KR100917908B1 - Device for treating gas in a mixed way - Google Patents

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Abstract

본 발명은 중공 실린더형 가열장치를 내부에 포함하는 실린더형 산화챔버로서, 상기 가열장치와 동심으로 중앙에 배치된 유입구를 통해 공기와 물이 유입되어 고온 다습한 공기로 되고, 상기 산화챔버의 측면에 대해 수직으로 처리대상 가스가 유입되어 가열되며, 상기 고온 다습한 공기 및 상기 가스가 혼합되어 산화반응을 일으키면서 상기 산화챔버의 외벽과 상기 가열장치 사이의 공간을 통해 하부로 가스가 유동하는 산화챔버와; 상기 산화챔버 하부에 연결되고, 상기 산화챔버로부터 유입되는 가스가 통과하는 공간의 단면적을 줄여 가스의 기류를 가속시키면서 절환시키는 기류 절환기와; 상기 기류 절환기에서 가스 기류의 절환시 그 속도변화에 의해 분리되어 떨어지는 고형물을 하부에 담겨 있는 물 위로 수집하도록 중심부가 비어있는 실린더형 습식챔버로서, 상기 기류 절환기를 통해 유입되는 가스를 처리하도록 가스에 물을 사방으로 분사하는 노즐 링과 이 노즐 링 하부에 위치된 충진제를 포함하며, 충진제를 통과한 가스를 배기구를 통해 배출시키고 하부의 물은 배수구를 통해 배출시키는 습식챔버와; 상기 습식챔버로부터 배출되는 가스를 외부로 배출시키도록 상기 습식챔버의 배기구와 연결되어 있고, 하부로부터 상부로 상승하는 가스를 추가적으로 처리하도록 하나 이상의 충진제 및 분사노즐이 가스 배출경로에 설치되어 있는 배출칼럼과; 상기 습식챔버의 배출구와 상기 배출칼럼의 분사노즐로부터 흘러내려오는 물이 순환되도록 상기 배출 칼럼의 분사 노즐에 공급하는 순환 펌프와, 이 물을 외부로 배출하는 배출 펌프를 포함하는 순환탱크;를 포함하는 혼합식 가스처리장치를 제공한다. 본 발명의 혼합식 가스처리장치에 의하면, 산화챔버 내의 가열장치에 의해 처리대상 가스를 효율적으로 산화시킬 수 있으며, 기류 절환기 내에서 가스기류를 효과적으로 가속시킬 수 있어 용이하게 고형물을 분리시킬 수 있고, 습식챔버 내의 노즐링에 의해 고형물의 포집 효율을 최대화할 수 있다. 뿐만 아니라, 순환탱크를 사용하여 장치 내에서 물을 순환시킴으로써 장치의 작동 효율을 높일 수 있다.The present invention relates to a cylindrical oxidation chamber including a hollow cylindrical heating device therein, wherein air and water are introduced into a high temperature and high humidity air through an inlet centrally arranged concentrically with the heating device, and the side surface of the oxidation chamber. The gas to be processed is introduced and heated vertically with respect to the oxidation, and the gas flows downward through the space between the outer wall of the oxidation chamber and the heating device while causing the oxidation reaction by mixing the hot and humid air and the gas. A chamber; An airflow switch connected to a lower portion of the oxidation chamber and configured to reduce the cross-sectional area of a space through which the gas flowing from the oxidation chamber passes and to accelerate and change the airflow of the gas; A cylindrical wet chamber having an empty center to collect the solids separated and separated by the speed change when the gas flow is switched in the air flow switch, and the gas to process the gas flowing through the air flow changer. A wet chamber including a nozzle ring for injecting water in all directions and a filler located below the nozzle ring, for discharging gas passing through the filler through an exhaust port, and discharging water in the lower part through a drain port; A discharge column connected to the exhaust port of the wet chamber to discharge the gas discharged from the wet chamber to the outside, and one or more fillers and injection nozzles are installed in the gas discharge path to further process the gas rising from the bottom to the top and; And a circulation tank including a circulation pump for supplying an injection nozzle of the discharge column to circulate water flowing from the discharge port of the wet chamber and the injection nozzle of the discharge column, and a discharge pump for discharging the water to the outside. It provides a mixed gas treatment apparatus. According to the mixed gas treatment device of the present invention, the gas to be treated can be efficiently oxidized by the heating device in the oxidation chamber, and the gas stream can be effectively accelerated in the air flow changer, so that the solids can be easily separated. In addition, the collection efficiency of the solids can be maximized by the nozzle ring in the wet chamber. In addition, it is possible to increase the operating efficiency of the device by circulating water in the device using a circulation tank.

산화챔버, 습식챔버, 배출칼럼, 순환탱크 Oxidation chamber, wet chamber, discharge column, circulation tank

Description

혼합식 가스처리장치{DEVICE FOR TREATING GAS IN A MIXED WAY}Mixed Gas Treatment System {DEVICE FOR TREATING GAS IN A MIXED WAY}

본 발명은 오염된 가스를 처리하는 가스처리장치에 관한 것이다. 보다 구체적으로는 산화 반응에 의해 가스를 처리하고 또한 습식으로 가스를 처리하는 혼합식 가스처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to a gas treatment apparatus for treating a contaminated gas. More specifically, the present invention relates to a mixed gas treating apparatus for treating a gas by an oxidation reaction and wet treating the gas.

산업현장에서 사용되는 여러 장치에서는 유독성분을 포함하는 가스를 배출하게 마련이다. 화학산업시설, 폐기물처리시설, 반도체와 같은 제조산업시설 등등으로부터 배출되는 가스에는 여러가지 다양한 유독성분이 포함되어 있고 이러한 유독성분의 종류와 양은 산업발전과 함께 점점 증가하고 있다. 이러한 배출가스(예를 들어 실란(SiH4), 수소(2H2), 불소(F2), 암모니아(NH3), 육불화황(SF6), 포스핀(2PH3), 디클로로실렌(SiH2O2), 삼불화질소(2NF3) 등등)는 보통 환경에 매우 유독함에도 잘 인지되지 못하는 경우가 많다. 따라서, 이러한 가스가 대기로 방출되기 전에 유독성분을 제거하여 환경오염을 방지해야 한다.Many of the devices used in industrial sites produce gases that contain toxic components. Gas emitted from chemical industry facilities, waste treatment facilities, manufacturing industry facilities such as semiconductors, etc. contains a variety of toxic components, and the type and amount of these toxic components are increasing with industrial development. Such exhaust gases (eg silane (SiH 4 ), hydrogen (2H 2 ), fluorine (F 2 ), ammonia (NH 3 ), sulfur hexafluoride (SF 6 ), phosphine (2PH 3 ), dichlorosilane (SiH 2 O 2 ), nitrogen trifluoride (2NF 3 ), etc.) are usually very toxic to the environment but often not well recognized. Therefore, toxic components must be removed before these gases are released into the atmosphere to prevent environmental pollution.

이러한 유독성분을 함유하는 가스를 처리하여 정화시키는 방법은 현재 여러가지 방법이 있으며 널리 알려져 있다. 이러한 공지된 방법에는 충전탑이나 분무탑을 이용하여 처리될 가스를 세정액과 접촉시키거나 스크러버에 유독성분을 흡수 시켜 분해시키는 것과 같은 습식법과, 처리될 가스가 흡착제 또는 산화제와 같은 정화제를 통과하거나 산화반응을 이용하는 건식법이 있다.There are various methods for treating and purifying a gas containing such toxic components at present and are widely known. Such known methods include wet methods such as contacting a gas to be treated with a cleaning liquid with a packed column or a spray tower, or absorbing toxic components in a scrubber to decompose it, and the gas to be treated passes through a purifying agent such as an adsorbent or an oxidizing agent or oxidizes. There is a dry method using the reaction.

습식법만을 사용하여 가스를 처리하는 경우 액체 성분에 의해 장치가 부식하거나 용수의 확보와 사용 후 배수를 처리하여야 하는 어려움 등이 문제가 되며 그 유지비용도 비싸다. 또한 가스 내에 고형물질이나 입자등이 포함되어 있는 경우 장치 내에 폐색 현상이 발생되며, 충전탑 내에서 액체와 기체의 편류현상도 종종 발생하는 문제점이 있다. 또한, 습식법에서 사용되는 노즐은 보통 한 방향으로 분사되어 액화범위가 넓지 못하고 습식챔버의 특정부분은 세정되지 않아 부식이 발생하게 된다.When the gas is treated only by the wet method, problems such as corrosion of the device due to liquid components, difficulty in securing water and disposal of waste after use are expensive, and the maintenance cost is high. In addition, when a solid material or particles are contained in the gas, a blockage occurs in the apparatus, and there is a problem that a liquid and gas drift phenomenon often occur in the packed column. In addition, the nozzles used in the wet method are usually sprayed in one direction, so that the liquefaction range is not wide and certain parts of the wet chamber are not cleaned, causing corrosion.

건식법의 경우에도 습식법만을 사용하는 경우와 관련된 문제를 해결할 수 있지만, 복잡한 장치를 필요로하는 예비 습식처리를 해야하는 문제점이 여전히 남아 있고, 예를 들어 촉매를 사용하는 건식법의 경우 습식법에서 수반되는 문제는 없지만 유독성분을 처리하는 효율이 습식법에 비해 떨어지는 단점이 있다. In the case of the dry method, the problem associated with the use of only the wet method can be solved. However, the problem of the preliminary wet treatment requiring a complicated device still remains. For example, in the case of the dry method using the catalyst, the problem associated with the wet method is However, there is a disadvantage in that the efficiency of treating toxic components is inferior to the wet method.

또한, 종래기술 중에는 산화반응을 이용하는 건식법과 습식법을 함께 사용하는 가스처리장치도 알려져 있으나, 처리대상 가스가 챔버의 상판과 연결되어 있어 가스가 내부로 유입될 때 층류 또는 편류의 내부 기류가 형성되어 챔버 내에 고형물이 쌓이게 되는 문제점이 발생한다. 또한, 산화반응에 이용되는 히터가 외부에 있는 경우 외부로 전달되는 열을 사용하지 못하므로 히터의 열효율이 낮아 대용량으로 처리할 수 없는 단점이 있고, 히터가 내부 중앙에 삽입형으로 있는 경우에도 고형물이 히터에 부착되어 잦은 청소가 필요하다. 뿐만 아니라 산화를 위해 공급되 는 공기가 상온으로 투입되어 적정 반응온도에 도달하는데 시간이 걸려 산화반응의 효율이 낮고, 수증기가 공급되는 경우에도 보통 가열기가 외부에 배치되어 있어 수증기가 공급되는 중간에 배관 내에서 응결되고 고형물이 챔버 내부의 공급단에서 침적되는 문제가 발생하고 있다.In addition, in the prior art, a gas treatment apparatus using both a dry method and a wet method using an oxidation reaction is also known, but the gas to be treated is connected to the upper plate of the chamber, so that when the gas is introduced therein, laminar or drift internal air flow is formed. There is a problem that the solids accumulate in the chamber. In addition, when the heater used for the oxidation reaction is outside, the heat transmitted to the outside cannot be used, and thus, the heat efficiency of the heater is low, so that it cannot be processed in a large capacity. Attached to the heater requires frequent cleaning. In addition, the air supplied for oxidation is introduced to room temperature, and it takes a long time to reach an appropriate reaction temperature, so the efficiency of the oxidation reaction is low, and even when steam is supplied, a heater is usually arranged outside so that water vapor is supplied in the middle. There is a problem of condensation in the pipe and solids deposited at the feed end inside the chamber.

본 발명의 목적은 상술한 문제점을 해결하고자 한다.An object of the present invention is to solve the above problems.

구체적으로, 산화반응을 이용하는 건식법과 함께 습식법을 사용하여 처리대상 가스의 처리효율을 최대화하는 것을 목적으로 한다.Specifically, it is an object to maximize the treatment efficiency of the gas to be treated by using a wet method together with a dry method using an oxidation reaction.

또한, 산화반응의 효율을 높이는 동시에 고형물이 침적되는 문제를 최소화하고자 한다.In addition, while improving the efficiency of the oxidation reaction to minimize the problem of depositing solids.

습식처리시 부유 고형물의 포집 효율을 최대화하면서 습식챔버 내의 부식 문제도 해결하고자 한다.In the wet treatment, the problem of corrosion in the wet chamber is also solved while maximizing the collection efficiency of the suspended solids.

기타, 본 발명의 다른 목적 및 장점은 첨부된 도면을 참고하여 후술하는 실시예에 대한 설명을 보면 이해할 수 있을 것이다.Other objects and advantages of the present invention will be understood from the following description of the embodiments with reference to the accompanying drawings.

상술한 목적과 기타 목적을 달성하기 위해, 본 발명은, 중공 실린더형 가열장치를 내부에 포함하는 실린더형 산화챔버로서, 상기 가열장치와 동심으로 중앙에 배치된 유입구를 통해 공기와 물이 유입되어 고온 다습한 공기로 되고, 상기 산화챔버의 측면에 대해 수직으로 처리대상 가스가 유입되어 가열되며, 상기 고온 다습한 공기 및 상기 가스가 혼합되어 산화반응을 일으키면서 상기 산화챔버의 외벽과 상기 가열장치 사이의 공간을 통해 하부로 가스가 유동하는 산화챔버와; 상기 산화챔버 하부에 연결되고, 상기 산화챔버로부터 유입되는 가스가 통과하는 공간의 단면적을 줄여 가스의 기류를 가속시키면서 절환시키는 기류 절환기와; 상기 기류 절환기에서 가스 기류의 절환시 그 속도변화에 의해 분리되어 떨어지는 고형물을 하부에 담겨 있는 물 위로 수집하도록 중심부가 비어있는 실린더형 습식챔버로서, 상기 기류 절환기를 통해 유입되는 가스를 처리하도록 사방으로 가스에 물을 분사하는 노즐 링과 이 노즐 링 하부에 위치된 충진제를 포함하며, 충진제를 통과한 가스를 배기구를 통해 배출시키고 하부의 물은 배수구를 통해 배출시키는 습식챔버와; 상기 습식챔버로부터 배출되는 가스를 외부로 배출시키도록 상기 습식챔버의 배기구와 연결되어 있고, 하부로부터 상부로 상승하는 가스를 추가적으로 처리하도록 하나 이상의 충진제 및 분사노즐이 가스 배출경로에 설치되어 있는 배출칼럼과; 상기 습식챔버의 배출구와 상기 배출칼럼의 분사노즐로부터 흘러내려오는 물이 순환되도록 상기 배출 칼럼의 분사 노즐에 공급하는 순환 펌프와, 이 물을 외부로 배출하는 배출 펌프를 포함하는 순환탱크;를 포함하는 혼합식 가스처리장치를 제공한다.In order to achieve the above object and other objects, the present invention is a cylindrical oxidation chamber including a hollow cylindrical heating device therein, the air and water is introduced through the inlet arranged in the center concentric with the heating device It becomes hot and humid air, the gas to be processed is introduced and heated vertically with respect to the side surface of the oxidation chamber, and the hot and humid air and the gas are mixed to cause an oxidation reaction and the outer wall of the oxidation chamber and the heating device. An oxidation chamber through which gas flows downward through a space therebetween; An airflow switch connected to a lower portion of the oxidation chamber and configured to reduce the cross-sectional area of a space through which the gas flowing from the oxidation chamber passes and to accelerate and change the airflow of the gas; When the gas flow is switched in the air flow switch, a cylindrical wet chamber having an empty center to collect the solids separated and separated by the speed change therein, and to handle the gas flowing through the air flow switch. A wet chamber including a nozzle ring for injecting water into the gas and a filler positioned below the nozzle ring, and discharging the gas passing through the filler through the exhaust port, and discharging the water through the drain port; A discharge column connected to the exhaust port of the wet chamber to discharge the gas discharged from the wet chamber to the outside, and one or more fillers and injection nozzles are installed in the gas discharge path to further process the gas rising from the bottom to the top and; And a circulation tank including a circulation pump for supplying an injection nozzle of the discharge column to circulate water flowing from the discharge port of the wet chamber and the injection nozzle of the discharge column, and a discharge pump for discharging the water to the outside. It provides a mixed gas treatment apparatus.

본 발명의 산화챔버 내의 가열장치에 의해 처리대상 가스는 효율적으로 산화반응이 일어나게 되고, 가스절환기에 의해 고형물의 분리가 용이하며, 또한 노즐 링에 의해 습식챔버 내의 가스를 효율적으로 처리할 수 있다. By the heating apparatus in the oxidation chamber of the present invention, the gas to be treated is efficiently oxidized, the solids are easily separated by the gas changer, and the gas in the wet chamber can be efficiently processed by the nozzle ring. .

바람직하게, 상기 기류 절환기는 상기 산화챔버 하부에 위치된 원추형 모양의 금속촉매부와, 상기 금속촉매부와의 사이 공간에서 가스기류가 가속되도록 상하부가 개방된 역 원추형 형상으로서 상기 금속촉매부를 둘러싸는 상부 날개부와, 상기 가스기류를 습식챔버 쪽으로 가이드하도록 상하부가 개방된 역 원추형 형상으로 상기 상부 날개부의 하부를 둘러싸는 하부 날개부를 포함하여 이루어져 있다.Preferably, the air flow switching unit surrounds the metal catalyst part as a conical metal catalyst located under the oxidation chamber and an inverted conical shape whose upper and lower parts are opened so that a gas flow is accelerated in a space between the metal catalyst part. And an upper wing portion and a lower wing portion surrounding a lower portion of the upper wing portion in an inverted conical shape in which an upper and a lower portion are opened to guide the gas stream toward the wet chamber.

이러한 구조에 의해 단면적이 줄어드는 기류 절환기에 의해 가스기류는 가속되어 고형물을 쉽게 분리시킨 후 습식챔버 내로 들어갈 수 있다.With this structure, the gas flow is accelerated by the airflow changer whose cross-sectional area is reduced so that the solids can be easily separated and then entered into the wet chamber.

또한 바람직하게, 상기 상부 날개부의 하부면은 링을 포함하고, 상기 하부 날개부의 상부면은 돌출부를 포함한다. Also preferably, the lower surface of the upper wing portion includes a ring, and the upper surface of the lower wing portion includes a protrusion.

링에 의해 습식챔버로부터 물이 넘어오는 것이 방지되고, 돌출부에 의해 통로에 고형물이 부착되는 것을 막을 수 있다.The ring prevents water from flowing out of the wet chamber and prevents solids from adhering to the passageway by the protrusions.

또한 바람직하게, 상기 혼합식 가스처리장치는, 상기 습식챔버 중앙에 위치되어 있고 모터에 의해 회전되는 회동부재를 더 포함하고, 상기 하부 날개부의 하부가 상기 회동부재와 연결되어 상기 회동부재의 회전시 상기 하부 날개부도 함께 회전할 수 있다.Also preferably, the mixed gas treatment apparatus further includes a rotating member located at the center of the wet chamber and rotated by a motor, wherein a lower portion of the lower wing is connected to the rotating member to rotate the rotating member. The lower wing may also rotate together.

회동부재가 회전함으로써 떨어지는 고형물이 분쇄될 수 있다. 따라서, 습식챔버 중앙으로 떨어지는 고형물의 처리가 용이하다.Falling solids may be pulverized by rotating the rotating member. Therefore, it is easy to process solids falling into the wet chamber center.

또한 바람직하게, 상기 배출 칼럼 내의 분사노즐 중 하나 이상의 분사노즐은 순환 펌프에 의해 공급되는 물을 분사하며, 나머지 분사노즐은 외부에서 별도로 공급되는 시수를 분사한다.Also, preferably, one or more of the injection nozzles in the discharge column injects water supplied by the circulation pump, and the remaining injection nozzles inject time water supplied separately from the outside.

상술한 본 발명의 구성에 의하면, 산화챔버 내의 가열장치에 의해 처리대상 가스를 효율적으로 산화시킬 수 있다. 또한, 기류 절환기 내의 가스기류를 효과적으로 가속시킬 수 있어 용이하게 고형물을 분리시킬 수 있고, 습식챔버 내의 노즐링에 의해 고형물의 포집 효율을 최대화할 수 있다. 그리고, 순환탱크를 사용하여 장치 내에서 물을 순환시킴으로써 장치의 작동 효율을 높일 수 있다. 뿐만 아니라 산화챔버와 습식챔버 및 배출칼럼을 혼합하여 사용함으로써 가스처리 능력이 개선된다.According to the configuration of the present invention described above, the gas to be treated can be efficiently oxidized by the heating device in the oxidation chamber. In addition, the gas stream in the air flow changer can be effectively accelerated to easily separate the solids, and the collection efficiency of the solids can be maximized by the nozzle ring in the wet chamber. And, by circulating the water in the device using the circulation tank it is possible to increase the operating efficiency of the device. In addition, the gas treatment capacity is improved by using a mixture of an oxidation chamber, a wet chamber and a discharge column.

이하 도면을 참조하여, 본 발명에 대하여 상세히 설명하도록 한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1을 참고하면, 본 발명에 따른 혼합식 가스처리장치에 대한 전체 구성도가 개략적으로 도시되어 있다. Referring to Figure 1, the overall configuration of the mixed gas treatment apparatus according to the present invention is schematically shown.

상기 혼합식 가스처리장치는 유입되는 가스를 처리하는 산화챔버와, 산화챔버를 통과한 가스의 기류를 절환시키는 기류 절환기와, 기류 절환기에 의해 유입되는 가스를 처리하는 산화챔버와, 습식챔버를 통과하여 처리된 가스를 외부로 배출시키는 배출 칼럼과, 상기 가스처리장치 내에서 순환하는 물을 순환시키고 또한 사용된 물을 배출하는 순환탱크를 포함하고 있다.The mixed gas treatment apparatus includes an oxidation chamber for processing an inflow gas, an airflow switch for switching the air flow of the gas passing through the oxidation chamber, an oxidation chamber for processing the gas introduced by the airflow switch, and a wet chamber. And a discharge column for discharging the treated gas through the outside, and a circulation tank for circulating the water circulating in the gas treatment device and discharging the used water.

이하 상기의 구성 및 작용에 대해 도면을 참고하여 구체적으로 설명하도록 한다.Hereinafter, the configuration and operation will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1, 특히 도 2에 산화챔버(10)가 상세하게 묘사되어 있다.The oxidation chamber 10 is depicted in detail in FIG. 1, in particular in FIG. 2.

산화챔버(10)는 원통형 하우징으로 되어 있고, 이 하우징 측벽(17)에 하나 이상의 가스 유입구(11)가 형성되어 있다. 가스 유입구에는 절환된 가스 유입관(19)이 연결되어 이를 통해 처리대상 가스가 산화챔버 내로 들어온다. 산화챔버의 하우징 중심 내부에는 압축공기와 물이 유입되는 유입관(13)이 형성되어 있다. 이 유입관(13)은 하우징의 중심 상부로부터 하우징 내부로 뻗어나간다. 또한, 이 유입관을 둘러싸고 이격된 상태로 가열장치(15)가 형성되어 있다. 가열장치(15)는 중앙부가 비어있는 중공 실린더 형태로 되어 있다. 도 2의 산화챔버에 대한 횡단면인 도 3을 보면, 산화챔버(10)는 중심에 배치된 유입관(13)으로부터 방사상으로 가열장치(15)와 하우징 외벽(17)이 순서대로 동심을 이루며 배열되어 있는 것을 이해할 수 있다.The oxidation chamber 10 is a cylindrical housing, and at least one gas inlet 11 is formed in the housing side wall 17. The switched gas inlet pipe 19 is connected to the gas inlet so that the gas to be treated enters the oxidation chamber. An inlet tube 13 through which compressed air and water flow is formed inside the housing center of the oxidation chamber. This inlet pipe 13 extends from the top of the center of the housing into the housing. Moreover, the heating apparatus 15 is formed in the state spaced apart around this inflow pipe. The heating device 15 is in the form of a hollow cylinder with a hollow central portion. Referring to FIG. 3, which is a cross-sectional view of the oxidation chamber of FIG. 2, the oxidation chamber 10 is arranged in a concentric manner in which the heating device 15 and the housing outer wall 17 are arranged radially from the inlet pipe 13 disposed at the center thereof. I can understand what it is.

도 1 및 도 2에 화살표 B로 표시된 것처럼, 압축공기와 물이 유입관(13)을 통해 산화챔버 내부로 유입되어 하우징 하부에 도달하면, 방향이 전환되어 유입관(13)과 가열장치(15) 사이의 통로를 통해 위로 올라가게 된다. 이때 압축공기와 물은 가열장치(15)에 의해 고온의 다습한 공기가 된다. 가열된 고온 다습한 공기는 하우징 상부에서 분사구멍(14)을 통해 배출되며, 이때 체적이 약 3배로 급격히 팽창하기 때문에 그 분사속도가 매우 빠르다. 따라서, 빠르게 분사되는 공기는 유입구(11)를 통해 유입되는 처리대상 가스(화살표 A로 표시)와 효율적으로 혼합이 이루어지게 되므로, 산화 반응 시간이 단축되고 처리 효율이 향상된다. As indicated by arrows B in FIGS. 1 and 2, when compressed air and water flow into the oxidation chamber through the inlet pipe 13 and reach the lower part of the housing, the direction is changed to the inlet pipe 13 and the heating device 15. Up through the passageway. At this time, the compressed air and water become hot humid air by the heating device 15. The heated hot humid air is discharged through the injection hole 14 in the upper part of the housing, and the injection speed is very fast because the volume expands rapidly about three times. Therefore, the air injected rapidly is efficiently mixed with the gas to be treated (indicated by the arrow A) flowing through the inlet 11, so that the oxidation reaction time is shortened and the treatment efficiency is improved.

그 후, 처리대상 가스와 고온 다습한 공기는 혼합되어 가스기류를 형성하여 화살표 C로 표시된 방향으로 하우징 측벽(17)과 가열장치(15) 사이의 통로를 통해 하부로 내려간다. Thereafter, the gas to be treated and the hot and humid air are mixed to form a gas stream and descend downward through the passage between the housing side wall 17 and the heating device 15 in the direction indicated by the arrow C. FIG.

가열장치(15)는 산화챔버 내에서 유입관(13)을 둘러싸는 형태, 즉 중앙부가 비어 있는 실린더 형태로 되어 있어 열을 사방으로 발산할 수 있기 때문에, 가열장치(15)의 외부로 흐르는 기류와 가열장치(15)의 내부를 타고 올라가는 공기 및 물 을 동시에 가열할 수 있고, 따라서 그 발산하는 열을 최대로 활용할 수 있다.Since the heating device 15 surrounds the inlet pipe 13 in the oxidation chamber, that is, has a cylindrical shape with a hollow central portion, and can radiate heat in all directions, the airflow flowing to the outside of the heating device 15. And the air and water rising up inside the heating device 15 can be heated at the same time, so that the heat dissipated can be utilized to the maximum.

산화챔버(10) 내에서는 유입되는 가스가 산화 반응에 의해 처리된다. 산화챔버 내에는 유입관(19)을 통해 처리대상 가스가 유입되고 또한 유입관(13)을 통해 압축공기와 물이 유입된다. 이들은 모두 가열장치에 의해 고온으로 가열된 상태에 있게 되고, 이 고온 상태에서 처리대상 가스는 가열된 공기의 산소와 반응하여 안전한 상태의 기체, 액체, 또는 고체로 바뀔 수 있다. 즉, 수소와 산소가 반응하여 수증기 또는 물이 생성되거나, 실란(silane)과 산소가 반응하여 모래와 수증기 또는 물이 생성된다.In the oxidation chamber 10, the gas which flows in is processed by an oxidation reaction. The gas to be treated is introduced into the oxidation chamber through the inlet pipe 19, and compressed air and water are introduced through the inlet pipe 13. They are all in a state of being heated to a high temperature by a heating device, in which the gas to be treated can react with oxygen of the heated air to be converted into a safe gas, liquid, or solid. That is, hydrogen and oxygen react to produce steam or water, or silane and oxygen react to produce sand and steam or water.

종래의 장치에서는 가스 유입구가 챔버의 측면이 아닌 상판에 연결되어 가스의 유입시 층류 또는 편류와 같은 내부 기류가 발생하여 챔버 내부에 고형물이 쌓이고 가스의 유동도 원활하지 못하였다. 본 발명의 상기 가스 유입구(11)는 하우징의 측벽(17)에 형성되어 있고, 유입되는 가스는 절환된 유입관(19)을 통해 하우징 측벽(17)에 수직으로, 원주의 법선 방향으로 유입되어 회전와류를 생성한다. 따라서, 유입 가스는 압축공기 및 물과 혼합이 빠르게 일어나게 되며 발열체 표면의 열을 골고루 흡수한다. 따라서, 상술한 본 발명의 구성에 의하면, 고형물이 산화챔버 내의 벽에 부착되는 것을 막을 수 있다. 나아가 가스가 하부로 이송되는 것도 용이하게 된다.In the conventional apparatus, the gas inlet is connected to the upper plate rather than the side of the chamber, and internal gas flow such as laminar flow or drift occurs when the gas is inflow, so that solids are accumulated inside the chamber and the gas flow is not smooth. The gas inlet 11 of the present invention is formed on the side wall 17 of the housing, the incoming gas is introduced in the circumferential normal direction perpendicular to the housing side wall 17 through the switched inlet pipe 19 Create a rotary vortex. Therefore, the inlet gas is rapidly mixed with the compressed air and water and evenly absorbs heat from the surface of the heating element. Therefore, according to the above-described configuration of the present invention, it is possible to prevent the solids from adhering to the wall in the oxidation chamber. Furthermore, it is also easy for the gas to be transported downward.

한편, 상기 가스 유입구(11)에 연결된 절환된 가스 유입관(19)의 측면에는 두 개의 구멍(18a, 18b)이 형성되어 있을 수 있다. 한 구멍(18a)을 통해서 압축 공기를 주기적으로 주입하여 산화챔버 내에 부착될 수 있는 고형물을 털어낼 수 있 다. 또한, 다른 구멍(18b)은 산화챔버 내의 기류에 영향을 거의 미치지 않을 정도의 작은 크기로 형성되어, 이 구멍(18b)을 통해 청소용 솔질을 할 수 있다. 따라서, 종래와 같이 가스 유입구에 부착된 고형물을 제거하기 위해 가스 유입관을 개방시킬 필요가 없고 그 결과 유입되는 가스의 흐름을 차단하거나 장치의 작동을 중단시키지 않아도 되는 장점을 기대할 수 있다.Meanwhile, two holes 18a and 18b may be formed at the side surface of the switched gas inlet pipe 19 connected to the gas inlet 11. Compressed air may be periodically injected through a hole 18a to shake off solids that may adhere to the oxidation chamber. In addition, the other holes 18b are formed in such a small size that they hardly affect the air flow in the oxidation chamber, and the cleaning holes can be brushed through the holes 18b. Therefore, it is possible to expect the advantage that there is no need to open the gas inlet pipe to remove the solids attached to the gas inlet as in the prior art, and as a result, does not block the flow of the incoming gas or stop the operation of the device.

도 4에서는 기류 절환기(30)와 습식챔버(40)를 볼 수 있다.In FIG. 4, the airflow changer 30 and the wet chamber 40 can be seen.

기류 절환기(30)는 산화챔버 하단에 부착되는 역 원추형 금속촉매부(31)와 두 개의 날개부(33, 35)를 포함하여 이루어져 있다. 상부 날개부(33)는 역 원추형 금속촉매부(31)를 둘러싸며 상하부가 개방된 역 원추형 형상으로 되어 있다. 역 원추형 금속촉매부(31)와 상부 날개부(33) 사이를 통해 산화챔버로부터 내려오는 가스 및 고형물과 같은 기타 반응 생성물은 하부로 가이드 된다. 이 경우, 가스가 통과하는 단면적은 하부로 가면서 점점 좁아지는 구조로 되어 있으므로, 가스 기류의 흐름 속도는 상승하게 된다. 산화챔버로부터 내려오는 가스 기류는 가속되어 후술하는 하부 날개와 상부 날개 사이의 통로 사이로 들어가기 직전에 최대 속도를 갖게 되며, 하부 날개부와 상부 날개부 사이로 가이드 되도록 기류의 방향이 바뀔 때 가스 흐름의 속도가 줄어들게 되어, 그 속도차에 의해 기류에 섞여 있는 고체 부산물(고형물)이 분리되어 아래로 떨어지게 된다. The airflow switch 30 includes a reverse conical metal catalyst 31 and two wings 33 and 35 attached to the lower end of the oxidation chamber. The upper wing part 33 has the inverted conical shape which surrounds the inverted conical metal catalyst part 31, and opened the upper and lower parts. Other reaction products, such as gases and solids, that descend from the oxidation chamber through the inverted conical metal catalyst 31 and the upper wing 33 are guided downward. In this case, since the cross-sectional area through which the gas passes has a structure that narrows down toward the lower portion, the flow rate of the gas airflow increases. The gas stream flowing down from the oxidation chamber is accelerated and has a maximum speed just before entering the passage between the lower wing and the upper wing, which will be described later, and the velocity of the gas flow when the direction of the air flow is changed to be guided between the lower wing and the upper wing. As a result, the velocity difference causes the solid by-products (solids) mixed in the air stream to separate and fall down.

상부 날개부(33) 하부에는 하부 날개부(35)가 배치되어 있다. 하부 날개부(35)도 상하부가 개방된 역 원추형 형태로 되어 있다. 하부 날개부(35)에는 다수의 돌출부(36)가 장착되어 있어, 하부 날개부와 상부 날개부 사이로 가스 기류가 통과할 때 그 통로에 부착되는 고형물이 제거될 수 있다. The lower wing part 35 is disposed under the upper wing part 33. The lower wing part 35 also has the shape of an inverted cone with the upper and lower parts open. The lower wing 35 is equipped with a plurality of protrusions 36, so that when the gas stream flows between the lower wing and the upper wing portion, the solids attached to the passage can be removed.

바람직하게, 본 발명에 따른 혼합식 가스처리장치는 하부 날개부(25) 아래쪽에서 하부 날개부(25)의 밑부분과 결합될 수 있는 회동부재(49)를 더 포함할 수 있다. 이 회동부재(49)는 모터(47)에 의해 회전될 수 있다. 회동부재(49)의 하부와 모터는 예를 들어 풀리와 체인에 의해 연결되어, 모터가 구동되면 회동부재(49)가 회전되고 또한 회동부재에 결합된 하부 날개부(35)도 회전하게 된다. Preferably, the mixed gas treatment apparatus according to the present invention may further include a rotating member 49 which may be coupled to the bottom of the lower wing 25 under the lower wing 25. This rotating member 49 can be rotated by the motor 47. The lower part of the rotating member 49 and the motor are connected by a pulley and a chain, for example, so that when the motor is driven, the rotating member 49 is rotated and the lower wing 35 coupled to the rotating member also rotates.

습식챔버(40)는 원통형 실린더 형태로서 물을 분사하는 노즐 링(41)과 충진제(43)를 포함하고 있다. 특히, 상술한 회동부재(49)가 있는 경우, 상기 습식챔버(40)는 중심에서 상기 회동부재(49)가 회전하도록 가운데가 비어 있는 원통형 실린더 형태가 된다. 물 분사 노즐 링(41)은 다수의 분사 노즐을 가지고 있어 상하방향으로 물을 광범위하게 분사한다. 노즐 링에 의하면 물이 상하방향으로 분사되므로 차압의 발생이 줄어들고 가스 내의 부유 고형물이 쉽게 포집될 수 있다. 상기 노즐 링 하부에 충진제(43)가 배치되어 있고, 충진제(43)는 중심이 비어있는 원형 도넛 형상으로 원통형 습식챔버에 배치되어 있다. 충진제(43)는 가스기류와 물이 통과할 수 있도록 다수의 구멍이 뚫려 있는 원형판에 충진물이 채워져 있도록 구성되어 있다. The wet chamber 40 includes a nozzle ring 41 and a filler 43 for spraying water in the form of a cylindrical cylinder. In particular, when the above-described rotating member 49 is present, the wet chamber 40 is in the form of a cylindrical cylinder with an empty center so that the rotating member 49 rotates at the center. The water spray nozzle ring 41 has a plurality of spray nozzles to spray water in the vertical direction in a wide range. According to the nozzle ring, since the water is injected in the vertical direction, the occurrence of the differential pressure is reduced and the suspended solids in the gas can be easily collected. The filler 43 is disposed under the nozzle ring, and the filler 43 is disposed in the cylindrical wet chamber in a circular donut shape with a hollow center. The filler 43 is configured such that the filler is filled in a circular plate having a plurality of holes so that gas and water can pass therethrough.

한편, 상부 날개부(33)의 하부에는 링(34)이 형성되어 있어, 습식챔버 내의 노즐 링에서 분사되는 물이 넘어오는 것을 방지한다.On the other hand, a ring 34 is formed in the lower portion of the upper wing 33, to prevent the water sprayed from the nozzle ring in the wet chamber from flowing over.

기류 절환기를 통해서 습식챔버 내로 가스가 유입되면 노즐 링에서 분사되는 물이 가스로부터 부유 고형물을 포집하게 되고, 이어서 가스는 충진제(43)를 통과하여 처리된다. 처리된 가스는 배기구(45)를 통해 습식챔버 외부로 배출된다.When gas is introduced into the wet chamber through the airflow switch, the water sprayed from the nozzle ring collects the suspended solids from the gas, and then the gas is processed through the filler 43. The treated gas is discharged out of the wet chamber through the exhaust port 45.

습식챔버 하부에는 물이 담겨 있고, 기류 절환기(30)로부터 포집된 고형물이 습식챔버 중앙의 개방된 공간을 통해 낙하하여 이 물 위로 모이게 된다. 이 경우, 모터에 의해 회동부재(49)가 회전하면 큰 덩어리로 떨어지는 고형물이 분쇄된다. 또한, 바닥에 침적되는 고형물은 산화챔버 하부에 설치된 난류 생성 노즐(48)에 의해서 제거될 수 있다.Water is contained in the lower portion of the wet chamber, and solids collected from the air flow switch 30 are dropped through the open space in the center of the wet chamber and collected above the water. In this case, when the rotating member 49 is rotated by a motor, the solid falling into a large mass is pulverized. In addition, solids deposited on the bottom may be removed by the turbulence generating nozzle 48 installed under the oxidation chamber.

습식챔버의 하부에는 물 배출구(46)가 형성되어 있어 담겨 있는 물을 후술하는 순환탱크(60) 쪽으로 배출할 수 있다.A water outlet 46 is formed in the lower portion of the wet chamber to discharge the contained water toward the circulation tank 60 to be described later.

습식챔버에서 처리되어 배기구(45)를 통해 빠져나가는 가스는 배출칼럼(50)의 하부로 유입된다. 배출칼럼(50)에 유입된 가스는 상승하여 최종적으로 외부로 배출된다. 배출칼럼(50) 내부에도 충진제가 설치되어 있고 또한 이 충진제 상부에 물 분사 노즐이 배치되어 있다. 바람직하게, 충진제와 물 분사 노즐은 여러 층으로 설치될 수 있다.Gas that is processed in the wet chamber and exits through the exhaust port 45 flows into the lower portion of the discharge column 50. The gas introduced into the discharge column 50 rises and is finally discharged to the outside. A filler is also provided inside the discharge column 50, and a water spray nozzle is disposed above the filler. Preferably, the filler and the water jet nozzle may be installed in several layers.

한 실시예로서, 도 1 및 도 5에 도시된 것처럼, 배출칼럼의 최하단부에는 충진제(53)와 물을 분사하는 분사 노즐(54)이 배치되어 있고, 그 위에 추가적으로 충진제(55)와 시수를 분사하는 분사 노즐(56)이 설치되어 있다. 충진제 및 분사 노즐는 두 개의 층으로 제한되는 것은 아니다. 필요에 따라 세 개 이상의 층으로 이루어질 수도 있다. 아래에서 상세히 설명하겠지만 분사 노즐(54)에서 분사하는 물은 순환탱크(60)로부터 공급되는 순환수이다. 분사 노즐(56)에서 공급하는 물은 순환수가 아닌 별도로 공급되는 시수(city water)이다. 따라서, 가스는 배출칼럼 내에서 상승하면서 충진제(53, 55)와 분사 노즐(54, 56)에 의해 최종적으로 처리된 후 배기구(57)를 통해 외부로 배출된다. 또한, 분사 노즐(54, 56)에서 분사되는 물은 하부로 낙하하여 순환탱크(60)에 모이게 된다.As an example, as shown in Figs. 1 and 5, at the lower end of the discharge column, a filler 53 and a spray nozzle 54 for injecting water are arranged, and further, filler 55 and shisu are sprayed thereon. A spray nozzle 56 is provided. Filler and spray nozzles are not limited to two layers. If necessary, it may be composed of three or more layers. As will be described in detail below, the water sprayed from the spray nozzle 54 is the circulating water supplied from the circulation tank 60. The water supplied from the injection nozzle 56 is city water supplied separately, not circulating water. Accordingly, the gas is finally processed by the fillers 53 and 55 and the injection nozzles 54 and 56 while rising in the discharge column and then discharged to the outside through the exhaust port 57. In addition, the water sprayed from the spray nozzles 54 and 56 falls to the bottom and is collected in the circulation tank 60.

도 5에 도시된 것처럼, 순환탱크(60)의 순환수 수집구(65)를 통해 습식챔버 하부에 담겨 있는 물이 순환탱크(60) 내로 유입된다. 또한, 상술한 것처럼 배출 칼럼(50)에서 낙하하는 물이 시수 수집구(66)를 통해 순환탱크(60) 내에 유입된다. 이렇게 모인 물은 순환 펌프(61)에 의해 배출 칼럼 내의 분사 노즐(54)에 공급된다. 또한 물을 외부로 배출할 필요가 있는 경우에는 배수 펌프(62)에 의해 외부로 배출할 수 있다.As shown in FIG. 5, water contained in the lower portion of the wet chamber is introduced into the circulation tank 60 through the circulation water collection port 65 of the circulation tank 60. In addition, as described above, water falling from the discharge column 50 is introduced into the circulation tank 60 through the time water collection port 66. The collected water is supplied to the spray nozzle 54 in the discharge column by the circulation pump 61. In addition, when the water needs to be discharged to the outside, it can be discharged to the outside by the drain pump 62.

한편, 순환탱크(60) 내에는 수위조절센서(67)가 설치되어 순환탱크 내의 수위를 확인하여 탱크 내의 적절한 물 높이를 유지할 수 있다. 또한 액주계(68)에 의해 물의 높이와 혼탁상태를 눈으로 직접 확인할 수 있다. 순환탱크 내에 냉각수를 공급하기 위해 냉각기(69)가 설치되어 있는 것이 바람직하다.On the other hand, the water level control sensor 67 is installed in the circulation tank 60 to check the water level in the circulation tank can maintain the appropriate water level in the tank. In addition, the liquid column system 68 can directly check the height and turbidity of the water. It is preferable that a cooler 69 is provided to supply coolant in the circulation tank.

한편, 본 발명의 산화챔버를 습식챔버와 용이하게 분리하기 위해 다음과 같은 구성을 고려할 수 있다. 본 장치 전체를 둘러싸고 있는 캐비넷(70) 상부에 크레인(71)을 설치하고, 산화챔버 측면에 도르레(73)를 장착하고, 또한 캐비넷 측면에 레일(72)을 설치할 수 있다. 산화챔버의 도르레(73)가 레일(72)에 연결되면 산화챔버의 상하 운동이 용이하게 이루어질 수 있다. 따라서, 장치의 내부를 점검할 필요가 있을 때, 산화챔버만을 들어올려 간단하고 신속히 내부를 점검할 수 있고, 또한 부품 교체와 같은 작업을 용이하게 할 수 있다.Meanwhile, in order to easily separate the oxidation chamber of the present invention from the wet chamber, the following configuration may be considered. The crane 71 can be provided in the upper part of the cabinet 70 surrounding the whole apparatus, the pulley 73 can be attached to the oxidation chamber side, and the rail 72 can be provided in the cabinet side. When the pulley 73 of the oxidation chamber is connected to the rail 72, the vertical movement of the oxidation chamber may be easily performed. Therefore, when it is necessary to inspect the inside of the apparatus, only the oxidation chamber can be lifted up to inspect the interior simply and quickly, and also it is possible to facilitate work such as replacing parts.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상술한 실시예에 한정되지 않고, 이하 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명의 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다 양한 변형실시가 가능함은 물론이며, 그와 같은 변형은 청구범위의 기재 범위 내에 포함된다.Although the preferred embodiments of the present invention have been shown and described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and the general knowledge in the field of the present invention without departing from the gist of the present invention as claimed in the following claims. Anyone having a variety of modifications can be made, of course, such modifications are included within the scope of the claims.

도 1은 본 발명에 따른 가스처리장치의 전체 구성을 나타내는 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing the overall configuration of a gas treatment apparatus according to the present invention.

도 2는 도 1의 산화챔버를 나타내는 단면도이다.FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating an oxidation chamber of FIG. 1.

도 3은 도 1의 산화챔버의 횡단면도이다.3 is a cross-sectional view of the oxidation chamber of FIG.

도 4는 도 1의 습식챔버를 나타내는 단면도이다.4 is a cross-sectional view of the wet chamber of FIG. 1.

도 5는 도 1의 배출칼럼 및 순환탱크를 나타내는 도면이다.5 is a view showing the discharge column and the circulation tank of FIG.

도 6은 본 발명에 따른 산화챔버가 분리되는 상태를 나타내는 도면이다.6 is a view showing a state in which the oxidation chamber according to the present invention is separated.

[주요 도면부호에 대한 설명][Description of Major Reference Code]

10: 산화챔버10: oxidation chamber

15: 가열장치15: heating device

30: 기류 절환기30: airflow changer

33: 상부 날개부33: upper wing

35: 하부 날개부35: lower wing

40: 습식챔버40: wet chamber

41: 노즐 링41: nozzle ring

50: 배출칼럼50: discharge column

53: 충진제53: filler

54: 노즐54: nozzle

55: 충진제55: filler

56: 노즐56: nozzle

60: 순환탱크60: circulation tank

Claims (5)

중공 실린더형 가열장치를 내부에 포함하는 실린더형 산화챔버로서, 상기 가열장치와 동심으로 중앙에 배치된 유입구를 통해 공기와 물이 유입되어 고온 다습한 공기로 되고, 상기 산화챔버의 측면에 대해 수직으로 처리대상 가스가 유입되어 가열되며, 상기 고온 다습한 공기 및 상기 가스가 혼합되어 산화반응을 일으키면서 상기 산화챔버의 외벽과 상기 가열장치 사이의 공간을 통해 하부로 가스가 유동하는 산화챔버와;A cylindrical oxidation chamber including a hollow cylindrical heating device therein, the air and water are introduced into the hot and humid air through the inlet disposed in the center concentric with the heating device, the air is hot and humid, perpendicular to the side of the oxidation chamber An oxidation chamber in which a gas to be treated is introduced and heated, and the gas flows downward through a space between the outer wall of the oxidation chamber and the heating device while causing the oxidation reaction by mixing the hot and humid air with the gas; 상기 산화챔버 하부에 연결되고, 상기 산화챔버로부터 유입되는 가스가 통과하는 공간의 단면적을 줄여 가스의 기류를 가속시키면서 절환시키는 기류 절환기와;An airflow switch connected to a lower portion of the oxidation chamber and configured to reduce the cross-sectional area of a space through which the gas flowing from the oxidation chamber passes and to accelerate and change the airflow of the gas; 상기 기류 절환기에서 가스 기류의 절환시 그 속도변화에 의해 분리되어 떨어지는 고형물을 하부에 담겨 있는 물 위로 수집하도록 중심부가 비어있는 실린더형 습식챔버로서, 상기 기류 절환기를 통해 유입되는 가스를 처리하도록 가스에 물을 사방으로 분사하는 노즐 링과 이 노즐 링 하부에 위치된 충진제를 포함하며, 충진제를 통과한 가스를 배기구를 통해 배출시키고 하부의 물은 배수구를 통해 배출시키는 습식챔버와; A cylindrical wet chamber having an empty center to collect the solids separated and separated by the speed change when the gas flow is switched in the air flow switch, and the gas to process the gas flowing through the air flow changer. A wet chamber including a nozzle ring for injecting water in all directions and a filler located below the nozzle ring, for discharging gas passing through the filler through an exhaust port, and discharging water in the lower part through a drain port; 상기 습식챔버로부터 배출되는 가스를 외부로 배출시키도록 상기 습식챔버의 배기구와 연결되어 있고, 하부로부터 상부로 상승하는 가스를 추가적으로 처리하도록 하나 이상의 충진제 및 분사노즐이 가스 배출경로에 설치되어 있는 배출칼럼과;A discharge column connected to the exhaust port of the wet chamber to discharge the gas discharged from the wet chamber to the outside, and one or more fillers and injection nozzles are installed in the gas discharge path to further process the gas rising from the bottom to the top and; 상기 습식챔버의 배출구와 상기 배출칼럼의 분사노즐로부터 흘러내려오는 물이 순환되도록 상기 배출 칼럼의 분사 노즐에 공급하는 순환 펌프와, 이 물을 외부로 배출하는 배출 펌프를 포함하는 순환탱크;를 포함하는 혼합식 가스처리장치.And a circulation tank including a circulation pump for supplying an injection nozzle of the discharge column to circulate water flowing from the discharge port of the wet chamber and the injection nozzle of the discharge column, and a discharge pump for discharging the water to the outside. Mixed gas treatment device. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 기류 절환기는 상기 산화챔버 하부에 위치된 원추형 모양의 금속촉매부와, 상기 금속촉매부와의 사이 공간에서 가스기류가 가속되도록 상하부가 개방된 역 원추형 형상으로서 상기 금속촉매부를 둘러싸는 상부 날개부와, 상기 가스기류를 습식챔버 쪽으로 가이드하도록 상하부가 개방된 역 원추형 형상으로 상기 상부 날개부의 하부를 둘러싸는 하부 날개부를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 혼합식 가스처리장치.The air flow switch has a conical metal catalyst located under the oxidation chamber, and an inverted conical shape in which an upper and lower portions are opened to accelerate gas flow in a space between the metal catalyst part and an upper wing part surrounding the metal catalyst part. And a lower wing portion surrounding the lower portion of the upper wing portion in an inverted conical shape, the upper and lower portions of which are opened so as to guide the gas stream toward the wet chamber. 제2항에 있어서, The method of claim 2, 상기 상부 날개부의 하부면은 링을 포함하고, 상기 하부 날개부의 상부면은 돌출부를 포함하는 것을 특징으로 하는 혼합식 가스처리장치.The lower surface of the upper wing portion comprises a ring, the upper surface of the lower wing portion is a mixed gas treatment device, characterized in that it comprises a protrusion. 제2항 또는 제3항에 있어서,The method according to claim 2 or 3, 상기 혼합식 가스처리장치는, 상기 습식챔버 중앙에 위치되어 있고 모터에 의해 회전되는 회동부재를 더 포함하고, 상기 하부 날개부의 하부가 상기 회동부재와 연결되어 상기 회동부재의 회전시 상기 하부 날개부도 함께 회전하는 것을 특징으로 하는 혼합식 가스처리장치.The mixed gas treatment apparatus further includes a rotating member located at the center of the wet chamber and rotated by a motor, and the lower wing portion is connected to the rotating member so that the lower wing portion rotates when the rotating member is rotated. Mixed gas treatment device, characterized in that rotating together. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, The method according to any one of claims 1 to 3, 상기 배출 칼럼 내의 분사노즐 중 하나 이상의 분사노즐은 순환 펌프에 의해 공급되는 물을 분사하며, 나머지 분사노즐은 외부에서 별도로 공급되는 시수를 분사하는 것을 특징으로 하는 가스처리장치.At least one of the injection nozzles in the discharge column injects water supplied by the circulation pump, and the remaining injection nozzles inject time water supplied separately from the outside.
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