KR20070061497A - Wet gas scrubber with rotating supplier of cleaning liquid - Google Patents

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    • B01D53/78—Liquid phase processes with gas-liquid contact

Abstract

A wet gas scrubber which can uniformly feed the cleaning liquid even without spraying the cleaning liquid at high pressure by fundamentally solving a cleaning liquid discharge problem generated when a cleaning liquid is sprayed at high pressure by nozzles is provided. A wet gas scrubber comprises rotating feeding parts(71) rotatably installed on a plurality of cleaning liquid inflow pipes(61) vertically installed between a gas inlet and a gas outlet. The rotating feeding parts comprise: a distribution pipe(73) which is connected to the cleaning liquid inflow pipe such that the distribution pipe is in communication with the cleaning liquid inflow pipe; a bearing(74) through which the rotating feeding part is connected to the distribution pipe; and a pair of hollow feeding bars(72a,72b) which are in communication with the cleaning liquid inflow pipe. The feeding bars have: discharge ports(76a,76b) formed thereon in opposite directions; adjusting openings(78a,78b) formed in free ends thereof oppositely to the discharge ports; and adjusting valves(77a,77b) formed thereon to adjust a discharge amount of a cleaning liquid through the adjusting openings.

Description

세정액 회전 공급부를 구비한 습식 가스 스크러버{WET GAS SCRUBBER WITH ROTATING SUPPLIER OF CLEANING LIQUID}WET GAS SCRUBBER WITH ROTATING SUPPLIER OF CLEANING LIQUID}

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 스크러버의 단면도;1 is a cross-sectional view of a gas scrubber according to an embodiment of the present invention;

도 2는 도 1의 회전 공급부의 확대도;2 is an enlarged view of the rotational supply of FIG. 1;

도 3은 도 2의 회전 공급부의 회전동작을 나타내는 평면도이다. 3 is a plan view illustrating a rotation operation of the rotation supply unit of FIG. 2.

[도면의 주요부분에 대한 부호의 설명][Explanation of symbols on the main parts of the drawings]

11: 하우징 21: 가스 유입구11: housing 21: gas inlet

22: 가스 배출구 40: 충진물 층22 gas outlet 40 fill layer

61: 세정액 유입관 71: 회전 공급부61: cleaning liquid inlet tube 71: rotary supply unit

72a, 72b: 공급 막대 76a, 76b: 배출구72a, 72b: supply bar 76a, 76b: outlet

77a, 77b: 조절 밸브 78a, 78b: 조절 개구77a, 77b: regulating valve 78a, 78b: regulating opening

81: 기액 분리기81: gas-liquid separator

본 발명은 습식 가스 스크러버에 관한 것으로, 더 구체적으로는 오염 가스의 세정을 위한 세정액을 저속 회전 공급부에 의하여 저압으로 공급하는 습식 가스 스크러버에 관한 것이다. The present invention relates to a wet gas scrubber, and more particularly to a wet gas scrubber for supplying the cleaning liquid for cleaning the contaminated gas at low pressure by a low speed rotation supply.

습식 가스 스크러버는 반도체 제조 과정 등에서 발생하는 오염된 가스를 세정액과 접촉시켜 유해 가스나 악취 성분 등을 제거하는 가스 정화 장치이다. The wet gas scrubber is a gas purifying apparatus that removes harmful gases, odor components, etc. by bringing a contaminated gas generated in a semiconductor manufacturing process into contact with a cleaning liquid.

종래의 습식 가스 스크러버에서는 다수의 노즐 분사구가 형성된 고정된 공급 막대을 통하여 세정액을 공급하였으며, 세정액을 넓은 범위에 걸쳐 분사하기 위하여 고압 펌프(1.5kgf/cm2)로 가압 분사하였다. 그러나, 이 경우 노즐 끝에서 세정액이 비말하여 상승하는 가스와 함께 대기중으로 배출되어 비산됨으로써 대기가 오염되고 세정액이 손실되는 문제점이 있었다. In the conventional wet gas scrubber, the cleaning liquid was supplied through a fixed supply bar having a plurality of nozzle injection holes, and was pressurized with a high pressure pump (1.5 kgf / cm 2 ) to spray the cleaning liquid over a wide range. However, in this case, there is a problem in that the air is polluted and the cleaning liquid is lost by being discharged and scattered into the atmosphere with the gas rising by splashing at the nozzle end.

이러한 문제를 해결하기 위하여 종래의 습식 가스 스크러버에서는 가스 배출구 아래에 데미스터(demister) 또는 엘리미네이터(eliminator) 등의 기액 분리기를 설치하여 액체의 방출을 방지하고자 하였다. 그러나, 고압 펌프, 기액 분리기 등의 사용으로 전체 장치가 더 복잡해지고 비용이 상승할 뿐 아니라, 기액 분리기에 의한 세정액 방출 방지에는 한계가 있었다. In order to solve this problem, in the conventional wet gas scrubber, a gas-liquid separator such as a demister or eliminator is installed under the gas outlet to prevent the discharge of liquid. However, the use of high pressure pumps, gas-liquid separators, etc., not only increased the overall device complexity and increased costs, but also prevented the cleaning liquid discharge by the gas-liquid separators.

따라서, 본 발명은 노즐에 의한 세정액 고압 분사에 따른 세정액 방출 문제를 근본적으로 해결하여 세정액을 고압 분사하지 않고도 고르게 공급할 수 있는 습 식 가스 스크러버를 제공하는 것을 목적으로 한다. Accordingly, an object of the present invention is to provide a wet gas scrubber capable of evenly supplying the cleaning liquid without high pressure spraying by fundamentally solving the cleaning liquid discharge problem caused by the high pressure spraying of the cleaning liquid by the nozzle.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 습식 가스 스크러버는, 하우징과, 상기 하우징의 하부에 형성된 가스 유입구와, 상기 하우징의 상부에 형성된 가스 배출구, 및 상기 하우징의 가스 유입구 높이와 가스 배출구 높이 사이에 설치되어 세정액이 공급되는 세정액 유입관 및 하우징 하단에 형성된 세정액 드레인 배관을 포함하여, 상기 가스 유입구를 통하여 유입된 오염된 가스에 상기 세정액 유입관을 통하여 공급된 세정액을 뿌려 정화하여 상기 가스 배출구를 통하여 배출하는 습식 가스 스크러버를 대상으로 한다. The wet gas scrubber of the present invention for achieving the above object comprises a housing, a gas inlet formed in the lower portion of the housing, a gas outlet formed in the upper portion of the housing, and between the gas inlet height and the gas outlet height of the housing. A cleaning liquid inlet pipe installed in the cleaning liquid supply pipe and a cleaning liquid drain pipe formed at the bottom of the housing, and spraying the cleaning liquid supplied through the cleaning liquid inlet pipe to the contaminated gas introduced through the gas inlet to purify the gas outlet. The wet gas scrubber discharged through the target.

그러나, 본 발명의 가스 스크러버는 상기 세정액 유입관에 회전가능하게 연결되는 회전 공급부를 더 포함하는 것을 특징으로 한다. 특히, 상기 회전 공급부는, 일단이 상기 세정액 유입관과 연통하도록 형성된 중공형 공급 막대로서 서로 마주하는 방향으로 배출구가 형성된 한 쌍의 공급 막대를 포함하며, 각 공급 막대의 배출구를 통해 세정액이 배출될 때 반동으로 생성되는 반대 방향의 추력에 의해 상기 회전 공급부가 회전하는 것을 특징으로 한다. However, the gas scrubber of the present invention is characterized in that it further comprises a rotary supply portion rotatably connected to the cleaning liquid inlet pipe. In particular, the rotary supply unit is a hollow feed rod, one end of which is in communication with the cleaning liquid inlet pipe, and includes a pair of supply rods having discharge ports formed in a direction facing each other, and the cleaning liquid is discharged through the discharge ports of the respective supply bars. When the rotary supply is rotated by the thrust in the opposite direction generated by the reaction when.

즉, 본 발명에서는 노즐에 의하여 세정액을 고압으로 분사하는 것이 아니라, 공급 막대의 배출구를 통하여 저압으로 공급하지만, 공급 막대가 회전함으로써 세정액을 고르게 분배할 수 있다. 따라서, 세정액이 비말되는 것을 막아 상승하는 가스 기류와 함께 방출되는 것을 방지할 수 있다. That is, in the present invention, the cleaning liquid is not sprayed at high pressure by the nozzle, but is supplied at a low pressure through the outlet of the supply bar, but the cleaning liquid can be evenly distributed by rotating the supply bar. Therefore, the cleaning liquid can be prevented from being splashed and prevented from being released with the rising gas stream.

바람직하게는, 본 발명의 습식 가스 스크러버에서는 하우징의 가스 유입구 높이와 가스 배출구 높이 사이에 하나 이상의 충진물 층이 형성되고, 상기 각 충진물 층의 상부에 상기 세정액 유입관 및 회전 공급부가 설치될 수 있다. Preferably, in the wet gas scrubber of the present invention, at least one filler layer is formed between the gas inlet height and the gas outlet height of the housing, and the cleaning liquid inlet tube and the rotary supply unit may be installed on each of the filler layers.

충진물은 가스와 세정액의 접촉 시간을 연장하며, 충진물 및 세정액의 회전 공급부가 다층으로 형성되는 경우 처리 효율을 훨씬 향상시킬 수 있다. The fill extends the contact time between the gas and the cleaning liquid and can further improve the treatment efficiency when the rotary supply of the filler and the cleaning liquid is formed in multiple layers.

또한, 바람직하게는 상기 회전 공급부의 공급 막대는 자유단부에 상기 배출구와 다른 방향으로 형성된 조절 개구 및 상기 조절 개구를 통한 유출량을 조절하는 조절 밸브를 구비할 수 있다. 이 경우, 상기 조절 밸브에 의해 조절 개구의 유출량을 변경함으로써 상기 회전 공급부의 회전 속도를 제어할 수 있다. Further, preferably, the supply rod of the rotary supply portion may include a control opening formed at a free end in a direction different from that of the discharge port and a control valve for adjusting the flow rate through the control opening. In this case, the rotation speed of the said rotation supply part can be controlled by changing the outflow amount of a control opening by the said control valve.

바람직하게는, 상기 세정액 유입관에 분배관이 연통하도록 연결되고, 상기 회전 공급부는 베어링을 통하여 회전가능하게 상기 분배관에 연결될 수 있다. Preferably, the dispensing pipe is connected to the cleaning liquid inlet pipe, and the rotational supply part may be rotatably connected to the distribution pipe through a bearing.

이에 더하여, 본 발명의 습식 가스 스크러버는 상기 회전 공급부에 의한 세정액 공급에 불구하고 미량이나마 가스 중에 포함될 수 있는 세정액을 완전히 제거하기 위하여 가스 배출구 아래에 데미스터 또는 엘리미네이터 등의 기액 분리기를 더 설치할 수 있다.In addition, the wet gas scrubber of the present invention is further provided with a gas-liquid separator such as a demister or eliminator under the gas outlet to completely remove the cleaning liquid that may be contained in the trace gas despite the supply of the cleaning liquid by the rotary supply unit. Can be.

이하, 첨부된 도면을 참조한 바람직한 실시예를 통하여 본 발명을 더 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 습식 가스 스크러버의 단면도이다. 본 발명의 가스 스크러버는 하우징(11)의 하부에 가스 유입구(21)가 형성되고, 상부에 가스 배출구(22)가 형성되어 있으며, 가스 유입구(21)를 통하여 오염된 가스가 유입되어 상승 이동하는 동안 세정액과 접촉하여 유해 가스 성분 및 악취 성분이 제거된 후 상부의 가스 배출구(22)를 통해 배출된다. 1 is a cross-sectional view of a wet gas scrubber according to an embodiment of the present invention. In the gas scrubber of the present invention, a gas inlet 21 is formed at a lower portion of the housing 11, a gas outlet 22 is formed at an upper portion thereof, and contaminated gas is introduced and moved upward through the gas inlet 21. The harmful gas component and odor component are removed in contact with the cleaning liquid and then discharged through the upper gas outlet 22.

이를 위하여 상기 가스 유입구(21)의 높이와 가스 배출구(22) 높이 사이에는 세정액 공급을 위한 세정액 유입관(61)이 설치된다. 세정액 유입관(61)은 도 1에 도시된 바와 같이 상하로 복수의 세정액 유입관(61)이 설치될 수 있으며, 그 아래에는 각각 충진물 층(40)이 설치될 수 있다. 이 충진물은 가스와 세정액의 접촉 시간을 연장하고 접촉 면적을 넓혀 가스 정화 효율을 향상시키는 역할을 한다. To this end, a cleaning liquid inlet pipe 61 for supplying a cleaning liquid is provided between the height of the gas inlet 21 and the height of the gas outlet 22. As shown in FIG. 1, the cleaning solution inflow pipe 61 may be provided with a plurality of cleaning solution inflow pipes 61, and a filling layer 40 may be installed below the cleaning solution inflow pipe 61. This filler serves to extend the contact time between the gas and the cleaning liquid and to increase the contact area to improve the gas purification efficiency.

본 발명에 따르면, 상기 각 세정액 유입관(61)에는 회전 공급부(71)가 회전 가능하게 설치된다. 도 2에는 이러한 세정액 유입관(61)과 회전 공급부(71)가 더 상세히 도시되어 있다. 도시된 실시예에서는 상기 세정액 유입관(61)에 분배관(73)이 연통하도록 연결되고, 회전 공급부(71)는 베어링(74)을 통하여 분배관(73)에 연결되며, 따라서 회전 공급부(71)는 분배관(73) 및 세정액 유입관(61)에 대하여 회전할 수 있다. 그러나, 회전 공급부(71)는 종래의 알려진 다른 구성에 의해서도 세정액 유입관(61)에 회전 가능하게 설치될 수 있다. According to the present invention, each of the cleaning liquid inlet pipe 61 is provided with a rotatable supply unit 71 rotatably. 2 shows such a cleaning liquid inlet tube 61 and the rotary supply portion 71 in more detail. In the illustrated embodiment, the dispensing pipe 73 is connected to the washing liquid inlet pipe 61, and the rotation supply part 71 is connected to the distribution pipe 73 through the bearing 74, and thus the rotation supply part 71. ) May rotate with respect to the distribution tube 73 and the cleaning liquid inlet tube 61. However, the rotation supply unit 71 may be rotatably installed in the cleaning liquid inlet tube 61 by another conventionally known configuration.

상기 회전 공급부(71)는 일단이 상기 세정액 유입관과 연통하도록 형성된 한 쌍의 중공형 공급 막대(72a, 72b)을 포함하며, 이 공급 막대들은 서로 마주하는 방향으로 배출구(76a, 76b)가 형성된다. The rotary supply unit 71 includes a pair of hollow feed rods 72a and 72b, one end of which is in communication with the cleaning liquid inlet pipe, and the supply rods are formed with outlets 76a and 76b facing each other. do.

따라서, 도 1의 화살표 A 방향으로 세정액 유입관(61)에 공급된 세정액은 분배관(73)을 통하여 회전 공급부(71)의 공급 막대(72a, 72b)에 전달되어 배출 구(76a, 76b)를 통하여 저압으로 하우징 내부로 방출된다. 이때, 각 공급 막대의 배출구는 서로 마주하도록, 즉 반대 방향으로 형성되어 있어, 세정액이 배출되면 그 반동에 의해 발생되는 추력으로 회전 공급부(71)가 저속으로 회전하게 된다(도 3 참조).Therefore, the cleaning liquid supplied to the cleaning liquid inflow pipe 61 in the direction of arrow A in FIG. 1 is delivered to the supply rods 72a and 72b of the rotary supply part 71 through the distribution pipe 73 to discharge outlets 76a and 76b. Is discharged into the housing at low pressure through. At this time, the discharge ports of the respective supply rods are formed to face each other, that is, in the opposite direction, so that when the cleaning liquid is discharged, the rotary supply portion 71 rotates at a low speed by the thrust generated by the reaction (see FIG. 3).

이에 따라, 노즐에 의해 고압으로 분사하지 않더라도 회전 공급부(71)에 의해 세정액을 고르게 분배하여 뿌려줄 수 있으며, 세정액이 비말하여 방출되는 것을 방지할 수 있다. Accordingly, even if the nozzle is not sprayed at a high pressure by the nozzle, the rotary liquid supply part 71 can evenly distribute and spray the cleaning liquid, thereby preventing the cleaning liquid from being splashed out.

도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 공급 막대(72a, 72b)의 자유 단부에는 배출구(76a, 76b)와 반대 방향으로 조절 개구(78a, 78b)가 형성되고, 이 조절 개구를 통한 유출량을 조절하는 조절 밸브(77a, 77b)가 구비될 수 있다. 이 경우, 조절 밸브에 의해 조절 개구를 통한 유출량을 조절함으로써 회전 공급부(71)의 회전 속도를 조절할 수 있다. As shown in Figs. 2 and 3, at the free ends of the supply rods 72a and 72b, adjustment openings 78a and 78b are formed in the opposite directions to the discharge openings 76a and 76b, and the flow rate through the adjustment openings. Control valves (77a, 77b) for adjusting the may be provided. In this case, the rotational speed of the rotation supply part 71 can be adjusted by adjusting the outflow amount through the adjustment opening by a control valve.

즉, 조절 밸브(77a, 77b)가 열려 배출구(76a, 76b)와 반대 방향의 조절 개구(78a, 78b)를 통한 유출량이 증가하면 그 반동에 의해 생성되는 추력이 배출구를 통한 세정액 배출에 의한 추력을 상쇄하여 회전 공급부(71)의 회전 속도가 줄어들게 된다. That is, when the control valves 77a and 77b are opened and the flow rate through the control openings 78a and 78b in the opposite direction to the discharge ports 76a and 76b increases, the thrust generated by the reaction is the thrust caused by the discharge of the cleaning liquid through the discharge port. By offsetting the rotational speed of the rotary supply unit 71 is reduced.

조절 개구(78a, 78b)는 배출구를 통한 세정액 배출에 의한 추력을 상쇄할 수만 있으면, 어느 방향으로 형성되어도 무방하다. The adjustment openings 78a and 78b may be formed in any direction as long as they can cancel the thrust caused by the cleaning liquid discharge through the discharge port.

이러한 구성에 의하여, 회전 공급부(71)가 세정액의 비말을 방지하면서 세정액의 효율적인 뿌려줄 수 있는 최적의 속도로 회전할 수 있도록 제어할 수 있다.By such a configuration, it is possible to control the rotation supply unit 71 to rotate at an optimum speed that can effectively spray the cleaning liquid while preventing the cleaning liquid from splashing.

본 발명의 다른 바람직한 실시예에서는, 하우징(11)의 가스 배출구 아래에 데미스터 또는 엘리미네이터 등의 기액 분리기(81)가 추가로 설치될 수 있다. 이러한 구성에 의하여 미량이나마 가스 중에 포함될 수 있는 세정액을 완전히 제거할 수 있다. In another preferred embodiment of the present invention, a gas-liquid separator 81 such as a demister or eliminator may be further installed below the gas outlet of the housing 11. By such a configuration, it is possible to completely remove the cleaning liquid that may be contained in the gas even in a small amount.

이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명에 따른 습식 가스 스크러버에서는 가스 세정액을 노즐에 의해 고압 분사하지 않고 저속으로 회전하는 회전 공급부에 의하여 저압으로 공급하여 세정액 비말을 현저히 줄이며, 따라서 세정액 유출 및 대기 오염을 방지할 수 있는 장점이 있다. 또한, 고압 펌프를 필요로 하지 않으므로, 에너지 절감에 따른 비용 감소, 소음 감소의 효과를 기대할 수 있다. As described above, in the wet gas scrubber according to the present invention, the gas cleaning liquid is supplied at a low pressure by a rotary supply part rotating at a low speed without spraying a high pressure by the nozzle, thereby significantly reducing the cleaning liquid droplets, thereby preventing the cleaning liquid leakage and air pollution. There is an advantage to this. In addition, since it does not require a high pressure pump, it is possible to expect the effect of reducing the cost, noise reduction due to energy saving.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 또한 설명하였으나, 본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 않고, 이하 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명의 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형실시가 가능함은 물론이며, 그와 같은 변형은 청구범위의 기재 범위 내에 있게 된다. Although the preferred embodiments of the present invention have been shown and described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and the general knowledge in the field of the present invention without departing from the gist of the present invention as claimed in the following claims. Anyone with a variety of modifications are possible, of course, such modifications are within the scope of the claims.

Claims (5)

하우징과, 상기 하우징의 하부에 형성된 가스 유입구와, 상기 하우징의 상부에 형성된 가스 배출구, 및 상기 하우징의 가스 유입구 높이와 가스 배출구 높이 사이에 설치되어 세정액이 공급되는 세정액 유입관 및 하우징 하단에 형성된 세정액 드레인 배관을 포함하고, 상기 가스 유입구를 통하여 유입된 오염된 가스에 상기 세정액 유입관을 통하여 공급된 세정액을 뿌려 정화하여 상기 가스 배출구를 통하여 배출하는 습식 가스 스크러버에 있어서, A cleaning liquid inlet tube disposed between the housing, a gas inlet formed in the lower portion of the housing, a gas outlet formed in the upper portion of the housing, and a height of the gas inlet and the gas outlet of the housing supplied with the cleaning liquid, and a cleaning liquid formed at the bottom of the housing. In the wet gas scrubber comprising a drain pipe, spraying and purifying the cleaning liquid supplied through the cleaning liquid inlet pipe to the contaminated gas introduced through the gas inlet, and discharged through the gas outlet, 상기 세정액 유입관에 회전가능하게 연결되는 회전 공급부를 더 포함하며,Further comprising a rotary supply rotatably connected to the cleaning liquid inlet pipe, 상기 회전 공급부는, 일단이 상기 세정액 유입관과 연통하도록 형성된 중공형 공급 막대로서 서로 마주하는 방향으로 배출구가 형성된 한 쌍의 공급 막대를 포함하여, The rotary supply unit is a hollow feed rod, one end of which is in communication with the cleaning liquid inlet pipe, and includes a pair of supply rods formed with outlets facing each other, 각 공급 막대의 배출구를 통해 세정액이 배출될 때 반동으로 생성되는 반대 방향의 추력에 의해 상기 회전 공급부가 회전하는 것을 특징으로 하는 습식 가스 스크러버.Wet gas scrubber, characterized in that the rotary supply is rotated by the thrust in the opposite direction generated by the reaction when the cleaning liquid is discharged through the discharge port of each supply rod. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 하우징의 가스 유입구 높이와 가스 배출구 높이 사이에는 하나 이상의 충진물 층이 형성되고, 상기 각 충진물 층의 상부에 상기 세정액 유입관 및 회전 공급부가 설치되는 것을 특징으로 하는 습식 가스 스크러버.Wet gas scrubber, characterized in that the at least one filler layer is formed between the gas inlet height and the gas outlet height of the housing, the cleaning liquid inlet pipe and the rotary supply is installed on top of each of the filler layers. 제1항 또는 제2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 공급 막대는 자유단부에 상기 배출구와 다른 방향으로 형성된 조절 개구 및 상기 조절 개구를 통한 유출량을 조절하는 조절 밸브를 구비하며, 상기 조절 밸브에 의해 조절 개구의 유출량을 변경함으로써 상기 회전 공급부의 회전 속도를 제어하는 것을 특징으로 하는 습식 가스 스크러버.The supply rod has a regulating opening formed at a free end in a direction different from the outlet and a regulating valve for adjusting the amount of outflow through the regulating opening, wherein the rotational speed of the rotary supply part is changed by changing the outflow amount of the regulating opening by the regulating valve. Wet gas scrubber, characterized in that for controlling. 제1항 또는 제2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 세정액 유입관에 분배관이 연통하도록 연결되고, 상기 회전 공급부는 베어링을 통하여 회전가능하게 상기 분배관에 연결되는 것을 특징으로 하는 습식 가스 스크러버.And a distribution pipe is connected to the cleaning liquid inlet pipe, and the rotary supply part is rotatably connected to the distribution pipe through a bearing. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 가스 배출구 아래에 기액 분리기가 설치되는 것을 특징으로 하는 습식 가스 스크러버.Wet gas scrubber, characterized in that the gas-liquid separator is installed below the gas outlet.
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