KR20070059512A - An ion plating jig ass'y - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 종래기술에 따른 이온 플레이팅 지그장치를 개략적으로 나타낸 사시도.1 is a perspective view schematically showing an ion plating jig device according to the prior art.
도 2는 본 발명인 이온 플레이팅 지그장치의 각부 분리 구성상태를 보인 분리 사시도.Figure 2 is an exploded perspective view showing the separation portion configuration of the present invention ion plating jig device.
도 3은 도 2에 따른 결합상태를 나타낸 본 발명인 지그장치의 사시도.Figure 3 is a perspective view of the jig device of the present invention showing a coupled state according to FIG.
도 4는 도 2에 따른 결합상태를 나타낸 본 발명인 지그장치의 결합 단면도.4 is a cross-sectional view of the present invention jig device showing a coupling state according to FIG.
도 5는 본 발명에 따른 이온 플레이팅 지그 장치의 사용상태 사시도.Figure 5 is a perspective view of the use state of the ion plating jig device according to the present invention.
<도면의 주요부위에 대한 부호설명><Code Description of Major Parts of Drawing>
1...지그 10...지그축1
12...프레임 13...아암12
14...홀더 15...체인14 ... holder 15 ... chain
16...연결봉 17...브라켓16
18...바닥플레이트 19...원추형 전동판18.
M...모재(수저, 저분, 포크 등등)M ... substrate (cutlery, slices, forks, etc.)
본 발명은 모재 표면에 금속피막을 입히는 이온 플레이팅 장치내에서 피증착편인 모재를 거치시킴과 동시에 회전시켜 원활한 이온 플레이팅을 유도하는 이온 플레이팅 지그장치에 관한 것으로 이는 특히, 지그를 갖는 지그 축을 다단 적층형 구조로 마련하여, 금속피막을 입히기 위한 모재 예컨대, 수저, 저분, 포크 등의 다양한 모재를 한꺼번에 지그 상에 걸어 코팅처리함으로서 멀티 처리가 가능하며, 이온 플레이팅 장비의 챔버내 스페이서를 작게 차지하면서도 보다 많은 양의 모재를 코팅처리 할 수 있는 이온 플레이팅 지그장치에 관한 것이다.The present invention relates to an ion plating jig device which induces smooth ion plating by simultaneously rotating a base material as a deposition piece in an ion plating device which coats a metal film on the surface of the base material, and particularly, a jig having a jig. The multi-layered structure of the shaft allows multi-processing by coating various base materials, such as cutlery, low powder, fork, etc., on a jig at a time and coating them on the jig. The present invention relates to an ion plating jig device capable of coating a larger amount of base material while being occupied.
주지된 바와 같이 이온 플레이팅(Ion plating)은 감압하에서 금속을 증발 혹은 스패터링에 의해 방출하여, 공간에 튀어나온 원자나 원괴(크라스터)를 여러 가지 방법으로 에너지수준을 높여 이온화하면서 전장, 자장 등을 작용시켜 비교적 고속이면서 효과좋게 모재표면에 증착시키는 대표적인 표면처리기술이다.As is well known, ion plating releases metals under reduced pressure by evaporation or sputtering, and ionizes atoms or protuberances (crasters) protruding from space in various ways to ionize them by increasing their energy levels. It is a typical surface treatment technology that deposits on the surface of the base material with high speed and effect by applying back light.
이와 같은 이온 플레이팅에 의한 표면처리기술은 주로 아르곤 가스(Ar gas)가 이온화되어 기판에 입사하면서 모재 증착층 표면에 충돌함으로써 운동량 전달에 의하여 증착층의 밀착성을 향상시키고 미세조직을 매우 치밀하게 하는 효과를 지녀 최근에는 초경피막, 광학코팅 등 범용적으로 널리 사용되고 있다.The surface treatment technology by ion plating mainly improves the adhesion of the deposition layer and makes the microstructure very dense by transfering momentum by argon gas (Ar gas) ionizing and impinging on the substrate deposition layer surface as it enters the substrate. Recently, it has been widely used for general purpose such as cemented carbide coating and optical coating.
일반적으로 알려진 이온 플레이팅 장치를 이용하여 모재를 표면처리 함에 있어서는 이온 플레이팅 장치의 챔버내에서 모재를 공간상에 거치시켜 고정하며 거치 된 모재를 회전시켜가면서 모재 전면에 걸쳐 균일하게 표면코팅처리가 이루어 질 수 있게 모재를 거치시키는 지그장치(Jig ass'y)를 사용하고 있다.In general, the surface treatment of the base material using the ion plating apparatus is known by mounting the base material in a space in the chamber of the ion plating apparatus to fix the base material. The surface coating treatment is uniformly applied on the entire surface of the base material by rotating the mounted base material. Jig ass'y is used to mount the base material to be achieved.
상기 지그장치에는 거치되는 모재의 종류 및 형상과 크기에 따라 매우 다양한 형태와 기능을 갖는 지그장치가 그 용도에 맞게 제작되어 쓰이고 있으나, 본원 발명과 관련하여 모재로서 수저 및 저분, 포크 등을 거치시킬 수 있는 지그장치는 도 1에 도시된 바와 같은 구성을 지닌다.The jig device is a jig device having a variety of forms and functions according to the type, shape and size of the base material to be mounted is used and manufactured according to the purpose, but in the context of the present invention it is possible to mount a cutlery, a low powder, a fork, etc. The jig device, which can be, has a configuration as shown in FIG.
즉, 본원과 관련하여 수저, 저분, 포드 등을 거치시킬 수 있는 종래의 지그장치는, 전체적으로 입체 트랙 형상을 지닌 지그(jig) 상부 프레임(100)에 트랙 형상의 상기 프레임(100) 길이방향을 따라 가이드 홈(110)이 마련되어 이에 체인(120)이 장착되어 있으며, 프레임 일측단부의 체인이 위치하는 곳에는 종동기어(210)와 연설된 스프로킷(200)이 구비되어 상기 체인(120)에 구동력을 전달할 수 있도록 되어 있다. That is, in connection with the present application, a conventional jig device capable of mounting a cutlery, a low powder, a pod, or the like, has a track-
상기 체인(120)에는 등 또는 부등 간격에 걸쳐 장착된 'L' 자형 브라켓(130)을 매개로 하여 코팅하고자 하는 모재를 걸어 장착하는 홀더(140)가 상·하방향으로 길게 설치되어 고정되어 있다. In the
따라서, 상기 홀더(140)에 모재인 저분, 수저 또는 포크 등을 건 상태에서 이러한 지그장치를 이온 플레이팅 장치의 고온진공 챔버(미도시)내에서 장입하되, 상기 종동기어(210)가 이온 플레이팅 장치의 구동기어(300)와 정확히 맞물리도록 장입시킨 후 장치를 구동시키면, 상기 구동기어(300)에 의한 종동기어(210)와 스프로킷(200)의 구동으로 체인(120)이 가이드 홈(110)을 따라 회전하면서 지그의 홀더(140)에 걸린 모재(M)가 챔버내에서 회전하여 금속증착에 의해 전면에 골쳐 균일하게 금속피막층이 형성되어지게 된다.Therefore, the jig device is charged in a high-temperature vacuum chamber (not shown) of the ion plating apparatus in a state in which a low powder, a cutlery, or a fork, which is a base material, is mounted on the
그러나, 상기한 종래의 지그장치는 전술한 바와 같이 지그가 트랙 형상으로 이루어져 있기 때문에 전체적으로 장치의 부피가 커 보관 및 운반이 용이하지 못할뿐 아니라 이러한 지그장치가 장입되기 위해서는 보다 큰 스페이스를 갖는 챔버를 갖춘 이온 플레이팅 장비가 요구되어야만 했다.However, the above-described conventional jig device is not only easy to store and transport due to the large volume of the device because the jig has a track shape as described above, but also requires a chamber having a larger space in order to load the jig device. Equipped ion plating equipment had to be required.
특히, 종래에는 모재가 장착되는 홀더(140)의 수를 늘이기 위한 구조적 기능이 부재하여 체인(120)에 설치되는 홀더(140)의 수 및 이 홀더(140)에 걸려져 고정되는 모재(M)의 양이 한정됨으로써, 한번 코팅처리시 한정된 수량 범위내에서만 코팅처리가 가능하므로 제품의 양산성이 떨어지며, 수저, 저분, 포크 등 다양한 모재를 하나의 지그에 걸어 한꺼번에 코팅처리할 수 없는 구조로되어 있어 하나의 지그를 이용해 다양한 모재를 코팅처리하기 위해서는 어느 한종의 모재 예컨데, 수저를 홀더에 걸어 코팅처리한 후 저분을 코팅처리 하기 위해서는 저분형상에 맞는 홀더로 교체하여 이에 저분을 걸고 이온 플레이팅 장치에 장입시켜야만 했다. 따라서, 종래에는 코팅처리되는 모재변경 시 지그상에 설치되는 홀더(140) 교체가 수반되어야만 했으므로 작업이 매우 번거로웠고 홀더 교체에 따른 시간발생으로 인해 그만큼 작업이 지연되므로 결국 제품의 양산성이 저하되는 등의 많은 문제가 있다.In particular, there is no structural function for increasing the number of
본 발명은 상기와 같은 종래의 여러 가지 문제점을 감안하여 이를 해결하고 자 안출한 것으로, 모재 거치를 위해 홀더가 장착되는 지그 프레임을 회전하는 지그축 상에 마련하되, 지그 프레임이 마련된 지그축은 그 위에 또 다른 지그축을 올려 놓을 수 있는 다단 적층형 구조로 마련하여, 홀더를 교체하지 않고도 금속피막을 입히기 위한 모재 예컨대, 수저, 저분, 포크 등의 다양한 모재를 한꺼번에 지그 상에 거치한 상태에서 멀티 처리가 가능하고, 이온 플레이팅 장비의 챔버내 스페이서를 작게 차지하면서도 보다 많은 양의 모재를 코팅처리 할 수 있는 이온 플레이팅 지그장치를 제공하는 데에 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve this problem in view of the various problems as described above, provided on the jig axis for rotating the jig frame is mounted holder for mounting the base material, the jig axis is provided jig frame thereon A multi-stage stacking structure that allows another jig shaft to be mounted, and multi-processing is possible with various base materials, such as cutlery, powder, fork, etc., mounted on a jig all at once. In addition, the object of the present invention is to provide an ion plating jig device capable of coating a larger amount of base material while occupying a small space in the chamber of the ion plating equipment.
상기한 목적을 달성하기 위한 기술적인 수단으로서 본 발명은 이온 플레이팅 지그장치는, 코팅코자 하는 모재가 걸려져 홀딩되도록 홀더를 구비한 지그에 있어서, 상기 지그는 중공을 갖는 튜브관 형태의 지그축 상단부에 이 지그축 상단 외주연에서부터 방사상으로 뻗어나온 아암을 매개로 그 외주연에 다수개의 홀더가 장착된 지그 프레임이 고정되는 구조로 이루어지고, 상기 지그 프레임 상측의 지그축 연장선상에는 상기 튜브형태의 지그축 내경에 끼워져 고정될 수 있을 정도의 직경을 갖는 연결봉이 연설되어 이에 지그 프레임을 갖는 또 다른 지그축이 끼워져 상기 지그가 상·하 다단 복층형 구조를 이룰수 있게끔 구성되는 것을 특징으로 한다.The present invention as a technical means for achieving the above object is an ion plating jig device, jig provided with a holder to hold and hold the base material to be coated, the jig is a tube tube-shaped jig shaft having a hollow The upper end of the jig shaft has a structure that is fixed to the jig frame with a plurality of holders mounted on the outer circumference through the arms extending radially from the outer peripheral edge, the jig axis on the jig frame upper side of the tube-shaped The connecting rod having a diameter enough to be fitted and fixed to the inner diameter of the jig shaft is spoken so that another jig shaft having a jig frame is fitted to the jig to form an upper and lower multi-stage multilayer structure.
여기에서, 상기 지그의 지그 프레임은 ∪형 단면을 갖는 원형 프레임 형태로 이루어져 가이드 홈이 형성되고, 상기 가이드 홈에는 등간격에 걸쳐 브라켓이 설치 된 체인이 장착되어 상기 브라켓에 모재를 걸어고정하는 홀더가 부착되어 고정토록 구성되는 것이 특징이다. Here, the jig frame of the jig is formed in the form of a circular frame having a U-shaped cross-section is formed with a guide groove, the guide groove is mounted with a chain is installed bracket bracket over the equal interval holder to fasten the base material to the bracket Is characterized in that it is attached to be fixed.
그리고, 상기 다단 복층형 구조를 이루는 지그 중 최하층에 해당하는 지그의 지그축 하단에는 원판 형태의 바닥플레이트가 설치되고, 이 바닥플레이트 저면에는 이온 플레이팅장치의 원추형 구동판과 접촉되어 회전력을 전달받는 원추형 전동판이 더 설치된다.In addition, a bottom plate of a disc shape is installed at the bottom of the jig shaft of the jig corresponding to the lowermost layer of the jig of the multi-stage multilayer structure, and the bottom plate of the bottom plate is in contact with the conical drive plate of the ion plating apparatus to receive rotational force. The driving plate is installed further.
더하여, 본 발명에 적용된 상기 지그축은 아우터 튜브 일측단 내경에 이너 튜브 일측단부가 끼워진 신축이 가능한 이중관 구조로하여 지그축 상에 설치된 지그 프레임의 높낮이가 조절되게끔 구성할 수도 있다.In addition, the jig shaft applied to the present invention may be configured to allow the height of the jig frame installed on the jig shaft to be adjusted by a double tube structure in which the inner tube one end portion is fitted to the inner diameter of the outer tube one end.
이하, 첨부도면에 의거하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
첨부된 도면을 간략히 설명하면, 도 2는 본 발명인 이온 플레이팅 지그장치의 각부 분리 구성상태를 보인 분리 사시도 이며, 도 3, 도 4는 도 2에 따른 결합상태를 나타낸 본 발명의 사시도 및 결합 단면도이다.Briefly described with reference to the accompanying drawings, Figure 2 is an exploded perspective view showing a separate configuration state of the ion plating jig device of the present invention, Figures 3 and 4 are a perspective view and a cross-sectional view of the present invention showing a coupling state according to FIG. to be.
도 2내지 도 4에 도시된 바와 같이 본 발명인 이온 플레이팅 지그장치는, 모재(본 발명과 관련하여 수저, 저분, 포크 등) 거치를 위해 홀더(14)를 장착한 지그 프레임(12)이 구동력을 전달받아 회전하는 지그축(10) 상에 마련되되, 지그 프레임(12)이 마련된 상기 지그축(10)은 그 위에 또 다른 지그축을 올려 놓을 수 있는 구조로 이루어져 상기 지그 프레임과 지그축을 포함한 지그(1)가 상·하 복층형 다단 구조로 이루어질 수 있게 끔 구성된 것이 특징이다.As shown in FIGS. 2 to 4, the ion plating jig device of the present invention has a driving force of the
구체적으로 살펴보면, 상기 지그(1)는 중공 튜브관 형태의 지그축(10)과 홀더(14)가 장착되는 지그 프레임(12)으로 이루어지는데, 상기 지그축(10) 상단부에는 이 지그축(10) 상단 외주연에서부터 방사상으로 뻗어나온 아암(13)을 매개로 그 외주연에 원주방향으로 다수개의 홀더(14)가 장착된 상기 지그 프레임(12)이 고정된 구조로 이루어진다.Specifically, the jig 1 includes a
여기에서, 상기 지그 프레임(12)은 도 2의 요부확대도에서와 같이 ∪형 단면을 갖는 원형 프레임 형태로 이루어져 길방향을 따라 그 내부에 가이드 홈(120)이 형성되어 있고, 상기 가이드 홈(120)에는 등간격에 걸쳐 'L'형 브라켓(17)이 장착된 체인(15)이 내설되어 상기 브라켓(17)에 수저, 저분, 포크 등의 모재를 걸어고정하는 홀더(14)가 볼트-너트의 결합을 통해 분리/조립이 가능하게 설치된다. Here, the
상기 홀더(14)는 브라켓(17)에 그 일단이 볼팅 고정되는 견인바(142)와, 견인바(142)의 길이방향 대략 중앙 상부측에 이러한 견인바(142)와 수직으로 설치되어 수저, 저분, 포크 등의 모재의 몸체부분을 지지하는 홀더편(144)과, 상기 견인바(142) 아래 끝단부에 설치되어 모재의 끝단부가 지지되는 지지편(146)으로 이루어지는데, 상기 홀더편(144)은 모재의 종류에 따라 그 형상이 약간씩 변형된다.The
계속해서, 상기 지그 프레임(12) 상측의 지그축(10) 연장선상에는 상기 튜브형태의 지그축 내경에 끼워져 고정될 수 있을 정도의 직경을 갖는 연결봉(16)이 연설된다. 이와 같은 연결봉(16)에는 지그 프레임을 갖는 또 다른 지그축이 끼워져 전술한 구성의 지그가 상·하 다단 복층형 구조를 이루게 된다(도 4참조).Subsequently, on the extension line of the
상기와 같은 지그축(10)은 도면에 도시된 일체형 단순 중공 튜브관 형태로 구성할 수도 있지만, 복층의 지그축(10) 상에 설치된 지그 프레임(12)간 이격거리를 조절할 수 있도록 아우터 튜브 일측단 내경에 이너 튜브 일측단부가 끼워지며 상호 연결부위에는 스토퍼를 구비하여 신축이 가능하게끔 구성된 공지의 이중관 구조로 구성해도 좋을 것이다. The
한편, 상기 다단 복층형 구조를 이루는 지그 중 최하층에 해당하는 지그(1a)의 지그축(10) 하단에는 원판형태의 바닥플레이트(18)가 설치되며, 이 바닥플레이트(18) 저면에는 이온 플레이팅장치의 원추형 구동판(미도시 됨)과 접촉되어 회전력을 전달받는 원추형 전동판(19)이 설치된다. 즉, 상기 원추형 전동판(19)은 이온 플레이팅 장치로부터의 구동력을 지그로 전달하는 전동수단으로서 전술한 바와 같은 지그장치를 이온 플레이팅 장치의 챔버내에 장입시켜 이온 플레이팅 장치의 바닥면에 마련된 원추형 구동판(미도시) 위에 상기 원추형 전동판을 맞물리게 지그를 올려놓으면, 상기 원추형 구동판의 구동으로서 원추형 전동판(19)을 포함한 상기한 지그장치가 챔버내에서 회전하여 모재 전면에 걸쳐 고르게 코팅이 이루어질 수 있게 되는 것이다.On the other hand, a
상기와 같은 구성으로 이루어진 본 발명의 작용,효과에 대해 살펴본다.Looking at the operation, effects of the present invention made of the above configuration.
도 5는 본 발명에 따른 지그장치의 사용상태를 나타낸 도면으로서, 지그 프레임(12)의 외주연 원주방향을 따라 장착된 홀더(14)에 표면처리 즉, 코팅코자할 모재(M)를 도시된 도면에서와 같이 걸어놓는다. 5 is a view showing a state of use of the jig device according to the present invention, a surface treatment, that is, the base material M to be coated on the
이 때, 지그(1)는 모재의 양과 종류에 따라 1단 내지는 2단 또는 그이상으로 다단 복층형식으로 적층하여 사용하되, 저분용 홀더 또는 수저용 홀더만을 구비한 복수개 이상의 지그를 다단 적층시켜 사용할 수도 있으며, 도시된 도면에서와 같이 최하층에는 저분용 홀더(14)를 구비한 지그(1a)를 사용하고 그 위에는 수저용 홀더(14)를 구비한 지그(1)를 얹어 저분과 수저를 동시에 걸어 한번의 이온 플레이팅 작업에서 두 종류 또는 그 이상의 제품을 한꺼번에 코팅처리 할 수도 있다.At this time, the jig 1 may be used in a multi-stage multi-layered stack in one or two stages or more depending on the amount and type of the base material, but may be used by stacking a plurality of jigs having only a low portion holder or a cutlery holder in multiple stages. Alternatively, as shown in the drawing, the lowermost layer uses a jig 1a having a holder for a
즉, 본 발명은 수저 코팅시에는 수저용 홀더를 갖춘 지그를 얹어 사용하고, 저분 코팅시에는 저분용 홀더를 갖춘 지그를 얹어 사용하며, 저분과 수저을 동시에 코팅하는 경우에는 도 5에서와 같이 저분용 홀더를 갖춘 지그 위에 수저용 홀더를 갖춘 지그를 얹어 사용하면 되므로, 기존과 같이 다양한 모재를 코팅처리하기 위해 지그 프레임에 장착된 홀더를 매번 교체해야만 했던 단점을 개선할 수 있게 된다.That is, the present invention is used to put a jig having a cutlery holder when coating the cutlery, and to use a jig having a holder for the low powder coating at the time of low powder coating, and to coat the low powder and the cutlery at the same time as in FIG. Since the jig with the cutlery holder is placed on the jig with the holder, the disadvantage of having to replace the holder mounted on the jig frame every time in order to coat various substrates as before will be improved.
상기와 같이 지그를 다단 복층형 구조로 설치함에 있어서는, 지그 프레임(12) 상측의 지그축(10) 연장선상 구비된 연결봉(16)에 또 다른 지그의 지그축(10)이 단순히 끼워지도록 조립하여 얹으면 되므로, 조립이 매우 간단하면서도 작업자가 원하는 수만큼의 지그층을 형성할 수 있게 된다.In the installation of the jig in a multi-stage multilayer structure as described above, the
한편, 홀더에 걸려지는 모재(M)의 경우 모재의 그 종류에 따라 전장(全長) 즉 그 길이에 다소 차이가 발생하게 되는데, 이러한 길이차에 상응토록 지그 프레임간의 간격을 조절하기 위해서는 지그축(10)의 높이가 그 모재(M)의 전장에 알맞는 것을 사용해도 되나, 바람직하게는 아우터 튜브에 이너 튜브가 끼워져 신축가능한 일반적으로 공지된 신축관 형태를 적용하는 것이 좋을 것이다(미도시). On the other hand, in the case of the base material (M) that is caught on the holder, the total length, that is, the difference occurs slightly depending on the type of the base material, in order to adjust the interval between the jig frame to correspond to the length difference jig axis ( The height of 10) may be used to suit the overall length of the base material (M), but it is preferable to apply a generally known type of flexible tube that can be stretched by having an inner tube fitted to the outer tube (not shown).
따라서, 상기와 같은 신축관 구조를 지그축에 적용하면, 홀더에 걸리는 모재의 전장차에 따른 지그 프레임간의 이격거리를 쉽게 변경 시킬 수 있어 작업성이 향상된다.Therefore, when the above-described expansion tube structure is applied to the jig shaft, it is possible to easily change the separation distance between the jig frame according to the electric vehicle difference of the base material to the holder is improved workability.
이상에서 살펴본 바와 같이 본 발명인 이온 플레이팅 지그장치에 의하면, 원형트랙 형상의 지그가 상·하 다단 복층형식으로 적층되게끔 구성됨으로써, 홀더를 교체하지 않고도 금속피막을 입히기 위한 모재 예컨대, 수저, 저분, 포크 등의 다양한 모재를 한꺼번에 한 지그 상에 거치한 상태로 코팅처리 할 수 있어 멀티처리가 가능함은 물론, 이온 플레이팅 장비의 챔버내 스페이서를 작게 차지하면서도 보다 많은 양의 모재를 코팅처리 할 수 있으며, 이로 인하여 제품의 양산성을 가일층 증대시킬 수 있게 된다.As described above, according to the ion plating jig apparatus of the present invention, since a circular track-shaped jig is configured to be stacked in an up-down multi-stage multilayered form, a base material such as cutlery or low powder to coat a metal film without replacing a holder Various substrates such as forks and forks can be coated on a jig at a time, allowing for multi-processing and coating a larger amount of substrate while occupying a small amount of spacers in the chamber of the ion plating equipment. And, this can further increase the mass production of the product.
이상에서 본 발명은 특정한 실시예에 관련하여 도시하고 설명하였지만, 이하의 특허청구의 범위에 의해 마련되는 본 발명의 정신이나 분야를 벗어나지 않는 한도내에서 본 발명이 다양하게 개조 및 변화될수 있다는 것을 당업계에서 통상의 지식을 가진자는 용이하게 알 수 있음을 밝혀두고자 한다.While the invention has been shown and described with respect to specific embodiments thereof, it will be appreciated that the invention can be modified and modified in various ways without departing from the spirit or scope of the invention as set forth in the following claims. It will be appreciated that those skilled in the art can easily know.
Claims (4)
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