KR20070065858A - Paint for transparent film and transparent film coated substrate - Google Patents

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Abstract

Provided are a paint for forming a transparent film, and a transparent film-coated substrate using the paint which has antireflection and excellent adhesive and can be prepared by one step. The paint comprises 0.1-20 wt% of a metal oxide fine particle which is surface-treated with an organic silicon compound represented by R_n SiX_(4-n) and/or a multifunctional acrylate resin having a hydrophobic group and has a surface charge of 5-80 mueq/g; 1-50 wt% of a matrix forming component which comprises an organic silicon compound represented by R_n' SiX_(4-n') or its hydrolyzate, hydrolysis condensate and/or a multifunctional (meth)acrylate resin having a hydrophobic group; and a polar solvent, wherein R is identical to or different from one another and is a C1-C10 unsubstituted or substituted hydrocarbon group; X is a C1-C4 alkoxy group, a silanol group, a halogen atom or H; and n and n' are an integer of 1-3.

Description

투명 피막 형성용 도료 및 투명 피막부 기재{Paint for transparent film and transparent film coated substrate}Paint for transparent film and transparent film coated substrate

도 1은 투명 피막 중에서의 소수성 금속 산화물 미립자(A)의 편재를 나타내는 모식도이다.FIG. 1: is a schematic diagram which shows uneven distribution of hydrophobic metal oxide microparticles | fine-particles (A) in a transparent film.

도 2는 투명 피막 중에서의 소수성 금속 산화물 미립자(A) 및 친수성 금속 산화물 미립자(B)의 편재를 나타내는 모식도이다.FIG. 2: is a schematic diagram which shows uneven distribution of hydrophobic metal oxide microparticles | fine-particles (A) and hydrophilic metal oxide microparticles | fine-particles (B) in a transparent film.

도 3은 투명 피막 중에서의 소수성 금속 산화물 미립자(A) 및 친수성 금속 산화물(B)의 편재를 나타내는 모식도이다.It is a schematic diagram which shows uneven distribution of hydrophobic metal oxide microparticles (A) and hydrophilic metal oxide (B) in a transparent film.

도 4는 투명 피막 중에서의 소수성 금속 산화물 미립자(A) 및 친수성 금속 산화물 미립자 (B)의 편재를 나타내는 모식도이다.It is a schematic diagram which shows uneven distribution of hydrophobic metal oxide microparticles | fine-particles (A) and hydrophilic metal oxide microparticles | fine-particles (B) in a transparent film.

기술분야Field of technology

본 발명은 1종의 도료를 1회 도포하는 것으로 적어도 2종 이상의 기능, 예를 들면 반사 방지 성능, 하드 코팅 기능 등을 지닌 투명 피막의 형성에 사용할 수 있는 투명 피막 형성 도료 및 이 투명 피막 형성 도료를 사용하여 형성된 투명 피막부 기재에 관한 것이다.The present invention is a coating of one coating material once, and a transparent coating film and a transparent coating film that can be used to form a transparent coating having at least two or more functions, for example, antireflection performance, hard coating function, and the like. It relates to a transparent coating part base material formed using.

배경기술Background

종래부터 유리, 플라스틱 시트, 플라스틱 렌즈 등의 기재 표면의 내찰상성을향상시키기 위해 기재 표면에 하드 코팅막을 형성하는 것이 알려져 있으며, 이와 같은 하드 코팅막으로서 유기 수지막 혹은 무기막을 유리나 플라스틱 등의 표면에 형성하는 것이 행해지고 있다. 또한 유기 수지막 혹은 무기막 중에 수지 입자 혹은 실리카 등의 무기 입자를 배합하여 내찰상성을 더욱 향상시키는 것이 행해지고 있다.It is conventionally known to form a hard coating film on the surface of a substrate in order to improve the scratch resistance of the surface of the substrate such as glass, a plastic sheet, a plastic lens, and the like. It is done. Moreover, in order to mix | blend inorganic particle, such as resin particle or silica, in an organic resin film or an inorganic film, further improving scratch resistance is performed.

또한 유리, 플라스틱 시트, 플라스틱 렌즈 등의 기재 표면의 반사를 방지하기 위해 이 표면에 반사 방지막을 형성하는 것이 알려져 있으며, 예를 들면 코팅법, 증착법, CVD법 등에 의해 불소 수지, 불소화 마그네슘과 같은 저굴절률 물질의 피막을 유리나 플라스틱의 기재 표면에 형성하거나 실리카 미립자 등의 저굴절률 미립자를 포함하는 도포액을 기재 표면에 도포하여 반사 방지 피막을 형성하는 방 법이 알려져 있다(예를 들면, 특허문헌 1(특개평 제7-133105호 공보)).In addition, it is known to form an anti-reflection film on the surface of the substrate to prevent reflection of the surface of the substrate such as glass, plastic sheet, plastic lens, etc., for example, by coating, vapor deposition, CVD, etc. A method of forming an antireflection film by forming a film of refractive index material on the surface of a substrate of glass or plastic or by applying a coating liquid containing low refractive index particles such as silica particles to the surface of the substrate (for example, Patent Document 1). (Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-133105).

이때 반사 방지 성능을 높이기 위해서 반사 방지 피막의 하층에 고굴절률의 미립자 등을 포함하는 고굴절률막을 형성하는 것도 알려져 있다. 또한 기재에 대전 방지 성능, 전자파 차폐 성능을 부여하기 위해 도전성 산화물 미립자, 금속 미립자 등을 포함하는 도전성 피막을 형성하는 것도 행해지고 있다. 예를 들면 음극선관, 형광표시관, 액정표시판 등의 표시 판넬과 같은 투명 기재의 표면의 대전 방지 또는 반사 방지를 목적으로 하여 이들의 표면에 대전 방지 기능 및 반사 방지 기능을 지닌 투명 피막을 형성하는 것이 행해지고 있다.At this time, it is also known to form a high refractive index film containing high refractive index fine particles and the like in the lower layer of the antireflection coating in order to increase the antireflection performance. Moreover, in order to provide antistatic performance and electromagnetic wave shielding performance to a base material, forming the electroconductive film containing electroconductive oxide fine particles, metal fine particles, etc. is also performed. For example, for the purpose of antistatic or antireflection of surfaces of transparent substrates such as display panels such as cathode ray tubes, fluorescent display tubes, and liquid crystal display panels, a transparent film having an antistatic function and an antireflection function is formed on these surfaces. Is done.

특히 최근 이와 같은 각종 기능성 피막을 적층하여 사용하는 것이 행해지고 있다. 예를 들면 기재상에 하드 코팅막을 형성하고 도전성 피막 혹은 고굴절률 피막을 형성하여 반사 방지막을 형성하는 것이 행해지고 있다.In particular, in recent years, such a variety of functional coatings have been laminated and used. For example, a hard coating film is formed on a base material, an electroconductive film or a high refractive index film is formed, and an anti-reflective film is formed.

그러나 각각의 막은 도료를 도포하고 건조하고 필요에 따라 경화시키는 공정으로 이루어지기 때문에 상기 다층막을 형성하는 경우에 많은 공정을 필요로 하고 각각의 막 간의 밀착성이 불충분하거나 생산성, 경제성 등에 문제가 있었다.However, since each film is made of a process of coating, drying, and curing as necessary, a large number of steps are required in forming the multilayer film, and the adhesion between the films is insufficient or there is a problem in productivity and economy.

또한 본 발명자 등은 특허문헌 2(특개 제2003-12965호 공보)에서 평균 입자지름이 다르고, 입자 지름이 작은 도전성 미립자와 입자 지름이 큰 저굴절률 미립 자의 상이한 2종의 미립자를 포함하는 도포액을 사용하여 1회의 도포로 반사 방지 성능이 우수한 도전성 피막을 형성할 수 있다는 것을 제안하고 있다.In addition, the present inventors and the like in Patent Document 2 (Patent No. 2003-12965) disclose a coating liquid containing two different kinds of fine particles having different average particle diameters and conductive particles having a small particle diameter and low refractive index fine particles having a large particle diameter. It has been proposed that a conductive coating having excellent antireflection performance can be formed by one application by using it.

특허문헌 1: 특개평 제7-133105호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-133105

특허문헌 2: 특개 제2003-12965호 공보Patent Document 2: Japanese Patent Laid-Open No. 2003-12965

발명이 해결하고자 하는 과제Problems to be Solved by the Invention

근래에 공정의 간략화나 피막 자체의 두께를 얇게 하기 위해 도료를 1회 도포하는 것만으로 2종 이상의 기능을 지닌 투명 피막을 필요로 하고 있다.In recent years, in order to simplify the process and to reduce the thickness of the coating itself, a transparent coating having two or more functions is required only by coating the paint once.

상기한 특허문헌 2의 도포액은 2종의 미립자의 혼합물이기 때문에 1층을 형성하는 것 만으로는 반사 방지 성능, 대전 방지 성능이 불충분해지며 또한 플라스틱 등의 기재에의 밀착성이 낮아지고 막의 강도가 불충분해지는 경우가 있었다.Since the coating liquid of the said patent document 2 is a mixture of 2 types of microparticles | fine-particles, only one layer is formed and antireflection performance and antistatic performance are inadequate, adhesiveness to the base materials, such as plastics, is low, and film | membrane strength is insufficient. There was a case to be lost.

과제를 해결하고자 하는 수단Means to solve the problem

본 발명자들은 이와 같은 문제점을 예의 검토한 결과 도포하여 형성한 피막 내에 상하 완전하게 분리된 형태로 미립자층을 형성하면 도료를 1회 도포하는 것만으로 2종 이상의 기능을 지닌 투명 피막 등을 형성할 수 있다고 생각하였다.The present inventors earnestly examine such a problem, and when a fine particle layer is formed in the coated and formed film, the upper and lower parts are separated completely, the coating can be formed once and a transparent film having two or more functions can be formed. I thought it was.

따라서 더욱 검토한 결과 특정 유기 규소 화합물로 표면을 소수화 처리하고, 특정 표면 전하량을 지닌 금속 산화물 입자를 소수성 매트릭스 형성 성분과 조합시키는 것으로 금속 산화물 입자가 투명 피막 중에 균일하게 분산하지 않고 투명 피막의 상부에 층을 형성시키는 것을 발견하여, 즉 1회의 피막 형성으로 2종 이상의 기능을 지닌 피막 형성이 가능한 것을 발견하여 본 발명을 완성하기에 이르렀다.Therefore, as a result of further investigation, the surface is hydrophobized with a specific organosilicon compound, and the metal oxide particles having a specific surface charge amount are combined with the hydrophobic matrix forming component so that the metal oxide particles are not uniformly dispersed in the transparent film, It has been found that the formation of a layer, that is, the formation of a film having two or more kinds of functions in one film formation, has led to the completion of the present invention.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 1회의 도포에 의해 상하로 분리된 기능이 상이한 층을 적어도 2층 형성할 수 있는 투명 피막 형성용 도료 및 투명 피막부 기재를 제공하고자 하는 것이다. 또한 1회의 도포 공정으로 투명 피막을 얻기 위한 공정을 대폭 감축할 수 있는 것과 동시에 수율이 향상되며, 밀착성이 우수한 투명 피막을 제공하고자 하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in an effort to provide a transparent film-forming coating material and a transparent coating part base material capable of forming at least two layers having different functions separated up and down by one application. In addition, it is possible to significantly reduce the process for obtaining a transparent film in one coating process, and at the same time, to improve the yield and to provide a transparent film having excellent adhesion.

[1] (A) 표면이 하기 식 (1)로 표시되는 유기 규소 화합물 및/또는 소수성 관능기를 지닌 다관능 아크릴산에스테르 수지로 표면 처리되어 있고, 또한 표면 전하량(QA)이 5∼80 μeq/g의 범위인 금속 산화물 미립자 (A),[1] The surface (A) is surface-treated with an organosilicon compound represented by the following formula (1) and / or a polyfunctional acrylate ester resin having a hydrophobic functional group, and the surface charge amount Q A is 5 to 80 µeq / metal oxide fine particles (A) in the range of g,

Rn-SiX4 -n (1)R n -SiX 4- n (1)

(상기 식에서, R은 탄소수 1∼10의 비치환 또는 치환 탄화수소기이며 서로 동일하거나 상이할 수 있다. X는 탄소수 1∼4의 알콕시기, 실라놀기, 할로겐, 수소이며, n은 0∼3의 정수임)Wherein R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and may be the same or different from each other. X is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, silanol group, halogen, hydrogen, and n is 0 to 3 Integer)

(B) 하기식 (2)로 표시되는 유기 규소 화합물 또는 이들의 가수분해물, 가수분해 중축합물 및/또는 소수성 관능기를 지닌 다관능 (메타)아크릴산에스테르 수지로 이루어진 소수성 매트릭스 형성 성분을 포함하는 매트릭스 형성 성분 및(B) matrix formation comprising a hydrophobic matrix forming component composed of an organosilicon compound represented by the following formula (2) or a hydrolyzate thereof, a hydrolyzed polycondensate and / or a polyfunctional (meth) acrylic acid ester resin having a hydrophobic functional group Ingredients and

Rn'-SiX4 - n' (2)R n ' -SiX 4 - n' (2)

(상기 식에서, R은 탄소수 1∼10의 비치환 또는 치환 탄화수소기이며 서로 동일하거나 상이할 수 있다. X는 탄소수 1∼4의 알콕시기, 실라놀기, 할로겐, 수소이며, n'는 1∼3의 정수임)Wherein R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and may be the same or different from each other. X is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, silanol group, halogen, hydrogen, and n 'is 1 to 3 Is an integer of)

(C) 극성 용매로 이루어진 투명 피막 형성 도료로서,(C) A transparent film-forming paint composed of a polar solvent,

금속 산화물 미립자 (A)의 고형분으로서의 농도 (CPA)가 0.1∼20 중량%의 범위이며, 매트릭스 형성 성분 (C)의 고형분으로서의 농도 (CM)가 1∼50 중량%의 범위인 것을 특징으로 하는 투명 피막 형성도료.The concentration (C PA ) of the metal oxide fine particles (A) as a solid content is in the range of 0.1 to 20% by weight, and the concentration (C M ) as the solid content of the matrix forming component (C) is in the range of 1 to 50% by weight. Transparent film-forming paint.

[2] 상기 매트릭스 형성 성분이 소수성 매트릭스와 함께 하기 식 (3)으로 표시되는 유기 규소 화합물 또는 이들의 가수분해물, 가수분해 중축합물 또는 친수성 관능기를 지닌 다관능 (메타)아크릴산에스테르 수지로 이루어진 친수성 매트릭스 형성 성분을 포함하며, 친수성 매트릭스 형성 성분의 고형분으로서의 농도 (CMA)와 소수성 매트릭스 형성 성분의 고형분으로서의 농도 (CMB)의 농도비 (CMA)/(CMB)가 0.01∼1의 범위임을 특징으로 하는 [1]의 투명 피막 형성 도료.[2] a hydrophilic matrix composed of a polyfunctional (meth) acrylic acid ester resin having an organic silicon compound represented by the following formula (3) or a hydrolyzate, hydrolyzed polycondensate or a hydrophilic functional group together with a hydrophobic matrix includes a forming component, characterized in that the solid content concentration as a hydrophilic matrix forming component (C MA) and the solid content concentration as the concentration ratio of the hydrophobic matrix forming component (C MA) / (MB C) of (C MB) in the range of 0.01 to 1 The transparent film formation paint of [1] which is used.

SiX4 (3)SiX 4 (3)

(단, 상기 식에서 X는 탄소수 1∼4의 알콕시기, 실라놀기, 할로겐, 수소임)(Wherein X is an alkoxy group, silanol group, halogen or hydrogen having 1 to 4 carbon atoms)

[3] 상기 금속 산화물 미립자 (A)의 평균 입자 지름이 5∼500 nm의 범위임을 특징으로 하는 [1] 또는 [2]의 투명 피막 형성용 도료.[3] The paint for forming a transparent film of [1] or [2], wherein the average particle diameter of the metal oxide fine particles (A) is in the range of 5 to 500 nm.

[4] 표면 전하량 (QB)가 25∼100 μeq/g의 범위인 금속 산화물 미립자 (B)를 더욱 포함하고, 금속 산화물 미립자 (B)의 표면 전하량 (QB)과 금속 산화물 미립자 (A)의 표면 전하량 (QA)의 차 (QB)-(QA)가 20∼95 μeq/g의 범위임을 특징으로 하는 [1]∼[3]의 투명 피막 형성용 도료.[4] The surface charge amount (Q B), the surface charge (Q B) and the metal oxide fine particles (A) of 25~100 μeq / g further comprises metal oxide fine particles (B) range, and the metal oxide fine particles (B) the surface charge amount (Q a) of the difference (Q B) - (Q a ) is a transparent film-forming coating material of [1] to [3], characterized in that the range of 20~95 μeq / g.

[5] 상기 금속 산화물 미립자 (B)의 고형분으로서 농도 (CPB)가 0.1∼20 중량%의 범위임을 특징으로 하는 [1]∼[4]의 투명 피막 형성용 도료.[5] The paint for forming a transparent film of [1] to [4], wherein the metal oxide fine particles (B) have a concentration (C PB ) in the range of 0.1 to 20% by weight as solid content.

[6] 상기 금속 산화물 미립자 (B)의 평균 입자 지름이 5∼500 nm의 범위임을 특징으로 하는 [4] 또는 [5]에 기재된 투명 피막 형성용 도료.[6] The paint for forming a transparent film according to [4] or [5], wherein the average particle diameter of the metal oxide fine particles (B) is in a range of 5 to 500 nm.

[7] 상기 친수성 관능기가 수산기, 아미노기, 카르복실기, 설폰기, 글리시딜기로부터 선택되는 1종 이상이며, 상기 소수성 관능기가 (메타)아크릴로일기, 알킬기, 페닐기, 우레탄기, CF2기로부터 선택되는 1종 이상임을 특징으로 하는 [1] 또는 [2]에 기재된 투명 피막 형성용 도료.[7] The hydrophilic functional group is at least one selected from hydroxyl group, amino group, carboxyl group, sulfone group and glycidyl group, and the hydrophobic functional group is selected from (meth) acryloyl group, alkyl group, phenyl group, urethane group and CF 2 group The coating material for transparent film formation as described in [1] or [2] characterized by the above-mentioned.

[8] 기재상에 투명 피막이 형성된 투명 피막부 기재에 있어서, [8] The transparent coating part substrate having a transparent coating formed on the substrate,

투명 피막이 표면 전하량 (QA)이 5∼80 μeq/g의 범위인 소수성 금속 산화물 미립자 (A)와 매트릭스 성분으로 이루어지며,The transparent film is composed of hydrophobic metal oxide fine particles (A) having a surface charge amount (Q A ) in the range of 5 to 80 μeq / g and a matrix component,

금속 산화물 미립자 (A)가 투명 피막의 상부에 층을 형성하여 편재되고 투명 피막 중의 금속 산화물 미립자 (A)의 함유량 (WPA)이 0.2∼90 중량%의 범위이며,The metal oxide fine particles (A) form a layer on top of the transparent film, and are localized, and the content (W PA ) of the metal oxide fine particles (A) in the transparent film is in the range of 0.2 to 90% by weight,

매트릭스 성분의 함유량 (WM)이 10∼99.8 중량%의 범위이며,The content (W M ) of the matrix component is in the range of 10 to 99.8 wt%,

이 매트릭스 성분이 하기 식 (4)로 표시되는 유기 규소 화합물의 가수분해 중축합물 및/또는 소수성 관능기를 지닌 다관능 (메틸)아크릴산에스테르 수지로부터 선택되는 소수성 매트릭스 성분임을 특징으로 하는 투명 피막부 기재.The matrix part is a hydrophobic matrix component selected from a hydrolyzed polycondensate of an organosilicon compound represented by the following formula (4) and / or a polyfunctional (methyl) acrylic acid ester resin having a hydrophobic functional group.

Rn-SiX4 -n (4)R n -SiX 4- n (4)

(단, 상기 식에서 R은 탄소수 1∼10의 비치환 또는 치환 탄화수소기이며 서로 동일하거나 상이할 수 있다. X는 탄소수 1∼4의 알콕시기, 실라놀기, 할로겐, 수소이며, n은 0∼3의 정수임)(Wherein R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and may be the same or different from each other. X is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, silanol group, halogen, hydrogen, and n is 0 to 3). Is an integer of)

[9] 상기 매트릭스 성분이 소수성 매트릭스 성분과 함께 친수성 매트릭스 성분으로 이루어지며,[9] The matrix component is composed of a hydrophilic matrix component together with a hydrophobic matrix component.

친수성 매트릭스 성분이 하기 식 (3)으로 표시되는 유기 규소 화합물의 가수분해 중축합물 및/또는 친수성 관능기를 지닌 다관능 (메타)아크릴산에스테르 수지이며,The hydrophilic matrix component is a polyfunctional (meth) acrylic acid ester resin having a hydrolyzed polycondensate of an organosilicon compound represented by the following formula (3) and / or a hydrophilic functional group,

친수성 매트릭스 성분의 고형분으로서의 함유량 (WMA)와 소수성 매트릭스 성분의 고형분으로서의 함유량 (WMB)의 함유량비 (WMA)/(WMB)가 0.01∼1의 범위임을 특징으로 하는 [8]의 투명 피막부 기재.Transparent content of [8], wherein the content ratio (W MA ) / (W MB ) of the content (W MA ) as a solid content of the hydrophilic matrix component and the content (W MB ) as a solid content of the hydrophobic matrix component is in the range of 0.01 to 1. Coating part base material.

SiX4 (3)SiX 4 (3)

(단, 상기 식에서 X는 탄소수 1∼4의 알콕시기, 실라놀기, 할로겐, 수소임)(Wherein X is an alkoxy group, silanol group, halogen or hydrogen having 1 to 4 carbon atoms)

[10] 투명 피막이 표면 전하량 (QB)이 25∼100 μeq/g의 범위이며, 금속 산화물 미립자 (B)의 표면 전하량 (QB)과 금속 산화물 미립자 (A)의 표면 전하량 (QA)의 차 (QB)-(QA)가 20∼95 μeq/g의 범위인 금속 산화물 미립자 (B)를 더욱 포함하며,[10] The transparent film has a surface charge amount (Q B ) in the range of 25 to 100 μeq / g, and the surface charge amount (Q B ) of the metal oxide fine particles ( B ) and the surface charge amount (Q A ) of the metal oxide fine particles ( A ). Further comprises metal oxide fine particles (B) in which the differences (Q B )-(Q A ) range from 20 to 95 μeq / g,

금속 산화물 미립자 (B)가 기재 표면상에 층을 형성하여 편재되어 있거나 상 기 금속 산화물 미립자 (A)로 이루어진 층과 기재 표면의 사이에 분산됨을 특징으로 하는 [8] 또는 [9]의 투명 피막부 기재.[8] or [9], wherein the metal oxide fine particles (B) are localized by forming a layer on the surface of the substrate or dispersed between the layer consisting of the metal oxide fine particles (A) and the surface of the substrate. Part description.

[11] 상기 금속 산화물 미립자 (A)의 평균 입자 지름이 5∼500 nm의 범위이며, 상기 금속 산화물 미립자 (B)의 평균 입자 지름이 5∼500 nm의 범위임을 특징으로 하는 [8]∼[10]의 투명 피막부 기재.[11] The average particle diameter of the metal oxide fine particles (A) is in the range of 5 to 500 nm, and the average particle diameter of the metal oxide fine particles (B) is in the range of 5 to 500 nm. 10] the transparent coating part base material.

[12] 상기 친수성 관능기가 수산기, 아미노기, 카르복실기, 설폰기로부터 선택되는 1종 이상이며, 상기 소수성 관능기가 (메타)아크릴로일기, 알킬기, 페닐기, 우레탄기, CF2기로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상임을 특징으로 하는 [8]∼[11]의 투명 피막부 기재.[12] The hydrophilic functional group is at least one selected from hydroxyl group, amino group, carboxyl group and sulfone group, and the hydrophobic functional group is selected from (meth) acryloyl group, alkyl group, phenyl group, urethane group, CF 2 group or The transparent film part base material of [8]-[11] characterized by two or more types.

이하, 본 발명의 투명 피막 형성용 도료에 대해 구체적으로 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the coating material for transparent film formation of this invention is demonstrated concretely.

투명 피막 형성용 도료Paint for forming transparent film

본 발명의 투명 피막 형성 도료는 특정 표면 전하량을 지닌 금속 산화물 미립자 (A), 매트릭스 형성 성분 및 극성 용매로 이루어진다.The transparent film-forming paint of the present invention is composed of metal oxide fine particles (A) having a specific surface charge amount, a matrix forming component, and a polar solvent.

소수성 금속 산화물 미립자 (A)Hydrophobic Metal Oxide Fine Particles (A)

본 발명에서 사용하는 금속 산화물 미립자 (A)로는 소수성을 지니면 특별히 제한하지 않고 종래 공지의 소수성 금속 산화물 미립자를 사용할 수 있지만, 표면 전하량 (QA)이 5∼80 μeq/g, 더욱이 7∼50 μeq/g의 범위인 것이 바람직하다. 이 범위이면 하기 설명할 매트릭스 성분과 조합하여 피막을 형성할 때 상층에 편재시킬 수 있다.The metal oxide fine particles (A) used in the present invention are not particularly limited as long as they have hydrophobicity, and conventionally known hydrophobic metal oxide fine particles can be used, but the surface charge amount (Q A ) is 5 to 80 μeq / g, moreover 7 to 50 It is preferred that it is in the range of μeq / g. If it is this range, when forming a film in combination with the matrix component demonstrated below, it can be localized in the upper layer.

금속 산화물 미립자 (A)의 표면 전하량 (QA)이 작은 것은 소수성이 너무 높기 때문인지 도료 중에서 금속 산화물 미립자 (A)가 응집하여 막의 상부에 균일한 층을 형성하지 않는 경우가 있다.If the surface charge amount Q A of the metal oxide fine particles (A) is small because the hydrophobicity is too high, the metal oxide fine particles (A) may aggregate in the paint and may not form a uniform layer on the top of the film.

금속 산화물 미립자 (A)의 표면 전하량 (QA)이 너무 높으면 막을 형성할 때 금속 산화물 미립자 (A)가 상층에 편재하지 않고 막 중에 분산되는 경향이 있다.If the surface charge amount Q A of the metal oxide fine particles (A) is too high, there is a tendency for the metal oxide fine particles (A) to be dispersed in the film without ubiquitous in the upper layer when forming the film.

금속 산화물 미립자 (A)는 하기 설명하는 바와 같이 금속 산화물 미립자가 유기 규소 화합물 및/또는 수지로 표면 처리되어 있다.As described below, the metal oxide fine particles (A) are surface-treated with an organosilicon compound and / or a resin.

금속 산화물 미립자로는 용도에 따라 적절하게 선택하여 사용할 수 있으며, 예를 들면 반사 방지막에 사용하는 금속 산화물 미립자로서는 통상 굴절률이 1.45 이하, 더욱이 1.40 이하의 미립자를 사용하며, 구체적으로는 SiO2 내부에 공동을 지 닌 SiO2 혹은 이들에 도전성을 지닌 금속 산화물을 피복한 미립자 등을 들 수 있다.With the metal oxide fine particles may be appropriately selected according to the application, for example, usually a refractive index of 1.45 or less, and further use of fine particles of 1.40 or less As the metal oxide fine particles used in the anti-reflection film, and, specifically, inside the SiO 2 And fine particles coated with a cavity of SiO 2 or a metal oxide having conductivity thereon.

하드 코팅막에 사용하는 금속 산화물 미립자로는 ZrO2, TiO2, Sb2O5, ZnO2, Al2O3, SnO2 혹은 이들의 입자를 사슬 형태로 연결한 사슬 형태 입자, 혹은 상기한 굴절률이 1.45 이하인 실리카계 미립자 등을 들 수 있다.The metal oxide fine particles used for the hard coating film include ZrO 2 , TiO 2 , Sb 2 O 5 , ZnO 2 , Al 2 O 3 , SnO 2 or chain-shaped particles in which these particles are connected in a chain form, or the refractive index described above. And silica-based fine particles of 1.45 or less.

고굴절률막에 사용하는 금속 산화물 미립자로는 통상 굴절률이 1.60 이상, 더욱이 1.80 이상인 미립자를 사용하며, 구체적으로는 ZrO2, TiO2, Sb2O5, ZnO2, Al2O3, SnO2, 안티몬 도핑 산화주석, 주석 도핑 산화이소듐, 산화주석 도핑 인(PTO) 등을 들 수 있다.As the metal oxide fine particles used in the high refractive index film, fine particles having a refractive index of 1.60 or more and 1.80 or more are generally used. Specifically, ZrO 2 , TiO 2 , Sb 2 O 5 , ZnO 2 , Al 2 O 3 , SnO 2 , Antimony-doped tin oxide, tin-doped isodium oxide, tin oxide-doped phosphorus (PTO), and the like.

도전성막에 사용하는 금속 산화물 미립자로는 통상 Sb2O5, SnO2, 안티몬 도핑 산화주석, 주석 도핑 산화이소듐, 산화주석 도핑 인(PTO) 혹은 이들의 도전성 재료로 표면을 피복한 실리카계 미립자 혹은 내부에 공동을 지닌 실리카계 미립자 등을 들 수 있다.The metal oxide fine particles used in the conductive film are usually Sb 2 O 5 , SnO 2 , antimony doped tin oxide, tin doped sodium oxide, tin oxide doped phosphorus (PTO) or silica-based fine particles coated on the surface with a conductive material thereof or And silica-based fine particles having a cavity therein.

금속 산화물 미립자 (A)는 상기 금속 산화물 미립자가 하기 식 (1)로 표시되는 유기 규소 화합물 및/또는 소수성 관능기를 지닌 다관능 아크릴산에스테르 수지 로 표면 처리되어 있다.The metal oxide fine particles (A) are surface-treated with the polyfunctional acrylic acid ester resin in which the said metal oxide fine particles have an organosilicon compound and / or a hydrophobic functional group represented by following formula (1).

Rn-SiX4 -n (1)R n -SiX 4- n (1)

(단, R은 탄소수 1∼10의 비치환 또는 치환 탄화수소기이며 서로 동일하거나 상이할 수 있다. X는 탄소수 1∼4의 알콕시기, 실라놀기, 할로겐, 수소이며, n은 0∼3의 정수임)(Wherein R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and may be the same or different from each other. X is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, silanol group, halogen, hydrogen, n is an integer of 0 to 3). )

이와 같은 식 (1)로 표시되는 유기 규소 화합물로는 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 테트라프로폭시실란, 테트라부톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 디페닐디메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 디메틸디에톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 디페닐디에톡시실란, 이소부틸트리메톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(β-메톡시에톡시)실란, 3,3,3-트리플루오로프로필트리메톡시실란, 메틸-3,3,3-트리플루오로프로필디메톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, γ-글리시독시메틸트리메톡시실란, γ-글리시독시메틸트리에톡시실란, γ-글리시독시에틸트리메톡시실란, γ-글리시독시에틸트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리에톡시실란, γ-(β-글리시독시메톡시)프로필트리메톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시메틸트리메톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시메틸트리에톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시에틸트리메톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시에틸트리에톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시프로필트리메톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시프 로필트리메톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시프로필트리에톡시실란, 부틸트리메톡시실란, 이소부틸트리에톡시실란, 헥실트리에톡시실라옥틸트리에톡시실란, 데실트리에톡시실란, 부틸트리에톡시실란, 이소부틸트리에톡시실란, 헥실트리에톡시실란, 옥틸트리에톡시실란, 3-우레이도이소프로필프로필트리에톡시실란, 퍼플루오로옥틸에틸트리메톡시실란, 퍼플루오로옥틸에틸트리에톡시실란, 퍼플루오로옥틸에틸트리이소프로폭시실란, 트리플우로오프로필트리메톡시실란, N-β(아미노에틸)γ-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-β(아미노에틸)γ-아미노프로필트리메톡시실란, N-페닐-γ-아미노프로필트리메톡시실란, γ-머캅토프로필트리메톡시실란, 트리메틸실란올, 메틸트리클로로실란 등을 들 수 있다.As the organosilicon compound represented by such formula (1), tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane , Diphenyldimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenyltriethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyl Tris (β-methoxyethoxy) silane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, methyl-3,3,3-trifluoropropyldimethoxysilane, β- (3,4-epoxy Cyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxymethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxymethyltriethoxysilane, γ-glycidoxyethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxyethyltrie Oxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrie Cysilane, γ- (β-glycidoxymethoxy) propyltrimethoxysilane, γ- (meth) acrylooxymethyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloxyoxytriethoxysilane, γ- ( Meta) acryloxyethyltrimethoxysilane, γ- (meth) acrylooxyethyltriethoxysilane, γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, γ- (meth) acrylooxypropyl tree Methoxysilane, (gamma)-(meth) acrylooxypropyl triethoxysilane, butyl trimethoxysilane, isobutyl triethoxysilane, hexyl triethoxy silaoctyl triethoxysilane, decyl triethoxysilane, butyl trier Methoxysilane, isobutyltriethoxysilane, hexyltriethoxysilane, octyltriethoxysilane, 3-ureidoisopropylpropyltriethoxysilane, perfluorooctylethyltrimethoxysilane, perfluorooctylethyltrie Methoxysilane, perfluorooctylethyltriisopropoxysilane, triple uro Propyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane , γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, trimethylsilanol, methyltrichlorosilane and the like.

소수성을 지닌 다관능 아크릴산에스테르 수지로는 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트, 디펜탄에리스리톨헥사크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 부틸메타크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트, 2-에틸헥실메테크릴레이트, 이소데실메테크릴레이트, n-라우릴아크릴레이트, n-스테아릴아크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타크릴레이트, 퍼플루오로옥틸에틸메타크릴레이트, 트리플루오로에틸메타크릴레이트, 우레탄아크릴레이트 등을 들 수 있다.Polyfunctional acrylic acid ester resins having hydrophobicity include pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, isodecyl methacrylate, n-lauryl acrylate, n-stearyl acrylate, 1 , 6-hexanediol dimethacrylate, perfluorooctylethyl methacrylate, trifluoroethyl methacrylate, urethane acrylate, and the like.

유기 규소 화합물을 사용하는 경우 금속 산화물 미립자와의 양의 비(유기 규 소 화합물/금속 산화물 미립자의 중량)는 금속 산화물 미립자의 평균 입자 지름에 따라 다르지만 0.001∼2, 더욱이 0.005∼1.5의 범위인 것이 바람직하다.In the case of using an organosilicon compound, the ratio of the amount to the metal oxide fine particles (weight of the organic silicon compound / metal oxide fine particles) depends on the average particle diameter of the metal oxide fine particles, but is in the range of 0.001 to 2, and more preferably 0.005 to 1.5. desirable.

상기 소수성을 지닌 다관능 아크릴산에스테르 수지를 사용하는 경우 금속 산화물 미립자와의 양의 비(소수성을 지닌 다관능 아크릴산에스테르 수지의 고형분으로서의 중량/금속 산화물 미립자의 중량)은 금속 산화물 미립자의 평균 입자 지름에 따라 다르지만 0.01∼2, 더욱이 0.05∼1.5의 범위인 것이 바람직하다.When using the hydrophobic polyfunctional acrylic acid ester resin, the ratio of the amount (weight of the polyfunctional acrylic acid ester resin having hydrophobicity / weight of the metal oxide fine particles) to the metal oxide fine particles is equal to the average particle diameter of the metal oxide fine particles. Although it depends, it is preferable that it is 0.01-2, Furthermore, it is the range of 0.05-1.5.

이와 같은 중량비의 유기 규소 화합물이나 다관능 아크릴산에스테르 수지로 표면 처리되어 있으면 상기한 소정의 표면 전하량을 지닌 금속 산화물 미립자가 얻어지며, 극성 용매 중에서의 분산성, 안정성이 높아져 막의 상부에 균일한 층을 형성할 수 있다.Surface treatment with such a weight ratio of an organosilicon compound or a polyfunctional acrylic acid ester resin yields metal oxide fine particles having a predetermined amount of surface charge, resulting in high dispersibility and stability in polar solvents, resulting in a uniform layer on top of the film. Can be formed.

또한 중량비가 작은 경우는 극성 용매 중의 분산성, 안정성이 낮아져 도료의 안정성이 불충분해져 막을 형성할 때 막이 백화되는 경우가 있다. 상기 중량비가 너무 커지면 금속 산화물 미립자 (A)의 표면 전하량이 5 μeq/g 이하가 되어 소수성이 너무 높아지기 때문인지 도료 중에서 금속 산화물 미립자 (A)가 응집하여 막의 상부에 균일한 층이 형성되지 않는 경우가 있다. In addition, when the weight ratio is small, the dispersibility and stability in the polar solvent are lowered, the stability of the paint is insufficient, and the film may be whitened when the film is formed. If the weight ratio is too large, the surface charge amount of the metal oxide fine particles (A) is 5 μeq / g or less, and the hydrophobicity is too high. If the metal oxide fine particles (A) are agglomerated in the paint, a uniform layer is not formed on the top of the film. There is.

본 명세서에서 금속 산화물 미립자 (A)가 막의 상부에 배열된다는 것은 막 표면과 그 근방에만 금속 미립자가 존재한다는 것을 말하며, 금속 산화물 미립자가 막의 하부에 배열된다는 것은 기재 표면과 그 근방에만 금속 미립자가 존재한다는 것을 말한다.In the present specification, the arrangement of the metal oxide fine particles (A) on the top of the film means that the metal fine particles exist only on and near the film surface, and the metal oxide fine particles are arranged on the bottom of the film, indicating that the metal fine particles exist only on and around the substrate surface. I say.

본 발명의 투명 피막은 금속 산화물 미립자 (A)가 투명 피막의 상부에 편재되어 분포되어 있지만, 이때 금속 산화물 미립자 (A)가 다층을 형성해도 좋고 단층을 형성해도 좋으며 혹은 상부에 점재(点在)하고 있어도 좋다.In the transparent coating of the present invention, the metal oxide fine particles (A) are unevenly distributed on the upper portion of the transparent coating, but at this time, the metal oxide fine particles (A) may form a multilayer, may form a single layer, or may be dotted on the top. You may do it.

상기한 금속 산화물 미립자 (A)의 표면 전하량의 측정 방법은 표면 전위 적정장치(Mutek(주) pcd-03)를 이용하여 미립자의 분산액을 0.001 N의 폴리염화디알릴디메틸암모늄을 사용하여 적정하여 입자 단위 그램당 표면 전하량(μeq/g)을 구할 수 있다.The method for measuring the surface charge amount of the metal oxide fine particles (A) described above is performed by titrating the dispersion of the fine particles using a surface potential titration device (Mutek Co., Ltd. pcd-03) using 0.001 N polydiallyldimethylammonium chloride. The surface charge amount (μeq / g) per unit gram can be obtained.

금속 산화물 미립자 (A)의 평균 입자 지름은 5∼500 nm, 더욱이 10∼100nm의 범위인 것이 바람직하다.The average particle diameter of the metal oxide fine particles (A) is preferably in the range of 5 to 500 nm, more preferably 10 to 100 nm.

금속 산화물 미립자 (A)의 평균 입자 지름이 작은 것은 그 자체를 얻는 것이 곤란하며, 금속 산화물 미립자 (A)의 평균 입자 지름이 큰 것은 막 도포시 베이스값이 높아져 광학막으로서 사용할 수 없는 경우가 있다.A small average particle diameter of the metal oxide fine particles (A) is difficult to obtain by itself, and a large average particle diameter of the metal oxide fine particles (A) may not be used as an optical film due to a high base value during film coating. .

본 발명에 사용된 금속 산화물 미립자 (A)는 상기 표면 처리가 실시된 것이면 특별히 제한하지는 않지만 예를 들면 하기 방법으로 제조된 것이 적절하다.The metal oxide fine particles (A) used in the present invention are not particularly limited as long as the surface treatment has been carried out, but is preferably produced by the following method, for example.

유기 규소 화합물의 경우는 상기한 금속 산화물 미립자의 알코올 분산액에 상기한 유기 규소 화합물을 소정의 양으로 첨가하고, 여기에 물을 첨가하고 필요에 따라 유기 규소 화합물의 가수분해용 촉매로서 산 또는 알칼리를 첨가하여 유기 규소 화합물을 가수분해한다. 혹은 소수성을 지닌 다관능 아크릴산에스테르 수지의 경우, 상기한 소수성을 지닌 다관능 아크릴산에스테르 수지를 열적 혹은 중합 개시제로 중합시켜 금속 산화물 미립자 (A)의 입자 표면을 피복한다. 중합 개시제로는 통상 사용되는 라디칼 중합 개시제, 양이온 중합 개시제, 음이온 중합 개시제를 사용할 수 있으며, 특히 라디칼 중합 개시제가 바람직하며, 예를 들면 아세트페놀계, 벤조에테르계, 티옥사이드계 등의 중합 개시제가 적절하다.In the case of the organosilicon compound, the organosilicon compound described above is added to the alcohol dispersion of the metal oxide fine particles in a predetermined amount, water is added thereto, and acid or alkali is used as a catalyst for hydrolysis of the organosilicon compound, if necessary. It adds and hydrolyzes an organosilicon compound. Or in the case of the polyfunctional acrylic acid ester resin which has hydrophobicity, the above-mentioned hydrophobic polyfunctional acrylic acid ester resin is superposed | polymerized with a thermal or a polymerization initiator, and coat | covers the particle surface of metal oxide fine particle (A). As a polymerization initiator, a radical polymerization initiator, a cationic polymerization initiator, and an anionic polymerization initiator which are usually used can be used, Especially a radical polymerization initiator is preferable, For example, polymerization initiators, such as an acetphenol type, a benzoether type, and a titanium type, proper.

유기 용매로 치환하여 금속 산화물 미립자 (A)의 유기 용매 분산액을 얻을 수 있다. 유기 용매로는 하기 설명할 극성 용매를 사용하는 것이 바람직하다. The organic solvent dispersion liquid of metal oxide fine particles (A) can be obtained by substituting with an organic solvent. It is preferable to use the polar solvent mentioned below as an organic solvent.

이와 같은 금속 산화물 미립자 (A)의 투명 피막 형성용 도료 중의 고형분으로서의 농도 (CPA)가 0.1∼20 중량%, 더욱이 0.2∼15 중량%의 범위인 것이 바람직하다.The solid content of the coating is transparent as in the coating composition for the formation of such metal oxide fine particles (A) (C PA) is in the range of 0.1 to 20% by weight, and further 0.2~15% by weight.

금속 산화물 미립자 (A)의 농도 (CPA)가 적은 경우는 막의 상부에 편재되어도 입자의 양이 적기 때문에 입자가 지닌 특성(저굴절률이나 도전성 등)에 의해 반사 방지 성능, 대전 방지 성능 등이 불충분하게 되는 경우가 있다. 또한 금속 산화물 미립자 (A)의 농도 (CPA)가 너무 많아도 얻어진 막 중의 입자의 비율이 너무 많아 실질적으로 막 중에 금속 산화물 미립자가 전체에 걸쳐 균일하게 분산된 막이 되어 본 발명의 2종 이상의 기능을 지닌 막이 얻어지지 않는 경우가 있다.When the concentration of the metal oxide fine particles (A) is small (C PA ), the amount of particles is small even when unevenly distributed on the top of the film, and thus the antireflection performance and the antistatic performance are insufficient due to the characteristics of the particles (low refractive index or conductivity). There is a case to be done. In addition, even if the concentration (C PA ) of the metal oxide fine particles (A) is too high, the proportion of particles in the obtained film is too large to substantially form a film in which the metal oxide fine particles are uniformly dispersed throughout the film to provide two or more functions of the present invention. In some cases, no retaining membrane can be obtained.

금속 산화물 미립자 (B)Metal Oxide Fine Particles (B)

본 발명의 투명 피막 형성 도료에는 금속 산화물 미립자 (A)와 함께 금속 산화물 미립자 (B)를 더욱 포함해도 좋다.The transparent film-forming paint of the present invention may further contain metal oxide fine particles (B) together with metal oxide fine particles (A).

금속 산화물 미립자 (B)로는 동시에 포함되는 금속 산화물 미립자 (A) 보다 소수성이 적고 금속 산화물 미립자 (A)의 표면 전하량보다 높은 표면 전하량의 입자를 사용하는 것이 바람직하다. 이와 같은 금속 산화물 미립자는 막의 하부에 균일한 층을 형성한다. 이에 의해 투명 피막에 추가의 별도의 특성을 부여하는 것도 가능해진다.As the metal oxide fine particles (B), it is preferable to use particles having a less hydrophobicity than the metal oxide fine particles (A) contained simultaneously and a surface charge amount higher than the surface charge amount of the metal oxide fine particles (A). Such metal oxide fine particles form a uniform layer under the film. This also makes it possible to impart additional additional properties to the transparent coating.

금속 산화물 미립자 (B)의 표면 전하량 (QB)는 25∼100 μeq/g, 더욱이 30∼ 100 μeq/g의 범위인 것이 바람직하다. 금속 산화물 미립자 (B)의 표면 전하량 (QB)이 낮으면 금속 산화물 미립자 (A)와 표면 전하량에 근접해지기 때문에 막의 하부에 편재하지 않고 금속 산화물 미립자 (A)와 혼합되어 막의 상부에 위치하는 경향이 있어 금속 산화물 미립자 (A)의 특성에 의한 효과, 예를 들면 저굴절률 특성에 의한 반사 방지 성능이 불충분해지는 경우가 있다. 금속 산화물 미립자 (B)의 표면 전하량 (QB)이 너무 크면 소수성이 낮고 친수성에 근접해지기 때문에 도료 중에서 금속 산화물 미립자 (B)가 응집하여 막의 하부에 균일한 층을 형성하지 않는 경우가 있다.The surface charge amount Q B of the metal oxide fine particles (B) is preferably in the range of 25 to 100 μeq / g, more preferably in the range of 30 to 100 μeq / g. When the surface charge amount Q B of the metal oxide fine particles ( B ) is low, the metal oxide fine particles (A) and the surface charge amount are close to each other. Therefore, they tend to be mixed with the metal oxide fine particles (A) and located at the top of the film without being ubiquitous at the bottom of the film. Therefore, the effect by the characteristic of a metal oxide fine particle (A), for example, the reflection prevention performance by a low refractive index characteristic may become inadequate. If the surface charge amount Q B of the metal oxide fine particles (B) is too large, the hydrophobicity is low and the hydrophilicity is approached, so that the metal oxide fine particles (B) may agglomerate in the coating to not form a uniform layer under the film.

또한 금속 산화물 미립자 (A)의 표면 전하량 (QA)과 금속 산화물 미립자 (B)의 표면 전하량 (QB)의 차 (QB)-(QA)가 20∼95 μeq/g, 더욱이 25∼85 μeq/g의 범위인 것이 바람직하다.Further, the difference (Q B )-(Q A ) between the surface charge amount Q A of the metal oxide fine particles ( A ) and the surface charge amount Q B of the metal oxide fine particles (B) is 20 to 95 μeq / g, and furthermore, 25 to It is preferably in the range of 85 μeq / g.

(QB)-(QA)가 작으면 금속 산화물 미립자 (A)와 금속 산화물 미립자 (B)의 표면 전하량의 차가 적어 이들 미립자의 분리가 불충분해져 본 발명의 2종 이상의 기능을 지닌 막이 얻어지지 않는 경우가 있다. (QB)-(QA)가 크면 금속 산화물 미립자 (A)가 응집함과 동시에 금속 산화물 미립자 (B)도 응집하여 얻어진 막이 백화되거나 기재와의 밀착성이나 강도가 불충분해지는 경우가 있다.When (Q B )-(Q A ) is small, the difference between the surface charge amounts of the metal oxide fine particles (A) and the metal oxide fine particles (B) is small, so that the separation of these fine particles is insufficient, resulting in a film having two or more functions of the present invention. It may not. When (Q B )-(Q A ) is large, the film obtained by agglomeration of the metal oxide fine particles (A) and agglomeration of the metal oxide fine particles (B) may whiten, or the adhesion or strength with the substrate may be insufficient.

금속 산화물 미립자 (B)는 상기 금속 산화물 미립자 (A)와 동일한 방식으로 금속 산화물 미립자가 표면 처리되어 있다. 통상 금속 산화물 미립자로서는 상기한 금속 화합물 미립자 (A)에 사용하는 금속 산화물 미립자와 상이한 금속 산화물 미립자를 목적에 따라 선택하여 사용한다. 구체적으로는 상기 금속 산화물 미립자 (A)로 표시된 것을 들 수 있다. 또한 표면 처리는 표면 전하량이 조성의 차이(즉, 금속 산화물 미립자의 표면 전하량이 커짐)가 생기는 것으로 선택한다. 예를 들면 금속 산화물 미립자 (A)에 사용한 것보다도 친수성이 높은 것이나 처리량을 적게하는 등의 처리법을 선택한다.The metal oxide fine particles (B) are surface-treated with metal oxide fine particles in the same manner as the metal oxide fine particles (A). Usually, as metal oxide microparticles | fine-particles, metal oxide fine particles different from the metal oxide microparticles | fine-particles used for said metal compound microparticles | fine-particles (A) are selected and used according to the objective. Specifically, what is represented by the said metal oxide fine particle (A) is mentioned. In addition, the surface treatment is selected such that the surface charge amount causes a difference in composition (that is, the surface charge amount of the metal oxide fine particles becomes large). For example, a treatment method such as one having higher hydrophilicity or less throughput than that used for the metal oxide fine particles (A) is selected.

이와 같은 금속 산화물 미립자 (B)의 평균 입자 지름이 5∼500 nm, 더욱이 10∼100 nm의 범위인 것이 바람직하다. 평균 입자 지름이 작은 것은 얻는 것 자체가 곤란하며 너무 커도 도료의 안정성이 불충분해지는 경우가 있다. 또한 얻어진 막의 투명성이 저하되거나 더욱이 막이 백화되는 경우가 있다.It is preferable that the average particle diameter of such metal oxide fine particles (B) is 5-500 nm, Furthermore, it is the range of 10-100 nm. It is difficult to obtain a small average particle diameter by itself, and even if it is too large, the paint stability may become insufficient. Moreover, transparency of the obtained film may fall or the film may whiten.

금속 산화물 미립자 (B)의 투명 피막 형성용 도료 중의 고형분으로서의 농도 (CPB)가 0.1∼20 중량%, 더욱이 0.2∼15 중량%의 범위인 것이 바람직하다. 금속 산화물 미립자 (B)의 농도 (CPB)가 낮으면 금속 산화물 미립자 (B)가 막의 하부에 편재되어도 입자의 양이 적기 때문에 금속 산화물 미립자 (B)를 첨가한 효과(고굴 절률이나 도전성 등, 더욱이 반사 방지 성능 향상 효과, 대전 방지 성능 등)가 불충분해지는 경우가 있다. 금속 산화물 미립자 (B)의 농도 (CPB)가 너무 크면 얻어진 막 중의 입자의 비율이 너무 커서 금속 산화물 미립자 (A)와 혼합되거나 막 중에 금속 산화물 미립자 (B)가 전체에 걸쳐 분산된 막이 되어 본 발명의 2종 이상의 기능을 지닌 막이 얻어지지 않는 경우가 있다.It is preferable that the density | concentration (C PB ) as solid content in the coating film for transparent film formation of a metal oxide fine particle (B) is 0.1-20 weight%, Furthermore, it is the range of 0.2-15 weight%. When the concentration (C PB ) of the metal oxide fine particles (B) is low, the amount of particles is small even when the metal oxide fine particles (B) are unevenly distributed in the lower part of the film, so that the effect of adding the metal oxide fine particles (B) (such as high refractive index and conductivity, Moreover, the antireflection performance improvement effect, antistatic performance, etc.) may become insufficient. When the concentration (C PB ) of the metal oxide fine particles (B) is too large, the proportion of the particles in the obtained film is too large to be mixed with the metal oxide fine particles (A) or to be a film in which the metal oxide fine particles (B) are dispersed throughout the film. In some cases, a membrane having two or more functions of the invention cannot be obtained.

매트릭스 형성 성분Matrix forming components

본 발명은 특히 매트릭스 형성 성분으로서 하기 식 (2)로 표시되는 유기 규소 화합물 또는 이들의 가수분해물, 가수분해 중축합물 또는 소수성 관능기를 지닌 다관능 (메타)아크릴산에스테르 수지로 이루어진 소수성 매트릭스 형성 성분을 포함하는 매트릭스 형성 성분을 사용한다.The present invention particularly includes a hydrophobic matrix forming component composed of an organosilicon compound represented by the following formula (2) or a hydrolyzate, hydrolyzed polycondensate or a polyfunctional (meth) acrylic acid ester resin having a hydrophobic functional group as a matrix forming component. A matrix forming component is used.

소수성 실리콘계(졸겔계) 매트릭스 형성 성분으로는 하기 식 (2)로 표시되는 유기 규소 화합물 또는 이들의 가수분해물, 가수분해 중축합물을 사용한다.As the hydrophobic silicone-based (sol-gel-based) matrix forming component, an organosilicon compound represented by the following formula (2), hydrolyzate thereof, or hydrolyzed polycondensate thereof is used.

Rn'-SiX4 - n' (2)R n ' -SiX 4 - n' (2)

(단, 상기 식에서 R은 탄소수 1∼10의 비치환 또는 치환 탄화수소기이며 서로 동일하거나 상이할 수 있다. X는 탄소수 1∼4의 알콕시기, 실라놀기, 할로겐, 수소이며, n'는 1∼3의 정수임)(Wherein R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and may be the same or different from each other. X is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, silanol group, halogen, hydrogen, and n 'is 1 to 1). Is an integer of 3)

구체적으로는 상기 식 (2)로 표시되는 화합물 중 n이 0인 것을 제외한 것을 예로 들 수 있다. 이 중에서도 3,3,3-트리플루오로프로필트리메톡시실란, 메틸-3,3,3-트리플루오로프로필디메톡시실란 및 이들의 가수분해물, 가수분해 중축합물을 적절하게 사용할 수 있다.Specifically, the thing except n which is 0 among the compounds represented by said Formula (2) is mentioned. Among them, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, methyl-3,3,3-trifluoropropyldimethoxysilane, hydrolyzates and hydrolyzed polycondensates thereof can be suitably used.

소수성 유기 수지계 매트릭스 형성 성분으로는 비닐기, 우레탄기, 에폭시기, (메타)아크릴로일기, CF2기 등의 소수성 관능기를 지닌 다관능 (메타)아크릴산에스테르 수지를 들 수 있으며, 구체적으로는 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 부틸메타크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트, 2-에틸헥실메테크릴레이트, 이소데실메테크릴레이트, n-라우릴아크릴레이트, n-스테아릴아크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타크릴레이트, 퍼플루오로옥틸에틸메타크릴레이트, 트리플루오로에틸메타크릴레이트, 우레탄아크릴레이트 등 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.Examples of the hydrophobic organic resin matrix-forming component include polyfunctional (meth) acrylic acid ester resins having hydrophobic functional groups such as vinyl group, urethane group, epoxy group, (meth) acryloyl group, and CF 2 group, and specifically, pentaerythritol Triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, methyl methacrylate, ethyl Methacrylate, butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, isodecyl methacrylate, n-lauryl acrylate, n-stearyl acrylate, 1,6-hexanedioldi Methacrylate, perfluorooctylethyl methacrylate, trifluoroethyl methacrylate, urethane acryl Site and the like and mixtures thereof.

이들 수지는 에멀젼 수지, 수용성 수지, 친수성 수지이어도 좋다. 또한 열경화성 수지인 경우 자외선 경화형이어도 전자선 경화형이어도 좋으며 열경화성 수 지인 경우 경화 촉매를 포함하여도 좋다.These resins may be emulsion resins, water-soluble resins, and hydrophilic resins. In the case of a thermosetting resin, an ultraviolet curing type or an electron beam curing type may be used, and in the case of a thermosetting resin, a curing catalyst may be included.

본 발명에 사용하는 매트릭스 형성 성분은 소수성 매트릭스 형성 성분과 동시에 친수성 매트릭스 형성 성분을 포함하는 것이 바람직하다.It is preferable that the matrix formation component used for this invention contains a hydrophilic matrix formation component simultaneously with a hydrophobic matrix formation component.

친수성 매트릭스 형성 성분으로는 유기 규소 화합물 또는 이들의 가수분해물, 가수분해 중축합체 또는 친수성 관능기를 지닌 다관능 (메타)아크릴산에스테르 수지로 이루어진 친수성 매트릭스 형성 성분을 들 수 있다.The hydrophilic matrix forming component includes an organosilicon compound or a hydrolyzate thereof, a hydrolyzed polycondensate, or a hydrophilic matrix forming component made of a polyfunctional (meth) acrylic acid ester resin having a hydrophilic functional group.

SiX4 (3)SiX 4 (3)

(단, 상기 식에서 X는 탄소수 1∼4의 알콕시기, 실라놀기, 할로겐, 수소임)(Wherein X is an alkoxy group, silanol group, halogen or hydrogen having 1 to 4 carbon atoms)

식 (3)으로 표시되는 유기 규소 화합물로서 구체적으로는 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 테트라프로폭시실란, 테트라부톡시실란, 메틸트리메톡시실란 및 이들의 가수분해물, 가수분해 중축합체 등을 적절하게 사용할 수 있다.Specific examples of the organosilicon compound represented by formula (3) include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, methyltrimethoxysilane, hydrolyzate thereof, hydrolyzed polycondensate, and the like. Can be used as appropriate.

또한 친수성 유기 수지계 매트릭스 형성 성분으로는 수산기(OH기), 아미노기, 카르복실기, 설폰기 등의 친수성 관능기를 지닌 다관능 (메타)아크릴산에스테르 수지를 들 수 있으며 구체적으로는 수산기(OH기), 아미노기, 카르복실기, 설폰기 등의 친수성 관능기를 지닌 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사크릴레이트 등 외에 디에틸아미노메틸메타크릴레이트, 디메틸아미노메틸메타크릴레이트, 2-히드록시-3-아크릴로일옥시프로필아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 부톡시디에틸렌글리콜메타크릴레이트 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.Examples of the hydrophilic organic resin matrix-forming component include polyfunctional (meth) acrylic acid ester resins having hydrophilic functional groups such as hydroxyl group (OH group), amino group, carboxyl group and sulfone group, and specifically, hydroxyl group (OH group), amino group, Pentaerythritol triacrylate having hydrophilic functional groups such as carboxyl group and sulfone group, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and the like. In addition to diethylaminomethyl methacrylate, dimethylaminomethyl methacrylate, 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl acrylate, methoxytriethylene glycol dimethacrylate, butoxydiethylene glycol methacrylate and these And mixtures thereof.

친수성 매트릭스 형성 성분을 소수성 매트릭스 형성 성분과 혼합하여 사용하면 금속 산화물 미립자 (A)와 금속 산화물 미립자 (B)의 분리가 쉬워져 2층으로 나누어진 막을 용이하게 얻을 수 있다.When the hydrophilic matrix forming component is used in combination with the hydrophobic matrix forming component, separation of the metal oxide fine particles (A) and the metal oxide fine particles (B) becomes easy, and a film divided into two layers can be easily obtained.

친수성 매트릭스 형성 성분의 고형분으로서의 농도 (CMA)와 소수성 매트릭스 형성 성분의 고형분으로서의 농도 (CMB)의 농도비 (CMA)/(CMB)가 0.01∼1의 범위, 더욱이 0.05∼0.5의 범위인 것이 바람직하다.The concentration ratio (C MA ) / (C MB ) of the concentration (C MA ) as the solid content of the hydrophilic matrix-forming component and the concentration (C MB ) as the solid content of the hydrophobic matrix-forming component is in the range of 0.01 to 1, moreover, in the range of 0.05 to 0.5. It is preferable.

농도비 (CMA)/(CMB)가 작으면 친수성 매트릭스 형성 성분이 적어져 실질적으로 소수성 매트릭스 형성 성분에 근접하게 되어 금속 산화물 미립자 (A)(상부)와 금속 산화물 미립자 (B)(하부)를 분리하는 효과가 불충분해진다. 상기 농도비 (CMA)/(CMB)가 1을 초과하면 친수성 매트릭스 형성 성분이 많은 표면 전하량이 높은 금속 산화물 미립자 (B)가 하층에 편재하지 않는 경우가 있다.When the concentration ratio (C MA ) / (C MB ) is small, the hydrophilic matrix forming component is small and substantially closes to the hydrophobic matrix forming component, so that the metal oxide fine particles (A) (top) and the metal oxide fine particles (B) (bottom) Separation effect becomes insufficient. When the concentration ratio (C MA ) / (C MB ) exceeds 1, the metal oxide fine particles (B) having a high amount of surface charge with a large number of hydrophilic matrix forming components may not be localized in the lower layer.

극성 용매Polar solvent

본 발명에 사용하는 극성용매로는 상기 다관능 (메타)아크릴산에스테르 수지를 용해함과 동시에 용이하게 휘발할 수 있는 용매가 적절하게 사용된다.As a polar solvent used for this invention, the solvent which can melt | dissolve and easily volatilize said polyfunctional (meth) acrylic acid ester resin is used suitably.

구체적으로는 물; 메탄올, 에탄올, 프로판올, 2-프로판올, 부탄올, 디아세톤알코올, 퍼퍼릴알코올(furfuryl alcohol), 테트라히드로퍼퍼릴알코올, 에틸렌글리콜, 헥실렌글리콜, 이소프로필글리콜 등의 알코올류; 아세트산메틸에스테르, 아세트산에틸에스테르, 아세트산부틸 등의 에스테르류; 디에틸에테르, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 에테르류; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 아세틸아세톤, 아세토아세트산에스테르 등의 케톤류 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용해도 좋고 2종 이상 혼합하여 사용해도 좋다. 또한 메틸세로솔브, 에틸세로솔브, 부틸세로솔브, 톨루엔, 시클로헥사논, 이소포론 등도 사용할 수 있다.Specifically water; Alcohols such as methanol, ethanol, propanol, 2-propanol, butanol, diacetone alcohol, furfuryl alcohol, tetrahydrofuryl alcohol, ethylene glycol, hexylene glycol and isopropyl glycol; Esters such as methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate; Ethers such as diethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, and propylene glycol monomethyl ether; Ketones, such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, acetyl acetone, and acetoacetic acid ester, etc. are mentioned. These may be used independently, or may mix and use 2 or more types. Methyl vertical solver, ethyl vertical solver, butyl vertical solver, toluene, cyclohexanone, isophorone and the like can also be used.

상기한 금속 산화물 미립자 (A), 필요에 따라 사용하는 금속 산화물 미립자 (B), 매트릭스 형성 성분 및 극성 용매를 원하는 양의 비가 되도록 적절하게 혼합하면 본 발명의 투명 피막 형성용 도료를 제조할 수 있다.The above-mentioned metal oxide fine particles (A), the metal oxide fine particles (B) to be used as necessary, the matrix forming component and the polar solvent are suitably mixed so as to have a desired amount of ratio, so that the paint for forming a transparent film of the present invention can be produced. .

이와 같은 투명 피막 형성용 도료를 디핑법, 스프레이법, 스피나법, 롤코팅법, 바코팅법, 그라비아 인쇄법, 마이크로 그라비아 인쇄법 등의 주지의 방법으로 기재에 도포하고, 건조시키고, 자외선 조사, 가열처리 등 통상의 방법으로 경화시켜 투명 피막을 형성할 수 있다.This transparent film-forming coating material is applied to a substrate by known methods such as dipping, spraying, spina, roll coating, bar coating, gravure printing, microgravure printing, and the like, and dried, and irradiated with ultraviolet rays, It can harden | cure by a conventional method, such as heat processing, and can form a transparent film.

매트릭스 형성 성분이 유기 규소 화합물인 경우 가수분해 촉매로서 산이나 알칼리를 포함해도 좋다. 또한 매트릭스 형성 성분이 다관능 (메타)아크릴산에스테르 수지를 포함하는 경우 중합 개시제를 포함해도 좋다. 중합 개시제로는 공지된 것이면 특별히 제한하지 않고 사용하며 구체적으로는 상기 표면 처리에 사용한 것과 동일한 것을 들 수 있다.When the matrix forming component is an organosilicon compound, an acid or an alkali may be included as the hydrolysis catalyst. Moreover, when a matrix formation component contains polyfunctional (meth) acrylic acid ester resin, you may contain a polymerization initiator. As a polymerization initiator, if it is well-known, it will use without a restriction | limiting and specifically, the same thing as what was used for the said surface treatment is mentioned.

투명 피막부 기재Transparent coating part base material

본 발명의 투명 피막의 부여된 기재는 기재상에 투명 피막이 형성된 투명 피막부 기재로 투명 피막의 표면 전하량 (QA)이 5∼80 μeq/g의 범위인 소수성 금속 산화물 미립자 (A)와 매트릭스 성분으로 이루어지며, 금속 산화물 입자 (A)가 투명 피막의 상부에 층을 형성하여 편재되고 투명 피막 중의 금속 산화물 미립자 (A)의 함유량 (WPA)이 0.2∼90 중량%의 범위이며, 매트릭스 성분의 함유량 (WM)이 10∼99.8 중량%의 범위임을 특징으로 한다. 또한 투명 피막 중의 각 성분의 양의 비, 도포액 중의 그 양의 비에 상당한다.The substrate to which the transparent coating of the present invention is applied is a transparent coating part substrate in which a transparent coating is formed on the substrate. The hydrophobic metal oxide fine particles (A) and the matrix component having a surface charge amount (Q A ) of the transparent coating in the range of 5 to 80 μeq / g. Wherein the metal oxide particles (A) are localized by forming a layer on top of the transparent film, and the content (W PA ) of the metal oxide fine particles (A) in the transparent film is in the range of 0.2 to 90% by weight, It is characterized by the content (W M ) of 10 to 99.8 weight%. Moreover, it corresponds to the ratio of the quantity of each component in a transparent film, and the ratio of the quantity in a coating liquid.

기재materials

본 발명에 사용하는 기재로는 종래 공지의 것을 특별히 제한하는 않고 사용할 수 있으며 유리, 폴리카보네이트, 아크릴계 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 트리아세틸세룰로오스(TAC), 시클로폴리올레핀, 노르보르넨 등의 플라스틱 시트, 플라스틱 필름 등, 플라스틱 판넬 등을 들 수 있다. 이 중에서도 수지계 기재를 적절하게 사용할 수 있다. 또한 이와 같은 기재상에 다른 피막이 형성된 피막부 기재를 사용할 수도 있다.As a base material used for this invention, a conventionally well-known thing can be used without a restriction | limiting in particular, Glass, a polycarbonate, acrylic resin, polyethylene terephthalate (PET), triacetyl cellulose (TAC), cyclopolyolefin, norbornene, etc. Plastic panels, plastic panels, etc. are mentioned. Among these, a resin base material can be used suitably. Moreover, the coating part base material in which the other film was formed on such a base material can also be used.

금속 산화물 미립자 (A)Metal Oxide Fine Particles (A)

금속 산화물 미립자 (A)로서 상기한 금속 산화물 미립자 (A)와 동일한 것을 사용한다. 투명 피막 중의 금속 산화물 미립자 (A)의 함유량 (WPA)이 0.2∼90 중량%, 더욱이 5∼80 중량%의 범위인 것이 바람직하다.As metal oxide fine particles (A), the same thing as the above-mentioned metal oxide fine particles (A) is used. Transparent content (W PA) is 0.2~90% by weight of the metal oxide fine particles (A) in the coating film, and further preferably in the range of 5 to 80% by weight.

금속 산화물 미립자 (A)의 함유량 (WPA)이 적은 경우는 막의 상부에 편재되어도 입자의 양이 적기 때문에 저굴절률, 고굴절률, 도전성 등의 입자가 지닌 특성에 기초한 반사 방지 성능, 대전 방지 성능 등의 기능이 충분히 발현될 수 없는 경우가 있다. 또한 금속 산화물 미립자 (A)의 함유량 (WPA)이 너무 많아도 실질적으로 금속 산화물 미립자 (A)가 전체에 걸쳐 존재하여 본 발명의 2종 이상의 기능을 지닌 투명 피막이 되지 않으며 또한 기재와의 밀착성이 불충분해지는 경우가 있다.When the content (W PA ) of the metal oxide fine particles (A) is small, since the amount of particles is small even when localized on the top of the film, antireflection performance, antistatic performance, etc. based on characteristics of particles such as low refractive index, high refractive index, and conductivity The function of may not be fully expressed. In addition, even if the content (W PA ) of the metal oxide fine particles (A) is too large, the metal oxide fine particles (A) are substantially present throughout, which is not a transparent coating having two or more functions of the present invention, and the adhesion to the substrate is insufficient. There may be a case.

투명 피막 중에서 소수성 금속 산화물 미립자 (A)는 투명 피막 중에서 상부에 층을 형성하여 편재되어 있다. 이와 같은 상태를 도 1에 모식화하여 나타내었다.Hydrophobic metal oxide microparticles | fine-particles (A) are transparently formed in a transparent film in the transparent film, and are unevenly distributed. Such a state is schematically illustrated in FIG. 1.

금속 산화물 미립자 (B)Metal Oxide Fine Particles (B)

본 발명의 투명 피막부 기재의 투명 피막에는 금속 산화물 미립자 (B)를 더욱 포함해도 좋다. 금속 산화물 미립자 (B)는 피막 중에서 층을 형성하여 편재되어 있거나 상기 금속 산화물 미립자 (A)로 이루어지는 층과 기재 표면의 사이에 분산되어 있다. 이와 같은 상태를 도 2, 3, 4에 모식적으로 나타내었다. 도 2는 투명 피막의 하층에 편재되어 있는 예이며, 도 3은 금속 산화물 미립자 (A) 층 바로 아래에 존재하는 층에 편재된 예이며, 도 4는 금속 산화물 미립자 (A) 층의 아래에 편재하지 않고 분산된 것을 나타낸다.The transparent coating on the base of the transparent coating part of the present invention may further contain metal oxide fine particles (B). The metal oxide fine particles (B) are localized by forming a layer in the film or are dispersed between the layer composed of the metal oxide fine particles (A) and the substrate surface. Such a state is shown typically in FIG. 2, 3, 4. FIG. FIG. 2 is an example which is unevenly distributed in the lower layer of the transparent film, FIG. 3 is an example which is unevenly distributed in the layer immediately below the metal oxide fine particles (A) layer, and FIG. 4 is unevenly distributed under the metal oxide fine particles (A) layer. It is shown to be dispersed without.

금속 산화물 미립자 (B)로는 상기한 금속 산화물 미립자 (B)와 동일한 것을 사용할 수 있다.As metal oxide fine particles (B), the same thing as the above-mentioned metal oxide fine particles (B) can be used.

투명 피막 중의 금속 산화물 미립자 (B)의 함유량 (WPB)은 0.1∼40 중량%, 더욱이 0.2∼30 중량%의 범위인 것이 바람직하다. 금속 산화물 미립자 (B)의 함유량 (WPB)이 적으면 막의 하부에 편재되어도 입자의 양이 적기 때문에 입자가 지닌 특성(도전성, 고굴절률, 저굴절률, 기재와의 밀착성 향상 등)이 충분히 발현될 수 없는 경우가 있다. 금속 산화물 미립자 (B)의 함유량 (WPB)이 너무 많으면 상부에 배열되어 있는 금속 산화물 미립자 (A)와 혼합된 상태가 되어 본 발명의 2종 이상의 기능을 지닌 투명 피막이 얻어지지 않는 경우가 있다.The content (W PB ) of the metal oxide fine particles (B) in the transparent coating is preferably in the range of 0.1 to 40% by weight, more preferably 0.2 to 30% by weight. When the content (W PB ) of the metal oxide fine particles (B) is small, the amount of particles is small even when localized at the bottom of the film, so that the characteristics of the particles (conductivity, high refractive index, low refractive index, improved adhesion to the substrate, etc.) can be sufficiently expressed. You may not be able to. When the content (W PB ) of the metal oxide fine particles (B) is too large, it may be in a mixed state with the metal oxide fine particles (A) arranged at the top, so that a transparent coating having two or more functions of the present invention may not be obtained.

매트릭스 성분Matrix components

매트릭스 성분으로는 실리콘계(졸겔계) 매트릭스 성분, 유기 수지계 매트릭스 성분 등을 사용할 수 있다.As the matrix component, a silicone (sol gel) matrix component, an organic resin matrix component, or the like can be used.

실리콘계 매트릭스 성분으로는 상기 식 (2)와 동일한 유기 규소 화합물의 가수분해 중축합물을 적절하게 이용할 수 있다. 이들 중에서도 3,3,3-트리플루오로프로필트리메톡시실란, 메틸-3,3,3-트리플루오로프로필디메톡시실란의 가수분해 중축합물을 적절하다.As a silicone matrix component, the hydrolyzed polycondensate of the organosilicon compound similar to the said Formula (2) can be used suitably. Among these, hydrolyzed polycondensates of 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane and methyl-3,3,3-trifluoropropyldimethoxysilane are suitable.

또한 유기 수지계 매트릭스 성분으로는 도료용 수지로서 공지의 열경화성 수지, 열가소성 수지, 전자선 경화 수지 등을 들 수 있다.Moreover, as an organic resin matrix component, well-known thermosetting resin, a thermoplastic resin, an electron beam curing resin, etc. are mentioned as resin for coatings.

구체적으로는 소수성 관능기를 지닌 다관능 (메타)아크릴산에스테르 수지가 바람직하다. 소수성 유기 수지계 매트릭스 성분으로는 비닐기, 우레탄기, 에폭시기, (메타)아크릴로일기, CF2기 등의 소수성 관능기를 지닌 다관능 (메타)아크릴산에스테르 수지를 들 수 있으며, 구체적으로는 상기한 것과 동일한 것을 들 수 있다.Specifically, the polyfunctional (meth) acrylic acid ester resin having a hydrophobic functional group is preferable. Examples of the hydrophobic organic resin matrix component include polyfunctional (meth) acrylic acid ester resins having hydrophobic functional groups such as vinyl groups, urethane groups, epoxy groups, (meth) acryloyl groups, and CF 2 groups. The same thing can be mentioned.

또한 이와 같은 수지로는 예를 들면 종래부터 사용하고 있는 폴리에스테르 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리아미드 수지, 폴리페닐렌옥사이드 수지, 열가소성 아크릴 수지, 염화비닐 수지, 불소 수지, 아세트산비닐 수지, 실리콘 고무 등의 열가소성 수지, 우레탄 수지, 멜라민 수지, 규소 수지, 부티랄 수지, 반응성 실리콘 수지, 페놀 수지, 에폭시 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 열경화성 아크릴 수지, 자외선 경화형 아크릴 수지 등의 열경화성 수지 등을 들 수 있다. 또한 이들 수지의 2종 이상의 공중합체나 변성체이어도 좋다.As such resins, for example, conventionally used polyester resins, polycarbonate resins, polyamide resins, polyphenylene oxide resins, thermoplastic acrylic resins, vinyl chloride resins, fluorine resins, vinyl acetate resins, silicone rubbers, etc. And thermosetting resins such as thermoplastic resins, urethane resins, melamine resins, silicon resins, butyral resins, reactive silicone resins, phenol resins, epoxy resins, unsaturated polyester resins, thermosetting acrylic resins and ultraviolet curing acrylic resins. Moreover, 2 or more types of copolymers and modified bodies of these resin may be sufficient.

이들 수지는 에멀젼 수지, 수용성 수지, 친수성 수지이어도 좋다. 또한 열결화성 수지의 경우 자외선 경화형인 것도 전자선 경화형인 것도 좋으며, 열경화성 수지의 경우 경화 촉매를 포함해도 좋다.These resins may be emulsion resins, water-soluble resins, and hydrophilic resins. In the case of the thermosetting resin, the ultraviolet curing type or the electron beam curing type may be used, and in the case of the thermosetting resin, a curing catalyst may be included.

본 발명에 사용하는 매트릭스 성분은 친수성 매트릭스 성분과 소수성 매트릭 스 성분으로 이루어지는 것이 바람직하다. 특히 금속 산화물 미립자 (B)를 포함하고 있는 것이 금속 산화물 미립자 (B)의 분산성, 편재성의 관점에서 적절하다.It is preferable that the matrix component used for this invention consists of a hydrophilic matrix component and a hydrophobic matrix component. It is suitable from the viewpoint of the dispersibility and the ubiquitous property of metal oxide fine particle (B) especially containing metal oxide fine particle (B).

실리콘계의 매트릭스 성분을 사용하는 경우 친수성 실리콘계(졸겔계) 매트릭스 성분과 병용하는 것이 친화성 관점에서 적절하며, 하기 식 (3)으로 표시되는 유기 규소 화합물의 가수분해 중축합제를 사용한다.When using a silicone matrix component, it is suitable from the viewpoint of affinity to use together with a hydrophilic silicone-based (sol-gel type) matrix component, and the hydrolysis polycondensation agent of the organosilicon compound represented by following formula (3) is used.

Rn-SiX4 -n (3)R n -SiX 4- n (3)

(단, 상기 식에서 R은 탄소수 1∼10의 비치환 또는 치환 탄화수소기이며 서로 동일하거나 상이할 수 있다. X는 탄소수 1∼4의 알콕시기, 실라놀기, 할로겐, 수소이며, n은 0인 정수임)(Wherein R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and may be the same or different from each other. X is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, silanol group, halogen, hydrogen, and n is an integer of 0.) )

구체적으로는 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 테트라프로폭시실란, 테트라부톡시실란, 메틸트리메톡시실란의 가수분해 중축합체를 적절하게 사용할 수 있다.Specifically, hydrolyzed polycondensates of tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane and methyltrimethoxysilane can be suitably used.

또한 친수성 유기 수지계 매트릭스 성분으로는 수산기(OH기), 아미노기, 카르복실기, 설폰기 등의 친수성 관능기를 지닌 다관능 (메타)아크릴산에스테르 수지를 들 수 있으며, 구체적으로는 상기한 것을 들 수 있다.Moreover, as a hydrophilic organic resin matrix component, the polyfunctional (meth) acrylic acid ester resin which has hydrophilic functional groups, such as a hydroxyl group (OH group), an amino group, a carboxyl group, and a sulfone group, is mentioned, Specifically, the above-mentioned thing is mentioned.

친수성 매트릭스 성분의 고형분으로서의 함유량 (WMA)와 소수성 매트릭스 성분의 고형분으로서의 함유량 (WMB)의 함유량비 (WMA)/(WMB)가 0.01∼1, 더욱이 0.05∼0.5의 범위인 것이 바람직하다.The content ratio (W MA) / (W MB ) having a solid content as the content of the hydrophilic matrix composition (W MA) with a solid content as the content of the hydrophobic matrix components (W MB) is preferably in the range of 0.01 to 1, and further 0.05 to 0.5 .

(WMA)/(WMB)가 작으면 친수성 매트릭스 형성 성분이 적어져 실질적으로 소수성 매트릭스 형성 성분에 근접하여 금속 산화물 미립자 (A)(상부)와 금속 산화물 미립자 (B)(하부)를 분리하는 효과가 불충분해진다. 또한 (WMA)/(WMB)가 너무 커도 친수성 매트릭스 형성 성분이 커져 표면 전하량이 높은 금속 산화물 미립자 (B)가 하층에 편재하지 않는 경우가 있다.When (W MA ) / (W MB ) is small, the hydrophilic matrix forming component is small, and the metal oxide fine particles (A) (top) and the metal oxide fine particles (B) (bottom) are separated substantially in proximity to the hydrophobic matrix forming component. The effect becomes insufficient. Moreover, even if (W MA ) / (W MB ) is too large, the hydrophilic matrix forming component may become large, and the metal oxide fine particles (B) having a high surface charge amount may not be localized in the lower layer.

투명 피막 중의 친수성 매트릭스 성분의 함유량 (WMA)은 10∼99.8 중량%, 더욱이 20∼99.5 중량%의 범위인 것이 바람직하다. 투명 피막 중의 매트릭스 성분의 함유량 (WMA)가 적으면 막 중의 입자의 비율이 너무 커져 실질적으로 막 중에 금속 산화물 미립자가 전체에 걸쳐 균일하게 분산된 막이 되어 본 발명의 2종 이상의 기능을 지닌 막이 얻어지지 않는 경우가 있다.The content of the hydrophilic transparent matrix components in the coating film (W MA) is preferably in the range of 10~99.8% by weight, and further 20~99.5% by weight. When the content (W MA ) of the matrix component in the transparent film is small, the proportion of particles in the film becomes too large to substantially form a film in which metal oxide fine particles are uniformly dispersed throughout the film, thereby obtaining a film having two or more functions of the present invention. You may not lose.

투명 피막 중의 친수성 매트릭스 성분의 함유량 (WMA)이 너무 커져도 입자의 양이 적어지기 때문에 입자가 지닌 특성(저굴절율이나 도전성 등)에 의한 반사 방지 성능, 대전 방지 성능 등이 불충분해지는 경우가 있다.Even if the content (W MA ) of the hydrophilic matrix component in the transparent film is too large, the amount of the particles is small, so that the antireflection performance, antistatic performance, etc., due to the characteristics (low refractive index, conductivity, etc.) of the particles may be insufficient.

본 발명의 투명 피막의 막 두께는 용도에 따라 달라지지만 보통 30 nm∼12 μm, 더욱이 70 nm∼10 μm의 범위인 것이 바람직하다. 1층에서 2종 이상의 기능을 부여할 경우 이 정도의 두께를 필요로 한다.Although the film thickness of the transparent film of this invention changes with a use, it is preferable that it is usually the range of 30 nm-12 micrometers, Furthermore, 70 nm-10 micrometers. If two or more kinds of functions are provided in the first floor, this thickness is required.

또한 투명 피막의 막 두께가 30 nm 미만인 경우는 실질적으로 2층으로 분리된 투명 피막을 형성하는 것이 곤란하고, 막 두께가 12 μm을 초과하면 투명 피막에 크랙을 발생시키거나 플라스틱 등의 기재에서는 컬링(만곡 혹은 휘어짐)이 발생되는 경우가 있다.In addition, when the film thickness of the transparent film is less than 30 nm, it is difficult to form a transparent film that is substantially divided into two layers. If the film thickness exceeds 12 μm, cracks are generated in the transparent film or curled on a substrate such as plastic. (Curvature or warpage) may occur.

투명 피막의 바람직한 양태는 하기와 같다.Preferable embodiments of the transparent coating are as follows.

(1) 상부가 저굴절률의 반사 방지막 혹은 방현성막으로 하부가 하드 코팅막, 고굴절률막, 도전성막 등인 경우는 반사 방지막부의 막 두께가 40 nm∼10 μm, 더욱이 60 nm∼8 μm의 범위인 것이 바람직하다.(1) When the upper part is a low refractive index or anti-glare film, and the lower part is a hard coating film, a high refractive index film, a conductive film, or the like, the film thickness of the antireflection film portion is in the range of 40 nm to 10 μm, and more preferably 60 nm to 8 μm. It is preferable.

반사 방지막의 막 두께가 얇은 경우 플레넬 원리로부터 벗어난 광학막 두께가 되어 충분한 반사 방지 성능이 얻어지지 않는 경우가 있다. 반사 방지막의 막 두께가 너무 두꺼워도 막의 수축에 의해 기제의 종류에 따라서는 예를 들면 얇은 PET 필름 등의 경우는 컬링이 발생되는 경우가 있다.In the case where the antireflection film is thin, the optical film thickness deviating from the Planel principle may be obtained and sufficient antireflection performance may not be obtained. Even if the film thickness of the antireflection film is too thick, curling may occur depending on the type of base, for example, in the case of a thin PET film due to shrinkage of the film.

이때 하부의 막의 굴절률은 통상 1.48∼2.20의 범위인 것이 바람직하며, 상부의 반사 방지막부의 굴절률은 통상 1.45 이하의 범위인 것이 바람직하다.In this case, the refractive index of the lower film is preferably in the range of 1.48 to 2.20, and the refractive index of the upper antireflection film is usually in the range of 1.45 or less.

이때 투명 피막은 저반사성, 방현성을 지니고 하층이 고굴절률막이면 높은 반사 방지 성능을 지니며 또한 하층이 소수성 금속 산화물 미립자 (B)로서 오산화안티몬 미립자를 포함하는 경우는 높은 하드 코팅 성능과 동시에 대전 방지 성능을 지니며, ATO나 ITO 입자를 포함하는 경우는 대전 방지 성능과 동시에 열선 차폐 성능을 지니며, 산화티탄을 포함하는 경우는 자외선 흡수성능을 지닌다.At this time, the transparent film has low reflectivity and anti-glare property, and if the lower layer is a high refractive index film, it has a high anti-reflection performance. Also, if the lower layer contains hydrophobic metal oxide fine particles (B) and antimony pentoxide particles, it is charged with high hard coating performance. In the case of containing ATO or ITO particles, it has anti-static performance and heat shielding at the same time, and in the case of containing titanium oxide, it has ultraviolet absorbing performance.

(2) 도전성막으로서 사용하는 경우 도전성막부의 막 두께는 30 nm∼10 μm, 더욱이 60 nm∼8 μm의 범위인 것이 바람직하다. 도전성막부의 막 두께가 30 nm 미만인 경우는 기능이 상이한 분리된 다른 막의 형성이 곤란하며 또한 충분한 도전 패스가 형성되지 않기 때문에 도전성이 불충분해지는 경우가 있다.(2) When used as a conductive film The film thickness of the conductive film portion is preferably in the range of 30 nm to 10 m and more preferably 60 nm to 8 m. When the thickness of the conductive film portion is less than 30 nm, the formation of another separated film having different functions is difficult, and sufficient conductive paths are not formed, which may result in insufficient conductivity.

도전성막의 막 두께가 10 μm를 초과하면 막의 수축이 커지기 때문에 기재가 얇은 플라스틱 필름 등의 경우는 컬링이 발생되는 경우가 있다.When the film thickness of the conductive film exceeds 10 m, the film shrinks, so curling may occur in the case of a thin plastic film or the like.

이와 같은 도전성막부를 지닌 투명 피막의 표면 저항값은 103∼1013 Ω/□의 범위인 것이 바람직하다.It is preferable that the surface resistance value of the transparent film which has such a conductive film part is a range of 10 <3> -10 <13> Pa / square.

상부가 도전성막인 경우 상기 (1)의 경우를 제외하고 하부는 입자가 존재하지 않는 경우에도 하드 코팅성을 지닌다.When the upper portion is a conductive film, except for the case of (1) above, the lower portion has hard coating property even when no particles are present.

또한 하부가 소수성 금속 산화물 미립자 (B)로서 산화 티탄 입자를 포함하는 경우는 자외선 흡수 성능을 지니며 저굴절률 미립자를 포함하는 경우는 저유전율 특성을 지닌다.In addition, when the lower part contains titanium oxide particles as the hydrophobic metal oxide fine particles (B), it has ultraviolet absorption performance, and when it contains low refractive index fine particles, it has low dielectric constant.

(3) 고굴절률막으로서 사용할 경우, 고굴절률막부의 막 두께는 40 nm∼10 μm, 더욱이 60 nm∼8 μm의 범위인 것이 바람직하다.(3) When used as a high refractive index film, it is preferable that the film thickness of the high refractive index film portion is in the range of 40 nm to 10 m and more preferably 60 nm to 8 m.

고굴절률막부의 막 두께가 얇은 경우는 기능이 상이한 분리된 다른 막의 형성이 곤란하며 또한 다른 기능을 지닌 입자 혹은 매트릭스의 굴절률에 따라서는 원하는 굴절율을 지닌 층을 형성할 수 없는 경우가 있다. 또한 고굴절률막부의 막 두께가 두꺼우면 막의 수축이 커지기 때문에 기재가 얇은 플라스틱 필름 등의 경우는 컬링이 발생되는 경우가 있다.When the film thickness of the high refractive index film portion is thin, it is difficult to form separate films having different functions, and in some cases, a layer having a desired refractive index may not be formed depending on the refractive index of the particles or the matrix having different functions. In addition, when the film thickness of the high refractive index film portion is thick, the film shrinks, so curling may occur in the case of a thin plastic film or the like.

고굴절률막부의 굴절율은 통상 1.52∼2.00의 범위인 것이 바람직하다. 상부가 고굴절률막인 경우, 하부는 입자가 존재하지 않는 경우이어도 하드 코팅성을 지닌다.It is preferable that the refractive index of the high refractive index film portion is usually in the range of 1.52 to 2.00. In the case where the upper portion is a high refractive index film, the lower portion has hard coating property even when no particles are present.

또한 하부가 소수성 금속 산화물 미립자 (B)로서 ATO, ITO를 포함하는 경우는 도전성, 대전 방지 성능, 적외선 차폐 성능을 지니며, 오산화안티몬, 인 도핑 산화주석을 포함하는 경우는 대전 방지 성능, 하드 코팅성능을 기지며, 저굴절률의 실리카 입자 혹은 중공 실리카 미립자 등을 포함하는 경우는 높은 하드 코팅 성능, 저유전율 성능을 지닌다.In addition, when the lower part contains ATO and ITO as the hydrophobic metal oxide fine particles (B), the lower part has conductivity, antistatic performance, and infrared shielding performance, while antimony performance and hard coating are included when antimony pentoxide and phosphorus doped tin oxide are included. In the case of containing low refractive index silica particles or hollow silica fine particles, it has high hard coating performance and low dielectric constant performance.

본 발명의 투명 피막부 기재는 상기한 투명 피막 형성용 도료를 기재상에 도포하고, 건조시키고, 경화시켜 제조할 수 있다. 도포 방법으로는 상기 도료를 디핑법, 스프레이법, 스피나법, 롤코팅법, 바코팅법, 그라비아 인쇄법, 마이크로 그라비아 인쇄법 등의 주지의 방법으로 기재에 도포 건조하여 열경화성 수지의 경우는 경화시킨 후 가열 처리를 행하고, 자외선 경화 수지의 경우는 자외선 400 mJ/㎠ 정도로 조사하여 경화시켜 형성할 수 있다.The transparent coating part base material of this invention can be manufactured by apply | coating the said coating film for transparent film formation on a base material, drying, and hardening. As a coating method, the paint is applied and dried on a substrate by well-known methods such as dipping, spraying, spina, roll coating, bar coating, gravure printing, and micro gravure printing. After the heat treatment, the ultraviolet curable resin can be formed by irradiating with ultraviolet light at about 400 mJ / cm 2 to cure it.

또한 본 발명의 투명 피막부 기재에는 기재와 상기 투명 피막 간에 및/또는 투명 피막상에 상기 투명 피막과 상이한 다른 피막을 설치할 수 있다. 다른 피막으로서는 종래 공지의 하드 코팅막, 고굴절률막, 도전성막, 저굴절률막, 방현성막, 적외선 차폐막, 자외선 차폐막이어도 좋고 본 발명의 하드 코팅 기능을 지니는 투명피막, 고굴절률의 투명 피막, 도전성을 지닌 투명 피막 등이어도 좋다.The transparent coating part substrate of the present invention may be provided with another coating different from the transparent coating between the substrate and the transparent coating and / or on the transparent coating. Other coatings may be a conventionally known hard coating film, high refractive index film, conductive film, low refractive film, anti-glare film, infrared shielding film, ultraviolet shielding film, a transparent film having a hard coating function of the present invention, a high refractive index transparent film, and conductive material. A transparent film or the like may be used.

(실시예)(Example)

이하, 본 발명을 실시예에 의해 설명하지만 본 발명은 이러한 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, this invention is not limited by these Examples.

(실시예 1)(Example 1)

투명 피막 형성용 도료 (A-1)의 제조Production of Transparent Film-forming Paint (A-1)

저굴절률 성분으로서 실리카계 중공 미립자 분산졸(촉매화성공업(주) 제조: 스룰리아 1420, 평균 입자 지름 60 nm, 농도 20.5 중량%, 분산매: 이소프로판올, 입자 굴절률 1.30)을 사용하였다. 이 졸 100 g에 퍼플루오로옥틸에틸트리에톡시실란 10 g(히가시레다우코닝구 제조 AY43-158E 100%)를 혼합하여 초순수를 10 g 첨가하여 40℃에서 5시간 교반하여 표면 처리한 실리카계 중공 미립자 분산졸을 얻었다(고형분 19.3 중량%).As the low refractive index component, a silica-based hollow fine particle dispersion sol (manufactured by Catalytic Co., Ltd .: Sluria 1420, an average particle diameter of 60 nm, a concentration of 20.5 wt%, a dispersion medium: isopropanol, and a particle refractive index of 1.30) was used. 10 g of perfluorooctylethyltriethoxysilane (100% of AY43-158E manufactured by Higashi Red Dow Corning) was mixed with 100 g of this sol, and 10 g of ultrapure water was added thereto, followed by stirring at 40 ° C. for 5 hours for surface treatment. A hollow particulate dispersion sol was obtained (solid content 19.3 wt%).

이 표면 처리한 실리카계 중공 미립자 분산졸의 표면 전하량을 측정한 결과 8.3 μeq/g이었다. 이 표면 처리한 실리카계 중공 미립자 분산졸 15.5 g과 헥사에리스리톨트리펜타크릴레이트(일본화약(주): KAYARAD DPHA) 30 g에 광개시제(티바스프샤리티(주) 제조 이루가큐아 184, IPA로 용해, 고형분 농도 10%) 0.42 g 및 이 소프로판올과 메틸이소부틸케논의 1/1(중량비) 혼합 용매 54.08 g을 충분히 혼합하여 투명 피막 형성용 도포액 (A-1)을 제조하였다.It was 8.3 microeq / g when the surface charge quantity of this surface-treated silica-type hollow fine particle dispersion sol was measured. 15.5 g of this surface-treated silica-based hollow fine particle dispersion sol and 30 g of hexaerythritol tripentaacrylate (Japan Kayaku Co., Ltd.) (KAYARAD DPHA) are dissolved with a photoinitiator (Irugacua 184, manufactured by Tiba Sprasha Co., Ltd.) and IPA. 0.42 g of solid content concentration 10%) and 54.08 g of a 1/1 (weight ratio) mixed solvent of isopropanol and methyl isobutyl kenone were sufficiently mixed to prepare a coating liquid (A-1) for forming a transparent film.

투명 Transparency 피막부Film 기재 (1)의 제조 Preparation of the base material (1)

투명 피막부 형성용 도포액 (A-1)을 PET 필름(두께 100 μm, 굴절률 1.65, 기재 투과율 88.0%, 헤이즈 1.0%, 반사율 5.1%)에 바코팅으로 도포하고 70℃에서 1분간 건조시킨 후 고압수은등(80 W/cm)을 1분간 조사하여 경화시켜 투명 피막부 기재 (1)을 제조하였다. 이때 투명 피막의 막 두께는 5μm이었다. 투명 피막의 일부를 종방향으로 수직으로 절단하고 단면을 투과형 전자 현미경으로 관찰한 결과 상부에 실리카계 중공 미립자가 두께 100 nm 층을 형성하고 있었고 하부는 매트릭스뿐으로 입자의 존재는 확인되지 않았다.The coating liquid (A-1) for forming a transparent coating part was applied to a PET film (thickness 100 μm, refractive index 1.65, substrate transmittance 88.0%, haze 1.0%, reflectance 5.1%) by bar coating, and dried at 70 ° C. for 1 minute. A high pressure mercury lamp (80 W / cm) was irradiated for 1 minute and cured to prepare a transparent coating part substrate (1). At this time, the film thickness of the transparent film was 5 micrometers. A part of the transparent film was cut vertically in the vertical direction and the cross section was observed by a transmission electron microscope. As a result, silica-based hollow fine particles formed a 100 nm thick layer on the upper part, and the presence of particles was not confirmed only by the matrix on the lower part.

얻어진 투명 피막부 기재 (1)의 표면 저항값, 전광선 투과율, 헤이즈, 파장 550 nm의 광선의 반사율을 측정하였다. 결과를 표 1에 나타내었다.The surface resistance value, total light transmittance, haze, and the reflectance of the light of wavelength 550nm of the obtained transparent film part base material 1 were measured. The results are shown in Table 1.

표면 저항을 표면 저항계(삼릉유화(주) 제조: LORESTA)로 측정하고 전광선 투과율 및 헤이즈는 헤이즈 미터기(일본전색(주) 제조: NDH 2000)로, 반사율은 분관광도계(일본분광사제조: Ubest-55)로 각각 측정하였다.The surface resistance was measured by a surface resistance meter (LORESTA manufactured by Samreung Petrochemical Co., Ltd.), and the total light transmittance and the haze were measured by a haze meter (NDH 2000 manufactured by Nippon Color Corporation). 55) respectively.

또한 방현성, 밀착성, 연필경도를 하기의 방법 및 평가 기준으로 평가하고 결과를 표 1에 나타내었다.In addition, anti-glare property, adhesiveness, pencil hardness was evaluated by the following method and evaluation criteria and the results are shown in Table 1.

[방현성][Anti-glare]

하드 코팅 기능이 부여된 반사 방지막부 기재 (1)의 방현성을 기재의 뒷면을 흑색 스프레이로 균일하게 바르고 30 W의 형광등으로부터 2 m 떨어져 형광등이 비치는 정도를 눈으로 확인하고 하기의 척도로 방현성을 평가하였다. 결과를 표 1에 나태내었다.Anti-reflective coating of the anti-reflective coating part substrate with hard coating function 1 Apply the back side of the substrate evenly with black spray, and visually check the degree of fluorescent light shining 2 m away from the fluorescent lamp of 30 W. Was evaluated. The results are shown in Table 1.

형광등이 전혀 보이지 않음 : ◎Fluorescent light is not visible at all: ◎

형광등이 약간 보임 : ○Fluorescent light slightly visible: ○

형광등은 보이지만 윤곽이 흐림 : △Fluorescent light is visible, but the outline is blurry: △

형광등이 확실히 보임 : ×Fluorescent light is clearly visible: ×

[밀착성][Adhesiveness]

하드 코팅 기능이 부여된 반사 방지막부 기재 (1)의 표면에 칼로 가로 세로 1 mm의 간격으로 11개의 평행한 스크래치를 내어 100개의 격자를 만들고 여기에 셀로판 테이프를 접착하고 이어서 셀로판 테이프를 박리할 때 피막이 박리되지 않고 잔존하는 격자 수를 하기의 4 단계로 분류하여 밀착성을 평가하였다. 결과를 표 1에 나타내었다.On the surface of the anti-reflective coating substrate 1 to which the hard coating function was applied, 11 parallel scratches were made with a knife at intervals of 1 mm in width to form 100 grids, and then the cellophane tape was adhered thereto and then the cellophane tape was peeled off. Adhesiveness was evaluated by classifying the number of lattice | surfaces which remain | survived without peeling of a film | membrane in the following four steps. The results are shown in Table 1.

잔존 격자 수 100개 : ◎Number of remaining grids: ◎

잔존 격자 수 90∼99개 : ○Number of remaining grids 90-99: ○

잔존 격자 수 85∼89개 : △Number of remaining grids 85 to 89: △

잔존 격자 수 84개 이하 : ×84 or less remaining grids: ×

[연필경도][Pencil hardness]

JIS-K-5400에 준하는 연필경도 시험기로 측정하였다.It measured by the pencil hardness tester according to JIS-K-5400.

(실시예 2)(Example 2)

투명 피막 형성용 도료 (A-2)의 제조Production of Transparent Coating Film (A-2)

저굴절률 성분으로 실리카계 중공 미립자 분산졸(촉매화성공업(주) 제조: 스룰리아 1420, 평균 입자 지름 60 nm, 농도 20.5 중량%, 분산매: 이소프로판올, 입자 굴절률 1.30)을 사용하였다. 이 졸 100 g에 정규산에틸 7.11 g(다마화학제 에틸실리케이트 28 SiO2 성분 28.8%)을 혼합하고 초순수를 10 g 첨가하고 40℃에서 5시간 교반하여 표면 처리한 실리카계 중공 미립자 분산졸을 얻었다(고형분 19.3 중량%). 이 표면 처리한 실리카계 중공 미립자 분산졸의 표면 전하량을 측정한 결과 18.3 μeq/g이었다. 이 표면 처리한 실리카계 중공 미립자 분산졸 15.5 g과 펜타에리스리톨트리아세테이트(공영사화학(주): PE-3A) 24 g, 디에틸아미노에틸메타크릴레이트(공영사화학(주): 라이트에스테르 DE) 3 g에 광개시제(티바스프샤리티(주) 제조 이루가큐아 184, IPA로 용해, 고형분 농도 10%) 0.42 g 및 이소프로판올과 메틸이소부틸케톤의 1/1(중량비) 혼합 용매 54.08 g을 충분히 혼합하여 투명 피막 형성용 도포액 (A-2)을 제조하였다.As the low refractive index component, a silica-based hollow fine particle dispersion sol (manufactured by Catalytic Co., Ltd .: Sluria 1420, an average particle diameter of 60 nm, a concentration of 20.5 wt%, a dispersion medium: isopropanol, and a particle refractive index of 1.30) was used. 7.11 g of ethyl acetate (28.8% ethyl silicate 28 SiO 2 component from Tama Chemical) was mixed with 100 g of this sol, 10 g of ultrapure water was added, and stirred at 40 ° C. for 5 hours to obtain a silica-based hollow particulate dispersion sol. (19.3 weight percent solids). It was 18.3 microeq / g when the surface charge quantity of this surface-treated silica-type hollow fine particle dispersion sol was measured. 15.5 g of this surface-treated silica-based hollow fine particle dispersion sol, pentaerythritol triacetate (CO-3: PE-3A), diethylaminoethyl methacrylate (Co., Ltd .: Light ester DE ) 3 g of a photoinitiator (Irugacua 184, manufactured by Tibasphariti Co., Ltd., dissolved in IPA, solid content concentration 10%) 0.42 g and 54.08 g of a 1/1 (weight ratio) mixed solvent of isopropanol and methyl isobutyl ketone It mixed and manufactured the coating liquid (A-2) for transparent film formation.

투명 Transparency 피막부Film 기재 (2)의 제조 Preparation of the base material (2)

투명 피막 형성용 도포액 (A-2)을 PET 필름(두께 100 μm, 굴절률 1.65, 기재 투과율 88.0%, 헤이즈 1.0%, 반사율 5.1%)에 바코팅으로 도포하고 70℃에서 1분간 건조시킨 후 고압수은등(80 W/cm)을 1분간 조사하고 경화시켜 투명 피막부 기재 (2)을 제조하였다. 이때 막 두께는 5 μm이었다. 투명 피막의 일부를 종방향으로 수직으로 절단하고 단면을 투과형 전자 현미경으로 관찰한 결과 상부에 실리카계 중공 미립자가 두께 100 nm 층을 형성하고 있었고 하부는 매트릭스뿐으로 입자의 존재는 확인되지 않았다.The coating liquid (A-2) for transparent film formation was applied to a PET film (thickness 100 μm, refractive index 1.65, substrate transmittance 88.0%, haze 1.0%, reflectance 5.1%) by bar coating, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then A mercury lamp (80 W / cm) was irradiated for 1 minute and cured to prepare a transparent film base substrate (2). At this time, the film thickness was 5 μm. A part of the transparent film was cut vertically in the vertical direction and the cross section was observed by a transmission electron microscope. As a result, silica-based hollow fine particles formed a 100 nm thick layer on the upper part, and the presence of particles was not confirmed only by the matrix on the lower part.

얻어진 투명 피막부 기재 (2)의 표면 저항값, 전광선 투과율, 헤이즈, 파장 550 nm의 광선의 반사율, 방현성, 밀착성, 연필경도를 측정하여 결과를 표 1에 나타내었다.The surface resistance value, total light transmittance, haze, reflectance, anti-glare property, adhesiveness, and pencil hardness of the light having a wavelength of 550 nm of the obtained transparent coating part base material 2 were measured, and the result is shown in Table 1.

(실시예 3)(Example 3)

투명 피막 형성용 도료 (A-3)의 제조Production of Transparent Coating Film (A-3)

저굴절률 성분으로 실리카계 중공 미립자 분산졸(촉매화성공업(주) 제조: 스룰리아 1420-120, 평균 입자 지름 120 nm, 농도 20.5 중량%, 분산매: 이소프로판올, 입자 굴절률 1.20)을 사용하였다. 이 졸 100 g에 정규산에틸 7.11 g(다마화 학제 에틸실리케이트 28 SiO2 성분 28.8%)을 혼합하고 초순수를 10 g 첨가하고 40℃에서 5시간 교반하여 표면 처리한 실리카계 중공 미립자 분산졸을 얻었다(고형분 19.3 중량%). 이 표면 처리한 실리카계 중공 미립자 분산졸의 표면 전하량을 측정한 결과 15.3 μeq/g이었다. 이 표면 처리한 실리카계 중공 미립자 분산졸 15.5 g과 퍼플루오로에틸아크릴레이트(공영사화학(주): FA-108) 24 g, 디에틸아미노에틸메타크릴레이트(공영사화학(주): 라이트에스테르 DE) 3 g에 광개시제(티바스프샤리티(주) 제조 이루가큐아 184, IPA로 용해, 고형분 농도 10%) 0.42 g 및 이소프로판올과 메틸이소부틸케톤의 1/1(중량비) 혼합 용매 57.08 g을 충분히 혼합하여 투명 피막 형성용 도료 (A-3)을 제조하였다.As the low refractive index component, a silica-based hollow fine particle dispersion sol (manufactured by Catalytic Co., Ltd .: Sluria 1420-120, an average particle diameter of 120 nm, a concentration of 20.5 wt%, a dispersion medium: isopropanol, and a particle refractive index of 1.20) was used. 7.11 g of ethyl acetate (28.8% of ethyl silicate 28 SiO 2 component) was mixed with 100 g of this sol, 10 g of ultrapure water was added, and stirred at 40 ° C. for 5 hours to obtain a silica-based hollow particulate dispersion sol. (19.3 weight percent solids). It was 15.3 microeq / g when the surface charge quantity of this surface-treated silica type microparticles | fine-particles dispersion sol was measured. 15.5 g of this surface-treated silica-based hollow particulate dispersion sol, 24 g of perfluoroethyl acrylate (FA-108), and diethylaminoethyl methacrylate (Co., Ltd .: Light) 0.42 g of photoinitiator (Irugacua 184, manufactured by Tibasphariti Co., Ltd., IPA, solid content concentration: 10%) in 3 g of ester DE) and 57.08 g of a 1/1 (weight ratio) mixed solvent of isopropanol and methyl isobutyl ketone The mixture was sufficiently mixed to prepare a transparent film-forming coating material (A-3).

투명 Transparency 피막부Film 기재 (3)의 제조 Preparation of the Substrate (3)

투명 피막부 형성용 도료 (A-3)을 PET 필름(두께 100 μm, 굴절률 1.65, 기재 투과율 88.0%, 헤이즈 1.0%, 반사율 5.1%)에 바코팅으로 도포하고 70℃에서 1분간 건조시킨 후 고압수은등(80 W/cm)을 1분간 조사하고 경화시켜 투명 피막부 기재 (3)을 제조하였다. 이때 막 두께는 5 μm이었다. 투명 피막의 일부를 종방향으로 수직으로 절단하고 단면을 투과형 전자 현미경으로 관찰한 결과 상부에 실리카계 중공 미립자가 두께 120 nm 층을 형성하고 있었고 하부는 매트릭스뿐으로 입자의 존재는 확인되지 않았다.The coating film for forming a transparent film (A-3) was applied to a PET film (thickness 100 μm, refractive index 1.65, substrate transmittance 88.0%, haze 1.0%, reflectance 5.1%) by bar coating, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then A mercury lamp (80 W / cm) was irradiated for 1 minute and cured to prepare a transparent film base substrate (3). At this time, the film thickness was 5 μm. A part of the transparent film was vertically cut vertically and the cross section was observed by a transmission electron microscope. As a result, the hollow hollow particles formed a 120 nm thick layer on the upper part, and the presence of the particles was not confirmed only by the matrix on the lower part.

얻어진 투명 피막부 기재 (3)의 표면 저항값, 전광선 투과율, 헤이즈, 파장 550 nm의 광선의 반사율, 방현성, 밀착성, 연필경도를 측정하여 결과를 표 1에 나타내었다.The surface resistance value, total light transmittance, haze, reflectance, anti-glare property, adhesiveness, and pencil hardness of the light of wavelength 550 nm of the obtained transparent film part base material 3 were measured, and the result is shown in Table 1.

(실시예 4)(Example 4)

투명 피막 형성용 도료 (A-4)의 제조Production of Transparent Film-forming Paint (A-4)

도전 성분으로 오산화안티몬 미립자 분산졸(촉매화성공업(주) 제조: ELCOM V-4560, 평균 입자 지름 20 nm, 농도 30.5 중량%, 분산매: 이소프로판올, 입자 굴절률 1.60)을 사용하였다. 이 졸 100 g에 γ-메타크릴로옥시프로필트리메톡시실란 1.88 g(신월실리콘주 제조 KBM-503 SiO2 성분 81.2%)을 혼합하고 초순수를 10 g 첨가하고 40℃에서 5시간 교반하여 표면 처리한 오산화안티몬 미립자 분산졸을 얻었다(고형분 28.6 중량%). 이 표면 처리한 오산화안티몬 미립자 분산졸의 표면 전하량을 측정한 결과 45.3 μeq/g이었다. 이 표면 처리한 오산화안티몬 미립자졸 17.48 g과 디헥사에리스리톨트리아세테이트(공영사화학(주): DPE-6A) 22.5 g, 수산기를 지닌 아크릴레이트(공영사화학(주): MMH-40 프로필렌글리콜모노메틸에테르 분산 고형분 40%) 6.25 g에 광개시제(티바스프샤리티(주) 제조 이루가큐아 184, IPA로 용해, 고형분 농도 10%) 0.42 g 및 이소프로판올과 메틸이소부틸케톤의 1/1(중량비) 혼합 용매 53.35 g을 충분히 혼합하여 투명 피막 형성용 도료 (A-4)을 제조하였다.Antimony pentoxide microparticles | fine-particles dispersing sol (The Catalytic Co., Ltd. make: ELCOM V-4560, the average particle diameter of 20 nm, concentration 30.5 weight%, a dispersion medium: isopropanol, the particle refractive index 1.60) was used. To 100 g of this sol, 1.88 g of γ-methacrylooxypropyltrimethoxysilane (81.2% of KBM-503 SiO 2 component manufactured by Shinwol Silicon Co., Ltd.) was mixed, 10 g of ultrapure water was added, and the mixture was stirred at 40 ° C. for 5 hours for surface treatment. One antimony pentoxide fine particle dispersion sol was obtained (solid content 28.6 wt%). It was 45.3 microeq / g when the surface charge quantity of this surface-treated antimony pentoxide microparticle dispersion sol was measured. 17.48 g of this surface-treated antimony pentoxide fine particle sol, 22.5 g of dihexaerythritol triacetate (DEP-6A), and an acrylate having a hydroxyl group (CongHong Chemical Co., Ltd .: MMH-40 propylene glycol mono Photoinitiator (Irugaqua 184, manufactured by Tivasphariti Co., Ltd., IPA dissolved in 6.25 g of methyl ether dispersed solid content 40%), 0.42 g of solid content concentration 10%) and 1/1 (weight ratio) of isopropanol and methyl isobutyl ketone 53.35 g of the mixed solvent were sufficiently mixed to prepare a transparent film-forming coating material (A-4).

반사 방지 형성용 도포액 (A-4R)의 제조Preparation of antireflection coating liquid (A-4R)

저굴절률 성분으로 실리카계 중공 미립자 분산졸(촉매화성공업(주) 제조: 스룰리아 1420, 평균 입자 지름 60 nm, 농도 20.5 중량%, 분산매: 이소프로판올, 입자 굴절률 1.30)을 사용하였다. 이 졸을 이소프로판올로 고형분 농도 5 중량%로 희석한 분산액 33 g과 자외선 경화 수지(대일본잉크(주) 제조: 유니딕 17-824-9, 고형분 농도 78.9%) 1.54 g, 광개시제(티바스프샤리티(주) 제조 이루가큐아 184, IPA로 용해, 고형분 농도 10%) 0.42 g 및 이소프로판올과 부틸세로솔브의 1/1(중량비) 혼합 용매 65.46 g을 충분히 혼합하여 반사 방지막 형성용 도포액 (A-4R)을 제조하였다.As the low refractive index component, a silica-based hollow fine particle dispersion sol (manufactured by Catalytic Co., Ltd .: Sluria 1420, an average particle diameter of 60 nm, a concentration of 20.5 wt%, a dispersion medium: isopropanol, and a particle refractive index of 1.30) was used. 33 g of a dispersion obtained by diluting this sol to 5% by weight of solid content with isopropanol, 1.54 g of ultraviolet curable resin (manufactured by Nippon Ink, Co., Ltd .: Unidyk 17-824-9, solid content of 78.9%), and photoinitiator (Tiba's spray) A coating solution for forming an anti-reflection film by sufficiently mixing 0.42 g of Irugaquaa 184 manufactured by T Co., IPA and a solid content concentration of 10%) and 65.46 g of a 1/1 (weight ratio) mixed solvent of isopropanol and butyl vertical solver (A -4R) was prepared.

투명 Transparency 피막부Film 기재 (4-1)의 제조 Preparation of the Substrate (4-1)

투명 피막 형성용 도료 (A-4)을 PET 필름(두께 100 μm, 굴절률 1.65, 기재 투과율 88.0%, 헤이즈 1.0%, 반사율 5.1%)에 바코팅으로 도포하고 70℃에서 1분간 건조시킨 후 고압수은등(80 W/cm)을 1분간 조사하고 경화시켜 투명 피막부 기재 (4-1)을 제조하였다. 이때 막 두께는 5 μm이었다. 투명 피막의 일부를 종방향으로 수직으로 절단하고 단면을 투과형 전자 현미경으로 관찰한 결과 상부에 오산화안티몬 미립자가 두께 150 nm 층을 형성하고 있었고 하부는 매트릭스뿐으로 입자의 존재는 확인되지 않았다.The transparent coating film (A-4) was applied to a PET film (thickness 100 μm, refractive index 1.65, substrate transmittance 88.0%, haze 1.0%, reflectance 5.1%) with a bar coating, and dried at 70 ° C. for 1 minute, followed by high pressure mercury lamp. (80 W / cm) was irradiated for 1 minute and cured to prepare a transparent coating part base material (4-1). At this time, the film thickness was 5 μm. A part of the transparent film was vertically cut vertically and the cross section was observed with a transmission electron microscope. As a result, antimony pentoxide fine particles formed a 150 nm thick layer on the upper part, and the presence of the particles was not confirmed only by the matrix on the lower part.

얻어진 투명 피막부 기재 (4-1)의 표면 저항값, 전광선 투과율, 헤이즈, 파장 550 nm의 광선의 반사율, 방현성, 밀착성, 연필경도를 측정하여 결과를 표 1에 나타내었다.The surface resistance value, total light transmittance, haze, reflectance, anti-glare property, adhesiveness, and pencil hardness of the light having a wavelength of 550 nm of the obtained transparent coating part base material 4-1 were measured, and the results are shown in Table 1.

투명 Transparency 피막부Film 기재 (4-2)의 제조 Preparation of the Substrate (4-2)

투명 피막부 기재 (4-1)상에 반사 방지막 형성용 도포액 (A-4R)을 바코팅으로 도포하고 70℃에서 1분간 건조시킨 후 고압수은등(80 W/cm)을 1분간 조사하고 경화시켜 투명 피막부 기재 (4-2)을 제조하였다. 이때 반사 방지막의 막 두께는 100 nm이었다.Apply the anti-reflection film-forming coating liquid (A-4R) on the transparent film base material 4-1 by bar coating, and dry at 70 ° C. for 1 minute, and then irradiate and cure the high-pressure mercury lamp (80 W / cm) for 1 minute. The transparent coating part base material (4-2) was produced. At this time, the film thickness of the antireflection film was 100 nm.

얻어진 투명 피막부 기재 (4-2)의 표면 저항값, 전광선 투과율, 헤이즈, 파장 550 nm의 광선의 반사율, 방현성, 밀착성, 연필경도를 측정하여 결과를 표 1에 나타내었다.The surface resistance value, total light transmittance, haze, reflectance, anti-glare property, adhesiveness, and pencil hardness of the light having a wavelength of 550 nm of the obtained transparent coating part base material (4-2) were measured, and the results are shown in Table 1.

(실시예 5)(Example 5)

투명 피막 형성용 도료 (A-5)의 제조Production of Transparent Film-forming Paint (A-5)

고굴절률 입자로서 티타니아 미립자 분산졸(촉매화성공업(주) 제조: OPTLAK 1137Z, 평균 입자 지름 20 nm, 농도 30.5 중량%, 분산매: 메탄올, 입자 굴절률 2.10)을 사용하였다. 이 졸 100 g에 γ-아크릴로옥시프로필트리메톡시실란 1.86 g(신월실리콘주 제조 KBM-503 SiO2 성분 81.9%)을 혼합하고 초순수를 10 g 첨가하고 40℃에서 5시간 교반하여 표면 처리한 티타니아 미립자 분산졸을 얻었다(고형분 28.6 중량%). 이 표면 처리한 티타니아 미립자 분산졸의 표면 전하량을 측정한 결과 19.5 μeq/g이었다.As the high refractive index particles, titania fine particle dispersion sol (manufactured by Catalytic Industries, Ltd .: OPTLAK 1137Z, average particle diameter 20 nm, concentration 30.5 wt%, dispersion medium: methanol, particle refractive index 2.10) was used. To 100 g of this sol, 1.86 g of γ-acrylooxypropyltrimethoxysilane (81.9% of KBM-503 SiO 2 component manufactured by Shinwol Silicon Co., Ltd.) was mixed, 10 g of ultrapure water was added, and the mixture was stirred at 40 ° C. for 5 hours for surface treatment. Titania fine particle dispersion sol was obtained (solid content 28.6 weight%). It was 19.5 microeq / g when the surface charge quantity of this surface-treated titania fine particle dispersion sol was measured.

이 표면 처리한 티타니아 미립자졸 17.48 g과 디헥사에리스리톨트리아세테이트(공영사화학(주): DPE-6A) 22.5 g, 수산기를 지닌 아크릴레이트(공영사화학(주): MMH-40 프로필렌글리콜모노메틸에테르 분산 고형분 40%) 6.25 g에 광개시제(티바스프샤리티(주) 제조 이루가큐아 184, IPA로 용해, 고형분 농도 10%) 0.42 g 및 이소프로판올과 메틸이소부틸케톤의 1/1(중량비) 혼합 용매 53.35 g을 충분히 혼합하여 투명 피막 형성용 도료 (A-5)을 제조하였다.17.48 g of this surface-treated titania fine particle sol, 22.5 g of dihexaerythritol triacetate (DEP-6A), and an acrylate having a hydroxyl group (Dong-Gong Chemical Co., Ltd .: MMH-40 propylene glycol monomethyl 0.42 g of photoinitiator (Irugaqua 184, manufactured by Tibasphariti Co., Ltd., IPA, solid content concentration of 10%) and 1/1 (weight ratio) of isopropanol and methyl isobutyl ketone were mixed in 6.25 g of ether dispersed solid content 40%) 53.35 g of the solvent was sufficiently mixed to prepare a transparent film-forming coating material (A-5).

투명 Transparency 피막부Film 기재 (5-1)의 제조 Preparation of the Substrate (5-1)

투명 피막 형성용 도료 (A-5)을 PET 필름(두께 100 μm, 굴절률 1.65, 기재 투과율 88.0%, 헤이즈 1.0%, 반사율 5.1%)에 바코팅으로 도포하고 70℃에서 1분간 건조시킨 후 고압수은등(80 W/cm)을 1분간 조사하고 경화시켜 투명 피막부 기재 (5-1)을 제조하였다. 이때 막 두께는 5 μm이었다. 투명 피막의 일부를 종방향으로 수직으로 절단하고 단면을 투과형 전자 현미경으로 관찰한 결과 상부에 티타니아 미립자가 두께 80 nm 층을 형성하고 있었고 하부는 매트릭스뿐으로 입자의 존 재는 확인되지 않았다.A transparent coating film (A-5) was applied to a PET film (thickness 100 μm, refractive index 1.65, substrate transmittance 88.0%, haze 1.0%, reflectance 5.1%) with a bar coating, and dried at 70 ° C. for 1 minute, followed by high pressure mercury lamp. (80 W / cm) was irradiated for 1 minute and cured to prepare a transparent coating part substrate (5-1). At this time, the film thickness was 5 μm. A part of the transparent film was vertically cut vertically and the cross section was observed by a transmission electron microscope. As a result, titania particles formed a layer of 80 nm in thickness on the upper part, and the presence of particles was not confirmed only in the matrix on the lower part.

얻어진 투명 피막부 기재 (5-1)의 표면 저항값, 전광선 투과율, 헤이즈, 파장 550 nm의 광선의 반사율, 방현성, 밀착성, 연필경도를 측정하여 결과를 표 1에 나타내었다.The surface resistance value, total light transmittance, haze, reflectance, anti-glare property, adhesiveness, and pencil hardness of the light having a wavelength of 550 nm of the obtained transparent coating part base material 5-1 were measured, and the results are shown in Table 1.

투명 Transparency 피막부Film 기재 (5-2)의 제조 Preparation of the Substrate (5-2)

투명 피막부 기재 (5-1)상에 실시예 4와 동일한 방법으로 제조한 반사 방지막 형성용 도포액 (A-4R)을 바코팅으로 도포하고 70℃에서 1분간 건조시킨 후 고압수은등(80 W/cm)을 1분간 조사하고 경화시켜 투명 피막부 기재 (5-2)을 제조하였다. 이때 반사 방지막의 막 두께는 100 nm이었다.The anti-reflection film-forming coating liquid (A-4R) prepared in the same manner as in Example 4 was applied on the transparent coating part substrate 5-1 by bar coating, and dried at 70 ° C. for 1 minute, followed by a high-pressure mercury lamp (80 W). / cm) was irradiated for 1 minute and cured to prepare a transparent coating part substrate (5-2). At this time, the film thickness of the antireflection film was 100 nm.

얻어진 투명 피막부 기재 (5-2)의 표면 저항값, 전광선 투과율, 헤이즈, 파장 550 nm의 광선의 반사율, 방현성, 밀착성, 연필경도를 측정하여 결과를 표 1에 나타내었다.The surface resistance value, total light transmittance, haze, reflectance, anti-glare property, adhesiveness, and pencil hardness of the light having a wavelength of 550 nm of the obtained transparent coating part base material 5-2 were measured, and the results are shown in Table 1.

(실시예 6)(Example 6)

투명 피막 형성용 도료 (A-6)의 제조Production of Transparent Film-forming Paint (A-6)

저굴절률 성분으로 실리카계 중공 미립자 분산졸(촉매화성공업(주) 제조: 스룰리아 1420, 평균 입자 지름 60 nm, 농도 20.5 중량%, 분산매: 이소프로판올, 입 자 굴절률 1.30)을 사용하였다. 이 졸 100 g에 퍼플루오로옥틸에틸트리에톡시실란 10 g(히가시레다우코닝 제조 AY43-158E 100%)을 혼합하고 초순수를 10 g 첨가하고 40℃에서 5시간 교반하여 표면 처리한 실리카계 중공 미립자 분산졸을 얻었다(고형분 19.3 중량%). 이 표면 처리한 실리카계 중공 미립자 분산졸의 표면 전하량을 측정한 결과 8.3 μeq/g이었다. 대전 방지 고굴절률 성분으로 ATO 미립자 분산졸(촉매화성공업(주) 제조: ELCOM V-3501, 평균 입자 지름 8 nm, 농도 19.3 중량%, 분산매: 에탄올, 미립자 굴절률 1.75)를 사용하였다. 이 졸 100 g에 γ-아크릴로옥시프로필트리메톡시실란 1.26 g(신월실리콘주 제조 KBM-5103 SiO2 성분 81.2%)을 혼합하고 초순수를 10 g 첨가하고 40℃에서 5시간 교반하여 표면 처리한 ATO 미립자 분산졸을 얻었다(고형분 19.3 중량%). 이 표면 처리한 ATO 미립자 분산졸의 표면 전하량을 측정한 결과 35.8 μeq/g이었다. 이 표면 처리한 실리카계 중공 미립자 분산졸 15.5 g과 표면 처리한 ATO 미립자 분산졸 31.3 g, 헥사에리스리톨트리펜타크릴레이트(일본화약(주): KAYARAD DPHA) 27 g에 광개시제(티바스프샤리티(주) 제조 이루가큐아 184, IPA로 용해, 고형분 농도 10%) 0.35 g 및 이소프로판올과 메틸이소부틸케톤의 1/1(중량비) 혼합 용매 26.05 g을 충분히 혼합하여 투명 피막 형성용 도료 (A-6)을 제조하였다.As a low refractive index component, a silica-based hollow fine particle dispersion sol (manufactured by Catalytic Co., Ltd .: Sluria 1420, an average particle diameter of 60 nm, a concentration of 20.5 wt%, a dispersion medium: isopropanol, and a particle refractive index of 1.30) was used. 10 g of perfluorooctylethyltriethoxysilane (100% of AY43-158E manufactured by Higashi Red Dow Corning) was mixed with 100 g of this sol, and 10 g of ultrapure water was added, followed by stirring at 40 ° C. for 5 hours to obtain a silica-based hollow surface. A fine particle dispersion sol was obtained (solid content 19.3 wt%). It was 8.3 microeq / g when the surface charge quantity of this surface-treated silica-type hollow fine particle dispersion sol was measured. As the antistatic high refractive index component, ATO fine particle dispersing sol (manufactured by Catalyst Industries, Ltd .: ELCOM V-3501, average particle diameter 8 nm, concentration: 19.3 wt%, dispersion medium: ethanol, fine particle refractive index 1.75) was used. 100 g of this sol was mixed with 1.26 g of gamma -acrylooxypropyltrimethoxysilane (81.2% of KBM-5103 SiO 2 component manufactured by Shinwol Silicon Co., Ltd.), 10 g of ultrapure water was added, and the mixture was stirred at 40 ° C. for 5 hours for surface treatment. ATO fine particle dispersion sol was obtained (solid content 19.3 weight%). It was 35.8 microeq / g when the surface charge quantity of this surface-treated ATO fine particle dispersion sol was measured. 15.5 g of this surface-treated silica-based hollow fine particle dispersion sol, 31.3 g of surface-treated ATO fine particle dispersion sol, and 27 g of hexaerythritol tripenta acrylate (Japan Kayaku Co., Ltd.) (KAYARAD DPHA) were used as a photoinitiator ) Irugaquaa 184, dissolved in IPA, solid concentration 10%) 0.35 g and 26.05 g of 1/1 (weight ratio) mixed solvent of isopropanol and methyl isobutyl ketone are sufficiently mixed to form a transparent film (A-6) Was prepared.

투명 Transparency 피막부Film 기재 (6)의 제조 Preparation of the Substrate 6

투명 피막 형성용 도료 (A-6)을 TAC 필름(두께 80 μm, 굴절률 1.48, 기재 투과율 88.0%, 헤이즈 0.0%, 반사율 4.8%)에 바코팅으로 도포하고 70℃에서 1분간 건조시킨 후 고압수은등(80 W/cm)을 1분간 조사하고 경화시켜 투명 피막부 기재 (6)을 제조하였다. 이때 막 두께는 5 μm이었다. 투명 피막의 일부를 종방향으로 수직으로 절단하고 단면을 투과형 전자 현미경으로 관찰한 결과 상부에 실리카계 중공 미립자가 두께 100 nm 층을 형성하고 있었고 하부는 ATO 미립자가 매트릭스 내에 도 4에 나타난 바와 같은 상태로 존재하고 있었다.The transparent coating film (A-6) was applied to a TAC film (thickness 80 μm, refractive index 1.48, substrate transmittance 88.0%, haze 0.0%, reflectance 4.8%) by bar coating, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then pressurized with a high pressure mercury lamp. (80 W / cm) was irradiated for 1 minute and cured to prepare a transparent coating part substrate (6). At this time, the film thickness was 5 μm. A part of the transparent film was cut vertically in the vertical direction and the cross section was observed by a transmission electron microscope. As a result, silica-based hollow fine particles formed a 100 nm thick layer on the top, and the ATO fine particles in the matrix as shown in FIG. As existed.

얻어진 투명 피막부 기재 (6)의 표면 저항값, 전광선 투과율, 헤이즈, 파장 550 nm의 광선의 반사율, 방현성, 밀착성, 연필경도를 측정하여 결과를 표 1에 나타내었다.The surface resistance value, total light transmittance, haze of the obtained transparent film part base material 6, the reflectance, anti-glare property, adhesiveness, and pencil hardness of the light of wavelength 550nm were measured, and the result is shown in Table 1.

(실시예 7)(Example 7)

투명 피막 형성용 도료 (A-7)의 제조Production of Transparent Coating Film (A-7)

저굴절률 성분으로 실리카계 중공 미립자 분산졸(촉매화성공업(주) 제조: 스룰리아 1420, 평균 입자 지름 60 nm, 농도 20.5 중량%, 분산매: 이소프로판올, 입자 굴절률 1.30)을 사용하였다. 이 졸 100 g에 트리데실메타크릴레이트 10 g(공영사화학제 라이트에스테르 TD)을 혼합하고 50℃에서 24시간 교반하여 표면 처리한 실리카계 중공 미립자 분산졸을 얻었다(고형분 27.7 중량%). 이 표면 처리한 실리카계 중공 미립자 분산졸의 표면 전하량을 측정한 결과 5.3 μeq/g이었다. 대전 방지 고굴절률 성분으로 오산화안티몬 미립자 분산졸(촉매화성공업(주) 제조: ELCOM V-4560, 평균 입자 지름 20 nm, 농도 30.5 중량%, 분산매: 이소프로판올, 미립자 굴절률 1.60)를 사용하였다. 이소프로판올로 20.5%로 희석한 이 졸 100 g에 γ-글리시독시프로필트리메톡시실란 1.44 g(히가시레다우코팅 제조 AY43-026 SiO2 성분 86.8%)을 혼합하고 초순수를 10 g 첨가하고 40℃에서 5시간 교반하여 표면 처리한 오산화안티몬 미립자 분산졸을 얻었다(고형분 19.3 중량%). 이 표면 처리한 오사화안티몬 미립자 분산졸의 표면 전하량을 측정한 결과 35.3 μeq/g이었다. As the low refractive index component, a silica-based hollow fine particle dispersion sol (manufactured by Catalytic Co., Ltd .: Sluria 1420, an average particle diameter of 60 nm, a concentration of 20.5 wt%, a dispersion medium: isopropanol, and a particle refractive index of 1.30) was used. 10 g of tridecyl methacrylate (light ester TD manufactured by Co., Ltd.) was mixed with 100 g of this sol, and stirred at 50 ° C. for 24 hours to obtain a silica-based hollow particulate dispersion sol (solid content 27.7 wt%). It was 5.3 microeq / g when the surface charge quantity of this surface-treated silica-type hollow fine particle dispersion sol was measured. An antimony pentoxide fine particle dispersion sol (catalytically manufactured by ELCOM V-4560, an average particle diameter of 20 nm, a concentration of 30.5% by weight, a dispersion medium: isopropanol, and a fine particle refractive index of 1.60) was used as an antistatic high refractive index component. 1.44 g (γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 86.8% of AY43-026 SiO 2 component manufactured by Higashi Red Dow Coating) was mixed with 100 g of an isol diluted to 20.5% with isopropanol, and 10 g of ultrapure water was added thereto and 40 ° C. The antimony pentoxide microparticles | fine-particles dispersion sol which surface-stirred and stirred for 5 hours was obtained (solid content 19.3 weight%). It was 35.3 microeq / g when the surface charge quantity of this surface-treated antimony pentoxide microparticle dispersion sol was measured.

이 표면 처리한 실리카계 중공 미립자 분산졸 10.8 g과 표면 처리한 ATO 미립자 분산졸 30 g, 헥사에리스리톨트리펜타크릴레이트(일본화약(주): KAYARAD DPHA) 27 g에 광개시제(티바스프샤리티(주) 제조 이루가큐아 184, IPA로 용해, 고형분 농도 10%) 0.35 g 및 이소프로판올과 메틸이소부틸케톤의 1/1(중량비) 혼합 용매 31.9 g을 충분히 혼합하여 투명 피막 형성용 도료 (A-7)을 제조하였다.10.8 g of this surface-treated silica-based hollow fine particle dispersion sol, 30 g of surface-treated ATO fine particle dispersion sol, and 27 g of hexaerythritol tripentacacrylate (Now Chemical Co., Ltd .: KAYARAD DPHA) were used as a photoinitiator (TIBAS SPARITY) ) Irugaquaa 184, dissolved in IPA, solid content concentration 10%) 0.35 g and 31.9 g of 1/1 (weight ratio) mixed solvent of isopropanol and methyl isobutyl ketone are sufficiently mixed to form a transparent film (A-7) Was prepared.

투명 Transparency 피막부Film 기재 (7)의 제조 Preparation of the Substrate 7

투명 피막 형성용 도료 (A-7)을 PET 필름(두께 100 μm, 굴절률 1.65, 기재 투과율 88.0%, 헤이즈 1.0%, 반사율 5.1%)에 바코팅으로 도포하고 70℃에서 1분간 건조시킨 후 고압수은등(80 W/cm)을 1분간 조사하고 경화시켜 투명 피막부 기재 (7)을 제조하였다. 이때 막 두께는 5 μm이었다. 투명 피막의 일부를 종방향으로 수직으로 절단하고 단면을 투과형 전자 현미경으로 관찰한 결과 상부에 실리카 계 중공 미립자가 두께 100 nm 층을 형성하고 있었고 하부는 오산화안티몬 미립자가 매트릭스 내에 도 3에 나타난 바와 같은 상태로 존재하고 있었다.A transparent coating film (A-7) was applied to a PET film (thickness 100 μm, refractive index 1.65, substrate transmittance 88.0%, haze 1.0%, reflectance 5.1%) by bar coating, and dried at 70 ° C. for 1 minute, followed by high pressure mercury lamp. (80 W / cm) was irradiated for 1 minute and cured to prepare a transparent coating part substrate (7). At this time, the film thickness was 5 μm. A part of the transparent film was cut vertically in the longitudinal direction and the cross section was observed by a transmission electron microscope. As a result, silica-based hollow particles formed a 100 nm thick layer on the upper side, and antimony pentoxide particles on the lower side as shown in FIG. It existed in a state.

얻어진 투명 피막부 기재 (7)의 표면 저항값, 전광선 투과율, 헤이즈, 파장 550 nm의 광선의 반사율, 방현성, 밀착성, 연필경도를 측정하여 결과를 표 1에 나타내었다.The surface resistance value, total light transmittance, haze, reflectance, anti-glare property, adhesiveness, and pencil hardness of the light having a wavelength of 550 nm of the obtained transparent coating part substrate 7 were measured, and the results are shown in Table 1.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

투명 피막 형성용 도료 (R-1)의 제조Preparation of the transparent film-forming paint (R-1)

저굴절률 성분으로 실리카계 중공 미립자 분산졸(촉매화성공업(주) 제조: 스룰리아 1420, 평균 입자 지름 60 nm, 농도 20.5 중량%, 분산매: 이소프로판올, 입자 굴절률 1.30)을 사용하였다. 이 졸 100 g에 비닐실란 32.69 g(신월화학제 KBE-1003 SiO2 성분 62.7%)을 혼합하여 초순수 10 g을 첨가하고 40℃에서 5시간 교반하여 표면 처리한 실리카계 중공 미립자 분산졸을 얻었다(고형분 28.4 %). 이 표면 처리한 실리카게 중공 미립자 분산졸의 표면 전하량을 측정한 결과 3.3 μeq/g이었다. 이 표면 처리한 실리카계 중공 미립자 분산졸 10.54 g, 펜타에리스리톨트리아세테이트(공영사화학(주): PE-3A) 24 g, 디에틸아미노에틸메타크릴레이트(공영사화학(주): 라이트에스테르 DE) 3 g에 광개시제(티바스프샤리티(주) 제조 이루가큐아 184, IPA로 용해, 고형분 농도 10%) 0.42 g 및 이소프로판올과 메틸이소 부틸케톤의 1/1(중량비) 혼합 용매 62.04 g을 충분히 혼합하여 투명 피막 형성용 도료 (R-1)을 제조하였다.As the low refractive index component, a silica-based hollow fine particle dispersion sol (manufactured by Catalytic Co., Ltd .: Sluria 1420, an average particle diameter of 60 nm, a concentration of 20.5 wt%, a dispersion medium: isopropanol, and a particle refractive index of 1.30) was used. To 100 g of this sol, 32.69 g of vinylsilane (62.7% of KBE-1003 SiO 2 component manufactured by Shinwol Chemical) was added, 10 g of ultrapure water was added, and stirred at 40 ° C. for 5 hours to obtain a silica-based hollow particulate dispersion sol subjected to surface treatment ( Solids 28.4%). As a result of measuring the surface charge amount of this surface-treated silica crab hollow particle dispersion sol, it was 3.3 microeq / g. 10.54 g of this surface-treated silica-based hollow fine particle dispersion sol, pentaerythritol triacetate (CO-3 Chemical Co., Ltd .: PE-3A), diethylaminoethyl methacrylate (Co., Ltd .: Light ester DE) ) 3 g of a photoinitiator (Tibasphariti Co., Ltd. Irugacua 184, dissolved in IPA, solid content concentration 10%) 0.42 g and 62.04 g of a 1/1 (weight ratio) mixed solvent of isopropanol and methyl isobutyl ketone It mixed and manufactured the coating film (R-1) for transparent film formation.

투명 Transparency 피막부Film 기재 (R-1)의 제조 Preparation of Substrate (R-1)

투명 피막 형성용 도료 (R-1)을 PET 필름(두께 100 μm, 굴절률 1.65, 기재 투과율 88.0%, 헤이즈 1.0%, 반사율 5.1%)에 바코팅으로 도포하고 70℃에서 1분간 건조시킨 후 고압수은등(80 W/cm)을 1분간 조사하고 경화시켜 투명 피막부 기재 (R-1)을 제조하였다. 이때 막 두께는 5 μm이었다. 투명 피막의 일부를 종방향으로 수직으로 절단하고 단면을 투과형 전자 현미경으로 관찰한 결과 실리카계 중공 미립자가 막 중에 균일하게 단분산된 형태로 존재하고 있었다. 얻어진 투명 피막부 기재 (R-1)의 표면 저항값, 전광선 투과율, 헤이즈, 파장 550 nm의 광선 투과율, 방현성, 밀착성, 연필경도를 측정하여 결과를 표 1에 나타내었다.The transparent film-forming coating material (R-1) was applied to a PET film (thickness 100 μm, refractive index 1.65, substrate transmittance 88.0%, haze 1.0%, reflectance 5.1%) by bar coating, and dried at 70 ° C. for 1 minute, followed by high pressure mercury lamp. (80 W / cm) was irradiated for 1 minute and cured to prepare a transparent coating part base material (R-1). At this time, the film thickness was 5 μm. A part of the transparent film was cut vertically in the longitudinal direction and the cross section was observed with a transmission electron microscope. As a result, the silica-based hollow fine particles existed in a uniform monodisperse form in the film. The surface resistance value, total light transmittance, haze, light transmittance of wavelength 550 nm, anti-glare property, adhesiveness, and pencil hardness of the obtained transparent film part base material (R-1) were measured, and the result is shown in Table 1.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

투명 피막 형성용 도료 (R-2)의 제조Production of Transparent Coating Film (R-2)

도전 성분으로 오산화안티몬 미립자 분산졸(촉매화성공업(주) 제조: ELCOM V-4560, 평균 입자 지름 20 nm, 농도 30.5 중량%, 분산매: 이소프로판올, 입자 굴절률 1.60)을 사용하였다. 이 졸 100 g에 γ-메타크릴로옥시프로필트리메톡시실란 37.57 g(신월실리콘주 제조 KBM-503 SiO2 성분 81.2%)을 혼합하고 초순수를 10 g 첨가하고 40℃에서 5시간 교반하여 표면 처리한 오산화안티몬 미립자 분산졸을 얻었다(고형분 42.1 중량%). 이 표면 처리한 오산화안티몬 미립자 분산졸의 표면 전하량을 측정한 결과 5.5 μeq/g이었다. 이 표면 처리한 오산화안티몬 미립자졸 11.88 g과 디헥사에리스리톨트리아세테이트(공영사화학(주): DPE-6A) 22.5 g, 수산기를 지닌 아크릴레이트(공영사화학(주): MMH-40 프로필렌글리콜모노메틸에테르 분산 고형분 40%) 6.25 g에 광개시제(티바스프샤리티(주) 제조 이루가큐아 184, IPA로 용해, 고형분 농도 10%) 0.42 g 및 이소프로판올과 메틸이소부틸케톤의 1/1(중량비) 혼합 용매 58.95 g을 충분히 혼합하여 투명 피막 형성용 도료 (R-2)을 제조하였다.Antimony pentoxide microparticles | fine-particles dispersing sol (The Catalytic Co., Ltd. make: ELCOM V-4560, the average particle diameter of 20 nm, concentration 30.5 weight%, a dispersion medium: isopropanol, the particle refractive index 1.60) was used. To 100 g of this sol, 37.57 g of γ-methacrylooxypropyltrimethoxysilane (81.2% of KBM-503 SiO 2 component manufactured by Shinwol Silicon Co., Ltd.) was mixed, 10 g of ultrapure water was added, and the mixture was stirred at 40 ° C. for 5 hours for surface treatment. One antimony pentoxide fine particle dispersion sol was obtained (solid content 42.1 wt%). It was 5.5 microeq / g when the surface charge quantity of this surface-treated antimony pentoxide microparticle dispersion sol was measured. 11.88 g of this surface-treated antimony pentoxide microparticles | fine-particles sol, 22.5 g of dihexaerythritol triacetate (DEP-6A), a acrylate which has a hydroxyl group (Dong-Sam Chemical Co., Ltd .: MMH-40 propylene glycol mono Photoinitiator (Irugaqua 184, manufactured by Tivasphariti Co., Ltd., IPA dissolved in 6.25 g of methyl ether dispersed solid content 40%), 0.42 g of solid content concentration 10%) and 1/1 (weight ratio) of isopropanol and methyl isobutyl ketone 58.95 g of a mixed solvent were sufficiently mixed to prepare a transparent film-forming coating material (R-2).

투명 Transparency 피막부Film 기재 (R-2-1)의 제조 Preparation of the Substrate (R-2-1)

투명 피막 형성용 도료 (R-2)를 PET 필름(두께 100 μm, 굴절률 1.65, 기재 투과율 88.0%, 헤이즈 1.0%, 반사율 5.1%)에 바코팅으로 도포하고 70℃에서 1분간 건조시킨 후 고압수은등(80 W/cm)을 1분간 조사하여 경화시켜 투명 피막부 기재 (R-2-1)을 제조하였다. 이때 막 두께는 5 μm이었다. 투명 피막의 일부를 종방향으로 수직으로 절단하고 단면을 투과형 전자 현미경으로 관찰한 결과 오산화안티몬 미립자가 막 중에 균일하게 단분산된 형태로 존재하고 있었다. The transparent film-forming paint (R-2) was applied to a PET film (thickness 100 μm, refractive index 1.65, substrate transmittance 88.0%, haze 1.0%, reflectance 5.1%) by bar coating, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then pressurized with a high pressure mercury lamp. (80 W / cm) was irradiated for 1 minute and cured to prepare a transparent coating part base material (R-2-1). At this time, the film thickness was 5 μm. A part of the transparent coating was cut vertically in the longitudinal direction and the cross section was observed with a transmission electron microscope. As a result, the antimony pentoxide fine particles existed in a uniform monodisperse form in the film.

얻어진 투명 피막부 기재 (R-2-1)의 표면 저항값, 전광선 투과율, 헤이즈, 파장 550 nm의 광선 투과율, 방현성, 밀착성, 연필경도를 측정하여 결과를 표 1에 나타내었다.The surface resistance value, total light transmittance, haze, light transmittance of wavelength 550 nm, anti-glare property, adhesiveness, and pencil hardness of the obtained transparent film part base material (R-2-1) were measured, and the result is shown in Table 1.

투명 Transparency 피막부Film 기재 (R-2-2)의 제조 Preparation of the Substrate (R-2-2)

투명 피막부 기재 (R-2-1)상에 실시예 4와 동일한 방법으로 제조한 반사 방지막 형성용 도포액 (A-4R)을 바코팅으로 도포하고 70℃에서 1분간 건조시킨 후 고압수은등(80 W/cm)을 1분간 조사하고 경화시켜 투명 피막부 기재 (R-2-2)을 제조하였다. 이때 막 두께는 100 nm이었다. The antireflection film-forming coating liquid (A-4R) prepared in the same manner as in Example 4 was applied to the transparent coating part base material (R-2-1) by bar coating, and dried at 70 ° C. for 1 minute, followed by high pressure mercury lamp ( 80 W / cm) was irradiated for 1 minute and cured to prepare a transparent coating substrate (R-2-2). At this time, the film thickness was 100 nm.

얻어진 투명 피막부 기재 (R-2-2)의 표면 저항값, 전광선 투과율, 헤이즈, 파장 550 nm의 광선 투과율, 방현성, 밀착성, 연필경도를 측정하여 결과를 표 1에 나타내었다.The surface resistance value, total light transmittance, haze, light transmittance of wavelength 550nm, anti-glare property, adhesiveness, and pencil hardness of the obtained transparent film part base material (R-2-2) were measured, and the result is shown in Table 1.

(비교예)(Comparative Example)

반사 방지 Anti-reflection 피막부Film 기재 (R-3)의 제조 Preparation of the Substrate (R-3)

실시예 4와 동일한 방법으로 제조한 반사 방지막 형성용 도포액 (A-4R)을 PET 필름(두께 100 μm, 굴절률 1.65, 기재 투과율 88.0%, 헤이즈 1.0%, 반사율 5.1%)에 바코팅으로 도포하고 70℃에서 1분간 건조시킨 후 고압수은등(80 W/cm)을 1분간 조사하고 경화시켜 반사 방지 피막부 기재 (R-3)을 제조하였다. 이때 막 두께는 100 nm이었다. 투명 피막의 일부를 종방향으로 수직으로 절단하고 단면을 투과형 전자 현미경으로 관찰한 결과 실리카계 중공 미립자가 막 중에 균일하게 단 분산된 형태로 존재하고 있었다. An antireflection film-forming coating liquid (A-4R) prepared in the same manner as in Example 4 was applied by bar coating to a PET film (thickness 100 μm, refractive index 1.65, substrate transmittance 88.0%, haze 1.0%, reflectance 5.1%). After drying at 70 ° C. for 1 minute, a high-pressure mercury lamp (80 W / cm) was irradiated for 1 minute and cured to prepare an antireflection coating substrate (R-3). At this time, the film thickness was 100 nm. A part of the transparent coating was cut vertically in the longitudinal direction and the cross section was observed with a transmission electron microscope. As a result, the silica-based hollow fine particles were uniformly dispersed in the film.

얻어진 반사 방지 피막부 기재 (R-3)의 표면 저항값, 전광선 투과율, 헤이즈, 파장 550 nm의 광선 투과율, 방현성, 밀착성, 연필경도를 측정하여 결과를 표 1에 나타내었다.The surface resistance value, total light transmittance, haze, light transmittance of wavelength 550 nm, anti-glare property, adhesiveness, and pencil hardness of the obtained anti-reflective coating part base material (R-3) were measured, and the result is shown in Table 1.

Figure 112007039973002-PAT00002
Figure 112007039973002-PAT00002

본 발명의 효과는 1회의 도포에 의해 상하로 분리된 기능이 상이한 층을 적어도 2층 형성할 수 있는 투명 피막 형성용 도료 및 투명 피막부 기재를 제공하는 것이다. 또한 1회의 도포 공정으로 투명 피막을 얻기 위한 공정을 대폭 감축할 수 있는 것과 동시에 수율이 향상되며, 밀착성이 우수한 투명 피막을 제공하는 것이다.An effect of the present invention is to provide a transparent film-forming coating material and a transparent film portion base material capable of forming at least two layers having different functions separated up and down by one application. In addition, it is possible to significantly reduce the process for obtaining a transparent film in one coating step, and at the same time, to improve the yield and to provide a transparent film excellent in adhesion.

Claims (12)

(A) 표면이 하기 식 (1)로 표시되는 유기 규소 화합물 및/또는 소수성 관능기를 지닌 다관능 아크릴산에스테르 수지로 표면 처리되어 있고, 또한 표면 전하량(QA)이 5∼80 μeq/g의 범위인 금속 산화물 미립자 (A),(A) the surface is surface-treated with a polyfunctional acrylic acid ester resin with the organic silicon compound and / or a hydrophobic functional group represented by the following formula (1), and also the surface charge amount (Q A) is in the range of 5~80 μeq / g Phosphorus metal oxide fine particles (A), Rn-SiX4 -n (1)R n -SiX 4- n (1) (상기 식에서, R은 탄소수 1∼10의 비치환 또는 치환 탄화수소기이며 서로 동일하거나 상이할 수 있다. X는 탄소수 1∼4의 알콕시기, 실라놀기, 할로겐, 수소이며, n은 0∼3의 정수임)Wherein R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and may be the same or different from each other. X is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, silanol group, halogen, hydrogen, and n is 0 to 3 Integer) (B) 하기식 (2)로 표시되는 유기 규소 화합물 또는 이들의 가수분해물, 가수분해 중축합물 및/또는 소수성 관능기를 지닌 다관능 (메타)아크릴산에스테르 수지로 이루어진 소수성 매트릭스 형성 성분을 포함하는 매트릭스 형성 성분 및(B) matrix formation comprising a hydrophobic matrix forming component composed of an organosilicon compound represented by the following formula (2) or a hydrolyzate thereof, a hydrolyzed polycondensate and / or a polyfunctional (meth) acrylic acid ester resin having a hydrophobic functional group Ingredients and Rn'-SiX4 - n' (2)R n ' -SiX 4 - n' (2) (상기 식에서, R은 탄소수 1∼10의 비치환 또는 치환 탄화수소기이며 서로 동일하거나 상이할 수 있다. X는 탄소수 1∼4의 알콕시기, 실라놀기, 할로겐, 수소이며, n'는 1∼3의 정수임)Wherein R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and may be the same or different from each other. X is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, silanol group, halogen, hydrogen, and n 'is 1 to 3 Is an integer of) (C) 극성 용매로 이루어진 투명 피막 형성 도료에 있어서,(C) A transparent film-forming paint composed of a polar solvent, 상기 금속 산화물 미립자 (A)의 고형분으로서의 농도 (CPA)가 0.1∼20 중량% 의 범위이며, 상기 매트릭스 형성 성분 (C)의 고형분으로서의 농도 (CM)가 1∼50 중량%의 범위인 것을 특징으로 하는 투명 피막 형성용 도료The concentration (C PA ) of the metal oxide fine particles (A) as a solid content is in the range of 0.1 to 20% by weight, and the concentration (C M ) as the solid content of the matrix forming component (C) is in the range of 1 to 50% by weight. Transparent film-forming paint 제 1항에 있어서, 상기 매트릭스 형성 성분이 소수성 매트릭스와 함께 하기 식 (3)으로 표시되는 유기 규소 화합물 또는 이들의 가수분해물, 가수분해 중축합물 또는 친수성 관능기를 지닌 다관능 (메타)아크릴산에스테르 수지로 이루어진 친수성 매트릭스 형성 성분을 포함하며, 친수성 매트릭스 형성 성분의 고형분으로서의 농도 (CMA)와 소수성 매트릭스 형성 성분의 고형분으로서의 농도 (CMB)의 농도비 (CMA)/(CMB)가 0.01∼1의 범위임을 특징으로 하는 투명 피막 형성용 도료The polyfunctional (meth) acrylic acid ester resin of claim 1, wherein the matrix forming component is an organosilicon compound represented by the following formula (3) together with a hydrophobic matrix, or a hydrolyzate, hydrolyzed polycondensate, or a hydrophilic functional group thereof. comprises a hydrophilic matrix-forming component consisting of a solid content concentration as a hydrophilic matrix forming component (C MA) and the solid content concentration as the concentration ratio of the hydrophobic matrix forming component (C MA) / (MB C) of (MB C) of 0.01 to 1 Paint for forming a transparent film, characterized in that the range SiX4 (3)SiX 4 (3) (단, 상기 식에서 X는 탄소수 1∼4의 알콕시기, 실라놀기, 할로겐, 수소임)(Wherein X is an alkoxy group, silanol group, halogen or hydrogen having 1 to 4 carbon atoms) 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 금속 산화물 미립자 (A)의 평균 입자 지름이 5∼500 nm의 범위임을 특징으로 하는 투명 피막 형성용 도료The paint for forming a transparent film according to claim 1 or 2, wherein the average particle diameter of the metal oxide fine particles (A) is in a range of 5 to 500 nm. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, 표면 전하량 (QB)가 25∼100 μeq/g의 범위인 금속 산화물 미립자 (B)를 더욱 포함하고, 금속 산화물 미립자 (B)의 표면 전하량 (QB)과 금속 산화물 미립자 (A)의 표면 전하량 (QA)의 차 (QB)- (QA)가 20∼95 μeq/g의 범위임을 특징으로 하는 투명 피막 형성용 도료The surface charge amount of the metal oxide fine particles (B) according to any one of claims 1 to 3, further comprising metal oxide fine particles (B) having a surface charge amount (Q B ) in a range of 25 to 100 μeq / g. The coating material for forming a transparent film, wherein the difference (Q B )-(Q A ) between (Q B ) and the surface charge amount (Q A ) of the metal oxide fine particles (A) is in a range of 20 to 95 μeq / g. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 금속 산화물 미립자 (B)의 고형분으로서 농도 (CPB)가 0.1∼20 중량%의 범위임을 특징으로 하는 투명 피막 형성용 도료The paint for forming a transparent film according to any one of claims 1 to 4, wherein the concentration (C PB ) is in the range of 0.1 to 20% by weight as solid content of the metal oxide fine particles (B). 제 4항 또는 제 5항에 있어서, 상기 금속 산화물 미립자 (B)의 평균 입자 지름이 5∼500 nm의 범위임을 특징으로 하는 투명 피막 형성용 도료The paint for forming a transparent film according to claim 4 or 5, wherein the average particle diameter of the metal oxide fine particles (B) is in a range of 5 to 500 nm. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 친수성 관능기가 수산기, 아미노기, 카르복실기, 설폰기, 글리시딜기로부터 선택되는 1종 이상이며, 상기 소수성 관능기가 (메타)아크릴로일기, 알킬기, 페닐기, 우레탄기, CF2기로부터 선택되는 1종 이상임을 특징으로 하는 투명 피막 형성용 도료The said hydrophilic functional group is 1 or more types chosen from hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, a sulfone group, and a glycidyl group, The said hydrophobic functional group is a (meth) acryloyl group, an alkyl group, a phenyl group, and a urethane. group, a paint for forming a transparent coating, characterized in that at least one member selected from the group CF 2 기재상에 투명 피막이 형성된 투명 피막부 기재에 있어서, In the transparent coating part base material in which the transparent film was formed on the base material, 투명 피막이 표면 전하량 (QA)이 5∼80 μeq/g의 범위인 소수성 금속 산화물 미립자 (A)와 매트릭스 성분으로 이루어지며,The transparent film is composed of hydrophobic metal oxide fine particles (A) having a surface charge amount (Q A ) in the range of 5 to 80 μeq / g and a matrix component, 금속 산화물 미립자 (A)가 투명 피막 상부에 층을 형성하여 편재되고 투명 피막 중의 금속 산화물 미립자 (A)의 함유량 (WPA)이 0.2∼90 중량%의 범위이며,The metal oxide fine particles (A) form a layer on the transparent film and are localized, and the content (W PA ) of the metal oxide fine particles (A) in the transparent film is in the range of 0.2 to 90% by weight, 매트릭스 성분의 함유량 (WM)이 10∼99.8 중량%의 범위이며,The content (W M ) of the matrix component is in the range of 10 to 99.8 wt%, 상기 매트릭스 성분이 하기 식 (4)로 표시되는 유기 규소 화합물의 가수분해 중축합물 및/또는 소수성 관능기를 지닌 다관능 (메티)아크릴산에스테르 수지로부터 선택되는 소수성 매트릭스 성분임을 특징으로 하는 투명 피막부 기재Wherein the matrix component is a hydrophobic matrix component selected from hydrolyzed polycondensates of the organosilicon compounds represented by the following formula (4) and / or polyfunctional (meth) acrylic acid ester resins having a hydrophobic functional group: Rn-SiX4 -n (4)R n -SiX 4- n (4) (단, 상기 식에서 R은 탄소수 1∼10의 비치환 또는 치환 탄화수소기이며 서로 동일하거나 상이할 수 있다. X는 탄소수 1∼4의 알콕시기, 실라놀기, 할로겐, 수소이며, n은 0∼3의 정수임)(Wherein R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and may be the same or different from each other. X is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, silanol group, halogen, hydrogen, and n is 0 to 3). Is an integer of) 제 8항에 있어서, 상기 매트릭스 성분이 소수성 매트릭스 성분과 함께 친수성 매트릭스 성분으로 이루어지며,The method of claim 8, wherein the matrix component is composed of a hydrophilic matrix component together with a hydrophobic matrix component, 친수성 매트릭스 성분이 하기 식 (3)으로 표시되는 유기 규소 화합물의 가수분해 중축합물 및/또는 친수성 관능기를 지닌 다관능 (메타)아크릴산에스테르 수지이며,The hydrophilic matrix component is a polyfunctional (meth) acrylic acid ester resin having a hydrolyzed polycondensate of an organosilicon compound represented by the following formula (3) and / or a hydrophilic functional group, 친수성 매트릭스 성분의 고형분으로서의 함유량 (WMA)와 소수성 매트릭스 성분의 고형분으로서의 함유량 (WMB)의 함유량비 (WMA)/(WMB)가 0.01∼1의 범위임을 특징으로 하는 투명 피막부 기재Transparent film part base material characterized by the content ratio (W MA ) / (W MB ) of content (W MA ) as a solid content of a hydrophilic matrix component, and content (W MB ) as a solid content of a hydrophobic matrix component. SiX4 (3)SiX 4 (3) (단, 상기 식에서 X는 탄소수 1∼4의 알콕시기, 실라놀기, 할로겐, 수소임)(Wherein X is an alkoxy group, silanol group, halogen or hydrogen having 1 to 4 carbon atoms) 제 8항 또는 제 9항에 있어서, 상기 투명 피막이 표면 전하량 (QB)이 25∼100 μeq/g의 범위이며, 금속 산화물 미립자 (B)의 표면 전하량 (QB)과 금속 산화물 미립자 (A)의 표면 전하량 (QA)의 차 (QB)-(QA)가 20∼95 μeq/g의 범위인 금속 산화물 미립자 (B)를 더욱 포함하며, 상기 금속 산화물 미립자 (B)가 기재 표면상에 층을 형성하여 편재되어 있거나 상기 금속 산화물 미립자 (A)로 이루어진 층과 기재 표면의 사이에 분산됨을 특징으로 하는 투명 피막부 기재The surface charge amount Q B of the transparent film is in the range of 25 to 100 μeq / g, and the surface charge amount Q B of the metal oxide fine particles ( B ) and the metal oxide fine particles (A) according to claim 8 or 9. Further comprises metal oxide fine particles (B) having a difference (Q B )-(Q A ) of the surface charge amount Q A in the range of 20 to 95 μeq / g, wherein the metal oxide fine particles (B) are formed on the substrate surface. The transparent coating part base material formed by forming a layer in and disperse | distributing between the layer which consists of said metal oxide fine particles (A), and the surface of a base material 제 8항 내지 제 10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 금속 산화물 미립자 (A)의 평균 입자 지름이 5∼500 nm의 범위이며, 상기 금속 산화물 미립자 (B)의 평균 입자 지름이 5∼500 nm의 범위임을 특징으로 하는 투명 피막부 기재The average particle diameter of the said metal oxide fine particle (A) is the range of 5-500 nm, The average particle diameter of the said metal oxide fine particle (B) is 5-500 nm in any one of Claims 8-10. Transparent coating part substrate, characterized in that the range of 제 8항 내지 제 11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 친수성 관능기가 수산기, 아미노기, 카르복실기, 설폰기로부터 선택되는 1종 이상이며, 상기 소수성 관능기가 (메타)아크릴로일기, 알킬기, 페닐기, 우레탄기, CF2기로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상임을 특징으로 하는 투명 피막부 기재The said hydrophilic functional group is at least 1 sort (s) chosen from a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, and a sulfone group, The said hydrophobic functional group is a (meth) acryloyl group, an alkyl group, a phenyl group, a urethane. Transparent coating part substrate, characterized in that one or two or more selected from the group CF 2
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101226230B1 (en) * 2011-08-26 2013-01-28 주식회사 엘지화학 Anti-reflective coating film
WO2013032120A1 (en) * 2011-08-26 2013-03-07 주식회사 엘지화학 Anti-glare film
US8814370B2 (en) 2011-08-26 2014-08-26 Lg Chem, Ltd. Composition for anti-reflective coating and anti-reflective coating film using the same

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5686942B2 (en) * 2008-05-26 2015-03-18 日揮触媒化成株式会社 Hard coat film-forming coating material and substrate with hard coat film
JP5378771B2 (en) * 2008-11-28 2013-12-25 日揮触媒化成株式会社 Base material with antireflection film and coating liquid for forming antireflection film
JP2011039332A (en) * 2009-08-12 2011-02-24 Fujifilm Corp Optical film, method for manufacturing the same, polarizing plate and image display device
JP5555082B2 (en) * 2010-07-20 2014-07-23 日揮触媒化成株式会社 Coating liquid for forming transparent film and substrate with transparent film
TWI407136B (en) * 2010-08-30 2013-09-01 Benq Materials Corp Antiglare film
JP2012140533A (en) * 2010-12-28 2012-07-26 Jgc Catalysts & Chemicals Ltd Coating liquid for forming transparent film and base material with transparent film
JP5696581B2 (en) * 2011-05-12 2015-04-08 Dic株式会社 Antistatic hard coat coating material and optical member
JP6016548B2 (en) 2012-09-19 2016-10-26 日揮触媒化成株式会社 Coating liquid for forming transparent film and substrate with transparent film
JP6266230B2 (en) * 2013-05-15 2018-01-24 日揮触媒化成株式会社 Surface-modified metal oxide fine particles, coating liquid for thin film formation, substrate with thin film, photoelectric cell, and method for producing surface-modified metal oxide fine particles
CN106029798B (en) 2014-02-14 2019-06-07 日挥触媒化成株式会社 It is used to form the coating fluid of transparent coating and the manufacturing method of the substrate with transparent coating
JP7152841B2 (en) * 2016-02-29 2022-10-13 日揮触媒化成株式会社 Coating liquid for forming transparent film and base material with transparent film
EP3438053A4 (en) * 2016-03-31 2020-01-15 Nissan Chemical Industries, Ltd. Film forming composition and method for producing same
JP6720673B2 (en) * 2016-04-26 2020-07-08 凸版印刷株式会社 Fine particle unevenly distributed composite and method for producing the same
KR101961333B1 (en) * 2016-07-14 2019-03-22 주식회사 엘지화학 Anti-reflective film
CN110632686B (en) 2016-07-14 2021-10-29 株式会社Lg化学 Anti-reflection film
WO2018056688A1 (en) 2016-09-21 2018-03-29 Samsung Electronics Co., Ltd. Optical member, polarization member, and display device employing polymer film
CN113462219B (en) * 2020-03-31 2024-03-12 日挥触媒化成株式会社 Coating liquid for forming conductive film

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3861562B2 (en) * 2000-04-28 2006-12-20 凸版印刷株式会社 Method for producing hard coat film
JP4031624B2 (en) 2000-06-23 2008-01-09 株式会社東芝 Substrate with transparent coating, coating liquid for forming transparent coating, and display device
JP4183924B2 (en) 2001-03-30 2008-11-19 日揮触媒化成株式会社 METAL PARTICLE, PROCESS FOR PRODUCING THE PARTICLE, COATING LIQUID FOR TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM CONTAINING THE PARTICLE, SUBSTRATE WITH TRANSPARENT CONDUCTIVE COATING, DISPLAY DEVICE
JP4959067B2 (en) * 2001-06-27 2012-06-20 日揮触媒化成株式会社 Coating liquid for forming transparent low-reflective conductive film, substrate with transparent low-reflective conductive film, and display device
JP5064649B2 (en) * 2003-08-28 2012-10-31 大日本印刷株式会社 Anti-reflection laminate
US20060269733A1 (en) 2003-08-28 2006-11-30 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Antireflection laminate
KR101163539B1 (en) * 2003-11-06 2012-07-06 니끼 쇼꾸바이 카세이 가부시키가이샤 Chain inorganic oxide fine particle groups, process for preparing dispersion of the fine particle groups, and uses of the fine particle groups
JP2005144849A (en) * 2003-11-14 2005-06-09 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd Transparent conductive film and reflection preventing transparent conductive film
WO2006025503A1 (en) * 2004-09-02 2006-03-09 Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. Titanium-containing silica sol and process for producing the same, antifouling film and base material with ink-receptive layer, and method for reproducing recording base material
JP5075333B2 (en) * 2005-11-11 2012-11-21 富士フイルム株式会社 Optical film, polarizing plate, and image display device

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101226230B1 (en) * 2011-08-26 2013-01-28 주식회사 엘지화학 Anti-reflective coating film
WO2013032120A1 (en) * 2011-08-26 2013-03-07 주식회사 엘지화학 Anti-glare film
US8795825B2 (en) 2011-08-26 2014-08-05 Lg Chem, Ltd. Anti-reflective coating film
US8814370B2 (en) 2011-08-26 2014-08-26 Lg Chem, Ltd. Composition for anti-reflective coating and anti-reflective coating film using the same
US8877287B2 (en) 2011-08-26 2014-11-04 Lg Chem, Ltd. Method for manufacturing anti-reflective coating film
US9482789B2 (en) 2011-08-26 2016-11-01 Lg Chem, Ltd. Anti-reflective coating film

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