KR20070068464A - 반응성 염료, 이의 제조방법 및 이의 용도 - Google Patents

반응성 염료, 이의 제조방법 및 이의 용도 Download PDF

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KR20070068464A
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훈츠만 어드밴스트 머티리얼스(스위처랜드) 게엠베하
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Abstract

화학식 1의 반응성 염료는 합성 폴리아미드 섬유 재료를 염색하는 데 특히 적합하여, 우수한 습윤 견뢰도 특성을 갖는 염색물 또는 프린팅물을 수득된다.
화학식 1
Figure 112007036813866-PCT00050
위의 화학식 1에서,
R1는 수소 또는 치환되지 않거나 치환된 C1-C4알킬이고,
(R2)s는 할로겐, 니트로, 치환되지 않거나 할로 치환된 C1-C4알킬, C2-C4알카노일아미노, C1-C4알킬설포닐, 카바모일, 설파모일 및 설포 그룹으로부터 선택된 동일거나 상이한 치환체이며,
Me는 크롬, 코발트 또는 철이고,
X는 염소이며,
T는 화학식 2a 내지 화학식 2f의 섬유-반응성 라디칼이고,
s는 0, 1, 2 또는 3이며,
m, n, r 및 q는 각각 독립적으로 0 또는 1이다.
화학식 2a
Figure 112007036813866-PCT00051
화학식 2b
Figure 112007036813866-PCT00052
화학식 2c
Figure 112007036813866-PCT00053
화학식 2d
Figure 112007036813866-PCT00054
화학식 2e
Figure 112007036813866-PCT00055
화학식 2f
Figure 112007036813866-PCT00056
위의 화학식 2a 내지 2f에서,
(R3)O-2는 할로겐, C1-C4알킬, C1-C4알콕시 및 설포 그룹으로부터 선택된 0 내지 2개의 동일하거나 상이한 치환체를 나타내며,
Z는 비닐 또는 -CH2-CH2-U 라디칼(여기서, U는 알칼리성 조건하에서 제거가능한 그룹이다)이며,
Q는 -CH(Hal)-CH2-Hal 또는 -C(Hal)=CH2 그룹(여기서, Hal은 할로겐이다)이다.
반응성 염료, 습윤 견뢰도, 착물 염료, 프린팅, 잉크젯 프린팅법.

Description

반응성 염료, 이의 제조방법 및 이의 용도{Reactive dyes, their preparation and their use}
본 발명은 신규한 반응성 염료, 이의 제조방법 및 직물 재료의 염색 또는 날염을 위한 이의 용도에 관한 것이다.
반응성 염료를 사용한 염색의 실행은 최근 염색물의 품질 및 염색 공정의 경제적 효율성에 대한 높은 요구가 있어왔다. 그 결과, 개선된 특성을 갖는 신규한 반응성 염료에 대한 필요성이, 특히 이들의 용도에 대하여 지속적으로 있어왔다.
최근, 염색은 충분한 착색성과 비고착 염료의 제거 용이성을 갖는 반응성 염료를 필요로 한다. 이들은 또한 우수한 색상 선명도 및 높은 반응성을 가져야 하며, 특히 높은 고착도를 갖는 염색물을 제공하여야 한다. 공지된 염료는 모든 특성에서 이러한 요구를 만족시키지 못한다.
폴리아미드는 산성 염료를 사용해야만 짙은 흑색으로 염색할 수 있지만, 이러한 염색은 승온에서의 습윤 견뢰도가 좋지 않다. 습윤 견뢰도가 동시적이고 영구적인 짙은 염색물은 반응성 염료를 사용해야만 수득할 수 있다.
따라서, 본 발명의 근본적인 문제는, 특히 염료가 합성 폴리아미드 섬유 재료를 염색하는 데 사용되는 경우, 섬유 재료의 염색 및 날염용으로, 위에서 확인한 품질을 우수한 정도로 갖는 신규한 개선된 반응성 염료를 밝혀내는 것이다. 신규한 염료는 높은 고착률과 높은 섬유-염료 결합 안정성으로 구별되어야 한다. 염료는, 특히 모든 면에서 우수한 견뢰도 특성(예: 일광 견뢰도 및 습윤 견뢰도)을 갖는 염색물을 제공해야 한다.
제기된 문제점은 아래에 명백히 나타낸 신규한 염료에 의해 대부분 해결되는 것으로 밝혀졌다.
따라서, 본 발명은 화학식 1의 반응성 염료에 관한 것이다.
Figure 112007036813866-PCT00001
위의 화학식 1에서,
R1은 수소 또는 치환되지 않거나 치환된 C1-C4알킬이고,
(R2)s는 할로겐, 니트로, 치환되지 않거나 할로 치환된 C1-C4알킬, C2-C4알카노일아미노, C1-C4알킬설포닐, 카바모일, 설파모일 및 설포 그룹으로부터 선택된 동일거나 상이한 s개의 치환체이며,
Me는 크롬, 코발트 또는 철이고,
X는 염소이며,
T는 화학식 2a 내지 화학식 2f의 섬유-반응성 라디칼이고,
s는 0, 1, 2 또는 3이며,
m, n, r 및 q는 각각 독립적으로 0 또는 1이다.
Figure 112007036813866-PCT00002
Figure 112007036813866-PCT00003
Figure 112007036813866-PCT00004
Figure 112007036813866-PCT00005
Figure 112007036813866-PCT00006
Figure 112007036813866-PCT00007
위의 화학식 2a 내지 2f에서,
(R3)O-2는 할로겐, C1-C4알킬, C1-C4알콕시 및 설포 그룹으로부터 선택된 0 내지 2개의 동일하거나 상이한 치환체를 나타내며,
Z는 비닐 또는 -CH2-CH2-U 라디칼(여기서, U는 알칼리성 조건하에서 제거가능한 그룹이다)이며,
Q는 -CH(Hal)-CH2-Hal 또는 -C(Hal)=CH2 그룹(여기서, Hal은 할로겐이다)이다.
화학식 2c의 라디칼에서, Me는 메틸 라디칼이며 Et는 에틸 라디칼이다. 당해 라디칼은, 수소 이외에, 질소원자에서 치환체로서 적합하다.
R1 및 R3으로서 C1-C4알킬이 고려되는데, 각각 독립적으로, 예를 들면, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, n-부틸, 2급-부틸, 3급-부틸 또는 이소부틸, 바람직하게는 메틸 또는 에틸, 특히 메틸이 고려된다. R1의 경우, 언급된 알킬 라디칼은 치환되지 않거나, 예를 들면, 하이드록시, 설포, 설페이토, 시아노, 카복시, C1-C4알콕시 또는 페닐, 바람직하게는 하이드록시, 설페이토, C1-C4알콕시 또는 페닐에 의해 치환된다. R1로서, 상응하는 비치환된 라디칼이 바람직하다.
R2로서, C1-C4알킬이 고려되는데, 예를 들면, 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 2급-부틸, 3급-부틸 또는 이소부틸, 바람직하게는 메틸 또는 에틸, 특히 메틸이다. 언급한 알킬 라디칼은 치환되지 않거나, 할로겐, 예를 들면, 불소, 염소 또는 브롬, 바람직하게는 불소 또는 염소에 의해 일치환 또는 다치환된다.
R3으로서, C1-C4알콕시가 고려되는데, 예를 들면, 메톡시, 에톡시, n-프록시, 이소프록시, n-부톡시 또는 이소부톡시, 바람직하게는 메톡시 또는 에톡시 및 특히 메톡시이다.
R2 및 R3으로서, 할로겐이 고려되는데, 각각 독립적으로, 예를 들면, 불소, 염소 또는 브롬, 바람직하게는 염소이다.
R2로서, C2-C4알카노일아미노가 고려되는데, 예를 들면, 아세틸아미노 또는 프로피오닐아미노, 바람직하게는 아세틸아미노이다.
R2로서, C1-C4알킬설포닐이 고려되는데, 예를 들면, 메틸설포닐, 에틸설포닐, n-프로필설포닐, 이소프로필설포닐 또는 n-부틸설포닐, 바람직하게는 메틸설포닐 또는 에틸설포닐이다.
카바모일을 나타내는 R2는 화학식 -CONH2의 라디칼에 상응한다.
설파모일을 나타내는 R2는 화학식 -SO2NH2의 라디칼에 상응한다.
R1은 바람직하게는 수소이다.
바람직하게는, (R2)s는 할로겐, 니트로, C2-C4알카노일아미노 및 설포, 특히 니트로 및 설포, 보다 특히 니트로 그룹으로부터 선택된 동일거나 상이한 s개의 치환체를 나타낸다.
바람직하게는, (R3)o-2는 C1-C4알킬, C1-C4알콕시 및 설포, 특히 메틸, 메톡시 및 설포 그룹으로부터 선택된 0 내지 2개의 동일하거나 상이한 치환체를 나타낸다.
R3은 특히 바람직하게는 수소이다.
T는 바람직하게는 화학식 2c, 2d, 2e 또는 2f의 라디칼, 특히 화학식 2c 또는 2d의 라디칼, 보다 특히 화학식 2c의 라디칼이다.
화학식 2f의 섬유-반응성 라디칼에서의 Hal은 바람직하게는 염소 또는 브롬, 특히 브롬이다.
U는 이탈 그룹으로서, 예를 들면, -Cl, -Br, -F, -OSO3H, -SSO3H, -OCO-CH3, -OPO3H2, -OCO-C6H5, -OSO2-C1-C4알킬 또는 -OSO2-N(C1-C4알킬)2이 고려된다. 바람직하게는, U는 화학식 -Cl, -OSO3H, -SSO3H, -OCO-CH3, -OCO-C6H5 또는 -OPO3H2, 특히 -Cl 또는 -OSO3H의 그룹이다.
따라서, 적합한 라디칼 Z의 예는 비닐, β-브로모- 또는 β-클로로-에틸, β-아세톡시에틸, β-벤조일옥시에틸, β-포스페이토에틸, β-설페이토에틸 및 β-티오설페이토에틸이다. Z는 바람직하게는 비닐, β-클로로에틸 또는 β-설페이토에틸, 특히 비닐이다.
s는 바람직하게는 1, 2 또는 3, 특히 1 또는 2, 보다 특히 1이다.
m은 바람직하게는 1이다.
n은 바람직하게는 0이다.
q는 바람직하게는 0이다.
r은 바람직하게는 1이다.
Me는 바람직하게는 크롬이다.
화학식 2c의 라디칼은 바람직하게는 화학식 2c' 또는 화학식 2c"의 라디칼이다.
[화학식 2c']
Figure 112007036813866-PCT00008
[화학식 2c"]
Figure 112007036813866-PCT00009
위의 화학식 2c' 및 2c"에서,
Z는 위에서 정의한 바와 같고, 위에서 정의한 바와 같은 바람직한 의미를 갖는다.
화학식 1a의 반응성 염료가 바람직하다.
화학식 1a
Figure 112007036813866-PCT00010
위의 화학식 1a에서,
R1, R2, X, T 및 s는 각각 위에서 정의한 바와 같고, 위에서 정의한 바와 같은 바람직한 의미를 가지고,
특히 R1은 수소이며,
R2는 니트로이고,
X는 염소이며,
T는 상기 화학식 2c, 특히 화학식 2c' 또는 화학식 2c"의 라디칼이고,
Z는 비닐, β-설페이토에틸 또는 β-클로로에틸, 특히 비닐이며,
s는 1 또는 2, 특히 1이다.
본 발명에 따르는 염료는,
적합한 크롬, 코발트 또는 철 화합물을 사용하여 화학식 3의 화합물 및 화학식 4의 화합물로부터 화학식 5의 1:2 금속 착물 염료를 제조하는 단계(i),
제1 축합 단계에서, 단계(i)에 따라 수득한 화학식 5의 1:2 금속 착물 염료 를 화학식 6의 시아누르산 할라이드와 축합시키는 단계(ii) 및
제2 축합 단계에서, 단계(ii)에 따라 수득한 화학식 7의 제1 축합 생성물을 화학식 8의 화합물과 축합시키는 단계(iii) 또는
단계(i)에 따라 수득한 화학식 5의 1:2 금속 착물 염료를 화학식 9의 화합물로 축합시키는 단계(iv)에 의해 제조된다.
Figure 112007036813866-PCT00011
Figure 112007036813866-PCT00012
Figure 112007036813866-PCT00013
Figure 112007036813866-PCT00014
Figure 112007036813866-PCT00015
T-H
Figure 112007036813866-PCT00016
위의 화학식 3 내지 화학식 9에서,
R1, R2, Me, X, T, m, n, r, s 및 q는 각각 위에서 정의한 바와 같고, 위에서 정의한 바와 같은 바람직한 의미를 갖는다.
화학식 6의 적합한 시아누르산 할라이드는 시아누르산 클로라이드이다.
화학식 9의 화합물은 공지되어 있거나, 공지된 방법과 유사하게 제조될 수 있는데, 예를 들면, 화학식 6의 시아누르산 할라이드를 화학식 8의 화합물(여기서, T는 위에서 정의한 바와 같고, 위에서 정의한 바와 같은 바람직한 의미를 갖는다)과 축합시킴으로써 제조될 수 있다.
화학식 5의 1:2 크롬 착물 염료는 공지되어 있거나, 공지된 방법과 유사하게 제조될 수 있는데, 예를 들면, 화학식 10의 1:1 크롬 착화합물을 화학식 4의 아조 화합물과 반응시킴으로써 수득할 수 있다.
Figure 112007036813866-PCT00017
위의 화학식 10에서,
r은 위에서 정의한 바와 같고, 위에서 정의한 바와 같은 바람직한 의미를 갖는다.
화학식 10의 1:1 크롬 착화합물과 화학식 4의 아조 화합물의 반응은, 예를 들면, 수성 매질 속에서, 예를 들면, 40 내지 130℃, 특히 70 내지 100℃의 온도에서, 예를 들면, 8 내지 14, 특히 10 내지 13의 pH 값에서 수행된다. 반응은 보다 유리하게는 무기산 중화 또는 알칼리성 매질의 존재하에, 예를 들면, 알칼리 금속 카보네이트, 알칼리 금속 아세테이트 또는 알칼리 금속 하이드록사이드의 존재하에 수행되는데, 바람직한 알칼리 금속은 나트륨이다.
단계(i)에 따른 금속 착물의 제조시, 화학식 5의 1:2 금속 착물 외에, 일반 적으로 화학식 5a의 이의 배위 이성체도 수득된다.
Figure 112007036813866-PCT00018
위의 화학식 5에서,
R1, (R2)s, m, n, r, s 및 q는 각각 위에서 정의한 바와 같다.
본 발명에서 예를 들면, 화학식 1, 1a, 5 및 7의 화학식 형태로 기재된 금속 착물 이외에, 상응하는 배위 이성체를 포함하는 것으로 간주된다.
화학식 3, 4, 8 및 10의 화합물은 공지되어 있거나, 공지된 방법과 유사하게 수득될 수 있다.
예를 들면, 화학식 10의 1:1 크롬 착화합물은 통상의 크롬화 방법에 따라 수득할 수 있는데, 크롬 염을 사용한 반응은, 예를 들면, 수성 매질 속에서, 임의로 압력하에, 예를 들면, 90 내지 130℃의 온도에서 수행될 수 있다. 적합한 크롬염은, 예를 들면, 크롬(III) 아세테이트, 크롬(III) 니트레이트, 크롬(III) 클로라이드, 크롬(III) 살리실레이트 및 크롬(III) 설페이트이다.
화학식 3의 화합물 및 화학식 4의 화합물들은 통상의 디아조화 및 커플링 반 응에 따라 수득할 수 있다. 디아조화는 일반적으로 수성 무기산 용액 속에서, 예를 들면, 0 내지 20℃의 온도에서 아질산의 작용에 의해 수행되고, 커플링 반응은 유리하게는 알칼리 pH 값, 예를 들면, 8 내지 12의 pH 값에서 수행된다.
화학식 3 및 화학식 4의 아조 화합물들의 1:2 코발트 또는 철 착물 염료는 공지되어 있거나, 공지된 방법과 유사하게 수득될 수 있다.
1:2 크롬 또는 1:2 코발트 착물 염료는, 예를 들면, 영국 공개특허공보 제716 753호, 영국 공개특허공보 제719 274호, 영국 공개특허공보 제745 641호 및 영국 공개특허공보 제851 861호에 기재되어 있다. 1:2 철 착물 염료는, 예를 들면, 미국 특허 제5 376 151호에 언급된 공정과 유사하게 수득될 수 있다.
축합 반응은 공지된 방법 그 자체로 수행되는데, 일반적으로 수용액 속에서, 예를 들면, 0 내지 50℃의 온도에서, 예를 들면, 2 내지 10의 pH 값에서 수행된다.
단계(ii)에 따르는 화학식 5의 1:2 금속 착물 염료와 화학식 6의 시아누르산 할라이드의 축합은 바람직하게는 0 내지 5℃의 온도 및 3 내지 6의 pH에서 수행된다. 단계(iii)에 따른 화학식 7의 제1 축합 생성물과 화학식 8의 화합물의 축합은 바람직하게는 0 내지 30℃의 온도 및 4 내지 6의 pH 값에서 수행된다. 단계(iv)에 따른 화학식 5의 1:2 금속 착물 염료와 화학식 9의 화합물의 축합은 바람직하게는 20 내지 50℃의 온도 및 4 내지 6의 pH 값에서 수행된다.
최종 생성물을 임의로 전환 반응시킬 수 있다. 이러한 전환 반응에는, 예를 들면, 묽은 수산화나트륨 용액으로 처리함으로써 비닐화 반응성 그룹 T(Z 또는 Q)의 이의 비닐 형태로의 전환, 예를 들면, β-설페이토에틸설포닐 또는 β-클로로에 틸설포닐 그룹의 비닐설포닐 라디칼로의 전환, 또는 α, β-디할로프로피오닐아미노 그룹의 α-할로아크릴로일아미노 라디칼로의 전환이 있다. 이러한 반응은 그 자체가 공지되어 있다. 전환 반응은 일반적으로 알칼리 매질 속에서, 예를 들면, 20 내지 70℃의 온도에서, 예를 들면, 6 내지 14의 pH 값에서 수행된다.
화학식 1의 반응성 염료는 설포 그룹을 함유하는데, 당해 염료는 각각 유리 설포 산 형태, 바람직하게는 이의 염 형태, 예를 들면, 나트륨, 리튬, 칼륨 또는 암모늄염, 또는 유기 아민염, 예를 들면, 트리에탄올 암모늄염이다.
화학식 1의 반응성 염료는 추가의 첨가제, 예를 들면, 염화나트륨 또는 덱스트린을 포함할 수 있다.
본 발명에 따르는 화학식 1의 반응성 염료는 임의로 추가의 보조제[예: 완충액, 분산액 또는 먼지방지제(anti-dust)]를 포함할 수 있는데, 당해 보조제는 취급 방법을 개선시키거나 저장 안정성을 증가시킨다. 이러한 보조제는 당해 기술분야의 숙련가에게 공지되어 있다.
본 발명에 따르는 반응성 염료는, 예를 들면, 하이드록실 그룹 함유 또는 질소 함유 섬유 재료를 염색하거나 날염하는 데 적합하다. 언급할 수 있는 예에는 실크, 모, 모든 종류의 셀룰로스 섬유 재료 및 폴리우레탄 뿐만 아니라, 폴리아미드 섬유가 있다. 셀룰로스 섬유 재료는, 예를 들면, 천연 셀룰로스 섬유, 예를 들면, 면, 린넨 및 대마, 또한 셀룰로스 및 재생 셀룰로스이다. 본 발명에 따르는 반응성 염료는 혼방 직물, 예를 들면, 폴리에스테르 섬유 또는 폴리아미드 섬유와 면과의 혼방물에 존재하는 하이드록실 그룹 함유 섬유를 염색하거나 날염하는 데 적합하다.
천연 또는 합성 폴리아미드 섬유 재료, 특히 합성 폴리아미드 섬유 재료, 예를 들면, 폴리아미드 6(폴리-ε-카프로락탐), 폴리아미드 6,6(폴리헥사메틸렌아디프산 아미드), 폴리아미드 7, 폴리아미드 6,12(폴리헥사메틸렌도데카노산 아미드), 폴리아미드 11 또는 폴리아미드 12, 폴리아미드 6,6 또는 폴리아미드 6을 갖는 코폴리아미드, 예를 들면, 헥사메틸렌디아민, ε-카프로락탐 및 아디프산의 중합체 및 아디프산, 헥사메틸렌디아민 및 이소프탈산의 중합체 또는 아디프산, 헥사메틸렌디아민 및 2-메틸펜타메틸렌디아민 또는 2-에틸테트라메틸렌디아민의 중합체를 염색하거나 프린팅시키는 것이 바람직하다. 본 발명에 따르는 화학식 1의 반응성 염료는 혼방 직물 또는 합성 폴리아미드 및 모의 사(yarn)를 염색하거나 날염하는 데에도 적합하다.
본 발명에 따르는 공정은 유리하게는 합성 폴리아미드의 마이크로섬유를 염색하거나 프린팅시키는데에도 적합한다. 마이크로섬유는 개개가 1데니어(1.1 dTex) 미만으로 미세한 실(thread)로 이루어진 섬유 재료를 의미하는 것으로 이해된다. 이러한 마이크로섬유는 공지되어 있으며, 일반적으로 용융 방사에 의해 제조된다.
당해 직물 재료는 매우 광범위한 각종 공정 형태, 예를 들면, 섬유, 사, 부직포 또는 편직물 및 카펫트 형태일 수 있다.
화학식 1의 반응성 염료는 통상의 염색 및 날염 방법에 따라 염색하거나 날염하는 데 사용될 수 있다. 물과 염료를 포함하는 것 이외에, 염액 또는 날염호는 추가의 첨가제, 예를 들면, 습윤제, 소포제, 균염제 또는 직물 재료의 특성에 영향을 미치는 제제, 예를 들면, 유연제, 방염성 마무리용 첨가제 또는 방오, 방수 및 발유용 첨가제 및 경수 연화제 및 천연 또는 합성 증점제, 예를 들면, 알기네이트 및 셀룰로스 에테르를 포함할 수 있다.
직조 카펫트 재료의 경우, 치환 날염(displacement printing) 또는 공간 염색과 같은 날염 방법이 중요하다.
특히 흡착법에 따라 수행되고, 카펫트-염색의 경우, 연속 방법에 따라 수행될 수도 있는 염색이 바람직하다.
염색은 바람직하게는 2 내지 7, 특히 2.5 내지 5.5, 보다 특히 3 내지 4.5의 의 pH 값에서 수행된다. 액 비는 광범위한 범위, 예를 들면, 1:5 내지 1:50, 바람직하게는 1:5 내지 1:30 내에서 선택할 수 있다. 염색은 바람직하게는 80 내지 130℃, 특히 85 내지 120℃의 온도에서 수행된다.
화학식 1의 반응성 염료는 모든 특성, 예를 들면, 염소, 마찰, 습윤, 습윤-마찰, 세척, 물, 해수 및 발한에 대한 우수한 고착성 및 우수한 일광 견뢰도를 갖는 균염(level dyeing)을 수득한다. 화학식 1의 반응성 염료는 또한 균일한 색상 빌드-업(build-up), 우수한 친화력, 높은 반응성, 우수한 고착력 및 매우 우수한 빌드-업 능력으로 구별되어진다. 본 발명에 따르는 염료는 용해도가 우수하며, 다른 염료들과 쉽게 결합할 수 있다.
본 발명에 따르는 화학식 1의 염료는 기록 시스템에 사용하기 위한 착색제로서도 적합하다. 이러한 기록 시스템은, 예를 들면, 시판중인 용지 또는 직물 프린 팅용 잉크-젯 프린터 또는 필기 도구(예: 만년필 또는 볼펜), 특히 잉크-젯 프린터이다. 이러한 목적을 위해, 본 발명에 따르는 염료는 무엇보다도 기록 시스템에 사용하기에 적합한 형태여야 한다. 적합한 형태에는, 예를 들면, 본 발명에 따르는 염료를 착색제로서 포함하는 수성 잉크가 있다. 잉크는 각 성분을 적정량의 물과 혼합함으로써 통상적인 방식으로 제조할 수 있다.
기재로서 고려할 수 있는 것으로는, 상기한 하이드록실 그룹 함유 또는 질소 함유 섬유 재료, 특히 천연 또는 합성 폴리아미드 섬유 재료가 있다. 섬유 재료는 바람직하게는 직물 재료이다.
기재로서 또한 고려할 수 있는 것으로는, 용지 및 플라스틱 필름이 있다.
언급할 수 있는 용지의 예로는, 시판중인 잉크-젯 용지, 사진 용지(photo paper), 광택지(glpssy paper), 플라스틱 코팅지, 예를 들면, 엡손 잉크젯 용지, 엡손 사진 용지, 엡손 광택지, 엡손 광택 필름, HP 특수 잉크젯 용지, 엔카드 사진용 광택지 및 릴포드 사진용지가 있다. 플라스틱 필름은, 예를 들면, 투명하거나 흐릿하거나 불투명하다. 적합한 플라스틱 필름은, 예를 들면, 3M 투명 필름이다.
용도, 예를 들면, 직물 날염 또는 종이 프린팅의 특성에 따라, 예를 들면, 잉크의 점도 또는 다른 물성, 특히 해당하는 기재의 친화력에 영향을 미치는 특성을 적당하게 맞출 필요가 있을 수 있다.
수성 잉크에서 사용되는 염료는 염 함량이 낮은 것이 바람직하며, 즉 총 염 함량은 염료의 중량을 기준으로 하여, 0.5중량% 미만이어야 한다. 이들의 제조 결과 및/또는 희석액의 후속 첨가의 결과로서 염 함량이 비교적 높은 염료는, 예를 들면, 초미세 여과법, 역삼투법 또는 투석과 같은 막 분리 공정에 의해 탈염시킬 수 있다.
잉크의 총 염료 함량은 바람직하게는 잉크의 총 중량을 기준으로 하여, 1 내지 35중량%, 특히 1 내지 30중량%, 바람직하게는 1 내지 20중량%이다. 이러한 경우, 바람직한 하한은 1.5중량%, 바람직하게는 2중량%, 특히 3중량%이다.
잉크는 수혼화성 유기 용매, 예를 들면 C1-C4알콜, 예를 들면, 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, n-부탄올, 2급-부탄올, 3급-부탄올 또는 이소-부탄올; 아미드, 예를 들면, 디메틸포름아미드 또는 디메틸아세트아미드; 케톤 또는 케톤 알콜, 예를 들면, 아세톤 또는 디아세톤 알콜; 에테르, 예를 들면, 테트라하이드로푸란 또는 디옥산; 질소 함유 헤테로사이클릭 화합물, 예를 들면, N-메틸-2-피롤리돈 또는 1,3-디메틸-2-이미다졸리돈, 폴리알킬렌 글리콜, 예를 들면, 폴리에틸렌 글리콜 또는 폴리프로필렌 글리콜; C2-C6알킬렌 글리콜 및 티오글리콜, 예를 들면, 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 부틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 티오디글리콜, 헥실렌 글리콜 및 디에틸렌 글리콜; 기타 폴리올, 예를 들면, 글리세롤 또는 1,2,6-헥산트리올; 및 다가 알콜의 C1-C4알킬 에테르, 예를 들면, 2-메톡시-에탄올, 2-(2-메톡시에톡시)에탄올, 2-(2-에톡시에톡시)에탄올, 2-[2-(2-메톡시에톡시)에톡시]에탄올 또는 2-[2-(2-에톡시에톡시)에톡시]에탄올; 바람직하게는 N-메틸-2-피롤리돈, 디에틸렌 글리콜, 글리세롤 또는 특히, 1,2-프로필렌 글리콜을, 잉크의 총 중량을 기준으로 하여, 일반적으로 2 내지 30중량%, 특히 5 내지 30중량%, 바람 직하게는 10 내지 25중량%의 양으로 포함할 수 있다.
또한, 잉크는 가용화제, 예를 들면, ε-카프로락탐을 포함할 수도 있다.
잉크는 특히 점도 조정을 위해 천연 또는 합성 기원의 증점제를 포함할 수 있다.
언급할 수 있는 증점제의 예로는 시판중인 알긴산 증점제, 전분 에테르 또는 로커스트 콩가루 에테르(locust bean floiur ether), 특히 알긴산나트륨 자체 또는 이의 개질된 셀룰로스(예: 메틸 셀룰로스, 에틸 셀룰로스, 카복시메틸 셀룰로스, 하이드록시에틸 셀룰로스, 메틸 하이드록시에틸 셀룰로스, 하이드록시프로필 셀룰로스 또는 하이드록시프로필 메틸 셀룰로스, 특히 바람직하게는 20 내지 25중량%의 카복시메틸 셀룰로스)와의 혼합물을 포함할 수 있다. 언급할 수 있는 합성 증점제로는, 예를 들면, 폴리(메트)아크릴산 또는 폴리(메트)아크릴아미드계 증점제 및 분자량이, 예를 들면, 2,000 내지 20,000인 폴리알킬렌 글리콜(예: 폴리에틸렌 글리콜 또는 폴리프로필렌 글리콜 또는 에틸렌 옥사이드의 폴리알킬렌 글리콜과 프로필렌 옥사이드의 폴리알킬렌 글리콜과의 혼합물)계 증점제가 있다.
잉크는 이러한 증점제를, 예를 들면, 잉크의 총 중량을 기준으로 하여, 0.01 내지 2중량%, 특히 0.01 내지 1중량%, 바람직하게는 0.01 내지 0.5중량%의 양으로 포함할 수 있다.
잉크는 완충 물질, 예를 들면, 붕사, 붕산, 인산염, 폴리인산염 또는 구연산염을 포함할 수도 있다. 언급할 수 있는 예는, 붕사, 붕산나트륨, 사붕산나트륨, 인산이수소나트륨, 인산수소이나트륨, 나트륨 트리폴리인산염, 나트륨 펜타폴리인 산염 및 시트르산나트륨을 포함한다. 이들은, 특히 예를 들면, 4 내지 9, 특히 5 내지 8.5의 pH 값을 얻기 위해, 잉크의 총 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 3중량%, 바람직하게는 0.1 내지 1중량%의 양으로 사용된다.
추가의 첨가제로서, 잉크는 계면활성제 또는 습윤제를 포함할 수 있다.
적합한 계면활성제는 시판중인 음이온성 또는 비이온성 계면활성제를 포함한다. 본 발명에 따르는 잉크의 습윤제로서, 예를 들면, 바람직하게는 0.1 내지 30중량%, 특히 2 내지 30중량%의 양으로 우레아 또는 락트산나트륨(유리하게는, 50% 내지 60% 수용액 형태)과 글리세롤 및/또는 프로필렌 글리콜과의 혼합물을 고려할 수 있다.
잉크의 점도가 1 내지 40mPaㆍs, 특히 1 내지 20mPaㆍs, 보다 특히 1 내지 10mPaㆍs인 것이 바람직하다.
또한, 잉크는 통상의 첨가제, 예를 들면, 소포제 또는 특히 진균 및/또는 세균의 성장 억제용 방부제를 포함할 수 있다. 이러한 첨가제는 일반적으로 잉크의 총 중량을 기준으로 하여, 0.01 내지 1중량%의 양으로 사용된다.
방부제로서 포름알데히드 공여제, 예를 들면, 파라포름알데히드 및 트리옥산, 특히 약 30 내지 40중량% 포름알데히드 수용액, 이미다졸 화합물, 예를 들면, 2-(4-티아졸릴)-벤즈이미다졸, 티아졸 화합물, 예를 들면, 1,2-벤즈이소티아졸린-3-온 또는 2-n-옥틸-이소티아졸린-3-온, 요오드 화합물, 니트릴, 페놀, 할로알킬티오 화합물 또는 피리딘 유도체, 특히 1,2-벤즈이소티아졸린-3-온 또는 2-n-옥틸-이소티아졸린-3-온이 있다. 적합한 방부제는, 예를 들면, 디프로필렌 글리콜(ProxelR GXL) 중의 1,2-벤즈이소티아졸린-3-온 20중량% 용액이다.
잉크는 추가의 첨가제, 예를 들면, 불화 중합체 또는 텔로머, 예를 들면, 폴리에톡시퍼플루오로알콜(ForafacR 또는 ZonylR 제품)을 잉크의 총 중량을 기준으로 하여, 0.01 내지 1중량%의 양으로 포함할 수도 있다.
잉크젯 프린팅법의 경우, 각각의 잉크 소적은 통제하에 노즐을 통해 기재에 분무된다. 주로 연속 잉크젯 방법 및 드롭 온 디맨드 방법(drop-on-demand method)이 이러한 목적에 사용된다. 연속 잉크젯 방법의 경우, 소적은 연속적으로 생성되며, 프린팅 조작에 불필요한 소적은 저장소로 배출되어 재활용된다. 이와는 달리 드롭 온 디맨드 방법의 경우, 소적은 프린팅에 사용하고자 하는 만큼만 생성되는데, 즉 소적은 프린팅 조작에 필요한 경우에만 생성된다. 소적의 제조는, 예를 들면, 피에조 잉크젯 헤드 또는 열에너지[버블젯(bubble jet)]에 의한 방법에 의해 영향을 받는다. 피에조 잉크젯 헤드를 사용하여 프린팅하고 연속 잉크젯 방법으로 프린팅하는 것이 바람직하다.
따라서, 본 발명은 본 발명에 따르는 화학식 1의 염료를 포함하는 수성 잉크 및 각종 기재, 특히 직물 재료의 프린팅을 위한 잉크젯 프린팅법에서의 상기 염료의 용도에 관한 것이며, 여기서 염료, 잉크 및 기재에 대해서는 상기한 정의 및 바람직한 정의를 그대로 적용한다.
다음 실시예들은 본 발명을 설명하기 위한 것이다. 달리 언급하지 않는 한, 온도는 섭씨온도이며, 부는 중량부이고 백분율은 중량%와 관련된다. 중량부는 kg/ℓ 비로의 용적부이다.
실시예 1:
(a) 유리산 형태의 화학식
Figure 112007036813866-PCT00019
에 상응하는 화합물 26.4부를 물 100부 내로 교반한다. 슬러리를 얼음 약 50부를 첨가하여 0℃로 냉각시키고, 수산화나트륨 수용액을 사용하여 pH 4로 조절하고, 얼음을 사용하여 냉각시킴으로써 0℃로 온도를 유지한다. 수득한 용액을 물 20부 중의 염화시아누르산 18.2부 슬러리, 얼음 약 80부 및 Na2HPO4ㆍ12H2O 0.2부 내로 서서히 공급하고, pH는 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 3으로 유지하고, 얼음을 첨가하여 온도를 0℃로 유지한다. 유리 산 형태로 나타낸 화학식
Figure 112007036813866-PCT00020
의 화합물을 포함하는 현탁액을 수득한다.
(b) 유리 산 형태의 화학식
Figure 112007036813866-PCT00021
에 상응하는 화합물 43부를 물 550부, 포름산 15부 및 크롬(III) 아세테이트 6.8부와 함께 슬러리로 만들고, 오토클레이브 속에서 100 내지 105℃의 온도에서 20시간 동안 가열한다. 압력은 약 3bar이다. 실온으로 냉각시킨 후에, 침전된 생성물을 여과 제거하고, 물로 세 척하고, 진공하에 50℃의 온도에서 건조시킨다. 유리 산 형태의 화학식
Figure 112007036813866-PCT00022
에 상응하는 1:1 착화합물을 수득한다.
(c) 유리산 형태의 화학식
Figure 112007036813866-PCT00023
에 상응하고 디아조화 4-니트로-2-아미노페놀 및 2-아미노-8-나프톨-6-설폰산으로부터의 통상의 공정에 따라 제조된 모노아조 염료 38.8부를, 균일해 질 때까지 물 600부 중의 (b)에 따라 수득한 크롬 착물 47부와 함께 교반한 다음, 70℃로 가열한다. pH 값을 8.0 내지 8.5로 정하고, 2N 수산화나트륨 용액을 가하여 유지한다. 이후, 생성된 투명한 용액에서 2개의 출발 화합물이 검출되지 않을 때까지 상기 온도에서 교반을 수행한다. 유리 산 형태의 화학식
Figure 112007036813866-PCT00024
및
Figure 112007036813866-PCT00025
에 상응하는 이성체 배위 화합물을 수득한다.
(d) 투명한 용액을 50℃로 냉각시키고, 수성 염산을 첨가하여 pH를 약 5의 값으로 조절한 다음, (a)에 따라 수득한 현탁액을 서서히 가하고, pH를 수산화나트륨 수용액을 가하여 5의 값에서 유지한다. 반응을 완결시키기 위해, 추가의 2시간 동안 교반을 수행하고, pH 6 내지 7에서의 투석에 의해 용액에서 염이 유리되고, 증발에 의해 농축 건조된다. 유리 산 형태의 화학식
Figure 112007036813866-PCT00026
(101)의 화합물 및 이의 배위 이성체(λ최대 = 570nm)에 상응하고, 모든 면에서 매우 우수한 견뢰도 특성을 갖는 아미노 그룹 함유 섬유에 짙은 검정색으로 염색 또는 프린팅되는 염료를 수득한다.
실시예 2:
실시예 1에 따르는 염료 수용액을 수산화나트륨을 사용하여 실온에서 pH 값 11에서 약 2시간 동안 처리한다. 투석에 의해 이와 같이 수득한 용액에서 염이 유리되고, 증발에 의해 농축된다. 유리산 형태의 화학식
Figure 112007036813866-PCT00027
(102)의 화합물 및 이의 배위 이성체(λ최대 = 572nm)에 상응하는 염료를 수득한다. 화학식 102의 염료는, 후고착 없이도, 특히 유럽 특허원 제03 104 150.2호에 기재된 염색 공정이 사용되는 경우, 아미노 그룹 함유 섬유를 매우 우수한 영구 습윤 견뢰도 특성을 갖는 짙은 흑색으로 염색시킨다.
실시예 3 내지 6:
화학식
Figure 112007036813866-PCT00028
(103) 및
Figure 112007036813866-PCT00029
(104)의 염료 뿐만 아니라, 상응하는 아크릴화 및 비닐화 형태를 실시예 1 및 2에 기재된 유사한 방식으로 수득할 수 있다(화학식 형태로 기재된 화학식 103 및 104의 염료 이외에, 상응하는 배위 이성체를 포함하는 것으로 간주된다).
실시예 7
(a) 0 내지 2℃의 온도에서 10 내지 15분 동안, 염화시아누르산 4.7부를 얼음 47부, 물 23부 및 Na2HPO4 ×12H2O 0.025부에 현탁시킨다. 이후, 0 내지 2℃의 온도에서 45분 동안, 실시예 1(c)에 따라 수득한 염료 22.3부 용액을 공급하고, 온도는 얼음을 가하여 0 내지 2℃에서 유지하며, pH 값은 2N 수산화나트륨 용액을 가하여 5 내지 6으로 유지한다. 이후, 0 내지 2℃에서 40분 동안 교반을 수행하고, pH를 유지한다. 유리 산 형태의 화학식
Figure 112007036813866-PCT00030
의 화합물 및 이 의 배위 이성체에 상응하는 화합물을 수득한다.
(b) 유리 산 형태의 화학식
Figure 112007036813866-PCT00031
에 상응하는 화합물 8.2부를 물 140부에 용해시킨다. 이와 같이 수득한 용액을 (a)에 따라 수득한 용액에 45분 동안 적가한다. 첨가 동안, pH 값을 2N 수산화나트륨 용액을 사용하여 6으로 유지한다. 이후, pH 6에서 밤새 교반을 수행한다. 투석에 의해 반응 용액에서 염이 유리되고, 증발에 의해 농축된다. 유리산 형태의 화학식
Figure 112007036813866-PCT00032
(105)의 화합물 및 이의 배위 이성체(λ최대 = 572nm)에 상응하고, 매우 우수한 습윤 견뢰도 특성을 갖는 아미노 그룹 함유 섬유에 짙은 검정색으로 염색 또는 프린팅되는 염료를 수득한다.
실시예 8:
실시예 7에 따르는 염료 수용액을 수산화나트륨을 사용하여 실온에서 pH 값 11에서 약 2시간 동안 처리한다. 투석에 의해 이와 같이 수득한 용액에서 염이 유리되고, 증발에 의해 농축된다. 유리산 형태의 화학식
Figure 112007036813866-PCT00033
(106)의 화합물 및 이의 배위 이성체(λ최대 = 573nm)에 상응하는 염료를 수득한다. 화학식 106의 염료는, 후고착 없이도, 특히 유럽 특허원 제03 104 150.2호에 기재된 염색 공정이 사용되는 경우, 아미노 그룹 함유 섬유를 매우 우수한 영구 습윤 견뢰도 특성을 갖는 짙은 흑색으로 염색시킨다.
실시예 9 내지 12:
화학식
Figure 112007036813866-PCT00034
(107) 및
Figure 112007036813866-PCT00035
(108)의 염료 뿐만 아니라, 상응하는 아크릴화 및 비닐화 형태를 실시예 7 및 8에 기재된 유사한 방식으로 수득할 수 있다(화학식 형태로 기재된 화학식 107 및 108의 염료 이외에, 상응하는 배위 이성체를 포함하는 것으로 간주된다).
염색 공정 1:
폴리아미드 6,6 섬유 재료(Helanca tricot) 10부를 아세트산을 사용하여 pH 3으로 조절한 수성액 500부에 염색시킨다. 실시예 8에 따르는 염료의 비율은 섬유 중량을 기준으로 하여 2%이다. 98℃의 온도에서의 염색 시간은 30 내지 90분이다. 이후, 염색된 섬유 재료를 제거하고, 물로 세정한 다음, pH 10 내지 11.5 및 70 내지 90℃에서 20 내지 30분 동안 세탁 소다에서 비고착된 염료를 유리시킨다. 물로 다시 세정한 후에, 아세트산 욕에서 pH 4로 산화시키고, 섬유 재료를 건조시킨다. 우수하지 않은 습윤 견뢰도 특성을 갖는 짙은 흑색 염색물이 수득된다.
염색 공정 2:
폴리아미드 미세섬유 72%와 엘라스탄 28%로 이루어진 혼방 섬유 70g을 포름 산 3g, 습윤제 0.4g 및 균염제 0.7g을 함유하는 염액 1.5ℓ를 사용하여 40℃에서 10분 동안 염색 장치에서 처리한다. 염액의 pH는 2.9이다. 이후, 이전에 소량의 물에 용해시킨 실시예 2에 따르는 염료 3.8g을 가한다. 염색될 물질을 염색액 속에서 40℃에서 5분 동안 처리한 다음, 100℃로 가열하고, 이 온도에서 20분 동안 염색시킨다. 이후, 염화칼슘 14g을 가한 다음, 40분 동안 염색을 수행한다. 염색 후에, 물질을 1,6-헥사메틸렌디아민 2g을 함유하는 1.5ℓ들이 후처리 욕을 사용하여 70 내지 90℃에서 20분 동안 처리한다. 이후, 물질을 세정하고, 통상의 방식으로 마무리한다. 매우 우수한 견뢰도 특성을 갖는 짙은 수준의 염색물을 수득한다.
추가의 견뢰도 특성을 개선시키기 위해, 통상의 후고착 단계 또는 알칼리 후처리를 추가할 수 있다. 알칼리 후처리 동안, 소다 2g/ℓ를 함유하고 pH가 9.2인 신선한 욕 속에서 60 내지 80℃에서 20분 동안 염색 처리한다.
염색 공정 3:
염욕 1000부당 실시예 2에 따르는 염료 3부 및 시판중인 증점제 1부, 비이온성 습윤제 1부 및 염료 욕을 pH 5.0으로 만들기 위해 필요한 양의 시트르산을 함유하는 염욕은 폴리아미드 6,6 직조 카펫트 물질을 연속 염색시키는데 사용된다. 이후, 직조 카펫트 물질을 100℃에서 5분 동안 증기 고착시키고, 세척한 다음, 통상의 방식으로 건조시킨다. 직조 카펫트 물질은 우수한 견뢰도 특성을 갖는 균일한 짙은 흑색 염색으로 구별된다.
염색 공정 4:
편직용 소모사 10부를 30℃에서 물 100부당 실시예 2에 따르는 염료 1.6부, 황산나트륨 0.5부 및 아세트산나트륨 2부를 함유하는 염욕 내로 교반시키고, 아세트산(80%)을 사용하여 pH 값 4.5로 조절한다. 염액을 45분 동안 비등시키고, 추가의 45 내지 70분 동안 비점 온도에서 유지한다. 이후, 염색 물질을 제거하고, 냉수로 철저히 세정한 다음, 건조시킨다. 매우 우수한 견뢰도 특성을 갖는 짙은 흑색 염색물을 수득한다.
날염 공정 I
(a): 머어서 가공 면 주자직물을 탄산나트륨 30g/ℓ및 우레아 50g/ℓ(즉석 염액 70%)를 함유하는 염액으로 패드-염색하고, 건조시킨다.
(b) 드롭 온 디맨드 잉크젯 헤드(버블 젯)를 사용하여, 단계(a)에 따라 미리처리한 면 주자직물을
- 실시예 2에 따르는 화학식 102의 반응성 염료 15중량%,
- 1,2-프로필렌 글리콜 15중량% 및
- 물 70중량%를 함유하는 수성 잉크로 날염한다.
날염물을 완전히 건조시키고, 포화 스팀으로 102℃에서 8분 동안 고착시키고, 냉수로 세정한 다음, 비등시 세척 제거하고, 헹군 다음, 건조시킨다.

Claims (9)

  1. 화학식 1의 반응성 염료.
    화학식 1
    Figure 112007036813866-PCT00036
    위의 화학식 1에서,
    R1은 수소 또는 치환되지 않거나 치환된 C1-C4알킬이고,
    (R2)s는 할로겐, 니트로, 치환되지 않거나 할로 치환된 C1-C4알킬, C2-C4알카노일아미노, C1-C4알킬설포닐, 카바모일, 설파모일 및 설포 그룹으로부터 선택된 동일거나 상이한 s개의 치환체이며,
    Me는 크롬, 코발트 또는 철이고,
    X는 염소이며,
    T는 화학식 2a 내지 화학식 2f의 섬유-반응성 라디칼이고,
    s는 0, 1, 2 또는 3이며,
    m, n, r 및 q는 각각 독립적으로 0 또는 1이다.
    화학식 2a
    Figure 112007036813866-PCT00037
    화학식 2b
    Figure 112007036813866-PCT00038
    화학식 2c
    Figure 112007036813866-PCT00039
    화학식 2d
    Figure 112007036813866-PCT00040
    화학식 2e
    Figure 112007036813866-PCT00041
    화학식 2f
    Figure 112007036813866-PCT00042
    위의 화학식 2a 내지 2f에서,
    (R3)O-2는 할로겐, C1-C4알킬, C1-C4알콕시 및 설포 그룹으로부터 선택된 0 내 지 2개의 동일하거나 상이한 치환체를 나타내며,
    Z는 비닐 또는 -CH2-CH2-U 라디칼(여기서, U는 알칼리성 조건하에서 제거가능한 그룹이다)이며,
    Q는 -CH(Hal)-CH2-Hal 또는 -C(Hal)=CH2 그룹(여기서, Hal은 할로겐이다)이다.
  2. 제1항에 있어서, R1이 수소인, 반응성 염료.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, Z가 비닐, β-클로로에틸 또는 β-설파토에틸인인, 반응성 염료.
  4. 제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 있어서, 화학식 1a에 상응하는, 반응성 염료.
    화학식 1a
    Figure 112007036813866-PCT00043
    위의 화학식 1a에서,
    R1, R2, X, T 및 s는 제1항에서 정의한 바와 같다.
  5. 적합한 크롬, 코발트 또는 철 화합물을 사용하여 화학식 3의 화합물 및 화학식 4의 화합물로부터 화학식 5의 1:2 금속 착물 염료를 제조하는 단계(i),
    제1 축합 단계에서, 단계(i)에 따라 수득한 화학식 5의 1:2 금속 착물 염료를 화학식 6의 시아누르산 할라이드와 축합시키는 단계(ii) 및
    제2 축합 단계에서, 단계(ii)에 따라 수득한 화학식 7의 제1 축합 생성물을 화학식 8의 화합물과 축합시키는 단계(iii) 또는
    단계(i)에 따라 수득한 화학식 5의 1:2 금속 착물 염료를 화학식 9의 화합물로 축합시키는 단계(iv)를 포함하는, 제1항에 따르는 화학식 1의 반응성 염료의 제조방법.
    화학식 3
    Figure 112007036813866-PCT00044
    화학식 4
    Figure 112007036813866-PCT00045
    화학식 5
    Figure 112007036813866-PCT00046
    화학식 6
    Figure 112007036813866-PCT00047
    화학식 7
    Figure 112007036813866-PCT00048
    화학식 8
    T-H
    화학식 9
    Figure 112007036813866-PCT00049
    위의 화학식 3 내지 화학식 9에서,
    R1, R2, Me, X, T, m, n, r, s 및 q는 1항에서 정의한 바와 같다.
  6. 하이드록실 그룹 함유 또는 질소 함유 섬유 재료의 염색 또는 날염을 위한, 제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 따르는 반응성 염료 또는 제5항에 따르는 방법으로 제조한 반응성 염료의 용도.
  7. 제6항에 있어서, 천연 또는 합성 폴리아미드 섬유 재료, 특히 합성 폴리아미드 섬유 재료가 염색되거나 날염되는 용도.
  8. 제1항에 따르는 화학식 1의 반응성 염료를 포함하는 수성 잉크.
  9. 제8항에 따르는 수성 잉크를 사용함을 포함하여, 잉크젯 프린팅법에 따라, 직물 재료, 용지 또는 플라스틱 필름을 프린팅하는 방법.
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