KR101455045B1 - Apparatus for cleaning face plate of shower head - Google Patents

Apparatus for cleaning face plate of shower head Download PDF

Info

Publication number
KR101455045B1
KR101455045B1 KR1020130089224A KR20130089224A KR101455045B1 KR 101455045 B1 KR101455045 B1 KR 101455045B1 KR 1020130089224 A KR1020130089224 A KR 1020130089224A KR 20130089224 A KR20130089224 A KR 20130089224A KR 101455045 B1 KR101455045 B1 KR 101455045B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
cleaning
cleaning liquid
mounting
plate
rotary
Prior art date
Application number
KR1020130089224A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
서문희
Original Assignee
서문희
나노윈 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 서문희, 나노윈 주식회사 filed Critical 서문희
Priority to KR1020130089224A priority Critical patent/KR101455045B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101455045B1 publication Critical patent/KR101455045B1/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/4401Means for minimising impurities, e.g. dust, moisture or residual gas, in the reaction chamber
    • C23C16/4407Cleaning of reactor or reactor parts by using wet or mechanical methods

Abstract

The present invention relates to a device of cleaning a face plate having a plurality of holes and, more specifically, to a face plate cleaning device of a shower head including: a cleaning chamber which forms a cleaning space inside; a rotary mounting member which is installed inside the cleaning chamber to be located in the cleaning space and to be able to rotate, and has a mounting unit in which the face plate is mounted so that the both sides of the hole are opened; a spray nozzle which is installed in the rotary mounting member to spray a cleaning solution to the inner side of the hole; a cleaning solution supply unit which supplies the cleaning solution to the spray nozzle to spray; and rotary driving unit which discharges the cleaning solution inside the hole to the outside by centrifugal force by rotating the rotary mounting member. According to the present invention, the cleaning solution for the hole of the face plate is sprayed and cleaning is executed by the centrifugal force by mounting the face plate of the shower head on a separate device. Therefore, cleaning efficiency of the face plate can be improved and the time and effort required to clean can be reduced by preventing contamination of a process chamber and a peripheral device in a cleaning process.

Description

샤워 헤드의 페이스 플레이트 세정장치{Apparatus for cleaning face plate of shower head}[0001] Apparatus for cleaning face plate of shower head [0002]
본 발명은 샤워 헤드의 페이스 플레이트 세정장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 페이스 플레이트의 홀에 대한 세정액의 분사와 원심력을 이용하여 페이스 플레이트를 세정하도록 하는 샤워 헤드의 페이스 플레이트 세정장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a face plate cleaning apparatus for a showerhead, and more particularly, to a face plate cleaning apparatus for a showerhead that cleans a face plate using a centrifugal force and a jetting of a cleaning liquid against holes in the face plate.
일반적으로, 반도체 제조 장치는 내측의 프로세스영역(process area)에 웨이퍼를 지지하기 위한 지지대를 가지는 프로세스챔버(process chamber)를 가진다. 이러한 프로세스챔버는 제조공정이 진행되는 프로세스영역이 진공 상태를 유지하도록 하고, 프로세스영역에 가스 분배를 위한 어셈블리인 샤워 헤드(shower head)가 설치되며, 샤워 헤드를 통해서 프로세스영역에 하나 또는 다수의 프로세스가스(process gas)가 공급되도록 한다. 예컨대 프로세스가스는 가열되거나, 에너지를 공급받아 반도체 웨이퍼 상에 정해진 프로세스를 수행하기 위한 플라즈마 등을 형성할 수 있는데, 이와 같은 프로세스가스는 화학적 증기 증착(Chemical Vapor Deposition,CVD)을 포함하여 반도체 웨이퍼 상에서 박막을 증착(deposition)하거나, 반도체 웨이퍼로부터 물질을 제거하기 위한 에칭(etching) 작용을 하게 된다. Generally, a semiconductor manufacturing apparatus has a process chamber having a support for supporting a wafer in an inner process area. Such a process chamber allows a process region in which a manufacturing process to be maintained to be in a vacuum state, a shower head, which is an assembly for gas distribution, is installed in the process region, and one or more processes Gas (process gas) is supplied. For example, the process gas may be heated or may be supplied with energy to form a plasma or the like for performing a predetermined process on the semiconductor wafer. The process gas may include chemical vapor deposition (CVD) The thin film is subjected to an etching process for depositing or removing the material from the semiconductor wafer.
한편 샤워 헤드는 프로세스가스를 반도체 웨이퍼 내지 프로세스영역으로 공급 내지 분사하기 위하여 가스공급관이 연결되고, 가스공급관을 통해서 공급되는 프로세스가스를 프로세스영역 전체에 걸쳐서 가능한 균일하게 분사하도록 홀이 다수로 형성되는 페이스 플레이트(face plate)가 일측에 마련된다. On the other hand, the showerhead is connected to a gas supply pipe for supplying or discharging the process gas to the semiconductor wafer or the process region, and a plurality of holes are formed to uniformly inject the process gas supplied through the gas supply pipe, A face plate is provided on one side.
이러한 샤워 헤드는 페이스 플레이트의 미세한 홀 구조로 인하여 사용 기간이 경과할수록 홀 내부에 오염물이 증착 내지 부착됨으로써 홀의 오염도가 증가하고, 이로 인해 홀의 막힘 등을 유발하여 프로세스가스의 균일한 공급을 어렵게 하여 반도체 웨이퍼의 품질을 저하시키고, 홀로부터 박리되는 파티클이 반도체 웨이퍼에 파티클(particle)을 발생시킴으로써 반도체 웨이퍼에 결함을 유발하여 수율을 현저하게 감소시키게 된다.Such a showerhead has a minute hole structure in the face plate, so that the contaminants are deposited or adhered to the inside of the hole as the use period elapses, thereby increasing the degree of contamination of the holes, thereby causing clogging of the holes and the like, The quality of the wafer is lowered and the particles released from the holes generate particles on the semiconductor wafer, thereby causing defects in the semiconductor wafer, thereby remarkably reducing the yield.
이와 같은 종래의 샤워 헤드에 대한 문제점을 해결하기 위하여, 한국공개특허 제10-2006-0003420호의 "샤워 헤드 홀 세정 방법"이 제시된 바 있는데, 이는 상단이 가스 인입구에 연결되고 하단에 가스 분출구가 형성된 공정 챔버 내의 샤워 헤드의 홀 내부를 세정하는 방법으로서, 세정 가스를 샤워 헤드 홀 내부로 인입하여 상기 세정 가스에 의한 화학적 반응으로 샤워 헤드 홀 내부에 형성된 박막을 식각(etching)하는 단계; 및 상기 세정 가스에 의해 상기 샤워 헤드 홀 내부 박막을 식각하는 단계 후에, 상기 샤워 헤드 홀 내부로 불활성 가스를 인입하여 상기 샤워 헤드 홀 내부에 잔류하고 있는 세정 가스를 퍼지(purge)하는 단계를 포함한다.In order to solve such a problem with the conventional shower head, Korean Patent Laid-Open No. 10-2006-0003420 discloses a "showerhead hole cleaning method" in which the upper end is connected to the gas inlet and the gas outlet is formed at the lower end A method of cleaning a hole in a showerhead in a process chamber, comprising: drawing a cleaning gas into a showerhead hole and etching a thin film formed in the showerhead hole by a chemical reaction with the cleaning gas; And a step of purifying the cleaning gas remaining in the showerhead hole by introducing an inert gas into the showerhead hole after etching the thin film in the showerhead hole with the cleaning gas .
그러나, 종래의 샤워 헤드 홀 세정 방법은 샤워 헤드가 설치된 상태에서 샤워 헤드 내에 세정 가스를 단순히 인입시킴으로써 샤워 헤드의 세정을 세정 가스의 공급에만 의존하며, 이로 인해 샤워 헤드의 홀에 대한 세정력에 한계를 가지는 문제점을 가지고 있었다. 또한 프로세스챔버 내에 샤워 헤드를 고정시킨 상태에서 세정이 이루어짐으로써 프로세스챔버를 오염시키고, 이로 인해 프로세스챔버의 세정이 필연적으로 요구되어 세정에 소요되는 시간과 노력이 증가하는 문제점을 가지고 있었다.However, in the conventional showerhead hole cleaning method, the cleaning gas is simply introduced into the showerhead in a state where the showerhead is installed, so that the cleaning of the showerhead is dependent only on the supply of the cleaning gas. Had a problem. In addition, since the cleaning process is performed in a state where the showerhead is fixed in the process chamber, the process chamber is contaminated, thereby requiring the cleaning of the process chamber, thereby increasing the time and effort required for cleaning.
상기한 바와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명은 샤워 헤드의 페이스 플레이트를 별도의 장치에 장착하여, 페이스 플레이트의 홀에 대한 세정액의 분사와 원심력에 의해 세정이 이루어지도록 함으로써 페이스 플레이트에 대한 세정 효과가 뛰어나도록 하고, 세정과정에서 프로세스챔버를 비롯하여 주변 장치에 대한 오염을 방지함으로써 세정에 소요되는 시간과 노력을 최소화하도록 하는데 목적이 있다. 본 발명의 다른 목적들은 이하의 실시예에 대한 설명을 통해 쉽게 이해될 수 있을 것이다.In order to solve the problems of the prior art as described above, the present invention is characterized in that the face plate of the shower head is mounted on a separate device, and cleaning is performed by centrifugal force and spraying of the cleaning liquid on the holes of the face plate, So that the time and effort required for cleaning can be minimized by preventing contamination of the process chamber and peripheral devices during the cleaning process. Other objects of the present invention will become readily apparent from the following description of the embodiments.
상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 일측면에 따르면, 다수의 홀을 가진 페이스 플레이트를 세정하는 장치에 있어서, 내측에 세정공간이 형성되는 세정챔버; 상기 세정공간에 위치하도록 상기 세정챔버 내에 회전 가능하게 설치되고, 상기 페이스 플레이트가 상기 홀의 양측이 개방되도록 장착되는 장착부가 마련되는 회전장착부재; 상기 홀의 내측에 세정액을 분사하도록 상기 회전장착부재에 설치되는 분사노즐; 상기 분사노즐에 분사되기 위한 세정액을 공급하는 세정액공급부; 및 상기 회전장착부재를 회전시킴으로써 상기 홀 내측의 세정액이 원심력에 의해 외부로 배출되도록 하는 회전구동부를 포함하는 샤워 헤드의 페이스 플레이트 세정장치가 제공된다.According to an aspect of the present invention, there is provided an apparatus for cleaning a face plate having a plurality of holes, the apparatus comprising: a cleaning chamber having a cleaning space formed therein; A rotation mounting member rotatably installed in the cleaning chamber so as to be located in the cleaning space and having a mounting portion to which the face plate is mounted so that both sides of the hole are opened; A spray nozzle mounted on the rotary mounting member to spray a cleaning liquid into the hole; A cleaning liquid supply unit for supplying a cleaning liquid to be sprayed onto the spray nozzle; And a rotation driving unit for rotating the rotation mounting member so that the cleaning liquid inside the hole is discharged to the outside by centrifugal force.
상기 회전장착부재는 하방으로 연장되도록 마련되는 회전축에 의해 상기 세정챔버 내에 회전 가능하게 설치되고, 상기 장착부가 상방으로 개방되도록 홈의 형태로 형성되며, 상기 장착부에 장착된 상기 페이스 플레이트의 홀에 각각 연결되도록 상기 장착부의 하부에 다수의 주입홀이 형성되고, 상기 분사노즐은 다수로 이루어져서 상기 주입홀 각각에 설치될 수 있다.Wherein the rotary mounting member is rotatably installed in the cleaning chamber by a rotation shaft provided to extend downward and is formed in the shape of a groove so that the mounting portion is opened upward, A plurality of injection holes are formed in a lower portion of the mounting portion so as to be connected to the injection holes, and the injection nozzles may be formed in a plurality of injection holes.
상기 세정액공급부는 세정액의 공급을 위한 펌핑력을 제공하는 공급펌프; 상기 공급펌프로부터 공급되는 세정액을 상기 회전장착부재에 마련된 회전축에 공급하도록 연결되는 세정액공급라인; 상기 세정액공급라인과 연결되도록 상기 회전축에 마련되는 내부통로; 상기 회전축이 회전이 가능한 상태로 상기 내부통로가 상기 세정액공급라인에 연결되도록 상기 회전축에 마련되는 로터리조인트; 상기 내부통로와 연결되어 상기 회전장착부재에 다수로 설치된 상기 분사노즐 각각에 세정액을 분배하여 공급하도록 상기 회전축에 마련되는 분배공급부재; 및 상기 세정액공급라인에 설치되고, 세정액이 정해진 압력으로 공급되도록 하는 압력유지유닛을 포함할 수 있다.Wherein the cleaning liquid supply portion includes a supply pump for providing a pumping force for supplying the cleaning liquid; A cleaning liquid supply line connected to supply a cleaning liquid supplied from the supply pump to a rotary shaft provided in the rotary mounting member; An inner passage provided on the rotary shaft to be connected to the cleaning liquid supply line; A rotary joint provided on the rotary shaft such that the rotary shaft is rotatable so that the inner passage is connected to the cleaning liquid supply line; A distribution supply member provided on the rotary shaft to distribute and supply a cleaning liquid to each of the spray nozzles connected to the internal passage and provided in a plurality of the rotary mounting members; And a pressure maintaining unit installed in the cleaning liquid supply line, for supplying the cleaning liquid with a predetermined pressure.
상기 분배공급부재는 상기 회전축이 중심에 장착되고, 상기 내부통로로부터 공급되는 세정액을 상기 분사노즐에 분배 공급하는 분배유로가 내측에 형성되는 판상부재로 이루어질 수 있다.The distribution supply member may be a plate-shaped member having the rotation shaft mounted at the center thereof and a distribution channel for distributing and supplying the cleaning liquid supplied from the internal passage to the injection nozzle is formed inside.
상기 회전구동부는 상기 회전장착부재에 마련된 회전축에 회전력을 제공하는 회전모터를 포함하고, 상기 회전모터가 정해진 주기 또는 설정된 주기를 기준으로 정방향과 역방향으로 교번하여 회전하도록 제어하는 모터제어부를 더 포함할 수 있다.The rotation driving unit may further include a rotation motor provided to the rotation shaft provided in the rotation mounting member and further includes a motor control unit for controlling the rotation motor to alternately rotate in the forward direction and the reverse direction on the basis of a predetermined period or a predetermined period .
본 발명에 따른 샤워 헤드의 페이스 플레이트 세정장치에 의하면, 샤워 헤드의 페이스 플레이트를 별도의 장치에 장착하여, 페이스 플레이트의 홀에 대한 세정액의 분사와 원심력에 의해 세정이 이루어지도록 함으로써 페이스 플레이트에 대한 세정 효과가 뛰어나도록 하고, 세정과정에서 프로세스챔버를 비롯하여 주변 장치에 대한 오염을 방지함으로써 세정에 소요되는 시간과 노력을 줄일 수 있다.According to the face plate cleaning apparatus of the showerhead of the present invention, the face plate of the shower head is mounted in a separate apparatus, and the cleaning is performed by the spraying of the cleaning liquid against the hole of the face plate and the centrifugal force, And the time and effort required for cleaning can be reduced by preventing contamination of peripheral devices including the process chamber during the cleaning process.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 샤워 헤드의 페이스 플레이트 세정장치를 도시한 구성도이고,
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 샤워 헤드의 페이스 플레이트 세정장치의 페이스 플레이트 장착 과정을 도시한 측단면도이고,
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 샤워 헤드의 페이스 플레이트 세정장치의 동작을 설명하기 위한 측단면도이다.
FIG. 1 is a configuration diagram showing a face plate cleaning apparatus of a showerhead according to an embodiment of the present invention,
FIG. 2 is a side cross-sectional view illustrating a face plate mounting process of a shower head face plate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention,
3 is a side cross-sectional view for explaining the operation of the showerhead faceplate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고, 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고, 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니고, 본 발명의 기술 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 식으로 이해되어야 하고, 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다. While the invention is susceptible to various modifications and alternative forms, specific embodiments thereof are shown by way of example in the drawings and will herein be described in detail. It is to be understood, however, that the invention is not to be limited to the specific embodiments, but is to be understood to cover all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention, And the scope of the present invention is not limited to the following examples.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 실시예를 상세히 설명하며, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 대응하는 구성요소에 대해서는 동일한 참조 번호를 부여하고, 이에 대해 중복되는 설명을 생략하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, wherein like or corresponding elements are denoted by the same reference numerals, and redundant explanations thereof will be omitted.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 샤워 헤드의 페이스 플레이트 세정장치를 도시한 구성도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 샤워 헤드의 페이스 플레이트 세정장치의 페이스 플레이트 장착 과정을 도시한 측단면도이다.FIG. 1 is a view illustrating a face plate cleaning apparatus of a showerhead according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a view illustrating a face plate mounting process of a showerhead face plate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention. Fig.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 샤워 헤드의 페이스 플레이트 세정장치(100)는 세정챔버(110), 회전장착부재(120), 분사노즐(130), 세정액공급부(140) 및 회전구동부(150)를 포함할 수 있다. 한편, 페이스 플레이트(10)는 예컨대 CVD(Chemical Vapor Deposition), ALD(Atomic Layer Deposition) 등의 공정을 수행하는 프로세스챔버 뿐만 아니라, 반도체 소자를 제조하기 위한 다양한 프로세스챔버에 설치된 샤워 헤드의 일부 또는 전부를 이루는 구성부재일 수 있으며, 프로세스가스를 균일하게 분사하기 위한 홀(11)이 다수로 형성된다.1 and 2, a showerhead face plate cleaning apparatus 100 according to an embodiment of the present invention includes a cleaning chamber 110, a rotation mount member 120, a spray nozzle 130, a cleaning liquid supply unit 140, and a rotation driving unit 150. The face plate 10 may include not only a process chamber for performing processes such as CVD (Chemical Vapor Deposition) and ALD (Atomic Layer Deposition), but also a part or all of the showerhead installed in various process chambers for manufacturing semiconductor devices And a plurality of holes 11 for uniformly injecting the process gas are formed.
세정챔버(110)는 내측에 세정공간(111)이 형성되고, 본 실시예에서처럼 상부가 개방될 수 있도록 커버(112)가 착탈 가능하게 설치된다. 커버(112)는 세정챔버(110)로부터 분리되는 구조를 가질 수 있고, 이와 달리 세정챔버(110)의 일측에 힌지 결합됨으로써 힌지 결합 부위를 기준으로 회전함으로써 세정챔버(110)의 상부를 개폐시킬 수 있으며, 원하지 않게 개폐되지 않도록 록킹 및 언록킹 유닛에 의해 세정챔버(110)에 고정될 수 있다. In the cleaning chamber 110, a cleaning space 111 is formed inside, and a cover 112 is detachably installed so that the upper portion can be opened as in the present embodiment. The cover 112 may have a structure to be separated from the cleaning chamber 110 and may be hinged to one side of the cleaning chamber 110 so as to rotate about the hinged portion to thereby open and close the upper portion of the cleaning chamber 110 And may be fixed to the cleaning chamber 110 by a locking and unlocking unit so as not to be opened and closed unintentionally.
세정챔버(110)는 세정액의 비산을 방지하기 위하여 밀폐 가능한 구조를 예시하였으나, 비산에 대한 영향이 적은 장소에 설치되는 경우 일측이 개방되는 다양한 구조를 가진 부재가 사용될 수 있음은 물론이다. 또한 세정챔버(110)는 내측에 위치하는 세정액을 외부로 배출시키도록 배출구에 연결되는 배출로(113)가 마련될 수 있고, 배출로(113)에 개폐를 위한 개폐밸브(114)가 설치될 수 있다.Although the cleaning chamber 110 has a sealable structure in order to prevent scattering of the cleaning liquid, it is needless to say that a member having various structures that one side is opened when it is installed in a place with little influence on scattering can be used. Further, the cleaning chamber 110 may be provided with a discharge passage 113 connected to the discharge port to discharge the cleaning fluid located inside, and an opening / closing valve 114 for opening / closing the discharge passage 113 may be installed .
회전장착부재(120)는 세정공간(111)에 위치하도록 세정챔버(110) 내에 회전 가능하게 설치되고, 페이스 플레이트(10)가 홀(11)의 양측이 개방되도록 장착되는 장착부(122)가 마련될 수 있다. 또한 회전장착부재(120)는 하방으로 연장되도록 마련되는 회전축(121)에 의해 세정챔버(110) 내에 회전 가능하게 설치될 수 있고, 장착부(122)가 상방으로 개방되도록 홈의 형태로 형성될 수 있으며, 장착부(122)에 장착된 페이스 플레이트(10)의 홀(11)에 각각 연결되도록 장착부(122)의 하부에 다수의 주입홀(123)이 형성될 수 있다. 여기서 회전축(121)은 베어링(124)을 매개로 세정챔버(110)의 하부에 회전 가능하게 설치될 수 있다. 또한 회전장착부재(120)에서 장착부(122) 가장자리의 상단에 상방으로 돌출되는 테두리부(125)가 마련될 수 있다. The rotary mounting member 120 is rotatably installed in the cleaning chamber 110 so as to be located in the cleaning space 111 and has a mounting portion 122 to which the face plate 10 is mounted so that both sides of the hole 11 are opened . The rotary mounting member 120 may be rotatably installed in the cleaning chamber 110 by a rotation shaft 121 extending downward and may be formed in the shape of a groove so that the mounting portion 122 is opened upward. And a plurality of injection holes 123 may be formed in the lower portion of the mounting portion 122 so as to be connected to the holes 11 of the face plate 10 mounted on the mounting portion 122. Here, the rotary shaft 121 may be rotatably installed at a lower portion of the cleaning chamber 110 via a bearing 124. In addition, a rim portion 125 protruding upward from the upper end of the edge of the mounting portion 122 in the rotary mounting member 120 may be provided.
장착부(122)는 페이스 플레이트(10)의 형상에 상응한 형상을 가지되, 페이스 플레이트(10)의 인출을 용이하게 하기 위하여 페이스 플레이트(10) 가장자리와의 사이에 공간을 제공하는 인출용 홈(미도시)이 형성될 수 있다. 또한 장착부(122)는 페이스 플레이트(10)가 삽입시 홀(11)이 주입홀(123)에 일치하도록 정렬된 상태로 장착되기 위해서, 페이스 플레이트(10)의 가장자리에 돌출 내지 삽입되는 형상에 상응하도록 형성되는 위치결정용 홈 또는 돌기 등을 가질 수 있다. The mounting portion 122 has a shape corresponding to the shape of the face plate 10 and has a drawing groove for providing a space between the face plate 10 and the edge of the face plate 10 Not shown) may be formed. The mounting portion 122 corresponds to the shape protruding or inserted into the edge of the face plate 10 in order to mount the face plate 10 in an aligned state so that the hole 11 is aligned with the injection hole 123 when the face plate 10 is inserted A positioning groove or a projection or the like formed so as to be formed.
분사노즐(130)은 홀(11)의 내측에 세정액을 분사하도록 회전장착부재(120)에 나사 결합 또는 억지 끼움 등을 비롯하여 다양한 방법에 의해 설치될 수 있고, 다수로 이루어져서 홀(11) 각각에 대응하도록 주입홀(123) 각각에 설치될 수 있다. 이때, 분사노즐(130)은 주입홀(123)의 배열에 상응하여 2차원적으로 배열되도록 회전장착부재(120)의 저면에 각각 고정될 수 있다.The injection nozzle 130 may be installed in various ways including screwing or tight fitting on the rotary mounting member 120 so as to inject the cleaning liquid into the hole 11, And may be installed in each of the injection holes 123 to correspond to each other. At this time, the injection nozzles 130 may be fixed to the bottom surface of the rotary mounting member 120 so as to be arranged two-dimensionally corresponding to the arrangement of the injection holes 123.
세정액공급부(140)는 분사노즐(130)에 분사되기 위한 세정액을 공급하도록 하는데, 세정액은 페이스 플레이트(10)의 홀(11)에 부착 내지 적층된 오염물의 성분이나 특성에 따라 오염물의 제거에 적합한 케미컬이 사용될 수 있고, 필요에 따라 린스 등을 위하여 초순수가 부가적으로 사용될 수도 있다. The cleaning liquid supply unit 140 supplies a cleaning liquid to be sprayed to the spray nozzle 130. The cleaning liquid is suitable for removing contaminants depending on the components or characteristics of the deposited or deposited contaminants in the holes 11 of the face plate 10. [ Chemical may be used, and ultrapure water may additionally be used for rinsing and the like as needed.
세정액공급부(140)는 본 실시예에서처럼, 일례로 세정액의 공급을 위한 펌핑력을 제공하는 공급펌프(141)와, 공급펌프(141)로부터 공급되는 세정액을 회전장착부재(120)에 마련된 회전축(121)에 공급하도록 연결되는 세정액공급라인(142)과, 세정액공급라인(142)과 연결되도록 회전축(121)에 마련되는 내부통로(143)와, 회전축(121)이 회전이 가능한 상태로 내부통로(143)가 세정액공급라인(142)에 연결되도록 회전축(121)에 마련되는 로터리조인트(rotary joint; 144)와, 내부통로(143)와 연결되어 회전장착부재(120)에 다수로 설치된 분사노즐(130) 각각에 세정액을 분배하여 공급하도록 회전축(121)에 마련되는 분배공급부재(145)와, 세정액공급라인(142)에 설치되고, 세정액이 정해진 압력으로 공급되도록 하는 압력유지유닛(146)을 포함할 수 있다. The cleaning liquid supply unit 140 includes a supply pump 141 for providing a pumping force for supplying the cleaning liquid and a cleaning liquid supply unit for supplying the cleaning liquid supplied from the supply pump 141 to the rotary shaft An inner passage 143 provided in the rotary shaft 121 to be connected to the cleaning liquid supply line 142 and an inner passage 143 connected to the inner passage 143 in a state in which the rotary shaft 121 is rotatable, A rotary joint 144 provided on the rotary shaft 121 so that the rotary shaft 143 is connected to the cleaning liquid supply line 142 and a rotary joint 144 provided on the rotary shaft 120, A distribution supply member 145 provided on the rotary shaft 121 for distributing and supplying a cleaning liquid to each of the cleaning liquid supply lines 130, a pressure maintaining unit 146 installed in the cleaning liquid supply line 142, . ≪ / RTI >
공급펌프(141)는 세정액이 채워진 탱크 등으로부터 세정액을 펌핑에 의해 세정액공급라인(142)을 통해서 공급되도록 한다. 또한 내부통로(143)는 회전축(121)의 길이방향을 따라 마련됨으로써 회전축(121)이 중공축 또는 이중관 등으로 이루어지도록 한다. 또한 분배공급부재(145)는 회전축(121)이 중심에 장착되고, 내부통로(143)로부터 공급되는 세정액을 분사노즐(130)에 분배 공급하는 분배유로(미도시)가 내측에 형성되는 판상부재로 이루어질 수 있으며, 분사노즐(130)의 배열 형태로 따라 원형 또는 사각형을 비롯하여 다양한 형태를 가질 수 있고, 분사노즐(130)이 나사 결합 또는 억지 끼움 등에 의해 고정될 수 있다. 또한 압력유지유닛(146)은 일례로 압력을 유지하도록 개폐정도를 조절하는 압력유지밸브로 이루어지거나, 압력센서에 의해 세정액의 공급압력을 측정하여 공급압력에 따라 개방정도를 조절할 수 있는 제어밸브로 이루어질 수 있으며, 이 밖에도 레귤레이터를 비롯하여 다양한 압력 유지용 장치가 사용될 수 있다. The supply pump 141 allows the cleaning liquid to be supplied from the tank or the like filled with the cleaning liquid through the cleaning liquid supply line 142 by pumping. The inner passage 143 is provided along the longitudinal direction of the rotating shaft 121 so that the rotating shaft 121 is made of a hollow shaft or a double tube. The distribution supply member 145 is also provided with a discharge passage (not shown) for distributing and supplying the cleaning liquid supplied from the internal passage 143 to the spray nozzle 130, And may have various shapes including a circular shape or a square shape along with the arrangement of the spray nozzles 130, and the spray nozzle 130 may be fixed by screwing or interference fit. The pressure holding unit 146 may be a pressure holding valve for adjusting the degree of opening and closing to maintain the pressure, a control valve for measuring the supply pressure of the cleaning liquid by a pressure sensor, In addition, a variety of pressure holding devices, including a regulator, may be used.
회전구동부(150)는 회전장착부재(120)를 회전시킴으로써 홀(11) 내측의 세정액이 원심력에 의해 외부로 배출되도록 한다. 이러한 회전구동부(150)는 일례로, 회전장착부재(120)에 마련된 회전축(121)에 회전력을 제공하는 회전모터(151)를 포함할 수 있고, 나아가서, 회전모터(151)가 정해진 주기 또는 설정된 주기를 기준으로 정방향과 역방향으로 교번하여 회전하도록 제어하는 모터제어부(153)를 더 포함할 수 있다. 여기서 회전모터(151)는 모터축(152)이 회전장착부재(120)의 회전축(121)에 직접 연결되거나, 모터축(152)이 다수의 기어나 감속기 또는 벨트 및 풀리 등에 의해 회전장착부재(120)의 회전축(121)에 연결될 수도 있다.The rotation driving unit 150 rotates the rotation mounting member 120 so that the cleaning liquid inside the hole 11 is discharged to the outside by the centrifugal force. The rotation driving unit 150 may include a rotation motor 151 that provides a rotation force to the rotation shaft 121 provided on the rotation mounting member 120. In addition, And a motor control unit 153 for alternately rotating the motor in the forward direction and the reverse direction based on the period. The motor 151 is connected to the rotary shaft 121 of the rotary mounting member 120 or the motor shaft 152 is connected to the rotary mounting member 120 by a plurality of gears, 120, respectively.
한편 공급펌프(141)와 모터제어부(153) 등의 구동을 제어하기 위하여, 별도의 메인제어부(미도시)가 마련될 수 있다. 메인제어부는 사용자의 조작신호를 수신받아 정해진 프로세스에 따라 페이스 플레이트(10)에 대한 세정을 수행하도록 공급펌프(141)와 모터제어부(153) 등을 제어할 수 있다. In order to control the driving of the supply pump 141 and the motor control unit 153, a separate main control unit (not shown) may be provided. The main control unit may receive the operation signal of the user and control the supply pump 141 and the motor control unit 153 to perform cleaning of the face plate 10 according to a predetermined process.
이와 같은 본 발명에 따른 샤워 헤드의 페이스 플레이트 세정장치의 작용을 설명하기로 한다.Hereinafter, the operation of the showerhead face plate cleaning apparatus according to the present invention will be described.
도 2를 참조하면, 세정을 필요로 하는 페이스 플레이트(10)를 회전장착부재(120)의 장착부(122) 내에 장착한다. 이때, 도 1에 도시된 바와 같이, 페이스 플레이트(10)의 홀(11)이 장착부(122) 아래의 주입홀(123)에 연결되도록 한다. 그런 다음, 공급펌프(141)의 구동에 의해 세정액이 세정액공급라인(142), 내부통로(143) 및 분배공급부재(145)를 통해서 분사노즐(130)에 공급되도록 함으로써 세정액의 분사에 의해 페이스 플레이트(10)의 홀(11)에 대한 세정이 이루어지도록 한다. Referring to FIG. 2, the face plate 10 requiring cleaning is mounted in the mounting portion 122 of the rotary mounting member 120. At this time, as shown in FIG. 1, the hole 11 of the face plate 10 is connected to the injection hole 123 below the mounting portion 122. Then, by driving the supply pump 141, the cleaning liquid is supplied to the injection nozzle 130 through the cleaning liquid supply line 142, the internal passage 143, and the distribution supply member 145, So that the cleaning of the hole 11 of the plate 10 is performed.
한편, 이러한 분사노즐(130)에 의한 세정액 분사와 동시에 또는 분사노즐(130)에 의한 세정액 분사를 마치면, 회전모터(151)의 구동에 의해 회전장착부재(120)가 회전함으로써 페이스 플레이트(10) 내의 홀(11)에 존재하는 세정액이 홀(11)의 표면으로부터 분리되는 오염물과 함께 외부로 배출되도록 한다. The rotation of the rotation mounting member 120 causes the rotation of the rotation mounting member 120 to rotate the face plate 10 to rotate the rotation mounting member 120. [ So that the cleaning liquid present in the hole 11 in the hole 11 is discharged to the outside together with contaminants separated from the surface of the hole 11. [
이와 같이 샤워 헤드의 페이스 플레이트(10)를 별도의 장치에 장착하여, 페이스 플레이트(10)의 홀(11)에 대한 세정액의 분사와 원심력에 의해 세정이 이루어지도록 함으로써 페이스 플레이트(10)에 대한 세정 효과가 뛰어나도록 하고, 세정과정에서 프로세스챔버를 비롯하여 주변 장치에 대한 오염을 방지함으로써 세정에 소요되는 시간과 노력을 줄일 수 있다.As described above, the face plate 10 of the shower head is mounted in a separate apparatus, and cleaning is performed by the centrifugal force and the spraying of the cleaning liquid onto the holes 11 of the face plate 10, And the time and effort required for cleaning can be reduced by preventing contamination of peripheral devices including the process chamber during the cleaning process.
이와 같이 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 설명하였으나, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 이루어질 수 있음은 물론이다. 그러므로, 본 발명의 범위는 설명된 실시예에 한정되어서는 아니되며, 후술하는 특허청구범위뿐만 아니라 이러한 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.Although the present invention has been described with reference to the accompanying drawings, it is to be understood that various changes and modifications may be made without departing from the spirit of the invention. Therefore, the scope of the present invention should not be limited to the described embodiments, but should be determined by the scope of the appended claims and equivalents thereof.
110 : 세정챔버 111 : 세정공간
112 : 커버 113 : 배출로
114 : 개폐밸브 120 : 회전장착부재
121 : 회전축 122 : 장착부
123 : 주입홀 124 : 베어링
125 : 테두리부 130 : 분사노즐
140 : 세정액공급부 141 : 공급펌프
142 : 세정액공급라인 143 : 내부통로
144 : 로터리조인트 145 : 분배공급부재
146 : 압력유지유닛 150 : 회전구동부
151 : 회전모터 152 : 모터축
153 : 모터제어부
110: Cleaning chamber 111: Cleaning space
112: cover 113: exhaust passage
114: opening / closing valve 120: rotary mounting member
121: rotating shaft 122:
123: injection hole 124: bearing
125: rim 130: injection nozzle
140: cleaning liquid supply unit 141: supply pump
142: cleaning liquid supply line 143: internal passage
144: Rotary joint 145: Dispense supply member
146: pressure maintaining unit 150: rotation driving unit
151: Rotation motor 152: Motor shaft
153:

Claims (5)

  1. 다수의 홀을 가진 페이스 플레이트를 세정하는 장치에 있어서,
    내측에 세정공간이 형성되는 세정챔버;
    상기 세정공간에 위치하도록 상기 세정챔버 내에 회전 가능하게 설치되고, 상기 페이스 플레이트가 상기 홀의 양측이 개방되도록 장착되는 장착부가 마련되는 회전장착부재;
    상기 홀의 내측에 세정액을 분사하도록 상기 회전장착부재에 설치되는 분사노즐;
    상기 분사노즐에 분사되기 위한 세정액을 공급하는 세정액공급부; 및
    상기 회전장착부재를 회전시킴으로써 상기 홀 내측의 세정액이 원심력에 의해 외부로 배출되도록 하는 회전구동부를 포함하고,
    상기 세정액공급부는,
    세정액의 공급을 위한 펌핑력을 제공하는 공급펌프;
    상기 공급펌프로부터 공급되는 세정액을 상기 회전장착부재에 마련된 회전축에 공급하도록 연결되는 세정액공급라인;
    상기 세정액공급라인과 연결되도록 상기 회전축에 마련되는 내부통로;
    상기 회전축이 회전이 가능한 상태로 상기 내부통로가 상기 세정액공급라인에 연결되도록 상기 회전축에 마련되는 로터리조인트;
    상기 내부통로와 연결되어 상기 회전장착부재에 다수로 설치된 상기 분사노즐 각각에 세정액을 분배하여 공급하도록 상기 회전축에 마련되는 분배공급부재; 및
    상기 세정액공급라인에 설치되고, 세정액이 정해진 압력으로 공급되도록 하는 압력유지유닛을 포함하는, 샤워 헤드의 페이스 플레이트 세정장치.
    An apparatus for cleaning a face plate having a plurality of holes,
    A cleaning chamber in which a cleaning space is formed inside;
    A rotation mounting member rotatably installed in the cleaning chamber so as to be located in the cleaning space and having a mounting portion to which the face plate is mounted so that both sides of the hole are opened;
    A spray nozzle mounted on the rotary mounting member to spray a cleaning liquid into the hole;
    A cleaning liquid supply unit for supplying a cleaning liquid to be sprayed onto the spray nozzle; And
    And a rotation driving unit for rotating the rotation mounting member so that the cleaning liquid inside the hole is discharged to the outside by centrifugal force,
    The cleaning liquid supply unit includes:
    A feed pump for providing a pumping force for feeding the rinsing liquid;
    A cleaning liquid supply line connected to supply a cleaning liquid supplied from the supply pump to a rotary shaft provided in the rotary mounting member;
    An inner passage provided on the rotary shaft to be connected to the cleaning liquid supply line;
    A rotary joint provided on the rotary shaft such that the rotary shaft is rotatable so that the inner passage is connected to the cleaning liquid supply line;
    A distribution supply member provided on the rotary shaft to distribute and supply a cleaning liquid to each of the spray nozzles connected to the internal passage and provided in a plurality of the rotary mounting members; And
    And a pressure maintaining unit installed in the cleaning liquid supply line, the pressure maintaining unit causing the cleaning liquid to be supplied at a predetermined pressure.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 회전장착부재는,
    하방으로 연장되도록 마련되는 회전축에 의해 상기 세정챔버 내에 회전 가능하게 설치되고, 상기 장착부가 상방으로 개방되도록 홈의 형태로 형성되며, 상기 장착부에 장착된 상기 페이스 플레이트의 홀에 각각 연결되도록 상기 장착부의 하부에 다수의 주입홀이 형성되고,
    상기 분사노즐은,
    다수로 이루어져서 상기 주입홀 각각에 설치되는, 샤워 헤드의 페이스 플레이트 세정장치.
    The method according to claim 1,
    Wherein the rotation-
    And is rotatably installed in the cleaning chamber by a rotation shaft provided to extend downward and is formed in the shape of a groove to open the mounting portion upward, A plurality of injection holes are formed in the lower portion,
    The spray nozzle
    Wherein the plurality of showerheads are installed in each of the injection holes.
  3. 삭제delete
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 분배공급부재는,
    상기 회전축이 중심에 장착되고, 상기 내부통로로부터 공급되는 세정액을 상기 분사노즐에 분배 공급하는 분배유로가 내측에 형성되는 판상부재로 이루어지는, 샤워 헤드의 페이스 플레이트 세정장치.
    The method according to claim 1,
    Wherein the distribution supply member comprises:
    Wherein the rotary shaft is mounted at the center and a distribution channel for distributing and supplying the cleaning liquid supplied from the internal passage to the injection nozzle is formed inside.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 회전구동부는,
    상기 회전장착부재에 마련된 회전축에 회전력을 제공하는 회전모터를 포함하고,
    상기 회전모터가 정해진 주기 또는 설정된 주기를 기준으로 정방향과 역방향으로 교번하여 회전하도록 제어하는 모터제어부를 더 포함하는, 샤워 헤드의 페이스 플레이트 세정장치.
    The method according to claim 1,
    The rotation drive unit includes:
    And a rotation motor provided on the rotary mounting member to provide a rotary force to the rotary shaft,
    Further comprising a motor control unit for controlling the rotation motor to alternately rotate in a forward direction and a reverse direction based on a predetermined period or a predetermined period.
KR1020130089224A 2013-07-29 2013-07-29 Apparatus for cleaning face plate of shower head KR101455045B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130089224A KR101455045B1 (en) 2013-07-29 2013-07-29 Apparatus for cleaning face plate of shower head

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130089224A KR101455045B1 (en) 2013-07-29 2013-07-29 Apparatus for cleaning face plate of shower head

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101455045B1 true KR101455045B1 (en) 2014-10-27

Family

ID=51998804

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020130089224A KR101455045B1 (en) 2013-07-29 2013-07-29 Apparatus for cleaning face plate of shower head

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101455045B1 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101596930B1 (en) * 2015-01-12 2016-02-23 주식회사 싸이노스 A washing apparatus
KR20160050719A (en) * 2014-10-30 2016-05-11 주식회사 싸이노스 A washing apparatus
KR20180056961A (en) * 2016-11-21 2018-05-30 세메스 주식회사 Substrate supporting member and probe station having the same

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100987827B1 (en) * 2008-05-26 2010-10-13 주식회사 나래나노텍 A Cleaning Apparatus, A Cleaning System and A Cleaning Method of Cleaning A Nozzle Dispenser
KR20130037099A (en) * 2011-10-05 2013-04-15 주식회사 싸이노스 Cleaning apparatus for a shower-head used in manufacturing process of semiconductor

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100987827B1 (en) * 2008-05-26 2010-10-13 주식회사 나래나노텍 A Cleaning Apparatus, A Cleaning System and A Cleaning Method of Cleaning A Nozzle Dispenser
KR20130037099A (en) * 2011-10-05 2013-04-15 주식회사 싸이노스 Cleaning apparatus for a shower-head used in manufacturing process of semiconductor

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160050719A (en) * 2014-10-30 2016-05-11 주식회사 싸이노스 A washing apparatus
KR101623966B1 (en) 2014-10-30 2016-06-07 주식회사 싸이노스 A washing apparatus
KR101596930B1 (en) * 2015-01-12 2016-02-23 주식회사 싸이노스 A washing apparatus
KR20180056961A (en) * 2016-11-21 2018-05-30 세메스 주식회사 Substrate supporting member and probe station having the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4938892B2 (en) Cleaning method and associated apparatus for partition plates and venturi containment systems in tools used to process microelectronic semi-finished products with one or more processing fluids
KR101455045B1 (en) Apparatus for cleaning face plate of shower head
JP2006273671A (en) Crucible washing device
KR20160008720A (en) Substrate treating apparatus and method
KR20180011732A (en) Substrate treating apparatus
KR101026058B1 (en) MOCVD Apparatus
KR101741688B1 (en) Method for manufacturing thin film and apparatus for thereof
JPH10223593A (en) Single-wafer cleaning device
KR101504138B1 (en) Apparatus for depositing thin film on wafer and method for cleaning the apparatus
KR100864868B1 (en) Apparatus for depositing thin film on a wafer
TWM548887U (en) Substrate processing apparatus and spray head cleaning device
KR101502857B1 (en) Member for supporting substrate, apparatus for treating substrate with the member and method for treating substrate
KR101869948B1 (en) Gas injecting device and Substrate processing apparatus having the same
KR101398441B1 (en) Single type cleaning apparatus for substrate
KR20200059126A (en) Substrate cleaning apparatus
KR20190077931A (en) Apparatus for Processing Substrate
TW202100799A (en) Apparatus for processing substrate
JP2020077728A (en) Washing method and washing apparatus
KR20090132965A (en) Single wafer type cleaning apparatus
TWI640369B (en) Substrate processing apparatus, spray head cleaing device and method for cleaning spray head
KR20140144030A (en) Apparatus for preventing powder and processing substrate
KR20070049502A (en) Apparatus for spraying a fluid and apparatus for manufacturing semiconductor device comprising the same
KR20170108272A (en) Substrate disposition apparatus
KR20170093366A (en) Wafer Cleaning Apparatus
KR200453720Y1 (en) Single wafer type cleaning apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171020

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181031

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191021

Year of fee payment: 6