KR20070078291A - 자동화된 툴을 이용한 포토마스크 라이팅 도면설계지원시스템 및 그 방법 - Google Patents
자동화된 툴을 이용한 포토마스크 라이팅 도면설계지원시스템 및 그 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20070078291A KR20070078291A KR1020060008425A KR20060008425A KR20070078291A KR 20070078291 A KR20070078291 A KR 20070078291A KR 1020060008425 A KR1020060008425 A KR 1020060008425A KR 20060008425 A KR20060008425 A KR 20060008425A KR 20070078291 A KR20070078291 A KR 20070078291A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- design
- lighting
- photomask
- original
- manufacturer
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F30/00—Computer-aided design [CAD]
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Evolutionary Computation (AREA)
- Geometry (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
본 발명은 자동화된 툴을 이용한 포토마스크 라이팅 도면설계 지원시스템에 관한 것이다. 본 발명에 따른 포토마스크 라이팅 도면설계 지원시스템은 포토마스크 제조사양 및 설계도면 원본을 제공하는 고객사 단말기를 구비한다. 상기 제조사양 및 설계도면 원본을 제공받는 포토마스크 라이팅 도면설계 지원서버는 상기 제조사양에 따라 설계도면 원본을 수정하고, 포토마스크 설계도면 산출과정에서 적용되는 공정파라미터를 자동으로 산출 및 검증한다. 사용자 단말기는 상기 도면설계 지원서버에서 제공하는 웹페이지를 통해 도면설계를 위한 일련의 과정을 수행한다. 이와 같은 본 발명에 의하면, 신입 설계자도 신속하고 정확하게 오류를 검토할 수 있어 설계업무의 효율성을 높일 수 있다.
포토마스크, PM, 공정파라미터, 설계, 라이팅 도면
Description
도 1은 종래의 라이팅 도면설계 방법을 단계별로 설명하는 흐름도.
도 2는 본 발명에 의한 포토마스크 라이팅 도면설계 지원시스템의 구성도.
도 3은 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 포토마스크 라이팅 도면설계 방법을 단계별로 설명하는 흐름도.
도 4는 본 발명에 따른 바이어스 값을 산출하는 과정 및 예를 설명하기 위한 도면.
<<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>>
10: PM 라이팅 도면설계 지원서버 11: 도면 편집부
12: 파라미터 산출부 13: 도면 산출부
14: 검증부 15: 웹 지원부
16: 데이터베이스 20 : 사용자 단말기
30: 고객사 단말기
본 발명은 포토마스크 라이팅 도면설계 시스템에 관한 것으로, 더 상세하게는 자동화된 툴을 이용한 포토마스크 라이팅 도면설계 지원시스템 및 그 방법에 관한 것이다.
포토마스크(Photo Mask; 이하 "PM"이라 함)는 노광기술(photolithography)을 사용하는 공정에서 만들어 내고자하는 어떤 형태(pattern)를 담은 원판으로, 사진의 필름과 같은 역할을 한다. PM은 초정밀 전자부품을 만들기 위한 핵심부품 중 하나이다.
상기 PM을 제조하기 전, PM 라이팅(writing) 도면설계 프로세스가 진행된다. 도 1은 종래의 라이팅 도면설계 방법을 단계별로 설명하는 흐름도이다. 고객사에서 보내준 PM 원본 도면과 제조사양(tooling spec)을 접수받아서, 이에 대한 정보를 기반으로 오류나 특이사항 등을 검토한다(S10). 이때, 일일이 관련 이전 데이터가 기록된 문서를 조회하고, 유사 모델의 이전 도면 정보 및 제조사양 정보를 확인한다. 이전 고객사 도면들과의 특이사항이나 도면상의 오류가 없는 경우, 상기 제조사양에 근거하여 설계도면 원본을 수정한다(S11, S12). 상기 제조사양에는 다양한 도면의 부가적인 중요 항목별 값과 원본에 특정한 문자열이나 특정 포인트 작성에 대한 정보가 담겨있다.
라이팅 장비에서 제공하는 특정 프로그램은 상기 수정된 도면 및 공정파라미터 등을 입력으로 하여 장비에 입력이 될 라이팅 도면을 산출한다(S13). 이 과정에서 제조사양 및 라이팅 장비특성을 반영한 일련의 공정파라미터 산출규칙(rule)을 적용하게 된다. 이때, 라이팅 설비 특성을 반영하여 적용되는 공정파라미터 산출 규칙은 설계자의 경험 또는 문서 등에 기록되어져 있는 정보를 활용하여 산출한다.
설계전문가를 통해서 라이팅 도면설계 결과를 검토하게 되며(S14), 이 과정에서 고객사 정보, 제조사양 정보, 및 라이팅 도면 산출과정에서 적용되는 파라미터를 수작업으로 검토한다.
상기 검토결과 오류가 발견되지 않으면, 최종 승인 후에 양산을 위해 제조공정에 설계도면을 전달하게 된다(S15, S16). 오류가 발견되면, 제13단계로 돌아가 공정파라미터를 재산출하여 라이팅 도면을 산출한다.
그리고, 상기 제11단계에서 이전 고객사 도면들과의 특이사항이 발견되는 경우, 재확인 작업을 거쳐서 오류가 인정될 경우 고객사로부터 신규 설계도면 원본 및 제조사양 정보를 재전송받게 된다(S11').
그러나 상기한 바와 같은 종래기술에서는 다음과 같은 문제점이 있다.
첫째는, 설계도면 원본 및 제조사양 정보가 데이터베이스화가 되어 있지 않기 때문에, 접수된 설계도면 원본의 오류를 확인하는 과정에서 이전 고객 정보 조회가 어렵다.
둘째는, PM 라이팅 도면설계를 위한 일련의 작업들이 매뉴얼/수작업 및 전문가의 경험, 노하우에 의존되어 진행됨에 따라 설계자의 실수 및 규칙적용 오류 등 의 원인에 의하여 파라미터 에러가 발생하기 쉽다.
셋째는, 설계전문가가 부재시 설계도면 검증이 불가능하고, 이 과정이 전문가의 수작업으로 이루어지기 때문에 비효율적이고, 실제 오류를 확인하지 못하고 제조에 보내지는 경우가 발생하게 된다.
따라서, 본 발명은 상기한 바와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 라이팅 도면설계를 위한 일련의 업무 프로세스 진행과정을 설계자가 웹기반 시스템을 활용해서 데이터/정보 입력 및 검토 관련 메일 발송, 최종 승인 절차 등을 지원, 설계 이력에 대한 모든 데이터를 쉽게 축적, 활용할 수 있으며, 업무 흐름을 빠르고 효과적으로 진행할 수 있도록 하는 라이팅 도면설계 지원시스템 및 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 다른 목적은 라이팅 도면 산출과정에서 적용되는 주요 공정파라미터를 제조사양 및 라이팅 장비 특성 등을 반영하여 자동으로 산출/검증하여 파라미터 에러 발생률을 감소시키고, 설계업무의 효율성을 높이는 라이팅 도면설계 지원시스템 및 방법을 제공한다.
상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 따르면, 본 발명에 따른 포토마스크 라이팅 도면설계 지원시스템은 포토마스크 설계도면 원본 및 제조사양 등의 정보를 제공하는 고객사 단말기; 상기 고객사 단말기로부터 제공되는 제조사양에 따라 포토마스크 라이팅장비에 입력될 공정파라미터를 자동 산출/검증하는 PM 라이팅 도면설계 지원서버; 그리고 상기 PM 라이팅 도면설계 지원서버에 접속하여 공정파라미터 산출 및 검증을 수행하는 사용자 단말기를 포함하여 구성된다.
상기 PM 라이팅 도면설계 지원서버는, 상기 고객사 단말기로부터 제공받은 제조사양 및 고객사 정보와 상기 PM 라이팅 도면설계 지원서버에서 산출된 공정파라미터 등을 저장하는 데이터베이스; 포토마스크 설계도면 원본을 제조사양에 따라 수정하는 도면 편집부; 상기 제조사양, 라이팅 장비의 특성, 및 파라미터 산출규칙에 의해 공정파라미터를 자동 산출하는 파라미터 산출부; 상기 파라미터 산출부의 출력과 상기 도면 편집부의 출력을 입력으로 받아 라이팅장비에 입력될 도면을 산출하는 도면 산출부; 상기 도면 편집부에 의해 수정된 설계도면의 오류를 검사하고, 상기 파라미터 산출부에 의해 산출된 공정파라미터와 상기 도면 산출부의 출력을 비교검증하는 검증부; 그리고 상기 사용자 단말기를 통해 상기 각 구성요소를 수행할 수 있도록 웹페이지를 지원하는 웹 지원부를 포함한다.
상기 도면 편집부의 입력정보는 포토마스크 설계도면 원본과 제조사양인 것을 특징으로 한다.
상기 공정파라미터는 바이어스(bias), XPO(X pitch optimization), SH(step size), 윈도우 사이즈(window size) 등인 것을 특징으로 한다.
상기 검증부는, 상기 도면 산출부에 의해 수정된 설계도면을 상기 제조사양 및 데이터베이스에 저장된 이전 고객사의 정보와 비교검증하는 제 1 검증부와; 상기 도면 산출부의 출력을 상기 파라미터 산출부의 출력과 비교검증하는 제 2 검증부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면, 본 발명에 의한 포토마스크 라이팅 도면설계 방법은 제조사양에 따라 포토마스크 설계도면 원본을 수정하는 단계; 상기 단계에 적용된 제조사양 및 소정 라이팅 장비특성; 파라미터 산출규칙에 따라 공정파라미터를 산출하는 단계; 상기 산출된 공정파라미터와 상기 수정된 설계도면을 입력으로 받아 라이팅 도면을 산출하는 단계; 그리고 상기 산출된 공정파라미터 및 상기 제조사양과 상기 산출된 라이팅 도면을 비교검증하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 자동화된 툴을 이용한 포토마스크 라이팅 도면설계 방법.
상기 포토마스크 설계도면 원본 수정단계는, 고객사 단말기로부터 제공받은 포토마스크 설계도면 원본과 제조사양을 검토하는 단계; 데이터베이스에 저장된 고객사의 이전정보와 비교하여 특이사항 및 상기 설계도면 원본의 오류를 확인하는 단계; 상기 설계도면 원본에 오류가 확인되지 않으면 상기 포토마스크의 제조사양을 상기 데이터베이스에 저장하고, 상기 포토마스크 설계도면 원본을 상기 제조사양에 따라 수정하는 단계; 그리고 상기 수정한 설계도면의 오류를 확인하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 설계도면 원본에 특이사항 및 오류가 확인되면, 고객사에 제조사양 및 설계도면 원본을 요청하여 재수신하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 공정파라미터는 바이어스, XPO, SH, 윈도우 사이즈 등인 것을 특징으로 한다.
이와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의하면, 본 발명은 PM 라이팅 도면설계를 위한 일련의 프로세스를 체계적으로 진행할 수 있게 하고, 주요 공정파라미터 산출 및 검증 등을 자동으로 수행하게 함으로써, 신속하고 정확하게 오류를 검토하여 설계업무의 효율성을 높일 수 있게 한다.
이하 첨부된 도면과 결부되어 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세하게 설명한다.
도 2는 본 발명에 의한 포토마스크 라이팅 도면설계 지원시스템의 구성도를 설명하기 위한 도면이다. PM 라이팅 도면설계를 위한 일련의 프로세스를 지원하는 포토마스크 라이팅 도면설계 지원시스템(이하 "설계지원 시스템"라 함)은 제조사양에 따라 PM 라이팅 장비에 입력될 공정파라미터 및 도면을 자동으로 산출/검증하는 PM 라이팅 도면설계 지원서버(이하 "설계 지원서버"라 함)(10)와, 상기 설계 지원서버(10)에 접속하여 PM 라이팅 도면설계를 위한 일련의 프로세스를 수행하는 사용자 단말기(20), 그리고 상기 설계지원 서버(10)로 PM 제조사양 및 설계도면 원본 등을 제공하는 고객사 단말기(30)를 포함하여 구성된다.
상기 설계 지원서버(10)는, 상기 고객사 단말기(30)로부터 PM 제조사양과 설계도면 원본을 제공받아 상기 제조사양에 따라 설계도면 원본을 수정하는 도면 편집부(11)를 구비한다. 그리고, 상기 상기 고객사 단말기(30)로부터 제공받은 상기 제조사양과 라이팅 장비특성, 파라미터 산출규칙 등에 의해 공정파라미터를 자동으로 산출하는 파라미터 산출부(12)를 구비한다. 상기 파라미터 산출부(12)와 상기 도면 편집부(11)의 출력을 입력으로 하는 도면 산출부(13)는 상기 도면 편집부(11)에 의해 수정된 설계도면을 상기 파라미터 산출부(12)를 통한 산출된 공정파라미터에 의해 PM 라이팅 장비에 입력될 도면으로 산출한다. 상기 공정파라미터로는 바이어스, SH, XPO, 윈도우 사이즈 등이 있다.
상기 산출된 도면의 오류 및 상기 산출된 공정파라미터를 검증하는 제 1검증부(14a)/제 2 검증부(14b)로 이루어진 검증부(14)가 제공된다. 상기 제 1 검증부(14a)는 상기 고객사 단말기(30)로부터 전송받은 설계도면 원본과 제조사양을 검토하여 도면상의 오류를 확인한다. 상기 제 2 검증부(14b)는 상기 파라미터 산출부(12)와 상기 도면 산출부(13)의 출력을 각각 검증하며, 상기 파라미터 산출부(12)와 상기 도면 산출부(13)의 두 출력을 비교검증한다.
웹 지원부(15)는 상기 사용자 단말기(20)가 상기 설계 지원서버(10)에 접속하여 각 구성요소를 수행할 수 있도록 웹페이지를 지원하는 역할을 한다.
데이터베이스(이하 "DB"라 함)(16)는 상기 고객사 단말기(30)로부터 제공받은 설계 원본 및 제조사양을 저장하고, 각 구성요소의 수행에 따른 결과를 저장한다.
도 3은 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 포토마스트 라이팅 도면설계 방법을 단계별로 설명하는 흐름도이다.
고객사 단말기(30)로부터 제조사양 및 PM 설계도면 원본을 전송받은 제 1 검증부(14a)는 DB에 저장된 고객사의 이전 설계도면 및 제조사양 정보를 기반으로 특이사항 및 도면상의 오류를 확인한다(S20). 도면상의 오류 및 특이사항이 발견되지 않은 경우, 제 1 검증부(14a)는 상기 고객사의 제조사양 및 설계도면 원본을 데이터베이스(이하 "DB"라 함)(16)에 저장한다(S21, S22).
상기 고객사 단말기(30)는 상기 제조사양과 설계도면 원본을 도면 편집부(11)에 제공한다. 상기 도면 편집부(11)는 상기 제조사양에 따라 상기 설계도면 원본을 수정한다(S23). 상기 수정한 설계도면에 오류가 있는가를 확인하고(S24), 오류가 없으면 DB에 저장한다(S25).
제26단계에서 파라미터 산출부(12)는 상기 제조사양, 라이팅 장비특성, 파라미터 산출규칙에 의해 주요 공정파라미터 즉, 바이어스, SH, XPO, 윈도우 사이즈를 산출한다. 상기 4가지의 주요 공정파라미터 산출규칙에 대하여 설명하면 다음과 같다.
첫째는, 바이어스(bias) 산출규칙이다. 상기 바이어스는 도 4(a)에 도시한 바와 같이 실제 도면에 표시되는 치수가 에칭(etching) 공정이후 나타나는 패턴의 치수 차이를 보정하기 위해 라이팅 장비에 설정되어지는 입력정보이다. 상기 바이어스를 산출하기 위한 규칙은 라이팅 장비 캘리브레이션 이후 공정 테스트에 의해 일차로 기준 바이어스가 정해지고, 캘리브레이션 이후 실측 도면 정보 및 에칭공정 이후의 공정 특성을 반영한 측정결과를 지속적으로 모니터링하여 생산한 CD(critical dimension) 품질을 통해 예측한다. 예를 들어, 도 4(b)를 참고하여 설명하면 다음과 같다. 추이분석을 위해 서로 상이한 조건에 따라 추출된 XY라인의 스펙(spec) 대비 결과값을 참조한 결과 0을 기준으로 X 라인은 평균 0.2um 작게 나오고, Y 라인은 평균 0.2um 크게 나면 바이어스 값은 각각 ZX=-800nm, ZY=-1000nm 으로 산출이 된다.
둘째는, SH와 XPO를 산출방법이다. SH와 XPO는 PM상의 원본 도면의 패턴이 잘 형상화될 수 있도록 번짐(Mura 현상) 등과 같은 현상을 줄이기 위한 방법으로 레이저 빔(laser beam)의 크기에 영향을 받는다.
상기 SH는;
1) 라이팅 장비별 빔 스폿 크기(beam spot size)의 정수배가 되어야 한다.
2) 라이팅 장비별 SH의 가용범위 내에 있어야 한다.
3) 규칙 1, 규칙 2를 만족하며, 스케일(scale) 조정이 일어나지 않는 최대값으로 선정해야 한다.
4) 고객사 Y축 간격이 SH 최대범위보다 클 경우 Y축 간격을 정수로 나누어 규칙 1을 만족하는 SH를 찾는다.
5) 고객사 Y축 간격가 규칙 1~4를 모두 만족시키지 못할 경우 회전을 통해, 상위 규칙을 만족시키는 SH 값을 찾는다. ;와 같은 규칙들에 의해 그 값이 산출된다.
그리고, 상기 XPO는 고객사 X축 간격이 빔 스폿 크기로 나누어 떨어지지 않는 경우, 고객사 데이터를 슈링크(shrink)하여 데이터 X축 간격을 빔 스폿 크기의 배수가 되는 가장 가까운 피치로 데이터를 사이징한다.
상기 XPO 즉, 스케일 조정 X값은 다음과 같은 산출 로직에 의해 산출된다. 여기서, 상기 스케일 조정 X값이 10,000,000 ppb를 넘어가면 안 된다.
1) X 머신 픽셀(= 빔 스폿 사이즈)
2) X 패턴 간격: 고객사 데이터 X축 간격×
3) 스케일 X
4) 스케일 조정 X
셋째는, 윈도우 사이즈(window size)를 산출하기 위한 규칙은,
1) 윈도우를 늘리는 것은 가능하여도 줄이는 것은 불가능하다.
2) 무한정 늘이는 것이 아니고 가장자리 마진(edge margin)을 고려하여 적당히 늘려야 한다.
3) 윈도우 조정량 = 오버랩(overlap) 이동거리(D) X 2 (윈도우는 양쪽으로 늘어남);과 같이 제공되는 것이 바람직하다.
상기와 같이, 상기 파라미터 산출부(12)의 출력 값 즉, 바이어스, XPO, SH, 윈도우 사이즈가 도면 산출부(13)로 입력되고, 상기 도면 산출부(13)는 상기 파라미터 산출부(12)의 출력을 입력으로 받아 라이팅 장비에 입력될 라이팅 도면을 산출한다(S27). 상기 산출된 라이팅 도면은 제 2 검증부(14b)로 입력되고, 이에 따라 상기 제 2 검증부(14b)는 상기 라이팅 도면을 산출된 공정파라미터 및 제조사양과 비교검증하여 오류가 있는가를 확인한다(S28, S29).
상기 검증단계로부터 라이팅 도면에 오류가 발견되지 않으면, 상기 라이팅 도면은 PM을 양산하는 제조공정으로 전달된다(S30).
이와 같이, 본 발명에서는 라이팅 도면 산출 과정에서 적용되는 공정파라미터를 제조사양 및 장비특성 등에 의해 자동으로 산출/검증하게 하므로 신입 설계자도 효율적으로 PM 라이팅 도면을 설계할 수 있게 한다.
상기한 바와 같이, 본 발명에 의한 PM 라이팅 도면설계 지원시스템에서는 다음과 같은 효과를 기대할 수 있다.
고객사의 이전 정보 및 설계 노하우 등을 데이터베이스화하여 손쉽게 정보를 조회할 수 있게 한다. 그리고, PM 공정파라미터 산출 및 설계 결과 검증을 자동화하여 설계 오류를 줄일 수 있어 비용절감 효과가 있다. 따라서, 신입 설계자도 효율적으로 PM 설계 및 검증을 할 수 있게 하며, 업무 효율을 극대화할 수 있다.
Claims (9)
- 포토마스크 설계도면 원본 및 제조사양 등의 정보를 제공하는 고객사 단말기;상기 고객사 단말기로부터 제공되는 제조사양에 따라 포토마스크 라이팅장비에 입력될 공정파라미터를 자동 산출/검증하는 PM 라이팅 도면설계 지원서버; 그리고상기 PM 라이팅 도면설계 지원서버에 접속하여 공정파라미터 산출 및 검증을 수행하는 사용자 단말기를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 자동화된 툴을 이용한 포토마스크 라이팅 도면설계 지원시스템.
- 제 1항에 있어서, 상기 PM 라이팅 도면설계 지원서버는,상기 고객사 단말기로부터 제공받은 제조사양 및 고객사 정보와 상기 PM 라이팅 도면설계 지원서버에서 산출된 공정파라미터 등을 저장하는 데이터베이스;포토마스크 설계도면 원본을 제조사양에 따라 수정하는 도면 편집부;상기 제조사양, 라이팅 장비의 특성, 및 파라미터 산출규칙에 의해 공정파라미터를 자동 산출하는 파라미터 산출부;상기 파라미터 산출부의 출력과 상기 도면 편집부의 출력을 입력으로 받아 라이팅장비에 입력될 도면을 산출하는 도면 산출부;상기 도면 편집부에 의해 수정된 설계도면의 오류를 검사하고, 상기 파라미터 산출부에 의해 산출된 공정파라미터와 상기 도면 산출부의 출력을 비교검증하는 검증부; 그리고상기 사용자 단말기를 통해 상기 각 구성요소를 수행할 수 있도록 웹페이지를 지원하는 웹 지원부를 포함하는 것을 특징으로 하는 자동화된 툴을 이용한 포토마스크 라이팅 도면설계 지원시스템.
- 제 2항에 있어서,상기 도면 편집부의 입력정보는 포토마스크 설계도면 원본과 제조사양인 것을 특징으로 하는 자동화된 툴을 이용한 포토마스크 라이팅 도면설계 지원시스템.
- 제 2항에 있어서,상기 공정파라미터는 바이어스(bias), XPO(X pitch optimization), SH(step size), 윈도우 사이즈(window size) 등인 것을 특징으로 하는 자동화된 툴을 이용한 포토마스크 라이팅 도면설계 지원시스템.
- 제 2항에 있어서, 상기 검증부는,상기 도면 산출부에 의해 수정된 설계도면을 상기 제조사양 및 데이터베이스에 저장된 이전 고객사의 정보와 비교검증하는 제 1 검증부와;상기 도면 산출부의 출력을 상기 파라미터 산출부의 출력과 비교검증하는 제 2 검증부를 포함하는 것을 특징으로 하는 자동화된 툴을 이용한 포토마스크 라이팅 도면설계 지원시스템.
- 제조사양에 따라 포토마스크 설계도면 원본을 수정하는 단계;상기 단계에 적용된 제조사양 정보 및 소정 라이팅 장비특성 정보와 파라미터 산출규칙 정보를 입력받아 공정파라미터를 산출하는 단계;상기 산출된 공정파라미터와 상기 수정된 설계도면을 입력으로 받아 라이팅 도면을 산출하는 단계; 그리고상기 산출된 라이팅 도면을 기 산출된 공정파라미터 및 상기 제조사양와 비교검증하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 자동화된 툴을 이용한 포토마스크 라이팅 도면설계 방법.
- 제 6항에 있어서, 상기 포토마스크 설계도면 원본 수정단계는,고객사 단말기로부터 제공받은 포토마스크 설계도면 원본과 제조사양을 검토하는 단계;데이터베이스에 저장된 고객사의 이전정보와 비교하여 특이사항 및 상기 설계도면 원본의 오류를 확인하는 단계;상기 설계도면 원본에 오류가 확인되지 않으면 상기 포토마스크의 제조사양을 상기 데이터베이스에 저장하고, 상기 포토마스크 설계도면 원본을 상기 제조사양에 따라 수정하는 단계; 그리고상기 수정한 설계도면의 오류를 확인하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 자동화된 툴을 이용한 포토마스크 라이팅 도면설계 방법.
- 제 7항에 있어서,상기 설계도면 원본에 특이사항 및 오류가 확인되면, 고객사에 제조사양 및 설계도면 원본을 요청하여 재수신하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 자동화된 툴을 이용한 포토마스크 라이팅 도면설계 방법.
- 제 6항에 있어서,상기 공정파라미터는 바이어스, XPO, SH, 윈도우 사이즈 등인 것을 특징으로 하는 자동화된 툴을 이용한 포토마스크 라이팅 도면설계 방법.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060008425A KR20070078291A (ko) | 2006-01-26 | 2006-01-26 | 자동화된 툴을 이용한 포토마스크 라이팅 도면설계지원시스템 및 그 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060008425A KR20070078291A (ko) | 2006-01-26 | 2006-01-26 | 자동화된 툴을 이용한 포토마스크 라이팅 도면설계지원시스템 및 그 방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20070078291A true KR20070078291A (ko) | 2007-07-31 |
Family
ID=38502660
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020060008425A KR20070078291A (ko) | 2006-01-26 | 2006-01-26 | 자동화된 툴을 이용한 포토마스크 라이팅 도면설계지원시스템 및 그 방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR20070078291A (ko) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100976829B1 (ko) * | 2008-07-08 | 2010-08-19 | 대우조선해양 주식회사 | 선박의 설계 디자인 리뷰 방법 및 그 서비스 시스템 |
KR101320878B1 (ko) * | 2011-04-13 | 2013-10-30 | 주식회사 유라코퍼레이션 | Fbd 프로그램을 구현하는 조립도면 작성방법 |
KR102230813B1 (ko) | 2020-11-05 | 2021-03-22 | 방홍철 | 배관 및 이의 도면 설계 방법, 이를 이용한 배관 설치 시스템 |
-
2006
- 2006-01-26 KR KR1020060008425A patent/KR20070078291A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100976829B1 (ko) * | 2008-07-08 | 2010-08-19 | 대우조선해양 주식회사 | 선박의 설계 디자인 리뷰 방법 및 그 서비스 시스템 |
KR101320878B1 (ko) * | 2011-04-13 | 2013-10-30 | 주식회사 유라코퍼레이션 | Fbd 프로그램을 구현하는 조립도면 작성방법 |
KR102230813B1 (ko) | 2020-11-05 | 2021-03-22 | 방홍철 | 배관 및 이의 도면 설계 방법, 이를 이용한 배관 설치 시스템 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5052620B2 (ja) | 製造可能性プロセスのための閉ループを設計するための方法、およびコンピュータ・プログラム | |
US6425112B1 (en) | Auto correction of error checked simulated printed images | |
US7010775B2 (en) | Method for creating mask pattern for circuit fabrication and method for verifying mask pattern for circuit fabrication | |
KR101450500B1 (ko) | 레티클 레이아웃용 메트롤로지 타깃 구조 디자인을 생성하기 위한 컴퓨터 구현방법, 전송매체, 및 시스템 | |
US11036126B2 (en) | Semiconductor fabrication design rule loophole checking for design for manufacturability optimization | |
US6964031B2 (en) | Mask pattern generating method and manufacturing method of semiconductor apparatus | |
JP2007535715A (ja) | 集積回路レイアウトを設計する方法及び機器 | |
US20090144686A1 (en) | Method and apparatus for monitoring marginal layout design rules | |
CN110222381B (zh) | 用于pcb装配的动态安装指引文件生成方法、系统、介质及终端 | |
CN111443569B (zh) | 一种修正模型的建立方法及装置、掩模优化方法及装置 | |
US7194328B1 (en) | Method and apparatus for tracking reticle history | |
JP2002311561A (ja) | パターン形成方法、パターン処理装置および露光マスク | |
KR20070078291A (ko) | 자동화된 툴을 이용한 포토마스크 라이팅 도면설계지원시스템 및 그 방법 | |
US20090082897A1 (en) | Method and apparatus for generating metrology tags to allow automatic metrology recipe generation | |
WO2009016090A1 (en) | A method and relative device for the management of technological recipe information to aid in defining process flows, in particular for the development and production of micro- and nanotechnology devices in cleanroom laboratories | |
US8050793B1 (en) | Method and apparatus for linking reticle manufacturing data | |
CN111427582B (zh) | Rtl代码的管理方法、装置、设备及计算机可读存储介质 | |
CN116090404A (zh) | 半导体器件版图设计规则的检查方法 | |
KR20170059246A (ko) | 반도체 소자의 패턴 형성 방법 | |
US10401837B2 (en) | Generating risk inventory and common process window for adjustment of manufacturing tool | |
CN115308987A (zh) | 曝光辅助图形的优化方法 | |
JP2000155408A (ja) | パタ―ンデ―タ検証方法およびパタ―ンデ―タ補正方法 | |
US7222326B2 (en) | Automatic process and design method, system and program product | |
US20130132917A1 (en) | Pattern Matching Hints | |
CN110929467B (zh) | Tech LEF文件验证方法及其验证系统 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E601 | Decision to refuse application |