KR20070085534A - 내구력이 있는 고성능 레이저 파장 변환을 위한 비선형결정 변형 - Google Patents

내구력이 있는 고성능 레이저 파장 변환을 위한 비선형결정 변형 Download PDF

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KR20070085534A
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윤롱 선
리차드 에스. 해리스
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일렉트로 싸이언티픽 인더스트리이즈 인코포레이티드
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Abstract

비선형 수정과 같은 파장 변환기(34)는 근본적인 또는 다른 고조파 파장으로부터 고조파 파장을 분리시키기 위한 각 절단 출구 표면(36)을 가진다. 고체 광학 오버레이 매체(28)는 변환기 출구 표면(36)과 짝지어진 각도로 절단된 진입 표면(38)을 갖는다. 광학 오버레이 매체(28)는 근본적 및 선택된 고조파 파장에 실질적으로 투명하고, 파장 변환기(34)의 굴절률과 유사한 굴절률을 가지고, 파장 변환기(34)의 제각각의 손상 임계치 보다 큰 선택된 파장에서의 손상 임계치를 가진다.

Description

내구력이 있는 고성능 레이저 파장 변환을 위한 비선형 결정 변형{NONLINEAR CRYSTAL MODIFICATIONS FOR DURABLE HIGH-POWER LASER WAVELENGTH CONVERSION}
저작권 공지
본 특허 명세서에 개시된 일부분은 저작권 보호를 받는 재료를 포함한다. 저작권 소유자는 특허 및 상표청 특허 파일 또는 레코드에 나타난, 본 특허 명세서 도는 특허 개시의 임의의 사람에 의한 팩시밀리를 통한 재생성에 반대하지 않지만, 그것을 제외하고는 모든 저작권을 유보한다.
본 발명은 고성능 레이저 파장 변환과 관련이 있으며, 특히 내구력을 촉진하기 위한 비선형 수정의 변형과 관련이 있다.
레이저 시스템은 통신, 의약 및 미세 기계 가공(micromachining)을 포함하는 다양한 응용에서 이용된다. 이 응용은 다양한 레이저 파장과 출력 파워를 이용한다. 불행히도, 이용 가능한 레이저 파장은 상대적으로 제한된 수의 파장에서 유용한 레이저 출력을 방출하는 적은 수의 레이저 매체 조합의 방출 능력에 의해 제한된다.
이용 가능한 레이저 파장의 수는 다양한 파장 변환 방법의 사용을 통해 확장 되어 왔다. 이런 방법은 레이저 매체에 의해 방출된 파장의 고조파 파장을 제공하는 레이저 공동(cavity) 이내 또는 밖에서 비선형 수정의 사용을 포함한다. KTP(postasium titanyle phosphate, KTiOPO4), BBO(beta barium borate, beta-BaB2O4)와 LBO(lithium triborate, LiB3O5)는 레이저 파장 변환을 위해 가장 일반적으로 사용되는 비선형 수정이다. 이러한 수정들의 특성을 다르지만, 이것들은 일반적으로 큰 비선형의 광학 계수, 폭넓은 투명성과 위상 정합 범위, 폭넓은 각도의 대역폭과, 작은 퇴장(walk-off) 각도, 높은 광학적인 동질성과, 효율적인 주파수 변환을 가진다.
대부분의 비선형 수정은 또한 흡습성 및/또는 정적이라는 것 또는 거의 만족스럽지 못한 손상 임계치를 가지는 단점을 지닌다. 무반사(AR) 코팅 또는 다른 코팅은 손실을 감소시키기 위해 수정 표면상에 도포된다. 코팅은 또한 수정을 습기 또는 다른 오염으로부터 보호한다. 불행히도, 비선형 수정을 코팅하는 것은 용융된 실리카, 사파이어와 YAG 등과 같은 전통적인 광 재질을 코팅하는 것보다 더 어려운데, 그 이유는 비선형 수정의 재질 특성 때문이다. 비선형 수정 상에 코팅하는 것은 또한 특히 고 전력 및/또는 자외선(UV) 파장 응용에서 광학적 손상을 입기 쉽다.
Grossman 등의 미국 특허 제5,850,407호에서, 상당한 손실 없이 편광된 기본 및 제3차 고조파 빔을 분리시키기 위해, 코팅되지 않은 브루스터 각도로 절단된 분산 출력 표면이 삼중 LBO 수정에 제공된다. 제3차 고조파 수정의 코팅되지 않은 출 력 표면은 잠재적인 자외선 유도 손상에 어느 정도 둔감하고, 향상된 내구력을 제공한다.
Grossman 등의 미국 특허 제6,697,391호에서, 상당한 손실 없이 편광된 기본 및 제4차 고조파 빔을 분리시키기 위한, 코팅되지 않은 브루스터 각도로 절단된 분산 출력 표면이 4중 수정에 제공된다. 제4차 고조파 수정의 코팅되지 않은 출력 표면은 잠재적인 자외선 유도된 손상에 어느 정도 둔감하고, 향상된 내구력을 제공한다. 많은 산업 응용은 고 전력 레벨(150 ㎛ 스폿 크기에 대해 107W/cm2에서 109W/cm2보다 큰 피크 )에서 수천 시간 동안(일반적으로 > 10,000 시간) 실질적으로 손상이 없는 동작(< 0.1% 손상-유도된 손실)을 요구한다.
그럼에도 불구하고, 수정의 매우 정적인 성질 때문에, 노출된 LBO 표면과 다른 노출된 주파수(또는 파장)변환 수정 표면으로의 현저한 오염 위험이 존재한다. 표면의 오염은 수정의 손상 임계치를 특히 고 UV 출력에서 상당히 감소시키고, 표면 손상은 UV 출력 안정성을 떨어뜨린다. 많은 주파수 변환 수정은 또한 본래 흡습성이며, 대기에 있는 습기를 흡수하여서, 시간이 경과함에 따라 열화(degrading)되어, 궁극적으로 수정 표면에 레이저 손상을 유발시킨다. 그래서 이러한 주파수 변환 수정의 일부에 대한 코팅이 바람직할 수 있다.
그러므로, 본 발명의 목적은 레이저 파장 변환을 위한 개선된 수단을 제공하는 것이다.
일 실시예에서, 비선형 수정과 같은 파장 변환기는 고조파 파장을 분리시키기 위해 전달되는 기본(fundamental) 파장의 광축에 대해 일정 각도로 절단된 출구 표면을 갖는다. 고체 광학 오버레이는, 파장 변환기 출구 표면과 짝지어진 각도로 또한 절단되고 파장 변환기에 광학적으로 연결된 입구 표면을 갖는다. 일부의 실시예들에서, 광학 오버레이는 고조파 파장에 일반적으로 실질적으로 투명하고, 파장변환기의 굴절률과 유사한 굴절률을 가지고, 파장 변환기의 파장 보다 긴 기본 및/또는 고조파 파장에서의 손상 임계치를 가진다.
추가적인 양상과 이득은 첨부된 도면을 참조해서 계속되는 바람직한 실시예의 다음의 상세한 설명으로부터 명백할 것이다.
도 1은 레이저 파장 변환을 위해 복합 광학 소자를 이용하는 레이저의 개략도.
도 2는 레이저 파장 변환을 위한 복합 광학 소자의 실시예의 입면도.
도 3은 레이저 파장 변환을 위한 복합 광학 소자의 대안적인 실시예의 입면도.
도 4는 레이저 파장 변환을 위한 복합 광학 소자의 대안적인 실시예의 입면도.
도 1은 폴드(fold) 미러(18)와 끝단 미러(20, 22)로부터 반사되는, 광로(16)를 따라 위치된 레이저 매체(12)와 복합 파장-변환 소자(14a){총칭적으로, 복합 파 장-변환 소자(14)}를 이용하는 레이저(10)의 실시예의 개략도이다. 레이저 매체(12)는 YAG, YLF, YVO4, YALO, 사파이어, 알렉산더 보석(alexandrite), 또는 CrLiSAF 합성물과 같은 종래의 고체-레산트(lasant)를 바람직하게 포함하고, 적외선(IR) 기본 파장을 갖는 레이저 방사 또는 레이저 에너지를 발생한다. 이러한 합성물은 일반적으로 Nd, Yb, Er, Cr, 또는 Tm을 사용해서 도핑된다. 일반적인 기본 레이저 IR 파장은 750-800 nm, 1064 nm, 1047 nm, 1320 nm를 포함하나 이러한 파장 길이에 제한되지는 않는다. 하지만, 당업자는 가시(visible) 파장과 같은 다양한 다른 파장과, 다른 레이저 매체 또는 가스, CO2, 엑사이머, 또는 구리 증기 레이저를 포함하는 레이저 유형(그러나 이러한 유형에 제한되지는 않음)이 이용될 수 있다는 것을 인식할 것이다. 고체-상태 레이저 매체는 다이오드 레이저 또는 다이오드 레이저 어레이에 의해 바람직하게 펌핑(pumping)되지만, 임의의 종래의 레이저 펌핑 디바이스 또는 레이저 펌핑 방식이 이용될 수 있다.
일 실시예에서, 제1 파장 변환기(24)는 광로(16)를 따라 전달되는 기본, 또는 제1 고조파의 파장의 레이저 방사의 일부 또는 전부를, 제2 고조파 파장을 갖는 레이저 방사로 변환한다. 제1 파장 변환기(24)는 BBO, BIBO(bismuth triborate, BiB3O6), LiIO3(lithium iodate), LiNbO3(lithium niobate), LBO, KDP(potassium dihydrogen phosphate, KH2PO4), KTA(potasium titanyle arsenate, KTiOAsO4), KTP, AgGaS2(silver gallium sulfide), AgGaSe2(silver galllium selenite), 또는 그 유 도체를 포함하는 비선형 수정을 포함하지만(그러나 이러한 재질에 제한적이지는 않음), 다른 파장 변환 재질을 포함할 수 있다.
무반사 코팅은 제1 파장 변환기(24)에 선택적으로 인가될 수 있고/있거나 차후에 설명되는 것처럼 제1 파장 변환기(24)는 고체 광학 오버레이 매체(28a){총칭적으로 고체 광학 오버레이 매체(28)}에 광학적으로 선택적으로 연결될 수 있다.
복합 파장-변환 소자(14)는 고체 광학 오버레이 매체(28)에 광학적으로 연결된 제2 파장 변환기(34a){총칭적으로, 제2 파장 변환기(34)}를 포함한다. 일반적인 실시예에서, 제2 파장 변환기(34)는 고조파 파장(제1, 제2 또는 제3 고조파를 포함하지만 이에 제한되지는 않음) 또는 하나 이상의 이러한 고조파의 결합을 갖는 레이저 방사를 하나 이상의 선택된 고조파 파장(제2, 제3, 제4 또는 제5 고조파를 포함하지만 이에 제한되지는 않음)을 갖는 레이저 방사로 변환한다. 일 실시예에서, 제2 파장 변환기(34)는 제2 고조파 파장을 갖는 레이저 방사를 제4 고조파 파장을 갖는 레이저 방사로 변환한다. 다른 실시예에서, 제2 파장 변환기(34)는 제1 및 제2 고조파 파장을 갖는 레이저 방사를 제3 고조파 파장을 갖는 레이저 방사로 변환한다. 제2 파장 변환기(34)는 제1 파장 변환기(24)의 동일하거나 다른 비선형-수정 또는 다른 파장-변환 재질을 포함할 수 있다. 이러한 파장 변환 재질은 선택된 고조파 파장의 제각기의 손상 임계치를 갖는다.
고체 광학 오버레이 매체(28)는 제2 파장 변환기(34)의 제각기의 손상 임계치보다 바람직하게 높은 기본 및 하나 이상의 선택된 고조파 파장의 손상 임계치 를 갖는 광학 재질 및/또는 무반사 코팅을 포함한다. 대안적으로, 고체 광학 오버 레이 매체(28)는 제2 파장 변환기(34)의 무반사 코팅의 제각기의 특성 및/또는 손상 임계치보다 기본 파장과 선택된 하나 이상의 고조파 파장에서 보다 양호한 특성 및/또는 손상 임계치를 갖는 무반사 코팅을 이용한다.
고체 광학 오버레이 매체(28)는 기본 파장과 하나 이상의 선택된 고조파 파장에 바람직하게 실질적으로 투명한(transparent) 광학 재질을 포함한다.
고체 광학 오버레이 매체(28)는 또한 기본 파장과 하나 이상의 선택된 고조파 파장에서, 제2 파장 변환기(34)의 제각기의 굴절률과 유사한 굴절률을 바람직하게 가진다. 일반적으로, 선택된 파장에서, 굴절률 포인트의 약 10분의 2내의 굴절률이 유사하다고 간주되어야 한다. 하지만, 당업자는, 제각기의 손상 임계치와 같은 다른 고려 사항이 없이 직각이 도 2와 도 3에서 예시된 것처럼 사용될 때, 고체 광학 매체(28)와 제2 파장 변환기(34)간의 가장 근접한 제각기의 굴절률은 출력 표면(36)과 짝지어진 표면(38)간의 경계면에서 손실을 최소화하기 위해 가장 선호되는 것을 인식할 것이다. 당업자는 또한 제각기의 굴절률이 의도적으로 다르거나 잘 일치되지 않을 때, 제2 파장 변환기(34)와 선택된 광 오버레이 매체(28)간의 브루스터각이 도 1과 도 4에서 예시된 것처럼 경계면에서 반사 손실을 최소화하기 위해 계산되고 제조될 수 있다는 것을 인식할 것이다.
일부의 실시예에서, 제2 파장 변환기(34)의 출력 표면(36a){총칭적으로, 출력 표면(36)}과 고체 광학 오버레이 매체(28)의 짝지어진 표면(38a){총칭적으로, 짝지어진 표면(38)}은 가이드와 클램프와 같은 것을 사용해서 서로에 대해 기계적으로 광학적으로 연결된다. 일부의 실시예에서, 출력 표면(36)과 짝지어진 표면 (38)은 임의의 적절한 기존 확산 접착(diffusion bonding) 기술에 의해 광학적으로 연결된다. 일부의 바람직한 확산 접착 기술에서, 출력 표면(36)과 짝지어진 표면(38)은 짝지어진 각도로 절단되고, 선택된 고조파 파장보다 일반적으로 양호한 광학 품질 편평도로 다듬어진다. 그 후, 출력 표면(36)과 짝지어진 표면(38)은 충분한 양의 시간 동안 접착 온도에서 적절한 압력으로 함께 눌려진다. 일부의 확산 접착 기술에서, 접착 온도는 일반적으로 제2 파장 변환기(34) 또는 고체 광학 오버레이 매체(28)의 적어도 하나의 용융 온도의 적어도 50%에서 70%이다. 접착 압력은 제곱 센티미터 당 수 파운드의 범위 이내이고, 열은 수 시간 동안 가해진다. 다른 광학 접촉 결합 기술 뿐과 아니라 확산 접착은 광학 산업에서 잘 알려져 있으며, 파장 변환 재질을 고체 광학 오버레이 재질로의 다양한 결합을 접착하는 것은 당업자에게 어렵지 않아야 한다. 예시적인 고체 광학 오버레이 재질(28)은 일리노이스주 소재의 Owens사로부터의 도핑되지 않은 YAG, 사파이어, 루비, 용융된 실리카, 수정과 ED-2, ED-4, E-Y1 등을 포함한다(이러한 재질에 제한되지는 않음).
도 1에 의해 예시된 실시예에서, 제2 파장 변환기(34a)는 출력 표면(36a)을 가지며, 고체 광학 오버레이 매체(28a)는 레이저(10)로부터 고조파 레이저 출력(40a와 40b){총칭적으로 고조파 레이저 출력(40)}을 배향하도록 θ1과 θ2의 근사적으로 동일한 각도 또는 상이한 각도(θ1과 θ2)로 절단된 출력 표면(42a){총칭적으로 출력 표면(42)}을 갖는다. 따라서, 만약 θ1과 θ2의 각도가 동일한 비직각 각도라면, 고체 광학 오버레이 매체(28a)는 평행사변형의 측면 프로파일을 가진다. 일 부의 실시예에서, 각도(θ1과 θ2)는 일반적으로 미러(18과 20)간의 광로(16)의 광축(46)에 대해 20도에서 90도 사이이다.
일부 바람직한 실시예에서, 각도(θ1)는 기본 레이저 파장에서 제2 파장 변환기(34)와 고체 광학 오버레이 매체(28)간의 경계면에 대한 브루스터각에 의해 결정될 수 있다. 만약 고체 광학 오버레이 매체(28)의 굴절률이 n1이고, 선택된 편광에 대해 기본 파장에서 제2 파장 변환기(34)의 굴절률이 n2라고 가정하면, 브루스터각(θb)은 다음에 의해 결정된다:
θb = Arctan(n2/n1)
그러면, θ1은:
θ1 = 90-ArcSin[(n1 x Sin θb)/n2]
에 의해 결정된다.
이러한 선택된 적응은 복합 광학 소자(14)의 측면에 실질적으로 평행한 경로를 따라 복합 광학 소자(14)를 레이저 광선이 횡단하는 것을 가능케 할 것이다.
θ2는 공기의 굴절률인 n1(n1=1)과 고체 광학 오버레이 매체(28)의 굴절률인 n2을 가진 동일한 수학식에 의해 결정될 수 있다.
기본 레이저 파장의 편광은 바람직하게 선형이고, 광축에 의해 한정되는 평면 내에 있으며, 고체 광학 오버레이 매체(28)의 외부 표면에 대해 수직이다. 하나의 바람직한 고조파 발생 방식은, 제3 고조파는 기본 파장과 동일한 선형 편광을 가진다는 것이다. 반사에 기인한 광 손실이 공기와 고체 광학 오버레이 매체(28)간의 경계면과, 고체 광학 오버레이 매체(28)와 제2 파장 변환기(34)간의 경계면 모두에서 실질적으로 제로이므로, 이러한 배열은 기본 레이저 방사에 대한 임의의 광학 무반사 코팅에 대한 필요성을 제거할 것이다. 제3 고조파에서의 굴절률은 기본 파장에서의 굴절률과는 다르므로, 제3 고조파에서 정확한 브루스터각은 기본 파장에서의 브루스터각과는 다를 것이다. 하지만, 이러한 차이는 매우 작아서, 기본 파장의 편광과 동일한 편광을 가진 제3 고조파가 2개의 브루스터각이 진 경계면에서의 아주 최소한의 손실을 갖게 될 것이며, 한편 굴절률 차이는 기본파로부터 고조파간의 적절한 각도상의 분리를 보장한다.
도 2는 일반적으로 광축(46)에 수직인 고체 광학 오버레이 매체(28b)의 출력 표면(36b)과 짝지어진 표면(38b)을 가진 파장 변환기(34b)를 가진 복합 광소자(14b)의 대안적인 실시예의 측면도이다. 하지만, 출력 표면(42b)은 위에서 설명된 것과 같은 각도(θ)를 가진다.
도 3은 광축(46)에 일반적으로 수직인 고체 광학 오버레이 매체(28c)의 출력 표면(36c)과 짝지어진 표면(38c)을 가진 파장 변환기(34c)를 가진 복합 광소자(14c)의 대안적인 실시예의 측면도이다. 출력 표면(42b)은 또한 일반적으로 광축(46)에 수직이고, 일부 실시예에서, 무반사 코팅에 의해 덮여진다. 복합 광소자 (14c)의 실시예는 레이저 시스템(10)에서 이용될 수 있고, 여기서 미러(18 또는 20) 중의 하나는 제3 고조파와 같은 원하는 고조파 파장을 위한 출력 커플링(coupling) 미러이다.
도 4는 위에서 설명된 각도(θ1)로 절단된 출력 표면(36d)과 일반적으로 짝지어진 각도로 절단된 고체 광학 오버레이 매체(28d)의 짝지어진 표면(38d)을 가진 파장 변환기(34d)를 가진 복합 광소자(14d)의 대안적인 실시예의 측면도이다. 출력 표면(42d)은 광축(46)에 일반적으로 수직이고, 일부의 실시예에서, 무반사 코팅에 의해 덮여진다. 복합 광소자(14d)의 실시예는 레이저 시스템(10)에서 이용될 수 있는데, 여기서 미러(18 또는 20) 중의 하나는 제3 고조파와 같은 원하는 고조파 파장을 위한 출력 커플링 미러이다.
한 예에서, 제2 파장 변환기(34)는 KDP, KD*P, BBO, BIBO, LiIO3, KTA, KTP 또는 LBO 또는 이것들의 유도체를 포함하고, 고체 광학 오버레이 매체(28)는 용융된 실리카, 수정, 도핑되지 않은 YAG, 사파이어, ED-2, ED-4, 또는 E-Y1을 포함한다.
일부의 실시예에서, 각도(θ1)는 도 2와 도 3에서 예시된 것처럼 90도 각도로서 선택된다. 고체 광학 오버레이 매체(28)와 파장 변환기(34)의 경계면에서의 반사 손실을 감소시키거나 최소화시키기 위해, 고체 광학 오버레이 매체(28)의 굴절률은 파장 변환기(34)의 굴절률에 바람직하게 근접하게 매칭되어야 한다. 파장 변환기(34)에 대한 공통 재질의 한 예로서, LBO는 1.06 마이크론의 기본 파장에서 근 사적으로 1.60의 굴절률을 가진다. 따라서, 고체 광학 오버레이 매체(28)에 대한 가능한 재질은 근사적으로 1.555의 대응하는 굴절률을 가진 레이저 유리 ED-2일 것이다. 이 예에 대해, 경계면에서의 반사에 기인한 광학 손실은 근사적으로 0.02%이다. 1.06 마이크론의 기본 파장에 대한 다른 예에서, BBO의 고체 광학 오버레이 매체(28)는 광학 품질의 사파이어의 고체 광학 오버레이 매체(28)와 결합될 것이다. 이 예에서, 굴절률은 제각기 근사적으로 1.655와 1.755이고, 예측된 단일 통과 반사 손실은 근사적으로 0.09%이다. 이러한 굴절 손실은 일반적인 레이저 공동 내에서조차 용인되어야 한다.
θ1이 수학식 1과 수학식 2의 공식에 기초하여 선택되는 실시예들에서, 그러면 고체 광학 오버레이 매체(28)의 선택은, 브루스터각과 기본파로부터 고조파의 분리 각도에 영향을 줄 굴절률과, 손상 임계치, 만약 코팅이 선택되었다면 재질 상의 코팅의 손상 임계치와, 광학 제조의 용이성 등의 조합에 의해 보다 조절될 것이다. 당업자는 제각기의 광학 재질에 대한 광학 코팅의 손상 인계치가 일반적으로 제각기의 광 재질의 상대적인 손상 임계치에 대응할 뿐만 아니라 제각기의 광학 재질의 광학 표면 준비(preparation)의 실제적으로 실현 가능한 품질에 관련이 있다는 것을 인식할 것이다. 그래서, 고체 광학 오버레이 매체(28)에 대한 광학 코팅은 일반적으로 제각기의 파장 변환기(34)애 대한 광학 코팅보다 훨씬 더 높은 손상 임계치를 가질 것이다. 고체 광학 오버레이 매체(28)에 대한 높은 손상 임계치의 무반사 또는 다른 광학 코팅은 당업자에 잘 알려져 있다.
본 발명의 근본적인 원리로부터 이탈하지 않고 위에서 설명된 실시예의 세부 사항들에 대한 많은 변경이 수행될 수 있다는 것이 당업자에게 명백할 것이다. 그러므로, 본 발명의 범위는 다음에 나오는 청구항들에서만 결정되어야 한다.
본 발명은 고성능 레이저 파장 변환에 이용 가능하며, 특히 내구력을 촉진하기 위한 비선형 수정의 변형에 이용 가능하다.

Claims (59)

  1. 고조파 레이저로서,
    광로를 따라 레이저 공진기 내에 위치되고, 제1 파장을 갖는 레이저 방사의 발생을 용이하게 하기 위해 적응된 레이저 매체와;
    상기 광로를 따라 위치되고, 제1 파장, 그 고조파 중의 하나 또는 이것들의 조합으로부터의 레이저 방사의 제1 파장과 고조파적으로(harmonically) 관련된 제2 파장에 대한 백분율을 변환하기 위해 적응된, 파장 변환 매체로서, 상기 파장 변환 매체는 제1 및 제2 파장에서의 손상 임계치와, 상기 파장 변환 매체에 진입하는 광로의 축에 대한 변환기 출구 표면각을 갖는 변환기 출구 표면을 갖는, 파장 변환 매체와;
    상기 파장 변환 매체의 변환기 출구 표면에 광학적으로 연결되고, 변환기 출구 표면각과 짝지어진(mated) 오버레이 입구 표면각을 갖는 오버레이 입구 표면을 갖는 고체 광학 오버레이 매체로서, 상기 고체 광학 오버레이 매체는 제1 및 제2 파장을 실질적으로 투과시키고(transparent), 상기 파장 변환 매체의 제각기의 손상 임계치보다 더 높은 제1 및 제2 파장에서의 손상 임계치를 갖는, 고체 광학 오버레이 매체를 포함하는, 고조파 레이저.
  2. 제1항에 있어서, 상기 변환기 출구 표면각은 0도 보다 크고, 90도 이하인, 고조파 레이저.
  3. 제1항에 있어서, 상기 변환기 출구 표면각은 90도보다 작고, 제2 파장을 갖는 레이저 방사를 제1 파장을 갖는 레이저 방사로부터 분리시키기 위해 기능하는, 고조파 레이저.
  4. 제1항에 있어서, 상기 변환기 출구 표면각은 상기 파장 변환 매체를 진입하는 상기 광로의 축에 대해 약 20도에서 약 90도만큼 떨어져 있는, 고조파 레이저.
  5. 제1항에 있어서, 상기 파장 변환 및 광학 오버레이 매체는 유사한 굴절률을 갖는, 고조파 레이저.
  6. 제1항에서 있어서, 상기 파장 변환 매체는 AgGaS2, AgGaSe2, BBO, BIBO, KTA, KTP, KDP, KD*P/KDP, LiNbO3, LiLO3, LBO, 또는 그 유도체를 포함하는, 고조파 레이저.
  7. 제1항에 있어서, 상기 고체 광학 오버레이 매체는 용융된 실리카, 수정, 도핑되지 않은 YAG, 사파이어, ED-2, 또는 ED-4, 또는 E-Y1을 포함하는, 고조파 레이저.
  8. 제1항에 있어서, 상기 고체 광학 오버레이 매체는 상기 파장 변환 매체에 확산 접착(diffusion bonded)되는, 고조파 레이저.
  9. 제1항에 있어서, 상기 고체 광학 오버레이 매체는 브루스터 각도 정도의 오버레이 출구 표면각을 포함하고, 무반사 코딩 없이 제1 및 제2 파장에서 방사를 전달하기 위해 적응된, 고조파 레이저.
  10. 제1항에 있어서, 상기 제2 파장은 자외선 파장을 포함하는, 고조파 레이저.
  11. 제1항에 있어서, 상기 파장 변환 및 고체 광학 오버레이 매체는 다른 굴절률을 갖는, 고조파 레이저.
  12. 제1항에 있어서, 상기 고체 광학 오버레이 매체와 상기 파장 변환 매체는 서로에 대해 기계적으로 유지되는, 고조파 레이저.
  13. 제1항에 있어서, 상기 광학 오버레이 매체는 제1 및 제2 파장에서 레이저 방사를 전달하기 위해 적응된 무반사 코딩을 갖는 오버레이 출구 표면을 포함하는, 고조파 레이저.
  14. 제1항에 있어서, 상기 파장 변환 매체는 상기 레이저 공진기 내에 위치된 고 조파 레이저.
  15. 제1항에 있어서, 상기 파장 변환 매체는 상기 레이저 공진기의 외부에 위치된, 고조파 레이저.
  16. 제1항에 있어서, 상기 레이저 매체는 고체 레이저 결정, 또는 엑사이머 레이저, CO2 레이저, 또는 구리 증기 레이저의 방전실(discharge chamber)의 내용물을 포함하는, 고조파 레이저.
  17. 제1항에 있어서, 상기 레이저 매체는 YAG, YLF, YVO4, YALO, 또는 CrLiSAF 합성물을 포함하는, 고조파 레이저.
  18. 제1항에 있어서, 상기 제2 파장은 제2 고조파, 제3 고조파, 제4 고조파, 또는 제5 고조파 파장을 포함하는, 고조파 레이저.
  19. 제1항에 있어서, 상기 제2 파장은 자외선 파장을 포함하는, 고조파 레이저.
  20. 제1항에 있어서, 상기 제2 파장의 상기 레이저 방사는 미세 기계 가공을 위해 이용되는, 고조파 레이저.
  21. 제1항에서, 상기 제2 파장의 레이저 방사는 비아 드릴링(via drilling) 또는 웨이퍼 다이싱(dicing)을 위해 이용되는, 고조파 레이저.
  22. 제1항에 있어서, 상기 레이저 공진기는 끝단 미러를 갖고, 상기 끝단 미러는 출력 커플러로서 기능하고, 상기 제1 파장을 갖는 레이저 방사로부터 상기 제2 파장을 갖는 레이저 방사를 분리시키기 위해 적응된, 고조파 레이저.
  23. 제1항에 있어서, 상기 광학 오버레이 매체는 상기 제1 및 제2 파장의 레이저 방사를 전달하기 위해 적응된 광학 코팅을 갖는 오버레이 출구 표면을 포함하고, 상기 코팅은 상기 파장 변환 매체에 도포된 일반적인 광학 코팅의 각각의 손상 임계치 보다 큰 각각의 제1 및 제2 파장에서의 손상 임계치를 갖는, 고조파 레이저.
  24. 제1항에 있어서, 상기 고체 광학 오버레이 매체는 상기 변환기 출구 표면각과 거의 동일한 오버레이 출구 표면각을 포함하는, 고조파 레이저.
  25. 제1항에 있어서, 상기 고체 광학 오버레이 매체는 상기 변환기 출구 표면각과 매우 다른 오버레이 출구 표면각을 포함하는, 고조파 레이저.
  26. 복합 광 소자로서,
    제1 파장, 그 고조파 중의 하나 또는 이것들의 조합으로부터의 레이저 방사의 제1 파장과 고조파적으로 관련된 제2 파장에 대한 백분율을 변환하기 위해 적응된, 파장 변환 매체로서, 상기 파장 변환 매체는 광로를 따라 전달되는 레이저 방사를 수신하기 위해 적합한 입구 표면을 가지며, 상기 파장 변환 매체는 제1 및 제2 파장에서의 손상 임계치와, 상기 파장 변환 매체에 진입하는 광로의 축에 대한 변환기 출구 표면각을 갖는 변환기 출구 표면을 갖는, 파장 변환 매체와;
    상기 파장 변환 매체의 변환기 출구 표면에 광학적으로 연결되고, 변환기 출구 표면각과 짝지어진 오버레이 입구 표면각을 갖는 오버레이 입구 표면을 갖는 고체 광학 오버레이 매체로서, 상기 광학 오버레이 매체는 제1 및 제2 파장에 대해 비교적 투명하고, 제2 파장에서 상기 파장 변환 매체의 굴절률과 유사한 굴절률을 가지며, 제2 파장에서 상기 파장 변환 매체의 손상 임계치보다 높은 제2 파장에서의 손상 임계치를 갖는, 고체 광학 오버레이 매체를 포함하는, 복합 광 소자.
  27. 제26항에 있어서, 상기 변환기 출구 표면각은 상기 파장 변환 매체에 진입하는 상기 광로의 축에 대해 약 20도에서 90도의 각도만큼 떨어져 있는, 복합 광 소자.
  28. 제26항에 있어서, 상기 변환기 출구 표면각은 90도 보다 작고, 제1 파장을 갖는 레이저 방사로부터 제2 파장을 갖는 레이저 방사를 분리시키기 위해 적응된, 복합 광 소자.
  29. 제28항에 있어서, 상기 파장 변환 매체는 AgGaS2, AgGaSe2, BBO, BIBO, KTA, KTP, KDP, KD*P/KDP, LiNbO3, LiLO3, 또는 LBO를 포함하는, 복합 광 소자.
  30. 제29항에 있어서, 상기 고체 광학 오버레이 매체는 용융된 실리카, 수정, 도핑되지 않은 YAG, 사파이어, ED-2, 또는 ED-4, 또는 E-Y1을 포함하는, 복합 광 소자.
  31. 제26항에 있어서, 상기 파장 변환 매체는 AgGaS2, AgGaSe2, BBO, BIBO, KTA, KTP, KDP, KD*P/KDP, LiNbO3, LiLO3, 또는 LBO를 포함하는, 복합 광 소자.
  32. 제31항에 있어서, 상기 고체 광학 오버레이 매체는 용융된 실리카, 수정, 도핑되지 않은 YAG, 사파이어, ED-2, 또는 ED-4, 또는 E-Y1을 포함하는, 복합 광 소자.
  33. 제32항에 있어서, 상기 광학 오버레이 매체는 상기 파장 변환 매체에 확산 접착되는, 복합 광 소자.
  34. 제33항에 있어서, 상기 제2 파장은 자외선 파장을 포함하는, 복합 광 소자.
  35. 제33항에 있어서, 상기 고체 광학 오버레이 매체는 상기 변환기 출구 표면각과 거의 동일한 오버레이 출구 표면각을 포함하는, 복합 광 소자.
  36. 제33항에 있어서, 상기 고체 광학 오버레이 매체는 상기 변환기 출구 표면각과 매우 다른 오버레이 출구 표면각을 포함하는, 복합 광 소자.
  37. 제26항에 있어서, 상기 고체 광학 오버레이 매체는 상기 변환기 출구 표면각과 거의 동일한 오버레이 출구 표면각을 포함하는, 복합 광 소자.
  38. 제26항에 있어서, 상기 고체 광학 오버레이 매체는 상기 변환기 출구 표면각과 매우 다른 오버레이 출구 표면각을 포함하는, 복합 광 소자.
  39. 제26항에 있어서, 상기 광학 오버레이 매체는 상기 파장 변환 매체에 확산 접착되는, 복합 광 소자.
  40. 제26항에 있어서, 상기 고체 광학 오버레이 매체는 용융된 실리카, 수정, 도핑되지 않은 YAG, 사파이어, ED-2, 또는 ED-4, 또는 E-Y1을 포함하는, 복합 광 소자.
  41. 제26항에 있어서, 상기 광학 오버레이 매체는 상기 파장 변환 매체에 확산 접착되는, 복합 광 소자.
  42. 제26항에 있어서, 상기 고체 광학 오버레이 매체는 브루스터 각도 정도의 오버레이 출구 표면각을 포함하고, 무반사 코딩 없이 제1 및 제2 파장에서 방사를 전달하기 위해 적응된, 복합 광 소자.
  43. 제26항에 있어서, 상기 고체 광학 오버레이 매체는 상기 제1 및 제2 파장의 레이저 방사를 전달하기 위해 적응된 광학 코팅을 갖는 오버레이 출구 표면을 포함하고, 상기 코팅은 상기 파장 변환 매체에 도포된 일반적인 광학 코팅의 각각의 손상 임계치보다 큰 각각의 제1 및 제2 파장에서의 손상 임계치를 갖는, 복합 광 소자.
  44. 고조파 레이저 출력을 발생시키는 방법으로서,
    펌핑 출력을 레이저 매체에 공급하는 단계;
    광로를 따라 전달되는 제1 파장을 갖는 레이저 방사를 발생시키기 위해 상기 레이저 매체를 이용하는 단계;
    제1 파장, 그 고조파 중의 하나 또는 이것들의 조합으로부터의 레이저 방사의 제1 파장과 고조파적으로 관련된 제2 파장에 대한 백분율을 변환하기 위한 파장 변환 매체를 이용하는 단계로서, 상기 파장 변환 매체는 제1 및 제2 파장에서의 손 상 임계치와, 상기 파장 변환 매체에 진입하는 광로의 축에 대한 변환기 출구 표면각을 갖는 변환기 출구 표면을 갖는, 파장 변환 매체를 이용하는 단계와;
    상기 파장 변환 매체의 출구 표면에 광학적으로 연결된 고체 광학 오버레이매체를 이용하는 단계로서, 상기 변환기 출구 표면각은 상기 파장 변환 매체의 각각의 손상 임계치보다 높은, 제1 및 제2 파장에서 그것의 출구 표면 손상 임계치를 갖는, 고체 광학 오버레이 매체를 이용하는 단계와;
    상기 고체 광학 오버레이 매체의 출구 표면을 통해 제2 파장에서 레이저 방사를 전달하는 단계를 포함하는, 고조파 레이저 출력을 발생시키는 방법.
  45. 제44항에 있어서, 상기 고체 광학 오버레이 매체와 파장 변환 매체는 서로의 2/10 포인트 내의 값을 갖는 제2 파장에서의 굴절률을 갖는, 고조파 레이저 출력을 발생시키는 방법.
  46. 제44항에 있어서, 상기 파장 변환 매체는 AgGaS2, AgGaSe2, BBO, BIBO, KTA, KTP, KDP, KD*P/KDP, LiNbO3, LiLO3, 또는 LBO를 포함하는, 고조파 레이저 출력을 발생시키는 방법.
  47. 제44항에 있어서, 상기 고체 광학 오버레이 매체는 용융된 실리카, 수정, 도핑되지 않은 YAG, 사파이어, ED-2, 또는 ED-4, 또는 E-Y1을 포함하는, 고조파 레이 저 출력을 발생시키는 방법.
  48. 제44항에 있어서, 상기 고체 광학 오버레이 매체는 상기 파장 변환 매체에 확산 접착되는, 고조파 레이저 출력을 발생시키는 방법.
  49. 제44항에 있어서, 상기 고체 광학 오버레이 매체는 브루스터 각도 정도의 오버레이 출구 표면각을 포함하고, 무반사 코딩 없이 제1 및 제2 파장에서 방사를 전달하기 위해 적응된, 고조파 레이저 출력을 발생시키는 방법.
  50. 제44항에 있어서, 상기 제2 파장은 제2 고조파, 제3 고조파, 제4 고조파, 또는 제5 고조파 파장을 포함하는, 고조파 레이저 출력을 발생시키는 방법.
  51. 제44항에 있어서, 상기 제2 파장에서의 레이저 방사는 미세 기계 가공을 위해 이용되는, 고조파 레이저 출력을 발생시키는 방법.
  52. 제44항에 있어서, 상기 제2 파장에서의 레이저 방사는 비아 드릴링 또는 웨이퍼 다이싱을 통해 이용되는, 고조파 레이저 출력을 발생시키는 방법.
  53. 제44항에 있어서, 상기 고체 광학적 오버레이 매체와 상기 파장 변환 매체는 서로에 대해 기계적으로 유지되는, 고조파 레이저 출력을 발생시키는 방법.
  54. 제44항에 있어서, 상기 광학 오버레이 매체는 상기 제1 및 제2 파장의 레이저 방사를 전달하기 위해 적응된 광학 코팅을 갖는 오버레이 출구 표면을 포함하고, 상기 코팅은 상기 파장 변환 매체에 도포된 일반적인 광학 코팅의 각각의 손상 임계치 보다 높은 각각의 제1 및 제2 파장에서의 손상 임계치를 갖는, 고조파 레이저 출력을 발생시키는 방법.
  55. 제44항에 있어서,
    제1 파장의 레이저 방사로부터 제2 파장의 레이저 방사를 분리시키기 위해 파장 변환 매체의 출구 표면상에 변환기 출구 표면각을 이용하는 단계를 더 포함하는, 고조파 레이저 출력을 발생시키는 방법.
  56. 제44항에 있어서, 제1 파장의 레이저 방사로부터 제2 파장의 레이저 방사를 분리시키기 위해 출력 커플링 끝단 미러를 이용하는 단계를 더 포함하는, 고조파 레이저 출력을 발생시키는 방법.
  57. 제44항에 있어서, 상기 변환기 출구 표면각은 상기 파장 변환 매체에 진입하는 광로의 출에 대해 약 20도에서 90도로 떨어져 있는, 고조파 레이저 출력을 발생시키는 방법.
  58. 제44항에 있어서, 상기 고체 광학 오버레이 매체는 상기 변환기 출구 표면각과 거의 동일한 오버레이 출구 표면각을 포함하는, 고조파 레이저 출력을 발생시키는 방법.
  59. 제44항에 있어서, 상기 고체 광학 오버레이 매체는 상기 변환기 출구 표면각과 매우 다른 오버레이 출구 표면각을 포함하는, 고조파 레이저 출력을 발생시키는 방법.
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