JP5686942B2 - Hard coat film-forming coating material and substrate with hard coat film - Google Patents

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本発明は、基材との密着性、耐擦傷性、膜硬度等に優れるとともに、帯電防止性能、透明性・無着色性、ヘーズ等に優れたハードコート膜形成用塗料およびハードコート膜付基材とに関する。   The present invention is excellent in adhesion to a base material, scratch resistance, film hardness, etc., and has excellent antistatic performance, transparency / colorlessness, haze, etc. Regarding materials.

ガラス、プラスチックシート、プラスチックレンズ等の基材表面の耐擦傷性を向上させるため、基材表面にハードコート膜を形成することが知られており、このようなハードコート膜として有機樹脂膜あるいは無機膜をガラスやプラスチック等の表面に形成することが行われている。さらに、有機樹脂膜あるいは無機膜中に樹脂粒子あるいはシリカ等の無機酸化物粒子を配合してさらに基材との密着性、耐擦傷性等を向上させることが行われている。   It is known to form a hard coat film on the surface of the base material in order to improve the scratch resistance of the base material surface such as glass, plastic sheet, plastic lens, etc. As such hard coat film, an organic resin film or inorganic A film is formed on the surface of glass or plastic. In addition, resin particles or inorganic oxide particles such as silica are blended in an organic resin film or an inorganic film to further improve adhesion to a substrate, scratch resistance, and the like.

また、表示装置等の基材に帯電防止性能、電磁波遮蔽性能を付与するために金属微粒子、導電性の酸化物微粒子を含む導電性被膜を基材表面に形成することも行われている(特許文献1、特開2003−105268号公報)。このとき、導電性の酸化物微粒子として、酸化錫、F、SbまたはPをドープした酸化錫、酸化インジウム、SnまたはFをドープした酸化インジウム、酸化アンチモン、低次酸化チタン等を用いることが開示されている。   In addition, in order to impart antistatic performance and electromagnetic wave shielding performance to a substrate such as a display device, a conductive film containing metal fine particles and conductive oxide fine particles is also formed on the surface of the substrate (patent) Document 1, JP-A-2003-105268). At this time, it is disclosed that tin oxide, tin oxide doped with F, Sb or P, indium oxide, indium oxide doped with Sn or F, antimony oxide, low-order titanium oxide or the like is used as the conductive oxide fine particles. Has been.

また、本発明者らは、ハードコート膜自体に帯電防止性能を付与するために五酸化アンチモン微粒子を配合したハードコート膜を提案している(特許文献2、特開2004−50810号公報)。さらに、鎖状五酸化アンチモン微粒子を配合した透明被膜を提案している(特許文献3、特開2005−139026公報)。
特開2003−105268号公報 特開2004−50810号公報 特開2005−139026公報
In addition, the present inventors have proposed a hard coat film in which antimony pentoxide fine particles are blended in order to impart antistatic performance to the hard coat film itself (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-50810). Furthermore, a transparent coating containing chain antimony pentoxide fine particles has been proposed (Patent Document 3, JP-A-2005-139026).
JP 2003-105268 A JP 2004-50810 A JP 2005-139026 A

しかしながら、従来の五酸化アンチモン微粒子、あるいは酸化錫微粒子を用いると、得られるハードコート膜、透明被膜の表面抵抗値が比較的高く、このため帯電防止性能が不充分であった。また、こらの代わりに、導電性の高い、金属微粒子やSbをドープした酸化錫微粒子(ATO)あるいはSnをドープした酸化インジウム微粒子(ITO)を、ハードコート膜形成成分として配合して用いると、膜厚が0.5μm以上のハードコート膜では着色する問題が発生し、着色したハードコート膜付基材を用いた表示装置では、例えば、外観が問題になるほか、CDやDVDなどの記録装置の用途に使用する場合読み込み、書
き込みを阻害することも判明した。
However, when conventional antimony pentoxide fine particles or tin oxide fine particles are used, the surface resistance value of the obtained hard coat film and transparent film is relatively high, so that the antistatic performance is insufficient. Further, instead of these, highly conductive metal fine particles, tin oxide fine particles (ATO) doped with Sb or indium oxide fine particles (ITO) doped with Sn are used as a hard coat film forming component, In a hard coat film having a thickness of 0.5 μm or more, there is a problem of coloring. In a display device using a colored base material with a hard coat film, for example, the appearance is a problem, and a recording device such as a CD or a DVD It has also been found that reading and writing are hindered when used for various purposes.

このような状況の下、本発明者等は上記問題を解消すべく鋭意検討した結果、ハードコート膜形成成分に、金属酸化物微粒子としてPをドープした酸化錫微粒子を配合すると長期にわたって着色せず、かつ帯電防止性能も高いことを見いだして本発明を完成するに至った。
[1]Pドープ酸化錫微粒子とマトリックス形成成分と溶媒とからなるハードコート膜形成
塗料であって、
Pドープ酸化錫微粒子のPの含有量が酸化物として0.5〜10重量%の範囲にあり、
Pドープ酸化錫微粒子の固形分としての濃度が0.5〜40重量%の範囲にあり、
マトリックス形成成分の固形分としての濃度が1〜45重量%の範囲にあり、
全固形分濃度が5〜50重量%の範囲にあることを特徴とするハードコート膜形成用塗料。
[2]前記Pドープ酸化錫微粒子の平均粒子径が5〜30nmの範囲にあることを特徴とす
る[1]のハードコート膜形成用塗料。
[3]前記Pドープ酸化錫微粒子が下記式(1)で表される有機珪素化合物で表面処理されている[1]または[2]のハードコート膜形成用塗料。
n-SiX4-n (1)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、シラノール基、ハロゲン、水素、n:0〜3の整数)
[4]前記Pドープ酸化錫微粒子が陰イオン界面活性剤および/または非イオン界面活性剤
で表面処理されている[1]または[2]のハードコート膜形成用塗料。
[5]前記マトリックス形成成分が有機樹脂である[1]〜[4]のハードコート膜形成用塗料。
[6]前記有機樹脂が紫外線硬化樹脂である[1]〜[5]のハードコート膜形成用塗料。
[7]基材と、基材上に形成された平均膜厚が0.5〜20μmのハードコート膜とからな
り、該ハードコート膜がマトリックス成分とPドープ酸化錫微粒子とを含み、Pドープ酸化錫微粒子のPの含有量が酸化物として0.5〜10重量%の範囲にあり、ハードコート膜中のPドープ酸化錫微粒子の含有量が固形分として5〜80重量%の範囲にあるハードコート膜付基材。
[8]前記Pドープ酸化錫微粒子の平均粒子径が5〜30nmの範囲にある[7]のハードコート膜付基材。
[9]前記Pドープ酸化錫微粒子が下記式(1)で表される有機珪素化合物で表面処理されている[7]または[8]のハードコート膜付基材。
n-SiX4-n (1)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、シラノール基、ハロゲン、水素、n:0〜3の整数)
[10]前記Pドープ酸化錫微粒子が陰イオン界面活性剤および/または非イオン界面活性剤で表面処理されている[7]または[8]のハードコート膜付基材。
[11]前記マトリックス成分が有機樹脂である[7]〜[10]のハードコート膜付基材。
[12]前記有機樹脂が紫外線硬化樹脂である[7]〜[11]のハードコート膜付基材。
[13]表面抵抗値が105〜1012Ω/□の範囲にある[7]〜[12]のハードコート膜付基材。
Under these circumstances, the present inventors have intensively studied to solve the above problems. As a result, when tin oxide fine particles doped with P as metal oxide fine particles are blended into the hard coat film forming component, the color does not color over a long period of time. In addition, the inventors have found that the antistatic performance is also high and have completed the present invention.
[1] A hard coat film-forming paint comprising P-doped tin oxide fine particles, a matrix-forming component, and a solvent,
The P content of the P-doped tin oxide fine particles is in the range of 0.5 to 10% by weight as an oxide,
The concentration of P-doped tin oxide fine particles as a solid content is in the range of 0.5 to 40% by weight,
The concentration of the matrix-forming component as a solid content is in the range of 1 to 45% by weight,
A paint for forming a hard coat film, wherein the total solid concentration is in the range of 5 to 50% by weight.
[2] The coating material for forming a hard coat film according to [1], wherein the P-doped tin oxide fine particles have an average particle diameter in the range of 5 to 30 nm.
[3] The paint for forming a hard coat film according to [1] or [2], wherein the P-doped tin oxide fine particles are surface-treated with an organosilicon compound represented by the following formula (1).
R n -SiX 4-n (1 )
(In the formula, R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other. X: an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a silanol group) , Halogen, hydrogen, n: an integer of 0 to 3)
[4] The hard coat film forming paint according to [1] or [2], wherein the P-doped tin oxide fine particles are surface-treated with an anionic surfactant and / or a nonionic surfactant.
[5] The hard coat film forming paint according to [1] to [4], wherein the matrix forming component is an organic resin.
[6] The hard coat film forming paint according to [1] to [5], wherein the organic resin is an ultraviolet curable resin.
[7] A substrate and a hard coat film having an average film thickness of 0.5 to 20 μm formed on the substrate, the hard coat film including a matrix component and P-doped tin oxide fine particles, The content of P in the tin oxide fine particles is in the range of 0.5 to 10% by weight as an oxide, and the content of the P-doped tin oxide fine particles in the hard coat film is in the range of 5 to 80% by weight as the solid content. Base material with hard coat film.
[8] The substrate with a hard coat film according to [7], wherein the P-doped tin oxide fine particles have an average particle diameter in the range of 5 to 30 nm.
[9] The substrate with a hard coat film according to [7] or [8], wherein the P-doped tin oxide fine particles are surface-treated with an organosilicon compound represented by the following formula (1).
R n -SiX 4-n (1)
(In the formula, R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other. X: an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a silanol group) , Halogen, hydrogen, n: an integer of 0 to 3)
[10] The substrate with a hard coat film according to [7] or [8], wherein the P-doped tin oxide fine particles are surface-treated with an anionic surfactant and / or a nonionic surfactant.
[11] The substrate with a hard coat film according to [7] to [10], wherein the matrix component is an organic resin.
[12] The substrate with a hard coat film according to [7] to [11], wherein the organic resin is an ultraviolet curable resin.
[13] The substrate with a hard coat film according to [7] to [12], wherein the surface resistance value is in the range of 10 5 to 10 12 Ω / □.

本発明では、着色することなく透明性に優れ、基材との密着性、耐擦傷性、硬度等に優れるとともに帯電防止性能に優れたハードコート膜を形成するためのハードコート膜形成用塗料およびハードコート膜付基材を提供することを目的としている。   In the present invention, a paint for forming a hard coat film for forming a hard coat film excellent in transparency without coloring, excellent in adhesion to a substrate, scratch resistance, hardness and the like and having excellent antistatic performance and The object is to provide a substrate with a hard coat film.

本発明では、基材表面に設けられたハードコート膜がPがドープされた酸化錫微粒子を含んでいるために、膜厚が0.5〜20μmと厚膜であっても着色することが無く透明で、このため表示装置等に設けた場合にも外観あるいはヘーズが問題になることもなく、また、読み込み、書き込みを阻害することもなく、加えて、基材との密着性、耐擦傷性、膜硬度等に優れるとともに帯電防止性能を有するハードコート膜付基材に用いることのできるハードコート膜形成用塗料およびハードコート膜付基材を提供することができる。   In the present invention, since the hard coat film provided on the surface of the base material contains tin oxide fine particles doped with P, there is no coloring even if the film thickness is 0.5 to 20 μm. It is transparent, so when it is installed in a display device etc., the appearance or haze does not become a problem, and reading and writing are not hindered. In addition, adhesion to the substrate, scratch resistance Further, it is possible to provide a hard coat film-forming coating material and a hard coat film-coated substrate that can be used for a hard coat film-coated substrate having excellent film hardness and the like and having antistatic performance.

以下、まず、本発明に係るハードコート膜形成用塗料について説明する。
ハードコート膜形成用塗料
本発明に係るハードコート膜形成用塗料は、Pがドープされた酸化錫微粒子とマトリッ
クス形成成分と溶媒とからなる。
[Pドープ酸化錫微粒子]
Pドープ酸化錫は、酸化錫にリンがドープされたものである。Pドープ酸化錫はITOやATO、FTO(Fドープ酸化錫)と同程度の導電性を有するとともに、透明性も高いという特性を有する。
Hereinafter, the hard coat film-forming paint according to the present invention will be described first.
Hard coat film forming paint The hard coat film forming paint according to the present invention comprises tin oxide fine particles doped with P, a matrix forming component, and a solvent.
[P-doped tin oxide fine particles]
P-doped tin oxide is obtained by doping tin oxide with phosphorus. P-doped tin oxide has the same level of conductivity as ITO, ATO, and FTO (F-doped tin oxide) and high transparency.

Pドープ酸化錫微粒子中のPのドープ量は、酸化物として0.5〜10重量%、さらには1.0〜7重量%の範囲にあることが好ましい。Pドープ量が少ないと、導電性が不充分となり、得られるハードコート膜の帯電防止性能が不充分となる場合がある。Pドープ量が多すぎても、導電性がさらに向上することもなく、均一にドーピングすることが困難となり、粒子の表面にPが偏在して導電性が低下する場合がある。   The doping amount of P in the P-doped tin oxide fine particles is preferably in the range of 0.5 to 10% by weight, more preferably 1.0 to 7% by weight as an oxide. If the amount of P-doping is small, the conductivity may be insufficient, and the antistatic performance of the resulting hard coat film may be insufficient. Even if the amount of P doping is too large, the conductivity is not further improved, it becomes difficult to dope uniformly, and P may be unevenly distributed on the surface of the particle, resulting in a decrease in conductivity.

また、Pドープ酸化錫微粒子の平均粒子径は5〜30nm、さらには5〜20nmの範囲にあることが好ましい。
Pドープ酸化錫微粒子の平均粒子径が小さすぎると、粒子が凝集しやすく、凝集した粒子を高分散させることも困難となり、得られるハードコート膜のヘーズが高くなる場合がある。また、高分散できたとしても粒界抵抗が大きくなり導電性が低下するので帯電防止性能が不充分となる場合がある。Pドープ酸化錫微粒子の平均粒子径が大きすぎると、透明性が低下するとともにヘーズも高くなる。またハードコート膜中で導電パス(例えば粒子が鎖状等に連結して電子が移動できる)を形成しにくく、導電性が低下するので帯電防止性能が不充分となる場合がある。
Moreover, it is preferable that the average particle diameter of P dope tin oxide fine particle exists in the range of 5-30 nm, Furthermore, 5-20 nm.
If the average particle size of the P-doped tin oxide fine particles is too small, the particles are likely to aggregate, making it difficult to highly disperse the aggregated particles, and the resulting hard coat film may have high haze. Even if the dispersion is high, the grain boundary resistance increases and the conductivity decreases, so that the antistatic performance may be insufficient. If the average particle size of the P-doped tin oxide fine particles is too large, the transparency is lowered and the haze is also increased. In addition, it is difficult to form a conductive path (for example, particles can be linked in a chain form or the like in the hard coat film) and the conductivity is lowered, so that the antistatic performance may be insufficient.

本発明に用いるPドープ酸化錫微粒子の体積抵抗値は100〜100,000Ω・cm、さらには100〜50,000Ω・cmの範囲にあることが好ましい。この範囲にあれば、導電性が高く、高い帯電防止性能を発揮できる。なお、体積抵抗値は、前記したように、Pドープ量の影響を受け、相対的にドープ量が多くなれば抵抗値は小さくなる。   The volume resistivity of the P-doped tin oxide fine particles used in the present invention is preferably in the range of 100 to 100,000 Ω · cm, more preferably 100 to 50,000 Ω · cm. If it exists in this range, electroconductivity is high and can demonstrate high antistatic performance. As described above, the volume resistance value is affected by the P doping amount, and the resistance value decreases as the doping amount relatively increases.

Pドープ酸化錫微粒子としては、Pのドープ量および平均粒子径、体積抵抗値が前記範囲にあれば特に制限はなく従来公知のPドープ酸化錫微粒子を用いることができる。例えば、本願出願人の出願による特開昭63−11519号公報に開示した導電性微粒子の製造方法に準じた方法により製造することができる。   The P-doped tin oxide fine particles are not particularly limited as long as the P doping amount, the average particle diameter, and the volume resistance are within the above ranges, and conventionally known P-doped tin oxide fine particles can be used. For example, it can be produced by a method according to the method for producing conductive fine particles disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-11519 filed by the applicant of the present application.

本発明で使用されるPドープ酸化錫微粒子は、下記式(1)で表される有機珪素化合物で
表面処理されていることが好ましい。
n-SiX4-n (1)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、シラノール基、ハロゲン、水素、n:0〜3の整数)
このような有機珪素化合物としては、
具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(βメトキシエトキシ)シラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメ
トキシシラン、メチル-3,3,3−トリフルオロプロピルジメトキシシラン、β−(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリメトキシ
シラン、γ-グリシドキシメチルトリエキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルト
リエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリシド
キシエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシメチルトリメ
トキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシメチルトリエキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシエチルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシエチルトリエトキシシ
ラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリエトキシシ
ラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシ
ラン、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラオクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、3-ウレイドイソプロピルプロピルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β(ア
ミノエチル)γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、トリメチルシラノール
、メチルトリクロロシラン等が挙げられる。
The P-doped tin oxide fine particles used in the present invention are preferably surface-treated with an organosilicon compound represented by the following formula (1).
R n -SiX 4-n (1 )
(In the formula, R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other. X: an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a silanol group) , Halogen, hydrogen, n: an integer of 0 to 3)
As such an organosilicon compound,
Specifically, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, Phenyltriethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (βmethoxyethoxy) silane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, methyl-3, 3,3-trifluoropropyldimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxymethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxymethyltrioxy Silane, γ-glycidoxyethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxyethyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxy Silane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ- (β-glycidoxyethoxy) propyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloxymethyltrimethoxysilane, γ- (meth) acrylooxymethyltri Excisilane, γ- (meth) acrylooxyethyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloxyethyltriethoxysilane, γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, γ- (meth) acrylooxy Propyltrimethoxysilane, γ- (meth) acrylooxypropyltriethoxysilane Γ- (Meth) acrylooxypropyltriethoxysilane, butyltrimethoxysilane, isobutyltriethoxysilane, hexyltriethoxysilaoctyltriethoxysilane, decyltriethoxysilane, butyltriethoxysilane, isobutyltriethoxysilane, hexyltri Ethoxysilane, octyltriethoxysilane, decyltriethoxysilane, 3-ureidoisopropylpropyltriethoxysilane, perfluorooctylethyltrimethoxysilane, perfluorooctylethyltriethoxysilane, perfluorooctylethyltriisopropoxysilane, trifluoropropyl Trimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimeth Shishiran, N- phenyl--γ- aminopropyltrimethoxysilane, .gamma.-mercaptopropyltrimethoxysilane, trimethylsilanol, and the like methyltrichlorosilane.

なお、マトリックス形成成分が、親水性樹脂の場合は、特に表面処理する必要はないが、必要に応じてn=0の有機ケイ素化合物を用いる。マトリックス形成成分が、疎水性樹脂の場合は、必要に応じてn=1〜3、好ましくはn=1の有機ケイ素化合物を用いることが望ましい。   In addition, when the matrix forming component is a hydrophilic resin, it is not necessary to perform surface treatment, but an organic silicon compound with n = 0 is used as necessary. When the matrix forming component is a hydrophobic resin, it is desirable to use an organosilicon compound with n = 1 to 3, preferably n = 1, as necessary.

表面処理は、例えば、Pドープ酸化錫微粒子のアルコール分散液に前記した有機珪素化合物を所定量加え、これに水を加え、必要に応じて有機珪素化合物の加水分解用触媒として酸またはアルカリを加えて有機珪素化合物を加水分解する等従来公知の方法を採用することができる。   In the surface treatment, for example, a predetermined amount of the above-mentioned organosilicon compound is added to an alcohol dispersion of P-doped tin oxide fine particles, water is added thereto, and an acid or alkali is added as a catalyst for hydrolysis of the organosilicon compound as necessary. A conventionally known method such as hydrolyzing an organosilicon compound can be employed.

なお、表面処理量は、マトリックス形成成分、溶媒への均一な分散性が得られる範囲でできるだけ少ない処理量とすることがことが好ましい。処理量が多すぎるとPドープ酸化錫微粒子の導電性を阻害し、得られるハードコート膜の帯電防止性能が不充分となることがある。   The surface treatment amount is preferably as small as possible within a range in which uniform dispersibility in the matrix-forming component and the solvent is obtained. If the amount is too large, the conductivity of the P-doped tin oxide fine particles may be impaired, and the resulting anti-static performance of the hard coat film may be insufficient.

有機ケイ素化合物によるPドープ酸化錫微粒子の表面処理量は、Pドープ酸化錫微粒子の平均粒子径によっても異なるが、有機ケイ素化合物とPドープ酸化錫微粒子との重量比(有機ケイ素化合物の固形分としての重量/Pドープ酸化錫微粒子固形分としての重量)は0.2以下、さらには0.1以下の範囲にあることが好ましい。   The surface treatment amount of the P-doped tin oxide fine particles by the organosilicon compound varies depending on the average particle diameter of the P-doped tin oxide fine particles, but the weight ratio of the organosilicon compound to the P-doped tin oxide fine particles (as the solid content of the organosilicon compound) Weight / weight as the solid content of P-doped tin oxide fine particles) is preferably 0.2 or less, more preferably 0.1 or less.

前記重量比が大きすぎる、Pドープ酸化錫微粒子の表面が有機珪素化合物で厚く被覆されるようになり、導電性が低下し、帯電防止性能が不充分となる場合がある。
表面処理量の下限は特に制限されないが、前記重量比が小さすぎると、有機珪素化合物で表面処理する効果の発現が薄く、また場合によっては、塗料中での分散性が不充分となることがあり、この塗料を用いて形成された透明導電性被膜はヘーズが高く、帯電防止性能が不充分となることもある。このため、表面処理量の下限としては、前記重量比が0.01以上、さらには、0.02以上であることが望ましい。
If the weight ratio is too large, the surface of the P-doped tin oxide fine particles may be thickly coated with the organosilicon compound, the conductivity may be lowered, and the antistatic performance may be insufficient.
The lower limit of the surface treatment amount is not particularly limited, but if the weight ratio is too small, the effect of surface treatment with an organosilicon compound is thin, and in some cases, dispersibility in the paint may be insufficient. In addition, the transparent conductive film formed using this paint has a high haze and may have insufficient antistatic performance. For this reason, as a lower limit of the surface treatment amount, the weight ratio is preferably 0.01 or more, and more preferably 0.02 or more.

本発明で使用されるPドープ酸化錫微粒子は、有機珪素化合物の表面処理の代りに、あるいは、有機珪素化合物の表面処理とともに、陰イオン界面活性剤および/または非イオン界面活性剤で表面処理されていてもよい。   The P-doped tin oxide fine particles used in the present invention are surface-treated with an anionic surfactant and / or a nonionic surfactant in place of or together with the surface treatment of the organosilicon compound. It may be.

界面活性剤としては、プロピレングリコールステアリン酸エステル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキレンアルキルエーテル、イソステアリルグリセリルエーテル、モノラウリル酸ポリエチレングリコール、モノステアリン酸ポリエチレングリコール、ジステアリン酸ポリエチレングリコール、ジステアリン酸エチレングリコール、ポリオキシエチレントリデシルエーテル、ポリオキシアルキレントリデシルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシアルキレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンイソデシルエーテル、ポリエチレンアルキルエーテルリン酸エステルなどのポリオキシアルキレンアルキルエーテルリン酸エステル、ポリオキシエチレンノリルフェノールホスフェート、ポリオキシエチレンノリルフェノールエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル等の非イオン性界面活性剤、ポリエキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム、ポリエキシエチレンラウリルエーテル硫酸アンモニウム、ポリエキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、アルキルジフェニルエーテルジスルフォン酸ナトリウム、ジオクチルスルホサクシネートナトリウム等の陰イオン性界面活性剤等およびこれらの混合物が挙げられる。   Surfactants include polyoxyethylene alkyl ethers such as propylene glycol stearate ester and propylene glycol monomethyl ether, polyoxyethylene alkylene alkyl ether, isostearyl glyceryl ether, polyethylene glycol monolaurate, polyethylene glycol monostearate, distearic acid Polyethylene glycol, ethylene glycol distearate, polyoxyethylene tridecyl ether, polyoxyalkylene tridecyl ether, polyoxyalkylene alkyl ether, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyalkylene lauryl ether, polyoxyethylene isodecyl ether, polyethylene alkyl ether Polyoxyalkylenes such as phosphate esters Nonionic surfactants such as alkyl ether phosphates, polyoxyethylene norylphenol phosphate, polyoxyethylene norylphenol ether, polyoxyethylene octylphenyl ether, polyoxyethylene lauryl ether sodium sulfate, polyoxyethylene lauryl ether ammonium sulfate, Examples include anionic surfactants such as sodium polyoxyethylene alkyl ether sulfate, sodium dodecylbenzenesulfonate, sodium alkyldiphenyl ether disulfonate, sodium dioctylsulfosuccinate, and the like, and mixtures thereof.

界面活性剤による表面処理は、例えば、酸化錫にPを含浸した粒子を焼成してPドープ酸化錫とした後、この粒子を粉砕する際に、前記界面活性剤の存在下で粉砕することにより、粉砕された粒子表面に界面活性剤が吸着あるいは結合することによって行われる。このような界面活性剤により表面処理によって、高分散が可能なPドープ酸化錫微粒子を得ることができる。   The surface treatment with a surfactant is, for example, by firing particles impregnated with P in tin oxide to form P-doped tin oxide, and then pulverizing the particles in the presence of the surfactant when pulverizing the particles. The surface active agent is adsorbed or bound to the pulverized particle surface. P-doped tin oxide fine particles that can be highly dispersed can be obtained by surface treatment with such a surfactant.

このときの、界面活性剤によるPドープ酸化錫微粒子の表面処理量は、Pドープ酸化錫微粒子の平均粒子径によっても異なるが、界面活性剤とPドープ酸化錫微粒子との重量比(界面活性剤の重量/Pドープ酸化錫微粒子の固形分としての重量)は0.2以下、さらには0.1以下の範囲にあることが好ましい。前記重量比が大きすぎると、Pドープ酸化錫微粒子の表面が過剰の界面活性剤で被覆されるようになり、導電性が低下し、帯電防止性能が不充分となる場合がある。   The surface treatment amount of the P-doped tin oxide fine particles by the surfactant at this time varies depending on the average particle diameter of the P-doped tin oxide fine particles, but the weight ratio of the surfactant to the P-doped tin oxide fine particles (surfactant) (Weight / solid weight of P-doped tin oxide fine particles) is preferably 0.2 or less, more preferably 0.1 or less. If the weight ratio is too large, the surface of the P-doped tin oxide fine particles may be coated with an excessive surfactant, resulting in reduced electrical conductivity and insufficient antistatic performance.

なお、界面活性剤の表面処理量の下限は特に制限されないが、前記重量比が小さすぎると、界面活性剤で表面処理する効果の発現が薄く、また場合によっては、塗料中での分散性が不充分となることがあり、この塗料を用いて形成された透明導電性被膜はヘーズが高く、帯電防止性能が不充分となることもある。このため、表面処理量の下限としては、前記重量比が0.01以上、さらには、0.02以上であることが望ましい。   Note that the lower limit of the surface treatment amount of the surfactant is not particularly limited, but if the weight ratio is too small, the effect of surface treatment with the surfactant is weak, and in some cases, the dispersibility in the paint is low. In some cases, the transparent conductive film formed using this paint has a high haze, and the antistatic performance may be insufficient. For this reason, as a lower limit of the surface treatment amount, the weight ratio is preferably 0.01 or more, and more preferably 0.02 or more.

[マトリックス形成成分]
マトリックス形成成分としては、有機樹脂マトリックス形成成分が好適に使用される。
有機樹脂マトリックス形成成分としては、従来公知の塗料樹脂が挙げられ、具体的にはポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、熱可塑性アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、フッ素樹脂、酢酸ビニル樹脂、シリコーンゴムなどの熱可塑性樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、ケイ素樹脂、ブチラール樹脂、反応性シリコーン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、熱硬化性アクリル樹脂、紫外線硬化型アクリル樹脂、電子線硬化型樹脂などが挙げられる。なお、熱可塑性樹脂の場合、マトリックス形成成分はそのままマトリックス成分となる。硬化型樹脂の場合、マトリックス形成成分は、硬化前(反応ないし重合前)の樹脂成分(
モノマー・オリゴマーや反応成分)であり、マトリックス成分は硬化後のものであり、重
合体となったものである。
[Matrix forming component]
As the matrix forming component, an organic resin matrix forming component is preferably used.
Examples of the organic resin matrix forming component include conventionally known paint resins, specifically polyester resins, polycarbonate resins, polyamide resins, polyphenylene oxide resins, thermoplastic acrylic resins, vinyl chloride resins, fluorine resins, vinyl acetate resins, Thermoplastic resins such as silicone rubber, urethane resin, melamine resin, silicon resin, butyral resin, reactive silicone resin, phenol resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, thermosetting acrylic resin, UV curable acrylic resin, electron beam Examples thereof include curable resins. In the case of a thermoplastic resin, the matrix forming component becomes the matrix component as it is. In the case of a curable resin, the matrix-forming component is the resin component before curing (before reaction or polymerization) (before reaction or polymerization)
Monomer / oligomer and reaction component), and the matrix component is a cured product, which is a polymer.

有機樹脂系マトリックス形成成分として、具体的には親水性のマトリックス形成成分と
疎水性のマトリックス形成成分が挙げられる。
親水性マトリックス形成成分として、ジエチルアミノメチルメタクリレート、ジメチルアミノメチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクレート、2−ヒドロキシプロピルメタクレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシブチルメタクレート、2−ヒドロキシ3フェノキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−アクリロイロキシプロピルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールジメタクリレート、ブトキシジエチレングリコールメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1.6−ヘキサンジオールジアクリレート、2−メタクリロイロキシエチルコハク酸、2−アクロイロキシエチルコハク酸、2−アクロイロキシエチルフタル酸、2−メタクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2−アクロイロキシエチル−2−ヒドロキシエチルフタル酸、2−メタクリロイロキシエチルアシッドホスフェート、2−メタクリロイロキシエチルアシッドホスフェート、2−アクロイロキシエチルアシッドフォスフェート、およびこれらの混合物あるいはこれら樹脂の2種以上の共重合体や変性体等などが例示される。
Specific examples of the organic resin-based matrix-forming component include a hydrophilic matrix-forming component and a hydrophobic matrix-forming component.
As a hydrophilic matrix forming component, diethylaminomethyl methacrylate, dimethylaminomethyl methacrylate, dimethylaminoethyl methacrylate, diethylaminoethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate , 2-hydroxybutyl methacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl acrylate, methoxytriethylene glycol dimethacrylate, butoxydiethylene glycol methacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1.6-hexane Diol diacrylate, 2-methacryloyloxyethyl succinic acid, -Acryloxyethyl succinic acid, 2-acryloyloxyethyl phthalic acid, 2-methacryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid, 2-acryloyloxyethyl-2-hydroxyethyl phthalic acid, 2-methacryloyloxyethyl acid phosphate , 2-methacryloyloxyethyl acid phosphate, 2-acryloyloxyethyl acid phosphate, a mixture thereof, or a copolymer or modified body of two or more of these resins.

疎水性マトリックス形成成分としては、ビニル基、ウレタン基、エポキシ基、(メタ)アクリロイル基、CF2基等の疎水性官能基を有する多官能(メタ)アクリル酸エステル樹
脂が挙げられ、具体的にはペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、2−エチルヘキシルメテクリレート、イソデシルメテクリレート、n-ラウリルアクリレート、n−ステアリルアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、トリフロロエチルメテクリレート、ウレタンアクリレート等およびこれらの混合物等の疎水性の有機樹脂系マトリックス形成成分を用いることもできる。
Examples of the hydrophobic matrix-forming component include polyfunctional (meth) acrylate resins having hydrophobic functional groups such as vinyl groups, urethane groups, epoxy groups, (meth) acryloyl groups, CF 2 groups, and the like. Is pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, 2-ethylhexyl Metecrylate, isodecyl metecrylate, n-lauryl acrylate, n-stearyl acrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, perfluorooctyl Chill methacrylate, trifluoroethyl Mete chestnut rate, urethane acrylate and may be used a hydrophobic organic resin based matrix forming components, such as mixtures thereof.

本発明では、なかでも、紫外線硬化型樹脂あるいは電子線硬化型樹脂が好ましく、特に、紫外線硬化型樹脂を用いることが好ましい。
具体的には6官能紫外線硬化樹脂として、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、4官能紫外線硬化樹脂として、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、3官能紫外線硬化樹脂として、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、イソシアヌル酸トリアクリレート、ペンタエリストールヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、2官能紫外線硬化樹脂として、エチレングリコールジメタクレート、ジエチレングリコールジメタクレート、ポリプロピレングリコールジメタクレート、1,4ブタンジオールジメタクレート、1,4ヘキサンジオールジメタクレート、1,6ヘキサンジオールジメタクレート、1,9ノナンジオールジメタクレート、1,10デカンジオールジメタクレート、グリセリンジメタクレート、2-ヒドロキシ3-アクリロイロキシプロピルメタクレート、トリエチレングリコールジメタクレート、ネオペンチルグリコールジメタクレート、2−メタクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、2−アクリロイルオキシエチルアシッドフォスフェート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、テトラエチレンジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、3-メチル-1,5-ペンタンジオー
ルジアクリレート、3-メチル-1,7-オクタンジオールジアクリレート、1,6ヘキサ
ンジオールジアクリレート、2-ブチル-2エチル-1,3-プロパンジオールジアクリレート、1,9ノナンジオールジアクリレート、1,10デカンジオールジアクリレート、2,4-ジエチル-15-ペンタンジオールジアクリレート、ジメチロール-トリシクロデカンジアクリレート、2-ヒドロキシ-3アクリロイロキシプロピルメタクレート、ビスフェノ
ールAジアクリレート、パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、トリフロロエチルメテクリレート等およびこれらの混合物が挙げられる。
In the present invention, among them, an ultraviolet curable resin or an electron beam curable resin is preferable, and an ultraviolet curable resin is particularly preferable.
Specifically, as hexafunctional ultraviolet curable resin, dipentaerythritol hexaacrylate, as tetrafunctional ultraviolet curable resin, pentaerythritol tetraacrylate, as trifunctional ultraviolet curable resin, pentaerythritol triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylol. Propane triacrylate, isocyanuric acid triacrylate, pentaerythritol hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer, bifunctional UV curable resin, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, polypropylene glycol dimethacrylate, 1,4 butanediol dimethacrylate Crate, 1,4 hexanediol dimethacrylate, 1,6 hexanediol dimethacrylate, 1,9 nonanediol Methacrylate, 1,10 decanediol dimethacrylate, glycerin dimethacrylate, 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl methacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, 2-methacryloyloxyethyl acid phosphate, 2-acryloyloxyethyl acid phosphate, polypropylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, tetraethylene diacrylate, triethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 3-methyl-1,5-pentanediol diacrylate, 3-Methyl-1,7-octanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 2-butyl-2ethyl-1,3-propane All diacrylate, 1,9 nonanediol diacrylate, 1,10 decanediol diacrylate, 2,4-diethyl-15-pentanediol diacrylate, dimethylol-tricyclodecane diacrylate, 2-hydroxy-3 acryloyloxypropyl Examples include methacrylate, bisphenol A diacrylate, perfluorooctylethyl methacrylate, trifluoroethyl methacrylate, and the like, and mixtures thereof.

このような紫外線硬化型樹脂を用いると、短時間の処理で耐擦傷性や、硬度等に優れたハードコート膜を生産することができる。
本発明では、このような紫外線硬化型樹脂を用いる際には、必要に応じて、エチル-4-
ジメチルアミノベンゾエート、2-エチルヘキシル-4-ジメチルアミノベンゾエートなどの
増感剤、(2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケト
ン、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトンとベンゾフェノンとの混合物、2-ヒ
ドロキシ-1-フェニル-プロパン-1-オンなどの重合開始剤、安定剤などが含まれていても
よい。これらの含有量はハードコート膜の性能を阻害しない限りにおいて特に制限されるものでなく、通常添加される範囲であればよい。
[溶媒]
本発明に用いる溶媒としては前記マトリックス形成成分、重合開始剤を溶解あるいは分散できるとともにPドープ酸化錫微粒子を均一に分散することができる従来公知の溶媒を用いることができる。
When such an ultraviolet curable resin is used, a hard coat film excellent in scratch resistance, hardness, etc. can be produced in a short time.
In the present invention, when using such an ultraviolet curable resin, if necessary, ethyl-4-
Sensitizers such as dimethylaminobenzoate, 2-ethylhexyl-4-dimethylaminobenzoate, (2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone and benzophenone mixture, polymerization initiators such as 2-hydroxy-1-phenyl-propan-1-one, stabilizers, etc. These contents are not particularly limited as long as they do not impair the performance of the hard coat film, and may be in a range usually added.
[solvent]
As the solvent used in the present invention, a conventionally known solvent capable of dissolving or dispersing the matrix forming component and the polymerization initiator and uniformly dispersing the P-doped tin oxide fine particles can be used.

具体的には、水;メタノール、エタノール、プロパノール、2-プロパノール(IPA)、ブタノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコールなどのアルコール類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプルピル、酢酸プルピル、酢酸イソブチル、酢酸ブチル、酢酸イソペンチル、酢酸ペンチル、酢酸3−メトキシブチル、酢酸2−エチルブチル、酢酸シクロヘキシル、エチレングリコールモノアセテート等のエステル類、エチレングリコール、ヘキシレングリコールなどのグリコール類;ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールイソプルピルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プルピレングリコールものエチルエーテルなどのエーテル類を含む親水性溶媒、酢酸プルピル、酢酸イソブチル、酢酸ブチル、酢酸イソペンチル、酢酸ペンチル、酢酸3−メトキシブチル、酢酸2−エチルブチル、酢酸シクロヘキシル、エチレングリコールものアセタートなどのエステル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ブチルメチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、ジプロピルケトン、メチルペンチルケトン、ジイソブチルケトン等のケトン類;トルエン等極性溶媒が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、また2種以上混合して使用してもよい。
[組成]
ハードコート膜形成用塗料中のPドープ酸化錫微粒子または表面処理Pドープ酸化錫微粒子の固形分としての濃度は0.5〜40重量%、さらには1〜30重量%の範囲にあることが好ましい。固形分濃度が低いと、ハードコート膜中のPドープ酸化錫微粒子の含有量が少なくなり、充分な帯電防止性能が得られない場合がある。固形分濃度が高すぎると、ハードコート膜中のPドープ酸化錫微粒子の含有量が多くなり、一方でマトリックス成分が少なくなるので耐擦傷性が不充分となる場合がある。
Specifically, water; alcohols such as methanol, ethanol, propanol, 2-propanol (IPA), butanol, diacetone alcohol, furfuryl alcohol, tetrahydrofurfuryl alcohol; methyl acetate, ethyl acetate, isopropyl acetate, and propyl acetate , Esters such as isobutyl acetate, butyl acetate, isopentyl acetate, pentyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, 2-ethylbutyl acetate, cyclohexyl acetate, ethylene glycol monoacetate, glycols such as ethylene glycol and hexylene glycol; diethyl ether, Ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol isopropyl ether, diethylene glycol Hydrophilic solvents including ethers such as rumonomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether and purpylene glycol ethyl ether, propyl acetate, isobutyl acetate, butyl acetate, isopentyl acetate, pentyl acetate, 3-methoxybutyl acetate Esters such as 2-ethylbutyl acetate, cyclohexyl acetate, and ethylene glycol acetate; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, butyl methyl ketone, cyclohexanone, methyl cyclohexanone, dipropyl ketone, methyl pentyl ketone, and diisobutyl ketone; Examples include polar solvents such as toluene. These may be used singly or in combination of two or more.
[composition]
The concentration of the P-doped tin oxide fine particles or the surface-treated P-doped tin oxide fine particles in the hard coat film forming coating as a solid content is preferably in the range of 0.5 to 40% by weight, more preferably 1 to 30% by weight. . When the solid content concentration is low, the content of the P-doped tin oxide fine particles in the hard coat film decreases, and sufficient antistatic performance may not be obtained. If the solid content concentration is too high, the content of the P-doped tin oxide fine particles in the hard coat film increases, and on the other hand, the matrix component decreases, so that the scratch resistance may be insufficient.

ハードコート膜形成用塗料中のマトリックス形成成分の固形分濃度は1〜45重量%、さらには2〜40重量%の範囲にあることが好ましい。マトリックス形成成分の固形分濃度が低すぎると、得られるハードコート膜中のマトリックス成分が少なく、Pドープ酸化錫微粒子の含有量が多くなり過ぎ、耐擦傷性が不充分となる場合がある。また、一回の塗布で厚膜のハードコート膜を形成できない場合があり、繰り返し塗布、乾燥を必要とし生産性が低下する問題がある。マトリックス形成成分の固形分濃度が高すぎると、得られるハードコート膜中のPドープ酸化錫微粒子の含有量が少なくなり、充分な帯電防止性能が
得られない場合がある。
The solid content concentration of the matrix-forming component in the hard coat film-forming coating material is preferably in the range of 1 to 45% by weight, more preferably 2 to 40% by weight. If the solid content concentration of the matrix-forming component is too low, the matrix component in the resulting hard coat film is small, the content of P-doped tin oxide fine particles is excessive, and the scratch resistance may be insufficient. In addition, there is a case where a thick hard coat film cannot be formed by a single application, which requires repeated application and drying, resulting in a decrease in productivity. If the solid content concentration of the matrix-forming component is too high, the content of P-doped tin oxide fine particles in the resulting hard coat film decreases, and sufficient antistatic performance may not be obtained.

ハードコート膜形成用塗料は、Pドープ酸化錫微粒子とマトリックス形成成分の全固形分濃度が5〜50重量%、さらには10〜40重量%の範囲にあることが好ましい。
全固形分濃度が薄ければ、1回の塗布で膜厚が0.5μm以上のハードコート膜を得ることが困難な場合があり、繰り返し塗布、乾燥を繰り返すと、得られるハードコート膜の硬度や耐擦傷性が不充分となったり、ヘーズあるいは外観が悪くなったり、生産性低下する問題がある。全固形分濃度が多すぎると、塗料の粘度が高くなり、塗布性が低下したり、得られるハードコート膜のヘーズが高くなったり、表面粗さが大きくなり耐擦傷性が不充分となる場合がある。
The coating material for forming a hard coat film preferably has a total solid concentration of the P-doped tin oxide fine particles and the matrix forming component in the range of 5 to 50% by weight, more preferably 10 to 40% by weight.
If the total solid content is low, it may be difficult to obtain a hard coat film having a film thickness of 0.5 μm or more by a single application. If repeated application and drying are repeated, the hardness of the hard coat film obtained is repeated. In addition, there are problems such as insufficient scratch resistance, haze or poor appearance, and reduced productivity. If the total solid content is too high, the viscosity of the paint will increase, the coating properties will decrease, the haze of the resulting hard coat film will increase, the surface roughness will increase, and the scratch resistance will be insufficient. There is.

また、本発明のハードコート膜形成用塗料には、必要に応じて、従来公知のレベリング剤(例えば、塗料の粘度を低下させて、膜を平坦化させる目的に使用)、消泡剤、撥水剤が含まれていても良い。   In addition, the hard coat film-forming paint of the present invention includes a conventionally known leveling agent (for example, used for the purpose of flattening the film by reducing the viscosity of the paint), an antifoaming agent, a repellent, if necessary. A liquid preparation may be included.

このようなハードコート膜形成用塗料は、ディップ法、スプレー法、スピナー法、ロールコート法、バーコート法、グラビア印刷法、マイクログラビア印刷法等の周知の方法で基材に塗布し、乾燥し、紫外線照射、加熱処理等常法によって硬化させることによってハードコート膜を形成することができる。
ハードコート膜付基材
本発明に係るハードコート膜付基材は、基材と、基材上に形成された平均膜厚が0.5〜20μmのハードコート膜とからなり、該ハードコート膜がマトリックス成分とPドープ酸化錫微粒子とからなっている。
[基材]
本発明に用いる基材としては、公知のものを特に制限なく使用することが可能であり、ガラス、ポリカーボネート、アクリル樹脂、PET、TAC等のプラスチックシート、プラスチックフィルム等、プラスチックパネル等があげられる。中でも樹脂系基材は好適に用いることができる。
[ハードコート膜]
ハードコート膜は、マトリックス成分と前記ドープ酸化錫微粒子とからなっている。
Such a hard coat film-forming coating is applied to a substrate by a known method such as dipping, spraying, spinner, roll coating, bar coating, gravure printing, or micro gravure printing, and then dried. The hard coat film can be formed by curing by an ordinary method such as ultraviolet irradiation or heat treatment.
The base material with a hard coat film The base material with a hard coat film according to the present invention comprises a base material and a hard coat film having an average film thickness of 0.5 to 20 μm formed on the base material. Consists of a matrix component and P-doped tin oxide fine particles.
[Base material]
As the base material used in the present invention, known materials can be used without particular limitation, and examples thereof include glass, polycarbonate, acrylic resin, plastic sheets such as PET and TAC, plastic films, and plastic panels. Among these, a resin-based substrate can be preferably used.
[Hard coat film]
The hard coat film is composed of a matrix component and the doped tin oxide fine particles.

マトリックス成分としては前記したように、マトリックス形成成分からなるものであるか、マトリックス形成成分から誘導されるものである。
ハードコート膜中のPドープ酸化錫微粒子の含有量は固形分として5〜80重量%、さらには20〜70重量%の範囲にあることが好ましい。Pドープ酸化錫微粒子の含有量が少ないと充分な帯電防止性能が得られない場合がある。Pドープ酸化錫微粒子の含有量が多すぎると、基材との密着性、耐擦傷性、強度、透明性、ヘーズ等が不充分となる場合がある。
As described above, the matrix component is composed of a matrix-forming component or derived from a matrix-forming component.
The content of the P-doped tin oxide fine particles in the hard coat film is preferably in the range of 5 to 80% by weight, more preferably 20 to 70% by weight as the solid content. If the content of the P-doped tin oxide fine particles is small, sufficient antistatic performance may not be obtained. If the content of the P-doped tin oxide fine particles is too large, adhesion to the substrate, scratch resistance, strength, transparency, haze, etc. may be insufficient.

ハードコート膜中のマトリックス成分の含有量は、固形分として95〜20重量%、さらには80〜30重量%の範囲にあることが好ましい(なお、前記微粒子との合計で100
重量%を越えない)。マトリックス成分の量が少なければ、基材との密着性が不充分となり、また、Pドープ酸化錫微粒子の含有量が多すぎて耐擦傷性が低下する場合や、着色が強くなったりヘーズが上昇し透明性が低下する場合がある。マトリックス成分の量が多すぎると、ハードコート膜中のPドープ酸化錫微粒子の含有量が少なくなってしまい、充分な帯電防止性能が得られない場合がある。
The content of the matrix component in the hard coat film is preferably in the range of 95 to 20% by weight, more preferably 80 to 30% by weight as a solid content (note that the total amount with the fine particles is 100).
Not exceed% by weight). If the amount of the matrix component is small, the adhesion to the substrate is insufficient, and if the content of the P-doped tin oxide fine particles is too high, the scratch resistance is lowered, the coloring becomes strong, or the haze increases. However, transparency may be reduced. If the amount of the matrix component is too large, the content of the P-doped tin oxide fine particles in the hard coat film decreases, and sufficient antistatic performance may not be obtained.

ハードコート膜の膜厚は、0.5〜20μm、さらには1〜15μmの範囲にあることが好ましい。ハードコート膜の膜厚が前記範囲の下限未満の場合は、ハードコート膜が薄いために膜表面に加わる応力を充分吸収することができず、耐擦傷性、鉛筆硬度等が不充
分となり、さらに導電性が低下し、充分な帯電防止性能が得られない場合がある。ハードコート膜を厚くしすぎても、膜の厚さが均一になるように塗布したり、均一に乾燥することが困難となり、このためクラックやボイドの発生することがあり、得られるハードコート膜の強度や透明性が不充分となることがある。さらに基材によってはカーリング(反り)が発生する場合がある。
The thickness of the hard coat film is preferably in the range of 0.5 to 20 μm, more preferably 1 to 15 μm. When the thickness of the hard coat film is less than the lower limit of the above range, the hard coat film is thin, so that the stress applied to the film surface cannot be sufficiently absorbed, and scratch resistance, pencil hardness, etc. are insufficient, In some cases, the conductivity decreases and sufficient antistatic performance cannot be obtained. Even if the hard coat film is made too thick, it becomes difficult to apply the film so that the thickness of the film becomes uniform or to dry uniformly, which may cause cracks and voids. Strength and transparency may be insufficient. Furthermore, curling (warping) may occur depending on the substrate.

また、本発明の組成のものであればハードコート膜の表面抵抗値が105〜1012Ω/
□の範囲にある。とりわけハードコート膜としては表面抵抗値が105〜1010Ω/□の
範囲にあるものが望ましい。
If the composition of the present invention is used, the surface resistance of the hard coat film is 10 5 to 10 12 Ω /
It is in the range of □. In particular, the hard coat film preferably has a surface resistance in the range of 10 5 to 10 10 Ω / □.

ハードコート膜の表面抵抗値がこの範囲にあると帯電防止性能が高いものが得られる。
本発明のハードコート膜付基材には、ハードコート膜上に反射防止膜が設けられていてもよい。
[反射防止膜]
反射防止膜としては、反射防止性能を有していれば特に制限はなく、通常従来公知の反射防止膜が形成される。具体的には、前記ハードコート膜よりも屈折率が低いものであれば反射防止性能を具備している。
When the surface resistance value of the hard coat film is within this range, a film having high antistatic performance can be obtained.
In the base material with a hard coat film of the present invention, an antireflection film may be provided on the hard coat film.
[Antireflection film]
The antireflection film is not particularly limited as long as it has antireflection performance, and a conventionally known antireflection film is usually formed. Specifically, an antireflection performance is provided if the refractive index is lower than that of the hard coat film.

このような反射防止膜は、反射防止膜形成用マトリックスと、必要に応じて低屈折率成分とからなっている。
反射防止膜形成用マトリックスとは、反射防止膜を形成しうる成分であり、基材との密着性や硬度および塗工性等の点から選択して用いることができる。
Such an antireflection film comprises an antireflection film forming matrix and, if necessary, a low refractive index component.
The matrix for forming an antireflection film is a component that can form an antireflection film, and can be selected and used from the viewpoints of adhesion to a substrate, hardness, coatability, and the like.

具体的には、前記ハードコート膜形成成分と同様のマトリックス成分を使用することができる。
また、マトリックスとして加水分解性有機珪素化合物を用いることも可能である。具体的には、たとえば、アルコキシシランとアルコールの混合液に、水および触媒としての酸またはアルカリを加えることにより、アルコキシシランの部分加水分解物が好適に使用される。
Specifically, the same matrix component as the hard coat film forming component can be used.
It is also possible to use a hydrolyzable organosilicon compound as the matrix. Specifically, for example, a partial hydrolyzate of alkoxysilane is suitably used by adding water and an acid or alkali as a catalyst to a mixture of alkoxysilane and alcohol.

加水分解性有機珪素化合物としては、一般式RnSi(OR')4-n[R、R':アルキル基、アリール基、ビニル基、アクリル基、等の炭化水素基、n=0,1,2,または3]で表されるアルコキシシランを用いることができる。特にテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシランなどのテトラアルコキシシランが好ましく用いられる。 The hydrolyzable organic silicon compounds of the general formula R n Si (OR ') 4 -n [R, R': an alkyl group, an aryl group, a vinyl group, an acrylic group, a hydrocarbon group such as, n = 0, 1 , 2, or 3] can be used. In particular, tetraalkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, and tetraisopropoxysilane are preferably used.

任意で含まれていてもよい低屈折率成分としては、CaF2、NaF、NaAlF6、MgF等の低屈折率物質の他、シリカ系粒子(シリカ粒子、シリカ中空粒子、シリカ・アルミナ複合酸化物粒子)、多孔質シリカ系粒子等が挙げられる。 The low refractive index component which may be optionally contained includes low refractive index substances such as CaF 2 , NaF, NaAlF 6 and MgF, as well as silica-based particles (silica particles, silica hollow particles, silica / alumina composite oxides). Particles), porous silica-based particles, and the like.

たとえば、本願出願人の出願による特開平7−133105号公報に開示した多孔性の無機酸化物微粒子の表面をシリカで被覆した複合酸化物微粒子を用いると屈折率が低く反射防止性能に優れた反射防止膜を得ることができる。   For example, when composite oxide fine particles in which the surface of porous inorganic oxide fine particles disclosed in JP-A-7-133105 filed by the applicant of the present application is coated with silica are used, the refractive index is low and the reflection is excellent in antireflection performance. A prevention film can be obtained.

反射防止膜中の低屈折率成分の含有量は90重量%以下、さらには50重量%以下であることが好ましい。この範囲で含んでいると、被膜の強度そ損なうこともなく、ハードコート膜等の基材との密着性も高く維持できる。   The content of the low refractive index component in the antireflection film is preferably 90% by weight or less, more preferably 50% by weight or less. If it is included in this range, the adhesiveness with a substrate such as a hard coat film can be maintained high without deteriorating the strength of the film.

反射防止膜の厚さは50〜300nm、さらには80〜200nmの範囲にあることが好ましい。
反射防止膜の厚さが前記範囲未満の場合は、膜の強度、反射防止性能等が劣ることがある。反射防止膜の厚さが前記範囲を越えると、膜にクラックが発生したり、このため膜の強度がしたり、また膜が厚すぎて反射防止性能が不充分となることがある。
The thickness of the antireflection film is preferably 50 to 300 nm, more preferably 80 to 200 nm.
When the thickness of the antireflection film is less than the above range, the film strength, antireflection performance, and the like may be inferior. If the thickness of the antireflection film exceeds the above range, cracks may occur in the film, which may increase the strength of the film, and the film may be too thick, resulting in insufficient antireflection performance.

このような反射防止膜の屈折率は、低屈折率成分と樹脂等マトリックスとの混合比率および使用する樹脂等の屈折率によっても異なるが、通常1.28〜1.50の範囲にあることが好ましい。反射防止膜の屈折率が1.50を越えると基材の屈折率にもよるが、反射防止性能が不充分となることがあり、屈折率が1.28未満のものは得ることが困難である。   The refractive index of such an antireflection film varies depending on the mixing ratio of the low refractive index component and the matrix such as resin and the refractive index of the resin used, but is usually in the range of 1.28 to 1.50. preferable. When the refractive index of the antireflection film exceeds 1.50, although depending on the refractive index of the substrate, the antireflection performance may be insufficient, and it is difficult to obtain a film having a refractive index of less than 1.28. is there.

反射防止膜は、上記した反射防止膜形成用マトリックスと、必要に応じて低屈折率成分と溶媒とを含む反射防止膜形成用塗布液を塗布することで形成される。使用される溶媒としては、いずれも容易に蒸散し、得られる反射防止膜に悪影響を及ぼすことの無いものであれば特に制限はない。   The antireflection film is formed by applying an antireflection film forming coating liquid containing the above-described antireflection film forming matrix and, if necessary, a low refractive index component and a solvent. Any solvent can be used as long as it easily evaporates and does not adversely affect the resulting antireflection film.

反射防止膜形成用塗布液としては、特に制限されるものではなく、前記したハードコート膜の形成と同様に、ディップ法、スプレー法、スピナー法、ロールコート法などの周知の方法で基材に塗布し、乾燥すればよく、特に形成成分が熱硬化性樹脂の場合は加熱処理、紫外線照射処理、電子線照射処理などにより、ハードコート膜の硬化を促進させてもよく、また形成成分に加水分解性有機ケイ素化合物が含まれている場合は加水分解性有機ケイ素化合物の加水分解・重縮合を促進させてもよい。   The coating solution for forming the antireflection film is not particularly limited, and is applied to the substrate by a known method such as a dipping method, a spray method, a spinner method, or a roll coating method, as in the case of forming the hard coat film. It may be applied and dried. In particular, when the forming component is a thermosetting resin, curing of the hard coat film may be promoted by heat treatment, ultraviolet irradiation treatment, electron beam irradiation treatment, etc. When a decomposable organosilicon compound is contained, hydrolysis and polycondensation of the hydrolyzable organosilicon compound may be promoted.

以上のような本発明に係るハードコート膜付基材は、ハードコート膜中にPドープ酸化錫微粒子が含まれているので、膜厚が0.5〜20μmと厚いにも関わらず着色することがなく、透明性、ヘーズ等に優れている。このため、表示装置等において、読み込み、書き込み等を行う場合もエラーが発生したり、読み込み、書き込みが阻害されることがなく、加えて、他の導電性微粒子を用いる場合と同様、発生した静電気がPドープ酸化錫微粒子によって除去され、その結果ゴミなどの付着が抑制されるとともに、形成されたハードコート膜は基材との密着性、耐擦傷性、膜硬度等に優れている。
[実施例]
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
[実施例1]
Pドープ酸化錫微粒子(1)の調製
純水806gに硝酸アンモニウム1.3gと15重量%アンモニア水2.0gを入れ攪拌し、50℃に昇温した。この中に純水429gに錫酸カリウム151.9gを溶解した液を10時間かけてローラーポンプで添加した。このときpHコントローラーでpHを8.8に保つよう濃度10重量%の硝酸を添加して調整した。添加終了後1時間50℃をキープした後、濃度10重量%の硝酸を添加しpHを3.0まで下げた。次に限外濾過膜で濾水電導度が10μS/cmになるまで純水で洗浄した後、限外濾過膜で濃縮し取り出した。このとき取り出した液量は600gで固形分(SnO2)濃度は12重量%であった
。このスラリーの中に濃度16重量%のリン酸水溶液26.4gを添加し、0.5時間攪拌した。これを乾燥し、700℃で2時間焼成して、Pドープ酸化錫微粒子(1)を調製し
た。
The base material with a hard coat film according to the present invention as described above is colored even though the film thickness is as thick as 0.5 to 20 μm because the hard coat film contains P-doped tin oxide fine particles. No transparency and excellent transparency and haze. For this reason, when reading or writing is performed in a display device or the like, no error occurs and reading and writing are not hindered. In addition, as with other conductive fine particles, the generated static electricity Is removed by the P-doped tin oxide fine particles, and as a result, adhesion of dust and the like is suppressed, and the formed hard coat film is excellent in adhesion to the substrate, scratch resistance, film hardness, and the like.
[Example]
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further more concretely, this invention is not limited by these Examples.
[Example 1]
Preparation of P-doped tin oxide fine particles (1) To 806 g of pure water, 1.3 g of ammonium nitrate and 2.0 g of 15 wt% aqueous ammonia were added and stirred, and the temperature was raised to 50 ° C. A solution obtained by dissolving 151.9 g of potassium stannate in 429 g of pure water was added with a roller pump over 10 hours. At this time, nitric acid having a concentration of 10% by weight was added and adjusted so as to maintain the pH at 8.8 with a pH controller. After the addition was completed, the temperature was kept at 50 ° C. for 1 hour, and 10% by weight nitric acid was added to lower the pH to 3.0. Next, it was washed with pure water until the filtered water conductivity reached 10 μS / cm with an ultrafiltration membrane, and then concentrated with an ultrafiltration membrane. The amount of liquid taken out at this time was 600 g, and the solid content (SnO 2 ) concentration was 12% by weight. To this slurry, 26.4 g of a 16% by weight aqueous phosphoric acid solution was added and stirred for 0.5 hour. This was dried and fired at 700 ° C. for 2 hours to prepare P-doped tin oxide fine particles (1).

得られたPドープ酸化錫微粒子(1)の組成、平均粒子径、体積抵抗値を測定し、結果を
表1に示した。
なお、体積抵抗値の測定は以下の方法によった。
The composition, average particle diameter, and volume resistance of the obtained P-doped tin oxide fine particles (1) were measured, and the results are shown in Table 1.
The volume resistance value was measured by the following method.

体積抵抗値
セラミックス性セル(内部に円柱状のくりぬき(断面積0.5cm2)を有する)を用
い、まず、架台電極上にセルを置き、内部に試料粉体のPドープ酸化錫微粒子(1)0.6
gを充填し、円柱状突起を有する上部電極の突起を挿入し、油圧機にて上下電極を加圧し、100Kg/cm2(9.80MPa)加圧時の抵抗値(Ω)と試料の高さ(cm)を測定し、抵抗値と高さより体積抵抗値(Ω・cm)を求めた。
Using a volume resistivity ceramic cell (with a cylindrical hollow (with a cross-sectional area of 0.5 cm 2 ) inside), the cell was first placed on the gantry electrode, and P-doped tin oxide fine particles (1 ) 0.6
Insert the protrusion of the upper electrode with a cylindrical protrusion, pressurize the upper and lower electrodes with a hydraulic machine, and the resistance value (Ω) and the height of the sample when 100 kg / cm 2 (9.80 MPa) is applied (cm) was measured, and the volume resistance value (Ω · cm) was determined from the resistance value and the height.

表面処理Pドープ酸化錫微粒子(1)分散液の調製
Pドープ酸化錫微粒子(1)193.3gとプロピレングリコールモノメチルエーテル3
75.2g、界面活性剤としてポリエチレンアルキルエーテルリン酸エステル(第一工業製薬(株)製:プライサーフA−217E)14.9g(Pドープ酸化錫微粒子(1)との重
量比=0.077)、ガラスビーズ(0.3〜0.5mmφ)998.6gを2Lガラスビーカーに入れ、ビーズミルで充分に撹拌して分散させた後、325メッシュ(目開き44ミクロン)のステンレス製金網でガラスビーズを除去した後、プロピレングリコールモノメチルエーテルで濃度調整して、固形分濃度30重量%の界面活性剤で表面処理したPドープ酸化錫微粒子(1)分散液を調製した。
Preparation of surface-treated P-doped tin oxide fine particles (1) dispersion P-doped tin oxide fine particles (1) 193.3 g and propylene glycol monomethyl ether 3
75.2 g, 14.9 g of polyethylene alkyl ether phosphate ester (Price Surf A-217E, manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) as a surfactant (weight ratio with P-doped tin oxide fine particles (1)) = 0.077 ), 998.6 g of glass beads (0.3 to 0.5 mmφ) are put in a 2 L glass beaker, and are sufficiently stirred and dispersed by a bead mill, and then glass beads are collected with a stainless steel wire mesh of 325 mesh (aperture 44 microns). Then, the concentration was adjusted with propylene glycol monomethyl ether to prepare a dispersion of P-doped tin oxide fine particles (1) which was surface-treated with a surfactant having a solid concentration of 30% by weight.

表面処理したPドープ酸化錫微粒子(1)の平均粒子径、比表面積を測定し、結果を表1
に示した。
ハードコート膜形成用塗料(H-1)の調製
表面処理Pドープ酸化錫微粒子(1)分散液41.67gに紫外線硬化樹脂(大日本イン
キ(株)製:ユニデック17−824−9(ウレタンアクリレート40%、ポリエステルア
クリレート40%および酢酸ブチル20%の混合物)、固形分濃度78.9重量%)14.2
6g、紫外線硬化樹脂1,6-ヘキサンジオールジアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレート1.6HX−A、固形分濃度100%)1.25g、とプロピレングリコールモノメチルエーテル42.32g、光開始剤2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド(ビーエーエスジャパン(株)製:ルシリンTPO)0.5gとを混合してハードコート膜形成用塗料(H-1)を調製した。
ハードコート膜付基材(F-1)の製造
ハードコート膜形成用塗料(H-1)をPETフィルム(厚さ:188μm、屈折率:1.
65、全光線透過率90.0%、ヘーズ0.6%)にバーコーター法(バー#14)で塗布し、80℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(120W/cm)を搭載した紫外線照射装置(日本電池製UV照射装置CS30L21−3)で600mJ/cm2照射して硬化させ、ハードコート膜付基材(F-1)を調製した。このときのハードコート膜の厚さは4μm
であった。
The average particle diameter and specific surface area of the surface-treated P-doped tin oxide fine particles (1) were measured, and the results are shown in Table 1.
It was shown to.
Preparation of Hard Coat Film Forming Paint (H-1) Surface Treatment P-doped Tin Oxide Fine Particles (1) Ultraviolet curable resin (Dai Nippon Ink Co., Ltd .: Unidec 17-824-9 (urethane acrylate)) 40%, a mixture of 40% polyester acrylate and 20% butyl acetate), solids concentration 78.9% by weight) 14.2
6 g, UV curable resin 1,6-hexanediol diacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light acrylate 1.6HX-A, solid content concentration 100%) 1.25 g, propylene glycol monomethyl ether 42.32 g, photoinitiated A coating agent (H-1) for forming a hard coat film was prepared by mixing 0.5 g of the agent 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide (manufactured by BAES Japan KK: Lucillin TPO).
Production of Substrate with Hard Coat Film (F-1) A paint (H-1) for forming a hard coat film was formed from a PET film (thickness: 188 μm, refractive index: 1.
65, total light transmittance 90.0%, haze 0.6%) by bar coater method (bar # 14), dried at 80 ° C. for 1 minute, and then mounted with high pressure mercury lamp (120 W / cm) irradiation device to cure 600 mJ / cm 2 irradiated to at (Japan Storage battery Ltd. UV irradiation apparatus CS30L21-3), a hard coat film with the base material (F-1) was prepared. The thickness of the hard coat film at this time is 4 μm
Met.

得られたハードコート膜の表面抵抗を、表面抵抗計(三菱化学(株)製:ハイレスタ)にて測定し、結果を表1に示す。
また、基材およびPETフィルムを含む全光線透過率およびヘーズをヘーズメーター(ス
ガ試験機(株)製)により測定し、結果を表1に示す。
The surface resistance of the obtained hard coat film was measured with a surface resistance meter (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation: Hiresta), and the results are shown in Table 1.
Further, the total light transmittance and haze including the base material and the PET film were measured with a haze meter (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.), and the results are shown in Table 1.

さらに、着色性について、目視による観察を行い、以下の基準で評価し、結果を表1に示す。
着色性
ハードコート膜が透明で着色が全く認められない :◎
ハードコート膜が透明で着色が僅かに認められる :○
ハードコート膜が透明性を有しているが着色が認められる :△
ハードコート膜が不透明で着色が認められる :×
さらに、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を以下の方法および評価基準で評価し、結果を表1に示す。
鉛筆硬度の測定
JIS−K−5400に準じて鉛筆硬度試験器により測定した。
耐擦傷性の測定
#0000スチールウールを用い、荷重500g/cm2で50回摺動し、膜の表面を
目視観察し、以下の基準で評価し、結果を表1に示す。
評価基準:
筋条の傷が認められない :◎
筋条に傷が僅かに認められる:○
筋条に傷が多数認められる :△
面が全体的に削られている :×
密着性
反射防止膜付基材(F-1)の表面にナイフで縦横1mmの間隔で11本の平行な傷を付け
100個の升目を作り、これにセロハンテープ(登録商標)を接着し、ついで、セロハンテープ(登録商標)を剥離したときに被膜が剥離せず残存している升目の数を、以下の4段階に分類することによって密着性を評価した。結果を表1に示す。
残存升目の数95個以上 :◎
残存升目の数90〜94個:○
残存升目の数85〜89個:△
残存升目の数84個以下 :×
[実施例2]
Pドープ酸化錫微粒子(2)の調製
実施例1において、濃度16重量%のリン酸水溶液5.3gを添加して0.5時間攪拌した以外は実施例1と同様にしてPドープ酸化錫微粒子(2)を調製した。
Further, the colorability is visually observed and evaluated according to the following criteria, and the results are shown in Table 1.
Colorable hard coat film is transparent and no coloration is observed: ◎
Hard coat film is transparent and slightly colored: ○
Although the hard coat film is transparent, coloring is observed: Δ
Hard coat film is opaque and colored: x
Further, pencil hardness, scratch resistance and adhesion were evaluated by the following methods and evaluation criteria, and the results are shown in Table 1.
Measurement of pencil hardness It measured with the pencil hardness tester according to JIS-K-5400.
Measurement of Scratch Resistance Using # 0000 steel wool, sliding 50 times at a load of 500 g / cm 2 , visually observing the surface of the film, and evaluating according to the following criteria, the results are shown in Table 1.
Evaluation criteria:
No streak injury is found: ◎
Slightly scratched streak: ○
Many scratches are found in the streak: △
The surface has been cut entirely: ×
Adhesive antireflection film-coated substrate (F-1) surface is made of 11 parallel scratches with a knife at intervals of 1 mm in length and width to make 100 squares, and cellophane tape (registered trademark) is adhered to it. Next, the adhesion was evaluated by classifying the number of cells that were not peeled off when the cellophane tape (registered trademark) was peeled into the following four stages. The results are shown in Table 1.
Number of remaining cells: 95 or more: ◎
Number of remaining squares 90-94: ○
Number of remaining squares: 85-89:
Number of remaining squares: 84 or less: ×
[Example 2]
Preparation of P-doped tin oxide fine particles (2) In Example 1, P-doped tin oxide fine particles were prepared in the same manner as in Example 1 except that 5.3 g of 16% by weight aqueous phosphoric acid solution was added and stirred for 0.5 hour. (2) was prepared.

得られたPドープ酸化錫微粒子(2)の組成、平均粒子径、体積抵抗値測定し、結果を表
1に示した。
表面処理Pドープ酸化錫微粒子(2)分散液の調製
実施例1において、Pドープ酸化錫微粒子(2)を用い、界面活性剤としてポリエチレン
アルキルエーテルリン酸エステル(第一工業製薬(株)製:プライサーフA−217E)13.5g(Pドープ酸化錫微粒子(2)との重量比=0.070)添加した以外は同様にし
て表面処理したPドープ酸化錫微粒子(2)分散液を調製した。表面処理したPドープ酸化
錫微粒子(2)の平均粒子径、比表面積を測定し、結果を表1に示した。
ハードコート膜形成用塗料(H-2)の調製
実施例1において、表面処理Pドープ酸化錫微粒子(2)を用いた以外は同様にしてハー
ドコート膜形成用塗料(H-2)を調製した。
ハードコート膜付基材(F-2)の製造
実施例1において、ハードコート膜形成用塗料(H-2)を用いた以外は同様にしてハード
コート膜付基材(F-2)を調製した。ハードコート膜の厚さ、表面抵抗、全光線透過率、ヘ
ーズ、着色性、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を評価し、結果を表1に示す。
[実施例3]
Pドープ酸化錫微粒子(3)の調製
実施例1において、濃度16重量%のリン酸水溶液53.0gを添加し0.5時間攪拌した以外は実施例1と同様にしてPドープ酸化錫微粒子(3)を調製した。
The composition, average particle diameter, and volume resistance of the obtained P-doped tin oxide fine particles (2) were measured, and the results are shown in Table 1.
Preparation of surface-treated P-doped tin oxide fine particles (2) dispersion In Example 1, P-doped tin oxide fine particles (2) were used, and a polyethylene alkyl ether phosphate ester (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd .: A surface-treated P-doped tin oxide fine particle (2) dispersion was prepared in the same manner except that 13.5 g (Plysurf A-217E) (weight ratio to P-doped tin oxide fine particle (2) = 0.070) was added. . The average particle diameter and specific surface area of the surface-treated P-doped tin oxide fine particles (2) were measured, and the results are shown in Table 1.
Preparation of Hard Coat Film Forming Paint (H-2) A hard coat film forming paint (H-2) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the surface-treated P-doped tin oxide fine particles (2) were used. .
Production of base material with hard coat film (F-2) In Example 1, the base material with hard coat film (F-2) was prepared in the same manner except that the hard coat film forming paint (H-2) was used. did. The thickness, surface resistance, total light transmittance, haze, colorability, pencil hardness, scratch resistance and adhesion of the hard coat film were evaluated, and the results are shown in Table 1.
[Example 3]
Preparation of P-doped tin oxide fine particles (3) P-doped tin oxide fine particles (3) were prepared in the same manner as in Example 1 except that 53.0 g of a 16% by weight aqueous phosphoric acid solution was added and stirred for 0.5 hour. 3) was prepared.

得られたPドープ酸化錫微粒子(3)の組成、平均粒子径、体積抵抗値を測定し、結果を
表1に示した。
表面処理Pドープ酸化錫微粒子(3)分散液の調製
実施例1において、Pドープ酸化錫微粒子(3)を用い、界面活性剤としてポリエチレン
アルキルエーテルリン酸エステル(第一工業製薬(株)製:プライサーフA−217E)15.9g(Pドープ酸化錫微粒子(3)との重量比=0.082)添加した以外は同様にし
て表面処理したPドープ酸化錫微粒子(3)分散液を調製した。表面処理したPドープ酸化
錫微粒子(3)の平均粒子径、比表面積を測定し、結果を表1に示した。
ハードコート膜形成用塗料(H-3)の調製
実施例1において、表面処理Pドープ酸化錫微粒子(3)を用いた以外は同様にしてハー
ドコート膜形成用塗料(H-3)を調製した。
ハードコート膜付基材(F-3)の製造
実施例1において、ハードコート膜形成用塗料(H-3)を用いた以外は同様にしてハード
コート膜付基材(F-3)を調製した。ハードコート膜の厚さ、表面抵抗、全光線透過率、ヘ
ーズ、着色性、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を評価し、結果を表1に示す。
[実施例4]
Pドープ酸化錫微粒子(4)の調製
実施例1において、pHコントローラーでpHを9.8に保つよう濃度10重量%の硝酸を添加した以外は実施例1と同様にしてPドープ酸化錫微粒子(4)を調製した。
The composition, average particle diameter, and volume resistance of the obtained P-doped tin oxide fine particles (3) were measured, and the results are shown in Table 1.
Preparation of surface-treated P-doped tin oxide microparticles (3) dispersion In Example 1, P-doped tin oxide microparticles (3) were used, and a polyethylene alkyl ether phosphate ester (manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd .: Plysurf A-217E) A surface-treated P-doped tin oxide fine particle (3) dispersion was prepared in the same manner except that 15.9 g (weight ratio with P-doped tin oxide fine particle (3) = 0.082) was added. . The average particle diameter and specific surface area of the surface-treated P-doped tin oxide fine particles (3) were measured, and the results are shown in Table 1.
Preparation of Hard Coat Film Forming Paint (H-3) A hard coat film forming paint (H-3) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the surface-treated P-doped tin oxide fine particles (3) were used. .
Preparation of base material with hard coat film (F-3) In Example 1, the base material with hard coat film (F-3) was prepared in the same manner except that the coating material for forming a hard coat film (H-3) was used. did. The thickness, surface resistance, total light transmittance, haze, colorability, pencil hardness, scratch resistance and adhesion of the hard coat film were evaluated, and the results are shown in Table 1.
[Example 4]
Preparation of P-doped tin oxide fine particles (4) In Example 1, P-doped tin oxide fine particles (4) were added in the same manner as in Example 1 except that nitric acid having a concentration of 10% by weight was added so as to keep the pH at 9.8 with a pH controller. 4) was prepared.

得られたPドープ酸化錫微粒子(4)の組成、平均粒子径、体積抵抗値を測定し、結果を
表1に示した。
表面処理Pドープ酸化錫微粒子(4)分散液の調製
実施例1において、Pドープ酸化錫微粒子(4)を用い、界面活性剤としてポリエチレン
アルキルエーテルリン酸エステル(第一工業製薬(株)製:プライサーフA−217E)17.8g(Pドープ酸化錫微粒子(4)との重量比=0.092)添加した以外は同様にし
て表面処理したPドープ酸化錫微粒子(4)分散液を調製した。
The composition, average particle diameter, and volume resistance of the obtained P-doped tin oxide fine particles (4) were measured, and the results are shown in Table 1.
Preparation of surface-treated P-doped tin oxide fine particles (4) dispersion In Example 1, P-doped tin oxide fine particles (4) were used, and a polyethylene alkyl ether phosphate ester (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd .: Plysurf A-217E) 17.8 g (weight ratio with P-doped tin oxide fine particles (4) = 0.092) was added in the same manner, and a surface-treated P-doped tin oxide fine particle (4) dispersion was prepared. .

表面処理したPドープ酸化錫微粒子(4)の平均粒子径、比表面積を測定し、結果を表1
に示した。
ハードコート膜形成用塗料(H-4)の調製
実施例1において、表面処理Pドープ酸化錫微粒子(4)を用いた以外は同様にしてハー
ドコート膜形成用塗料(H-4)を調製した。
ハードコート膜付基材(F-4)の製造
実施例1において、ハードコート膜形成用塗料(H-4)を用いた以外は同様にしてハード
コート膜付基材(F-4)を調製した。ハードコート膜の厚さ、表面抵抗、全光線透過率、ヘ
ーズ、着色性、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を評価し、結果を表1に示す。
[実施例5]
Pドープ酸化錫微粒子(5)の調製
実施例1において、pHコントローラーでpHを8.2に保つよう濃度10重量%の硝酸を添加した以外は実施例1と同様にしてPドープ酸化錫微粒子(5)を調製した。
The average particle diameter and specific surface area of the surface-treated P-doped tin oxide fine particles (4) were measured, and the results are shown in Table 1.
It was shown to.
Preparation of Hard Coat Film Forming Paint (H-4) A hard coat film forming paint (H-4) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the surface-treated P-doped tin oxide fine particles (4) were used. .
Production of base material with hard coat film (F-4) In Example 1, the base material with hard coat film (F-4) was prepared in the same manner except that the paint for forming hard coat film (H-4) was used. did. The thickness, surface resistance, total light transmittance, haze, colorability, pencil hardness, scratch resistance and adhesion of the hard coat film were evaluated, and the results are shown in Table 1.
[Example 5]
Preparation of P-doped tin oxide fine particles (5)
In Example 1, P-doped tin oxide fine particles (5) were prepared in the same manner as in Example 1 except that nitric acid having a concentration of 10% by weight was added so as to keep the pH at 8.2 with a pH controller.

得られたPドープ酸化錫微粒子(5)の組成、平均粒子径、体積抵抗値を測定し、結果を
表1に示した。
表面処理Pドープ酸化錫微粒子(5)分散液の調製
実施例1において、Pドープ酸化錫微粒子(5)を用い、界面活性剤としてポリエチレン
アルキルエーテルリン酸エステル(第一工業製薬(株)製:プライサーフA−217E)9.7g(Pドープ酸化錫微粒子(5)との重量比=0.050)添加した以外は同様にして
表面処理したPドープ酸化錫微粒子(5)分散液を調製した。表面処理したPドープ酸化錫
微粒子(5)の平均粒子径、比表面積を測定し、結果を表1に示した。
ハードコート膜形成用塗料(H-5)の調製
実施例1において、表面処理Pドープ酸化錫微粒子(5)を用いた以外は同様にしてハー
ドコート膜形成用塗料(H-5)を調製した。
ハードコート膜付基材(F-5)の製造
実施例1において、ハードコート膜形成用塗料(H-5)を用いた以外は同様にしてハード
コート膜付基材(F-5)を調製した。ハードコート膜の厚さ、表面抵抗、全光線透過率、ヘ
ーズ、着色性、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を評価し、結果を表1に示す。
[実施例6]
ハードコート膜形成用塗料(H-6)の調製
実施例1と同様にして調製した表面処理Pドープ酸化錫微粒子(1)分散液58.33g
に紫外線硬化樹脂(大日本インキ(株)製:ユニデック17−824−9、固形分濃度78.9重量%)8.56g、紫外線硬化樹脂1.6ヘキサンジオールジアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレート1.6HX−A、固形分濃度100%)0.75g、とプロピレングリコールモノメチルエーテル32.06g、光開始剤2.4.6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド(ビ−エーエスジャパン(株)製:ルシリンTPO)0.3gとを混合してハードコート膜形成用塗料(H-6)を調製した。
ハードコート膜付基材(F-6)の製造
実施例1において、ハードコート膜形成用塗料(H-6)を用いた以外は同様にしてハード
コート膜付基材(F-6)を調製した。
The composition, average particle diameter, and volume resistance of the obtained P-doped tin oxide fine particles (5) were measured, and the results are shown in Table 1.
Preparation of surface-treated P-doped tin oxide fine particles (5) dispersion In Example 1, P-doped tin oxide fine particles (5) were used, and a polyethylene alkyl ether phosphate ester (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd .: Plysurf A-217E) A surface-treated P-doped tin oxide fine particle (5) dispersion was prepared in the same manner except that 9.7 g (weight ratio with P-doped tin oxide fine particle (5) = 0.050) was added. . The average particle diameter and specific surface area of the surface-treated P-doped tin oxide fine particles (5) were measured, and the results are shown in Table 1.
Preparation of Hard Coat Film Forming Paint (H-5) A hard coat film forming paint (H-5) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the surface-treated P-doped tin oxide fine particles (5) were used. .
Production of base material with hard coat film (F-5) In Example 1, the base material with hard coat film (F-5) was prepared in the same manner except that the coating material for forming a hard coat film (H-5) was used. did. The thickness, surface resistance, total light transmittance, haze, colorability, pencil hardness, scratch resistance and adhesion of the hard coat film were evaluated, and the results are shown in Table 1.
[Example 6]
Preparation of hard coat film-forming paint (H-6) 58.33 g of surface-treated P-doped tin oxide fine particles (1) dispersion prepared in the same manner as in Example 1.
UV curable resin (Dainippon Ink Co., Ltd .: Unidec 17-824-9, solid content concentration 78.9% by weight) 8.56 g, UV curable resin 1.6 hexanediol diacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) : Light acrylate 1.6HX-A, solid content concentration 100%) 0.75 g, propylene glycol monomethyl ether 32.06 g, photoinitiator 2.4.6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide (BAS Japan, Inc.) ): Lucilin TPO) 0.3 g was mixed to prepare a hard coat film forming paint (H-6).
Production of base material with hard coat film (F-6) In Example 1, the base material with hard coat film (F-6) was prepared in the same manner except that the paint for forming hard coat film (H-6) was used. did.

ハードコート膜の厚さ、表面抵抗、全光線透過率、ヘーズ、着色性、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を評価し、結果を表1に示す。
[実施例7]
ハードコート膜形成用塗料(H-7)の調製
実施例1と同様にして調製した表面処理Pドープ酸化錫微粒子(1)分散液25.0gに
紫外線硬化樹脂(大日本インキ(株)製:ユニデック17−824−9、固形分濃度78.9%)19.96g、紫外線硬化樹脂1.6ヘキサンジオールジアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレート1.6HX−A、固形分濃度100%)1.75g、とプロピレングリコールモノメチルエーテル52.59g、光開始剤2.4.6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド(ビ−エーエスジャパン(株)製:ルシリンTPO)0.7gとを混合してハードコート膜形成用塗料(H-6)を調製した。
ハードコート膜付基材(F-7)の製造
実施例1において、ハードコート膜形成用塗料(H-7)を用いた以外は同様にしてハード
コート膜付基材(F-7)を調製した。ハードコート膜の厚さ、表面抵抗、全光線透過率、ヘ
ーズ、着色性、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を評価し、結果を表1に示す。
[実施例8]
ハードコート膜付基材(F-8)の製造
実施例1において、ハードコート膜形成用塗料(H-1)をPETフィルム(厚さ:188
μm、屈折率:1.65)にバーコーター法(バ−#4)で塗布し、80℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(120W/cm)を搭載した紫外線照射装置(日本電池製UV照射装置CS30L21−3)で600mJ/cm2照射して硬化させ、ハードコート膜付基材(F-8)を調製した。このときのハードコート膜の厚さは1μmであった。
The thickness, surface resistance, total light transmittance, haze, colorability, pencil hardness, scratch resistance and adhesion of the hard coat film were evaluated, and the results are shown in Table 1.
[Example 7]
Preparation of Hard Coat Film Forming Coating Material (H-7) 25.0 g of the surface-treated P-doped tin oxide fine particle (1) dispersion prepared in the same manner as in Example 1, and an ultraviolet curable resin (Dainippon Ink Co., Ltd .: Unidec 17-824-9, solid content concentration 78.9%) 19.96 g, UV curable resin 1.6 hexanediol diacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light acrylate 1.6HX-A, solid content concentration 100% ) 1.75 g, propylene glycol monomethyl ether 52.59 g, photoinitiator 2.4.6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide (manufactured by BIAS JAPAN KK: Lucillin TPO) 0.7 g A paint (H-6) for forming a hard coat film was prepared.
Production of base material with hard coat film (F-7) In Example 1, the base material with hard coat film (F-7) was prepared in the same manner except that the paint for forming hard coat film (H-7) was used. did. The thickness, surface resistance, total light transmittance, haze, colorability, pencil hardness, scratch resistance and adhesion of the hard coat film were evaluated, and the results are shown in Table 1.
[Example 8]
Production Example 1 of Substrate with Hard Coat Film (F-8) In Example 1 of hard coat film forming paint (H-1), PET film (thickness: 188)
After coating with a bar coater method (bar # 4) to μm, refractive index: 1.65) and drying at 80 ° C. for 1 minute, an ultraviolet irradiation device equipped with a high-pressure mercury lamp (120 W / cm) An irradiation apparatus CS30L21-3) was irradiated and cured by 600 mJ / cm 2 to prepare a base material with a hard coat film (F-8). At this time, the thickness of the hard coat film was 1 μm.

ハードコート膜の厚さ、表面抵抗、全光線透過率、ヘーズ、着色性、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を評価し、結果を表1に示す。
[実施例9]
ハードコート膜付基材(F-9)の製造
実施例1において、ハードコート膜形成用塗布液(H-1)をPETフィルム(厚さ:18
8μm、屈折率:1.65)にバーコーター法(バ−#32)で塗布し、80℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(120W/cm)を搭載した紫外線照射装置(日本電池製UV照射装置CS30L21−3)で600mJ/cm2照射して硬化させ、ハードコート膜付基材(F-9)を調製した。このときのハードコート膜の厚さは10μmであった。
The thickness, surface resistance, total light transmittance, haze, colorability, pencil hardness, scratch resistance and adhesion of the hard coat film were evaluated, and the results are shown in Table 1.
[Example 9]
Production Example 1 of Substrate with Hard Coat Film (F-9) In Example 1 of hard coat film forming coating solution (H-1), PET film (thickness: 18
8 μm, refractive index: 1.65), coated by a bar coater method (bar # 32), dried at 80 ° C. for 1 minute, and then an ultraviolet irradiation device equipped with a high-pressure mercury lamp (120 W / cm) The substrate (F-9) with a hard coat film was prepared by irradiating and curing 600 mJ / cm 2 with an irradiation apparatus CS30L21-3). At this time, the thickness of the hard coat film was 10 μm.

ハードコート膜の厚さ、表面抵抗、全光線透過率、ヘーズ、着色性、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を評価し、結果を表1に示す。
[実施例10]
表面処理Pドープ酸化錫微粒子(10)分散液の調製
実施例1と同様にして調製したPドープ酸化錫微粒子(1)217g、イオン交換水33
5gを2Lガラスビーカーに入れ、濃度20重量%のKOH水溶液50gを加えた後、石英ビーズ(0.15mm)1000gを入れ、ビーズミルで充分に撹拌して粉砕分散させた後、325メッシュ(目開き44ミクロン)のステンレス製金網で石英ビーズと分散液を分離し、さらに、金網上に残った石英ビーズをイオン交換水1560gで洗浄した液を充分に混合し、この液を90℃1時間熱処理した後、室温まで冷却し、陰イオン交換樹脂96gを入れ1時間攪拌した後、陰イオン交換樹脂を分離、次に陽イオン交換樹脂96g
を入れ1時間攪拌した後、陽イオン樹脂を分離してPドープ酸化錫微粒子水分散液(濃度
10重量%)を得た。
The thickness, surface resistance, total light transmittance, haze, colorability, pencil hardness, scratch resistance and adhesion of the hard coat film were evaluated, and the results are shown in Table 1.
[Example 10]
Preparation of surface-treated P-doped tin oxide fine particles (10) dispersion 217 g of P-doped tin oxide fine particles (1) prepared in the same manner as in Example 1, ion-exchanged water 33
Place 5 g in a 2 L glass beaker, add 50 g of 20% strength by weight KOH aqueous solution, add 1000 g of quartz beads (0.15 mm), pulverize and disperse thoroughly with a bead mill, and then 325 mesh (opening) The quartz beads and the dispersion were separated with a 44-micron stainless steel mesh, and the quartz beads remaining on the mesh were washed with 1560 g of ion-exchanged water, and this solution was heat-treated at 90 ° C. for 1 hour. After cooling to room temperature, 96 g of anion exchange resin was added and stirred for 1 hour, then the anion exchange resin was separated, and then 96 g of cation exchange resin
After stirring for 1 hour, the cationic resin was separated to obtain a P-doped tin oxide fine particle aqueous dispersion (concentration: 10% by weight).

ついで、濃度10重量%のPドープ酸化錫微粒子(10)の水散液2000gにカップリング剤として正珪酸エチル(多摩化学製 エチルシリケート28 SiO2成分28.8%)2
0.8g(Pドープ酸化錫微粒子(10)との重量比=100/3)とメタノール2000gを入れ50℃で18時間攪拌し表面処理を行った。このあと、エタノールに溶媒置換して濃度30重量%のシランカップリング材で表面処理したPドープ酸化錫微粒子(10)分散液を調製した。
Subsequently, 2000 g of a 10 wt% P-doped tin oxide fine particle (10) water spray was used as a coupling agent and ethyl orthosilicate (ethyl silicate 28 SiO 2 component 28.8% manufactured by Tama Chemical) 2
0.8 g (weight ratio with P-doped tin oxide fine particles (10) = 100/3) and 2000 g of methanol were added and stirred at 50 ° C. for 18 hours for surface treatment. Thereafter, a dispersion of P-doped tin oxide fine particles (10) was prepared by replacing the solvent with ethanol and treating the surface with a silane coupling material having a concentration of 30% by weight.

表面処理したPドープ酸化錫微粒子(10)の平均粒子径、比表面積を測定し、結果を表1に示した。
ハードコート膜形成用塗布液(H-10)の調製
表面処理Pドープ酸化錫微粒子(10)分散液59.18gに紫外線硬化樹脂(大日本インキ(株)製:ユニデック17−824−9、固形分濃度78.9%)13.5g、紫外線硬化樹脂1.6ヘキサンジオールジアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレート1.6HX−A、固形分濃度100%)1.5g、とプロピレングリコールモノメチルエーテル45.4g、光開始剤2.4.6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド(ビ−エーエスジャパン(株)製:ルシリンTPO)0.47gとを混合してハードコート膜形成用塗料(H-10)を調製した。
The average particle diameter and specific surface area of the surface-treated P-doped tin oxide fine particles (10) were measured, and the results are shown in Table 1.
Preparation of Hard Coat Film Forming Coating Liquid (H-10) Surface Treatment P-doped Tin Oxide Fine Particles (10) 59.18 g dispersion with UV curable resin (Dai Nippon Ink Co., Ltd .: Unidec 17-824-9, solid 13.5 g), UV curable resin 1.6 hexanediol diacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light acrylate 1.6HX-A, solid concentration 100%) 1.5 g, and propylene glycol 45.4 g of monomethyl ether and 2.46-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide (manufactured by BIAS Japan KK: Lucyrin TPO) 0.47 g are mixed to form a hard coat film coating material (H -10) was prepared.

ハードコート膜付基材(F-10)の製造
実施例1において、ハードコート膜形成用塗布液(H-10)を用いた以外は同様にしてハードコート膜付基材(F-10)を調製した。
Production of substrate with hard coat film (F-10) In Example 1, the substrate with hard coat film (F-10) was prepared in the same manner except that the coating liquid for forming a hard coat film (H-10) was used. Prepared.

ハードコート膜の厚さ、表面抵抗、全光線透過率、ヘーズ、着色性、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を評価し、結果を表1に示す。
[実施例11(参考例)]
Pドープ酸化錫微粒子(11)分散液の調製
実施例1と同様にして調製したPドープ酸化錫微粒子(1)193.3gとプロピレングリコールモノメチルエーテル369.4、アセチルアセトン5.8g、ガラスビーズ(0.3〜0.5mmφ)998.6gを2Lガラスビーカーに入れ、ビーズミルで充分に撹拌して分散させた後、325メッシュ(目開き44ミクロン)のステンレス製金網でガラスビーズを除去し、プロピレングリコールモノメチルエーテルで濃度調整して、固形分濃度30重量%のPドープ酸化錫微粒子(11)分散液を調製した。Pドープ酸化錫微粒子(11)の平均粒子径、比表面積を測定し、結果を表1に示した。
ハードコート膜形成用塗料(H-11)の調製
実施例1において、Pドープ酸化錫微粒子(10)分散液を用いた以外は同様にしてハードコート膜形成用塗料(H-11)を調製した。
The thickness, surface resistance, total light transmittance, haze, colorability, pencil hardness, scratch resistance and adhesion of the hard coat film were evaluated, and the results are shown in Table 1.
[Example 11 (reference example) ]
Preparation of dispersion of P-doped tin oxide fine particles (11) 193.3 g of P-doped tin oxide fine particles (1) prepared in the same manner as in Example 1, propylene glycol monomethyl ether 369.4, acetylacetone 5.8 g, glass beads (0 .3 to 0.5 mmφ) 998.6 g was put into a 2 L glass beaker and thoroughly stirred and dispersed with a bead mill, and then the glass beads were removed with a 325 mesh (mesh opening 44 microns) stainless steel wire mesh, and propylene glycol The concentration was adjusted with monomethyl ether to prepare a dispersion of P-doped tin oxide fine particles (11) having a solid content of 30% by weight. The average particle diameter and specific surface area of the P-doped tin oxide fine particles (11) were measured, and the results are shown in Table 1.
Preparation of Hard Coat Film Forming Paint (H-11) A hard coat film forming paint (H-11) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the P-doped tin oxide fine particle (10) dispersion was used. .

ハードコート膜付基材(F-11)の製造
実施例1において、ハードコート膜形成用塗布液(H-11)を用いた以外は同様にしてハードコート膜付基材(F-11)を調製した。ハードコート膜の厚さ、表面抵抗、全光線透過率、
ヘーズ、着色性、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を評価し、結果を表1に示す。
[実施例12]
ハードコート膜形成用塗布液(H-12)の調製
実施例1において、紫外線硬化樹脂(大日本インキ(株)製:ユニデック17−824−9、固形分濃度78.9%)14.26gの代わりに紫外線硬化樹脂(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートDPE−6A、1,6-へキサンジオールジアクリレート、固形分濃度100%)11.25gを用いた以外は同様にしてハードコート膜形成用塗布液(H-12)を調製した。
ハードコート膜付基材(F-12)の製造
実施例1において、ハードコート膜形成用塗布液(H-12)を用いた以外は同様にしてハードコート膜付基材(F-12)を調製した。ハードコート膜の厚さ、表面抵抗、全光線透過率、ヘーズ、着色性、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を評価し、結果を表1に示す。
[比較例1]
表面処理アンチモンドープ酸化錫微粒子(R1)分散液の調製
アンチモンドープ酸化錫微粒子(触媒化成工業(株)製:ELCOM TL-30HS、Sb2O5含有
量16重量%、平均粒子径10nm、体積抵抗値0.3Ω・cm)193.3gとプロピレングリコールモノメチルエーテル375.2、界面活性剤としてポリエチレンアルキルエーテルリン酸エステル(第一工業製薬(株)製:プライサーフA−217E)17.4g(アンチモンドープ酸化錫微粒子との重量比=0.090)、ガラスビーズ(0.3〜0.5mmφ)998.6gを2Lガラスビーカーに入れ、充分に撹拌して分散させた後、325メッシュ(目開き44ミクロン)のステンレス製金網でガラスビーズを除去した後、プロピレングリコールモノメチルエーテルで濃度調整して、固形分濃度30重量%の界面活性剤で表面処理した固形分濃度30重量%の界面活性剤で表面処理したアンチモンドープ酸化錫微粒子(R1)分散液を調製した。
Production of substrate with hard coat film (F-11) In Example 1, the substrate with hard coat film (F-11) was prepared in the same manner except that the coating liquid for forming a hard coat film (H-11) was used. Prepared. Hard coat film thickness, surface resistance, total light transmittance,
Haze, colorability, pencil hardness, scratch resistance and adhesion were evaluated, and the results are shown in Table 1.
[Example 12]
Preparation of Hard Coat Film Forming Coating Liquid (H-12) In Example 1, an ultraviolet curable resin (Dainippon Ink Co., Ltd .: Unidec 17-824-9, solid content concentration 78.9%) 14.26 g Instead, a hard coat film was formed in the same manner except that 11.25 g of an ultraviolet curable resin (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: light acrylate DPE-6A, 1,6-hexanediol diacrylate, solid content concentration 100%) was used. Coating solution (H-12) was prepared.
Production of substrate with hard coat film (F-12) In Example 1, the substrate with hard coat film (F-12) was prepared in the same manner except that the coating liquid for forming a hard coat film (H-12) was used. Prepared. The thickness, surface resistance, total light transmittance, haze, colorability, pencil hardness, scratch resistance and adhesion of the hard coat film were evaluated, and the results are shown in Table 1.
[Comparative Example 1]
Preparation of surface-treated antimony-doped tin oxide fine particles (R1) dispersion Antimony-doped tin oxide fine particles (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: ELCOM TL-30HS, Sb 2 O 5 content 16% by weight, average particle diameter 10 nm, volume resistance (Value 0.3 Ω · cm) 193.3 g and propylene glycol monomethyl ether 375.2, polyethylene alkyl ether phosphate ester (manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd .: Prisurf A-217E) 17.4 g (antimony) The weight ratio of the doped tin oxide fine particles = 0.090) and 998.6 g of glass beads (0.3 to 0.5 mmφ) were placed in a 2 L glass beaker and dispersed with sufficient stirring, then 325 mesh (opening) 44 micron) After removing the glass beads with a stainless steel wire mesh, the concentration is adjusted with propylene glycol monomethyl ether to obtain a solid content concentration. An antimony-doped tin oxide fine particle (R1) dispersion surface-treated with a surfactant having a solid content concentration of 30% by weight and surface-treated with 30% by weight of a surfactant was prepared.

表面処理したアンチモンドープ酸化錫微粒子(R1)の平均粒子径、比表面積を測定し、結果を表1に示した。
ハードコート膜形成用塗布液(RH-1)の調製
実施例1において、表面処理アンチモンドープ酸化錫微粒子(R1)分散液を用いた以外は同様にしてハードコート膜形成用塗料(RH-1)を調製した。
ハードコート膜付基材(RF-1)の製造
実施例1において、ハードコート膜形成用塗布液(RH-1)を用いた以外は同様にしてハードコート膜付基材(RF-1)を調製した。
The average particle diameter and specific surface area of the surface-treated antimony-doped tin oxide fine particles (R1) were measured, and the results are shown in Table 1.
Preparation of Hard Coat Film Forming Coating Liquid (RH-1) In the same manner as in Example 1, except that the surface-treated antimony-doped tin oxide fine particle (R1) dispersion was used, a hard coat film forming paint (RH-1) was used. Was prepared.
Production of base material with hard coat film (RF-1) In Example 1, the base material with hard coat film (RF-1) was prepared in the same manner except that the coating liquid for forming a hard coat film (RH-1) was used. Prepared.

ハードコート膜の厚さ、表面抵抗、全光線透過率、ヘーズ、着色性、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を評価し、結果を表1に示す。
[比較例2]
表面処理アンチモンドープ酸化錫微粒子(R2)分散液の調製
アンチモンドープ酸化錫微粒子(触媒化成工業(株)製:ELCOM TL-30HS、Sb2O5含有
量16重量%、平均粒子径10nm、体積抵抗値0.3Ω・cm)217g、イオン交換水335gを2Lガラスビーカーに入れ、濃度20重量%のKOH水溶液50gを加えた後、石英ビーズ(0.15mm)1000gを入れ、ビーズミルで充分に撹拌して粉砕分散させた後、325メッシュ(目開き44ミクロン)のステンレス製金網で石英ビーズと分散液を分離し、さらに、金網上に残った石英ビーズをイオン交換水1560gで洗浄した液を充分に混合し、この液を90℃1時間熱処理した後、室温まで冷却し、陰イオン交換樹脂96gを入れ1時間攪拌した後、陰イオン交換樹脂を分離、次に陽イオン交換樹脂
96gを入れ1時間攪拌した後、陽イオン樹脂を分離してアンチモンドープ酸化錫微粒子
水分散液(濃度10重量%)を得た。
The thickness, surface resistance, total light transmittance, haze, colorability, pencil hardness, scratch resistance and adhesion of the hard coat film were evaluated, and the results are shown in Table 1.
[Comparative Example 2]
Preparation of surface-treated antimony-doped tin oxide fine particles (R2) dispersion Antimony-doped tin oxide fine particles (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: ELCOM TL-30HS, Sb 2 O 5 content 16% by weight, average particle diameter 10 nm, volume resistance (Value 0.3 Ω · cm) 217 g and ion-exchanged water 335 g were put in a 2 L glass beaker, 50 g of 20% strength by weight aqueous KOH solution was added, and then 1000 g of quartz beads (0.15 mm) were added and stirred thoroughly with a bead mill. After pulverizing and dispersing, the quartz beads and the dispersion are separated with a 325 mesh (mesh opening 44 microns) stainless steel wire mesh, and the quartz beads remaining on the wire mesh are sufficiently washed with 1560 g of ion-exchanged water. The mixture was heat-treated at 90 ° C. for 1 hour, cooled to room temperature, added with 96 g of anion exchange resin, stirred for 1 hour, separated from the anion exchange resin, and then positively charged. After adding 96 g of ion exchange resin and stirring for 1 hour, the cation resin was separated to obtain an antimony-doped tin oxide fine particle aqueous dispersion (concentration: 10% by weight).

ついで、濃度10重量%のアンチモンドープ酸化錫微粒子(R2)の水散液2000gにカ
ップリング剤として正珪酸エチル(多摩化学製 エチルシリケート28 SiO2成分28.
8重量%)20.8g(Pドープ酸化錫微粒子(R2)との重量比=100/3)とメタノール2000gを入れ50℃で18時間攪拌し表面処理を行った。このあと、エタノールに溶媒置換して濃度30重量%のシランカップリング材で表面処理したアンチモンドープ酸化錫微粒子(R2)分散液を調製した。
Next, 2000 g of an antimony-doped tin oxide fine particle (R2) having a concentration of 10% by weight was added to an aqueous solution of ethyl silicate (ethyl silicate 28 SiO 2 component 28.
8 wt%) 20.8 g (weight ratio of P-doped tin oxide fine particles (R2) = 100/3) and 2000 g of methanol were added and stirred at 50 ° C. for 18 hours for surface treatment. After that, an antimony-doped tin oxide fine particle (R2) dispersion liquid in which the solvent was replaced with ethanol and surface-treated with a silane coupling material having a concentration of 30% by weight was prepared.

表面処理したアンチモンドープ酸化錫微粒子(R2)の平均粒子径、比表面積を測定し、結果を表1に示した。
ハードコート膜形成用塗布液(RH-2)の調製
実施例1において、表面処理アンチモンドープ酸化錫微粒子(R2)分散液を用いた以外は同様にしてハードコート膜形成用塗料(RH-2)を調製した。
ハードコート膜付基材(RF-2)の製造
実施例1において、ハードコート膜形成用塗布液(RH-2)を用いた以外は同様にしてハードコート膜付基材(RF-2)を調製した。ハードコート膜の厚さ、表面抵抗、全光線透過率、ヘーズ、着色性、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を評価し、結果を表1に示す。
[比較例3]
表面処理スズドープ酸化インジウム微粒子(R3)分散液の調製
スズドープ酸化インジウム微粒子(触媒化成工業(株)製:ELCOM TL-130、SnO2含有
量8重量%、平均粒子径20nm、体積抵抗値0.02Ω・cm)193.3gとプロピレングリコールモノメチルエーテル375.2、界面活性剤としてポリエチレンアルキルエーテルリン酸エステル(第一工業製薬(株)製:プライサーフA−217E)13.5g(スズドープ酸化インジウム微粒子との重量比=0.07)、ガラスビーズ(0.3〜0.5mmφ)998.6gを2Lガラスビーカーに入れ、充分に撹拌して分散させた後、325メッシュ(目開き44ミクロン)のステンレス製金網でガラスビーズを除去した後、プロピレングリコールモノメチルエーテルで濃度調整して、固形分濃度30重量%の界面活性剤で表面処理したスズドープ酸化インジウム微粒子(R3)分散液を調製した。表面処理したスズドープ酸化インジウム微粒子(R3)の平均粒子径、比表面積を測定し、結果を表1に示した。
ハードコート膜形成用塗布液(RH-3)の調製
実施例1において、表面処理スズドープ酸化インジウム微粒子(R3)分散液を用いた以外は同様にしてハードコート膜形成用塗料(RH-3)を調製した。
ハードコート膜付基材(RF-3)の製造
実施例1において、ハードコート膜形成用塗布液(RH-3)を用いた以外は同様にしてハードコート膜付基材(RF-3)を調製した。
ハードコート膜の厚さ、表面抵抗、全光線透過率、ヘーズ、着色性、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を評価し、結果を表1に示す。
[比較例4]
表面処理スズドープ酸化インジウム微粒子(R4)分散液の調製
スズドープ酸化インジウム微粒子(触媒化成工業(株)製:ELCOM TL-130、SnO2含有
量8重量%、平均粒子径20nm、体積抵抗値0.02Ω・cm)193.3gをエタノール369.4g、アセチルアセトン5.8gガラスビーズ(0.3〜0.5mmφ)998.6gを2Lガラスビーカーに入れ、ビーズミルで充分に撹拌して分散させた後、325メッシュ(目開き44ミクロン)のステンレス製金網でガラスビーズを除去し、エタノールで濃度調整して、固形分濃度30重量%のスズドープ酸化インジウム微粒子(R4)分散液を調製した。
The average particle diameter and specific surface area of the surface-treated antimony-doped tin oxide fine particles (R2) were measured, and the results are shown in Table 1.
Preparation of coating liquid for forming a hard coat film (RH-2) In Example 1, a coating composition for forming a hard coat film (RH-2) was used in the same manner as in Example 1, except that the surface-treated antimony-doped tin oxide fine particle (R2) dispersion was used. Was prepared.
Production of base material with hard coat film (RF-2) In Example 1, the base material with hard coat film (RF-2) was prepared in the same manner except that the coating liquid for forming a hard coat film (RH-2) was used. Prepared. The thickness, surface resistance, total light transmittance, haze, colorability, pencil hardness, scratch resistance and adhesion of the hard coat film were evaluated, and the results are shown in Table 1.
[Comparative Example 3]
Preparation of surface-treated tin-doped indium oxide fine particle (R3) dispersion Tin-doped indium oxide fine particles (Catalyst Chemical Industries, Ltd .: ELCOM TL-130, SnO 2 content 8% by weight, average particle diameter 20 nm, volume resistivity 0.02Ω Cm) 193.3 g and propylene glycol monomethyl ether 375.2, and as a surfactant, polyethylene alkyl ether phosphate ester (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd .: Prisurf A-217E) 13.5 g (tin-doped indium oxide fine particles and Weight ratio = 0.07), 998.6 g of glass beads (0.3 to 0.5 mmφ) were put into a 2 L glass beaker, and after sufficiently stirring and dispersing, 325 mesh (aperture 44 microns) stainless steel After removing the glass beads with a metal mesh, adjust the concentration with propylene glycol monomethyl ether, The surface-treated tin-doped indium oxide fine particles (R3) dispersion was prepared with 30% by weight of a surfactant. The average particle diameter and specific surface area of the surface-treated tin-doped indium oxide fine particles (R3) were measured, and the results are shown in Table 1.
Preparation of Hard Coat Film Forming Coating Liquid (RH-3) In Example 1, except that the surface-treated tin-doped indium oxide fine particle (R3) dispersion was used, a hard coat film forming paint (RH-3) was prepared. Prepared.
Production of base material with hard coat film (RF-3) In Example 1, the base material with hard coat film (RF-3) was prepared in the same manner except that the coating liquid for forming a hard coat film (RH-3) was used. Prepared.
The thickness, surface resistance, total light transmittance, haze, colorability, pencil hardness, scratch resistance and adhesion of the hard coat film were evaluated, and the results are shown in Table 1.
[Comparative Example 4]
Preparation of surface-treated tin-doped indium oxide fine particles (R4) dispersion Tin-doped indium oxide fine particles (Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: ELCOM TL-130, SnO 2 content 8% by weight, average particle size 20 nm, volume resistivity 0.02Ω Cm) 193.3 g of ethanol 369.4 g and acetylacetone 5.8 g of glass beads (0.3 to 0.5 mmφ) 998.6 g were put in a 2 L glass beaker and dispersed by sufficiently stirring with a bead mill. The glass beads were removed with a mesh (opening 44 micron) stainless steel wire mesh, and the concentration was adjusted with ethanol to prepare a tin-doped indium oxide fine particle (R4) dispersion having a solid concentration of 30% by weight.

ついで、濃度10重量%のスズドープ酸化インジウム微粒子(R4)分散液2000gにカップリング剤として正珪酸エチル(多摩化学製 エチルシリケート28 SiO2成分28.
8重量%)20.8g(スズドープ酸化インジウム微粒子(R4)との重量比=100/3)を入れ50℃で18時間攪拌し表面処理を行った。このあと、エタノールに溶媒置換して
濃度30重量%のシランカップリング材で表面処理したスズドープ酸化インジウム微粒子(R4)分散液を調製した。
表面処理したスズドープ酸化インジウム微粒子(R4)の平均粒子径、比表面積を測定し、結果を表1に示した。
ハードコート膜形成用塗布液(RH-4)の調製
実施例1において、表面処理スズドープ酸化インジウム微粒子(R4)分散液を用いた以外は同様にしてハードコート膜形成用塗料(RH-4)を調製した。
ハードコート膜付基材(RF-4)の製造
実施例1において、ハードコート膜形成用塗布液(RH-4)を用いた以外は同様にしてハードコート膜付基材(RF-4)を調製した。ハードコート膜の厚さ、表面抵抗、全光線透過率、ヘーズ、着色性、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を評価し、結果を表1に示す。
[比較例5]
ハードコート膜付基材(RF-5)の製造
実施例1において、ハードコート膜形成用塗布液(H-1)をIPAで固形分濃度を1/2
に希釈し、PETフィルム(厚さ:188μm、屈折率:1.65)にバーコーター法(バ−#3)で塗布し、80℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(120W/cm)を搭載した紫外線照射装置(日本電池製UV照射装置CS30L21−3)で600mJ/cm2照射して硬化させ、ハードコート膜付基材(F-8)を調製した。このときのハードコート膜
の厚さは0.3μmであった。
Next, 2000 g of a tin-doped indium oxide fine particle (R4) dispersion having a concentration of 10% by weight was added as a coupling agent to normal ethyl silicate (ethyl silicate 28 SiO 2 component 28.
(8 wt%) 20.8 g (weight ratio with tin-doped indium oxide fine particles (R4) = 100/3) was added and stirred at 50 ° C. for 18 hours for surface treatment. Thereafter, a tin-doped indium oxide fine particle (R4) dispersion liquid in which the solvent was replaced with ethanol and surface-treated with a silane coupling material having a concentration of 30% by weight was prepared.
The average particle diameter and specific surface area of the surface-treated tin-doped indium oxide fine particles (R4) were measured, and the results are shown in Table 1.
Preparation of Hard Coat Film Forming Coating Liquid (RH-4) In Example 1, except that the surface-treated tin-doped indium oxide fine particle (R4) dispersion was used, a hard coat film forming paint (RH-4) was prepared. Prepared.
Production of base material with hard coat film (RF-4) In Example 1, the base material with hard coat film (RF-4) was prepared in the same manner except that the coating liquid for forming a hard coat film (RH-4) was used. Prepared. The thickness, surface resistance, total light transmittance, haze, colorability, pencil hardness, scratch resistance and adhesion of the hard coat film were evaluated, and the results are shown in Table 1.
[Comparative Example 5]
Manufacturing Example 1 of substrate with hard coat film (RF-5) In Example 1 of hard coat film forming coating solution (H-1), the solid content concentration was reduced to 1/2 with IPA.
After coating with PET film (thickness: 188 μm, refractive index: 1.65) by the bar coater method (bar # 3) and drying at 80 ° C. for 1 minute, a high pressure mercury lamp (120 W / cm) was applied. A hard coat film-coated substrate (F-8) was prepared by irradiating and curing 600 mJ / cm 2 with a mounted UV irradiation device (UV irradiation device CS30L21-3 manufactured by Nippon Batteries). At this time, the thickness of the hard coat film was 0.3 μm.

ハードコート膜の厚さ、表面抵抗、全光線透過率、ヘーズ、着色性、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を評価し、結果を表1に示す。
[比較例6]
ハードコート膜付基材(RF-6)の製造
実施例1において、ハードコート膜形成用塗布液(H-1)をPETフィルム(厚さ:18
8μm、屈折率:1.65)にバーコーター法(バ−#60)で塗布し、80℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(120W/cm)を搭載した紫外線照射装置(日本電池製UV照射装置CS30L21−3)で600mJ/cm2照射して硬化させ、ハードコート膜付基材(F-8)を調製した。このときのハードコート膜の厚さは約25μmであったが、カー
リング(反り)が発生したので他の評価は実施しなかった。
The thickness, surface resistance, total light transmittance, haze, colorability, pencil hardness, scratch resistance and adhesion of the hard coat film were evaluated, and the results are shown in Table 1.
[Comparative Example 6]
Production Example 1 of Substrate with Hard Coat Film (RF-6) In Example 1 of hard coat film forming coating solution (H-1), a PET film (thickness: 18
8 μm, refractive index: 1.65), coated with a bar coater method (bar # 60), dried at 80 ° C. for 1 minute, and then irradiated with an ultraviolet irradiation device equipped with a high-pressure mercury lamp (120 W / cm) An irradiation apparatus CS30L21-3) was irradiated and cured by 600 mJ / cm 2 to prepare a base material with a hard coat film (F-8). At this time, the thickness of the hard coat film was about 25 μm. However, since curling occurred, no other evaluation was performed.

Figure 0005686942
Figure 0005686942

Claims (8)

Pドープ酸化錫微粒子とマトリックス形成成分と溶媒とからなるハードコート膜形成塗料であって、
Pドープ酸化錫微粒子のPの含有量が酸化物として0.5〜10重量%の範囲にあり、
Pドープ酸化錫微粒子の固形分としての濃度が0.5〜40重量%の範囲にあり、
マトリックス形成成分の固形分としての濃度が1〜45重量%の範囲にあり、
Pドープ酸化錫微粒子が、陰イオン界面活性剤および/または非イオン界面活性剤で表面処理され、表面処理量が重量比(界面活性剤/Pドープ酸化錫微粒子)で0.01以上0.2以下の範囲にあり、
全固形分濃度が5〜50重量%の範囲にあることを特徴とするハードコート膜形成用塗料。
A hard coat film-forming paint comprising P-doped tin oxide fine particles, a matrix-forming component, and a solvent,
The P content of the P-doped tin oxide fine particles is in the range of 0.5 to 10% by weight as an oxide,
The concentration of P-doped tin oxide fine particles as a solid content is in the range of 0.5 to 40% by weight,
The concentration of the matrix-forming component as a solid content is in the range of 1 to 45% by weight,
P-doped tin oxide fine particles are surface-treated with an anionic surfactant and / or nonionic surfactant, and the surface treatment amount is 0.01 or more and 0.2 by weight ratio (surfactant / P-doped tin oxide fine particles). In the following range,
A paint for forming a hard coat film, wherein the total solid concentration is in the range of 5 to 50% by weight.
前記Pドープ酸化錫微粒子の平均粒子径が5〜30nmの範囲にあることを特徴とする請求項1に記載のハードコート膜形成用塗料。 2. The coating material for forming a hard coat film according to claim 1 , wherein the P-doped tin oxide fine particles have an average particle diameter in the range of 5 to 30 nm. 前記マトリックス形成成分が有機樹脂成分であることを特徴とする請求項1または2に記載のハードコート膜形成用塗料。   3. The hard coat film forming paint according to claim 1, wherein the matrix forming component is an organic resin component. 前記有機樹脂が紫外線硬化樹脂であることを特徴とする請求項に記載のハードコート膜形成用塗料。 The paint for forming a hard coat film according to claim 3 , wherein the organic resin is an ultraviolet curable resin. 基材と、基材上に形成された平均膜厚が0.5〜20μmのハードコート膜とからなり、該ハードコート膜がマトリックス成分とPドープ酸化錫微粒子とを含み、Pドープ酸化錫微粒子のPの含有量が酸化物として0.5〜10重量%の範囲にあり、ハードコート膜中のPドープ酸化錫微粒子の含有量が固形分として5〜80重量%の範囲にあり、
Pドープ酸化錫微粒子が、陰イオン界面活性剤および/または非イオン界面活性剤で表面処理され、表面処理量が重量比(界面活性剤/Pドープ酸化錫微粒子)で0.01以上0.2以下の範囲にあることを特徴とするハードコート膜付基材。
A hard coat film having an average film thickness of 0.5 to 20 μm formed on the base material, the hard coat film including a matrix component and P-doped tin oxide fine particles, and P-doped tin oxide fine particles The content of P in the range of 0.5 to 10% by weight as an oxide, the content of P-doped tin oxide fine particles in the hard coat film is in the range of 5 to 80% by weight as a solid content,
P-doped tin oxide fine particles are surface-treated with an anionic surfactant and / or nonionic surfactant, and the surface treatment amount is 0.01 or more and 0.2 by weight ratio (surfactant / P-doped tin oxide fine particles). A base material with a hard coat film, which is in the following range.
前記Pドープ酸化錫微粒子の平均粒子径が5〜30nmの範囲にあることを特徴とする請求項に記載のハードコート膜付基材。 6. The substrate with a hard coat film according to claim 5 , wherein an average particle diameter of the P-doped tin oxide fine particles is in the range of 5 to 30 nm. 前記マトリックス成分が有機樹脂であることを特徴とする請求項5または6に記載のハードコート膜付基材。 The base material with a hard coat film according to claim 5 or 6 , wherein the matrix component is an organic resin. 前記有機樹脂が紫外線硬化樹脂であることを特徴とする請求項に記載のハードコート膜付基材。 The base material with a hard coat film according to claim 7 , wherein the organic resin is an ultraviolet curable resin.
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