바람직하게는 100∼105%이며, 특히 바람직하게는 100∼103%이다.
기재 단면, 또는, 고정층이 설치되는 면과는 반대측의 기재면의, 적어도 일부를 고정층이 덮어도 좋다. 또한, 고정층 상면, 고정층 단면, 기재 단면, 또는, 고정층이 설치되는 면과는 반대측의 기재면의, 적어도 일부를 보호층이 덮어도 좋다. 고정층 단면, 또는, 고정층 하면의 적어도 일부를 보호층이 덮어도 좋다. 이들에 의해, 기재의 각 면에 고정층을 설치하므로써, 보다 많은 중공 필라멘트가 고정된 마이크로 유체 시스템용 지지유닛이 얻어진다. 또한 보호층을 설치하므로써, 고정층이나 기재의 변질, 변형 등을 방지하거나, 고정층이나 기재 자체가 갖는 택성 등의 성질을 덮어서 숨기거나 할 수도 있다.
다음에 도면을 사용해서 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법을 설명한다.
본 발명은, 적어도 이하의 (i), (ii) 및 (iii)의 공정을 구비하는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법에 관한 것이다.
(i) 기재상에, 적어도 1개의 중공 필라멘트를 임의의 형상으로 부설하는 공정
(ii) 상기 중공 필라멘트의 적어도 일부를 포함하는 소정의 부분을 니스로 덮는 공정
(iii) 상기 니스의 전부 또는 일부를 고화시키는 공정
더욱이, 이하의 (iv)의 공정을 상기 (iii)보다도 후에 포함해도 좋다.
(iv) 소정의 부분에 보호층을 형성하는 공정
도 1∼도 3에 나타내는 본 발명의 제조방법의 제 1의 실시형태에서는, 접착제층을 설치하지 않고 중공 필라멘트를 기재상에 직접 부설한다.
도 1의 (a)는 제 1의 실시태양의 (i) 기재상에, 적어도 1개의 중공 필라멘트를 임의의 형상으로 부설하는 공정에 있어서, 제 1 공정을 나타내는 평면 모식도이며, (b)는 (a)의 Ib-Ib선 화살표 방향의 단면 모식도이다. 도 1에서는 기재(1)상에, 제 1의 중공 필라멘트군(201)∼(208)을 단부가 기재 단부로부터 밀려 나오지 않도록 각각 평행으로 직접 부설하고 있다.
또한, 중공 필라멘트의 부설의 때에는, 예컨대, 도 1에는 도시하지 않고 있지만, 전술한 바와 같이 NC포선기를 이용할 수 있다.
다음에, 별도의 제 2의 중공 필라멘트군(211)∼(218)을, 이미 부설된 제 1의 중공 필라멘트군(201)∼(208)과 교차하도록, 또한 단부가 기재 단부로부터 밀려 나오지 않도록 부설한다. 도 2의 (a)는 공정(i)에 있어서의 이 제 2 공정을 나타내는 평면 모식도이며, (b)는 (a)의 IIb-IIb선 화살표 방향의 단면 모식도이다.
이 부설의 때에도, 예컨대, 도 2의 (a)의 평면도에는 도시하지 않고 있지만, NC포선기(6)를 이용할 수 있다. 다만, 이 NC포선기(6)는 이미 부설된 제 1의 중공 필라멘트군(201)∼(208)과 새롭게 부설하는 제 2의 중공 필라멘트군(211)∼(218)이 교차하는 부분에서는 하중과 초음파 진동은 멈추도록 설정하는 것이 바람직하다. 제 1의 중공 필라멘트군(201)∼(208)과 제 2의 중공 필라멘트군(211)∼(218)과의 교차부의 근방에서, 하중 및/또는 초음파 진동을 멈추므로써, 각 중공 필라멘트에 응력을 저감하고, 중공 필라멘트의 파손을 방지할 수 있다.
도 3의 (a)는 공정(ii) 상기 중공 필라멘트의 적어도 일부를 포함하는 소정의 부분을 니스로 덮는 공정이며, 이미 부설된 제 1의 중공 필라멘트군(201)∼(208)과 제 2의 중공 필라멘트군(211)∼(218)이 교차하는 부분을 니스(3)로 덮는다.
그 후, 니스(3)를 고화시킨다. 이 고화시킨 니스(31)를 고정층으로 한다. 도 3의 (b)는 공정(iii) 상기 니스의 전부 또는 일부, 즉 소정의 고화시키는 부분(32)을 고화시키는 공정의 일예를 나타내는 단면 모식도이며, 이 고화방법은, 니스의 종류에 맞추어, 각종 선택하면 좋고, 예를 들면, 열, 광, 용제 함유량의 저감 등으로 고화시킨다. 특히 광을 이용하는 경우는, 소정의 고화시키는 부분(32)에만 광을 닿게 함으로써 도 3의 (b)와 같이 그 부분만을 고화시킨 니스(31)로 할 수 있다.
도 3의 (c)는 (b) 후의, (b)로부터 니스를 제거하는 공정을 나타내는 단면 모식도이다.
고화하지 않고 있는 니스를 제거하는 방법으로서는, 일반적으로 고화하지 않고 있는 니스류를 제거할 때에 이용되는 방법을 사용할 수 있다. 니스의 유동성이 높은 경우는, 마이크로 유체 시스템용 지지유닛을 기울이거나 거꾸로 하거나 해서, 니스의 흐름을 이용해서 제거할 수 있다. 또한, 시린지나 스포이트, 흡인기 등으로 흡수하는 방법, 종이나 스펀지 등의 흡습체나 흡착제로 흡수하는 방법 혹은 닦아내는 방법, 용제나 물로 씻어 버리는 방법, 기체나 액체로 불어 날려버리는 방법, 숟가락이나 주걱이나 칼 등으로 떠내서 취하는 또는 벗겨내는 방법을 사용할 수 있다.
또한, 니스의 유동성이 낮은 경우도 상기의 유동성이 높은 경우의 니스의 제거에 든 방법을 사용할 수 있고, 특히 유동성이 낮은 경우는 날로 베어내는 방법을 사용할 수 있다. 또한 니스를 제거하는 방법으로서는, 상기에 든 방법을 조합시켜서 사용할 수 있다.
더욱이, 고화시킨 니스를 제거하는 방법으로서, 상기의 고화하지 않고 있는 니스의 제거에 든 방법을 사용할 수 있다. 특히 유동성이 저하하고, 니스가 단단한 경우는, 레이저나 이온 빔 등으로 절단하는 방법이나 커터나 선반이나 드릴 등 날을 이용해서 베어내는 방법이나 또한 햄머 등으로 깨는 방법, 약제로 용융하는 방법을 사용할 수 있다. 또한, 고화시킨 니스를 제거하는 방법으로서는, 상기에 든 방법을 조합시켜 사용할 수 있다.
또한, 니스를 제거하는 경우, 중공 필라멘트에 손상을 주지 않도록 한다. 중공 필라멘트에 이형 가공을 실시하므로써, 니스의 제거를 하기 쉬워진다. 예컨대, 이형제를 도포하는 방법이나 플라즈마 처리 등의 표면개질방법 등이 사용된다. 이형제로서는, 상기의 중간층의 재료로서 나타난 이형제 등을 사용할 수 있다. 또한, 중공 필라멘트의 재료에, 상기한 실리콘계 재료나 불소계 수지, 또는, 이들을 첨가한 재료 등의 이형성이 우수한 재료를 이용할 수도 있다. 더욱이, 이들의 이형성에 우수한 재료와 상기의 이형제를 조합시키는 것이 바람직하다.
도 4∼도 11에 나타내는 제 2∼제 5의 실시형태에서는 기재상에 접착제층을 설치하고, 중공 필라멘트를 접착제층의 위에 부설한다. 여기에서 접착제층은 기재의 표면에 거의 동일형상으로, 거의 동일 사이즈로 형성되어 있다. 또, 도 5의 (a) 및 도 8의 (a)에는 NC포선기(6)는 도시하지 않고 있다.
도 4의 (a)는 본 발명의 제 2의 실시태양의 공정(i)에 있어서의 제 1 공정을 나타내는 평면 모식도이며, (b)는 (a)의 IVb-IVb선 화살표 방향의 단면 모식도이다.
도 5의 (a)는 공정(i)에 있어서의 제 2 공정을 나타내는 평면 모식도이며, (b)는 (a)의 Vb-Vb선 화살표 방향의 단면 모식도이다.
도 4에서는 기재(1)상에 접착제층(11)을 설치하고, 제 1의 중공 필라멘트군(201)∼(208)을 단부가 기재 단부로부터 밀려 나오지 않도록 접착제층(11) 위에 부설한다. 도 5에서는 제 2의 중공 필라멘트(211)∼(218)를, 부설된 제 1의 중공 필라멘트군(201)∼(208)과 교차하도록, 또한 단부가 기재 단부로부터 밀려 나오지 않도록 NC포선기(6)에 의해 부설하고 있다.
도 6의 (a)는 공정(ii)를, (b)는 공정(iii)을 나타내는 단면 모식도이며, (c)는 (b) 후의 니스를 제거하는 공정을 나타내는 단면 모식도이다.
도 7의 (a)는 본 발명의 제 3의 실시태양의 공정(i)에 있어서의 제 1 공정을 나타내는 평면 모식도이며, (b)는 (a)의 VIIb-VIIb선 화살표 방향의 단면 모식도이다.
도 8의 (a)는 공정(i)에 있어서의 제 2 공정을 나타내는 평면 모식도이며, (b)는 (a)의 VIIIb-VIIIb선 화살표 방향의 단면 모식도이다. 도 7 및 도 8에서는 각 중공 필라멘트 단부가 기재 단부로부터 밀려 나오고, 여장부를 갖도록 부설하고 있다.
도 9의 (a)는 공정(ii)를, (b)는 공정(iii)을 나타내는 단면 모식도이며, (c)는 (b) 후의 니스를 제거하는 공정을 나타내는 단면 모식도이다. 도 9에서는, 고화시킨 니스(31)(고정층)가 기재 단면의 일부(도면 중 좌단면)를 덮고 있다.
도 10에 본 발명의 제조방법의 제 4의 실시태양의 일부를 단면 모식도로 나타낸다. 도 10의 (a)는 공정(ii)를 나타내는 단면 모식도이며, (b)는 공정(iii)을 나타내는 단면 모식도이며, (c)는 (b) 후의 니스를 제거하는 공정을 나타내는 단면 모식도이다. 도 10에서는 중공 필라멘트의 단부가 기재 단부로부터 밀려 나오고, 여장부를 갖도록 부설하고, 언제물(5)을 설치하고, 그 내측에 니스(3)를 흘려 넣는다(도 10(a) 참조.). 언제물(5)은 중공 필라멘트의 단부보다도 외측, 내측 어느 쪽에 설치해도 좋다. 도 10(b)과 같이 소정의 니스를 고화시키는 부분(32)을 고화시켜, (c)와 같이 니스를 제거하는 것에 의해, 소정의 부분을 고정층으로 덮을 수 있다. 이것에 의해 중공 필라멘트의 필요한 부분만이, 고정층에서 고정된 마이크로 유체 시스템용 지지유닛을 얻을 수 있다.
도 11에 본 발명의 제조방법의 제 5의 실시태양의 일부를 단면 모식도로 나타낸다. (a)는 제 5의 실시태양의 공정(ii)를, (b)는 공정(iii)을, (c)는 (b) 후의 니스를 제거하는 공정을, (d)는 보호층을 형성하는 공정(iv)을, 각각 나타낸다. 공정(iv)에서는, 고화시킨 니스(31)(고정층)의 표면에 보호층(4)을 형성한다.
도 11(d)와 같이 , 고화시킨 니스(31)(고정층)의 상면이나 측면 뿐만 아니라, 기재(1)의 표면, 접착제층(11)의 표면, 기재(1) 및 접착제층(11)을 박리해서 노출한 중공 필라멘트측의 고정층 표면의, 어디에 보호층(4)을 형성해도 좋다.
본 발명은, 적어도 이하의 (v), (vi) 및 (vii)의 공정을 구비하는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법에 관한 것이다.
(v) 기재상의 소정 부분을 니스로 덮는 공정
(vi) 상기 니스 중에 적어도 1개의 중공 필라멘트의 적어도 일부를 침지하는 공정, 또는, 니스에 적어도 1개의 중공 필라멘트를 띄우는 공정
(vii) 상기 니스의 전부 또는 일부를 고화시키는 공정
더욱이, 이하의 (viii)의 공정을 상기 (vii)보다 뒤에 포함해도 좋다.
(viii) 소정의 부분에 보호층을 형성하는 공정
이것에 의해, 기재나 중간층이나 고정층의 변질이 일어나기 어렵고, 또한 기재나 중간층이나 고정층이 갖는 점착성 등의 성질을 덮어서 취급하기 쉽게 한 마이크로 유체 시스템용 지지 유닛이 얻어진다. 그 외에도, 내약품성, 강직성, 저흡습성을 보호층에 갖게 하므로써 사용 목적에 따른 마이크로 유체 시스템용 지지유닛을 얻을 수 있다.
본 발명은, 적어도 이하의 (ix), (vi), (vii) 및 (x)의 공정을 구비하는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법에 관한 것이다.
(ix) 용기 중에 니스를 충전하는 공정
(vi) 상기 니스 중에 적어도 1개의 중공 필라멘트의 적어도 일부를 침지하는 공정, 또는, 니스에 적어도 1개의 중공 필라멘트를 띄우는 공정
(vii) 상기 니스의 전부 또는 일부를 고화시키는 공정
(x) 용기의 적어도 일부를 제거하는 공정
더욱이 이하의 (viii)의 공정을, 상기 (vii)의 공정과 (x)의 공정의 사이에, 또는 (x)의 공정보다 뒤에, 포함해도 좋다.
(viii) 소정의 부분에 보호층을 형성하는 공정
이것에 의해 고정층의 변질이나 변형이 일어나기 어렵고, 또한 고정층이 갖는 점착성 등의 성질을 덮어서 취급하기 쉽게 한 마이크로 유체 시스템용 지지유닛이 얻어진다.
본 발명의 제조방법은, 전술의 제 2의 실시형태의 도 4(a)와 같이, 기재상에 적어도 1개의 중공 필라멘트를 부설하기 전에, 상기 기재와 상기 적어도 1개의 중공 필라멘트와의 사이에 중간층을 설치하는 공정을 더 포함해도 좋다.
또한, 본 발명의 제조방법은, 기재상의 소정 부분을 니스로 덮기 전에, 상기 기재상에 중간층을 설치하는 공정을 더 포함해도 좋다.
더욱이, 본 발명의 제조방법은, 용기 중에 니스를 충전하기 전에, 용기 표면상에 중간층을 설치하는 공정을 더 포함해도 좋다.
또한, 본 발명의 제조방법은, 적어도 1개의 중공 필라멘트의 전부 또는 일부를 중간층상에 임의의 형상으로 부설하는 공정을 더 포함해도 좋다.
여기에서, 중간층이, 접착능을 갖는 층, 또는, 완충능을 갖는 층, 또는, 이형능을 갖는 층인 것이 바람직하다.
본 발명의 제조방법은, 니스의 전부 또는 일부를 고화시킨 후에 적어도 기재의 일부를, 또는, 적어도 중간층의 일부를 제거하는 공정을 더 포함해도 좋다. 이것에 의해 사용 환경에 의하지 않고 기재나 중간층을 선정할 수 있다. 예컨대, 고온조건에서의 사용을 목적으로 하는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛을 제조하는 경우도, 저내열성의 저렴한 기재나 중간층을 이용해서 제조할 수 있다. 고정층의 필요한 부분만을 노출시킬 수 있으므로, 고정층 중에서 중공 필라멘트의 외벽의 일부가 기재측에 노출하고 있는 경우, 이 부분의 기재를 제거하므로써, 중공 필라멘트의 외벽을 외부에 노출할 수 있다. 또한, 기재에 경질한 금속이나 두꺼운 수지판 등을 이용해도 필요부분을 제거하므로써, 고정층으로 후에 직접 가공을 실시하는 것이 가능하게 된다.
본 발명의 제조방법은, 니스 중에 미리 임의의 형상으로 고정된 중공 필라멘트를 침지시키거나, 또는, 니스에 미리 임의의 형상으로 고정된 중공 필라멘트를 띄워도 좋다. 이것에 의해 제작공정시에 니스 자체를 이동하거나, 흘리거나 할 필요가 없다. 그 때문에, 니스의 유동성이 상당히 높은 경우나 온도 컨트롤이 어려운 경우 등, 취급성이 나쁜 니스에서도 사용할 수 있다. 또한, 중공 필라멘트의 임의의 형상에 입체적인 부분이 있어도 고정층에서 고정할 수 있다.
여기에서, 중공 필라멘트는 미리, 기재상, 또는, 중간층을 갖는 기재의 중간층상에 임의 형상으로 부설되고, 고정되어 있어도 좋다.
본 발명의 제조방법은, 니스 중에서 중공 필라멘트를 임의의 형상으로 고정하여도 좋다. 이것에 의해 포선장치 등을 이용해서 미리 중공 필라멘트를 임의의 형상으로 배선하여 둘 필요가 없고, 간편하게 마이크로 유체 시스템용 지지유닛을 제작할 수 있다.
도 1의 (a)는 본 발명의 제 1의 실시태양의 공정(i)에 있어서 제 1 공정을 나타내는 평면 모식도이며, (b)는 (a)의 Ib-Ib선 화살표 방향의 단면 모식도이다.
도 2의 (a)는 본 발명의 제 1의 실시태양의 공정(i)에 있어서의 제 2 공정을 나타내는 평면 모식도이며, (b)는 (a)의 IIb-IIb선 화살표 방향의 단면 모식도이다.
도 3의 (a)는 본 발명의 제 1의 실시태양의 공정(ii)를 나타내는 단면 모식도이며, (b)는 본 발명의 제 1의 실시태양의 공정(iii)을 나타내는 단면 모식도이 며, (c)는 (b) 후의 니스를 제거하는 공정을 나타내는 단면 모식도이다.
도 4의 (a)는 본 발명의 제 2의 실시태양의 공정(i)에 있어서의 제 1 공정을 나타내는 평면 모식도이며, (b)는 (a)의 IVb-IVb선 화살표 방향의 단면 모식도이다.
도 5의 (a)는 본 발명의 제 2의 실시태양의 공정(i)에 있어서의 제 2 공정을 나타내는 평면 모식도이며, (b)는 (a)의 Vb-Vb선 화살표 방향의 단면 모식도이다.
도 6의 (a)는 본 발명의 제 2의 실시태양의 공정(ii)를 나타내는 단면 모식도이며, (b)는 본 발명의 제 2의 실시태양의 공정(iii)을 나타내는 단면 모식도이며, (c)는 (b) 후의 니스를 제거하는 공정을 나타내는 단면 모식도이다.
도 7의 (a)는 본 발명의 제 3의 실시태양의 공정(i)에 있어서의 제 1 공정을 나타내는 평면 모식도이며, (b)는 (a)의 VIIb-VIIb선 화살표 방향의 단면 모식도이다.
도 8의 (a)는 본 발명의 제 3의 실시태양의 공정(i)에 있어서의 제 2 공정을 나타내는 평면 모식도이며, (b)는 (a)의 VIIIb-VIIIb선 화살표 방향의 단면 모식도이다.
도 9의 (a)는 본 발명의 제 3의 실시태양의 공정(ii)를 나타내는 단면 모식도이며, (b)는 본 발명의 제 3의 실시태양의 공정(iii)을 나타내는 단면 모식도이며, (c)는 (b) 후의 니스를 제거하는 공정을 나타내는 단면 모식도이다.
도 10의 (a)는 본 발명의 제 4의 실시태양의 공정(ii)를 나타내는 단면 모식도이며, (b)는 본 발명의 제 4의 실시태양의 공정(iii)을 나타내는 단면 모식도이 며, (c)는 (b) 후의 니스를 제거하는 공정을 나타내는 단면 모식도이다.
도 11의 (a)는 본 발명의 제 5의 실시태양의 공정(ii)를 나타내는 단면 모식도이며, (b)는 본 발명의 제 5의 실시태양의 공정(iii)을 나타내는 단면 모식도이며, (c)는 (b) 후의 니스를 제거하는 공정을 나타내는 단면 모식도이며, (d)는 본 발명의 제 5의 실시태양의 공정(iv)을 나타내는 단면 모식도이다.
(부호의 설명)
1 기재
11 접착제층
2, 201∼208, 211∼218 중공 필라멘트
3 니스
31 고화시킨 니스
32 니스를 고화시키는 부분
4 보호층
5 언제물
6 NC포선기
이하, 실시예에 의해 본 발명을 설명한다. 본 발명은 이들의 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
(실시예 1)
세로 150mm, 가로 200mm 정도로 잘라낸, 두께 0.05mm의 PET필름(기재)의 편 면에, 접착능을 갖는 중간층으로서 두께 0.25mm의 양면접착 테이프 9415PC(스미토모스리엠 주식회사제 상품명)를 롤 라미네이터에 의해 접착했다. 니터ㆍ무어 주식회사제의 특수2중관(내층:ETFE, 외층:PA11, 내경 1.00nm, 외경 1.50mm)을 준비하고, 상기 양면 테이프의 접착제층 표면에, 상기의 중공 필라멘트를 세로가로 20mm 간격의 매트릭스상으로 되도록 배선하여 고정했다. 이 때, 중공 필라멘트의 모든 단부는 기재 단부로부터 100mm 정도를 프리한 상태에서 노출시켜, 여장부로 했다. 상기 기재의 PET필름의 또 한쪽의 면의 4변부에 양면 테이프를 붙이고, 플라스틱제의 트레이(내치수:200mm×150mm×30mm)내에 고정했다. 이 때 여장부는 트레이의 테두리로부터 밖으로 나왔다.
다음에, 실리콘 엘라스토머 SYLGARD184(다우코닝아시아 주식회사제 상품명)의 주제와 촉매를 10 대 1의 중량비율로 되도록 칭량하여 취하고, 공기가 되도록 들어가지 않도록 천천히 교반해서 니스를 얻었다. 이것을 깊이 20mm 정도로 되도록 트레이내에 조용히 따라 넣었다. 상온에서 24시간 방치한 바, 니스가 고화하여 고정층으로 되고, 표면에 요철이 없는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛이 얻어졌다.
(실시예 2)
기재인 두께 0.06mm의 폴리페닐렌설피드(PPS)필름(루미라:도오레 주식회사 등록상표)의 편면에, 실온(25℃)에서 비점착성 접착제인 S9009(다우코닝아시아 주식회사제 상품명)을 0.40mm의 두께로 형성하고, 세로 200mm, 가로 200㎜ 정도로 절출했다. 다음에, PFA 불소수지제의 중공 필라멘트(내경 0.79mm, 외경 1.53mm, 주식회사 이와세제)를 준비했다. 상기 기재의 비점착성 접착제면에, 상기의 중공 필라 멘트를 길이 1m의 일필쓰기의 그물코상으로, 하중과 초음파가 인가 가능한 NC제어 배선장치에 의해 고정하고, 각 단부를 여장부로서 기재의 밖으로 나오게했다.
폴리우레탄제의 극간 막이용 테이프(두께 10mm, 폭 15mm, 접착제 부착, 주식회사 니톰즈제)를 기재의 외부 테두리부에 따라 고정하고, 언제물로 했다. 특히, 상기 폴리우레탄제 테이프가 중공 필라멘트를 넘는 장소에서는, 상기 테이프와 상기 중공 필라멘트의 사이에 극간이 없도록 잘 추종시켜서, 고정했다. 초연질 우레탄 수지(주식회사 엑실코포레이션제)의 주제 300g과 경화제 100g(3 대 1의 비율)으로 정밀하게 칭량하여 취하고, 교반기를 이용하여 이 두개를 불균일 없이 균일하게 혼합하고, 계 400g의 니스를 얻었다. 이 때, 주제와 경화제의 중량오차는 1중량% 이내로 했다. 상기 언제물의 내측에 이 니스를 두께 5mm로 되도록 조용히 흘려 넣었다. 이것을, 24시간, 25℃, 습도 80% 이하의 조건하에 둔 바, 상기 니스가 고화했다. 이 고화물(니스)은, 옅은 황색으로 가소성과 점착성을 갖고, 압축강도(30%) 7kPa, 인장신장 700%이었다.
다음에, 기재와 접착제 S9009을 정성스럽게 박리한 바, 상기 중공 필라멘트가 상기 고화물로 유지되었다, 마이크로 유체 시스템용 지지유닛이 얻어진다.
얻어진 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 표면은 점착성(고화한 초연질 우레탄 수지의 특징)을 갖고 있었다. 이 마이크로 유체 시스템용 지지유닛을 스테인레스제의 퍼트 내에 정치하고, 표면 코트제(주식회사 엑실코포레이션제)를 저면 이외의 면에 솔로 도포하고, 3시간 정도 실온하에 두었다. 표면 코트제가 어느 정도 경화한 것을 확인한 후, 뒤집어서 저면에도 표면 코트제를 동일하게 도포하고, 3시 간 정도 실온하에 둔 바, 표면에 비점착성의 보호층이 형성되어, 취급성이 우수한 마이크로 유체 시스템용 지지유닛이 얻어졌다.
(실시예 3)
스미토모스리엠 주식회사제의 양면접착 테이프:상품명 9415PC를, 세로 100㎜, 가로 200mm 정도로 잘라내고, 세로 110mm, 가로 210mm, 두께 5mm의 에폭시 수지판에, 박리 필름이 상기 에폭시 수지판면에 접하도록 두고, 4변부를 종이테이프로 고정했다. 이어서, 폴리에테르이미드제의 중공 필라멘트(내경 0.3mm, 외경 0.5mm:히토시레이공업주식회사제)를 준비하고, 교차부를 갖는 곡률반경 20mm 정도의 반원 패턴으로 제 1의 중공 필라멘트군을 상기 양면 테이프의 접착제층의 위에, 하중과 초음파가 인가 가능한 NC제어 배선장치에 의해 부설했다. 언제물로서 폭 10mm, 높이 10mm의 스펀지를 준비하고, 상기 중공 필라멘트군을 둘러싸도록, 양면 테이프상에 첩부했다. 이 때, 중공 필라멘트의 각 단부(50㎜ 정도)는, 언제물로 둘러싸는 부분의 밖으로 되도록 스펀지를 고정하고, 여장부로 했다. 중공 필라멘트를 넘는 곳은, 극간이 가능하지 않도록 한 스펀지를 중공 필라멘트에 잘 추종시켰다.
다우코닝아시아 주식회사제의 실리콘 엘라스토머 SYLGARD184(상품명)의 주제와 촉매를 10 대 1의 중량비율로 되도록 칭량하여 취하고, 공기가 되도록 들어가지 않도록 신중하게 혼합하여 니스를 얻었다. 이것을, 깊이 5mm 정도로 되도록, 상기의 주위 중에 조용히 따라 넣었다. 상온(25℃)에서 24시간 방치하고, 고화시켰다.
다음에 상기 기재의 에폭시 수지판과 양면 테이프의 박리 필름만을 제거하고, 고화시킨 니스의 표면에, 상기 양면 테이프의 접착제층을 남겼다. 이것을 기재 로 하고, 히토시레이공업주식회사제의 PEEK튜브(내경 0.10mm, 외경 0.25mm)를 제 2의 중공 필라멘트군으로 하여, 1.Omm의 간격으로 병렬 직선형상으로 배선하고, 더욱이 니세이전기주식회사제의 PFA튜브(내경:0.70mm, 외경:1.OOmm)를, 제 2의 중공 필라멘트군에 교차하는 방향으로, 제 3의 중공 필라멘트군으로 하여 1.5mm 간격으로 병렬 직선상으로 부설했다.
기재면상에 부설된 상기 제 2 및 제 3의 중공 필라멘트군의 교차 부분을 둘러싸도록, 폴리우레탄제의 극간 막이용 테이프(두께 10mm, 폭 15mm, 접착제 첨부, 주식회사 니톰즈제)를 고정하여 언제물을 설치했다.
상기 제 1의 중공 필라멘트군의 고정에 이용한 것과 동일한 니스를, 상기 언제물내에 조용히 따라 넣고, 두께 10mm 정도로 채웠다. 상온에서 24시간 방치하고, 고화시켜, 마이크로 유체 시스템용 지지유닛을 얻었다.
(실시예 4)
알루미제의 튜브 가고정 지그와 히토시레이공업주식회사제의 고밀도 폴리에틸렌 튜브(내경 0.50mm×외경 1.OOmm)를 600mm 준비했다. 전술한, 튜브 가고정 지그는, 세로 250mm, 가로 150mm, 두께 5mm의 알루미판 위에, 세로가로 15mm 간격에서 직경 3mm, 높이 15mm의 원주가 격자상으로 서있는 것이다. 6-나일론 튜브의 양단을, 여장부로서 각 100mm씩 튜브 가고정 지그에 수직으로 서있도록 점착테이프를 이용해서 원주에 고정했다. 나머지 튜브를 튜브 가고정 지그내의 원주 사이를 둘러쳐, 지그재그 모양으로 만들었다. 이것을 100℃로 예열한 건조기에 2시 간 넣은 후, 실온에서 냉각했다. 점착테이프를 제거하고, 튜브 가고정 지그로부터 튜브를 제거한 바, 튜브는 지그재그 형상의 면부분과 이것에 수직방향으로 여장부가 신장한 형상으로 되었다.
세로 300mm, 가로 200mm, 깊이 40mm의 SUS제의 용기를 준비하고, 용기 위에 SUS제의 각막대(1변 20mm)를 건네 주었다. 전술한 튜브를, 여장부가 용기의 개구방향(위)에 나가도록 넣고, 튜브 전체가 용기의 밑바닥으로부터 수mm 뜨도록 여장부를 SUS제의 각 막대에 점착테이프로 고정했다. 다우코닝아시아 주식회사제의 실리콘 엘라스토머 SYLGARD184(상품명)의 주제와 촉매를 10 대 1의 중량비율로 되도록 칭량하여 취하고, 공기가 되도록 들어가지 않도록 신중하게 혼합해서 니스를 얻었다. 이것을, 깊이 10mm 정도로 되도록, 상기의 용기에 조용히 따라 넣었다. 상온(25℃)에서 24시간 방치한 바, 니스가 고화하여 고정층으로 되었다. 이것을 용기로부터 잘라낸 바, 표면에 요철이 없는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛이 얻어졌다.
(실시예 5)
SUS제의 직경 30㎜의 원주막대와 히토시레이공업주식회사제의 6-나일론 튜브(내경 1.Omm×외경 1.59mm)를 600mm 준비했다. 튜브의 양단 100mm의 곳에 표시를 붙여 여장으로 했다. 한쪽의 여장 100㎜를 SUS제의 원주막대의 길이 방향으로, 점착테이프로 고정한 후, 나머지 튜브를 원주막대에 코일상으로 둘러 감고, 또 한쪽의 여장을 남겨서 점착 테이프로 고정했다. 이 고정되어 있지 않은 여장을, 전술의 고정한 여장과 동일한 방향으로, 평행하게 걸쳐서 점착테이프로 고정했다. 이것을 100℃로 예열한 건조기에 2시간 넣은 후, 실온에서 냉각했다. 점착테이프를 제거하 고, 튜브를 원주막대로부터 제거한 바, 튜브는 코일 형상으로 되었다.
다우코닝아시아 주식회사제의 실리콘 엘라스토머 SYLGARD184(상품명)의 주제와 촉매를 10 대 1의 중량비율로 되도록 칭량하여 취하고, 공기가 되도록 들어가지 않도록 신중하게 혼합하여 니스를 얻었다. 이 니스를, 개구부 50mm, 저부 40mm, 깊이 75mm의 폴리컵에 50mm의 깊이까지 넣었다. 코일 형상으로 된 전술한 튜브의 양단부를 쥐고, 폴리컵 내의 니스 중에 코일형상의 부분을 기포가 들어가지 않도록 천천히 가라앉혔다. 튜브가, 폴리컵에 닿지 닿지 않도록 여장부를 고정하고, 상온(25℃)에서 36시간 방치한 바, 니스가 고화하여 고정층으로 되었다. 폴리컵으로 부터 취출한 바, 표면에 요철의 없는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛이 얻어졌다.
본 발명을 상기의 형태에 의해 기재했지만, 이 개시의 일부를 이루는 부분 및 도면은 이 발명을 한정하는 것으로 이해해서는 안된다. 이 개시로부터 당업자에게는 여러가지 대체 실시의 형태, 실시예 및 운용기술이 분명하게 될 것이다.
본 발명의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛 및 그 제조방법에 의하면, 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 표면요철이 적고, 또한, 라미네이트하는 방법에 비하여 마이크로 유체 지지유닛 제조시의 중공 필라멘트 교차부 및 외경이 다른 복수의 중공 필라멘트를 갖는 부분에서의 파손ㆍ변형을 억제할 수 있고, 중공 필라멘트의 교차 부분에서의 위치 어긋남을 더욱 저감할 수 있다. 이것에 의해, 중공 필라멘트를 임의 패턴에 부설할 수 있기 때문에, 중공 필라멘트를 교차시키는 것도 가 능하다. 이것 때문에, 중공 필라멘트의 고밀도화가 달성되어, 용이하게 cm단위의 유로를 갖는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛을 제조할 수 있다. 또한, 중공 필라멘트를 교차시킨 경우나, 2종류 이상의 다른 외경을 갖는 중공 필라멘트를 사용한 경우라도, 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 표면의 요철은 적고 평탄성이 우수한 것을 얻을 수 있다.
또한, 복수의 중공 필라멘트끼리를 교차시키면, 복수유로를 갖는 복잡한 유체회로이어도 장소를 요하지 않는 소형의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛을 얻을 수 있다.
또한, 중공 필라멘트의 임의 부분만을 고정층으로 덮을 수 있기 때문에, 중공 필라멘트의 말단부분 이외를 니스 등의 고정층으로 덮어서 유로내로의 니스 등의 진입을 방지하거나, 교차부나 외경이 큰 중공 필라멘트 등의 강한 외력에 의해 변형이 우려되는 부분이나, 복잡 패턴이나 고밀도 교차부 등의 패턴 형상의 유지력이 약하다고 생각되는 부분만을 덮거나 하는 등, 필요성이 있는 부분만을 고정층으로 덮을 수 있다.
고정층의 일부가 제거된 것 같은 구조를 취하는 것에 의해 중공 필라멘트의 중간부를 노출시켜, 관찰 창이나 다른 부재와의 접속부로 하는 것도 가능하다. 관찰 창으로 하는 경우에는 필요에 따라서 중공 필라멘트 노출부에 투명성이 높은 수지 등을 충전하고, 보호할 수도 있다. 또한, 접속부로 하는 경우에는 필요에 따라서 접속후의 접속부위에 수지를 충전하고, 보호할 수도 있다. 관찰 창을 설치하지 않고 고정층 자체를 투명성이 높은 재료로 하는 것에 의해 대체하는 것도 가능하 다.
또한, 고정층으로 되는 니스량은 자유롭게 설정할 수 있기 때문에, 그 두께도 임의로 설정할 수 있다. 또한, 사용되는 모든 중공 필라멘트의 외경보다도 두꺼운 쪽이 평탄성이 우수한 마이크로 유체 시스템용 지지 유닛이 얻어지기 쉽다. 동일하게 교차부의 중공 필라멘트의 두께의 합계보다도 두꺼운 것이 바람직하다.
중공 필라멘트는 고정층에서 고정되는 것이 바람직하지만, 기재상에 부설된 중공 필라멘트 이외의 영역의 소정부분에 층을 설치하고, 외력으로부터 보호하는 형태를 취하는 것도 가능하다. 이렇게 하는 것에 의해, 중공 필라멘트의 고정층에 의한 화학적인 변화를 방지할 수 있거나, 다른 부재와의 접속이 용이해지거나, 유로인 중공 필라멘트의 관찰이 하기 쉬워지거나 한다. 이와 같은 경우에도 중공 필라멘트의 일부를 고정층에서 고정하는 것에 의해, 보다 신뢰성이 우수한 마이크로 유체 시스템용 지지유닛으로 할 수도 있다.
또한, 니스에서 소정의 부분을 덮는 경우에는 언제물을 설치하는 것에 의해, 니스의 유출이 방지되고, 소정의 부분만을 덮게 하는 것이 가능해진다. 또한, 복수종류의 니스로 상기 기재면을 덮는 경우에, 니스류가 서로 섞이는 것을 방지할 수도 있다.
더욱이, 언제물의 높이를 임의로 선택하는 것에 의해, 고정층의 두께를 임의인 높이로 선택하는 것이 용이하게 된다.
또한, 고정층을 형성한 후에 소정부분의 기재, 고정층, 니스, 중간층을 제거하므로써, 소정의 중공 필라멘트 부분이 노출한 마이크로 유체 시스템용 지지유닛 이나, 중공 필라멘트 이외의 부분이 노출한 마이크로 유체 시스템용 지지유닛을 얻을 수 있다.

Claims (50)

  1. 기재와, 상기 기재상에 설치된 고정층을 갖고, 상기 고정층 중에 적어도 1개의 중공 필라멘트의 일부가 임의의 형상으로 부설되고, 고정되어 있는 것을 특징으로 하는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛.
  2. 제 1항에 있어서, 기재 및 고정층의, 적어도 일부를 덮는 보호층을 갖는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛.
  3. 보호층과, 상기 보호층상에 설치된 고정층을 갖고, 상기 고정층 중에 적어도 1개의 중공 필라멘트의 일부가 임의의 형상으로 부설되고, 고정되어 있는 것을 특징으로 하는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛.
  4. 중간층과, 상기 중간층상에 설치된 고정층을 갖고, 상기 고정층 중에 적어도 1개의 중공 필라멘트의 일부가 임의의 형상으로 부설되고, 고정되어 있는 것을 특징으로 하는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛.
  5. 고정층 중에 적어도 1개의 중공 필라멘트의 일부가 임의의 형상으로 부설되고, 고정되어 있는 것을 특징으로 하는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛.
  6. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 기재와 고정층과의 사이에 중간층을 설치하고 있는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛.
  7. 제 3항에 있어서, 보호층과 고정층과의 사이에 중간층을 설치하고 있는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛.
  8. 제 4항, 제 6항, 제 7항 중 어느 한 항에 있어서, 중간층이, 접착능을 갖는 층, 또는, 완충능을 갖는 층, 또는, 이형능을 갖는 층인 마이크로 유체 시스템용 지지유닛.
  9. 제 1항, 제 2항, 제 6항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 1개의 중공 필라멘트의 단부가 기재 단부로부터 밀려 나오고, 여장부(余長部)를 갖는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛.
  10. 제 2항, 제 3항, 제 6항, 제 7항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 1개의 중공 필라멘트의 단부가 보호층 단부로부터 밀려 나오고, 여장부를 갖는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛.
  11. 제 1항 내지 제 10항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 1개의 중공 필라멘트의 단부가 고정층 단부로부터 밀려 나오고, 여장부를 갖는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛.
  12. 제 1항 내지 제 11항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 1개의 중공 필라멘트의 중간부의 외벽의 적어도 일부가, 고정층으로부터 노출하고 있는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛.
  13. 제 12항에 있어서, 적어도 1개의 중공 필라멘트 중간부의 외벽의 적어도 일부가, 보호층으로부터 노출하고 있는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛.
  14. 제 1항 내지 제 11항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 1개의 중공 필라멘트 중간부의 외벽이 고정층으로부터 노출하지 않고 있는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛.
  15. 제 1항 내지 제 14항 중 어느 한 항에 있어서, 중공 필라멘트가, 2개 이상인 마이크로 유체 시스템용 지지유닛.
  16. 제 15항에 있어서, 2개 이상의 중공 필라멘트가, 2종류 이상의 다른 외경을 갖는 중공 필라멘트로 이루어지는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛.
  17. 제 1항 내지 제 16항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 1개의 중공 필라멘트 가, 교차부를 갖도록 부설되어 있는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛.
  18. 제 1항 내지 제 17항 중 어느 한 항에 있어서, 중공 필라멘트가 부설된 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께가, 모든 중공 필라멘트의 외경보다도 두꺼운 마이크로 유체 시스템용 지지유닛.
  19. 제 1항 내지 제 18항 중 어느 한 항에 있어서, 중공 필라멘트가 부설된 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께가, 교차부에 있어서의 중공 필라멘트의 두께의 합계보다도 두꺼운 마이크로 유체 시스템용 지지유닛.
  20. 제 1항 내지 제 19항 중 어느 한 항에 있어서, 중공 필라멘트가 부설된 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 표면이, 평탄한 마이크로 유체 시스템용 지지유닛.
  21. 제 1항 내지 제 20항 중 어느 한 항에 있어서, 고정층이, 고화시킨 니스인 마이크로 유체 시스템용 지지유닛.
  22. 제 21항에 있어서, 고화 전의 니스가 유동성을 갖는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛.
  23. 제 1항 내지 제 22항 중 어느 한 항에 있어서, 중공 필라멘트가 부설된 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께가, 중공 필라멘트가 부설되어 있지 않은 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께의 100∼120%인 마이크로 유체 시스템용 지지유닛.
  24. 제 1항 내지 제 22항 중 어느 한 항에 있어서, 중공 필라멘트가 부설된 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께가, 중공 필라멘트가 부설되어 있지 않은 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께의 100∼110%인 마이크로 유체 시스템용 지지유닛.
  25. 제 1항 내지 제 22항 중 어느 한 항에 있어서, 중공 필라멘트가 부설된 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께가, 중공 필라멘트가 부설되어 있지 않은 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께의 100∼105%인 마이크로 유체 시스템용 지지유닛.
  26. 제 1항 내지 제 22항 중 어느 한 항에 있어서, 중공 필라멘트가 부설된 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께가, 중공 필라멘트가 부설되어 있지 않은 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께의 100∼103%인 마이크로 유체 시스템용 지지유닛.
  27. 제 1항 내지 제 26항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 1개의 중공 필라멘트가 교차부를 갖도록 부설되고 있고, 상기 교차부의 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께가, 교차부 이외의 중공 필라멘트가 부설되어 있는 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께의 100∼120%인 마이크로 유체 시스템용 지지유닛.
  28. 제 1항 내지 제 26항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 1개의 중공 필라멘트가 교차부를 갖도록 부설되고 있고, 상기 교차부의 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께가, 교차부 이외의 중공 필라멘트가 부설되어 있는 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께의 100∼110%인 마이크로 유체 시스템용 지지유닛.
  29. 제 1항 내지 제 26항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 1개의 중공 필라멘트가 교차부를 갖도록 부설되고 있고, 상기 교차부의 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께가, 교차부 이외의 중공 필라멘트가 부설되어 있는 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께의 100∼105%인 마이크로 유체 시스템용 지지유닛.
  30. 제 1항 내지 제 26항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 1개의 중공 필라멘트가 교차부를 갖도록 부설되고 있고, 상기 교차부의 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께가, 교차부 이외의 중공 필라멘트가 부설되어 있는 영역의 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 두께의 100∼103%인 마이크로 유체 시스템용 지지유닛.
  31. 적어도 이하의 (i), (ii) 및 (iii)의 공정을 구비하는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법.
    (i) 기재상에, 적어도 1개의 중공 필라멘트를 임의의 형상으로 부설하는 공정
    (ii) 상기 중공 필라멘트의 적어도 일부를 포함하는 소정의 부분을 니스로 덮는 공정
    (iii) 상기 니스의 전부 또는 일부를 고화시키는 공정
  32. 적어도 이하의 (i), (ii), (iii) 및 (iv)의 공정을 구비하는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법.
    (i) 기재상에, 적어도 1개의 중공 필라멘트를 임의의 형상으로 부설하는 공정
    (ii) 상기 중공 필라멘트의 적어도 일부를 포함하는 소정의 부분을 니스로 덮는 공정
    (iii) 상기 니스의 전부 또는 일부를 고화시키는 공정
    (iv) 소정의 부분에 보호층을 형성하는 공정
  33. 적어도 이하의 (v), (vi) 및 (vii)의 공정을 구비하는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법.
    (v) 기재상의 소정의 부분을 니스로 덮는 공정
    (vi) 상기 니스 중에 적어도 1개의 중공 필라멘트의 적어도 일부를 침지하는 공정, 또는, 니스에 적어도 1개의 중공 필라멘트를 띄우는 공정
    (vii) 상기 니스의 전부 또는 일부를 고화시키는 공정
  34. 적어도 이하의 (v), (vi), (vii) 및 (viii)의 공정을 구비하는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법.
    (v) 기재상의 소정의 부분을 니스로 덮는 공정
    (vi) 상기 니스 중에 적어도 1개의 중공 필라멘트의 적어도 일부를 침지하는 공정, 또는, 니스에 적어도 1개의 중공 필라멘트를 띄우는 공정
    (vii) 상기 니스의 전부 또는 일부를 고화시키는 공정
    (viii) 소정의 부분에 보호층을 형성하는 공정
  35. 적어도 이하의 (ix), (vi), (vii) 및 (x)의 공정을 구비하는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법.
    (ix) 용기 중에 니스를 충전하는 공정
    (vi) 상기 니스 중에 적어도 1개의 중공 필라멘트의 적어도 일부를 침지하는 공정, 또는, 니스에 적어도 1개의 중공 필라멘트를 띄우는 공정
    (vii) 상기 니스의 전부 또는 일부를 고화시키는 공정
    (x) 용기의 적어도 일부를 제거하는 공정
  36. 적어도 이하의 (ix), (vi), (vii), (x) 및 (viii)의 공정을 구비하는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법.
    (ix) 용기 중에 니스를 충전하는 공정
    (vi) 상기 니스 중에 적어도 1개의 중공 필라멘트의 적어도 일부를 침지하는 공정, 또는, 니스에 적어도 1개의 중공 필라멘트를 띄우는 공정
    (vii) 상기 니스의 전부 또는 일부를 고화시키는 공정
    (x) 용기의 적어도 일부를 제거하는 공정
    (viii) 소정의 부분에 보호층을 형성하는 공정
  37. 적어도 이하의 (ix), (vi), (vii), (viii) 및 (x)의 공정을 구비하는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법.
    (ix) 용기 중에 니스를 충전하는 공정
    (vi) 상기 니스 중에 적어도 1개의 중공 필라멘트의 적어도 일부를 침지하는 공정, 또는, 니스에 적어도 1개의 중공 필라멘트를 띄우는 공정
    (vii) 상기 니스의 전부 또는 일부를 고화시키는 공정
    (viii) 고화된 니스의 표면에 보호층을 형성하는 공정
    (x) 용기의 적어도 일부를 제거하는 공정
  38. 제 31항 또는 제 32항에 있어서, 기재상에 적어도 1개의 중공 필라멘트를 부설하기 전에, 상기 기재와 상기 적어도 1개의 중공 필라멘트와의 사이에 중간층을 설치하는 공정을 더 포함하는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법.
  39. 제 33항 또는 제 34항에 있어서, 기재상의 소정의 부분을 니스로 덮기 전에, 상기 기재상에 중간층을 설치하는 공정을 더 포함하는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법.
  40. 제 35항 내지 제 37항 중 어느 한 항에 있어서, 용기 중에 니스를 충전하기 전에, 용기 표면상에 중간층을 설치하는 공정을 더 포함하는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법.
  41. 제 38항 내지 제 40항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 1개의 중공 필라멘트의 전부 또는 일부를 중간층상에 임의의 형상으로 부설하는 공정을 포함하는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법.
  42. 제 38항 내지 제 41항 중 어느 한 항에 있어서, 중간층이, 접착능을 갖는 층, 또는, 완충능을 갖는 층, 또는, 이형능을 갖는 층인 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법.
  43. 제 31항 내지 제 34항 중 어느 한 항에 있어서, 언제물을 설치하고, 니스에 의해 소정의 부분을 덮는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법.
  44. 제 38항 내지 제 43항 중 어느 한 항에 있어서, 니스의 전부 또는 일부를 고화시킨 후에, 적어도 중간층의 일부를 제거하는 공정을 더 포함하는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법.
  45. 제 31항 내지 제 34항, 제 38항, 제 39항, 제 42항 내지 제 44항 중 어느 한 항에 있어서, 니스의 전부 또는 일부를 고화시킨 후에 적어도 기재의 일부를 제거하는 공정을 더 포함하는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법.
  46. 제 33항 내지 제 45항 중 어느 한 항에 있어서, 니스 중에 미리 임의의 형상으로 고정된 중공 필라멘트를 침지시키는 것, 또는, 니스에 미리 임의의 형상으로 고정된 중공 필라멘트를 띄우는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법.
  47. 제 46항에 있어서, 중공 필라멘트가, 미리 기재상, 또는, 중간층을 갖는 기재의 중간층상에 임의 형상으로 부설되고, 고정되어 있는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법.
  48. 제 33항 내지 제 37항 중 어느 한 항에 있어서, 니스 중에서 중공 필라멘트를 임의의 형상으로 고정하는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법.
  49. 제 31항 내지 제 48항 중 어느 한 항에 있어서, 니스가 유동성을 갖는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법.
  50. 제 31항 내지 제 49항 중 어느 한 항에 있어서, 니스를 제거하는 공정을 더 포함하는 마이크로 유체 시스템용 지지유닛의 제조방법.
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