JP5012186B2 - マイクロ流体システム用支持ユニットの製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 81
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 53
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 71
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical group O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 65
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims description 34
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 28
- -1 amine compound Chemical class 0.000 claims description 23
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 22
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 21
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims description 13
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims description 13
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 10
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 9
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 claims description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 5
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims description 4
- 239000003361 porogen Substances 0.000 claims description 4
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 claims description 3
- 238000011049 filling Methods 0.000 claims description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 48
- OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(oxiran-2-ylmethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound O=C1N(CC2OC2)C(=O)N(CC2OC2)C(=O)N1CC1CO1 OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 35
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 35
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 34
- 239000000463 material Substances 0.000 description 31
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 22
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 21
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 21
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 20
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 19
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 19
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 17
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 17
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 17
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 16
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 15
- ISAKRJDGNUQOIC-UHFFFAOYSA-N Uracil Chemical compound O=C1C=CNC(=O)N1 ISAKRJDGNUQOIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 14
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 14
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 13
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 11
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 11
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 10
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 10
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 10
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 9
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 8
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 8
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 8
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 7
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 7
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 7
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 7
- 229940035893 uracil Drugs 0.000 description 7
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 6
- 238000010559 graft polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 6
- 239000008363 phosphate buffer Substances 0.000 description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 6
- UPTHZKIDNHJFKQ-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoic acid;propane-1,2,3-triol Chemical compound CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.OCC(O)CO UPTHZKIDNHJFKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 5
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 5
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 5
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 5
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 5
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 5
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 5
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 5
- 238000002715 modification method Methods 0.000 description 5
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 5
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 4
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 4
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 4
- 150000004996 alkyl benzenes Chemical class 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 4
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 4
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 4
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical group CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 3
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 3
- NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;prop-2-enenitrile Chemical compound C=CC=C.C=CC#N NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N n,n'-methylenebisacrylamide Chemical compound C=CC(=O)NCNC(=O)C=C ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMLXKXHICXTSDM-UHFFFAOYSA-N n-[1,2-dihydroxy-2-(prop-2-enoylamino)ethyl]prop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC(O)C(O)NC(=O)C=C ZMLXKXHICXTSDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002777 nucleoside Substances 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 3
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 3
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 3
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminocyclohexyl)methyl]cyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N)CCC1CC1CCC(N)CC1 DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241001649081 Dina Species 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 240000004050 Pentaglottis sempervirens Species 0.000 description 2
- 235000004522 Pentaglottis sempervirens Nutrition 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCKIEQZJEYYRIY-UHFFFAOYSA-N Titanium ion Chemical compound [Ti+4] LCKIEQZJEYYRIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 229920000800 acrylic rubber Polymers 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 2
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 2
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 2
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 2
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 2
- 229920002681 hypalon Polymers 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- 125000003835 nucleoside group Chemical group 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 2
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 2
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000002336 sorption--desorption measurement Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 125000001174 sulfone group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 2
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N titanium ethoxide Chemical compound [Ti+4].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- CLECMSNCZUMKLM-UHFFFAOYSA-N (4-ethenylphenyl)methanol Chemical compound OCC1=CC=C(C=C)C=C1 CLECMSNCZUMKLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFHWSHGIZXHMJP-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tripropyl-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound CCCN1C(=O)N(CCC)C(=O)N(CCC)C1=O OFHWSHGIZXHMJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOMNUTZXSVSERR-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(prop-2-enyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound C=CCN1C(=O)N(CC=C)C(=O)N(CC=C)C1=O KOMNUTZXSVSERR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COXCGWKSEPPDAA-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CC(C)C#N COXCGWKSEPPDAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)C WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMVLMHGTZULBRX-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2,2-tris(2-hydroxyphenyl)ethyl]phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1CC(C=1C(=CC=CC=1)O)(C=1C(=CC=CC=1)O)C1=CC=CC=C1O LMVLMHGTZULBRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDTMFDGELKWGFT-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropan-2-olate Chemical compound CC(C)(C)[O-] SDTMFDGELKWGFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYUINKARGUCCQJ-UHFFFAOYSA-N 3-imino-n-propylpropan-1-amine Chemical compound CCCNCCC=N XYUINKARGUCCQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGSBHTZEJMPDSZ-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-amino-3-methylcyclohexyl)methyl]-2-methylcyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N)C(C)CC1CC1CC(C)C(N)CC1 IGSBHTZEJMPDSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-pentene Chemical compound CC(C)CC=C WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSIQWKWSFUKUGT-UHFFFAOYSA-N C(CC(C)C)OCCC(C)C.[Ti+4] Chemical compound C(CC(C)C)OCCC(C)C.[Ti+4] GSIQWKWSFUKUGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQNTXSXCXGWOBT-UHFFFAOYSA-N C=C.C=C.F.F.F.F Chemical group C=C.C=C.F.F.F.F WQNTXSXCXGWOBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHDVXKLFZBWKEN-UHFFFAOYSA-N C=C.F.F.F.Cl Chemical compound C=C.F.F.F.Cl CHDVXKLFZBWKEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108020003215 DNA Probes Proteins 0.000 description 1
- 239000003298 DNA probe Substances 0.000 description 1
- MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N Dapsone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N Ipazine Chemical compound CCN(CC)C1=NC(Cl)=NC(NC(C)C)=N1 OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102000002151 Microfilament Proteins Human genes 0.000 description 1
- 108010040897 Microfilament Proteins Proteins 0.000 description 1
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 229920000604 Polyethylene Glycol 200 Polymers 0.000 description 1
- 229920002367 Polyisobutene Polymers 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N Stilbene Natural products C=1C=CC=CC=1/C=C/C1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- IDCBOTIENDVCBQ-UHFFFAOYSA-N TEPP Chemical compound CCOP(=O)(OCC)OP(=O)(OCC)OCC IDCBOTIENDVCBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920013629 Torelina Polymers 0.000 description 1
- 239000004742 Torelina™ Substances 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005349 anion exchange Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- MRNZSTMRDWRNNR-UHFFFAOYSA-N bis(hexamethylene)triamine Chemical compound NCCCCCCNCCCCCCN MRNZSTMRDWRNNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009529 body temperature measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWCXFDGMZPRMRX-UHFFFAOYSA-N butan-2-olate;titanium(4+) Chemical compound CCC(C)O[Ti](OC(C)CC)(OC(C)CC)OC(C)CC HWCXFDGMZPRMRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002057 carboxymethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 238000005341 cation exchange Methods 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 239000004643 cyanate ester Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 125000001664 diethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanediamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 229920006351 engineering plastic Polymers 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920001038 ethylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N fluoroethene Chemical group FC=C XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 230000005251 gamma ray Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene Chemical group FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 231100001231 less toxic Toxicity 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- LAQFLZHBVPULPL-UHFFFAOYSA-N methyl(phenyl)silicon Chemical compound C[Si]C1=CC=CC=C1 LAQFLZHBVPULPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000003632 microfilament Anatomy 0.000 description 1
- 239000004005 microsphere Substances 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- ZETYUTMSJWMKNQ-UHFFFAOYSA-N n,n',n'-trimethylhexane-1,6-diamine Chemical compound CNCCCCCCN(C)C ZETYUTMSJWMKNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVDKDPGVNBVRFC-UHFFFAOYSA-N n-[(4-ethenylphenyl)methyl]acetamide Chemical compound CC(=O)NCC1=CC=C(C=C)C=C1 PVDKDPGVNBVRFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYZFTMMPKCOTAN-UHFFFAOYSA-N n-[2-(2-hydroxyethylamino)ethyl]-2-[[1-[2-(2-hydroxyethylamino)ethylamino]-2-methyl-1-oxopropan-2-yl]diazenyl]-2-methylpropanamide Chemical compound OCCNCCNC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)NCCNCCO QYZFTMMPKCOTAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003833 nucleoside derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920013653 perfluoroalkoxyethylene Polymers 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 238000006552 photochemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 description 1
- 229920002493 poly(chlorotrifluoroethylene) Polymers 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920001921 poly-methyl-phenyl-siloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000005023 polychlorotrifluoroethylene (PCTFE) polymer Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920006389 polyphenyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- HKJYVRJHDIPMQB-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound CCCO[Ti](OCCC)(OCCC)OCCC HKJYVRJHDIPMQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007348 radical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021286 stilbenes Nutrition 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAGUFWYHJQFNRV-UHFFFAOYSA-N tetraethylenepentamine Chemical compound NCCNCCNCCNCCN FAGUFWYHJQFNRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940095070 tetrapropyl orthosilicate Drugs 0.000 description 1
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002341 toxic gas Substances 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMFJXASDGBJDEB-UHFFFAOYSA-N triethoxy(prop-2-enyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC=C)(OCC)OCC UMFJXASDGBJDEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTHDKMILWLGDKL-UHFFFAOYSA-N urea;hydrate Chemical compound O.NC(N)=O WTHDKMILWLGDKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000003981 vehicle Substances 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
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- Automatic Analysis And Handling Materials Therefor (AREA)
- Micromachines (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
庄子,「化学工業」,2001年4月,第52巻,第4号,p.45−55 前田,「エレクトロニクス実装学会誌」,2002年1月,第5巻,第1号,p.25−26 伊永,「日本学術会議50周年記念環境工学連合講演論文集」,1999年,第14号,p.25−32
(ロ)中空フィラメント内の全部または一部にモノリス前駆体を充填する工程、
(ハ)モノリス前駆体の全部または一部を反応させ、モノリス構造体を作製する工程、
本発明の第1の特徴においては、(イ)中空フィラメントを第一の支持体に任意の形状に固定する工程と、(ロ)中空フィラメント内の全部または一部にモノリス前駆体を充填する工程と、(ハ)モノリス前駆体の全部または一部を反応させ、モノリス構造体を作製する工程とを備えているために、モノリス構造体が備わった中空フィラメントを第一の支持体上に任意の形状に固定したマイクロ流体システム用支持ユニットを提供することが出来る。これにより、中空フィラメントが嵩張らず、取扱い性に優れた多機能のマイクロ流体システムを提供することができる。
図1に本発明のマイクロ流体システム用支持ユニットの平面図(b)および断面図(a)を示した。図1に示すように、本発明の第1の実施の形態に係るマイクロ流体システム用支持ユニットは、第一の支持体1と、この第一の支持体1に任意の形状に敷設された中空フィラメント501〜508及び511〜518と、所定箇所にモノリス構造体301〜308、311〜318とを備える。中空フィラメント501〜508及び511〜518は、本発明の第1の実施の形態に係るマイクロ流体システム用支持ユニットの薬液の流路層を構成している。
図3に本発明の第2の実施の形態であるマイクロ流体システム用支持ユニットの平面図(c)および断面図(a、b)を示した。図3は、モノリス構造体を所定箇所に有した任意形状の中空フィラメントからなるマイクロ流体システム用支持ユニットの模式図である。所定箇所に付与したモノリス構造体3011、3012、3013、3014、3031、3071、3081は、本発明の第2の実施の形態に係るマイクロ流体システム用支持ユニットの機能体を構成している。
図4に本発明の第3の実施の形態であるマイクロ流体システム用支持ユニットの平面図(a、b)および断面図(c)を示した。図4は、モノリス構造体31、32、33からなる機能体を有するマイクロ流体システム用支持ユニットを示す。本発明によれば、内側の所定箇所にモノリス構造体31が形成された中空フィラメント51が、自身の中空フィラメント51と交差していることにより、より高密度に中空フィラメント51が固定可能である。更に、図4の中空フィラメント51は、自身と2回以上の複数回交差をすることで、よりセンチメートルからメートルオーダーの長さを持つ中空フィラメントでも、コンパクトで小型マイクロ流体システム用支持ユニットを提供することが出来るため、好ましいものとなる。
その他の実施の形態としては、図2(a)に示すように、マイクロ流体システム用支持ユニットの一部に貫通孔9を設け、例えば、カム付きモータなどで中空フィラメント58の一部に時間周期的な力を加えこの箇所の中空フィラメントを変形させ、この箇所にある流体を移動させて、脈動流を生じさせるマイクロポンプ、若しくはマイクロバルブのような使い方をする場合は、中空フィラメント58に弾性があると良い。特に、中空フィラメント58は、ヤング率で103MPa以下であることが好ましい。
[前処理]
ジーエルサイエンス社製のフューズドシリカキャピラリー(内径100μm、外径375μm、長さ600mm)に1N NaOH水溶液を通液し、60℃の湯浴に1時間浸し、キャピラリー内壁のシラノール基を活性化した。このキャピラリーを水で洗浄し、1N HClで満たした後、60℃の湯浴に30分浸した。このキャピラリーを過剰量の水で水洗した後、乾燥させた。
ピリジンとビニルトリメトキシシランを体積比1:1で混合し、前記前処理を行ったキャピラリーに充填し、80℃のオーブンで24時間反応させた。反応後はメタノールで洗浄し、乾燥させた。
ポリスチレン(15mg、MW=3840000)を溶解させたクロロベンゼン(0.75ml)に、グリセリンジメタクリレート(GDMA)(0.25ml)と、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル(ADVN)(2.66mg)を加え、スターラーで撹拌した後、アルゴンガスで10分間バブリングした。この混合液を、前処理済みのキャピラリーに充填し、60℃、24時間重合を行った。重合後のキャピラリーをトルエンで洗浄し、アセトンで置換した。
キャピラリーの一部を切断し、断面を出した。この断面にイオンスパッタにより金を蒸着し表面を走査型顕微鏡(SEM:HITACHI S−510)で観察したところ、厚み約1.0〜5.0μmの連続した骨格と骨格間の距離が1.0〜3.0μmのよく繋がったスルーポアとが、互いに連続的に絡み合った粒子凝集型の網目構造が確認された。SEM写真を図5に示す。キャピラリー内にGDMAポリマーモノリス構造体が形成された。
[前処理]
ジーエルサイエンス社製のフューズドシリカキャピラリー(内径100μm、外径375μm、長さ600mm)に1N NaOH水溶液を通液し、60℃の湯浴に1時間浸し、キャピラリー内壁のシラノール基を活性化した。このキャピラリーを水で洗浄し、1N HClで満たした後、60℃の湯浴に30分浸した。このキャピラリーを過剰量の水で水洗したのち、乾燥させた。
THFと3−アミノプロピルトリエトキシシランを体積比1:1で混合し、前記前処理を行ったキャピラリーに充填し、80℃のオーブンで24時間反応させた。反応後はエタノールで洗浄し、乾燥させた。
トリス−(2,3−エポキシプロピル)―イソシアヌレート (TEPIC)(1.6g、日産化学社製 商品名TEPIC)と4−[(4−アミノシクロヘキシル)メチル]シクロヘキシルアミン(BACM)(0.37g)をPEG200(7.0g)に溶解した。この混合液を、前処理済みのキャピラリーに充填し、キャピラリーの両端を上記混合液が満たされたバイアル内に差し込み、80℃、12時間加熱した。重合後のキャピラリーを水で洗浄した。
キャピラリーの一部を切断し、断面を出した。この断面にイオンスパッタにより金を蒸着し表面を走査型顕微鏡(SEM:HITACHI S−510)で観察したところ、厚み0.5〜1.0μmの連続した柱状の骨格と、骨格間の距離が1.0〜5.0μmのよく繋がったスルーポアとが、互いに連続的に絡み合った網目構造が確認され、TEPICポリマーモノリス構造体を得た。作製例1と比較して、骨格が細くより細かい網目構造体が確認できた。SEM写真を図7に示す。
[前処理]
ジーエルサイエンス社製のフューズドシリカキャピラリー(内径100μm、外径375μm、長さ600mm)に1N NaOH水溶液を通液し、60℃の湯浴に2時間浸し、キャピラリー内壁のシラノール基を活性化した。このキャピラリーを水で洗浄し、1N HClで満たした後、60℃の湯浴に30分浸した。このキャピラリーを過剰量の水で水洗したのち、乾燥させた。
尿素(2.0g)とPEG(0.9g)に0.01N酢酸20mlを加えて溶解した。その後、氷冷下で、シラン溶液(9.0ml)を加えて30分撹拌した。これを40℃、10分撹拌し、フィルターでろ過した。この溶液を、前処理済みのキャピラリーに充填し、40℃、24時間重合を行った。次に、キャピラリーの両端を尿素水(0.06g/ml)に浸した状態で80℃、10時間加熱し、その後、120℃で熱処理を行った。その後、キャピラリーをメタノールで約1時間洗浄し330℃で24時間熱処理を行い、シリカモノリスキャピラリーカラムを得た。
第一の支持体1に、接着剤層として厚さ250μmで室温で粘着性であるスリーエム社製VHB(F−9473PC)を有したフィルム(厚さ75μm、デュポン社製、商品名:カプトン300H)を用いた。この接着剤層を有する第一の支持体1の接着剤層の表面に、図9に示すように中空フィラメントの端部となる位置に、スリット4(4a〜4d)を設け、離形層6(6a〜6d)を配置した。この離形層は市販の離形剤を塗布したり、離形フィルムを貼り付けることによってあらかじめ形成することができる。次いで、この第一の支持体1の接着剤層表面および離形層の所望の位置に、超音波振動と荷重の出力制御が可能であって、NC制御でX−Yテーブルを可動できるNC配線装置を用い、仁礼工業株式会社の高機能エンプラチューブ(材質:PEEK、内径0.5mm、外形1.0mm)からなる中空フィラメント501〜508を、次いで511〜518を敷設する。敷設する中空フィラメント501〜508、511〜518には、荷重300gと周波数40kHzの超音波による振動をかけ、半径25mmの円弧状の部分(図示省略)と、交差する部分も設けた。また、複数の中空フィラメント511〜518からなる第二の中空フィラメント群を敷設する際には、第一の中空フィラメント群501〜508と交差する部分では荷重と超音波振動を止めるようにし、中空フィラメントの破損を防ぐようにした。第二の中空フィラメント群511〜518を敷設した後、第二の支持体2として、接着剤層付きのデュポン社製カプトン300Hを用いて、中空フィラメントが敷設された第一の支持体1(支持ユニット)とラミネートした。その後、プリント基板用の小径穴あけ用途のレーザー穴あけ機を用い、パルス幅5ms、ショット数4ショットでφ0.2mmの穴を0.1mm間隔で移動させて、図9(b)に示す所望の切断線に沿って、外形加工する。その後、中空フィラメント501〜508、511〜518の端部付近の第一の支持体1の所定部分を除去し、8本の全長20cmの中空フィラメント501〜508からなる第一の中空フィラメント群、及び8本の全長15cmの中空フィラメント511〜518からなる第二の中空フィラメント群を、それぞれの端部の10mmの長さを露出させた形状である図1に示す、マイクロ流体システム用支持ユニットを作製した。敷設部分全般、特に交差する部分で中空フィラメントの破損はなかった。
第一の支持体1に、厚さ200μmの非粘着型感圧接着剤ダウコーニングアジア社製のS9009を有した厚さ0.5mmのアルミ板を用いた。これに、超音波振動と荷重の出力制御が可能でNC制御でX−Yテーブルを可動できるNC配線装置を用い、日星電気株式会社製のPFAチューブ(内径1.0mm 外径1.5mm)を敷設する。敷設する中空フィラメント501〜508、511〜518には、荷重500gと周波数40kHzの超音波による振動をかけた。中空フィラメント501〜508、511〜518の敷設は、半径30mmの円弧状に行い、交差する部分も設けた。その交差する部分の近傍では、荷重と超音波振動を止めることとする。第二の支持体2には、厚さ200μmの非粘着型感圧接着剤ダウコーニングアジア社製のS9009を有した、三井化学社製TPXフィルム(厚さ50μm)を用い、真空ラミネート(圧力と熱を印加)を用いて中空フィラメント501〜508、511〜518を施設した支持ユニット上にラミネートする。その際、流入部、流出部、及び交差部の中空フィラメント501〜508、511〜518近傍に温度測定用の熱電対を埋め込む。その後の外形加工では、プリント基板用の外形加工機を用いて所望の形に切断する。所定部分の支持体を除去し、12本の全長40cmの中空フィラメント501〜508、511〜518を50mmの長さを露出させた形状のマイクロ流体システム用支持ユニットを作製できる。中空フィラメント501〜508、511〜518で形成した流路の位置ばらつきは設計図面に対し、±20μm以内に収まる。敷設部分全般、特に交差配線部分で中空フィラメント501〜508、511〜518の破損はない。更に、シート全体にボイドは無く、特にキャピラリー近傍や交差部分にも空気の抱きこみやボイド(気泡)は確認されなかった。
第一の支持体1に、接着剤層として厚さ250μmで室温で粘着性であるスリーエム社製VHB(F−9473PC)を有した厚さ0.06mmのポリフェニレンサルファイドフィルム(東レ社製、商品名トレリナ)を用いた。この第一の支持体1の所望の位置に、超音波振動と荷重の出力制御が可能でNC制御でX−Yテーブルを可動できるNC配線装置を用い、ポリマイクロ社製のフューズドシリカキャピラリー(内径100μm、外径360μm、長さ600mm)を敷設した。キャピラリーは、直線部分と渦巻状の部分を設けて敷設した。渦巻状の部分ではキャピラリー同士のピッチが0.5mmとなるように敷設し、キャピラリーの両端部は渦巻状の部分の円接線方向に、平行且つ同一方向に敷設した。渦巻状の最大曲率半径が10mm(最小曲率半径8.5mm、周回数4周)、15mm(最小曲率半径14mm、周回数2周)、20mm(最小曲率半径19.5mm、周回数1周)の三種類を作製した。渦巻状の部分で自身のキャピラリーと交差する部分の近傍では、荷重と超音波振動を止めて敷設した。第二の支持体2には、第一の支持体1と同様の接着剤付きポリフェニレンサルファイドフィルムを用い、真空ラミネートにてキャピラリーを敷設した支持ユニット上にラミネートした。その後、ぞれぞれのキャピラリーの両端部が余長として150mmづつ露出するようプリント基板用の外形加工機を用いて図4(a)に示す縦55mm、横90mmの形に切断しマイクロ流体システム用支持ユニットを作製した。キャピラリーを顕微鏡で観察したところ、敷設部分全般、特に交差配線部分でキャピラリーの破損はなかった。このようにして、長さ600mmのキャピラリーを名刺サイズのシート状(シート内有効長300mm)にコンパクトに収めることが出来た。
ポリマイクロ社製のフューズドシリカキャピラリー(内径100μm、外径360μm、長さ600mm)を用意し、作製例6の方法に従い、最大曲率半径10mm、15mm、20mmの渦巻きパターンを有した三種類のマイクロ流体システム用支持ユニット(全長600mm、シート内有効長300mm、各余長150mm)をそれぞれ2つずつ、合計6つ用意した。これらのキャピラリー内に、作製例1の方法を用いてGDMAポリマーモノリス構造体を作製した。キャピラリーの一端を、以下に示すHPLC装置にUpchurch社製のキャピラリーコネクタを用いて接続し、H−ν(H:理論段高さ、ν:線速度)プロットを作製した。比較対象として、作製例1で作製したシート状になっていないGDMAポリマーモノリスキャピラリーを8本準備し、上記同様にしてH−ν(H:理論段高さ、ν:線速度)プロットを作成した。結果を図10に示す。
送液ポンプ:KYA DiNa S
インジェクタ:Valco V2 CIAG Inter Nation
検出器:CE−2075UV(Jasco社製)(オフカラム検出)
オフカラム:フューズドシリカキャピラリー(内径50μm)
オフカラム長:90mm
[条件]
移動相:アセトニトリル/水=60/40(v/v)
試料:ウラシル(1mg/ml)
注入量:10nL
温度:20℃
検出:UV210nm
(1)線速度:ν
線速度νは次式で表される。
ν = L / t0 (1−1)
L : カラム長、 t0 : 保持のない溶質の溶出時間
(2)理論段高さ:H
理論段高さは1理論段に相当するカラム長であり、次式で表される。
H = σ2 / L = L / N (1−2)
σ:ピークの広がり(正規分布の標準偏差),L:カラム長、N:理論段数
(3)理論段数:N
理論段数Nは次式で表される。
N = (L / σ) 2 (1−3)
もしくは、
N = (tR / σ) 2 (1−4)
tR:溶質の溶出時間
またピーク幅Wは4σ法で求めると、
W = 4σ (1−5)
理論段数Nは式(1−6)、(1−7)で表される。
また(W1 / 2 )2 = 8σ 2ln2 より
N = 5.54 × (tR / W1 / 2 )2 (1−7)
W:ピーク幅、W1 / 2 :ピークの半値幅
作製例7との比較のために、内径200μmのジーエルサイエンス社製フューズドシリカキャピラリー(外径350μm、長さ600mm)を使用し、同様の実験を行った。
内径100μm×外径375μm、内径200μm×外径350μmのフューズドシリカキャピラリー(ジーエルサイエンス社製)を用意した。作製例1に従い、キャピラリー内部にGDMAポリマーモノリスを作製し、GDMAポリマーモノリスキャピラリーカラムを得た。これを作製例7同様の装置、条件(以下記載)で通液実験を行い、H−ν(H:理論段高さ、ν:線速度)プロットを作成した。結果を図13に示す。
送液ポンプ:KYA DiNa S
インジェクタ:Valco V2 CIAG Inter Nation
検出器:CE−2075UV(Jasco社製)(オフカラム検出)
オフカラム:フューズドシリカキャピラリー(内径50μm)
オフカラム長:90mm
[条件]
移動相:アセトニトリル/水=60/40(v/v)
試料:ウラシル(1mg/ml)
注入量:10nL
温度:20℃
検出:UV210nm
内径100μm×外径360μmのフューズドシリカキャピラリー(ポリマイクロ社製)に作製例2に従い、TEPICポリマーモノリスキャピラリーカラムを調製した。このカラムを用いて作製例9と同様に直線状での通液実験を行った後、作製例9と同様の方法で曲率半径10mmのパターンを有するマイクロ流体システム用支持ユニット(シート状TEPICポリマーモノリスキャピラリーカラム)を得て、再度通液実験を行いH−ν(H:理論段高さ、ν:線速度)プロットを作成した。結果を図14に示す。
移動相:アセトニトリル/20mMリン酸緩衝水溶液:pH7=60/40(v/v)
試料:ウラシル(0.1mg/ml)
注入量:10nL
温度:20℃
検出:UV210nm
移動相:アセトニトリル/20mMリン酸緩衝水溶液:pH7=60/40(v/v)
試料:ベンゼン(1mg/ml)
注入量:10nL
温度:20℃
検出:UV210nm
内径100μm×外径360μmのフューズドシリカキャピラリー(ポリマイクロ社製)に作製例3に従いキャピラリー内部にシリカモノリス構造体を作製し、シリカモノリスキャピラリーカラムを得た。作製例9と同様に、直線状での通液実験を行った。結果を図16に示す。
移動相:アセトニトリル/20mMリン酸緩衝水溶液:pH7=60/40(v/v)
試料:ウラシル(1mg/ml)
注入量:10nL
温度:20℃
検出:UV210nm
長さ1000mm、内径100μm×外径360μmのフューズドシリカキャピラリー(ポリマイクロ社製)に作製例2に従いキャピラリー内部に有機ポリマーモノリス構造体を作製し、TEPICポリマーモノリスキャピラリーカラムを得た。両端部を25mmづつ切り落とし、きれいな端面を出した。このTEPICポリマーモノリスキャピラリーカラムについて、以下の条件でアルキルベンゼンの分離性能評価を行った。得られたクロマトグラフを図17に示す。
システムコントローラー:CBM−20A(Shimadzu社製)
送液ポンプ:LC−10ADVP(Shimadzu社製)
インジェクタ:RHEODYNE7725(RHEODYNE社製)
検出器:CE−2075UV(Jasco社製)
オフカラム:フューズドシリカキャピラリー(内径50μm)
オフカラム長:90mm
[条件]
移動相:アセトニトリル/20mMリン酸緩衝水溶液:pH7=60/40(v/v)
線速度:0.58mm/s
温度:20℃
検出:UV210nm
移動相:アセトニトリル/20mMリン酸緩衝水溶液:pH7=60/40(v/v)
線速度:1.53mm/s
温度:20℃
検出:UV210nm
長さ1000mm、内径100μm×外径360μmのフューズドシリカキャピラリー(ポリマイクロ社製)に作製例2に従いキャピラリー内部に有機ポリマーモノリス構造体を作製し、TEPICポリマーモノリスキャピラリーカラムを得た。両端部を50mmづつ切り落とし、きれいな端面を出した(有効長900mm)。次に、接着剤層としてスリーエム社製VHB(厚さ250μm、F−9473PC)を有した、厚さ0.075mmのポリイミドフィルム(デュポン社製、商品名:カプトン300H)で構成された第一の支持体1を用意し、超音波振動と荷重の出力制御が可能でNC制御でX−Yテーブルを可動できるNC配線装置を用い、先のTEPICポリマーモノリスキャピラリーカラム(長さ900mm)を第一の支持体1の接着剤層面に超音波40kHz、荷重250gを印加して敷設した。TEPICポリマーモノリスキャピラリーカラムの敷設形状は、半円の円弧部と直線部を組み合わせた運動場トラック形状で、キャピラリー同士のピッチが0.5mmであり、半円の最大曲率半径は20mm(最小曲率半径=17.5mm)、直線部は40mm(周回数4周)とした。キャピラリーの両端部は、互いに平行且つ同一方向に向くように直線状に敷設した。半円の円弧部分で自身のキャピラリーと交差する部分の近傍では、荷重と超音波振動を止めた。第二の支持体2には、接着剤層としてスリーエム社製VHB(厚さ250μm、F−9473PC)を有した、厚さ0.05mmのPETフィルム(ユニチカ社製)を用い、真空ラミネート(圧力と熱を印加)にてキャピラリーを敷設した支持ユニット上にラミネートした。その後、ぞれぞれのキャピラリーの両端部が余長として50mmづつ露出するように、カッターを用いて外形加工を行い図4(a)に示す縦55mm、横90mmの形に切断しキャピラリー内にTEPIC樹脂製モノリス構造体が形成されたマイクロ流体システム用支持ユニットを作製し、シート状TEPICポリマーモノリスキャピラリーカラムを得た。下記の装置及び条件でヌクレオシド及び核酸塩基の分離を行った。結果を図19に示す。
システムコントローラー:CBM−20A(Shimadzu社製)
送液ポンプ:LC−10ADVP(Shimadzu社製)
インジェクタ:RHEODYNE7725(RHEODYNE社製)
検出器:CE−2075UV(Jasco社製)
オフカラム:フューズドシリカキャピラリー(内径50μm)
オフカラム長:90mm
[条件]
移動相:アセトニトリル/20mMリン酸緩衝水溶液:pH7=60/40(v/v)
線速度:1.53mm/s
温度:20℃
検出:UV210nm
背圧:8.6MPa
2…第二の支持体
3、31〜33、301〜308、311〜318…モノリス構造体が形成された所定箇所
4、4a、4b、4c、4d…スリット
51〜53、58、501〜508、511〜518…中空フィラメント
59…金属膜
6、6a、6b、6c、6d…離型層
7…切断線
8…接着剤
Claims (14)
- 少なくとも以下の(イ)から(ハ)の工程を備え、工程が少なくとも(イ)、(ロ)、(ハ)の順序であり、
上記工程(イ)の後に、(ヘ)該第一の支持体の該中空フィラメントが敷設された側に第二の支持体を設ける工程を備えることを特徴としたマイクロ流体システム用支持ユニットの製造方法。
(イ)第一の支持体に少なくとも一つの中空フィラメントを任意の形状に固定する工程
(ロ)中空フィラメント内の全部または一部にモノリス前駆体を充填する工程
(ハ)モノリス前駆体の全部または一部を反応させ、モノリス構造体を作成する工程 - 上記(ハ)の工程の後、(ニ)モノリス前駆体由来の残渣を該中空フィラメント内から除去する工程を更に備えることを特徴とした請求項1に記載のマイクロ流体システム用支持ユニットの製造方法。
- 上記(ハ)の工程の後、(ホ)該モノリス構造体に表面修飾を施す工程を備えることを特長とした請求項1から2のいずれか一項に記載のマイクロ流体システム用支持ユニットの製造方法。
- 上記モノリス前駆体が有機ポリマーモノリス前駆体であり、上記モノリス構造体が有機ポリマーモノリス構造体であることを特長とした請求項1から3のいずれか一項に記載のマイクロ流体システム用支持ユニットの製造方法。
- 上記有機ポリマーモノリス前駆体が少なくともエポキシ化合物、アミン化合物及びポロゲンを含むことを特長とした請求項4に記載のマイクロ流体システム用支持ユニットの製造方法。
- 上記有機ポリマーモノリス前駆体が少なくともモノマー混合物、希釈剤及び重合開始剤を含有することを特長とした請求項4に記載のマイクロ流体システム用支持ユニットの製造方法。
- 更に、上記有機ポリマーモノリス前駆体が非架橋性ポリマーを含有することを特長とした請求項6に記載のマイクロ流体システム用支持ユニットの製造方法。
- 上記有機ポリマーモノリス前駆体に含まれる化合物が、水酸基、アミド基、又は、水酸基およびアミド基、を有していることを特長とした請求項4から7のいずれか一項に記載のマイクロ流体システム用支持ユニットの製造方法。
- 上記モノリス前駆体がシリカモノリス前駆体又はチタニアモノリス前駆体であり、上記モノリス構造体がシリカモノリス構造体あるいはチタニアモノリス構造体であることを特長とした請求項1から3のいずれか一項に記載のマイクロ流体システム用支持ユニットの製造方法。
- ラジカル、熱、又は光により該モノリス前駆体を反応させることを特長とした請求項1から9のいずれか一項に記載のマイクロ流体システム用支持ユニットの製造方法。
- 上記工程(イ)および(ヘ)の後に、(ト)上記第一の支持体、第二の支持体、又は、第一の支持体および第二の支持体、の一部を除去することを特徴とした請求項1から10のいずれか一項に記載のマイクロ流体システム用支持ユニットの製造方法。
- 上記工程(ト)の除去する工程によって中空フィラメントの一部を露出させることを特徴とした請求項11に記載のマイクロ流体システム用支持ユニットの製造方法。
- 上記工程(イ)の中空フィラメントを任意の形状に敷設する際に、該中空フィラメントの一部を第一の支持体から外に出すことを特徴とした請求項1から12のいずれか一項に記載のマイクロ流体システム用支持ユニットの製造方法。
- 上記工程(イ)の中空フィラメントを任意の形状に敷設する際に、該中空フィラメントが該中空フィラメント自身と、他の少なくとも一つの中空フィラメントと、又は、該中空フィラメント自身および他の少なくとも一つの中空フィラメントと、それぞれの中空フィラメントに対して少なくとも一回あるいは二回以上交差することを特徴とした請求項1から13のいずれか一項に記載のマイクロ流体システム用支持ユニットの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007123879A JP5012186B2 (ja) | 2007-05-08 | 2007-05-08 | マイクロ流体システム用支持ユニットの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007123879A JP5012186B2 (ja) | 2007-05-08 | 2007-05-08 | マイクロ流体システム用支持ユニットの製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012006146A Division JP2012145581A (ja) | 2012-01-16 | 2012-01-16 | マイクロ流体システム用支持ユニットの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008281368A JP2008281368A (ja) | 2008-11-20 |
JP5012186B2 true JP5012186B2 (ja) | 2012-08-29 |
Family
ID=40142316
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007123879A Expired - Fee Related JP5012186B2 (ja) | 2007-05-08 | 2007-05-08 | マイクロ流体システム用支持ユニットの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5012186B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011019033A1 (ja) * | 2009-08-10 | 2011-02-17 | 国立大学法人東北大学 | エポキシ樹脂硬化物多孔体、水質保持材、抗菌材及びエポキシ樹脂硬化物多孔体の製造方法 |
JP5916006B2 (ja) * | 2011-09-21 | 2016-05-11 | 日立化成株式会社 | 液体クロマトグラフィー用カラム及びその製造方法 |
CN106575617A (zh) * | 2014-07-31 | 2017-04-19 | Az电子材料(卢森堡)有限公司 | 牺牲膜用组合物、以及其制造方法、以及具备有使用该组合物而形成的空隙的半导体装置、以及使用了该组合物的半导体装置的制造方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3933189B2 (ja) * | 2002-02-25 | 2007-06-20 | 日立化成工業株式会社 | マイクロ流体システム用支持ユニット |
JP3933058B2 (ja) * | 2002-02-25 | 2007-06-20 | 日立化成工業株式会社 | マイクロ流体システム用支持ユニット及びその製造方法 |
JP4073023B2 (ja) * | 2003-11-07 | 2008-04-09 | 財団法人新産業創造研究機構 | 微小流路デバイスおよびその作製方法 |
DE602005017602D1 (de) * | 2004-02-18 | 2009-12-24 | Hitachi Chemical Co Ltd | Mikrofluidische Einheit mit Hohlfaser-Kanal |
JP4580664B2 (ja) * | 2004-03-01 | 2010-11-17 | 大日本印刷株式会社 | マイクロリアクターおよびその製造方法 |
KR20070085991A (ko) * | 2004-12-09 | 2007-08-27 | 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 | 마이크로 유체 시스템용 지지유닛 및 그 제조방법 |
US8246832B2 (en) * | 2005-05-25 | 2012-08-21 | Bio-Rad Laboratories, Inc. | Fluidics device |
-
2007
- 2007-05-08 JP JP2007123879A patent/JP5012186B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008281368A (ja) | 2008-11-20 |
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Legal Events
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150615 Year of fee payment: 3 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
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S533 | Written request for registration of change of name |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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