KR20070075339A - 발광 다이오드 소자용 자외선 경화형 실리콘 조성물 - Google Patents
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Abstract
본 발명의 목적은 발광 다이오드 소자용 보호 물질 또는 렌즈 물질 등으로서 이상적인, 우수한 투명도 및 최소 경시적 변색의 경화품을 제공하는 실리콘 수지 조성물을 제조하기 위한 것이다.
본 발명에 따른 발광 다이오드 소자용 자외선 경화성 실리콘 조성물은 (A) 각 분자 내에 하기 화학식 1로 표시되는 구조를 1개 이상 갖는 유기폴리실록산, 및 (B) 광중합 개시제 0.01 내지 10 질량부를 포함한다.
<화학식 1>
상기 식 중, m은 0, 1 또는 2의 정수이고, R1은 수소 원자, 페닐기 또는 할로겐화 페닐기이며, R2는 수소 원자 또는 메틸기이고, R3은 탄소수 1 내지 10의 1가 유기기를 나타내며, Z1은 -R4-, -R4O- 또는 -R4(CH3)2SiO- (여기서, R4는 탄소수 1 내지 10의 2가 유기기를 나타낸다)로 표시되는 2가기를 나타내고, Z2는 산소 원자 또는 탄소수 1 내지 10의 2가 유기기를 나타낸다.
발광 다이오드 소자, 유기폴리실록산, 자외선 경화형 실리콘 조성물
Description
[문헌 1] 일본 공개 특허 공보 제(평)10-228249호
[문헌 2] 일본 공개 특허 공보 제(평)10-242513호
[문헌 3] 일본 공개 특허 공보 제2000-123981호
[문헌 4] 일본 공개 특허 공보 제(평)11-1619호
본 발명은 발광 다이오드 (LED) 소자의 보호, 접착, 또는 파장 변조 또는 조정, 또는 발광 다이오드 소자용 렌즈 물질로서 이상적인 발광 다이오드 소자용 실리콘 수지 조성물에 관한 것이다.
통상적으로, 발광 다이오드 소자용 밀봉제로서 에폭시 수지가 일반적으로 사용되어 왔다. 실리콘 수지의 렌즈 물질로서의 용도가 기재된 문헌 1 및 문헌 2, 및 실리콘 수지의 파장-조정 코팅으로서의 시험이 기재된 문헌 3에 실리콘 수지의 발광 다이오드 소자 중 재료로서의 용도가 기재되었으나, 실리콘 수지의 실사용예는 드물다.
한편, 현재 유력하게 주목받는 백색 LED에서, 에폭시 수지 기재의 밀봉제 또는 열 경화형 실리콘 수지에서 새로운 문제, 예를 들어 LED의 실사용 동안에 자외선 광 등에의 노출로 인한 황변, 및 소형화에 동반되는 발열량의 증가에 의해 유발되는 균열의 증가 경향이 부각되고 있다.
본 발명은 상기 상황을 고려하여, 우수한 투명도 및 최소의 경시적 변색을 나타내는 경화품을 제공하는 발광 다이오드 (LED) 소자용 실리콘 수지 조성물의 제공을 목적으로 한다.
예의 연구한 결과, 본 발명의 발명자는
(A) 각 분자 내에 하기 화학식 1로 표시되는 구조를 1개 이상 갖는 유기폴리실록산 100 질량부, 및 (B) 광중합 개시제 0.01 내지 10 질량부를 포함하는, 발광 다이오드 소자용 자외선 경화형 실리콘 조성물에 의해 상기 목적을 달성할 수 있음을 발견하였다.
상기 식 중, m은 0, 1 또는 2의 정수를 나타내고, R1은 수소 원자, 페닐기 또는 할로겐화 페닐기를 나타내며, R2는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R3기는 탄소수 1 내지 10의 동일하거나 상이한 1가 유기기를 나타내며, Z1은 -R4-, -R4O- 또는 -R4(CH3)2SiO- (여기서, R4기는 탄소수 1 내지 10의 동일하거나 상이한 2가 유기기를 나타낸다)로 표시되는 2가기를 나타내고, Z2기는 산소 원자 또는 탄소수 1 내지 10의 동일하거나 상이한 2가 유기기를 나타낸다.
다시 말해서, 상기 조성물은 경화시 우수한 내열성 및 내변색성을 나타내는 투명한 경화품을 제공한다. 따라서, 상기 조성물은 발광 다이오드 소자로의 사용에 이상적이고, 소자의 보호 (밀봉), 접착, 또는 파장 변조 또는 조정용 물질, 및 소자용 렌즈 물질로서 유용하다.
이하에 본 발명을 더 상세히 설명하기로 한다. 하기 기재 중, 폴리스티렌 당량 평균 분자량은 겔 투과 크로마토그래피를 사용하여 측정된 값이다.
- 성분 (A) -
성분 (A)는 각 분자 내에 하기 화학식 1로 표시되는 구조를 1개 이상 갖는 유기폴리실록산을 사용한다.
<화학식 1>
상기 식 중, m은 0, 1 또는 2의 정수를 나타내고, R1은 수소 원자, 페닐기 또는 할로겐화 페닐기를 나타내며, R2는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R3기는 탄소수 1 내지 10의 동일하거나 상이한 1가 유기기를 나타내며, Z1은 -R4-, -R4O- 또는 -R4(CH3)2SiO- (여기서, R4기는 탄소수 1 내지 10의 동일하거나 상이한 2가 유기기를 나타낸다)로 표시되는 2가기를 나타내고, Z2기는 산소 원자 또는 탄소수 1 내지 10의 동일하거나 상이한 2가 유기기를 나타낸다.
화학식 1에서, R3으로 표시되는 탄소수 1 내지 10의 1가 유기기는 통상적으로 탄소수 1 내지 10, 및 바람직하게는 1 내지 8의 기이고, 구체적인 예로는 알킬기, 예를 들어 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 네오펜틸기, 헥실기, 시클로헥실기, 옥틸기, 노닐기, 또는 데실기; 아릴기, 예를 들어 페닐기, 톨릴기, 크실릴기, 또는 나프틸기; 아랄킬기, 예를 들어 벤질기, 페닐에틸기, 또는 페닐프로필기; 및 알케닐기, 예를 들어 비닐기, 알릴기, 프로페닐기, 이소프로페닐기, 부테닐기, 헥세닐기, 시클로헥세닐기, 또는 옥테닐기를 포함하는 탄화수소기; 뿐만 아니라 상기 탄화수소기 중 수소 원자의 일부 또는 전부가 할로겐 원자, 예를 들어 불소, 브롬 또는 염소 원자, 또는 시아노기 등으로 치환된 할로겐화 알킬기, 예를 들어 클로로메틸기, 클로로프로필기, 브로모에틸기 또는 트리플루오로프로필기, 또는 시아노에틸기를 포함하는 치환된 탄화수소기; 및 에테르 연결쇄 (에테르의 산소 원자) 또는 아미드 연결쇄가 상기 치환된 또는 비치환된 탄화수소기의 어느 하나에서 탄화수소 사슬의 일부에 도입된 기를 들 수 있다.
R4 또는 Z2로 표시되는 탄소수 1 내지 10의 2가 유기기의 예로는 알킬렌기, 예를 들어 메틸렌기, 에틸렌기 또는 트리메틸렌기를 포함하는 2가의 치환된 또는 비치환된 탄화수소기를 들 수 있고, 또한 상기 탄화수소기 중 수소 원자의 일부 또는 전부가 할로겐 원자, 예를 들어 불소, 브롬 또는 염소 원자, 또는 시아노기 등으로 치환될 수 있고, 또한 상기 기의 탄화수소 사슬에 에테르 연결쇄 또는 아미드 연결쇄가 또한 도입될 수 있다.
상기 화학식 1에서,
Z1이 -R4-로 표시되는 2가 유기기를 나타내는 경우, Z2는 바람직하게는 산소 원자이고,
Z1이 -R4O- 또는 -R4(CH3)2SiO-로 표기되는 2가기를 나타내는 경우, Z2는 바람직하게는 탄소수 1 내지 10의 동일하거나 상이한 2가 유기기를 나타낸다.
바람직한 일 실시 양태에서, 상기 화학식 1로 표시되는 구조는 하기 화학식 2로 표시되는 구조의 형태로 존재한다.
상기 식 중, m, R1, R2, R3 및 R4는 화학식 1과 관련하여 상기 정의한 바와 같다. 화학식 2의 구조의 구체적인 예는 하기 구조를 포함한다.
성분 (A)의 유기폴리실록산은 분자 내에 존재하는 모든 실록산 단위 전체에 대해 바람직하게는 평균 0.1 mol％ 이상, 및 보다 바람직하게는 1 내지 50 mol％의 SiO2 단위를 함유한다.
성분 (A)의 유기폴리실록산의 예를 하기에 나타내었다.
(a-1)
(a-2)
(a-3)
하기 MA 단위, M 단위 및 Q 단위를, 단위 간 몰 비율 MA:M:Q = 1:4:6으로 포함하는, 폴리스티렌 당량 중량 평균 분자량이 5,000인 유기폴리실록산.
- MA 단위
- M 단위
- Q 단위
(a-4)
하기 MA-D 단위, D 단위 및 T 단위를, 단위 간 몰 비율 MA-D:D:T = 2:6:7로 포함하는, 폴리스티렌 당량 중량 평균 분자량이 3,500인 유기폴리실록산.
- MA-D 단위
- D 단위
- T 단위
상기 유기폴리실록산을 성분 (A)로서 단독으로 사용하거나, 상이한 화합물 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
- 성분 (B) -
성분 (B)의 광중합 개시제의 예는 아크릴 기재 관능기의 광경화의 촉진을 위해 사용되는 임의의 통상의 화합물을 포함한다. 적합한 화합물의 예는 벤조인 및 치환된 벤조인 (예를 들어, 알킬 에스테르-치환된 벤조인), 미힐러 케톤, 디알콕시아세토페논, 예를 들어 디에톡시아세토페논 (DEAP), 벤조페논 및 치환된 벤조페논, 아세토페논 및 치환된 아세토페논, 및 크산톤 및 치환된 크산톤을 포함한다. 바람직한 광중합 개시제의 구체적인 예는 디에톡시아세토페논, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 디에톡시크산톤, 클로로티오크산톤, 아조비스이소부티로니트릴, N-메틸디에탄올아민벤조페논, 및 이의 2종 이상의 혼합 물을 포함한다. 가시광 광중합 개시제도 사용될 수 있고, 그의 예로는 캄포르퀴논 퍼옥시 에스테르 개시제, 및 비-플루오렌 카르복실레이트 퍼옥시 에스테르를 들 수 있다. 가장 바람직한 광중합 개시제는 DEAP이다.
광중합 개시제는 상업적으로 입수 가능하고, 예를 들어 상품명 이르가큐어(Irgacure) 및 다로큐어(Darocur) 하에 미국 뉴욕주 태리타운 소재의 시바 스페셜티 케미칼스 사(Ciba Specialty Chemicals Inc.)에서 입수할 수 있다. 구체적인 예로는 이르가큐어 184 (1-히드록시시클로헥실 페닐 케톤), 907 (2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온), 369 (2-벤질-2-N,N-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-1-부탄온), 500 (1-히드록시시클로헥실 페닐 케톤과 벤조페논의 조합물), 651 (2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논), 1700 (비스(2,6-디메톡시벤조일-2,4,4-트리메틸페닐)포스핀 옥시드와 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온의 조합물) 및 819 [비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀 옥시드)]; 및 다로큐어 1173 (2-히드록시-2-메틸-1-페닐-1-프로판) 및 4265 (2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀 옥시드와 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온의 조합물)를 들 수 있고; 가시광 (청색광) 광중합 개시제의 예로는 dl-캄포르퀴논 및 이르가큐어 784DC (비스(η5-2,4-시클로펜타디엔-1-일)-비스[2,6-디플루오로-3-(1H-피롤-1-일)페닐]에탄)를 들 수 있다.
성분 (B)의 광중합 개시제의 블렌드 양은 성분 (A)의 100 질량부 당 통상적으로 0.01 내지 10 질량부, 바람직하게는 0.1 내지 5 질량부의 범위 내이다.
또한 광중합 개시제는 개시제를 서로 반응 및 결합시켜 제조된 중합체로서 수득될 수 있다. 그러한 광중합 개시제의 예가 미국 특허 제4,477,326호 및 동 제4,587,276호에 개시되어 있다. 기타 자유 라디칼 개시제, 예를 들어 퍼옥시 개시제를 성분 (B)와 조합하여 사용할 수도 있다.
- 기타 성분 -
필요한 경우, 첨가가 본 발명의 목적 또는 효과를 저해하지 않는 한, 기타 성분을 본 발명의 조성물에 첨가할 수도 있다.
- 반응성 희석제
실리콘 함유 반응성 희석제 또는 실리콘 비함유 반응성 희석제를 예를 들어 조성물의 점도 또는 경화품의 경도를 조절하기 위한 목적으로 첨가할 수도 있다.
실리콘 함유 반응성 희석제의 예는 하기 화학식으로 나타내어지는 유기폴리실록산을 포함하고, 이 화합물은 단독으로 사용하거나, 또는 2종 이상의 상이한 화합물을 조합하여 사용할 수 있다.
실리콘 비함유 반응성 희석제의 예는 (메트)아크릴레이트, 예를 들어 화학식 H2C=CGC02R5 (여기서, G는 수소, 할로겐, 또는 탄소수 1 내지 대략 4의 알킬기이고; R5는 탄소수 1 내지 대략 16의 알킬, 시클로알킬, 알케닐, 시클로알케닐, 알카릴, 아랄킬 및 아릴기 중에서 선택된 기이며, 필요한 경우, 임의의 상기기는 실란, 규소, 산소, 할로겐, 카르보닐, 히드록시, 에스테르, 카르복시산, 우레아, 우레탄, 카르바메이트, 아민, 아미드, 황, 술포네이트 또는 술폰 등으로 치환 또는 종결될 수도 있음)로 표시되는 것을 포함한다.
반응성 희석제로서 사용하기에 특히 바람직한 (메트)아크릴레이트의 구체적인 예로는 폴리에틸렌 글리콜 디(메트)아크릴레이트, 비스페놀-A 디(메트)아크릴레이트, 예를 들어 에톡시화 비스페놀-A (메트)아크릴레이트 ("EBIPA" 또는 "EBIPMA"), 테트라히드로푸란 (메트)아크릴레이트 및 디(메트)아크릴레이트, 시트로넬릴 아크릴레이트 및 시트로넬릴 메트아크릴레이트, 히드록시프로필 (메트)아크릴레이트, 헥산디올 디(메트)아크릴레이트 ("HDDA" 또는 "HDDMA"), 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 테트라히드로디시클로펜타디에닐 (메트)아크릴레이트, 에톡시화 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트 ("ETTA"), 트리에틸렌 글리콜 디아크릴레이트 및 트리에틸렌 글리콜 디메트아크릴레이트 ("TRIEGMA"), 이소보르닐 아크릴레이트 및 이소보르닐 메트아크릴레이트를 들 수 있다. 물론, 상기 (메트)아크릴레이트의 2종 이상의 조합물도 반응성 희석제로 사용될 수 있다.
반응성 희석제가 사용되는 경우, 블렌드 양은 통상적으로 성분 (A) 100 질량부 당 0.05 내지 240 질량부이다.
- 개질제
본 발명의 조성물은 또한 구체적인 적용 요건에 따라 경화 특성 또는 비경화 특성을 개질시키기 위한 기타 성분을 포함할 수 있다. 예를 들어, 접착 촉진제, 예를 들어 (메트)아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 트리알킬 또는 트리알릴 이소시아누레이트, 글리시독시프로필트리메톡시실란 및 비닐트리메톡시실란을 대략 5 질 량% 이하의 양으로 첨가할 수 있다.
또한, 비-(메트)아크릴 실리콘 희석제 또는 가소제를 대략 30 질량％ 이하의 양으로 첨가할 수 있다. 그러한 비-(메트)아크릴 실리콘의 예는 25℃에서 100 내지 500 ｍ㎩·ｓ 범위 내의 점도를 나타내는 트리메틸실릴-종결된 오일, 및 실리콘 고무를 포함한다. 비-(메트)아크릴 실리콘은 또한 공중합성기, 예를 들어 비닐기를 포함할 수 있다.
- 무기 충전제
목적한 투명도를 저해하지 않는 양의 무기 충전제를 조성물에 첨가할 수도 있다. 다시 말해서, 강화 실리카 제품, 예를 들어 퓸드 실리카를 사용할 수 있고, 상기 제품을 비처리된 (친수성) 형태로 사용하거나, 또는 처리된 소수성 형태로 사용할 수 있다. 강화 퓸드 실리카는 어느 것이든 사용할 수 있다.
- 제조 및 경화 -
본 발명은 또한 상기 각각의 성분을 사용하고 성분들을 서로 혼합하는 단계를 포함하는, 조성물의 제조 방법을 제공한다.
본 발명의 조성물로부터 수득된 경화품의 물리적 성질은 화학식 1의 반응성 실리콘의 분자량, 및 사용된 경화 방법에 따라 달라진다. 일반적으로, 반응성 실리콘의 분자량이 클수록 더욱 유연한 경화 반응 제품이 제공된다.
본 발명의 조성물을 경화시키기 위해 사용할 수 있는 UV 광원의 예는 다양한 자외선 파장띠의 자외선 에너지를 방출하도록 고안될 수 있는, 통상의 수은 증기 램프를 포함한다. 예를 들어, 유용한 UV 파장 범위는 220 내지 400 ㎚이다.
[실시예]
이하에 본 발명의 일련의 실시예 및 비교예를 나타내어 본 발명을 보다 상세히 설명하기로 하나, 발명은 하기에 나타낸 예로 제한되지 않는다.
[실시예 1 및 2]
하기에 나타낸 성분 (A) 및 성분 (B)를 제조하고, 하기 표 1에 나타낸 블렌드 양으로 실리콘 조성물을 제조하였다. 수득된 각 조성물은 고압 수은 램프 (80 Ｗ/㎝), 고압 수은 램프에서 조사 표적 샘플까지의 조사 거리 10 ㎝, 및 컨베이어 주행 속도, 즉 샘플 속도 1 ｍ/분을 포함하는 조사 조건 하에서, 재팬 스토리지 배터리 사(Japan Storage Battery Co., Ltd.)에서 제조한 컨베이어형 UV 조사기에 조성물을 3회 통과시킨 3회 반복 자외선 조사를 수행하는 조건 하에서 경화시켜서 두께 3 ㎜의 경화품을 제공하였다. 수득된 경화품의 경도 및 투명도는 하기에 기재된 방법을 사용하여 평가하였다. 결과를 하기 표 2에 나타내었다.
경도: 시마즈 사(Shimadzu Corporation)에서 제조한 유형 A 경도계를 사용하여, JIS 6249 분석법에 따라서 경도를 측정하였다.
광 투과율: 분광 광도계 (U-331O, 히타치 사(Hitachi, Ltd.)제조)를 사용하여, 제조된 경화품 샘플의 광 투과율을 400 ㎚ 파장에서 측정하고, 결과를 초기 광 투과율 값으로 기록하였다. 그 후, 샘플을 150℃의 건조기에 두고 500시간 동안 노출된 상태로 처리하고, 그 후 광 투과율을 재측정하였다.
[성분 (A)]
(A-1)
하기 MA 단위, M 단위 및 Q 단위를 단위 간 몰 비율 MA:M:Q = 1:4:6으로 포함하는, 폴리스티렌 당량 중량 평균 분자량이 5,000인 유기폴리실록산.
- MA 단위
- M 단위
- Q 단위
(A-2)
(A-3)
하기 MA-D 단위, D 단위 및 T 단위를, 단위 간 몰 비율 MA-D:D:T = 2:6:7로 포함하는, 폴리스티렌 당량 중량 평균 분자량이 3,500인 유기폴리실록산.
- MA-D 단위
- D 단위
- T 단위
[성분 (B)]
(B) 디에톡시아세토페논
[비교예 1]
(C6H5)SiO3 /2 단위, (CH2=CH)(CH3)SiO2 /2 단위 및 (CH3)2SiO2 /2 단위를 포함하고, 화학식 (CH3)0.65(C6H5)0.55(CH2=CH)0.25SiO1 .28로 나타내는 평균 조성을 갖는 유기폴리실록산 수지 공중합체 (실리콘 수지) 100 질량부를, 규소 원자가 결합된 메틸기, 페닐기 및 수소 원자 (SiH기)를 합한 전체에 대해 20 mol％의 페닐기를 함유하는 페닐메틸히드로겐실록산 20 질량부 (수소 가스 수율 150 ㎖/g, 25℃에서 점도 100 ｍ㎩·ｓ) 및 에티닐시클로헥산올 0.2 질량부와 배합하고, 그 후 20 ppm의 백금 원자를 제공하기에 충분한 양의 백금 촉매를 혼합물에 첨가하여 조성물을 제조하였다. 3 ㎜ 두께를 형성하기에 충분한 양의 상기 조성물을 유리판을 사용하여 제조한 주형에 붓고, 그 후 120℃에서 30분 동안 가열하여 경화시켰다. 수득된 경화품을 주형에서 떼어내고 그 후 180℃ 건조기 내에서 2시간 동안 후-경화시켜 샘플을 수득하였다.
[비교예 2]
(C6H5)SiO3 /2 단위, (CH2=CH)(CH3)SiO2 /2 단위 및 (CH3)2SiO2 /2 단위를 포함하고, 화학식 (CH3)0.65(C6H5)0.55(CH2=CH)0.25SiO1 .28로 나타내어지는 평균 조성의 유기폴리실록산 수지 공중합체 (실리콘 수지) 100 질량부를, 규소 원자가 결합된 메틸기, 페닐기 및 수소 원자 (SiH기)를 합한 전체에 대해 20 mol％의 페닐기를 함유하는 페닐메틸히드로겐실록산 20 질량부 (수소 가스 수율 150 ㎖/g, 25℃에서 점도 10 ｍ㎩·ｓ) 규소 원자가 결합된 메틸기, 페닐기 및 수소 원자 (SiH기)를 합한 전체에 대해 10 mol％의 페닐기를 포함하는 페닐메틸히드로겐실록산 10 질량부 (수소 가스 수율 120 ㎖/g, 25℃에서 점도 20 ｍ㎩·ｓ) 및 에티닐시클로헥산올 0.2 질량부와 배합하고, 그 후 20 ppm의 백금 원자를 제공하기에 충분한 양의 백금 촉매를 혼합물에 첨가하여 조성물을 제조하였다. 상기 조성물을 상기 비교예 1에서 사용한 것과 유사한 주형에 붓고, 그 후 120℃에서 30분 동안 가열하여 경화시켰다. 수득된 경화품을 주형에서 떼어내고 그 후 180℃ 건조기 내에서 2시간 동안 후-경화시켜 샘플을 수득하였다.
비교예 1 및 2에서 수득된 경화품의 경도 및 광 투과율 (초기 값 및 150℃×500시간에서 처리 후 값)을 측정하였다. 결과를 하기 표2에 나타내었다.
본 발명에 따른 발광 다이오드 소자용 실리콘 수지 조성물은 발광 다이오드 소자의 보호, 접착, 또는 파장 변조 또는 조정, 또는 발광 다이오드 소자용 렌즈 물질로서 사용될 수 있다.
Claims (11)
- (A) 각 분자 내에 하기 화학식 1로 표시되는 구조를 1개 이상 갖는 유기폴리실록산 100 질량부, 및 (B) 광중합 개시제 0.01 내지 10 질량부를 포함하는, 발광 다이오드 소자용 자외선 경화형 실리콘 조성물.<화학식 1>
상기 식 중, m은 0, 1 또는 2의 정수를 나타내고, R1은 수소 원자, 페닐기 또는 할로겐화 페닐기를 나타내며, R2는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R3은 탄소수 1 내지 10의 동일하거나 상이한 1가 유기기를 나타내며, Z1은 -R4-, -R4O- 또는 -R4(CH3)2SiO- (여기서, R4기는 탄소수 1 내지 10의 동일하거나 상이한 2가 유기기를 나타낸다)로 표시되는 2가기를 나타내고, Z2기는 산소 원자 또는 탄소수 1 내지 10의 동일하거나 상이한 2가 유기기를 나타낸다. - 제1항에 있어서, 상기 성분 (A)의 유기폴리실록산을 나타내는 상기 화학식 1 에서,Z1이 -R4-로 표시되는 2가 유기기를 나타내는 경우, Z2기는 산소 원자를 나타내고,Z1이 -R4O- 또는 -R4(CH3)2SiO-로 표시되는 2가기를 나타내는 경우, Z2기는 탄소수 1 내지 10의 동일하거나 상이한 2가 유기기를 나타내는 것인 조성물.
- 제1항에 있어서, 성분 (A)의 상기 유기폴리실록산이 하기 화학식으로 표시되는 구조를 갖는 것인 조성물.
또는
- 제1항에 있어서, 상기 성분 (A)의 유기폴리실록산이 모든 실록산 단위 전체에 대해 평균 0.1 mol％ 이상의 SiO2 단위를 함유하는 조성물.
- 제4항에 있어서, 상기 성분 (A)의 유기폴리실록산이 모든 실록산 단위 전체에 대해 평균 0.1 내지 50 mol％의 SiO2 단위를 함유하는 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 성분 (A)의 유기폴리실록산이 하기 화학식 2로 표시되는 구조의 형태로 상기 화학식 1로 표시되는 구조를 함유하는 조성물.<화학식 2>
상기 식 중, m, R1, R2, R3 및 R4는 제1항에서 정의한 바와 같다. - 제1항에 있어서, 상기 성분 (A)의 유기폴리실록산이 하기 성분, 또는 하기 성분의 2종 이상의 조합을 포함하는 조성물.(a-1):
(a-2):
(a-3): 하기 MA 단위, M 단위 및 Q 단위를, 단위 간 몰 비율 MA:M:Q = 1:4:6으로 포함하는, 폴리스티렌 당량 중량 평균 분자량이 5,000인 유기폴리실록산- MA 단위:
- M 단위:
- Q 단위:
(a-4): 하기 MA-D 단위, D 단위 및 T 단위를, 단위 간 몰 비율 MA-D:D:T = 2:6:7로 포함하는, 폴리스티렌 당량 중량 평균 분자량이 3,500인 유기폴리실록산- MA-D 단위:
- D 단위:
- T 단위:
- 제1항에 있어서, 성분 (B)의 광중합 개시제가 디에톡시아세토페논, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 디에톡시크산톤, 클로로티오크산톤, 아조비스이소부티로니트릴, N-메틸디에탄올아민벤조페논, 또는 이의 2종 이상의 조합인 조성물.
- 제1항에 있어서, 성분 (B)의 광중합 개시제가 디에톡시아세토페논인 조성물.
- 제1항에 있어서, 성분 (A) 100 질량부 당 성분 (B)의 광중합 개시제의 양이 0.1 내지 5 질량부인 조성물.
- 제1항에 따른 조성물을 자외선으로 조사하여 경화시켜 수득된 경화품.
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