KR102158662B1 - Substrate with hard coating film and coating solution for hard coating film - Google Patents
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Abstract
안티-블로킹성을 지님과 동시에 컬링이 억제된 하드코트막부 기재를 제공한다. 본 발명에 따른 하드코트막부 기재는 기재와 상기 기재 위에 형성된 하드코트막으로 이루어진 하드코트막부 기재에 있어서, 상기 하드코트막은 (ⅰ) 금속산화물미립자(A) 클러스터(CL), (ⅱ) 매트릭스 성분, 및 (ⅲ) 클러스터 형성제로 이루어지고, 적어도 클러스터(CL)의 일부가 하드코트막 표면에 돌출부를 형성하여 존재하고, 15∼200nm의 높이(H 凸)를 지니는 돌출부를 지님을 특징으로 한다. 또한, 본 발명에 따른 하드코트막 형성용 도포액은 금속산화물미립자(A), 매트릭스 형성성분, 클러스터 형성제 및 분산매로 이루어진 하드코트막 형성용 도포액에 있어서, 상기 금속산화물미립자(A)의 농도(CA)는 고형분으로서 0.025∼48 중량 % 범위이고, 상기 매트릭스 형성성분의 농도(CM)는 고형분으로서 1∼59.7 중량 % 범위이며, 상기 클러스터 형성제의 농도(CCL)는 고형분으로서 0.0005∼6 중량 %의 범위이며, 전체 고형분 농도가 1∼60 중량%의 범위인 금속산화물미립자(A)가 클러스터(CLP)를 형성하는 것을 특징으로 한다.It provides a hard coat film portion substrate having anti-blocking properties and inhibiting curling. The hard coat film part base material according to the present invention is a hard coat film part base material comprising a base material and a hard coat film formed on the base material, wherein the hard coat film comprises (i) metal oxide fine particles (A) clusters (CL), (ii) matrix components , And (iii) consisting of a cluster forming agent, at least a part of the cluster CL exists by forming a protrusion on the surface of the hard coat film, and has a protrusion having a height (H 凸) of 15 to 200 nm. In addition, the coating liquid for forming a hard coat film according to the present invention is a coating liquid for forming a hard coat film comprising metal oxide fine particles (A), a matrix forming component, a cluster forming agent, and a dispersion medium, wherein the metal oxide fine particles (A) The concentration (C A ) is in the range of 0.025 to 48% by weight as a solid content, the concentration (C M ) of the matrix forming component is in the range of 1 to 59.7% by weight as a solid content, and the concentration (C CL ) of the cluster forming agent is in the range of solid content. It is characterized in that the metal oxide fine particles (A) in the range of 0.0005 to 6% by weight and the total solid content concentration in the range of 1 to 60% by weight form clusters (CL P ).
Description
본 발명은 안티-블로킹성(하드코트막이 서로 밀착되지 않는 것)이 우수하고 또한 컬링(curling) 억제 효과를 지니는 하드코트막부 기재 및 상기 하드코트막을 형성하기 위한 도포액에 관한 것이다.
The present invention relates to a hard coat film portion base material having excellent anti-blocking properties (hard coat films not in close contact with each other) and also having a curling inhibiting effect, and a coating liquid for forming the hard coat film.
글라스, 플라스틱 시트, 플라스틱 렌즈, 수지 필름, 표시장치 전면판 등의 기재 표면의 내찰상성을 향상시키기 위해 기재 표면에 하드코트막을 형성하는 것이 알려져 있으며, 이와 같은 하드코트막으로서 유기 수지막 또는 무기막을 글라스 또는 플라스틱 등의 표면에 형성하는 것이 행해지고 있다. 유기 수지막 또는 무기막 중에 수지 입자 또는 실리카 등의 무기 입자를 배합하여 내찰상성을 더욱 향상시키는 것이 행해지고 있다. 이와 같은 하드코트막부의 수지 기재는 표시장치 전면판 등에 부착하여 사용하는 경우가 있다.
It is known to form a hard coat film on the surface of a substrate to improve scratch resistance on the surface of a substrate such as glass, plastic sheet, plastic lens, resin film, and display device front plate. As such a hard coat film, an organic resin film or an inorganic film is used. It is formed on the surface of glass or plastic. It is being performed to further improve the scratch resistance by blending resin particles or inorganic particles such as silica in the organic resin film or the inorganic film. The resin substrate of such a hard coat film part is sometimes used by being attached to a front plate of a display device.
그러나 종래의 하드코트막부 기재는 제조시에 하드코트막부 기재를 권취하는 경우 또는 제조 후 하드코트막부 기재를 적층하는 경우 하드코트막부 기재 상호간이 밀착되고 그 후의 가공시 사용시에 박리가 곤란한 문제 등 막 외관에 불량이 발생하는 문제가 있었다.
However, in the case of winding the hard coat film part base material during manufacture, or when the hard coat film part base material is laminated after manufacture, the hard coat film part substrates are in close contact with each other, and it is difficult to peel when used during subsequent processing. There was a problem that defects occurred in the appearance.
안티-블로킹성을 높이기 위해서는 피막 표면에 요철을 설계하는 것이 알려져 있다. 하드코트막에 방현성을 부여하기 위해서 요철을 설치하는 것은 특허문헌 1(일본 특허공개 2007-76055호 공보), 특허문헌 2(일본 특허공개 2009-169409호 공보), 특허문헌 3(일본 특허공개 2008-163205호 공보) 등에 제안되고 있으나 이것은 방현성에 있어서 언급한 것으로 투명피막부 기재의 밀착을 억제하는 본 발명의 목적과는 인식을 달리하는 것으로 투명성 저해의 문제가 발생하는 경우가 있다.
In order to increase anti-blocking properties, it is known to design irregularities on the surface of the film. To provide unevenness in order to impart anti-glare properties to the hard coat film, Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 2007-76055), Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 2009-169409), and Patent Document 3 (Japanese Patent Publication) 2008-163205), etc.), but this is mentioned in terms of anti-glare property, which is different from the object of the present invention for suppressing adhesion of the transparent film part, and thus, there is a case of a problem of impairing transparency.
한편 특허문헌 4(일본 특허공개 2009-35614호 공보)에는 반응성 무기미립자 A와 유기 실리콘 미립자 B를 포함하는 하드코트막층용 경화성 수지 조성물이 개시되어 있다. 이 특허문헌 4에는 경면을 서로 포개어 밀착을 방지하기 위해 바인더 성분에의 분산성, 결합성으로 우수한 표면을 유기성분으로 피복시킨 반응성 무기미립자 A와 상기 반응성 무기미립자 A와 분리하는 경향이 있는 유기기를 포함하는 유기 실리콘 미립자 B를 혼합 사용하여 반응성 무기미립자 A의 체적배제 효과 등에 의한 유기 실리콘 미립자 B를 바인더 층의 표면에 분산시켜 표면에 요철을 형성시키는 것을 개시하고 있다.
On the other hand, Patent Document 4 (Japanese Patent Laid-Open No. 2009-35614) discloses a curable resin composition for a hard coat film layer comprising reactive inorganic fine particles A and organic silicon fine particles B. In this patent document 4, in order to prevent adhesion by overlapping mirror surfaces with each other, reactive inorganic particles A coated with an organic component having excellent dispersibility and binding properties in a binder component, and organic groups that tend to separate from the reactive inorganic particles A It is disclosed that the organic silicon fine particles B are mixed and used to disperse the organic silicon fine particles B on the surface of the binder layer due to the volume exclusion effect of the reactive inorganic fine particles A to form irregularities on the surface.
그러나 인용문헌 4에서는 기재와의 밀착성이 저하되고 내찰상성이 불충분해질 수 있다. 본 발명자들은 하드코트막 형성용 도포액에 특정 범위의 구상계수를 지닌 금속산화물입자를 소수성 유기 수지에 분산시킨 것을 사용하면 금속산화물미립자가 하드코트막 표면에 요부를 형성하여 존재하고 상기 밀착성이 저하되는 안티-블로킹성을 얻을 수 있는 것을 개시하고 있다(특허문헌 5: 일본 특허공개 2011-68087호 공보).
However, in Cited Literature 4, adhesion to the substrate may decrease and scratch resistance may become insufficient. When the present inventors use a coating solution for forming a hard coat film in which metal oxide particles having a specific range of spherical coefficient are dispersed in a hydrophobic organic resin, the metal oxide fine particles are present by forming recesses on the surface of the hard coat film, and the adhesion is lowered. It discloses that an anti-blocking property can be obtained (Patent Document 5: Japanese Patent Laid-Open No. 2011-68087).
또한 본 발명자들은 소수성을 지닌 유기 수지 매트릭스 성분에 매트릭스 성분과 상용성이 없고 굴절률이 조정된 친수성을 지닌 금속산화물미립자를 포함하는 것에 의해 하드코트막 표면에 특정 높이의 요부를 형성할 수 있음과 입자의 시인성이 없이 안티-블로킹성이 향상시키는 것을 개시하고 있다(특허문헌 6: 일본 특허공개 2011-136490호 공보).
In addition, the inventors of the present invention are able to form recesses of a specific height on the surface of the hard coat film by including metal oxide fine particles having a hydrophilic property in which the refractive index is adjusted and not compatible with the matrix component in the hydrophobic organic resin matrix component. It discloses that the anti-blocking property is improved without the visibility of (Patent Document 6: Japanese Patent Laid-Open No. 2011-136490).
특허문헌 5 및 6에서는 입자를 편재시켜 요부를 형성시키고 안티-블로킹성을 얻는 것으로 금속산화물미립자가 응집하여 표면에 있어서도 응집되어 효율적으로 안티-블로킹성을 향상시키지 못하는 경우가 있으며 이 경우 내찰상성, 연필 경도 등이 불충분해지는 경우가 있다. 또한 하드코트막의 투명성이 저하되어 헤이즈가 악화되는 경우가 있다.
In Patent Documents 5 and 6, particles are unevenly distributed to form concave portions and anti-blocking properties are obtained. Metal oxide fine particles are aggregated and aggregated on the surface as well, so that the anti-blocking properties are not effectively improved. In this case, scratch resistance, The pencil hardness, etc. may become insufficient. In addition, the transparency of the hard coat film may decrease and haze may deteriorate.
한편 종래의 하드코트막에는 투명 피막의 두께 또는 기재의 종류, 두께에 의해 투명피막부 기재가 만곡되는 문제가 있었다. 최근 경량화 및 투명성을 향상시키기 위해 두께가 얇아진 기재가 지향되고 있다.
Meanwhile, in the conventional hard coat film, there is a problem in that the transparent film portion substrate is curved depending on the thickness of the transparent film or the type and thickness of the substrate. In recent years, in order to reduce weight and improve transparency, substrates with thinner thickness are being sought.
이에 따라 두께가 얇은 기재를 사용하여도 상기한 안티-블로킹성을 얻을 수 있으며 컬링 등으로 박리를 억제시킬 수 있는 투명피막부 기재가 요구되어 왔다.
Accordingly, even when a substrate having a thin thickness is used, the above-described anti-blocking property can be obtained, and a transparent film portion substrate capable of suppressing peeling by curling or the like has been required.
이와 같은 상황에서 단순하게 미립자를 사용하여 요철을 제조하는 것이 아닌 클러스터를 형성하여 요철을 형성하는 것으로 종래의 문제점을 해소할 수 있는 것을 고안하였다. 안티-블로킹성을 지니며 또한 컬링이 억제된 하드코트막부 기재가 얻어질 수 있는 것을 발견하여 본 발명을 완성하게 된 것이다.
In such a situation, it was devised that the conventional problem can be solved by forming clusters and forming irregularities rather than simply manufacturing irregularities using fine particles. The present invention was completed by discovering that a hard coat film portion substrate having anti-blocking properties and suppressing curling can be obtained.
본 발명에 따른 하드코트막부 기재는 기재와 상기 기재 위에 형성된 하드코트막으로 이루어지며, 상기 하드코트막은 (ⅰ) 금속산화물미립자(A) 클러스터(CL)와 (ⅱ) 매트릭스 성분 및 (ⅲ) 클러스터 형성제로 이루어지며, 적어도 클러스터(CL)의 일부가 하드코트막 표면에 돌출부를 형성하여 존재하고 15∼200nm의 높이(H凸) 범위를 지닌 돌출부를 지니는 것을 특징으로 한다.
The hard coat film part substrate according to the present invention comprises a substrate and a hard coat film formed on the substrate, and the hard coat film comprises (i) metal oxide fine particles (A) clusters (CL) and (ii) matrix components and (iii) clusters. It is made of a forming agent, and is characterized in that at least a part of the cluster CL exists by forming a protrusion on the surface of the hard coat film, and has a protrusion having a height (H凸) range of 15 to 200 nm.
또한 본 발명에 따른 하드코트막 형성용 도포액은 금속산화물미립자(A)와 매트릭스 형성성분, 클러스터 형성제 및 분산매를 포함하고, 상기 금속산화물미립자(A) 의 농도(CA)는 고형분으로서 0.025∼48 중량% 범위이고, 상기 매트릭스 형성성분의 농도(CM)는 고형분으로서 1∼59.7 중량% 범위이고 상기 클러스터 형성제의 농도(CCL)는 고형분으로서 0.0005∼6 중량% 범위이며, 전체 고형분 농도는 1∼60 중량% 범위이며 금속산화물미립자(A)가 클러스터(CLP)를 형성시킨 것을 특징으로 한다.
In addition, the coating liquid for forming a hard coat film according to the present invention includes metal oxide fine particles (A), a matrix forming component, a cluster forming agent, and a dispersion medium, and the concentration (C A ) of the metal oxide fine particles (A) is 0.025 as a solid content. -48% by weight, the concentration of the matrix forming component (C M ) is in the range of 1 to 59.7% by weight as a solid content, and the concentration of the cluster forming agent (C CL ) is in the range of 0.0005 to 6% by weight as the solid content, and the total solid content The concentration is in the range of 1 to 60% by weight and is characterized in that the metal oxide fine particles (A) form clusters (CL P ).
본 발명에 따른 기재와의 밀착성, 투명성, 내찰상성, 스크래치 강도, 연필 경도 등이 우수하며 또한 안티-블로킹성 및 컬링 형성 억제가 우수한 하드코트막부 기재 및 상기 하드코트막 형성용 도포액을 제공 할 수 있는 것이다.
Provides a hard coat film substrate with excellent adhesion, transparency, abrasion resistance, scratch strength, pencil hardness, etc. with the substrate according to the present invention and excellent anti-blocking properties and curling formation inhibition, and a coating liquid for forming the hard coat film. It can be.
이하 우선 본 발명에 따른 하드코트막부 기재에 대해 설명한다.
Hereinafter, a description will be given of the hard coat film portion substrate according to the present invention.
[하드코트막부 기재]
[Materials for the hard coat film part]
본 발명에 따른 하드코트막부 기재는 기재 및 기재 위에 형성된 표면에 요철을 지니는 하드코트막으로 이루어진다.
The hard coat film part substrate according to the present invention comprises a substrate and a hard coat film having irregularities on the surface formed on the substrate.
기재materials
본 발명에 사용하는 기재로서는 종래 공지의 글라스, 폴리카보네이트, 아크릴 수지, PET, TAC 등의 플라스틱 시트, 플라스틱 필름류 플라스틱 패널류를 사용할 수 있으나, 그 중에서도 굴절률이 낮고 알칼리성을 요구하는 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 기재, PET 등 폴리올레핀계 수지 기재, 폴리비닐알코올계 수지 기재, 폴리에테르술폰계 수지 기재 등을 사용하는 것이 바람직하다.
As the substrate used in the present invention, conventionally known plastic sheets such as glass, polycarbonate, acrylic resin, PET, and TAC, plastic films, and plastic panels can be used, but among them, triacetylcellulose (TAC), which has a low refractive index and requires alkalinity. ) It is preferable to use a substrate, a polyolefin resin substrate such as PET, a polyvinyl alcohol resin substrate, a polyethersulfone resin substrate, and the like.
기재의 두께로는 20㎛∼5mm, 바람직하게는 20∼200㎛의 범위의 것을 사용할 수 있다. 특히, 본 발명에 의하면 얇은 기재에 있어서도 컬링을 억제 할 수 있으며 안티-블로킹성을 나타낼 수 있다.
The thickness of the substrate may be in the range of 20 μm to 5 mm, preferably 20 to 200 μm. In particular, according to the present invention, curling can be suppressed even in a thin substrate and anti-blocking properties can be exhibited.
하드코트막Hard coat film
하드코트막은 금속산화물미립자(A) 클러스터(CL)와 매트릭스 성분 및 클러스터 형성제로 이루어진다. 클러스터(CL)의 일부가 하드코트막의 표면에 돌출부를 형성하여 존재한다.
The hard coat film is made of metal oxide fine particles (A) clusters CL, a matrix component, and a cluster forming agent. Part of the cluster CL exists by forming a protrusion on the surface of the hard coat film.
(ⅰ) 금속산화물미립자(A) 클러스터(CL)
(I) Metal oxide fine particles (A) Cluster (CL)
금속산화물미립자(A)의 평균 입경(DA)은 5∼200nm, 바람직하게는 5∼150nm 범위이다.
The average particle diameter (D A ) of the metal oxide fine particles ( A ) is in the range of 5 to 200 nm, preferably 5 to 150 nm.
금속산화물미립자(A)의 평균 입경(DA)이 상기 범위보다도 작은 경우에는 미립자가 응집하는 경우가 있고, 하드코트막의 헤이즈가 악화되어 투명성이 저하되는 경우가 있다.
When the average particle diameter (D A ) of the metal oxide fine particles (A) is smaller than the above range, the fine particles may aggregate, the haze of the hard coat film may deteriorate, and the transparency may decrease.
금속산화물미립자(A)의 평균 입경(DA)이 큰 경우에도 얻어지는 하드코트막의 헤이즈가 악화되어 투명성이 저하되는 경우가 있고, 또한 마찰 등에 의해 하드코트막이 손상되는 경우가 있다.
Even when the average particle diameter (D A) of the metal oxide fine particles ( A ) is large, the haze of the obtained hard coat film may deteriorate and transparency may decrease, and the hard coat film may be damaged by friction or the like.
금속산화물미립자(A)로서는 실리카, 알루미나, 지르코니아, 산화티탄, 오산화안티몬, 보리아, 안티몬도핑 산화주석, 인도핑 산화주석, 주석도핑 산화인듐 및 이들의 복합산화물, 혼합물의 미립자를 들 수 있다.
Examples of the metal oxide fine particles (A) include silica, alumina, zirconia, titanium oxide, antimony pentoxide, boria, antimony-doped tin oxide, indoped tin oxide, tin-doped indium oxide and composite oxides thereof, and fine particles of a mixture.
본 발명의 클러스터(CL)는 도포액 내에서 금속산화물입자(A)가 클러스터 형성제의 존재에 의해 비교적 약하게 응집된 클러스터(CLp)(후술)가 하드코트막 형성시의 건조 경화시에 수축하는 것에 의해 집합되어 있는 입자이다.
In the cluster (CL) of the present invention, the cluster (CL p ) (to be described later) in which the metal oxide particles (A) are relatively weakly agglomerated by the presence of the cluster forming agent in the coating liquid shrinks during dry curing during hard coat film formation It is a particle that is aggregated by doing.
하드코트막 내의 클러스터(CL)의 크기는 직접 측정 할 수는 없지만, 표면 요철의 볼록부의 크기로부터 후술하는 하드코트막 형성용 도포액 내의 금속산화물미립자(A) 클러스터(CLP)의 평균 입경(DCLP)과 같은 정도 또는 약간 수축한 경우 대략 50∼2,000nm의 범위에 있는 것으로 추정된다. 또한 통상의 입자는 통상의 방법으로는 요철을 형성하지 않는다.
Although the size of the clusters CL in the hard coat film cannot be measured directly, the average particle diameter of the metal oxide fine particles (A) clusters (CL P ) in the coating solution for forming the hard coat film described later from the size of the convex portions of the surface irregularities ( D CLP ) is estimated to be in the range of approximately 50 to 2,000 nm in the case of a slight contraction. In addition, ordinary particles do not form irregularities by a conventional method.
(ⅱ) 클러스터 형성제
(Ii) Cluster forming agent
클러스터 형성제로서는 실리콘계 계면활성제, 아크릴실리콘계 계활성제, 아크릴계 계면활성제, 인산에스테르계 계면활성제, 폴리옥시에틸렌알킬아민에테르계 계면활성제에서 선택되는 적어도 1종 이상의 계면활성제인 것이 바람직하다.
The cluster forming agent is preferably at least one or more surfactants selected from silicone surfactants, acrylic silicone surfactants, acrylic surfactants, phosphate ester surfactants, and polyoxyethylenealkylamine ether surfactants.
실리콘계 계면활성제로서는 쿠스모토 화성(주) 제조 데이즈파론 LS-220, LS-240, LS-260, LS-280, LS-460, LS-480, 1711EF 등을 들 수 있다.
Examples of the silicone-based surfactant include Daze Faron LS-220, LS-240, LS-260, LS-280, LS-460, LS-480, 1711EF, etc. manufactured by Kusumoto Chemical Co., Ltd.
아크릴실리콘계 계면활성제로는 쿠스모토 화성(주) 제조 데이즈파론 LHP-810, NSH-8430HF, UVX-270, UVX-271, UVX-272, UVX-2280, UVX-2285 등을 들 수 있다.
Examples of the acrylic silicone-based surfactant include Days Faron LHP-810, NSH-8430HF, UVX-270, UVX-271, UVX-272, UVX-2280, UVX-2285 manufactured by Kusumoto Chemical Co., Ltd.
아크릴계 계면활성제로는 쿠스모토 화성(주) 제조 데이즈파론 UVX-3750 UVX-35, UVX-36, UVX-39 등을 들 수 있다.
Examples of the acrylic surfactant include Days Faron UVX-3750 UVX-35, UVX-36, UVX-39 manufactured by Kusumoto Chemical Co., Ltd.
인산에스테르계 계면활성제로는 다이이치 공업제약(주) 제조 플라이 세이프 A-212E, AL 등을 들 수 있다.
As a phosphate ester surfactant, Daiichi Kogyo Pharmaceutical Co., Ltd. fly-safe A-212E, AL, etc. are mentioned.
폴리옥시에틸렌알킬아민에테르계 계면활성제로는 다이이치 공업제약(주) 제조 아미라진 C-1802 등을 들 수 있다.
As a polyoxyethylene alkylamine ether type surfactant, Daiichi Kogyo Pharmaceutical Co., Ltd. Amirazine C-1802 etc. are mentioned.
이와 같은 클러스터 형성제에 의해 상기 금속산화물미립자(A)가 적당한 크기로 응집하여 클러스터(CL)를 형성한다. 또한 클러스터 형성제에 의해 투명피막의 표면에 클러스터가 편재하는 것에 의해 표면에 원하는 돌출부를 형성하고 안티-블로킹성이 우수한 투명피막이 된다.
The metal oxide fine particles (A) are aggregated to a suitable size by the cluster forming agent to form a cluster (CL). In addition, clusters are unevenly distributed on the surface of the transparent film by the cluster forming agent, thereby forming a desired protrusion on the surface, resulting in a transparent film having excellent anti-blocking properties.
금속산화물미립자(B)
Metal oxide fine particles (B)
본 발명에서는 상기 금속산화물미립자(A) 이외에 계면활성제로 처리된 금속산화물미립자(B)를 더욱 포함 할 수 있다. 하드코트막 내에 금속산화물미립자(B)가 포함되어 있으면 더욱 안티-블로킹성, 내찰상성이 우수한 하드코트막부 기재를 얻을 수 있다. 그 이유는 명확하지는 않으나 금속산화물미립자(B)가 금속산화물미립자(A)의 클러스터(CL)보다도 미세한 클러스터를 형성하고, 금속산화물입자(A) 클러스터(CL) 사이에 존재하여 클러스터(CL) 간극을 채울 수 있는 결합재로서의 기능을 갖는 것으로 생각된다.
In the present invention, in addition to the metal oxide fine particles (A), the metal oxide fine particles (B) treated with a surfactant may be further included. When the metal oxide fine particles (B) are contained in the hard coat film, a hard coat film portion base material having further excellent anti-blocking properties and scratch resistance can be obtained. The reason is not clear, but the metal oxide particles (B) form a cluster that is finer than the clusters (CL) of the metal oxide particles (A), and exist between the clusters (CL) of the metal oxide particles (A), so that the cluster (CL) gap It is thought to have a function as a bonding material that can fill in.
금속산화물미립자(B)의 평균 입자 지름은 5∼300nm, 바람직하게는 5∼150nm 범위이다. 금속산화물미립자(B)의 평균 입경이 상기 범위보다 작은 경우에는 후술하는 표면처리의 유무에 따라 다르지만, 미립자가 응집하는 경우가 있어 하드코트막의 헤이즈가 악화되거나 투명성이 저하 될 수 있다. 금속산화물미립자(B)의 평균 입자 직경이 너무 커도 금속산화물미립자(B)의 함량에 따라 다르지만 수득되는 하드코트막의 헤이즈가 악화되거나 투명성이 저하 될 수 있으며 또한 마찰 등에 의해 하드코트막이 손상 될 수 있다.
The average particle diameter of the metal oxide fine particles (B) is in the range of 5 to 300 nm, preferably 5 to 150 nm. When the average particle diameter of the metal oxide fine particles (B) is smaller than the above range, it varies depending on the presence or absence of a surface treatment to be described later, but the fine particles may aggregate, so that the haze of the hard coat film may deteriorate or the transparency may decrease. Even if the average particle diameter of the metal oxide fine particles (B) is too large, it varies depending on the content of the metal oxide fine particles (B), but the haze of the obtained hard coat film may deteriorate or the transparency may decrease, and the hard coat film may be damaged by friction. .
금속산화물미립자(B)로서는 상기 금속산화물미립자(A)와 같은 미립자가 사용된다. 상기 금속산화물미립자(B)가 계면활성제로 표면처리 된 것이 바람직하다.
As the metal oxide fine particles (B), the same fine particles as the metal oxide fine particles (A) are used. It is preferable that the metal oxide fine particles (B) are surface-treated with a surfactant.
금속산화물미립자(B)의 표면처리에 사용되는 계면활성제로는 양이온성 계면활성제, 음이온성 계면활성제, 복합이온성 계면활성제, 비이온성 계면활성제에서 선택된 1종 이상을 들 수 있다.
Surfactants used in the surface treatment of the metal oxide fine particles (B) include at least one selected from cationic surfactants, anionic surfactants, complex ionic surfactants, and nonionic surfactants.
구체적으로는 양이온성 계면활성제로는 라우릴트리메틸암모늄클로라이드, 세틸트리메틸암모늄클로라이드, 스테아릴트리메틸암모늄클로라이드, 옥틸디메틸에틸암모늄에틸설페이트, 라우릴디메틸에틸암모늄에틸설페이트, 팔미틸디메틸에틸암모늄에틸설페이트, 디데실디메틸암모늄클로라이드, 비스디아릴디메틸암모늄클로라이드, 라우릴디메틸벤질암모늄클로라이드, 스테아릴디메틸히드록시에틸암모늄파라톨루엔술포네이트, 스테아릴디메틸아미노프로필아미드, 트리부틸벤질암모늄클로라이드, 1,4-비스(2-에틸헥실)술포숙신산나트륨디옥틸술포숙시네이트 등을 들 수 있다.
Specifically, cationic surfactants include lauryltrimethylammonium chloride, cetyltrimethylammonium chloride, stearyltrimethylammonium chloride, octyldimethylethylammonium ethylsulfate, lauryldimethylethylammonium ethylsulfate, palmityldimethylethylammonium ethylsulfate, dide Sildimethylammonium chloride, bisdiaryldimethylammonium chloride, lauryldimethylbenzylammonium chloride, stearyldimethylhydroxyethylammoniumparatoluenesulfonate, stearyldimethylaminopropylamide, tributylbenzylammonium chloride, 1,4-bis( 2-ethylhexyl)sulfosuccinate sodium dioctylsulfosuccinate, etc. are mentioned.
음이온성 계면활성제로는 폴리옥시에틸렌알킬에테르인산염, 폴리옥시알킬렌알킬인산에스테르, 폴리옥시알킬렌알킬페닐에테르인산에스테르, 폴리옥시에틸렌트리데실에테르인산에스테르, 폴리옥시에틸렌알킬인산에스테르, 폴리옥시에틸렌알킬 에테르인산에스테르모노에탄올아민염, 폴리옥시에틸렌라우릴에테르인산에스테르, 폴리옥시에틸렌트리라우릴에테르인산에스테르모노에탄올아민염, 폴리옥시에틸렌스티렌화페닐에테르인산에스테르, 알킬인산에스테르나트륨, 알킬인산에스테르모노에탄올아민염, 폴리옥시에틸렌라우릴에테르초산나트륨, 라우릴술포숙신산나트륨, 폴리옥시에틸렌술포숙신산라우릴나트륨, 폴리옥시에틸렌알킬술포숙신산나트륨, 폴리옥시스티렌화페닐에테르황산암모늄, 폴리에톡시알킬렌분지데실에테르황산나트륨, 폴리옥시에틸렌이소데실에테르황산암모늄, 폴리옥시에틸렌트리데실에테르황산나트륨, 폴리옥시에틸렌라우릴에테르황산나트륨, 폴리옥시에틸렌라우릴에테르황산암모늄, 폴리옥시에틸렌알킬에테르황산나트륨, 폴리옥시에틸렌올레일세틸에테르황산암모늄, 폴리옥시에틸렌올레일세틸에테르황산나트륨, 알킬벤젠술폰산나트륨, 알킬벤젠술폰산, 알파-올레핀술폰산나트륨, 페놀설폰산, 디옥틸술포숙신산나트륨, 라우릴황산나트륨 등을 들 수 있다.
As anionic surfactants, polyoxyethylene alkyl ether phosphate, polyoxyalkylene alkyl phosphate, polyoxyalkylene alkyl phenyl ether phosphate, polyoxyethylene tridecyl ether phosphate, polyoxyethylene alkyl phosphate, polyoxyethylene Alkyl ether phosphate monoethanolamine salt, polyoxyethylene lauryl ether phosphate, polyoxyethylene trilauryl ether phosphate monoethanolamine salt, polyoxyethylene styrenated phenyl ether phosphate, alkyl phosphate sodium, alkyl phosphate Monoethanolamine salt, sodium polyoxyethylene lauryl ether acetate, sodium lauryl sulfosuccinate, sodium polyoxyethylene sulfosuccinate, sodium polyoxyethylene alkyl sulfosuccinate, polyoxystyrene phenyl ether ammonium sulfate, polyethoxyalkyl Sodium renbundidecyl ether sulfate, ammonium polyoxyethylene isodecyl ether sulfate, sodium polyoxyethylene tridecyl ether sulfate, sodium polyoxyethylene lauryl ether sulfate, ammonium polyoxyethylene lauryl ether sulfate, sodium polyoxyethylene alkyl ether sulfate, polyoxyethylene Ammonium oleyl cetyl ether sulfate, sodium polyoxyethylene oleyl cetyl ether sulfate, sodium alkylbenzene sulfonate, alkylbenzene sulfonic acid, sodium alpha-olefin sulfonate, phenol sulfonic acid, sodium dioctyl sulfosuccinate, sodium lauryl sulfate, and the like.
복합이온성 계면활성제로는 라우릴디메틸아미노초산펜탄, 라우릴산아미드프로필펜탄, 옥탄산아미드프로필펜탄, 라우릴디메틸아민옥사이드 등을 들 수 있다.
Examples of the complex ionic surfactant include lauryl dimethylamino acetate pentane, lauryl acid amide propyl pentane, octanoic acid amide propyl pentane, and lauryl dimethyl amine oxide.
비이온성 계면활성제로는 폴리옥시알킬렌데실에테르, 폴리옥시에틸렌트리데실에테르, 폴리옥시알킬렌트리데실에테르, 폴리옥시알킬렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌이소데실에테르, 폴리옥시알킬렌라우릴에테르, 폴리옥시에틸렌스티렌화페닐에테르, 폴리옥시에틸렌나프틸에테르, 페녹시에탄올, 폴리옥시에틸렌페닐에테르, 폴리옥시에틸렌폴리옥시프로필렌글리콜, 폴리옥시에틸렌라우릴에테르, 폴리옥시에틸렌올레일세틸에테르, 폴리옥시에틸렌올레산에스테르, 폴리옥시에틸렌스테아르산에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비탄모노코코에이트, 폴리옥시에틸렌소르비탄모노스테아레이트, 폴리옥시에틸렌소르비탄모노올레이트, 이소스테아린산폴리옥시에틸렌글리세롤, 폴리옥시에틸렌알킬아민, 옥틸폴리글루코사이드, 부틸폴리글리코사이드 등을 들 수 있다.
Nonionic surfactants include polyoxyalkylene decyl ether, polyoxyethylene tridecyl ether, polyoxyalkylene tridecyl ether, polyoxyalkylene alkyl ether, polyoxyethylene isodecyl ether, polyoxyalkylene lauryl ether, poly Oxyethylene styrenated phenyl ether, polyoxyethylene naphthyl ether, phenoxyethanol, polyoxyethylene phenyl ether, polyoxyethylene polyoxypropylene glycol, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene oleyl cetyl ether, polyoxyethylene Oleic acid ester, polyoxyethylene stearic acid ester, polyoxyethylene sorbitan monococoate, polyoxyethylene sorbitan monostearate, polyoxyethylene sorbitan monooleate, isostearic acid polyoxyethylene glycerol, polyoxyethylene alkylamine, Octyl polyglucoside, butyl polyglycoside, etc. are mentioned.
그 중에서도 양이온성 계면활성제, 음이온성 계면활성제, 비이온성 계면활성제가 바람직하다.
Among them, cationic surfactants, anionic surfactants, and nonionic surfactants are preferred.
구체적으로는 양이온성 계면활성제로는 옥틸디메틸에틸암모늄에틸설페이트, 라우릴디메틸에틸암모늄에틸설페이트, 팔미틸디메틸에틸암모늄에틸설페이트, 스테아릴디메틸히드록시에틸암모늄파라톨루엔설포네이트 등을 들 수 있다.
Specifically, octyl dimethyl ethyl ammonium ethyl sulfate, lauryl dimethyl ethyl ammonium ethyl sulfate, palmityl dimethyl ethyl ammonium ethyl sulfate, stearyl dimethyl hydroxyethyl ammonium paratoluene sulfonate, etc. are mentioned as a cationic surfactant.
음이온성 계면활성제로는 폴리옥시에틸렌알킬에테르인산염, 폴리옥시알킬렌알킬인산에스테르, 폴리옥시알킬렌알킬페닐에테르인산에스테르, 폴리옥시에틸렌트리데실에테르인산에스테르, 폴리옥시에틸렌알킬인산에스테르, 폴리옥시에틸렌알킬에테르인산에스테르모노에탄올아민염, 폴리옥시에틸렌라우릴에테르인산에스테르, 폴리옥시에틸렌트리라우릴에테르인산에스테르모노에탄올아민염, 폴리옥시에틸렌스티렌화페닐에테르인산에스테르, 폴리옥시에틸렌라우릴에테르초산나트륨, 폴리옥시에틸렌술포숙신산라우릴나트륨, 폴리옥시에틸렌알킬술포숙신산나트륨, 폴리옥시스티렌화페닐에테르황산암모늄, 폴리엑시알킬렌분지데실에테르황산나트륨, 폴리옥시 에틸렌이소데실에테르황산암모늄, 폴리옥시에틸렌트리데실에테르황산나트륨, 폴리옥시에틸렌라우릴에테르황산나트륨, 폴리옥시에틸렌라우릴에테르황산암모늄, 폴리옥시에틸렌알킬에테르황산나트륨, 폴리옥시에틸렌올레일세틸에테르황산암모늄, 폴리옥시에틸렌올레일세틸에테르황산나트륨 등을 들 수 있다.
As anionic surfactants, polyoxyethylene alkyl ether phosphate, polyoxyalkylene alkyl phosphate, polyoxyalkylene alkyl phenyl ether phosphate, polyoxyethylene tridecyl ether phosphate, polyoxyethylene alkyl phosphate, polyoxyethylene Alkyl ether phosphate monoethanolamine salt, polyoxyethylene lauryl ether phosphate, polyoxyethylene trilauryl ether phosphate monoethanolamine salt, polyoxyethylene styrenated phenyl ether phosphate, polyoxyethylene lauryl ether sodium acetate , Sodium lauryl polyoxyethylene sulfosuccinate, sodium polyoxyethylene alkyl sulfosuccinate, ammonium polyoxystyrene phenyl ether sulfate, sodium polyoxyalkylene branched decyl ether sulfate, polyoxyethylene isodecyl ether ammonium sulfate, polyoxyethylene tridecyl Sodium ether sulfate, sodium polyoxyethylene lauryl ether sulfate, ammonium polyoxyethylene lauryl ether sulfate, sodium polyoxyethylene alkyl ether sulfate, ammonium polyoxyethylene oleyl cetyl ether sulfate, sodium polyoxyethylene oleyl cetyl ether sulfate, and the like. .
비이온성 계면활성제로는 폴리옥시알킬렌데실에테르, 폴리옥시에틸렌트리데실에테르, 폴리옥시알킬렌트리데실에테르, 폴리옥시알킬렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌이소데실에테르, 폴리옥시알킬렌라우릴에테르, 폴리옥시에틸렌스티렌화페닐에테르, 폴리옥시에틸렌나프틸에테르, 폴리옥시에틸렌페닐에테르, 폴리옥시에틸렌폴리옥시프로필렌글리콜, 폴리옥시에틸렌라우릴에테르, 폴리옥시에틸렌올레일세틸에테르, 폴리옥시에틸렌올레산에스테르, 폴리옥시에틸렌스테아르에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비탄모노코코에이트, 폴리옥시에틸렌소르비탄모노스테아레이트, 폴리옥시에틸렌소르비탄모노올레이트, 이소스테아린산폴리옥시에틸렌글리세린, 폴리옥시에틸렌알킬아민 등을 들 수 있다.
Nonionic surfactants include polyoxyalkylene decyl ether, polyoxyethylene tridecyl ether, polyoxyalkylene tridecyl ether, polyoxyalkylene alkyl ether, polyoxyethylene isodecyl ether, polyoxyalkylene lauryl ether, poly Oxyethylene styrenated phenyl ether, polyoxyethylene naphthyl ether, polyoxyethylene phenyl ether, polyoxyethylene polyoxypropylene glycol, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene oleyl cetyl ether, polyoxyethylene oleic acid ester, poly Oxyethylene stearester, polyoxyethylene sorbitan monococoate, polyoxyethylene sorbitan monostearate, polyoxyethylene sorbitan monooleate, isostearic acid polyoxyethylene glycerin, polyoxyethylene alkylamine, and the like.
특히 에틸렌옥사이드 변성 골격을 갖는 계면활성제가 바람직하며, 구체적으로는 양이온성 계면활성제로는 옥틸디메틸암모늄에틸설페이트(다이이치 공업제약(주) 제조 : 카티오겐 ES-O), 스테아릴디메틸히드록시에틸암모늄파라톨루엔설포네이트(다이이치 공업제약(주) 제조 : 카티오겐 D2) 등을 들 수 있다.
Particularly, a surfactant having an ethylene oxide-modified skeleton is preferable. Specifically, octyldimethylammonium ethyl sulfate (manufactured by Daiichi Kogyo Pharmaceutical Co., Ltd.: Catiogen ES-O), stearyldimethylhydroxy Ethyl ammonium paratoluene sulfonate (manufactured by Daiichi Kogyo Pharmaceutical Co., Ltd.: Catiogen D2), and the like.
또한 음이온성 계면활성제로는 폴리옥시알킬렌알킬페닐에테르인산에스테르(다이이치 공업제약(주) 제조 : 플라이세이프 A-212E), 폴리옥시에틸렌트리데실에테르황산나트륨(다이이치 공업제약(주) 제조 : 하이 테놀 330T), 폴리옥시에틸렌알킬(C8)에테르인산에스테르(다이이치 공업제약(주) 제조 : 플라이세이프 A-208F), 폴리옥시알킬렌스티렌화페닐에테르인산에스테르(다이이치 공업제약(주) 제조 : 플라이세이프 AL) 등을 들 수 있다. 비이온성 계면활성제로는 폴리옥시에틸렌트리데실에테르(다이이치 공업제약(주) 제조 : 노이겐 TDS-80), 폴리옥시에틸렌소르비탄모노스테아레이트(다이이치 공업제약(주) 제조 : 소루겐 TW -60) 등을 들 수 있다.
In addition, polyoxyalkylene alkylphenyl ether phosphate ester (manufactured by Daiichi Kogyo Pharmaceutical Co., Ltd.: FlySafe A-212E) as anionic surfactant, sodium polyoxyethylene tridecyl ether sulfate (manufactured by Daiichi Kogyo Pharmaceutical Co., Ltd.: High tenol 330T), polyoxyethylene alkyl (C8) ether phosphoric acid ester (manufactured by Daiichi Kogyo Pharmaceutical Co., Ltd.: FlySafe A-208F), polyoxyalkylene styrenated phenyl ether phosphoric acid ester (Daiichi Kogyo Pharmaceutical Co., Ltd.) Manufacturing: Flysafe AL), etc. are mentioned. Nonionic surfactants include polyoxyethylene tridecyl ether (manufactured by Daiichi Kogyo Pharmaceutical Co., Ltd.: Neugen TDS-80), polyoxyethylene sorbitan monostearate (manufactured by Daiichi Kogyo Pharmaceutical Co., Ltd.: Sorugen TW). -60), etc. are mentioned.
계면활성제로 처리된 금속산화물미립자(B)의 계면활성제의 함량은 평균 입자 직경에 따라 다르지만 0.5∼30 중량%, 바람직하게는 1∼25 중량%의 범위이다.
The content of the surfactant in the metal oxide fine particles (B) treated with the surfactant varies depending on the average particle diameter, but is in the range of 0.5 to 30% by weight, preferably 1 to 25% by weight.
계면활성제의 함유량이 적으면 후술하는 매트릭스 형성 성분 분산매의 분산성이 불충분하거나 도포액 중에서 응집하고, 응집된 입자가 막 표면에 돌출부를 형성하여 내찰상성, 투명성이 저하됨과 동시에 충분한 안티-블로킹성을 얻을 수 없는 경우가 있다. 계면활성제의 함유량이 너무 많아도 도포액 중에서 입자로부터 유리하는 계면활성제가 증가하고 수득되는 하드코트막 헤이즈가 발생하거나 경도, 내 찰상성 등이 불충분하게 되는 경우가 있다.
If the content of the surfactant is low, the dispersibility of the matrix-forming component dispersion medium described later is insufficient or agglomerates in the coating solution, and the agglomerated particles form protrusions on the surface of the film, resulting in a decrease in scratch resistance and transparency, and sufficient anti-blocking properties. There are cases where it cannot be obtained. Even if the content of the surfactant is too large, the amount of surfactant freed from the particles in the coating liquid increases, and the resulting hard coat film haze occurs, or the hardness, scratch resistance, etc. may become insufficient.
계면활성제로 처리시킨 금속산화물미립자(B)는 용매에 금속산화물미립자(B)를 분산시키고, 이것에 소정량의 계면활성제를 첨가하여 계면활성제를 금속산화물미립자(B)에 흡착시킴으로써 제조 할 수 있다. 또한 계면활성제는 미리 용매에 용해하여 사용할 수도 있다.
The metal oxide fine particles (B) treated with a surfactant can be prepared by dispersing the metal oxide fine particles (B) in a solvent and adding a predetermined amount of surfactant to the metal oxide fine particles (B) to adsorb the surfactant to the metal oxide fine particles (B). . Further, the surfactant may be used by dissolving in a solvent in advance.
(ⅲ) 매트릭스 성분
(Iii) matrix component
매트릭스 성분으로는 유기 수지가 바람직하게 사용된다.
As the matrix component, an organic resin is preferably used.
유기 수지 매트릭스 성분으로서 구체적으로는 도료용 수지로서 공지의 열경화성 수지, 열가소성 수지 등을 모두 사용 할 수 있다. 예를 들면 현재 사용되고 있는 폴리에스테르 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리아미드 수지, 폴리페닐렌옥사이드 수지, 열가소성 아크릴 수지, 염화비닐 수지, 불소 수지, 초산비닐 수지, 실리콘고무 등의 열가소성 수지, 우레탄 수지, 멜라민 수지, 실리콘 수지, 부틸란올 수지, 반응성 실리콘 수지, 페놀 수지, 에폭시 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 열경화성 아크릴 수지 등의 열경화성 수지 등을 들 수 있다. 또한 이러한 수지의 2 종 이상의 공중합체 및 변성체 이어도 좋다.
As the organic resin matrix component, specifically, all known thermosetting resins, thermoplastic resins, and the like can be used as resins for paints. For example, polyester resin, polycarbonate resin, polyamide resin, polyphenylene oxide resin, thermoplastic acrylic resin, vinyl chloride resin, fluororesin, vinyl acetate resin, thermoplastic resin such as silicone rubber, urethane resin, melamine And thermosetting resins such as resins, silicone resins, butylanol resins, reactive silicone resins, phenol resins, epoxy resins, unsaturated polyester resins, and thermosetting acrylic resins. In addition, two or more types of copolymers and modified products of these resins may be used.
이러한 수지는 에멀젼 수지, 수용성 수지, 친수성 수지이어도 좋다. 또한 열경화성 수지의 경우 자외선 경화형 수지이어도 전자선 경화형 수지이어도 좋고, 열경화성 수지의 경우 경화 촉매를 포함 할 수도 있다.
Such a resin may be an emulsion resin, a water-soluble resin, or a hydrophilic resin. Further, in the case of a thermosetting resin, an ultraviolet curable resin or an electron beam curable resin may be used, and in the case of a thermosetting resin, a curing catalyst may be included.
그 중에서도, 비닐기, 우레탄기, 에폭시기, (메타)아크릴로일기, CF2기 등의 관능기를 지닌다. 관능(메타)아크릴산에스테르 수지에서 선택되는 1종 이상인 것이 바람직하다. 더 구체적으로는 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 디트리메틸프로판테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트 부틸메타크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트, 2-에틸헥실메타크릴레이트, 이소데실메타크릴레이트, n-라 우릴아크릴레이트, n-스테아릴아크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타크릴레이트, 퍼플루오로옥틸에틸메타크릴레이트, 트리클로로에틸메타크릴레이트, 우레탄아크릴레이트 등 및 이들의 혼합물이 바람직하게 사용된다.
Among them, it has a functional group such as a vinyl group, a urethane group, an epoxy group, a (meth)acryloyl group, and a CF 2 group. It is preferable that it is at least 1 type selected from functional (meth)acrylic acid ester resin. More specifically, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ditrimethylpropane tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, methyl Methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, isodecyl methacrylate, n-lauryl acrylate, n-stearyl acrylate, 1,6 -Hexanediol dimethacrylate, perfluorooctylethyl methacrylate, trichloroethyl methacrylate, urethane acrylate, and the like, and mixtures thereof are preferably used.
그 중에서도 우레탄아크릴레이트올리고머계 수지는 안티-블로킹성이 뛰어나 함께 적당한 경도를 갖고, 컬링 억제 효과에도 뛰어난 하드코트막을 얻을 수 있기 때문에 바람직하게 사용할 수 있다.
Among them, urethane acrylate oligomer resins can be preferably used because they are excellent in anti-blocking properties, have moderate hardness, and can obtain a hard coat film that is also excellent in the curling inhibitory effect.
하드코트막의 조성
Composition of hard coat film
하드코트막에 금속산화물미립자(A)의 함유량(WA)은 고형분으로서 0.5∼80 중량%, 바람직하게는 1∼70 중량%의 범위이다.
The content (W A ) of the metal oxide fine particles (A) in the hard coat film is in the range of 0.5 to 80% by weight, preferably 1 to 70% by weight, as a solid content.
하드코트막에 금속산화물미립자(A)의 함유량(WA)이 적으면 두께에 따라 다르지만, 안티-블로킹성이 불충분하게되고, 컬링 억제 효과가 불충분 할 수 있다. 함량 (WA)이 너무 많아도 하드코트막의 헤이즈가 악화되거나 투명성이 저하 될 수 있고, 또한 내찰상성 및 기재와의 밀착성이 불충분 할 수 있다.
If the content (W A ) of the metal oxide fine particles (A) in the hard coat film is small, it varies depending on the thickness, but the anti-blocking property may be insufficient, and the curling inhibiting effect may be insufficient. Even if the content (W A ) is too large, the haze of the hard coat film may deteriorate or the transparency may decrease, and the scratch resistance and adhesion to the substrate may be insufficient.
하드코트막 내의 매트릭스 성분의 함유량(WM)은 고형분으로서 20∼99.5 중량%, 바람직하게는 30∼99 중량%의 범위이다.
The content (W M ) of the matrix component in the hard coat film is in the range of 20 to 99.5% by weight, preferably 30 to 99% by weight as solid content.
매트릭스 성분의 함유량(WM)이 적으면 하드코트막의 헤이즈가 악화되거나 투명성이 저하 될 수 있고, 또한 내찰상성 및 기재와의 밀착성이 불충분 할 수 있다. 함량(WM)이 너무 많아도 두께에 따라 다르지만 안티-블로킹성이 불충분하게되고, 컬링 억제 효과가 불충분 할 수 있다.
If the content (W M ) of the matrix component is small, the haze of the hard coat film may deteriorate or the transparency may decrease, and the scratch resistance and adhesion to the substrate may be insufficient. Even if the content (W M ) is too large, depending on the thickness, the anti-blocking property may be insufficient, and the curling inhibiting effect may be insufficient.
하드코트막 내의 클러스터 형성제의 함량(WCL)은 고형분으로서 0.01∼10 중량%, 바람직하게는 0.02∼5 중량%의 범위이다. 하드코트막 내의 클러스터 형성제의 함량(WCL)이 적으면 두께에 따라 다르지만, 안티-블로킹성이 불충분하게되는 경우가 있다. 함량 (WCL)이 너무 많아도 하드코트막의 헤이즈가 악화되거나 투명성이 저하 될 수 있고 또한 내찰상성 및 기재와의 밀착성이 불충분 할 수 있다.
The content (W CL ) of the cluster forming agent in the hard coat film is in the range of 0.01 to 10% by weight, preferably 0.02 to 5% by weight, as a solid content. If the amount of the cluster forming agent (W CL ) in the hard coat film is small, it varies depending on the thickness, but the anti-blocking property may be insufficient. Even if the content (W CL ) is too large, the haze of the hard coat film may deteriorate or the transparency may decrease, and the scratch resistance and adhesion to the substrate may be insufficient.
(WCL)/(WA)는 0.0005∼1, 바람직하게는 0.0001∼0.5의 범위이다. 이 범위에 있으면 미립자(A)가 원하는 크기의 클러스터를 형성 할 수 있다. 또한, 클러스터의 크기를 조정하려면, 상기 (WCL)/(WA)를 크게 하면 커지고 (WCL)/(WA)를 작게 하면 작아진다.
(W CL )/(W A ) is in the range of 0.0005 to 1, preferably 0.0001 to 0.5. If it is in this range, the particulate (A) can form a cluster of a desired size. Also becomes smaller when to adjust the size of the clusters, the (W CL) / (W A ) when the zoom increases (W CL) / small (W A).
필요에 따라 계면활성제로 표면처리된 금속산화물미립자(B)를 포함하는 경우, 하드코트막의 표면처리된 금속산화물미립자(B)의 함량 (WB)은 고형분으로서 30 중량% 이하, 바람직하게는 1∼20 중량%의 범위이다.
In the case of including the metal oxide fine particles (B) surface-treated with a surfactant, if necessary, the content (W B ) of the surface-treated metal oxide fine particles (B) of the hard coat film is 30% by weight or less as a solid content, preferably 1 It is in the range of -20% by weight.
하드코트막에 금속산화물미립자(B) 함량(WB)이 상기 범위에 있으면 안티-블로킹성, 내찰상성이 뛰어난 하드코트막부 기재를 얻을 수 있다.
When the content of the metal oxide fine particles (B) (W B ) in the hard coat film is within the above range, a hard coat film portion substrate having excellent anti-blocking properties and scratch resistance can be obtained.
본 발명의 하드코트막은 상기 클러스터(CL)의 일부가 하드코트막의 표면에 돌출부를 형성하고 있고 상기 돌출부의 높이(H 凸)가 10∼200nm, 바람직하게는 15∼150nm의 범위이다.
In the hard coat film of the present invention, a portion of the clusters CL forms a protrusion on the surface of the hard coat film, and the height of the protrusion (H 凸) is in the range of 10 to 200 nm, preferably 15 to 150 nm.
돌출부의 높이(H 凸)가 작으면 안티-블로킹성이 불충분하게되는 경우가 있다. 돌출부의 높이(H 凸)가 너무 커도 하드코트막의 헤이즈가 악화되거나 투명성이 저하될 수 있고, 또한 내찰상성 및 기재와의 밀착성이 불충분하게 되는 경우가 있다.
When the height of the protrusion (H凸) is small, the anti-blocking property may be insufficient. Even if the height of the protrusion (H 凸) is too large, the haze of the hard coat film may be deteriorated or the transparency may be lowered, and the scratch resistance and adhesion to the substrate may be insufficient.
돌출부의 높이(H 凸)는 후술하는 중합개시제 등을 용해 또는 분산에 의해 조정할 수 있다. 하드코트막의 평균 두께는 목적에 따라 적절하게 선택되고 0.5∼20㎛, 바람직하게는 1∼10㎛의 범위이다.
The height of the protrusion (H凸) can be adjusted by dissolving or dispersing a polymerization initiator or the like described later. The average thickness of the hard coat film is appropriately selected depending on the purpose and is in the range of 0.5 to 20 µm, preferably 1 to 10 µm.
하드코트막의 평균 두께가 상기 범위에 있으면 응력을 충분히 흡수 할 수 있으므로 내찰상성이 높고 건조시의 컬링도 적어진다. 본 발명은 하드코트막의 평균 두께는 촉침식 단차 측정기 또는 하드코트막의 수직 단면 투과전자현미경(TEM)을 촬영하여 측정한다. 또한 돌출부의 높이(H 凸)(Rmax)는 원자간력현미경(AFM)(Bruker(주) 제조 : Dimension 3100)으로 측정한다.
When the average thickness of the hard coat film is in the above range, stress can be sufficiently absorbed, so that the scratch resistance is high and curling during drying is reduced. In the present invention, the average thickness of the hard coat film is measured by photographing a stylus-type step gauge or a vertical cross-sectional transmission electron microscope (TEM) of the hard coat film. In addition, the height of the protrusion (H 凸) (Rmax) is measured with an atomic force microscope (AFM) (manufactured by Bruker Co., Ltd.: Dimension 3100).
또한 본 발명에서는 하드코트막의 두께는 상기 돌출부의 높이(H 凸)(Rmax)를 고려하지 않는 두께이다. 상기 기재의 굴절률(nB)과 하드코트막의 굴절률(nH)과의 굴절률 차이가 0.3 이하, 바람직하게는 0.2 이하이다. 하드코트막의 굴절률과 기재의 굴절률의 차이가 0.3을 넘으면 간섭 무늬가 발생하는 문제가 있다.
In addition, in the present invention, the thickness of the hard coat layer does not take into account the height of the protrusion (H 凸) (Rmax). The refractive index difference between the refractive index (n B ) of the substrate and the refractive index (n H ) of the hard coat film is 0.3 or less, preferably 0.2 or less. If the difference between the refractive index of the hard coat film and the refractive index of the substrate exceeds 0.3, there is a problem that interference fringes occur.
이러한 하드코트막은 다음과 같은 본 발명에 따른 하드코트막 형성용도포 액을 도포, 건조, 경화함으로써 형성 할 수 있다.
Such a hard coat film can be formed by applying, drying, and curing the following coating liquid for forming a hard coat film according to the present invention.
이하, 본 발명에 따른 하드코트막 형성용 도포액에 대해 설명한다.
Hereinafter, a coating liquid for forming a hard coat film according to the present invention will be described.
[하드코트막 형성용 도포액]
[Coating liquid for hard coat film formation]
본 발명에 따른 하드코트막 형성용 도포액은 상기 한 금속산화물입자(A)와 매트릭스 형성 성분(하드코트막의 매트릭스 성분의 경화 중합 전의 것)과 클러스터 형성제 및 분산매를 포함한다. 또한 필요에 따라 상기한 금속산화물미립자(B)를 포함 할 수도 있다.
The coating liquid for forming a hard coat film according to the present invention includes the metal oxide particles (A), a matrix forming component (before curing polymerization of the matrix component of the hard coat film), a cluster forming agent, and a dispersion medium. In addition, the metal oxide fine particles (B) may be included if necessary.
금속산화물미립자(A)는 도포액 내에서 클러스터(CLP)를 형성하고 있다. 클러스터(CLP)는 도포액 내에서 금속산화물입자(A)가 클러스터 형성제의 존재에 의해 비교적 약하게 응집 된 것이다.
The metal oxide fine particles (A) form clusters (CL P ) in the coating liquid. The cluster (CL P ) is a relatively weak aggregation of metal oxide particles (A) in the coating liquid due to the presence of a cluster forming agent.
분산매Dispersion medium
본 발명에 사용 분산매로는 상기 금속산화물미립자(A), 상기 매트릭스 형성 성분, 상기 클러스터 형성제, 필요에 따라 사용하는 상기 금속산화물미립자(B), 중합개시제를 용해 또는 분산시킬 수 있는 것이면 특히 제한은 없고, 종래 공지의 용매를 사용할 수 있다.
The dispersion medium used in the present invention is particularly limited as long as it is capable of dissolving or dispersing the metal oxide fine particles (A), the matrix forming component, the cluster forming agent, the metal oxide fine particles (B) used as needed, and a polymerization initiator. Is absent, and a conventionally known solvent can be used.
구체적으로는 메탄올, 에탄올, 프로판올, 2-프로판올(IPA), 부탄올, 디아세톤알코올, 퍼르푸릴알코올, 테트라하이드로퍼르푸릴알코올, 에틸렌글리콜, 헥실렌글리콜, 이소프로필렌글리콜 등의 알코올류; 아세트산메틸에스테르, 초산에틸에스테르, 초산부틸 등의 에스테르류; 디에틸에테르, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 에틸렌글리콜이소프로필에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르 등의 에테르류; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 메틸부틸케톤, 시클로헥사논, 메틸시클로헥사논, 디프로필케톤, 메틸펜틸케톤, 디이소부틸케톤, 이소포른, 아세틸아세톤, 아세트초산에스테르 등의 케톤, 톨루엔, 크실렌 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용하여도 좋고, 또한 2종 이상 혼합하여 사용할 수도 있다.
Specifically, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, 2-propanol (IPA), butanol, diacetone alcohol, furfuryl alcohol, tetrahydrofurfuryl alcohol, ethylene glycol, hexylene glycol, and isopropylene glycol; Esters such as methyl acetate, ethyl acetate, and butyl acetate; Diethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol isopropyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol Ethers such as monoethyl ether; Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl butyl ketone, cyclohexanone, methyl cyclohexanone, dipropyl ketone, methyl pentyl ketone, diisobutyl ketone, isoformone, acetylacetone, and acetacetic acid ester, Toluene, xylene, etc. are mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.
하드코트막 형성용 도포액의 농도는 전체 고형분으로서 1∼60 중량%, 바람직하게는 2∼50 중량%의 범위이다.
The concentration of the coating liquid for forming a hard coat film is in the range of 1 to 60% by weight, preferably 2 to 50% by weight as the total solid content.
전체 고형분 농도가 낮은 경우, 원하는 크기의 클러스터(CLP)를 형성 할 수 없는 경우가 있고, 이 때문에 하드코트막을 형성시 원하는 요철을 형성하지 못하는 경우가 있고 안티-블로킹성을 얻을 수 없는 경우가 있으며 1회 도포로 원하는 두께의 하드코트막을 얻는 것이 곤란한 경우가 있다. 또한 반복 도포, 건조를 반복하면 소정의 돌출부가 형성되지 않을 수도 있다.
When the total solid concentration is low, clusters of the desired size (CL P ) may not be formed, and for this reason, when forming the hard coat film, the desired irregularities may not be formed, and anti-blocking properties may not be obtained. In some cases, it is difficult to obtain a hard coat film having a desired thickness in one application. In addition, when repeated application and drying are repeated, a predetermined protrusion may not be formed.
전체 고형분 농도가 너무 높으면 클러스터(CLP)가 지나치게 커진 경우가 있어 이 때문에 표면 요철이 지나치게 커져 하드코트막의 헤이즈가 악화되거나 투명성이 저하 될 수 있다. 또한 내찰상성 및 기재와의 밀착성이 불충분 할 수 있다. 또한 도포액의 점도가 높아져 도포성이 저하되거나 수득되는 하드코트막의 헤이즈가 높아지거나 내찰상성이 불충분 할 수 있다.
If the total solid content concentration is too high, the cluster (CL P ) may become too large, so that the surface irregularities become too large, and the haze of the hard coat film may deteriorate or the transparency may decrease. Also, scratch resistance and adhesion to the substrate may be insufficient. In addition, the viscosity of the coating liquid may increase, so that the coating property may decrease, the haze of the resulting hard coat film may increase, or the scratch resistance may be insufficient.
하드코트막 형성용 도포액 내의 상기 금속산화물미립자(A)의 농도(CA)는 고형분으로서 0.025∼48 중량%, 바람직하게는 0.05∼42 중량%의 범위이다. 금속산화물미립자(A)의 농도(CA)가 적으면 안티-블로킹성이 불충분하게되고, 컬링 억제 효과가 불충분 할 수 있다. 금속산화물미립자(A)의 농도(CA)가 너무 높아도 수득되는 하드코트막의 헤이즈가 악화되거나 투명성이 저하 될 수 있고, 또한 내찰상성 및 기재와의 밀착성이 불충분해 질 수 있다.
The concentration (C A ) of the metal oxide fine particles (A) in the coating liquid for forming a hard coat film is in the range of 0.025 to 48% by weight, preferably 0.05 to 42% by weight as a solid content. The concentration (C A) of the metal oxide fine particles (A) small, anti-blocking property becomes insufficient, it is possible to suppress the curling effect is insufficient. The hard coat film haze value is the concentration (C A) of the metal oxide fine particles (A) is too high yield may be deteriorated, or the decrease in transparency, it can also be brought into intimate contact with the scratch resistance, and the substrate is insufficient.
하드코트막 형성용 도포액의 필요에 따라 사용하는 금속산화물미립자(B) 또는 계면활성제로 표면처리된 금속산화물미립자(B)의 농도(CB)는 고형분으로서 18 중량% 이하의 양이고, 바람직하게는 0.05∼18 중량%, 더욱 바람직하게는 0.1∼12 중량%의 범위이다.
The concentration (C B ) of the metal oxide fine particles (B) or surface-treated metal oxide fine particles (B) used in accordance with the need of the hard coat film forming coating liquid is 18% by weight or less as a solid content, preferably Preferably, it is in the range of 0.05 to 18% by weight, more preferably 0.1 to 12% by weight.
상기 농도(CB)가 상기 범위에 있으면 안티-블로킹성, 내찰상성이 뛰어난 하드코트막부 기재를 얻을 수 있다.
When the concentration (C B ) is in the above range, a hard coat film portion substrate excellent in anti-blocking properties and scratch resistance can be obtained.
또한, 금속산화물미립자(B)를 사용하는 경우, 금속산화물입자(A)와 총 농도가 고형분으로서 0.075∼48 중량% 범위가 되도록 사용한다.
In addition, when the metal oxide fine particles (B) are used, the total concentration with the metal oxide particles (A) is used so that the solid content is in the range of 0.075 to 48% by weight.
하드코트막 형성용 도포액의 매트릭스 형성성분의 농도(CM)는 고형분으로서 0.1∼59.7 중량%, 마람직하게는 1∼54 중량%의 범위이다. 매트릭스 형성 성분의 농도(CM)가 너무 낮으면 수득되는 하드코트막의 헤이즈가 악화되거나 투명성이 저하 될 수 있고, 또한 내찰상성 및 기재와의 밀착성이 불충분해지는 경우가 있다. 매트릭스 형성 성분의 농도CM)가 너무 높아도 두께에 따라 다르지만 안티-블로킹성이 불충분하게되고, 컬링 억제 효과가 불충분해질 수 있다.
The concentration (C M ) of the matrix forming component in the coating liquid for forming a hard coat film is in the range of 0.1 to 59.7% by weight, preferably 1 to 54% by weight, as a solid content. If the concentration (C M ) of the matrix forming component is too low, the haze of the obtained hard coat film may deteriorate or the transparency may decrease, and the scratch resistance and adhesion to the substrate may be insufficient. Even if the concentration C M ) of the matrix forming component is too high, it may vary depending on the thickness, but the anti-blocking property may be insufficient, and the curling inhibiting effect may be insufficient.
중합개시제Polymerization initiator
본 발명은 필요에 따라 광중합개시제를 사용할 수 있다.
In the present invention, a photopolymerization initiator may be used as needed.
중합개시제로는 공지의 것을 특별히 제한 없이 사용할 수 있으며, 예를 들면, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디메톡시벤조일)2, 4,4-트리메틸펜틸포스핀옥사이드, 2-히드록시-메틸-2-메틸-페닐-프로판-1-케톤, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, 1-히드록시-사이클로헥실-페닐-케톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모노프로판-1-온 등을 들 수 있다.
Known polymerization initiators may be used without particular limitation, and examples include bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphine oxide, bis(2,6-dimethoxybenzoyl)2, 4,4- Trimethylpentylphosphine oxide, 2-hydroxy-methyl-2-methyl-phenyl-propane-1-ketone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, 1-hydroxy-cyclo Hexyl-phenyl-ketone, 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-monopropan-1-one, and the like.
또한 상기 클러스터 형성제의 농도(CCL)는 고형분으로서 0.0005∼6 중량%, 바람직하게는 0.001∼3 중량%의 범위이다. 클러스터 형성제의 농도(CCL)가 고형분으로서 0.0005 중량% 미만의 경우는 두께에 따라 다르지만 안티-블로킹성이 불충분하게 되는 경우가 있다. 클러스터 형성제의 농도(CCL)가 고형분으로 6 중량%를 초과하여도 수득되는 하드코트막의 헤이즈가 악화되거나 투명성이 저하 될 수 있고 또한 내찰상성 및 기재와의 밀착성이 불충분해질 수 있다.
In addition, the concentration (C CL ) of the cluster forming agent is in the range of 0.0005 to 6% by weight, preferably 0.001 to 3% by weight as a solid content. When the concentration (C CL ) of the cluster forming agent is less than 0.0005% by weight as a solid content, it varies depending on the thickness, but the anti-blocking property may be insufficient. Even if the concentration of the cluster forming agent (C CL ) exceeds 6% by weight as a solid content, the haze of the obtained hard coat film may be deteriorated or the transparency may be lowered, and also scratch resistance and adhesion to the substrate may be insufficient.
상기 클러스터 형성제의 고형분으로서의 농도(CCL)와 상기 금속산화물미립자(A)의 고형분으로서의 농도(CA)의 비 (CCL)/(CA)는 0.0005∼1, 바람직하게는 0.0001∼0.5의 범위이다.
Ratio (C CL) / (C A ) of the solid content of (A C) as a solid content as the concentration (C CL) and the metal oxide fine particles (A) of said cluster agent is 0.0005 to 1, preferably 0.0001 to 0.5 Is the range of.
상기 농도비 (CCL)/(CA)가 클러스터를 형성하지 못하면 막 두께에 따라 다르지만 안티-블로킹성이 불충분해지는 경우가 있다. 농도비 (CCL)/(CA)가 커도 수득되는 하드코트막의 헤이즈가 악화되거나 투명성이 저하될 수 있고, 또한 내찰상성 및 기재와의 밀착성이 불충분해지는 경우가 있다.
If the concentration ratio (C CL )/(C A ) fails to form a cluster, it may vary depending on the film thickness, but the anti-blocking property may be insufficient. Even if the concentration ratio (C CL )/(C A ) is large, the haze of the obtained hard coat film may deteriorate or the transparency may decrease, and there may be cases where the scratch resistance and adhesion to the substrate are insufficient.
상기 하드코트막 형성용 도포액 내의 클러스터(CLP)의 평균 입경(DCLP)은 50∼2,000 nm, 바람직하게는 50∼1500 nm의 범위이다. 하드코트막 형성용 도포액 내의 클러스터(CLP)의 평균 입경(DCLP)이 너무 작으면 두께에 따라 다르지만 안티-블로킹성이 불충분하게되는 경우가 있다. 하드코트막 형성용 도포액 내의 클러스터(CLP)의 평균 입경(DCLP)이 너무 커도 수득되는 하드코트막의 헤이즈가 악화되거나 투명성이 저하 될 수 있고 또한 내찰상성 및 기재와의 밀착성이 불충분해질 수 있다.
The average particle diameter (D CLP ) of the clusters (CL P ) in the coating solution for forming a hard coat film is in the range of 50 to 2,000 nm, preferably 50 to 1500 nm. If the average particle diameter (D CLP ) of the clusters CL P in the coating liquid for forming a hard coat film is too small, it may vary depending on the thickness, but the anti-blocking property may be insufficient. Even if the average particle diameter (D CLP ) of the clusters (CL P ) in the coating liquid for forming the hard coat film is too large, the haze of the obtained hard coat film may deteriorate or the transparency may decrease, and the scratch resistance and adhesion to the substrate may be insufficient. have.
본 발명은 하드코트막 형성용 도포액의 클러스터(CLP)의 평균 입경(DCLP)은 조제한 도포액에 있어서 스팩트리스(주) 사 제조 제타사이저 나노 ZS를 사용하여 측정 할 수 있다.
In the present invention, the average particle diameter (D CLP ) of the cluster (CL P ) of the coating solution for forming a hard coat film can be measured using ZetaSizer Nano ZS manufactured by Spactless Co., Ltd. in the prepared coating solution.
또한 통상의 단분산 입자로는 소정의 요철을 형성 할 수 없다. 본 발명의 클러스터는 응집 입자의 일종인 것으로 불규칙하고 특정되지 않은 응집 입자의 경우에는 하드코트성이 발휘되지 않는다.
In addition, it is impossible to form predetermined irregularities with ordinary monodisperse particles. The cluster of the present invention is a kind of agglomerated particles, and in the case of irregular and unspecified aggregated particles, the hard coat property is not exhibited.
이러한 도포액을 디핑 법, 스프레이 법, 스피너 법, 롤 코팅 법 등의 주지의 방법으로 상기한 기재에 도포하고 건조 가열 처리, 자외선 조사 등에 의해 경화시켜 하드코트막을 형성 할 수 있다.
A hard coat film can be formed by applying such a coating liquid to the above-described substrate by a known method such as a dipping method, a spray method, a spinner method, and a roll coating method, and curing by dry heat treatment or ultraviolet irradiation.
이하 실시예에 의해 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하지만 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다
The present invention will be described in more detail by the following examples, but the present invention is not limited by these examples.
(실시예 1)
(Example 1)
금속산화물미립자(A-1) 분산액의 조제Preparation of metal oxide fine particles (A-1) dispersion
실리카오르가노졸(닛키쇼쿠바이 화성(주) 제조 : 카탈로이드 SI-30; 평균 입자 직경 12nm, SiO2 농도 40.5 중량%, 분산매 : 물, 입자 굴절률 1.46) 1000g에 이온교환수 6000g을 추가하고, 이어서 양이온 교환수지(미츠비시 화학(주) 제조 : SK-1BH) 800g을 첨가하여 1시간 동안 교반하여 탈알칼리 처리하였다.
To 1000 g of silica organosol (manufactured by Nikki Shokubai Chemical Co., Ltd.: Cataloid SI-30; average particle diameter 12 nm, SiO 2 concentration 40.5% by weight, dispersion medium: water, particle refractive index 1.46), 6000 g of ion-exchanged water was added, and then 800 g of a cation exchange resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.: SK-1BH) was added, and the mixture was stirred for 1 hour, followed by dealkalization treatment.
이어서 양이온 교환수지를 분리한 후, 음이온 교환수지(미츠비시 화학(주) 제조 : SANUPC) 400g을 첨가하여 1시간 동안 교반하여 탈음이온 처리하였다. 이어 다시 양이온 교환수지(미츠비시 화학(주) 제조 : SK-1BH) 400g을 첨가하여 1시간 동안 교반하여 탈알칼리 처리하여 SiO2 농도 5 중량%의 실리카 입자(A) 분산액을 제조하였다.
Subsequently, after separating the cation exchange resin, 400 g of an anion exchange resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.: SANUPC) was added, followed by stirring for 1 hour to perform deanionic treatment. Then, 400 g of a cation exchange resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.: SK-1BH) was added again, followed by stirring for 1 hour to deal with alkalizing treatment to prepare a silica particle (A) dispersion having a SiO 2 concentration of 5% by weight.
이 분산액을 한외여과막을 이용하여 메탄올로 용매 치환하여 고형분 농도 40 중량%의 메탄올 분산액을 얻었다.
This dispersion was solvent-substituted with methanol using an ultrafiltration membrane to obtain a methanol dispersion having a solid content concentration of 40% by weight.
이어서 메탄올 분산액 100g에 γ-메타아크릴로일옥시프로필트리메톡시실란(신에츠 실리콘(주) 제조 : KBM-503, SiO2 성분 81.2 중량%) 5.84g을 혼합 한 후, 초순수를 4.2g 첨가하여 50℃에서 6시간 동안 교반하여 고형분 농도 40.5 중량%의 표면처리된 실리카 미립자 분산액을 얻었다.
Then, 5.84 g of γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.: KBM-503, SiO 2 component 81.2% by weight) was mixed with 100 g of the methanol dispersion, and 4.2 g of ultrapure water was added thereto. The mixture was stirred at °C for 6 hours to obtain a surface-treated silica fine particle dispersion having a solid content of 40.5% by weight.
그 후, 회전 증발기에서 메틸이소부틸케톤(MIBK)에 용매 치환하여 고형분 40.5 중량%의 표면처리 실리카 미립자 MIBK 분산액을 얻는다.
Thereafter, the solvent is substituted with methyl isobutyl ketone (MIBK) in a rotary evaporator to obtain a surface-treated silica fine particle MIBK dispersion having a solid content of 40.5% by weight.
이어서 고형분 농도 40.5 중량%의 표면처리 실리카 미립자 MIBK 분산액 100g에 클러스터 형성제로서 아크릴실리콘계 계면활성제(쿠스모토화성(주) 제조 : 데이즈파론 LHP-810, 고형분 농도 10 중량%) 1.61g을 첨가하여 50℃에서 20시간 동안 교반하여 고형분 농도 40.0 중량%의 실리카로 된 금속산화물미립자(A-1) 분산액을 제조하였다.
Then, to 100 g of surface-treated silica fine particles MIBK dispersion having a solid content of 40.5% by weight, 1.61 g of an acrylic-silicone surfactant (manufactured by Kusumoto Chemical Co., Ltd.: Days Faron LHP-810, 10% by weight of solid content) was added to 50 The mixture was stirred at °C for 20 hours to prepare a dispersion of fine metal oxide particles (A-1) made of silica having a solid content of 40.0% by weight.
하드코트막Hard coat film
형성용 도포액 (1)의 제조 Preparation of forming coating liquid (1)
고형분 농도 40.0 중량%의 실리카로 이루어진 금속산화물입자(A-1) 분산액 56.81g과 관능기 수가 9개인 아크릴레이트 수지로 우레탄아크릴레이트올리고머 수지(신나까무라 화학(주) 제조 : NK 올리고 UA-33H 평균 분자량=4,000) 13.58g과 디메틸로일-트리시클로데칸디아크릴레이트(공영사 화학(주) 제조; 라이트 아크릴레이트 DCP-A) 1.51g과 광중합개시제(치바 재팬(주) 제조 : 이루가큐아 184) 0.91g과 PGME 16.86g 및 아세톤 9.43g을 충분히 혼합하여 고형분 농도 37.74 중량%의 하드코트막 형성용 도포액 (1)을 제조하였다.
Urethane acrylate oligomer resin (manufactured by Shinnakamura Chemical Co., Ltd.: NK oligo UA-33H average molecular weight with 56.81 g of a dispersion of metal oxide particles (A-1) composed of silica having a solid content of 40.0% by weight and an acrylate resin having 9 functional groups. =4,000) 13.58g and dimethylloyl-tricyclodecanediacrylate (manufactured by Gongyoung Chemical Co., Ltd.; Light acrylate DCP-A) 1.51g and photopolymerization initiator (manufactured by Chiba Japan Co., Ltd.: Iruga Cure 184) 0.91 g of PGME and 16.86 g of PGME and 9.43 g of acetone were sufficiently mixed to prepare a coating solution (1) for forming a hard coat film having a solid content of 37.74% by weight.
하드코트막 형성용 도포액 (1)에 있어서 클러스터(CLP)의 평균 입자 직경을 측정하고 결과를 표에 나타낸다.
In the coating liquid (1) for forming a hard coat film, the average particle diameter of the clusters (CL P ) was measured, and the results are shown in the table.
하드코트막부Hard coat shogunate
기재 (1)의 조제 Preparation of base (1)
하드코트막 형성용 도포액 (1)을 PET 필름(도요(주) 제조 : 코스모샤인 A4300, 두께 : 188㎛)에 바코터 법(# 8)으로 도포하고, 80℃에서 120분간 건조한 후 300mJ/cm2의 자외선을 조사하여 경화시켜 하드코트막부 기재 (1)을 형성하였다. 하드코트막의 평균 두께는 4㎛이었다. 또한 돌출부의 높이(H 凸)는 27nm이었다.
Coating liquid (1) for forming a hard coat film was applied to a PET film (manufactured by Toyo Co., Ltd.: Cosmoshine A4300, thickness: 188㎛) by a bar coater method (# 8), dried at 80℃ for 120 minutes, and then 300mJ/ It was cured by irradiating with ultraviolet rays of cm 2 to form a hard coat film portion substrate (1). The average thickness of the hard coat film was 4 µm. In addition, the height of the protrusion (H 凸) was 27 nm.
하드코트막부 기재 (1)의 전광선 투과율, 헤이즈, 컬링 특성, 안티 블로킹 성, 밀착성, 연필 경도, 내찰상성을 다음의 방법으로 측정하고 그 결과를 표에 나타낸다. 전광선 투과율 및 헤이즈는 헤이즈 미터(일본전색(주) 제조 NDH-5000)에 의해 측정하였다. 또한, 미 도포 PET 필름의 전광선 투과율은 92.0%이고 헤이즈는 0.9 %이었다.
The total light transmittance, haze, curling property, anti-blocking property, adhesion, pencil hardness, and scratch resistance of the hard coat film portion substrate (1) were measured by the following methods, and the results are shown in the table. The total light transmittance and haze were measured with a haze meter (NDH-5000 manufactured by Nippon Electric Co., Ltd.). In addition, the total light transmittance of the uncoated PET film was 92.0% and the haze was 0.9%.
컬링성Curling
평가 evaluation
14cm×25cm×40㎛(두께)의 TAC 필름 기재에 두께가 7㎛의 하드코트막이 형성 할 수 있도록 하드코트막 형성용 도포액 (1)을 도포하고 20시간 정치시킨 후, 필름을 10cm×10cm 크기로 잘라 도포면을 아래로 하여 필름을 평판 위에 놓고 컬링(만곡)시켜 부상하는 기재의 정점 석판에서의 높이를 측정하고, 이하의 기준으로 평가하였다.
After applying the hard coat film forming coating solution (1) to the 14cm × 25cm × 40㎛ (thick) TAC film substrate so that a 7㎛-thick hard coat film can be formed and allowed to stand for 20 hours, the film is 10cm × 10cm Cut to size, the film was placed on a flat plate with the coated surface facing down, and the height of the floating substrate was measured at the apex slab by curling (curving), and the evaluation was performed according to the following criteria.
(평가 기준)(Evaluation standard)
10mm 미만 : ◎ Less than 10mm: ◎
10∼20mm 미만 : ○ Less than 10-20mm: ○
20∼30mm 미만 : △ Less than 20-30mm: △
30mm 이상 : ×
30mm or more: ×
안티Anti
--
블로킹성Blocking
하드코트막부 기재 (1)의 일부를 2매로 절단하고 하나의 하드코트막부 기재(기재+하드코트막)에 다른 하드코트막부 기재(기재+하드코트막)를 쌓고 1cm2당 10kg의 하중이 걸리도록 추를 실어 24시간 방치한 후 박리의 난이도를 다음과 같은 기준으로 평가하였다.
A part of the hard coat film part (1) is cut into two, and another hard coat film part (substrate + hard coat film) is stacked on one hard coat film part base material (substrate + hard coat film), and a load of 10 kg per 1 cm 2 is applied. After loading the weight so as to stand for 24 hours, the degree of difficulty of peeling was evaluated based on the following criteria.
박리가 매우 쉽다 : ◎ Very easy to peel: ◎
박리를 쉽게 할 수 있다 : ○ Peeling can be easily done: ○
박리가 약간 곤란하다 : △ Peeling is slightly difficult: △
박리할 수 없거나 곤란하다 : ×
Unable or difficult to peel: ×
연필 경도 측정Pencil hardness measurement
JIS-K-5600에 준하여 연필 경도 시험기에 의해 측정했다.
It measured with a pencil hardness tester according to JIS-K-5600.
내찰상성Scratch resistance
측정 Measure
#0000 스틸울을 이용하여 하중 1kg/cm2로 10회 슬라이딩하고 막 표면을 육안 관찰하고, 이하의 기준으로 평가하였다.
Using #0000 steel wool, it was slid 10 times with a load of 1 kg/cm 2 , and the surface of the film was visually observed, and evaluated according to the following criteria.
평가 기준 : Evaluation standard :
표면의 손상이 인정되지 않는다 : ◎ Surface damage is not recognized: ◎
표면에 손상이 경미하게 평가된다 : ○ Damage to the surface is evaluated slightly: ○
표면에 손상이 다수 인정된다 : △ Many damage to the surface is recognized: △
표면이 전체적으로 깎여있다 : ×
The surface is entirely cut: ×
밀착성Adhesion
투명피막부 기재 (1)의 표면에 칼로 가로 세로 1mm 간격으로 11개를 평행하게 손상시켜 손상된 100개의 승목을 만들고 이에 셀로판테이프를 접착하고 이어서 셀로판테이프를 박리할 때 피막이 박리하지 않고 잔존하고 있는 승목의 수를 다음의 4단계로 분류하여 밀착성을 평가하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.
The surface of the transparent film substrate (1) is damaged by 11 parallel damages with a knife at intervals of 1 mm horizontally and vertically, making 100 damaged trees, attaching cellophane tape to them, and then peeling off the cellophane tape. The number of was classified into the following 4 steps to evaluate the adhesion. Table 1 shows the results.
평가 기준 : Evaluation standard :
남은 승목 수 100 개 : ◎ 100 trees remaining: ◎
남은 승목 수 90∼99 개 : ○ 90-99 remaining trees: ○
남은 승목 수 85∼89 개 : △ 85-89 remaining trees: △
남은 승목 수 84 개 이하 : ×
84 or less remaining trees: ×
(실시예 2)
(Example 2)
금속산화물미립자(A-2) 분산액의 조제Preparation of metal oxide fine particles (A-2) dispersion
실시예 1에 있어서, 계면활성제를 0.54g 첨가한 것 이외에는 동일하게 하여 고형분 농도 40.0 중량%의 실리카로 이루어진 금속산화물입자(A-2) 분산액을 제조하였다.
In Example 1, a dispersion of metal oxide particles (A-2) made of silica having a solid content concentration of 40.0% by weight was prepared in the same manner as 0.54 g of surfactant was added.
하드코트막Hard coat film
형성용 도포액 (2)의 조제 Preparation of forming coating liquid (2)
실시예 1에 있어서, 고형분 농도 40.0 중량%의 실리카로 이루어진 금속산화물입자(A-2)를 이용한 것 이외에는 동일하게 하여 고형분 농도 37.74 중량%의 하드코트막 형성용 도포액 (2)를 제조하였다. 하드코트막 형성용 도포액 (2)에 대한 클러스터(CLP)의 평균 입자 직경을 측정하고 결과를 표에 나타낸다.
In Example 1, a coating solution (2) for forming a hard coat film having a solid content of 37.74% by weight was prepared in the same manner except that metal oxide particles (A-2) made of silica having a solid content of 40.0% by weight were used. The average particle diameter of the cluster (CL P ) with respect to the coating liquid for hard coat film formation (2) was measured, and the result is shown in the table.
하드코트막부Hard coat shogunate
기재 (2)의 조제 Preparation of base (2)
실시예 1에서 하드코트막 형성용 도포액 (2)를 이용한 것 이외에는 동일하게 하여 하드코트막부 기재 (2)를 형성하였다. 하드코트막의 평균 두께는 4㎛이었다. 또한 돌출부의 높이(H 凸)는 23nm이었다. 수득된 하드코트막부 기재 (2)에 대한 전광선 투과율, 헤이즈, 컬링성, 안티-블로킹성, 밀착성, 연필 경도, 내찰상성을 측정하고 결과를 표에 표시하였다.
In the same manner as in Example 1, except that the coating liquid for hard coat film formation (2) was used, the hard coat film portion substrate (2) was formed. The average thickness of the hard coat film was 4 µm. In addition, the height of the protrusion (H 凸) was 23 nm. The total light transmittance, haze, curling property, anti-blocking property, adhesion, pencil hardness, and scratch resistance were measured for the obtained hard coat film part substrate (2), and the results are shown in the table.
(실시예 3)
(Example 3)
금속산화물미립자(A-3) 분산액의 조제Preparation of metal oxide fine particles (A-3) dispersion
실시예 1에 있어서, 계면활성제를 8.94g 첨가 한 것 이외에는 동일하게 하여 고형분 농도 40.0 중량%의 실리카로 이루어진 금속산화물미립자(A-3) 분산액을 제조하였다.
In Example 1, a dispersion of metal oxide fine particles (A-3) made of silica having a solid content of 40.0% by weight was prepared in the same manner except that 8.94g of a surfactant was added.
하드코트막Hard coat film
형성용 도포액 (3)의 조제 Preparation of forming coating liquid (3)
실시예 1에 있어서, 고형분 농도 40.0 중량%의 실리카로 이루어진 금속산화물미립자(A-3)를 이용한 것 이외에는 동일하게 하여 고형분 농도 37.74 중량%의 하드코트막 형성용 도포액 (3)을 제조하였다. 하드코트막 형성용 도포액 (3)에 대해 클러스터(CLP)의 평균 입자 직경을 측정하고 결과를 표에 나타낸다.
In Example 1, a coating solution (3) for forming a hard coat film having a solid content of 37.74% by weight was prepared in the same manner except that metal oxide fine particles (A-3) made of silica having a solid content of 40.0% by weight were used. The average particle diameter of clusters (CL P ) was measured for the coating liquid for hard coat film formation (3), and the results are shown in the table.
하드코트막부Hard coat shogunate
기재 (3)의 조제 Preparation of base (3)
실시예 1에서 하드코트막 형성용 도포액 (3)을 이용한 것 이외에는 동일하게 하여 하드코트막부 기재 (3)을 형성하였다. 하드코트막의 평균 두께는 4㎛이었다. 또한 돌출부의 높이(H 凸)은 100nm이었다. 수득된 하드코트막 부착 기재 (3)의 전광선 투과율, 헤이즈, 컬링성, 안티-블로킹성, 밀착성, 연필 경도, 내찰상성을 측정하고 결과를 표에 나타낸다.
In the same manner as in Example 1 except that the coating liquid for hard coat film formation (3) was used, the hard coat film portion base material (3) was formed. The average thickness of the hard coat film was 4 µm. In addition, the height of the protrusion (H 凸) was 100 nm. The total light transmittance, haze, curling property, anti-blocking property, adhesion, pencil hardness, and scratch resistance of the obtained base material 3 with a hard coat film were measured, and the results are shown in the table.
(실시예 4)
(Example 4)
금속산화물미립자(A-4) 분산액의 조제Preparation of metal oxide fine particles (A-4) dispersion
실리카 분산액(닛키쇼꾸바이 화성(주) 제조; SI-550; 평균 입자 직경 5nm, SiO2 농도 40.5 중량%) 1000g에 이온 교환수 6000g을 넣고 이어서 양이온 교환수지(미츠비시 화학(주) 제조 : SK-1BH) 800g을 첨가하여 1시간 동안 교반시켜 탈알칼리 처리하였다.
To 1000 g of silica dispersion (manufactured by Nikki Shokubai Chemical Co., Ltd.; SI-550; average particle diameter 5 nm, SiO 2 concentration 40.5 wt%) was added 6000 g of ion-exchanged water, followed by a cation exchange resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation: SK- 1BH) 800g was added, and the mixture was stirred for 1 hour to be deallocated.
이어 양이온 교환수지로 분리 한 후, 음이온 교환수지(미츠비시 화학(주) 제조 : SANUPC) 400g을 첨가하여 1시간 동안 교반하여 탈음이온 처리하였다. 이어 다시 양이온 교환수지(미츠비시 화학(주) 제조 : SK-1BH) 400g을 첨가하여 1시간 동안 교반하여 탈알칼리 처리하여 SiO2 농도 5 중량%의 실리카 입자(A) 분산액을 제조하였다.
Subsequently, after separation with a cation exchange resin, 400 g of an anion exchange resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.: SANUPC) was added and stirred for 1 hour to deanionic treatment. Then, 400 g of a cation exchange resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.: SK-1BH) was added again, followed by stirring for 1 hour to deal with alkalizing treatment to prepare a silica particle (A) dispersion having a SiO 2 concentration of 5% by weight.
이 분산액을 한외여과막을 이용하여 메탄올로 용매 치환하여 고형분 농도 40 중량%의 메탄올 분산액을 얻었다. 이어서 메탄올 분산액 100g에 γ-메타아크릴로 일옥시프로필트리메톡시실란(신에츠 실리콘(주) 제조 : KBM-503, SiO2 성분 81.2 중량%) 5.84g을 혼합 한 다음, 초순수를 4.2g 첨가하여 50℃에서 6시간 동안 교반하여 고형분 농도 40.5 중량%의 표면처리한 실리카 미립자 분산액을 얻었다.
This dispersion was solvent-substituted with methanol using an ultrafiltration membrane to obtain a methanol dispersion having a solid content concentration of 40% by weight. Then, 5.84 g of γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.: KBM-503, SiO 2 component 81.2% by weight) was mixed with 100 g of the methanol dispersion, and then 4.2 g of ultrapure water was added thereto. The mixture was stirred at °C for 6 hours to obtain a surface-treated silica fine particle dispersion having a solid content of 40.5% by weight.
그 후, 회전 증발기에서 메틸이소부틸케톤(MIBK)으로 용매치환시켜 고형분 40.5 중량%의 표면처리 실리카 미립자 MIBK 분산액으로 한다. 실시예 1에 있어서, 상기 실리카 MIBK 분산액 100g을 이용한 것 이외에는 동일하게 하여 고형분 농도 40.0 중량%의 실리카로 이루어진 금속산화물미립자(A-4) 분산액을 제조하였다.
Then, the solvent was replaced with methyl isobutyl ketone (MIBK) in a rotary evaporator to obtain a surface-treated silica fine particle MIBK dispersion having a solid content of 40.5% by weight. In Example 1, a dispersion of metal oxide fine particles (A-4) made of silica having a solid content concentration of 40.0% by weight was prepared in the same manner except that 100 g of the silica MIBK dispersion was used.
하드코트막Hard coat film
형성용 도포액 (4)의 조제 Preparation of forming coating liquid (4)
실시예 1에 있어서, 고형분 농도 40.0 중량%의 실리카로 이루어진 금속산화물입자(A-4)를 이용한 것 이외에는 동일하게 하여 고형분 농도 37.74 중량%의 하드코트막 형성용 도포액 (4)를 제조하였다. 하드코트막 형성용 도포액 (4)에 대해 클러스터(CLP)의 평균 입자 직경을 측정하고 결과를 표에 나타낸다.
In Example 1, a coating solution (4) for forming a hard coat film having a solid content of 37.74% by weight was prepared in the same manner except that metal oxide particles (A-4) made of silica having a solid content of 40.0% by weight were used. The average particle diameter of clusters (CL P ) was measured for the coating liquid for hard coat film formation (4), and the results are shown in the table.
하드코트막부Hard coat shogunate
기재 (4)의 조제 Preparation of base (4)
실시예 1에서 하드코트막 형성용 도포액 (4)를 이용한 것 이외에는 동일하게 하여 하드코트막부 기재 (4)를 형성하였다. 하드코트막의 평균 두께는 4㎛이었다. 또한 돌출부의 높이(H 凸)는 18nm이었다. 수득된 하드코트막부 기재 (4)의 전광선 투과율, 헤이즈, 컬링성, 안티-블로킹성, 밀착성, 연필 경도, 내찰상성을 측정하고 결과를 표에 나타낸다.
A hard coat film part substrate 4 was formed in the same manner as in Example 1 except that the hard coat film forming coating liquid 4 was used. The average thickness of the hard coat film was 4 µm. Further, the height of the protrusion (H 凸) was 18 nm. The total light transmittance, haze, curling property, anti-blocking property, adhesion, pencil hardness, and scratch resistance of the obtained hard coat film portion substrate 4 were measured, and the results are shown in the table.
(실시예 5)
(Example 5)
금속산화물미립자(A-5) 분산액의 조제Preparation of metal oxide fine particles (A-5) dispersion
실리카 분산액(닛키쇼꾸바이 화성(주) 제조; SI-80P; 평균 입자 직경 80nm, SiO2 농도 40.5 중량%) 1000g에 이온교환수 6000g을 넣고 이어서 양이온 교환수지 (미츠비시 화학(주) 제조 : SK-1BH) 800g을 첨가하여 1시간 동안 교반하여 탈알칼리 처리하였다.
To 1000 g of silica dispersion (manufactured by Nikki Shokubai Chemical Co., Ltd.; SI-80P; average particle diameter 80 nm, SiO 2 concentration 40.5 wt%) was added 6000 g of ion-exchanged water, followed by a cation exchange resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.: SK- 1BH) 800g was added, and the mixture was stirred for 1 hour to be deallocated.
이어 양이온 교환수지로 분리 한 후, 음이온 교환수지(미츠비시 화학(주) 제조 : SANUPC) 400g을 첨가하여 1시간 동안 교반하여 탈음이온 처리하였다. 이어 다시 양이온 교환수지(미츠비시 화학(주) 제조 : SK-1BH) 400g을 첨가하여 1시간 동안 교반하여 탈알칼리 처리하여 SiO2 농도 5 중량%의 실리카 입자(A) 분산액을 제조하였다.
Subsequently, after separation with a cation exchange resin, 400 g of an anion exchange resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.: SANUPC) was added and stirred for 1 hour to deanionic treatment. Then, 400 g of a cation exchange resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.: SK-1BH) was added again, followed by stirring for 1 hour to deal with alkalizing treatment to prepare a silica particle (A) dispersion having a SiO 2 concentration of 5% by weight.
이 분산액을 한외여과막을 이용하여 메탄올로 용매 치환시켜 고형분 농도 40 중량%의 메탄올 분산액을 얻었다. 메탄올 분산액 100g에 γ-메타아크릴로일옥시프로필트리메톡시실란(신에츠 실리콘(주) 제조 : KBM-503, SiO2 성분 81.2 중량%) 5.84g을 혼합한 다음, 초순수 4.2 g 첨가하여 50℃에서 6시간 동안 교반하여 고형분 농도 40.5 중량%의 표면처리된 실리카 미립자 분산액을 얻었다.
This dispersion was solvent-substituted with methanol using an ultrafiltration membrane to obtain a methanol dispersion having a solid content concentration of 40% by weight. 5.84 g of γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.: KBM-503, SiO 2 component 81.2% by weight) was mixed with 100 g of methanol dispersion, and 4.2 g of ultrapure water was added thereto at 50°C. The mixture was stirred for 6 hours to obtain a surface-treated silica fine particle dispersion having a solid content of 40.5% by weight.
그 후, 회전 증발기에서 메틸이소부틸케톤(MIBK)에 용매 치환시켜 고형분 40.5 중량%의 표면처리 실리카 미립자 MIBK 분산액으로 한다. 실시예 1에 있어서 상기 실리카 MIBK 분산액 100g을 이용한 것 이외에는 동일하게 하여 고형분 농도 40.0 중량%의 실리카로 이루어진 금속산화물미립자(A-5) 분산액을 제조하였다.
Thereafter, the solvent is substituted with methyl isobutyl ketone (MIBK) in a rotary evaporator to obtain a surface-treated silica fine particle MIBK dispersion having a solid content of 40.5% by weight. In the same manner as in Example 1 except that 100 g of the silica MIBK dispersion was used, a dispersion of metal oxide fine particles (A-5) made of silica having a solid content of 40.0% by weight was prepared.
하드코트막Hard coat film
형성용 도포액 (5)의 조제 Preparation of forming coating liquid (5)
실시예 1에 있어서, 고형분 농도 40.0 중량%의 실리카로 이루어진 금속산화물입자(A-5)를 이용한 것 이외에는 동일하게 하여 고형분 농도 37.74 중량%인 하드코트막 형성용 도포액 (5)를 제조하였다. 하드코트막 형성용 도포액 (5)에 있어서 클러스터 (CLP)의 평균 입자 직경을 측정하고 결과를 표에 나타낸다.
In Example 1, a coating solution (5) for forming a hard coat film having a solid content of 37.74% by weight was prepared in the same manner except that the metal oxide particles (A-5) made of silica having a solid content of 40.0% by weight were used. In the coating liquid for hard coat film formation (5), the average particle diameter of the clusters (CL P ) was measured, and the results are shown in the table.
하드코트막부Hard coat shogunate
기재 (5)의 조제 Preparation of base (5)
실시예 1에서 하드코트막 형성용 도포액 (5)을 이용한 것 이외에는 동일하게 하여 하드코트막부 기재 (5)를 형성했다. 하드코트막의 평균 두께는 4㎛이었다. 또한 돌출부의 높이(H 凸)는 80nm이었다. 수득된 하드코트막부 기재 (5)의 전광선 투과율, 헤이즈, 컬링성, 안티-블로킹성, 밀착성, 연필 경도, 내찰상성을 측정하고 결과를 표에 나타낸다.
In Example 1, except for using the coating liquid for hard coat film formation (5), a hard coat film portion substrate (5) was formed in the same manner. The average thickness of the hard coat film was 4 µm. Further, the height of the protrusion (H 凸) was 80 nm. The total light transmittance, haze, curling property, anti-blocking property, adhesion, pencil hardness, and scratch resistance of the obtained hard coat film portion substrate (5) were measured, and the results are shown in the table.
(실시예 6)
(Example 6)
금속산화물미립자(A-6) 분산액의 조제Preparation of metal oxide fine particles (A-6) dispersion
실시예 1에서 클러스터 형성제로서 실리콘계 계면활성제(쿠스모토 화성(주) 제조 : 데이즈파론 LS-260, 고형분 농도 20%) 1.61g을 첨가한 것 이외에는 동일하게 하여 고형분 농도 40.0 중량%의 실리카로 이루어진 금속산화물미립자(A-6) 분산액을 제조하였다.
In Example 1, except for adding 1.61 g of a silicone surfactant (manufactured by Kusumoto Chemical Co., Ltd.: Days Faron LS-260, solid content concentration 20%) as a cluster forming agent in Example 1, it was made of silica having a solid content concentration of 40.0% by weight. A dispersion of metal oxide fine particles (A-6) was prepared.
하드코트막Hard coat film
형성용 도포액 (6)의 조제 Preparation of forming coating liquid (6)
실시예 1에 있어서, 고형분 농도 40.0 중량%의 실리카로 이루어진 금속산화물입자(A-6)를 이용한 것 이외에는 동일하게 하여 고형분 농도 37.74 중량%의 하드코트막 형성용 도포액 (6)을 제조하였다. 하드코트막 형성용 도포액 (6)에 있어서 클러스터(CLP)의 평균 입자 직경을 측정하고 결과를 표에 나타낸다.
In Example 1, a coating solution (6) for forming a hard coat film having a solid content of 37.74% by weight was prepared in the same manner except that metal oxide particles (A-6) made of silica having a solid content of 40.0% by weight were used. In the coating liquid for hard coat film formation (6), the average particle diameter of the clusters (CL P ) was measured, and the results are shown in the table.
하드코트막부Hard coat shogunate
기재 (6)의 조제 Preparation of base (6)
실시예 1에서 하드코트막 형성용 도포액 (6)을 이용한 것 이외에는 동일하게 하여 하드코트막부 기재 (6)을 형성했다. 하드코트막의 평균 두께는 4㎛이었다. 또한 돌출부의 높이 (H 凸)는 50nm이었다. 수득된 하드코트막부 기재 (6)의 전광선 투과율, 헤이즈, 컬링성, 안티-블로킹성, 밀착성, 연필 경도, 내찰상성을 측정하고 결과를 표에 나타내었다.
In Example 1, except for using the coating liquid for hard coat film formation (6), a hard coat film portion substrate (6) was formed in the same manner. The average thickness of the hard coat film was 4 µm. In addition, the height of the protrusion (H凸) was 50 nm. The total light transmittance, haze, curling property, anti-blocking property, adhesion, pencil hardness, and scratch resistance of the obtained hard coat film portion substrate 6 were measured, and the results are shown in the table.
(실시예 7)
(Example 7)
하드코트막Hard coat film
형성용 도포액 (7)의 조제 Preparation of forming coating liquid (7)
실시예 1에서 관능기 수가 9개인 아크릴레이트 수지(우레탄아크릴레이트 올리고머수지) 대신에 8게 관능기를 지닌 우레탄아크릴레이트 올리고머수지(신나까무라 화학(주) 제조 : NK 올리고 UA-8LR, 평균 분자량=3,000) 19.41g을 사용하고 PGME를 11.04g 첨가한것 이외에는 동일하게 하여 고형분 농도 37.74 중량%의 하드코트막 형성용 도포액 (7)을 제조하였다. 하드코트막 형성용 도포액 (7)에 있어서 클러스터(CLP)의 평균 입자 직경을 측정하고 결과를 표에 나타낸다.
In Example 1, a urethane acrylate oligomer resin having 8 functional groups instead of an acrylate resin (urethane acrylate oligomer resin) having 9 functional groups (manufactured by Shinnakamura Chemical Co., Ltd.: NK oligo UA-8LR, average molecular weight = 3,000) Except for using 19.41 g and adding 11.04 g of PGME, a coating solution (7) for forming a hard coat film having a solid content concentration of 37.74% by weight was prepared. In the coating liquid for hard coat film formation (7), the average particle diameter of the clusters (CL P ) was measured, and the results are shown in the table.
하드코트막Hard coat film
부착 기재 (7)의 조제 Preparation of attachment base (7)
실시예 1에서 하드코트막 형성용 도포액 (7)을 이용한 것 이외에는 동일하게 하여 하드코트막부 기재 (7)을 형성하였다. 하드코트막의 평균 두께는 4㎛이었다. 또한 돌출부의 높이 (H 凸)는 30nm이었다. 수득된 하드코트막부 기재 (7)의 전광선 투과율, 헤이즈, 컬링성, 안티-블로킹성, 밀착성, 연필 경도, 내찰상성을 측정하고 결과를 표에 나타내었다.
In the same manner as in Example 1, except that the coating liquid for hard coat film formation (7) was used, the hard coat film portion substrate (7) was formed. The average thickness of the hard coat film was 4 µm. Further, the height of the protrusion (H凸) was 30 nm. The total light transmittance, haze, curling property, anti-blocking property, adhesion, pencil hardness, and scratch resistance of the obtained hard coat film portion substrate 7 were measured, and the results are shown in the table.
(실시예 8)
(Example 8)
금속산화물미립자(B-1) 분산액의 조제Preparation of metal oxide fine particles (B-1) dispersion
실리카 졸(닛키쇼꾸바이 화성(주) 제조 : ELCOM V-8901, 평균 입자 직경 120nm, SiO2 농도 20.5 중량%)의 메탄올 분산액에 음이온 계면활성제(다이이치 공업 제약(주) 제조 : 플라이세이프 A212E) 2.05g을 혼합하여 20시간 동안 교반하여 고형분 농도 22.10 중량%의 실리카로 이루어진 계면활성제 처리 금속산화물미립자(B-1) 메탄올 분산액을 제조하였다.
Anionic surfactant in methanol dispersion of silica sol (manufactured by Nikki Shokubai Chemical Co., Ltd.: ELCOM V-8901, average particle diameter 120 nm, SiO 2 concentration 20.5 wt%) (manufactured by Daiichi Kogyo Pharmaceutical Co., Ltd.: FlySafe A212E) 2.05g was mixed and stirred for 20 hours to prepare a surfactant-treated metal oxide fine particle (B-1) methanol dispersion made of silica having a solid content concentration of 22.10% by weight.
하드코트막Hard coat film
형성용 도포액 (8)의 조제 Preparation of forming coating liquid (8)
실시예 1과 동일한 방법으로 제조한 고형분 농도 40.0 중량%의 실리카로 이루어진 금속산화물미립자(A-1) 분산액 56.85g과 고형분 농도 22.10 중량%의 실리카로 이루어진 계면활성제 처리 금속산화물미립자(B-1) 메탄올 분산액 3.42g과 관능기 수가 9개인 아크릴레이트 수지로 우레탄아크릴레이트 올리고머수지(신나까무라 화학(주) 제조 : NK 올리고 UA-33H, 평균 분자량=4,000) 13.58g과 디메틸로일-트리시클로데칸디아크릴레이트(공영사 화학(주) 제조; 라이트 아크릴레이트 DCP-A) 1.51g과 광중합 개시제(치바 재팬(주) 제조 : 이루가큐아 184) 0.91g과 PGME 14.30g 및 아세톤 9.43g을 충분히 혼합하여 고형분 농도 37.74 중량%의 하드코트막 형성용 도포액 (8)을 제조하였다. 하드코트막 형성용 도포액 (8)에 있어서 클러스터(CLP)의 평균 입자 직경을 측정하고 결과를 표에 나타낸다.
A dispersion of 56.85 g of metal oxide fine particles (A-1) composed of silica having a solid content concentration of 40.0% by weight prepared in the same manner as in Example 1 and a surfactant-treated metal oxide fine particles (B-1) composed of silica having a solid content concentration of 22.10% by weight (B-1) Urethane acrylate oligomer resin (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.: NK oligo UA-33H, average molecular weight = 4,000) 13.58 g and dimethylloyl-tricyclodecanediacrylic with 3.42 g of a methanol dispersion and an acrylate resin with 9 functional groups 1.51 g of late (manufactured by Gongyeongsa Chemical Co., Ltd.; Light acrylate DCP-A) and 0.91 g of a photopolymerization initiator (manufactured by Chiba Japan Co., Ltd.: Irugakyua 184), PGME 14.30g, and 9.43g of acetone were sufficiently mixed and solid content A coating solution (8) for forming a hard coat film having a concentration of 37.74% by weight was prepared. In the coating liquid for hard coat film formation (8), the average particle diameter of the clusters (CL P ) was measured, and the results are shown in the table.
하드코트막부Hard coat shogunate
기재 (8)의 조제 Preparation of base (8)
실시예 1에서 하드코트막 형성용 도포액 (8)을 이용한 것 이외에는 동일하게 하여 하드코트막부 기재 (8)을 형성했다. 하드코트막의 평균 두께는 4㎛이었다. 또한 돌출부의 높이(H 凸)는 53nm이었다. 수득된 하드코트막부 기재 (8)의 전광선 투과율, 헤이즈, 컬링성, 안티-블로킹성, 밀착성, 연필 경도, 내찰상성을 측정하고 결과를 표에 나타내었다.
In Example 1, except for using the coating liquid for hard coat film formation (8), a hard coat film portion base material (8) was formed in the same manner. The average thickness of the hard coat film was 4 µm. In addition, the height of the protrusion (H 凸) was 53 nm. The total light transmittance, haze, curling property, anti-blocking property, adhesion, pencil hardness, and scratch resistance of the obtained hard coat film portion substrate (8) were measured, and the results are shown in the table.
(실시예 9)
(Example 9)
금속산화물미립자(A-9) 분산액의 조제Preparation of metal oxide fine particles (A-9) dispersion
순수 800g에 가성 칼륨(아사히 유리(주) 제조 : 순도 85 %) 25g을 용해시킨 용액에 삼산화안티몬(일본 정광(주) 제조; PATOX-K, 순도 98.5 %) 50g을 현탁시켰다. 이 현탁액을 95℃로 가열하고 이어서 과산화수소(림순약(주) 제조 : 특급 농도 35 중량%) 15g을 순수 50g에 희석한 수용액을 9시간 첨가시켜 삼산화안티몬을 용해 후 11시간 숙성시켰다. 이어서 냉각 후, 수득된 용액 800g을 취하고 이 용액을 순수 4800g으로 희석 한 후 양이온 교환수지(미츠비시 화학(주) 제조 : pk-216)에서 pH가 3.5이 될 때까지 처리하여 탈이온 처리하였다. 탈이온 처리하여 얻은 용액을 온도 70℃에서 10시간 숙성한 후 한외여과막으로 농축하여 고형분 농도 14%의 오산화안티몬으로 이루어진 무기산화물계 도전성입자(1) 분산액을 조제하였다. 이 무기산화물계 도전성입자(1) 분산액의 pH는 4.0이었다. 무기산화물계 도전성입자(1)의 평균 입자 지름은 20nm이었다.
In a solution in which 25 g of caustic potassium (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.: 85% purity) was dissolved in 800 g of pure water, 50 g of antimony trioxide (manufactured by Japan Concentrate Co., Ltd.; PATOX-K, purity 98.5%) was suspended. This suspension was heated to 95° C., and then an aqueous solution obtained by diluting 15 g of hydrogen peroxide (manufactured by Limsoon Pharmaceutical Co., Ltd.: 35% by weight of special grade) in 50 g of pure water was added for 9 hours to dissolve antimony trioxide and then aged for 11 hours. Subsequently, after cooling, 800 g of the obtained solution was taken, diluted with 4800 g of pure water, and deionized by treatment with a cation exchange resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.: pk-216) until the pH reached 3.5. The solution obtained by the deionization treatment was aged for 10 hours at a temperature of 70° C. and then concentrated with an ultrafiltration membrane to prepare a dispersion of inorganic oxide-based conductive particles (1) composed of antimony pentoxide having a solid content of 14%. The pH of the dispersion of the inorganic oxide-based conductive particles (1) was 4.0. The average particle diameter of the inorganic oxide-based conductive particles 1 was 20 nm.
이어서, 무기산화물계 도전성입자(1) 분산액 100g을 25℃로 조정시켜 테트라에톡시실란(타마 화학(주) 제조 : 정규산 에틸, SiO2 성분 28.8 중량%) 2.5g을 3분으로 첨가한 후 30분간 교반을 실시하였다. 그 후 에탄올 100g을 1분에 걸쳐 첨가하고, 50℃로 30분간 가열, 3시간 가열 처리를 실시하였다. 이때 고형분 농도는 7 중량%이었다.
Then, by adjusting 100 g of the dispersion of inorganic oxide-based conductive particles (1) to 25°C, 2.5 g of tetraethoxysilane (manufactured by Tama Chemical Co., Ltd.: regular acid ethyl, SiO 2 component 28.8% by weight) was added in 3 minutes. Stirring was performed for 30 minutes. Then, 100 g of ethanol was added over 1 minute, heated at 50° C. for 30 minutes, and heated for 3 hours. At this time, the solid content concentration was 7% by weight.
이어 한외여과막에서 분산매인 물, 에탄올을 에탄올로 치환하고 고형분 농도 30 중량%의 유기 규소 화합물로 표면 처리된 무기산화물계 도전성입자(1) 분산액을 조제하였다.
Subsequently, a dispersion of inorganic oxide-based conductive particles (1), which was surface-treated with an organosilicon compound having a solid content concentration of 30% by weight, was prepared by substituting ethanol for water and ethanol as dispersion media in an ultrafiltration membrane.
이어서, 에탄올 분산액 100g에 γ-메타 아크릴로일옥시프로필트리메톡시실란(신에츠 실리콘(주) 제조 : KBM-503, SiO2 성분 81.2 중량%) 5.84g을 혼합한 다음, 초순수 4.2g을 첨가하여 50℃에서 6시간 동안 교반하여 고형분 농도 40.5 중량%의 표면 처리한 실리카미립자분산액을 수득하였다.
Next, 5.84 g of γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.: KBM-503, SiO 2 component 81.2% by weight) was mixed with 100 g of the ethanol dispersion, and then 4.2 g of ultrapure water was added. The mixture was stirred at 50° C. for 6 hours to obtain a surface-treated silica fine particle dispersion having a solid content of 40.5% by weight.
그 후, 회전 증발기에서 메틸이소부틸케톤(MIBK)에 용매치환시켜 고형분 40.5 중량%의 표면처리 실리카미립자 MIBK 분산액으로 한다. 실시예 1에 있어서, 상기 표면처리된 무기산화물계 도전성입자 MIBK 분산액 100g을 이용한 것 이외에는 동일하게 하여 고형분 농도 40.0 중량%의 표면처리한 무기산화물계 도전성입자(A- 9) 분산액을 제조하였다.
Thereafter, the solvent was substituted with methyl isobutyl ketone (MIBK) in a rotary evaporator to obtain a surface-treated silica fine particle MIBK dispersion having a solid content of 40.5% by weight. In Example 1, a dispersion of surface-treated inorganic oxide-based conductive particles (A-9) having a solid content concentration of 40.0% by weight was prepared in the same manner, except that 100 g of the surface-treated inorganic oxide-based conductive particle MIBK dispersion was used.
하드코트막Hard coat film
형성용 도포액 (9)의 조제 Preparation of forming coating liquid (9)
실시예 1에 있어서, 고형분 농도 40.0 중량%의 표면처리한 무기산화물계 도전성입자(A-9)를 이용한 것 이외에는 동일하게 하여 고형분 농도 37.74 중량%의 하드코트막 형성용 도포액 (9)를 제조하였다. 하드코트막 형성용 도포액 (9)에 있어서 클러스터 (CLP)의 평균 입자 직경을 측정하고 결과를 표에 나타낸다.
In Example 1, except for using the surface-treated inorganic oxide conductive particles (A-9) having a solid content concentration of 40.0% by weight, a coating solution (9) for forming a hard coat film having a solid content concentration of 37.74% by weight was prepared in the same manner. I did. In the coating liquid for hard coat film formation (9), the average particle diameter of the clusters (CL P ) was measured, and the results are shown in the table.
하드코트막부Hard coat shogunate
기재 (9)의 조제 Preparation of base (9)
실시예 1에서 하드코트막 형성용 도포액 (9)를 이용한 것 이외에는 동일하게 하여 하드코트막부 기재 (9)를 형성하였다. 하드코트막의 평균 두께는 4㎛이었다. 또한 돌출부의 높이(H 凸)는 25nm이었다. 얻어진 하드코트막부 기재 (9)의 전광선 투과율, 헤이즈, 컬링성, 안티-블로킹성, 밀착성, 연필 경도, 내찰상성을 측정하고 결과를 표에 나타내었다.
In Example 1, a hard coat film portion substrate 9 was formed in the same manner, except that the hard coat film forming coating liquid 9 was used. The average thickness of the hard coat film was 4 µm. In addition, the height of the protrusion (H 凸) was 25 nm. The total light transmittance, haze, curling property, anti-blocking property, adhesion, pencil hardness, and scratch resistance of the obtained hard coat film portion substrate 9 were measured, and the results are shown in the table.
(실시예 10)
(Example 10)
하드코트막Hard coat film
형성용 도포액 (10)의 조제 Preparation of forming coating liquid (10)
고형분 농도 40.0 중량%의 실리카로 이루어진 금속산화물입자(A-1) 분산액 47.49g과 관능기 수가 9개인 아크릴레이트 수지로 우레탄아크릴레이트 올리고머수지(신나까무라 화학(주) 제조 : NK 올리고 UA-33H, 평균 분자량 = 4,000) 16.98g과 디메틸로일-트리시클로데칸디아크릴레이트(공영사 화학(주) 제조; 라이트 아크릴 레이트 DCP-A) 1.89g과 광중합 개시제(치바 재팬(주) 제조 : 이루가큐아 184) 1.89g과 PGME 22.18g 및 아세톤 9.43g을 충분히 혼합하여 고형분 농도 37.74 중량%의 하드코트막 형성용 도포액 (1)을 제조하였다. 하드코트막 형성용 도포액 (10)에 있어서 클러스터(CLP)의 평균 입자 직경을 측정하고 결과를 표에 나타낸다.
Urethane acrylate oligomer resin (manufactured by Shinnakamura Chemical Co., Ltd.) with 47.49 g of a dispersion of metal oxide particles (A-1) consisting of silica with a solid content of 40.0% by weight and 9 functional groups. NK oligo UA-33H, average Molecular weight = 4,000) 16.98 g and dimethylloyl-tricyclodecane diacrylate (manufactured by Gongyeongsa Chemical Co., Ltd.; light acrylate DCP-A) 1.89g and a photopolymerization initiator (manufactured by Chiba Japan Co., Ltd.: Irugakyua 184) ) 1.89g, PGME 22.18g, and acetone 9.43g were sufficiently mixed to prepare a coating solution (1) for forming a hard coat film having a solid content concentration of 37.74% by weight. In the coating liquid for hard coat film formation (10), the average particle diameter of the clusters (CL P ) was measured, and the results are shown in the table.
하드코트막부Hard coat shogunate
기재 (10)의 조제 Preparation of base (10)
실시예 1에서 하드코트막 형성용 도포액 (10)을 이용한 것 이외에는 동일하게 하여 하드코트막부 기재 (10)을 형성했다. 하드코트막의 평균 두께는 4㎛이었다. 또한 돌출부의 높이(H 凸)는 20nm이었다. 수득된 하드코트막부 기재 (10)의 전광선 투과율, 헤이즈, 컬링성, 안티-블로킹성, 밀착성, 연필 경도, 내찰상성을 측정하고 결과를 표에 나타내었다.
In Example 1, a hard coat film portion substrate 10 was formed in the same manner except that the hard coat film forming coating liquid 10 was used. The average thickness of the hard coat film was 4 µm. In addition, the height of the protrusion (H 凸) was 20 nm. The total light transmittance, haze, curling property, anti-blocking property, adhesion, pencil hardness, and scratch resistance of the obtained hard coat film portion substrate 10 were measured, and the results are shown in the table.
(실시예 11)
(Example 11)
하드코트막Hard coat film
형성용 도포액 (11)의 조제 Preparation of forming coating liquid (11)
고형분 농도 40.0 중량%의 실리카로 이루어진 금속산화물입자(A-1) 분산액 61.46g과 관능기 수가 9개인 아크릴레이트 수지로 우레탄 아크릴레이트 올리고머수지(신나까무라 화학(주) 제조 : NK 올리고 UA-33H, 평균 분자량 = 4,000) 11.89g과 디메틸로일-트리시클로데칸디아크릴레이트(공영사 화학 (주) 제조; 라이트 아크릴 레이트 DCP-A) 1.32g과 광중합 개시제(치바 재팬(주) 제조 : 이루가큐아 184) 0.79g과 PGME 14.20g 및 아세톤 9.43g을 충분히 혼합하여 고형분 농도 37.74 중량%의 하드코트막 형성용 도포액 (11)을 제조하였다. 하드코트막 형성용 도포액 (11)에 있어서 클러스터(CLP)의 평균 입자 직경을 측정하고 결과를 표에 나타낸다.
A urethane acrylate oligomer resin (manufactured by Shinnakamura Chemical Co., Ltd.) with 61.46 g of a dispersion of metal oxide particles (A-1) composed of silica with a solid content of 40.0% by weight and 9 functional groups. Molecular weight = 4,000) 11.89 g and dimethylloyl-tricyclodecane diacrylate (manufactured by Gongyeongsa Chemical Co., Ltd.; 1.32g of light acrylate DCP-A) and photopolymerization initiator (manufactured by Chiba Japan Co., Ltd.: Irugakyua 184) ) 0.79g, PGME 14.20g, and acetone 9.43g were sufficiently mixed to prepare a coating solution (11) for forming a hard coat film having a solid content concentration of 37.74% by weight. In the coating liquid for hard coat film formation (11), the average particle diameter of the clusters (CL P ) was measured, and the results are shown in the table.
하드코트막부Hard coat shogunate
기재 (11)의 조제 Preparation of base material (11)
실시예 1에서 하드코트막 형성용 도포액 (11)을 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 하드코트막부 기재 (11)을 형성하였다. 하드코트막의 평균 두께는 4㎛이었다. 또한 돌출부의 높이(H 凸)는 80nm이었다. 수득된 하드코트막부 기재 (11)의 전광선 투과율, 헤이즈, 컬링성, 안티-블로킹성, 밀착성, 연필 경도, 내찰상성을 측정하고 결과를 표에 나타내었다.
A hard coat film portion substrate 11 was formed in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid 11 for hard coat film formation was used. The average thickness of the hard coat film was 4 µm. Further, the height of the protrusion (H 凸) was 80 nm. The total light transmittance, haze, curling property, anti-blocking property, adhesion, pencil hardness, and scratch resistance of the obtained hard coat film portion substrate 11 were measured, and the results are shown in the table.
(비교예 1)
(Comparative Example 1)
금속산화물미립자(Metal oxide fine particles (
RARA
-1) 분산액의 조제-1) Preparation of dispersion
실시예 1에서 클러스터 형성제로서 아크릴실리콘계 계면활성제를 사용하지 않은 것 이외에는 동일하게 하여 고형분 농도 40.0 중량%의 실리카로 이루어진 금속산화물미립자(RA-1) 분산액을 조제하였다.
A dispersion of metal oxide fine particles (RA-1) made of silica having a solid content of 40.0% by weight was prepared in the same manner as in Example 1 except that an acrylic-silicone-based surfactant was not used as the cluster forming agent.
하드코트막Hard coat film
형성용 도포액 ( Forming coating liquid (
R1R1
)의 조제) Of
실시예 1에 있어서 고형분 농도 40.0 중량%의 실리카로 이루어진 금속산화물미립자(RA-1) 분산액을 사용한 것 이외에는 동일하게 하여 고형분 농도 37.74 중량%의 하드코트막 형성용 도포액 (R1)을 제조하였다. 하드코트막 형성용 도포액 (R1)에 있어서 클러스터(CLP)의 평균 입자 직경을 측정하고 결과를 표에 나타낸다.
In Example 1, a coating solution for forming a hard coat film (R1) having a solid content of 37.74% by weight was prepared in the same manner as in Example 1 except that the dispersion of metal oxide fine particles (RA-1) made of silica having a solid content of 40.0% by weight was used. In the coating liquid for hard coat film formation (R1), the average particle diameter of the clusters (CL P ) was measured, and the results are shown in the table.
하드코트막부Hard coat shogunate
기재 ( Materials (
R1R1
)의 조제) Of
실시예 1에서 하드코트막 형성용 도포액 (R1)을 사용한 것 이외에는 동일하게 하여 하드코트막부 기재 (R1)을 형성하였다. 하드코트막의 평균 두께는 4㎛이었다. 또한 돌출부의 높이(H 凸)는 10nm이었다. 수득된 하드코트막부 기재 (R1)의 전광선 투과율, 헤이즈, 컬링성, 안티-블로킹성, 밀착성, 연필 경도, 내찰상성을 측정하고 결과를 표에 나타내었다.
In Example 1, except that the coating liquid for hard coat film formation (R1) was used, a hard coat film portion base material (R1) was formed in the same manner. The average thickness of the hard coat film was 4 µm. In addition, the height of the protrusion (H 凸) was 10 nm. The total light transmittance, haze, curling property, anti-blocking property, adhesion, pencil hardness, and scratch resistance of the obtained hard coat film part substrate (R1) were measured, and the results are shown in the table.
(비교예 2)
(Comparative Example 2)
금속산화물미립자(Metal oxide fine particles (
RARA
-2) 분산액의 조제-2) Preparation of dispersion
실시예 1에서 클러스터 형성제로서 아크릴실리콘계 계면활성제(쿠스모토 화성(주) 제조 : 데이즈파론 LHP-810, 고형분 농도 10 중량%) 100.0g을 첨가하여 50℃에서 20시간 동안 교반하여 고형분 농도 40.0 중량%의 실리카로 이루어진 금속산화물미립자(RA-2) 분산액을 제조하였다.
In Example 1, 100.0 g of an acrylic-silicone-based surfactant (manufactured by Kusumoto Chemical Co., Ltd.: Days Faron LHP-810, solid content 10% by weight) was added and stirred at 50° C. for 20 hours to 40.0 weight of solid content A dispersion of metal oxide fine particles (RA-2) consisting of% silica was prepared.
하드코트막Hard coat film
형성용 도포액 ( Forming coating liquid (
R2R2
)의 조제) Of
실시예 1에 있어서 고형분 농도 40.0 중량%의 실리카로 이루어진 금속산화물미립자(RA-2) 분산액을 사용한 것 이외에는 동일하게 하여 고형분 농도 37.74 중량%의 하드코트막 형성용 도포액 (R2)를 제조하였다. 하드코트막 형성용 도포액 (R2)에 있어서 클러스터(CLP)의 평균 입자 직경을 측정하고 결과를 표에 나타낸다.
A coating solution (R2) for forming a hard coat film having a solid content of 37.74% by weight was prepared in the same manner as in Example 1 except that the dispersion of metal oxide fine particles (RA-2) made of silica having a solid content of 40.0% by weight was used. In the coating liquid for hard coat film formation (R2), the average particle diameter of the clusters (CL P ) was measured, and the results are shown in the table.
하드코트막부Hard coat shogunate
기재 ( Materials (
R2R2
)의 조제) Of
실시예 1에서 하드코트막 형성용 도포액 (R2)를 사용한 것 이외에는 동일하게 하여 하드코트막부 기재 (R2)를 형성하였다. 하드코트막의 평균 두께는 4㎛이었다. 또한 돌출부의 높이(H 凸)는 1000nm이었다. 수득된 하드코트막부 기재 (R2)에 대해 전광선 투과율, 헤이즈, 컬링성, 안티-블로킹성, 밀착성, 연필 경도, 내찰상 성을 측정하고 결과를 표에 나타내었다.
A hard coat film part base material (R2) was formed in the same manner as in Example 1 except that the hard coat film forming coating liquid (R2) was used. The average thickness of the hard coat film was 4 µm. In addition, the height of the protrusion (H 凸) was 1000 nm. The total light transmittance, haze, curling property, anti-blocking property, adhesion, pencil hardness, and scratch resistance were measured for the obtained hard coat film part substrate (R2), and the results are shown in the table.
(비교예 3)
(Comparative Example 3)
하드코트막Hard coat film
형성용 도포액 ( Forming coating liquid (
R3R3
)의 조제) Of
고형분 농도 40.0 중량%의 실리카로 이루어진 금속산화물입자(A-1) 분산액 0.47g과 관능기 수가 9개인 아크릴레이트 수지로 우레탄아크릴레이트 올리고머수지 (신나까무라 화학 (주) 제조 : NK 올리고 UA-33H 평균 분자량=4,000) 33.80g과 디메틸로일-트리시클로데칸디아크릴레이트(공영사 화학(주) 제조; 라이트 아크릴 레이트 DCP-A) 3.76g과 광중합 개시제(치바 재팬(주) 제조 : 이루가큐아 184) 2.25g과 PGME50.28g 및 아세톤 9.43g을 충분히 혼합하여 고형분 농도 37.74 중량%의 하드코트막 형성용 도포액 (R3)를 제조하였다. 하드코트막 형성용 도포액 (R3)에 대해 클러스터(CLP)의 평균 입자 직경을 측정하고 결과를 표에 나타낸다.
Urethane acrylate oligomer resin with 0.47 g of a dispersion of metal oxide particles (A-1) consisting of silica with a solid content of 40.0% by weight and an acrylate resin with 9 functional groups (manufactured by Shinnakamura Chemical Co., Ltd.: NK oligo UA-33H average molecular weight =4,000) 33.80g and dimethylloyl-tricyclodecanediacrylate (manufactured by Gongyeongsa Chemical Co., Ltd.; light acrylate DCP-A) 3.76g and photopolymerization initiator (manufactured by Chiba Japan Co., Ltd.: Irugakyua 184) 2.25g, PGME50.28g, and 9.43g of acetone were sufficiently mixed to prepare a coating solution (R3) for forming a hard coat film having a solid content of 37.74% by weight. The average particle diameter of clusters (CL P ) was measured for the coating liquid for hard coat film formation (R3), and the results are shown in the table.
하드코트막부Hard coat shogunate
기재 ( Materials (
R3R3
)의 조제) Of
실시예 1에서 하드코트막 형성용 도포액 (R3)을 사용한 것 이외에는 동일하게 하여 하드코트막부 기재 (R3)를 형성하였다. 하드코트막의 평균 두께는 4㎛이었다. 또한 돌출부의 높이(H 凸)는 12nm이었다. 수득된 하드코트막부 기재 (R3)의 전광선 투과율, 헤이즈, 컬링성, 안티-블로킹성, 밀착성, 연필 경도, 내찰상성을 측정하고 결과를 표에 나타낸다.
A hard coat film portion base material (R3) was formed in the same manner as in Example 1 except that the hard coat film forming coating liquid (R3) was used. The average thickness of the hard coat film was 4 µm. In addition, the height of the protrusion (H 凸) was 12 nm. The total light transmittance, haze, curling property, anti-blocking property, adhesion, pencil hardness, and abrasion resistance of the obtained hard coat film portion substrate (R3) were measured, and the results are shown in the table.
(비교예 4)
(Comparative Example 4)
하드코트막Hard coat film
형성용 도포액 ( Forming coating liquid (
R4R4
)의 조제) Of
고형분 농도 40.0 중량%의 실리카로 이루어진 금속산화물입자(A-1) 분산액 80.11g과 관능기 수가 9개인 아크릴레이트 수지로 우레탄아크릴레이트 올리고머수지(신나까무라 화학(주) 제조 : NK 올리고 UA-33H 평균 분자량=4,000) 15.09g과 디메틸로일-트리시클로데칸디아크릴레이트(공영사 화학(주) 제조; 라이트 아크릴 레이트 DCP-A) 0.57g과 광중합 개시제(치바 재팬(주) 제조 : 이루가큐아 184) 0.34g과 PGME3.56g 및 아세톤 9.43g을 충분히 혼합하여 고형분 농도 37.74 중량%의 하드코트막 형성용 도포액 (R4)를 제조하였다. 하드코트막 형성용 도포액 (R4)에 대해 클러스터(CLP)의 평균 입자 직경을 측정하고 결과를 표에 나타낸다.
Urethane acrylate oligomer resin (manufactured by Shinnakamura Chemical Co., Ltd.) with 80.11 g of a dispersion of metal oxide particles (A-1) consisting of silica with a solid content of 40.0% by weight and 9 functional groups. =4,000) 15.09g and dimethylloyl-tricyclodecane diacrylate (manufactured by Gongyeongsa Chemical Co., Ltd.; 0.57g of light acrylate DCP-A) and photopolymerization initiator (manufactured by Chiba Japan Co., Ltd.: Irugakyua 184) 0.34g, PGME3.56g, and 9.43g of acetone were sufficiently mixed to prepare a coating solution (R4) for forming a hard coat film having a solid content of 37.74% by weight. The average particle diameter of clusters (CL P ) was measured for the coating liquid for hard coat film formation (R4), and the results are shown in the table.
하드코트막Hard coat film
부착 기재 ( Attachment base (
R4R4
)의 조제) Of
실시예 1에서 하드코트막 형성용 도포액 (R4)를 사용한 것 이외에는 동일하게 하여 하드코트막부 기재 (R4)를 형성하였다. 하드코트막의 평균 두께는 4㎛이었다. 또한 돌출부의 높이(H 凸)는 900nm이었다. 수득된 하드코트막부 기재 (R4)에 대해 전광선 투과율, 헤이즈, 컬링성, 안티-블로킹성, 밀착성, 연필 경도, 내찰상성을 측정하고 결과를 표에 나타낸다. A hard coat film part base material (R4) was formed in the same manner as in Example 1 except that the hard coat film forming coating liquid (R4) was used. The average thickness of the hard coat film was 4 µm. In addition, the height of the protrusion (H 凸) was 900 nm. The total light transmittance, haze, curling property, anti-blocking property, adhesion, pencil hardness, and scratch resistance were measured for the obtained hard coat film part substrate (R4), and the results are shown in the table.
Claims (17)
상기 하드코트막은 금속산화물미립자(A)의 클러스터(CL), 매트릭스 성분 및 클러스터 형성제로 이루어지고,
상기 금속산화물미립자(A)의 평균 입경(DA)은 5∼200nm이고,
상기 클러스터 형성제는 실리콘계 계면활성제, 아크릴실리콘계 계면활성제, 아크릴계 계면활성제, 인산에스테르계 계면활성제 또는 폴리옥시에틸렌알킬아민에테르계 계면활성제에서 선택된 적어도 1종 이상의 계면활성제이고,
상기 클러스터(CL)는 하드코트막 표면에 높이 15∼200nm의 돌출부를 형성하고,
상기 클러스터의 평균 입경은 50∼2,000nm임을 특징으로 하는 하드코트막부 기재에 있어서,
상기 금속산화물미립자(A) 이외에도 계면활성제로 처리된 평균입자지름이 5∼300nm의 범위에 있는 금속산화물미립자(B)를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 하드코트막부 기재.
Consisting of a substrate and a hard coat film formed on the substrate,
The hard coat film is made of a cluster (CL) of metal oxide fine particles (A), a matrix component, and a cluster forming agent,
The average particle diameter (D A ) of the metal oxide fine particles ( A ) is 5 to 200 nm,
The cluster forming agent is at least one surfactant selected from a silicone-based surfactant, an acrylic silicone-based surfactant, an acrylic surfactant, a phosphate ester-based surfactant, or a polyoxyethylenealkylamine ether-based surfactant,
The cluster (CL) forms a protrusion having a height of 15 to 200 nm on the surface of the hard coat film,
In the hard coat film portion substrate, characterized in that the average particle diameter of the cluster is 50 to 2,000 nm,
In addition to the metal oxide fine particles (A), the hard coat film portion substrate, characterized in that it further comprises metal oxide fine particles (B) having an average particle diameter in the range of 5 to 300 nm treated with a surfactant.
The method according to claim 1, wherein the content (W A ) of the metal oxide fine particles (A) in the hard coat film is in the range of 0.5 to 70% by weight as a solid content, and the content (W M ) of the matrix component is 20 to 99 as a solid content. It is in the range of weight %, and the content of the cluster forming agent (W CL ) is in the range of 0.01 to 10% by weight as a solid content.
The method of claim 1, wherein the metal oxide fine particles (A) are silica, alumina, zirconia, titanium oxide, antimony pentoxide, boria, antimony-doped tin oxide, indoping tin oxide, tin-doped indium oxide, or a composite oxide thereof or a mixture thereof. Hard coat film substrate, characterized in that selected from.
The hard coat layer substrate according to claim 1, wherein the average thickness of the hard coat layer is in the range of 0.5 to 20 μm.
The hard coat layer substrate according to claim 1, wherein the difference in refractive index between the refractive index of the substrate and the refractive index of the hard coat layer is 0.3 or less.
상기 금속산화물미립자(A)의 농도(CA)는 고형분으로서 0.025∼48 중량 % 범위이고, 상기 매트릭스 형성성분의 농도(CM)는 고형분으로서 1∼59.7 중량 % 범위이며, 상기 클러스터 형성제의 농도(CCL)는 고형분으로서 0.0005∼6 중량 %의 범위이며,
전체 고형분 농도는 1∼60 중량%의 범위이고,
상기 클러스터 형성제는 실리콘계 계면활성제, 아크릴실리콘계 계면활성제, 아크릴계 계면활성제, 인산에스테르계 계면활성제 또는 폴리옥시에틸렌알킬아민에테르계 계면활성제에서 선택된 1종 이상의 계면활성제이며,
금속산화물미립자(A)가 클러스터를 형성하고,
상기 클러스터의 평균 입경이 50∼2,000nm임을 특징으로 하는 하드코트막 형성용 도포액에 있어서,
상기 금속산화물미립자(A) 이외에도 계면활성제로 처리된 평균입자지름이 5∼300nm의 범위에 있는 금속산화물미립자(B)를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 하드코트막 형성용 도포액.
Including metal oxide fine particles (A) having an average particle diameter of 5 to 200 nm, a matrix forming component, a cluster forming agent and a dispersion medium,
The concentration (C A ) of the metal oxide fine particles (A) is in the range of 0.025 to 48% by weight as a solid content, and the concentration (C M ) of the matrix forming component is in the range of 1 to 59.7% by weight as a solid content, The concentration (C CL ) is in the range of 0.0005 to 6% by weight as a solid content,
The total solid content concentration is in the range of 1 to 60% by weight,
The cluster forming agent is at least one surfactant selected from a silicone-based surfactant, an acrylic silicone-based surfactant, an acrylic surfactant, a phosphate ester-based surfactant, or a polyoxyethylenealkylamine ether-based surfactant,
Metal oxide fine particles (A) form a cluster,
In the coating liquid for forming a hard coat film, characterized in that the average particle diameter of the cluster is 50 to 2,000 nm,
In addition to the metal oxide fine particles (A), the coating liquid for forming a hard coat film further comprises metal oxide fine particles (B) having an average particle diameter in the range of 5 to 300 nm treated with a surfactant.
The method of claim 10, wherein the ratio (C CL )/(C A ) between the concentration of the cluster forming agent (C CL ) and the concentration (C A ) of the metal oxide fine particles ( A ) is in the range of 0.0005 to 1. Coating liquid for forming a hard coat film.
The hard coat film part base material according to claim 1, wherein the matrix component comprises a urethane acrylate resin.
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