JP2012067359A - Support apparatus of film-deposition-objective article, and film depositing apparatus - Google Patents

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一彦 入澤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a support apparatus of a film deposition-objective-article that can easily and surely perform setting of a kicker, can suppress the occurrence of kicking error of a driven wheel by the kicker and can increase throughput of film-deposition-objective articles.SOLUTION: The support apparatus 2 includes: a table 30 which is rotationally driven; a plurality of outer pipes 102 which are erected on the table 30 and are moved circularly around the rotational central line of the table 30 accompanying the rotation of the table 30; small tables 103 which are arranged in a plurality of steps along each outer pipe 102 and are rotated around the outer pipes 102 accompanying the rotation of the table 30; a plurality of holders 104 which are tilted and erected on each small table 103 and are moved circularly around the outer pipes 102 accompanying the rotation of the small tables 103; and a kicker which is provided on an inner pipe 105 that is not rotated even when the outer pipes 102 are rotated and is brought into contact with a gear rotating accompanied by the holder 104 so as to rotate a holder 104.

Description

本発明は膜形成装置の膜形成室内に設置して用いる膜形成対象物品支持装置及び膜形成装置に関する。   The present invention relates to a film forming target article supporting apparatus and a film forming apparatus that are installed and used in a film forming chamber of a film forming apparatus.

膜形成対象物品に膜形成する膜形成装置については種々のものが知られている。今日では、各種物理的蒸着法(PVD法)(真空アーク蒸着法、スパッタ蒸着法等)を利用した膜形成装置や化学的蒸着法(プラズマCVD法、熱CVD法等)を利用した膜形成装置、さらにはこれら膜形成方法を組み合わせた方法を用いる膜形成装置が広く利用されている。   Various apparatuses for forming a film on an object to be formed are known. Today, film forming apparatuses using various physical vapor deposition methods (PVD methods) (vacuum arc vapor deposition method, sputtering vapor deposition method, etc.) and film forming devices using chemical vapor deposition methods (plasma CVD method, thermal CVD method, etc.) Further, a film forming apparatus using a method combining these film forming methods is widely used.

このようなPVD法、CVD法等を利用した膜形成装置では、膜形成に寄与するイオン等の粒子を発生させ、該粒子を膜形成対象物品へ向かわせ、該物品上に膜形成する。   In a film forming apparatus using such a PVD method, a CVD method, or the like, particles such as ions that contribute to film formation are generated, the particles are directed to the film formation target article, and a film is formed on the article.

このような膜形成装置では、生産性向上のために膜形成室内に複数個の膜形成対象物品を配置してそれら物品に膜形成することが行われており、その場合、各物品に均一な膜を形成するために、該物品を移動させたり、回転させたりしつつ膜形成することが行われており、そのための膜形成対象物品支持装置も提案されている。   In such a film forming apparatus, in order to improve productivity, a plurality of film forming objects are arranged in a film forming chamber and a film is formed on these articles. In order to form a film, film formation is performed while the article is moved or rotated, and a film formation target article support apparatus for that purpose has also been proposed.

その一つとして、回転駆動される主台と、該主台に立設され、該主台の回転に伴い該主台の回転中心線のまわりを円運動する複数本の支柱と、該各支柱に沿って複数段に配置され、前記主台の回転に連動して該支柱を中心に回転する副台と、該各副台に立設され、該副台の回転に伴い支柱のまわりを円運動する複数の膜形成対象物品のホルダと、該各ホルダに対して設けられ、該ホルダと連動回転する被駆動輪と、各支柱に沿って複数段に配置された副台のそれぞれに対応させて設けられ、該副台に立設されたホルダと連動回転する被駆動輪が該支柱を中心に円運動してくることで該被駆動輪に接触して該被駆動輪及びホルダを回転させるキッカーとを含んでいる膜形成対象物品支持装置を挙げることができる。   As one of them, a main base that is rotationally driven, a plurality of pillars that are erected on the main base and circularly move around the rotation center line of the main base as the main base rotates, and the respective pillars Are arranged in a plurality of stages along with the sub-base that rotates around the support in conjunction with the rotation of the main stand, and is erected on each of the sub-supports. Corresponding to each of a holder for a plurality of moving film forming articles, a driven wheel provided for each holder and rotating in conjunction with the holder, and a plurality of sub-stages arranged along each column. The driven wheel that rotates in conjunction with the holder erected on the sub table moves circularly around the support column to contact the driven wheel and rotate the driven wheel and the holder. Mention may be made of a film-forming target article support device including a kicker.

図7〜図9に、この支持装置の一例を示す。図7〜図9に示すように、この支持装置200は、モータ201と、モータ主軸202及び回転軸203に接続された中央支柱208と、中央支柱208の下端に設けられた主台相当のテーブル207と、中央支柱208の上端に設けられた天板209とを含む。テーブル207の回転中心のまわりには6本のテーブル支柱210が回転可能に立設されており、各テーブル支柱に副台相当の小テーブル213が設けられている。この小テーブル213は、例えば上下4段に設けられる(図7には最上段と最下段の2段しか図示していない)。テーブル207の下方には固定歯車204が設けられ、この固定歯車204は、回転軸203に固定されており、小テーブル213が固設されたテーブル支柱210に設けられた歯車205に噛み合っている。小テーブル213上には8個のホルダ211がテーブル支柱210の延びる方向と同一方向、すなわち、垂直方向に設けられている。   7 to 9 show an example of this support device. As shown in FIGS. 7 to 9, the support device 200 includes a motor 201, a central column 208 connected to the motor main shaft 202 and the rotating shaft 203, and a table corresponding to the main table provided at the lower end of the central column 208. 207 and a top plate 209 provided at the upper end of the central column 208. Around the rotation center of the table 207, six table columns 210 are erected in a rotatable manner, and a small table 213 corresponding to the sub table is provided on each table column. The small table 213 is provided, for example, in four upper and lower stages (only two stages, the uppermost stage and the lowermost stage are shown in FIG. 7). A fixed gear 204 is provided below the table 207. The fixed gear 204 is fixed to the rotating shaft 203 and meshes with a gear 205 provided on a table column 210 on which a small table 213 is fixed. On the small table 213, eight holders 211 are provided in the same direction as the direction in which the table column 210 extends, that is, in the vertical direction.

各ホルダ211には被駆動輪相当のギヤ212が設けられ、このギヤ212は、小テーブル213の回転に伴い、テーブル207の外周方向に設けられたキッカー215に近づきキッカー215に接触すると弾かれて回転することにより、ホルダ211を回転させる。キッカー215は、キッカー固定支柱217に設けられたキッカー固定治具216により該支柱に位置調整(上下方向位置及び軸まわり位置の調整)可能に取り付けられている。また、キッカー215とギヤ212との接触等によりゴミが落下するときに備えて受け皿214を小テーブル213の下方に設けている。   Each holder 211 is provided with a gear 212 corresponding to a driven wheel. As the small table 213 rotates, the gear 212 approaches the kicker 215 provided in the outer peripheral direction of the table 207 and is repelled when it comes into contact with the kicker 215. By rotating, the holder 211 is rotated. The kicker 215 is attached to the column by a kicker fixing jig 216 provided on the kicker fixing column 217 so that the position of the column can be adjusted (the vertical position and the position around the axis can be adjusted). In addition, a receiving tray 214 is provided below the small table 213 in preparation for when dust falls due to contact between the kicker 215 and the gear 212 or the like.

また、特開平11−323550号公報(特許文献1)には、ホルダ回転のための駆動力を必要最小限に抑え、しかも非接触方式でホルダを回転させ得る構造とすることにより、回転動力エネルギーの低減化並びに成膜の均質化を図らせる、真空成膜装置用回転テーブルが記載されている。   Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-323550 (Patent Document 1) discloses a rotational power energy by adopting a structure in which the driving force for rotating the holder is minimized and the holder can be rotated in a non-contact manner. A rotary table for a vacuum film forming apparatus is described which can reduce the film thickness and make the film uniform.

この真空成膜装置用回転テーブルは、成膜される部品を搭載する真空成膜装置の回転テーブルであって、回転テーブルの中心軸回りに回転可能に設けられる大テーブルと、大テーブルの周縁にその中心と同心の円に沿って自軸回りの回転可能にそれぞれ配置される複数個の小テーブルと、各小テーブルの周縁にその中心と同心の円に沿って自軸回りの回転可能にそれぞれ配置され、成膜される部品を保持する複数個のワークホルダと、各小テーブルにそれぞれ隣接して大テーブルに回転可能に配置される複数個の回転軸と、各回転軸に等分周に取付けられる複数個の磁石片からなる複数個の能動側磁石体と、モータ及び回転動力伝達機構を備え、大テーブルの自転、複数個の小テーブルと複数個の回転軸の公転及び自転を行わせるための駆動手段と、各ワークホルダにおける非保持側下部に能動側磁石体に近接対向して等分周に取付けられる複数個の磁石片からなり、能動側磁石体の相対向する磁石片間に生じる磁気反発力と磁気吸引力とによりワークホルダに回転運動を付与する受動側磁石体とを含むことを特徴とする。   The rotary table for a vacuum film forming apparatus is a rotary table for a vacuum film forming apparatus on which components to be formed are mounted. The rotary table is provided so as to be rotatable around the central axis of the rotary table, and on the periphery of the large table. A plurality of small tables that are arranged so as to be able to rotate around their own axes along a circle concentric with the center thereof, and each of the small tables can be rotated around its own axis along a circle concentric with the center of each small table. A plurality of work holders for holding the components to be deposited, a plurality of rotary shafts arranged adjacent to each small table and rotatably on a large table, and equally divided on each rotary shaft Provided with a plurality of active-side magnet bodies composed of a plurality of magnet pieces to be attached, a motor and a rotational power transmission mechanism, the large table rotates, the plurality of small tables and a plurality of rotating shafts revolve and rotate. Driving for The magnetic repulsion generated between the opposing magnet pieces of the active-side magnet body is composed of a plurality of magnet pieces mounted on the non-holding-side lower portion of each work holder in the equal division in close proximity to the active-side magnet body. And a passive-side magnet body that imparts rotational motion to the work holder by force and magnetic attraction force.

特開平11−323550号公報JP-A-11-323550

しかしながら、図7〜図9に記載した従来の支持装置200は、キッカー215の位置決めが面倒で(軸回り位置及び上下位置の双方の調整をキッカー固定治具216により行う必要がある)、キッカー215の位置がずれてキックミスを起こしやすい、キッカー固定支柱217が膜形成の邪魔になるという問題がある。さらに、落下物の受け皿を設ける際には、小テーブル213の下方に別途設けている。また、特許文献1に記載の真空成膜装置用回転テーブルでは、磁石が必要である。   However, in the conventional support device 200 described in FIGS. 7 to 9, the positioning of the kicker 215 is troublesome (it is necessary to adjust both the position around the axis and the vertical position by the kicker fixing jig 216). There is a problem that the kicker fixing column 217 obstructs the film formation. Further, when a falling object tray is provided, it is separately provided below the small table 213. Moreover, the rotary table for a vacuum film forming apparatus described in Patent Document 1 requires a magnet.

また、ホルダ211及びホルダ211に設置される膜形成対象物品が垂直方向に延びているため、テーブル支柱に複数連設される小テーブル間には、それぞれ小テーブルに設けられたホルダ211の高さに加え、ホルダ211に設置される膜形成対象物品の高さをも加味した間隔を設ける必要がある。したがって、このような真空成膜装置では、膜形成対象物品の数量を出来る限り多く搭載するために、小テーブルの数を増やすべくテーブル支柱に設けられる小テーブル間の距離を小さくしようとしても、ホルダ及び膜形成対象物品の寸法に制約を受けるという問題がある。   Further, since the holder 211 and the film formation target article installed in the holder 211 extend in the vertical direction, the height of the holder 211 provided on each small table is between the plurality of small tables connected to the table column. In addition to this, it is necessary to provide an interval in consideration of the height of the film formation target article installed in the holder 211. Therefore, in such a vacuum film forming apparatus, in order to mount as many film forming target articles as possible, even if it is attempted to reduce the distance between the small tables provided on the table column in order to increase the number of small tables, the holder In addition, there is a problem that the size of the article to be formed is limited.

そこで、本発明は、従来の同タイプの支持装置と比べると、キッカーを所定位置に安定的に設定してキッカーによる被駆動輪のキックミス発生を抑制することができ、それだけ各膜形成対象物品に安定して均一に膜形成でき、さらに円滑に膜形成でき、多くの膜形成対象物品を処理できる膜形成対象物品支持装置及び膜形成装置を提供することを課題とする。   Therefore, the present invention can stably set the kicker at a predetermined position and suppress the occurrence of kick mistakes in the driven wheel due to the kicker, as compared with the conventional support device of the same type, and accordingly to each film formation target article. It is an object of the present invention to provide a film forming object support device and a film forming apparatus that can form a film stably and uniformly, can form a film more smoothly, and can process many film forming objects.

本発明は前記の課題を解決するため、以下に示す膜形成対象物品支持装置を提供する。
膜形成に寄与する粒子を発生させ、該粒子を膜形成対象物品へ向かわせ、該物品上に膜形成する膜形成装置の膜形成室内に設置して用いる膜形成対象物品支持装置であり、回転駆動される主台と、該主台に立設され、該主台の回転に伴い該主台の回転中心線のまわりを円運動する複数本の支柱と、該各支柱に沿って複数段に配置され、前記主台の回転に連動して該支柱を中心に回転する副台と、該各副台に立設され、該副台の回転に伴い支柱のまわりを円運動する複数の膜形成対象物品のホルダと、該各ホルダに対して設けられ、該ホルダと連動回転する被駆動輪と、前記各支柱に沿って複数段に配置された前記副台のそれぞれに対応させて設けられ、該副台に立設された前記ホルダと連動回転する前記被駆動輪が該支柱を中心に円運動してくることで該被駆動輪に接触して該被駆動輪及びホルダを回転させるキッカーとを含んでいる膜形成対象物品支持装置であって、前記支柱は前記主台に対して回転しないように該主台に立設されており、該各支柱に沿って上下方向に複数段に配置された前記副台を前記主台の回転に連動させて該支柱のまわりに回転させる連動機構を備えており、前記キッカーは前記各支柱に沿って上下方向に配置された前記副台のそれぞれに対応させて該支柱に固設されており、前記ホルダ及び前記膜形成対象物品は前記支柱の延びる方向に対して傾斜するように設けられていることを特徴とする膜形成対象物品支持装置である。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides the following film forming target article supporting apparatus.
A film forming target article supporting device that generates particles that contribute to film formation, directs the particles toward the film forming target article, and is installed in a film forming chamber of a film forming apparatus that forms a film on the article. A main stand to be driven, a plurality of struts standing on the main stand and circularly moving around a rotation center line of the main stand as the main stand rotates, and a plurality of steps along the respective struts A plurality of film formations arranged and rotated around the support in association with the rotation of the main table, and a plurality of films standing on each of the auxiliary tables and circularly moving around the support as the sub table rotates. Provided in correspondence with each of the holder of the target article, the driven wheel that is provided for each holder, and rotates in conjunction with the holder, and the sub-bases that are arranged in a plurality of stages along each column, The driven wheel that rotates in conjunction with the holder erected on the sub table moves circularly around the column. A film forming object supporting device including a kicker that rotates the driven wheel and the holder in contact with the driven wheel, wherein the support column does not rotate with respect to the main base. Standing on the main stand, and equipped with an interlocking mechanism that rotates the sub-base arranged in a plurality of stages in the vertical direction along the respective pillars around the pillars in conjunction with the rotation of the main stand. The kicker is fixed to the column corresponding to each of the sub-bases arranged in the vertical direction along each column, and the holder and the film formation target article are in the direction in which the column extends. It is provided so that it may incline, and it is a film formation object article support apparatus characterized by the above-mentioned.

ここで「膜形成に寄与する粒子」とは膜形成に寄与するイオン等の粒子である。
この膜形成対象物品支持装置によると、主台が回転すると、主台に立設された複数本の支柱が該主台の回転中心線のまわりを円運動する。この支柱には複数段の副台が設けられ、この副台は主台の回転に連動して該支柱を中心に回転する。副台には複数の膜形成対象物品を把持するホルダが設けられ、該各ホルダと連動回転する被駆動輪が設けられ、被駆動輪が該支柱を中心に円運動してくることでキッカーに接触してホルダが回転する。
Here, “particles that contribute to film formation” are particles such as ions that contribute to film formation.
According to this film formation target article support device, when the main table rotates, a plurality of support columns erected on the main table move circularly around the rotation center line of the main table. This support column is provided with a plurality of sub-supports, and the sub-supports rotate around the support in conjunction with the rotation of the main support. A holder for holding a plurality of articles to be film-formed is provided on the sub table, and driven wheels that rotate in conjunction with the holders are provided. The holder rotates in contact.

このようにホルダを、ひいては該ホルダに支持させた膜形成対象物品を回転させることができるので、均一な膜形成を実現できる。さらに、このように回転させるときに、前記キッカーは、上下方向に配置された前記副台のそれぞれに対応させて、前記主台に対して回転しない前記各支柱に固設されており、該支柱まわりに回ったり、上下方向に移動したりできない状態に置かれている。このため、キッカーを所定位置に安定的に設定してキッカーによる被駆動輪のキックミス発生を抑制することができ、それだけ各膜形成対象物品に安定して均一に膜形成できる。   In this way, since the holder and, in turn, the film formation target article supported by the holder can be rotated, uniform film formation can be realized. Furthermore, when rotating in this way, the kicker is fixed to each column that does not rotate with respect to the main table, corresponding to each of the sub-tables arranged in the vertical direction. It is placed in a state where it cannot turn around or move up and down. For this reason, it is possible to stably set the kicker at a predetermined position to suppress the occurrence of kick mistakes in the driven wheel due to the kicker, and accordingly, a film can be stably and uniformly formed on each film formation target article.

また、副台の外周側に従来のようなキッカー及びそれを支持するキッカー固定支柱が存在しないので、それらによりイオン等の成膜に寄与する粒子の膜形成対象物品への飛翔が妨げられることはなく、それだけ均一に円滑な膜形成を実現できる。また、副台の外周側にキッカー設置スペースが不要となり、支持装置の体格を小さくしたり、従来のキッカー設置スペースにゴミ受け等を設置したりできる利点もある。   In addition, since there is no conventional kicker and a kicker fixing column supporting the kicker on the outer peripheral side of the sub table, it is prevented that the particles contributing to the film formation of ions and the like are prevented from flying to the film formation target article. In addition, uniform and smooth film formation can be realized. In addition, there is no need for a kicker installation space on the outer peripheral side of the sub table, and there is an advantage that the physique of the support device can be reduced, and a dust receiver or the like can be installed in the conventional kicker installation space.

さらに、膜形成対象物品及びそのホルダを傾斜させて、配置テーブル支柱に複数連設される小テーブル間の距離を小さくすることができるので、小テーブルの数を増やして膜形成対象物品の処理量を増大させることができる。   Further, the distance between the small tables connected to the arrangement table column can be reduced by inclining the film formation target article and its holder, so the number of small tables can be increased to increase the throughput of the film formation target article. Can be increased.

前記支柱の好ましいものの例として、前記主台に立設された二重構造支柱における内側支柱を挙げることができる。この場合、該内側支柱は該主台に対して回転しないように立設される。また、前記副台は、該二重構造支柱の前記内側支柱の外側に設けられた中空円筒の外側支柱に固設することができる。該副台を前記主台の回転に連動させて回転させる連動機構は、該主台の回転に連動させて該中空円筒の外側支柱を回転させることで該副台を回転させる機構とすることができる。   As an example of the preferable thing of the said support | pillar, the inner support | pillar in the double structure support | pillar standingly arranged by the said main stand can be mentioned. In this case, the inner column is erected so as not to rotate with respect to the main table. Further, the sub table can be fixed to an outer column of a hollow cylinder provided outside the inner column of the double structure column. The interlocking mechanism for rotating the sub table in conjunction with the rotation of the main table may be a mechanism for rotating the sub table by rotating the outer column of the hollow cylinder in conjunction with the rotation of the main table. it can.

このようにすると、内側支柱を主台に対して回転させることなく、中空円筒の外側支柱だけを回転させて、外側支柱に固設された副台を主台の回転に連動させて回転させることができる。   In this way, without rotating the inner column with respect to the main table, only the outer column of the hollow cylinder is rotated, and the auxiliary table fixed to the outer column is rotated in conjunction with the rotation of the main table. Can do.

さらに好ましくは、前記内側支柱は、上下方向に分割された支柱と、該分割支柱どうしを連結する、位置決め機構を備えたボスとを含むものとし、該ボスに前記キッカーを固設してもよい。   More preferably, the inner column includes a column divided in the vertical direction and a boss provided with a positioning mechanism for connecting the divided columns, and the kicker may be fixed to the boss.

このようにすると、例えば予めキッカーを固設したボス或いはキッカー固設前のボスを挟んで分割支柱を重ねるだけで、該分割支柱同士を容易に連結できるとともにキッカーの設定を容易、確実にでき、該キッカーによる被駆動輪のキックミスが生じにくく、被駆動輪のキック駆動が安定化し、それだけ均一な膜形成を実現できる。   In this way, for example, by simply stacking the divided struts sandwiching the boss with the kicker fixed in advance or the boss before the kicker fixed, the divided struts can be easily connected to each other and the setting of the kicker can be made easily and reliably. A kick mistake of the driven wheel due to the kicker hardly occurs, the kick driving of the driven wheel is stabilized, and a uniform film formation can be realized.

また、好ましくは、前記副台は、立ち上がり周縁部を有する皿状形態を有しており、上方からの落下物を受ける落下物受けを兼ねていてもよい。従来のように、副台の外周側にキッカー保持機構を必要としないので、キックに伴い発生したゴミ等を受ける落下物受けを副台の径を超える大きさで設ける必要がない。このため、この副台自体を落下物受けとして兼用することができる。   Preferably, the sub table has a dish-like shape having a rising peripheral edge, and may also serve as a falling object receiver that receives falling objects from above. Unlike the prior art, since no kicker holding mechanism is required on the outer peripheral side of the sub table, it is not necessary to provide a falling object receiver for receiving dust generated by the kick in a size exceeding the diameter of the sub table. For this reason, this sub-table itself can be used also as a fallen object receptacle.

本発明はまた、前記の課題を解決するため、膜形成に寄与する粒子を発生させ、該粒子を膜形成対象物品へ向かわせ、該物品上に膜形成する膜形成装置であり、成膜室内に設置して用いる膜形成対象物品支持装置として本発明に係る膜形成対象物品支持装置を採用した膜形成装置を提供する。   In order to solve the above-mentioned problems, the present invention is also a film forming apparatus for generating particles that contribute to film formation, directing the particles toward the film formation target article, and forming a film on the article. Provided is a film forming apparatus employing the film forming target article supporting apparatus according to the present invention as a film forming target article supporting apparatus that is installed and used.

本発明に係る膜形成装置は、膜形成対象物品支持装置として本発明に係る膜形成対象物品支持装置を採用しているので、該膜形成対象物品支持装置におけるキッカーを所定位置に安定的に設定してキッカーによる被駆動輪のキックミス発生を抑制することができ、それだけ各膜形成対象物品に安定して均一に膜形成でき、さらに円滑に膜形成できる。   The film forming apparatus according to the present invention employs the film forming target article supporting apparatus according to the present invention as the film forming target article supporting apparatus, so that the kicker in the film forming target article supporting apparatus is stably set at a predetermined position. Thus, the occurrence of kick mistakes in the driven wheels due to the kicker can be suppressed, and the film can be stably and uniformly formed on each film forming object, and the film can be formed more smoothly.

さらに、膜形成対象物品及びそのホルダを傾斜させて、配置テーブル支柱に複数連設される小テーブル間の距離を小さくすることができるので、小テーブルの数を増やして膜形成対象物品の処理量を増大させることができる。   Further, the distance between the small tables connected to the arrangement table column can be reduced by inclining the film formation target article and its holder, so the number of small tables can be increased to increase the throughput of the film formation target article. Can be increased.

それには限定されないが、本発明に係る膜形成装置の例として、真空アーク蒸着法により膜形成する装置を挙げることができる。この膜形成装置は、均一な膜形成を実現できる。   Although not limited thereto, as an example of the film forming apparatus according to the present invention, an apparatus for forming a film by a vacuum arc deposition method can be cited. This film forming apparatus can realize uniform film formation.

本発明の膜形成対象物品支持装置及び膜形成装置は、キッカーを所定位置に安定的に設定してキッカーによる被駆動輪のキックミス発生を抑制することができ、それだけ各膜形成対象物品に安定して均一に膜形成でき、さらに円滑に膜形成でき、多くの膜形成対象物品を処理することができる。   The film forming object support device and the film forming apparatus of the present invention can stably set the kicker at a predetermined position to suppress the occurrence of kick mistakes in the driven wheel by the kicker, and are stable to each film forming object. Thus, a uniform film can be formed, and a film can be formed more smoothly, and many articles to be formed can be processed.

本発明の実施の形態に係る真空アーク蒸着装置の概略図である。It is the schematic of the vacuum arc vapor deposition apparatus which concerns on embodiment of this invention. 図1の真空アーク蒸着装置の支持装置を側面から見た概略図である。It is the schematic which looked at the support apparatus of the vacuum arc vapor deposition apparatus of FIG. 1 from the side surface. 図1の真空アーク蒸着装置の支持装置を上面から見た概略図である。It is the schematic which looked at the support apparatus of the vacuum arc vapor deposition apparatus of FIG. 1 from the upper surface. 図2の部分拡大図である。FIG. 3 is a partially enlarged view of FIG. 2. 図4の部分分解図である。FIG. 5 is a partially exploded view of FIG. 4. 図2の支持装置のホルダを上から見た図である。It is the figure which looked at the holder of the support apparatus of FIG. 2 from the top. 従来の真空アーク蒸着装置の支持装置を側面から見た概略図である。It is the schematic which looked at the support apparatus of the conventional vacuum arc vapor deposition apparatus from the side surface. 図7の真空アーク蒸着装置の支持装置を上面から見た概略図である。It is the schematic which looked at the support apparatus of the vacuum arc vapor deposition apparatus of FIG. 7 from the upper surface. 図7の支持装置のホルダを上から見た図である。It is the figure which looked at the holder of the support apparatus of FIG. 7 from the top.

以下、本発明の実施の形態について、添付図面に基づき詳細に説明する。なお、以下の説明では、同一の部品には同一の符号を付してある。それらの機能及び名称も同一である。したがって、それらについての詳細な説明は繰返さない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the following description, the same parts are denoted by the same reference numerals. Their functions and names are also the same. Therefore, detailed description thereof will not be repeated.

<膜形成装置の概略構成>
図1に本発明の実施の形態に係る膜形成装置の一例である真空アーク蒸着装置Aの構成の概略図を、図2に真空アーク蒸着装置Aにおける膜形成対象物品支持装置を側面から見た概略断面図を、図3に真空アーク蒸着装置Aにおける膜形成対象物品支持装置を上面から見た概略図を、それぞれ示す。
<Schematic configuration of film forming apparatus>
FIG. 1 is a schematic view of a configuration of a vacuum arc deposition apparatus A which is an example of a film forming apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a side view of an article support target apparatus for film formation in the vacuum arc deposition apparatus A. FIG. 3 is a schematic sectional view, and FIG. 3 is a schematic view of the film forming target article supporting device in the vacuum arc deposition apparatus A as viewed from above.

図1の真空アーク蒸着装置Aは、真空アーク蒸着法(アーク式イオンプレーティング法)により被処理物品W(被処理物品Wは本例では棒状物品であって、以下、物品Wと記載する)に膜形成する装置である。真空アーク蒸着装置Aは、膜形成対象物品である物品Wを支持する支持装置2を含む。なお、本発明の膜形成方法は、真空アーク蒸着法に限定されず、スパッタリング法による膜形成装置又はプラズマCVD装置であっても構わない。   The vacuum arc vapor deposition apparatus A in FIG. 1 is an article to be processed W by a vacuum arc vapor deposition method (arc ion plating method) (the article to be treated W is a rod-shaped article in this example, and is hereinafter referred to as an article W). This is an apparatus for forming a film. The vacuum arc deposition apparatus A includes a support device 2 that supports an article W that is a film formation target article. The film forming method of the present invention is not limited to the vacuum arc vapor deposition method, and may be a film forming device by sputtering or a plasma CVD device.

図1〜図3に示すように、この真空アーク蒸着装置Aは、真空容器1、物品Wを支持するための支持装置2、物品Wに負のバイアス電圧を印加するためのDCバイアス電源3、真空容器1内を減圧するための排気装置4、膜形成手段の一例である真空アーク蒸着部5等を含む。   As shown in FIGS. 1 to 3, the vacuum arc deposition apparatus A includes a vacuum vessel 1, a support device 2 for supporting the article W, a DC bias power source 3 for applying a negative bias voltage to the article W, An exhaust device 4 for depressurizing the inside of the vacuum vessel 1, a vacuum arc vapor deposition unit 5 which is an example of a film forming unit, and the like are included.

支持装置2は、大略的には縦長の円筒形状であって、円筒形状の中心軸に中央支柱80が設けられている。図2に示すように、この支柱80は垂直方向に設けられる。この支柱80の上端に円板状の天板115が、下端に天板115と略同径のテーブル30(主台の1例)が、それぞれ設けられている。   The support device 2 is generally a vertically long cylindrical shape, and a central column 80 is provided on the central axis of the cylindrical shape. As shown in FIG. 2, the column 80 is provided in the vertical direction. A disk-shaped top plate 115 is provided at the upper end of the support column 80, and a table 30 (an example of a main table) having the same diameter as the top plate 115 is provided at the lower end.

図3に示すように、支持装置2には、テーブル30の外径方向の円周に沿って6組の小テーブル103(副台の例)が設けられ、各小テーブル103には、支柱80の延びる方向に対して傾斜する方向にホルダ104が8個ずつ設けられている。なお、各組の小テーブル103は、例えば4段構成とされる(図2には最上段と最下段しか図示していない)。   As shown in FIG. 3, the support device 2 is provided with six sets of small tables 103 (an example of a sub table) along the circumference of the table 30 in the outer diameter direction. Eight holders 104 are provided in a direction inclined with respect to the extending direction. Each set of small tables 103 has, for example, a four-stage structure (only the uppermost and lowermost stages are shown in FIG. 2).

この支持装置2においては、図3に示すように、テーブル30が矢示X方向(逆でも構わない)に回転される。この矢示X方向のテーブル30の回転を公転と記載する。さらに、小テーブル103が矢示Y方向(逆でも構わない)に回転される。この矢示Y方向の小テーブル103の回転を第1自転と記載する。さらに、ホルダ104が矢示Z方向(逆でも構わない)に回転される。この矢示Z方向のホルダ104の回転を第2自転と記載する。   In this support device 2, as shown in FIG. 3, the table 30 is rotated in the direction indicated by the arrow X (which may be reversed). The rotation of the table 30 in the direction indicated by the arrow X is referred to as revolution. Further, the small table 103 is rotated in the arrow Y direction (which may be reversed). The rotation of the small table 103 in the arrow Y direction is referred to as first rotation. Further, the holder 104 is rotated in the arrow Z direction (which may be reversed). The rotation of the holder 104 in the direction indicated by the arrow Z is referred to as second rotation.

DCバイアス電源3は、テーブル30の回転軸22等を介して、ホルダ104に支持された物品Wに負のバイアス電圧を印加する。   The DC bias power source 3 applies a negative bias voltage to the article W supported by the holder 104 via the rotating shaft 22 of the table 30 or the like.

排気装置4は、真空容器1内から気体を排気したり、排気して真空容器1内を減圧したりするためのポンプ等で構成される。   The exhaust device 4 is configured by a pump or the like for exhausting gas from the inside of the vacuum vessel 1 or evacuating to decompress the inside of the vacuum vessel 1.

真空アーク蒸着部5は、真空容器1の側壁部に、支持装置2に対向するように設けられる。真空アーク蒸着部5は蒸発源51を含む。蒸発源51の数は1つでもよいが、ここでは、支持装置2が上下方向に長く、上下方向4段に物品Wが取り付けられる関係上、蒸発源51は、上下4段設けられている。   The vacuum arc vapor deposition unit 5 is provided on the side wall of the vacuum vessel 1 so as to face the support device 2. The vacuum arc deposition unit 5 includes an evaporation source 51. The number of the evaporation sources 51 may be one, but here, the support device 2 is long in the vertical direction and the articles W are attached in four levels in the vertical direction.

蒸発源51は、それ自体については公知であり、その詳細の説明はここでは繰り返さないが、基本的には、被処理物品である物品Wに形成しようとする膜の成分を含むカソード50を真空アーク放電により蒸発させるとともにイオン化させ、そのイオン化したカソード材料を物品Wに飛翔させて膜形成するものである。このとき、イオン化カソード材料が円滑に物品Wに向かうように物品WにDCバイアス電源3によりバイアス(ここでは、負のバイアス)が印加される。   The evaporation source 51 is known per se, and the detailed description thereof will not be repeated here, but basically, the cathode 50 containing the components of the film to be formed on the article W that is the article to be treated is vacuumed. The film is formed by evaporating and ionizing by arc discharge and flying the ionized cathode material onto the article W. At this time, a bias (here, a negative bias) is applied to the article W by the DC bias power source 3 so that the ionized cathode material smoothly moves toward the article W.

この真空アーク蒸着装置Aによると、物品Wに所望の膜を形成することができる。このとき、物品Wに均一な膜を形成する必要がある。このためには、支持装置2が、真空アーク蒸着部5から飛翔するカソード材料が均一に物品Wに到達するように物品Wを支持する必要がある。これを実現するために支持装置2は、図3に示すように、テーブル30を矢示X方向に公転させ、小テーブル103を矢示Y方向に第1自転させ、ホルダ104を矢示Z方向に第2自転させている。
以下、この支持装置2の詳細について、図2に加えて、図2の拡大図である図4〜図6を用いて説明する。
According to this vacuum arc deposition apparatus A, a desired film can be formed on the article W. At this time, it is necessary to form a uniform film on the article W. For this purpose, the support device 2 needs to support the article W so that the cathode material flying from the vacuum arc vapor deposition section 5 reaches the article W uniformly. To achieve this, the support device 2 revolves the table 30 in the arrow X direction, causes the small table 103 to rotate first in the arrow Y direction, and moves the holder 104 in the arrow Z direction, as shown in FIG. To the second rotation.
Hereinafter, details of the support device 2 will be described with reference to FIGS. 4 to 6 which are enlarged views of FIG. 2 in addition to FIG. 2.

<膜形成装置における支持装置の詳細構成>
支持装置2は、上述のように、中央支柱80を中心軸とした円筒形状であって、天板115とテーブル30とを備える。
<Detailed Configuration of Support Device in Film Forming Apparatus>
As described above, the support device 2 has a cylindrical shape with the central column 80 as the central axis, and includes the top plate 115 and the table 30.

支柱80は、その下方において回転軸22に接続され、この回転軸22が真空容器1の底壁Sに設けられた支柱ベアリング60に回転可能に支持されるとともに、この回転軸22が支柱ベアリング60の下方へさらに突出し、モータ20のモータ主軸21に連結されている。なお、ベアリング60は後述する固定太陽歯車40の中心部に設けられており、歯車40は容器1の底壁Sに回転不能に支持されている。   The column 80 is connected to the rotary shaft 22 below, and the rotary shaft 22 is rotatably supported by a column bearing 60 provided on the bottom wall S of the vacuum vessel 1, and the rotary shaft 22 is supported by the column bearing 60. And is connected to the motor main shaft 21 of the motor 20. In addition, the bearing 60 is provided in the center part of the fixed sun gear 40 mentioned later, and the gear 40 is supported by the bottom wall S of the container 1 so that rotation is impossible.

支柱80は、回転軸22との連結面近傍で、スラストベアリング等のテーブル支持ベアリング70により歯車40上に支持されたテーブル30に固着されている。テーブル30は、モータ20により図2の矢示X方向に公転される。   The column 80 is fixed to the table 30 supported on the gear 40 by a table support bearing 70 such as a thrust bearing in the vicinity of the connection surface with the rotary shaft 22. The table 30 is revolved in the direction indicated by the arrow X in FIG.

テーブル30の下方には、回転軸22を支持する支柱ベアリング60を介して(より詳しくは支柱ベアリング60のハウジングに固着されて)、固定歯車40が設けられる。テーブル30がモータ20により回転されても、支柱ベアリング60の作用により、この固定歯車40は公転しない。   A fixed gear 40 is provided below the table 30 via a column bearing 60 that supports the rotating shaft 22 (more specifically, fixed to the housing of the column bearing 60). Even when the table 30 is rotated by the motor 20, the fixed gear 40 does not revolve due to the action of the support bearing 60.

この固定歯車40は、小テーブル103を第1自転させる歯車55に噛み合うように設けられている。小テーブル103の第1自転においては、小テーブル103に固着された外側パイプ102が回転し、その内側の内側パイプ105が回転しないことが特徴である。なお、外側パイプ102の回転中心と内側パイプ105の中心軸とは一致している。   The fixed gear 40 is provided so as to mesh with the gear 55 that rotates the small table 103 in the first rotation. The first rotation of the small table 103 is characterized in that the outer pipe 102 fixed to the small table 103 rotates and the inner pipe 105 inside does not rotate. Note that the rotation center of the outer pipe 102 and the central axis of the inner pipe 105 coincide.

すなわち、図4に示すように、歯車55は、小テーブル支柱ハウジング101に連結され、この小テーブル支柱ハウジング101は、ボルト112でテーブル30に取付けられた外側パイプ支持ベアリング111によりテーブル30に対して回転可能に支持されている。小テーブル支柱ハウジング101は、外側パイプ支持部材124にボルト125により連結されている。外側パイプ支持部材124は、外側パイプ102を嵌合して保持している。   That is, as shown in FIG. 4, the gear 55 is connected to the small table support housing 101, and the small table support housing 101 is attached to the table 30 by the outer pipe support bearing 111 attached to the table 30 with the bolt 112. It is rotatably supported. The small table support housing 101 is connected to the outer pipe support member 124 by a bolt 125. The outer pipe support member 124 fits and holds the outer pipe 102.

外側パイプ102には小テーブル103が嵌合され保持されている。このため、テーブル30が公転すると、固定歯車40により歯車55が回転されて、歯車55が回転することにより、小テーブル支柱ハウジング101及び外側パイプ支持部材124を介してハウジング101に連結された小テーブル103が第1自転する。   A small table 103 is fitted and held on the outer pipe 102. For this reason, when the table 30 revolves, the gear 55 is rotated by the fixed gear 40, and the gear 55 rotates, whereby the small table connected to the housing 101 via the small table support housing 101 and the outer pipe support member 124. 103 rotates first.

一方、内側パイプ105は、内側パイプ連結部材123により、内側パイプ支持部材122に連結されている。このとき、内側パイプ連結部材123が、その上側で内側パイプ105Aを嵌合し、その下側で内側パイプ支持部材122を嵌合して、内側パイプ105Aと内側パイプ支持部材122とを一体的に構成している。   On the other hand, the inner pipe 105 is connected to the inner pipe support member 122 by an inner pipe connecting member 123. At this time, the inner pipe connecting member 123 engages the inner pipe 105A on the upper side and the inner pipe support member 122 on the lower side, so that the inner pipe 105A and the inner pipe support member 122 are integrated. It is composed.

内側パイプ支持部材122と、外側パイプ102及び歯車55に連結された小テーブル支柱ハウジング101との間には、内側パイプ支持ベアリング121が設けられている。このため、歯車55が回転して小テーブル支柱ハウジング101を介して外側パイプ102及び小テーブル103が第1自転するときでも、内側パイプ支持ベアリング121の作用により、内側パイプ105は第1自転しない。すなわち、内側パイプ105は、このような状態で、後述するように天板115に回り止め連結されていることで、テーブル30が回転しても、自転しないようにテーブル30上に立設されていることになる。   An inner pipe support bearing 121 is provided between the inner pipe support member 122 and the small table support housing 101 connected to the outer pipe 102 and the gear 55. For this reason, even when the gear 55 rotates and the outer pipe 102 and the small table 103 rotate through the small table support housing 101 in the first rotation, the inner pipe 105 does not rotate in the first rotation due to the action of the inner pipe support bearing 121. That is, in such a state, the inner pipe 105 is connected to the top plate 115 so as to be prevented from rotating as described later, so that the inner pipe 105 is erected on the table 30 so as not to rotate even if the table 30 rotates. Will be.

内側パイプ105の構成も外側パイプ102の構成も、下段から上段に向けて複数の部品を組み上げることにより実現されている。   The configuration of the inner pipe 105 and the configuration of the outer pipe 102 are realized by assembling a plurality of parts from the lower stage to the upper stage.

図4及び図5に示すように、内側パイプ105の中間部は、中空円形パイプであって、その上端部105UEは、後述するキッカー固定ボス106に嵌まり止まる段差部を得るように若干細径に形成されており、該端部105UEにピン係合部105Cを有している。また、内側パイプ105の中間部の下端部105LEは、キッカー固定ボス106に嵌まり止まる段差部を得るように若干細径に形成されており、該端部105LEにピン係合部105Dを有している。   As shown in FIGS. 4 and 5, the middle portion of the inner pipe 105 is a hollow circular pipe, and its upper end portion 105 UE has a slightly small diameter so as to obtain a stepped portion that fits and stops on a kicker fixing boss 106 described later. The end portion 105UE has a pin engaging portion 105C. Further, the lower end portion 105LE of the intermediate portion of the inner pipe 105 is formed to have a slightly small diameter so as to obtain a stepped portion that fits and stops on the kicker fixing boss 106, and has a pin engaging portion 105D at the end portion 105LE. ing.

この中間部の内側パイプ105は、キッカー固定ボス106により連結される。このキッカー固定ボス106には、ピン係合部105Cに係合してパイプ及びボスの中心軸まわりの相対的位置を決定するピン108Aと、ピン係合部105Dに係合して同様の位置決めをするピン108Bとが設けられている。   The intermediate inner pipe 105 is connected by a kicker fixing boss 106. The kicker fixing boss 106 is engaged with the pin engaging portion 105C to determine a relative position around the center axis of the pipe and the boss, and is engaged with the pin engaging portion 105D for the same positioning. Pin 108B is provided.

下段の内側パイプ105のピン係合部105Cにキッカー固定ボス106のピン108Aを係合させつつパイプ上端部105UEをボス106に嵌合し、上段の内側パイプ105のピン係合部105Dにキッカー固定ボス106のピン108Bを係合させつつパイプ下端部105LEをボス106に嵌合することで、中間における下段の内側パイプ105とそれより1段上段の内側パイプ105とを連結する。   While the pin 108A of the kicker fixing boss 106 is engaged with the pin engaging portion 105C of the lower inner pipe 105, the pipe upper end portion 105UE is fitted to the boss 106, and the kicker is fixed to the pin engaging portion 105D of the upper inner pipe 105. By fitting the pipe lower end 105LE to the boss 106 while engaging the pin 108B of the boss 106, the lower inner pipe 105 in the middle and the inner pipe 105 one stage higher than that are connected.

図4に示すように、最下段の内側パイプ105Aは、中間部の内側パイプ105と径が同じであるが、ここでは長さが異なる(長さが同じでも構わない)。しかし、前記と同様の段差部を得るための下端部とそこに形成されたピン係合部を有しており、該ピン係合部に内側パイプ支持部材122に設けたピン122Pが係合する。   As shown in FIG. 4, the inner pipe 105A at the lowermost stage has the same diameter as the inner pipe 105 in the middle part, but here the length is different (the length may be the same). However, it has a lower end portion for obtaining the same stepped portion as described above and a pin engaging portion formed thereon, and the pin 122P provided on the inner pipe support member 122 engages with the pin engaging portion. .

さらに、図4に示すように、最上段の内側パイプ105Bは、中間部の内側パイプ105と径が同じであるが、ここでは長さが異なる(長さが同じでも構わない)。しかし、前記と同様の段差部を得るための上端部とそこに形成されたピン係合部105Cを有しており、該ピン係合部に、天板115に設けられてパイプ上端部に内嵌する固定ボス109のピン108Cが係合する。このようにして天板115と最上段の内側パイプ105Bとが連結される。
このようにピン108Cとパイプ上端部のピン係合部105Cとが係合されることで、かつ、内側パイプ支持ベアリング121の作用により、テーブル30が回転しても、内側パイプ105は矢示Y方向に回転しない。
Furthermore, as shown in FIG. 4, the uppermost inner pipe 105 </ b> B has the same diameter as the inner pipe 105 in the middle part, but here the length is different (the length may be the same). However, it has an upper end portion for obtaining the same stepped portion as described above and a pin engagement portion 105C formed there, and the pin engagement portion is provided on the top plate 115 and is connected to the upper end portion of the pipe. The pin 108C of the fixed boss 109 to be engaged is engaged. In this way, the top plate 115 and the uppermost inner pipe 105B are connected.
Even if the table 30 rotates due to the engagement between the pin 108C and the pin engaging portion 105C at the upper end portion of the pipe and the action of the inner pipe support bearing 121 in this way, the inner pipe 105 is indicated by the arrow Y Do not rotate in the direction.

図4に示すように、外側パイプ102の中間部は、内側パイプ105の外径よりも内径の大きな中空円形パイプであって、その上端は小テーブル103の中心穴に嵌合して連結され、その下端は小テーブル天板131の中心穴に嵌合して連結される。小テーブル103と小テーブル天板131の周縁部には、ホルダ104を傾斜させて支持するための傾斜部が設けられている。小テーブル103は小テーブル天板131よりも横幅の径が小さくなっている。小テーブル103と小テーブル天板131とは小テーブル支柱130により連結されている。下段の小テーブル天板131と上段の小テーブル103とが外側パイプ102で連結され、小テーブル103と小テーブル天板131との間(外側パイプ102が存在しない部分)には小テーブル支柱130で連結されているので、外側パイプ102は垂直方向に連結された構造を有することになる。   As shown in FIG. 4, the middle part of the outer pipe 102 is a hollow circular pipe having an inner diameter larger than the outer diameter of the inner pipe 105, and its upper end is fitted and connected to the center hole of the small table 103, The lower end of the small table top plate 131 is fitted and connected to the center hole. An inclined portion for inclining and supporting the holder 104 is provided at the peripheral edge portions of the small table 103 and the small table top plate 131. The small table 103 has a smaller diameter than the small table top plate 131. The small table 103 and the small table top plate 131 are connected by a small table support 130. The lower small table top plate 131 and the upper small table 103 are connected by the outer pipe 102, and a small table column 130 is provided between the small table 103 and the small table top plate 131 (the portion where the outer pipe 102 does not exist). Since they are connected, the outer pipe 102 has a structure connected in the vertical direction.

さらに、図4に示すように、最下段の外側パイプ102Aは、中間部の外側パイプ102と内径及び外径は同じであるが長さが異なるだけではなく(長さが同じでも構わない)、その下端が小テーブル天板131の中心穴に係合されるのではなく、外側パイプ支持部材124に嵌合されている。これにより、外側パイプ102Aが外側パイプ支持部材124に連結される。   Furthermore, as shown in FIG. 4, the lowermost outer pipe 102A has the same inner diameter and outer diameter as the intermediate outer pipe 102, but not only the length is different (the length may be the same), The lower end is not engaged with the center hole of the small table top plate 131 but is fitted to the outer pipe support member 124. As a result, the outer pipe 102 </ b> A is connected to the outer pipe support member 124.

さらに、図4に示すように、最上段の外側パイプ102Bは、中間部の外側パイプ102と内径及び外径は同じであるが長さが異なるだけではなく(長さが同じでも構わない)、その上端が小テーブル103の中心穴に係合されるのではなく、天板115の外周に設けられた嵌合部115Aに嵌合されている。これにより、外側パイプ102Bが天板115に連結される。   Further, as shown in FIG. 4, the outermost pipe 102B at the uppermost stage has the same inner diameter and outer diameter as the outer pipe 102 in the middle part, but not only the length is different (the length may be the same), The upper end is not engaged with the center hole of the small table 103 but is fitted to a fitting portion 115 </ b> A provided on the outer periphery of the top plate 115. Thereby, the outer pipe 102B is connected to the top plate 115.

なお、図4に示すように、内側パイプ102と外側パイプ105とが互いに干渉しないように、かつ、内側パイプ連結部材123の外径と最下段の外側パイプ102Aの内径とが互いに干渉しないように、構成されている。   As shown in FIG. 4, the inner pipe 102 and the outer pipe 105 do not interfere with each other, and the outer diameter of the inner pipe connecting member 123 and the inner diameter of the lowermost outer pipe 102A do not interfere with each other. ,It is configured.

<ホルダの詳細構成>
図4〜図6を参照して、ホルダ104の第2自転を実現する構成について説明する。図4に示すように、ホルダ104は、径の異なる(中央が太い)3つの中空円筒を上下3段に重ねた構造を有する。上側2段の中空円筒の中空部には物品Wが保持され、最も上段の中空円筒の外周部は小テーブル天板131の穴部に嵌合している。中央段の中空円筒の外周は、小テーブル天板131の穴部の径よりも大きいので(段差があるので)、この段差によりホルダ104が抜け止めされている。最も下段の中空円筒は、その下端面が小テーブル103の周縁部に形成されたホルダ嵌合穴の底面に摺動自在に当接している。最も下段の中空円筒の中空部には、小テーブル103の周縁部に設けられた傾斜部の下方から上方に斜めに向けて設けられた軸140が嵌入しており、ホルダ104は軸140を中心にZ方向に(又は逆Z方向に)回転自在に支持されている。
<Detailed configuration of holder>
With reference to FIGS. 4-6, the structure which implement | achieves the 2nd rotation of the holder 104 is demonstrated. As shown in FIG. 4, the holder 104 has a structure in which three hollow cylinders having different diameters (thick at the center) are stacked in three upper and lower stages. The article W is held in the hollow portion of the upper two-stage hollow cylinder, and the outer peripheral portion of the uppermost hollow cylinder is fitted in the hole of the small table top plate 131. Since the outer periphery of the hollow cylinder at the center stage is larger than the diameter of the hole of the small table top plate 131 (there is a step), the holder 104 is prevented from coming off by this step. The lowermost hollow cylinder is slidably in contact with the bottom surface of a holder fitting hole formed at the peripheral edge of the small table 103 at its lower end surface. In the hollow portion of the lowermost hollow cylinder, a shaft 140 provided obliquely upward from below the inclined portion provided on the peripheral portion of the small table 103 is fitted, and the holder 104 is centered on the shaft 140. Are supported rotatably in the Z direction (or in the reverse Z direction).

図4及び図6に示すように、最も下段の中空円筒の外周部であって、小テーブル103の周縁部の高さよりも高い位置であってキッカー107に対向する位置にギヤ110が、ホルダ104と一体的に設けられている。このギヤ110に接触可能な高さ位置及び長さのキッカー107が、キッカー固定ボス106に、キッカー固定ボルト107Aにより固定されている。このとき、キッカー107の延伸方向は、ホルダ104の延伸方向と垂直となるように設けられていてもよい。   As shown in FIGS. 4 and 6, the gear 110 is positioned at the outer peripheral portion of the lowermost hollow cylinder, which is higher than the height of the peripheral portion of the small table 103 and faces the kicker 107. And are provided integrally. A kicker 107 having a height position and a length that can come into contact with the gear 110 is fixed to the kicker fixing boss 106 by a kicker fixing bolt 107A. At this time, the extending direction of the kicker 107 may be provided to be perpendicular to the extending direction of the holder 104.

上述したように、小テーブル103の第1自転においては、小テーブル103に嵌合された外側パイプ102が回転し、その内側の内側パイプ105が回転しない。キッカー固定ボス106は、内側パイプ105と一体的に設けられたものであって、小テーブル103が第1自転しても回転しない。図6に示すように、矢示Yで示される第1自転に対して、キッカー107は小テーブル103に対して相対的に動かないので、第1自転により小テーブル103上をホルダ104が回転して、ホルダ104のギヤ110がキッカー107に接触する。   As described above, in the first rotation of the small table 103, the outer pipe 102 fitted to the small table 103 rotates, and the inner pipe 105 inside does not rotate. The kicker fixing boss 106 is provided integrally with the inner pipe 105 and does not rotate even if the small table 103 rotates in the first direction. As shown in FIG. 6, since the kicker 107 does not move relative to the small table 103 with respect to the first rotation indicated by the arrow Y, the holder 104 rotates on the small table 103 by the first rotation. Thus, the gear 110 of the holder 104 comes into contact with the kicker 107.

すなわち、第1自転により、ホルダ104がキッカー107に近づき接触する。キッカー107がバネ鋼等の平板形状の部材であると、ギヤ110がキッカー107に接触すると、キッカー107によりギヤ110が弾かれて、ギヤ110が回転する。ギヤ110が回転すると、ホルダ104が軸140を中心にして第2自転する。この第2自転が図6の矢示Z方向の回転である。   That is, the holder 104 approaches and comes into contact with the kicker 107 by the first rotation. If the kicker 107 is a flat plate member such as spring steel, when the gear 110 comes into contact with the kicker 107, the gear 110 is repelled by the kicker 107 and the gear 110 rotates. When the gear 110 rotates, the holder 104 rotates around the shaft 140 in the second rotation. This second rotation is the rotation in the direction indicated by the arrow Z in FIG.

キッカー107は、キッカー固定ボス106に設けられている。このキッカー固定ボス106には、内側パイプ105を回り止めするピン108が設けられている。上述のように、外側パイプ102の回転中心と内側パイプ105の中心軸とは一致している。このため、ボス106への内側パイプ105の嵌合と、内側パイプ105のピン係合部へのボス上ピン108の係合とにより、内側パイプ105の上下方向及びパイプ中心軸回り方向において内側パイプ105が位置決めされ、かくして、内側パイプ105の中心軸と外側パイプ102の回転中心とが一致し、外側パイプ102に支持された小テーブル103に立設されたホルダ104の回転中心と、キッカー固定ボス106に設けられたキッカー107との水平方向の距離が一義的に決定される。   The kicker 107 is provided on the kicker fixing boss 106. The kicker fixing boss 106 is provided with a pin 108 that prevents the inner pipe 105 from rotating. As described above, the rotation center of the outer pipe 102 coincides with the central axis of the inner pipe 105. Therefore, by fitting the inner pipe 105 to the boss 106 and engaging the boss upper pin 108 to the pin engaging portion of the inner pipe 105, the inner pipe 105 in the vertical direction of the inner pipe 105 and in the direction around the pipe center axis. 105, the center axis of the inner pipe 105 coincides with the center of rotation of the outer pipe 102, the center of rotation of the holder 104 standing on the small table 103 supported by the outer pipe 102, and the kicker fixing boss. The horizontal distance from the kicker 107 provided at 106 is uniquely determined.

さらに、小テーブル支柱ハウジング101の上面を基準高さとして、外側パイプ102及びキッカー固定ボス106の高さ位置を決定し、かつ、内側パイプ支持部材122の上面を基準高さとして、内側パイプ105、小テーブル103、ホルダ104及びギヤ110の高さ位置を決定する。このようにすると、ギヤ110と、キッカー固定ボス106に設けられたキッカー107との高さ方向の位置を揃えることができる。   Further, the height positions of the outer pipe 102 and the kicker fixing boss 106 are determined using the upper surface of the small table support housing 101 as a reference height, and the inner pipe 105, The height positions of the small table 103, the holder 104, and the gear 110 are determined. If it does in this way, the position of the height direction of the gear 110 and the kicker 107 provided in the kicker fixed boss | hub 106 can be arrange | equalized.

このことは、キッカー107を固定するキッカー固定ボス106が、該ボス106を用いて内側パイプ105を積み重ねていくだけで位置決めされ、ひいてはギヤ110に対するキッカーの位置決め(水平方向及び高さ方向)が容易に行われることを示す。なお、図6に示すように、ピン108は、1個のキッカー固定ボス106について、2ヶ所設けられている。図6では180度の間隔でピン108が設けられている。   This means that the kicker fixing boss 106 for fixing the kicker 107 is positioned simply by stacking the inner pipe 105 using the boss 106, and the kicker positioning (horizontal direction and height direction) with respect to the gear 110 is facilitated. Indicates what will be done. As shown in FIG. 6, two pins 108 are provided for one kicker fixing boss 106. In FIG. 6, the pins 108 are provided at intervals of 180 degrees.

<膜形成装置の動作>
以上のような構造を有する真空アーク蒸着装置Aの動作について説明する。真空アーク蒸着装置Aにより物品Wに膜を形成させる場合には、先ず物品Wを支持装置2のホルダ104に装着して支持させる。そして、真空容器1を排気装置4で排気し、真空容器1内を減圧し、真空容器1内を膜形成圧に維持しつつ物品Wに膜形成することとなる。
<Operation of film forming apparatus>
Operation | movement of the vacuum arc vapor deposition apparatus A which has the above structures is demonstrated. When a film is formed on the article W by the vacuum arc vapor deposition apparatus A, the article W is first mounted on and supported by the holder 104 of the support apparatus 2. Then, the vacuum vessel 1 is evacuated by the exhaust device 4, the inside of the vacuum vessel 1 is depressurized, and a film is formed on the article W while maintaining the inside of the vacuum vessel 1 at a film forming pressure.

膜形成は、以下のように行なわれる。真空アーク蒸発部5における各蒸発源51において、アーク放電を発生させてカソード50を蒸発させるとともにイオン化する一方、バイアス電源3から支持装置2に、従って支持装置2上の各物品Wに負のDCバイアスを印加し、これによりイオン化されたカソード材料を各物品Wに飛翔させて膜形成する。この膜形成においては、支持装置2を回転させる。   Film formation is performed as follows. Each evaporation source 51 in the vacuum arc evaporation section 5 generates an arc discharge to evaporate and ionize the cathode 50, while negative DC is applied from the bias power source 3 to the support device 2, and hence to each article W on the support device 2. A film is formed by applying a bias and causing the ionized cathode material to fly to each article W. In this film formation, the support device 2 is rotated.

モータ20に通電して、モータ主軸21及び回転軸22を回転させて支柱80を回転させる。支柱80は、テーブル支持ベアリング70により支持されたテーブル30に立設されているので、モータ20の回転によりテーブル30が矢示X方向に公転する。   The motor 20 is energized to rotate the motor main shaft 21 and the rotating shaft 22 to rotate the column 80. Since the column 80 is erected on the table 30 supported by the table support bearing 70, the table 30 revolves in the arrow X direction by the rotation of the motor 20.

回転軸22と固定歯車40との間には支柱ベアリング60が設けられているので、回転軸22が回転しても固定歯車40は回転しない。固定歯車40が回転することなくテーブル30が公転するので、テーブル30上に外側パイプ支持ベアリング111を介して立設された外側パイプ102に連結された歯車55が回転する。歯車55の回転により外側パイプ102が回転して外側パイプ102に固設された小テーブル103が、矢示Y方向に第1自転する。   Since the support bearing 60 is provided between the rotating shaft 22 and the fixed gear 40, the fixed gear 40 does not rotate even if the rotating shaft 22 rotates. Since the table 30 revolves without the fixed gear 40 rotating, the gear 55 connected to the outer pipe 102 erected on the table 30 via the outer pipe support bearing 111 rotates. The outer pipe 102 is rotated by the rotation of the gear 55, and the small table 103 fixed to the outer pipe 102 rotates first in the arrow Y direction.

外側パイプ102と内側パイプ105との間には内側パイプ支持ベアリング121が設けられており、内側パイプ105の上端部が天板115に設けた固定ボス109で回り止めされているので、外側パイプ102が回転しても内側パイプ105は回転しない。内側パイプ105は回転することなく小テーブル103が第1自転する。第1自転により、内側パイプ105に固着されたキッカー107がホルダ104に固着されたギヤ110を弾いて、ギヤ110が回転する。ギヤ110が回転すると、ホルダ104が軸140を中心にして、矢示Z方向に第2自転する。   An inner pipe support bearing 121 is provided between the outer pipe 102 and the inner pipe 105, and the upper end of the inner pipe 105 is stopped by a fixed boss 109 provided on the top plate 115. Even if is rotated, the inner pipe 105 does not rotate. The small table 103 rotates first without rotating the inner pipe 105. By the first rotation, the kicker 107 fixed to the inner pipe 105 repels the gear 110 fixed to the holder 104, and the gear 110 rotates. When the gear 110 rotates, the holder 104 rotates about the shaft 140 in the arrow Z direction in the second direction.

このように、モータ20を回転させることにより、テーブル30が矢示X方向に公転し、小テーブル103が矢示Y方向に第1自転し、ホルダ104が矢示Z方向に第2自転する。   Thus, by rotating the motor 20, the table 30 revolves in the arrow X direction, the small table 103 rotates first in the arrow Y direction, and the holder 104 rotates second in the arrow Z direction.

なお、公転の回転速度、第1自転の回転速度及び第2自転の回転速度は、モータ20の回転数及び歯車のギヤ比を適宜設定することにより、所望の回転速度になるように設計されている。   Note that the revolution speed, the first rotation speed, and the second rotation speed are designed to have desired rotation speeds by appropriately setting the rotation speed of the motor 20 and the gear ratio of the gears. Yes.

さらに、上述したように、小テーブル103の外周方向には従来のようにキッカー固定部材が存在しない。このため、そのような部材に邪魔されることなくそれだけ円滑に膜形成できる。   Furthermore, as described above, there is no kicker fixing member in the outer peripheral direction of the small table 103 as in the prior art. For this reason, the film can be smoothly formed without being obstructed by such a member.

また、上述の実施の形態に係る支持装置2の小テーブル103の外径のままでゴミ除けの受け皿を形成することもできる。すなわち、小テーブル103を、立ち上がり周縁部を有する皿状形態として、上方からの落下物を受けることができるようにする。このときに、キッカー107とギヤ110との接触によりゴミ等が発生する場合に受け皿を設ける必要があるが、キッカーが従来のように小テーブルの円周の外方向(小テーブルの中心軸から離れる方向)ではなく内方向(小テーブルの中心軸に近づく方向)に設けられているので、受け皿の径を大きくする必要はない。キッカー107は上述のように平板形状のものではなく、ギヤ110と噛み合うギヤであっても構わない。   In addition, it is also possible to form a dust-free tray with the outer diameter of the small table 103 of the support device 2 according to the above-described embodiment. That is, the small table 103 is configured as a dish having a rising peripheral edge so that it can receive falling objects from above. At this time, if dust or the like is generated due to contact between the kicker 107 and the gear 110, it is necessary to provide a saucer. However, the kicker moves away from the circumference of the small table as in the prior art (away from the central axis of the small table). (In the direction approaching the central axis of the small table) rather than in the direction), it is not necessary to increase the diameter of the tray. The kicker 107 is not a flat plate as described above, and may be a gear that meshes with the gear 110.

以上のようにして、本実施の形態に係る真空アーク蒸着装置によると、
(1)キッカーを固定するキッカー固定ボス106が、内側パイプ105を積み重ねていくだけで位置決めされるのでキッカーの位置決めが容易でキックミスが生じにくく、均一な膜形成を実現でき、
(2)小テーブルの回転軸側にキッカーを設けたので、小テーブルの外周側に従来のようなキッカーが存在せず、小テーブルの外周側に設けた真空アーク蒸発部5からの成膜材料の飛翔を阻害せず、
(3)小テーブルの外周側にキッカー設置スペースが不要となり、支持装置の体格を小さくしたり、キッカー設置スペースにゴミ受け等を設置したりでき、
(4)膜形成対象物品及びそのホルダを傾斜させて、配置テーブル支柱に複数連設される小テーブル間の距離を小さくすることができるので、小テーブルの数を増やして膜形成対象物品の処理量を増大させることができる。
As described above, according to the vacuum arc deposition apparatus according to the present embodiment,
(1) Since the kicker fixing boss 106 for fixing the kicker is positioned simply by stacking the inner pipes 105, the kicker can be easily positioned and the kick mistake is not easily caused, and uniform film formation can be realized.
(2) Since the kicker is provided on the rotating shaft side of the small table, there is no conventional kicker on the outer peripheral side of the small table, and the film forming material from the vacuum arc evaporation section 5 provided on the outer peripheral side of the small table. Without hindering the flight of
(3) There is no need for a kicker installation space on the outer side of the small table, and it is possible to reduce the size of the support device or to install a garbage receiver in the kicker installation space.
(4) Since the film forming target article and its holder can be tilted to reduce the distance between the small tables connected to the arrangement table support column, the number of small tables is increased to process the film forming target article. The amount can be increased.

今回開示された実施の形態は単に例示であって、本発明が上述した実施の形態のみに限定されるわけではない。本発明の範囲は、発明の詳細な説明の記載を参酌した上で、特許請求の範囲の各請求項によって示され、そこに記載された文言と均等の意味及び範囲内でのすべての変更を含む。   The embodiment disclosed this time is merely an example, and the present invention is not limited to the embodiment described above. The scope of the present invention is indicated by each claim in the claims after taking into account the description of the detailed description of the invention, and all modifications within the meaning and scope equivalent to the wording described therein are intended. Including.

A 真空アーク蒸着装置
W 被処理物品
1 真空容器
2 支持装置
3 DCバイアス電源
4 排気装置
5 真空アーク蒸着部
20 モータ
21 モータ主軸
22 回転軸
30 テーブル
40 固定歯車
55 歯車
60 支柱ベアリング
70 テーブル支持ベアリング
80 支柱
101 小テーブル支柱ハウジング
102 外側パイプ
103 小テーブル
104 ホルダ
105 内側パイプ
106 キッカー固定ボス
107 キッカー
108 ピン
109 固定ボス
110 ギヤ
111 外側パイプ支持ベアリング
112 ボルト
115 天板
121 内側パイプ支持ベアリング
122 内側パイプ支持部材
123 内側パイプ連結部材
124 外側パイプ支持部材
125 ボルト
130 小テーブル支柱
131 小テーブル天板
140 軸
A Vacuum arc deposition apparatus W Article 1 Vacuum container 2 Support apparatus 3 DC bias power supply 4 Exhaust apparatus 5 Vacuum arc deposition section 20 Motor 21 Motor spindle 22 Rotating shaft 30 Table 40 Fixed gear 55 Gear 60 Strut bearing 70 Table support bearing 80 Column 101 Small table column housing 102 Outer pipe 103 Small table 104 Holder 105 Inner pipe 106 Kicker fixing boss
107 kicker 108 pin 109 fixed boss 110 gear 111 outer pipe support bearing 112 bolt 115 top plate 121 inner pipe support bearing 122 inner pipe support member 123 inner pipe connecting member 124 outer pipe support member 125 bolt 130 small table column 131 small table top plate 140 axes

Claims (6)

膜形成に寄与する粒子を発生させ、該粒子を膜形成対象物品へ向かわせ、該物品上に膜形成する膜形成装置の膜形成室内に設置して用いる膜形成対象物品支持装置であり、
回転駆動される主台と、該主台に立設され、該主台の回転に伴い該主台の回転中心線のまわりを円運動する複数本の支柱と、該各支柱に沿って複数段に配置され、前記主台の回転に連動して該支柱を中心に回転する副台と、該各副台に立設され、該副台の回転に伴い支柱のまわりを円運動する複数の膜形成対象物品のホルダと、該各ホルダに対して設けられ、該ホルダと連動回転する被駆動輪と、前記各支柱に沿って複数段に配置された前記副台のそれぞれに対応させて設けられ、該副台に立設された前記ホルダと連動回転する前記被駆動輪が該支柱を中心に円運動してくることで該被駆動輪に接触して該被駆動輪及びホルダを回転させるキッカーとを含んでいる膜形成対象物品支持装置であって、
前記支柱は前記主台に対して回転しないように該主台に立設されており、
該各支柱に沿って上下方向に複数段に配置された前記副台を前記主台の回転に連動させて該支柱のまわりに回転させる連動機構を備えており、
前記キッカーは前記各支柱に沿って上下方向に配置された前記副台のそれぞれに対応させて該支柱に固設されており、
前記ホルダ及び前記膜形成対象物品は前記支柱の延びる方向に対して傾斜するように設けられていることを特徴とする膜形成対象物品支持装置。
A film forming target article supporting device that generates particles contributing to film formation, directs the particles to the film forming target article, and is installed in a film forming chamber of a film forming apparatus that forms a film on the article.
A main base that is driven to rotate, a plurality of pillars that are erected on the main base and that circularly move around the rotation center line of the main base as the main base rotates. And a plurality of membranes that are erected on each of the sub-bases and that move in a circular motion around the post along with the rotation of the sub-bases. It is provided corresponding to each of the holder of the article to be formed, the driven wheel that is provided for each holder and rotates in conjunction with the holder, and the sub-base arranged in multiple stages along each column. The kicker that rotates the driven wheel and the holder by contacting the driven wheel by the circular movement of the driven wheel that rotates in conjunction with the holder that is erected on the sub-base moves around the column. A film-forming object support device comprising:
The column is erected on the main stand so as not to rotate with respect to the main stand,
It is equipped with an interlocking mechanism that rotates the sub-bases arranged in a plurality of stages in the vertical direction along the respective pillars around the pillars in conjunction with the rotation of the main base,
The kicker is fixed to the column corresponding to each of the sub-bases arranged in the vertical direction along each column,
The film forming target article supporting apparatus, wherein the holder and the film forming target article are provided so as to be inclined with respect to a direction in which the support column extends.
前記支柱は、前記主台に立設された二重構造支柱における内側支柱であり、該内側支柱は該主台に対して回転しないように立設されており、
前記副台は、該二重構造支柱の前記内側支柱の外側に設けられた中空円筒の外側支柱に固設されており、
該副台を前記主台の回転に連動させて回転させる連動機構は、該主台の回転に連動させて該中空円筒の外側支柱を回転させることで該副台を回転させる機構である、請求項1記載の膜形成対象物品支持装置。
The strut is an inner strut in a double structure strut erected on the main stand, and the inner strut is erected so as not to rotate with respect to the main stand.
The sub table is fixed to an outer column of a hollow cylinder provided outside the inner column of the double structure column,
The interlocking mechanism for rotating the sub table in conjunction with the rotation of the main table is a mechanism for rotating the sub table by rotating the outer column of the hollow cylinder in conjunction with the rotation of the main table. Item 1. The article support device for film formation according to Item 1.
前記内側支柱は、上下方向に分割された支柱と、該分割支柱どうしを連結する、位置決め機構を備えたボスとを含んでおり、
前記ボスに前記キッカーが固設されている、請求項2記載の膜形成対象物品支持装置。
The inner strut includes a strut divided in the vertical direction and a boss having a positioning mechanism for connecting the divided struts,
The film forming target article supporting device according to claim 2, wherein the kicker is fixed to the boss.
前記副台は、立ち上がり周縁部を有する皿状形態を有しており、上方からの落下物受けを兼ねている、請求項1から請求項3のいずれかに記載の膜形成対象物品支持装置。   The film forming target article support device according to any one of claims 1 to 3, wherein the sub table has a dish-like shape having a rising peripheral edge and serves also as a falling object receiver from above. 膜形成に寄与する粒子を発生させ、該粒子を膜形成対象物品へ向かわせ、該物品上に膜形成する膜形成装置であり、成膜室内に設置して用いる膜形成対象物品支持装置として請求項1から請求項4のいずれかに記載の膜形成対象物品支持装置を備えた膜形成装置。   A film forming apparatus that generates particles that contribute to film formation, directs the particles toward the film formation target article, and forms a film on the article. The film formation apparatus provided with the film formation object article support apparatus in any one of Claims 1-4. 真空アーク蒸着法により膜形成する、請求項5記載の膜形成装置。   The film forming apparatus according to claim 5, wherein the film is formed by a vacuum arc deposition method.
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