KR20070057488A - Organic electro-luminescence display device and fabricating method thereof - Google Patents

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KR20070057488A
KR20070057488A KR1020050116998A KR20050116998A KR20070057488A KR 20070057488 A KR20070057488 A KR 20070057488A KR 1020050116998 A KR1020050116998 A KR 1020050116998A KR 20050116998 A KR20050116998 A KR 20050116998A KR 20070057488 A KR20070057488 A KR 20070057488A
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Abstract

An organic electro-luminescence display device and a fabricating method thereof are provided to reduce waste of a partition wall material by forming a right taper shaped protecting partition wall in a seal line area together with a reverse taper shaped partition wall of an array area. An organic electro-luminescence display device includes an array area(P1). The array area(P1) includes an anode electrode(104) and a cathode electrode(112) which cross each other while interposing an organic light emitting layer(110) on a substrate(102). A cap(170) is adhered to the substrate(102) through a sealant(125) in a seal line area(P3) formed at an outer side of the array area(P1). Protecting partition walls(158) of a right taper shape are parallel with the sealant(125) at a predetermined distance at left and right sides of the seal line area(P3).

Description

유기 전계발광 표시소자 및 그 제조방법{ORGANIC ELECTRO-LUMINESCENCE DISPLAY DEVICE AND FABRICATING METHOD THEREOF}Organic electroluminescent display device and manufacturing method therefor {ORGANIC ELECTRO-LUMINESCENCE DISPLAY DEVICE AND FABRICATING METHOD THEREOF}

도 1은 종래의 유기 전계발광 표시소자를 개략적으로 나타내는 도면.1 is a view schematically showing a conventional organic electroluminescent display device.

도 2는 도 1에 도시된 A 영역을 구체적으로 나타내는 도면.FIG. 2 is a view showing specifically the region A shown in FIG. 1. FIG.

도 3은 도 2에 도시된 Ⅰ-Ⅰ’, Ⅱ-Ⅱ’선을 따라 절취한 단면도.3 is a cross-sectional view taken along lines II ′ and II-II ′ of FIG. 2.

도 4a 내지 도 4d는 기판 상의 실라인 영역에 실런트가 도포되는 과정을 설명하기 위한 도면.4A to 4D are views for explaining a process of applying a sealant to a seal line region on a substrate.

도 5는 역 테퍼 형상의 보호격벽에 의한 실런트 도포 불량을 나타내는 도면.Fig. 5 is a diagram showing poor sealant coating due to a reverse taper-shaped protective partition wall.

도 6은 본 발명의 실시 예에 따른 유기 전계발광 표시소자의 일부분을 나타내는 평면도.6 is a plan view illustrating a portion of an organic electroluminescent display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 7은 도 6에 도시된 Ⅲ-Ⅲ’, Ⅳ-Ⅳ’선을 따라 절취한 단면도.FIG. 7 is a cross-sectional view taken along lines III-III ′ and IV-IV ′ of FIG. 6.

도 8a 내지 도 8e는 본 발명의 실시 예에 따른 유기 전계발광 표시소자의 제조방법을 단계적으로 나타내는 단면도.8A through 8E are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing an organic light emitting display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 9a 내지 도 9f는 본 발명의 실시 예에 따른 어레이 영역의 역 테퍼 형상의 격벽과 비어레이 영역의 정 테퍼 형상의 격벽의 형성을 상세히 나타내는 단면도.9A to 9F are cross-sectional views illustrating in detail the formation of the reverse taper-shaped partition wall of the array region and the positive taper-shaped partition wall of the vialay region according to an embodiment of the present invention.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 간단한 설명 ><Brief description of symbols for the main parts of the drawings>

2, 102 : 기판 4, 104 : 애노드 전극2, 102: substrate 4, 104: anode electrode

6, 106 절연막 8, 108 : 격벽6, 106 insulating film 8, 108: partition wall

10, 110 : 유기 발광층 12, 112 : 캐소드 전극10, 110: organic light emitting layer 12, 112: cathode electrode

25, 125 : 실런트 52: 스캔 링크25, 125: Sealant 52: Scan Link

54 : 데이터 링크 58, 158 : 보호 격벽54: data link 58, 158: protective bulkhead

70, 170 : 캡 80 : 디스펜스70, 170: Cap 80: Dispensing

200 : 제1 마스크 210 : 제2 마스크200: first mask 210: second mask

220 : 포토레지스트220: photoresist

본 발명은 유기 전계발광 표시소자에 관한 것으로 특히, 수율을 향상시킬 수 있는 유기 전계발광 표시소자 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to an organic electroluminescent display device, and more particularly, to an organic electroluminescent display device capable of improving yield and a method of manufacturing the same.

최근, 음극선관(Cathode Ray Tube)의 단점인 무게와 부피를 줄일 수 있는 각종 평판 표시장치들이 개발되고 있다. 평판 표시장치로는 액정 표시장치(Liquid Crystal Display : 이하, “LCD”라 함), 전계 방출 표시장치(Field Emission Display : FED), 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel : 이하, “PDP” 라 함) 및 전계발광 (Electro-luminescence Display : 이하, “EL ”라 함) 표시장치 등이 있다.Recently, various flat panel displays have been developed to reduce weight and volume, which are disadvantages of cathode ray tubes. As a flat panel display, a liquid crystal display (hereinafter referred to as "LCD"), a field emission display (FED), and a plasma display panel (hereinafter referred to as "PDP") And an electro-luminescence display (hereinafter, referred to as “EL”) display device.

PDP는 구조와 제조공정이 비교적 단순하기 때문에 대화면에 가장 유리하지만 발광효율과 휘도가 낮고 소비전력이 큰 단점이 있다.PDP is most advantageous for the large screen because of its relatively simple structure and manufacturing process, but it has the disadvantages of low luminous efficiency, low luminance and high power consumption.

LCD는 노트북 컴퓨터의 표시소자로 주로 이용되면서 수요가 늘고 있다. 그러나 LCD는 반도체공정으로 제조되기 때문에 대화면화에 어려움이 있고 자발광소자가 아니기 때문에 별도의 광원이 필요하고 그 광원으로 인하여 소비전력이 큰 단점이 있다. 또한, LCD는 편광필터, 프리즘시트, 확산판 등의 광학소자들에 의해 광손실이 많고 시야각이 좁은 단점이 있다.As LCDs are mainly used as display elements in notebook computers, demand is increasing. However, since LCD is manufactured by a semiconductor process, it is difficult to make a large screen and because it is not a self-luminous device, a separate light source is required and power consumption is large due to the light source. In addition, LCD has a disadvantage of high light loss and a narrow viewing angle due to optical elements such as a polarizing filter, a prism sheet, and a diffusion plate.

EL 표시소자는 무기 EL 표시소자와 유기 EL 표시소자로 대별되며, 응답속도가 빠르고 발광효율, 휘도 및 시야각이 큰 장점이 있다. 유기 EL 표시소자는 대략 10[V] 전후의 전압으로 수만[cd/㎡]의 높은 휘도로 화상을 표시할 수 있으며, 상용화되고 있는 대부분의 EL 표시소자에 적용되고 있다.The EL display device is roughly classified into an inorganic EL display device and an organic EL display device, and has advantages of fast response speed and high luminous efficiency, brightness, and viewing angle. The organic EL display element can display an image with a high luminance of tens of thousands [cd / m 2] at a voltage around 10 [V], and is applied to most EL display elements that are commercially available.

도 1은 종래의 유기 EL 표시소자를 개략적으로 나타내는 도면이다.1 is a view schematically showing a conventional organic EL display element.

도 1을 참조하면, 종래의 유기 EL 표시소자는 유기 발광층을 사이에 두고 서로 교차하는 구동전극들(예를 들어, 애노드 전극 및 캐소드 전극)을 포함하는 유기 EL 어레이가 형성된 어레이 영역(P1)과, 어레이 영역(P1)의 구동전극들에 구동신호를 공급하는 패드부가 위치하는 비어레이 영역(P2)을 구비한다.Referring to FIG. 1, a conventional organic EL display device includes an array region P1 in which an organic EL array including driving electrodes (eg, an anode electrode and a cathode electrode) intersecting each other with an organic light emitting layer interposed therebetween is formed. The via region P2 may include a pad unit for supplying a driving signal to the driving electrodes of the array region P1.

어레이 영역(P1)에의 유기 EL 어레이는 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 기판(2) 상에 유기 발광층(10)을 사이에 두고 서로 교차되는 제1 전극(이하, “애 노드 전극”이라 함)(4)과, 제2 전극(이하, “캐소드 전극”이라 함)(12)과, 애노드 전극(4) 상에 유기 발광층(10)이 형성될 영역을 노출시키는 절연막(6)과, 애노드 전극(4)을 가로지르는 격벽(8)을 구비한다. As shown in FIGS. 2 and 3, the organic EL array in the array region P1 includes a first electrode (hereinafter referred to as “anode electrode”) that crosses each other with the organic light emitting layer 10 interposed therebetween on the substrate 2. 4, a second electrode 12 (hereinafter referred to as a “cathode electrode”) 12, an insulating film 6 exposing a region where the organic light emitting layer 10 is to be formed on the anode 4, and And a partition wall 8 that crosses the anode electrode 4.

애노드 전극(4)은 투명전극층으로써 기판(2) 상에 소정간격으로 이격되어 다수개 형성된다. 유기 발광층(10)은 애노드 전극(4) 상에 정공수송층, 발광층 및 전자수송층이 적층되어 형성된다. 캐소드 전극(12)은 유기 발광층(10) 상에 애노드 전극(4)과 교차되도록 다수개 형성된다. 절연막(6)은 애노드 전극(4)이 형성된 기판(2) 상에 유기 발광층(10)이 형성될 영역마다 개구부를 가지도록 형성된다. 격벽(8)은 캐소드 전극(12)의 분리를 위하여 상단부가 하단부보다 넓은 폭을 가지게 되는 역 테퍼(taper) 구조로 절연막(6) 상에 형성된다. A plurality of anode electrodes 4 are formed on the substrate 2 as a transparent electrode layer at a predetermined interval. The organic light emitting layer 10 is formed by stacking a hole transport layer, a light emitting layer and an electron transport layer on the anode electrode (4). A plurality of cathode electrodes 12 are formed on the organic light emitting layer 10 so as to intersect the anode electrode 4. The insulating film 6 is formed to have an opening for each region where the organic light emitting layer 10 is to be formed on the substrate 2 on which the anode electrode 4 is formed. The partition wall 8 is formed on the insulating film 6 in an inverted taper structure in which the upper end portion has a wider width than the lower end portion for separation of the cathode electrode 12.

비어레이 영역(P2)에는 어레이 영역(P1)의 애노드 전극(4)에서 신장된 데이터 링크(54)와, 데이터 링크(54)를 통해 애노드 전극(4)에 데이터 전압을 공급하는 데이터 패드들이 형성되고, 캐소드 전극(12)과 접속된 스캔 링크(52)와, 스캔 링크(52)를 통해 캐소드 전극(12)에 스캔 전압을 공급하는 스캔 패드가 마련된다.In the via region P2, a data link 54 extending from the anode electrode 4 of the array region P1 and data pads for supplying a data voltage to the anode electrode 4 through the data link 54 are formed. The scan link 52 connected to the cathode electrode 12 and a scan pad for supplying a scan voltage to the cathode electrode 12 through the scan link 52 are provided.

한편, 어레이 영역(P1)의 유기 EL 어레이는 수분 및 산소 등에 의하여 쉽게 열화되는 특성이 있다. 이에, 어레이 영역(P1)의 유기 EL 어레이는 봉지(Encapsulation) 공정이 실시됨으로써 기판(2) 상에 실라인 영역(P3)에 도포되는 실런트(25)를 통해 캡(70)과 합착된다. On the other hand, the organic EL array in the array region P1 is easily deteriorated by moisture, oxygen, or the like. Thus, the organic EL array of the array region P1 is bonded to the cap 70 through the sealant 25 applied to the seal line region P3 on the substrate 2 by performing an encapsulation process.

실런트(25)는 기판(2) 상에 실런트(25)가 도포되는 영역의 좌우에서 각각 소정거리를 유지하며 나란하게 형성되어 실라인 영역(P3)을 정의하는 보호 격벽(58) 에 둘러싸여 진다. 이 보호 격벽(58)은 어레이 영역(P1)의 격벽(8)과 동일 공정으로 형성되며 실런트(25)가 어레이 영역(P1)의 유기 EL 어레이로 유입되는 것을 방지함과 아울러 실런트(25)가 실라인 영역(P3)의 바깥영역으로 유출되는 것을 방지하는 역할을 한다.The sealant 25 is formed in parallel with each other while maintaining a predetermined distance from the left and right of the region where the sealant 25 is applied on the substrate 2 and surrounded by the protective partition 58 defining the seal line region P3. The protective partition 58 is formed in the same process as the partition 8 of the array region P1, and prevents the sealant 25 from flowing into the organic EL array of the array region P1 and the sealant 25 is prevented from entering. It serves to prevent outflow to the outer region of the seal line region P3.

이하, 보호 격벽(58) 내부에 디스펜스 등을 이용하여 실런트(25)를 도포하는 과정을 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a process of applying the sealant 25 to the inside of the protective partition 58 by using a dispense or the like will be described.

도 4a 내지 도 4d는 기판 상의 실라인 영역(P3)에 실런트가 도포되는 과정을 설명하기 위한 도면이다.4A to 4D are diagrams for describing a process of applying a sealant to the seal line region P3 on the substrate.

유기 EL 표시소자의 비어레이 영역(P2)에 형성된 보호 격벽(58) 내부에는 디스펜스(80)로부터 공급된 실런트(25)가 도포된다. The sealant 25 supplied from the dispense 80 is applied to the inside of the protective partition 58 formed in the via region P2 of the organic EL display element.

도 4a를 참조하면, 디스펜스(80)는 직사각형 형상의 유기 EL 표시소자의 한 변의 실라인 영역(P3)에 실런트(25)를 도포한다.Referring to FIG. 4A, the dispense 80 applies the sealant 25 to the seal line region P3 on one side of the rectangular organic EL display element.

이어, 직사각형 형상의 유기 EL 표시소자의 한 변의 실라인 영역(P3)에 실런트(25)의 도포가 완료되면, 디스펜스(80)는 도 4b와 같이 그 도포 방향을 변경하여 직사각형 형상의 유기 EL 표시소자의 다른 변의 실라인 영역(P3)에 실런트(25)를 도포한다. Subsequently, when the application of the sealant 25 is completed to the seal line region P3 on one side of the rectangular organic EL display element, the dispense 80 changes its application direction as shown in FIG. 4B to display a rectangular organic EL display. The sealant 25 is applied to the seal line region P3 on the other side of the device.

또한, 디스펜스(80)는 그 도포 방향을 다시 변경하여 도 4c 및 도 4d와 같이 직사각형 형상의 유기 EL 표시소자의 나머지 변들의 실라인 영역(P3)에도 실런트(25)를 도포한다.In addition, the dispensing 80 changes the coating direction again to apply the sealant 25 to the seal line region P3 of the remaining sides of the rectangular organic EL display element as shown in FIGS. 4C and 4D.

이후, 직사각형 형상의 유기 EL 표시소자의 네 변의 실라인 영역(P3)에 실런 트(25)의 도포가 완료되면 도포된 실런트(25)의 상부에 캡(70)을 로딩하여 기판(2)과 캡(70)을 합착시킴으써 유기 EL 표시소자는 완성된다.Subsequently, when the sealant 25 is applied to the seal line regions P3 of the four sides of the rectangular organic EL display element, the cap 70 is loaded on the coated sealant 25 to form the substrate 2 and the substrate 2. By attaching the cap 70, the organic EL display element is completed.

그러나, 종래의 유기 EL 표시소자의 실라인 영역(P3)의 네 모서리 영역에는 도 5에 도시된 바와 같이 실런트(25)가 고루 도포되지 않는 문제를 가진다. 이는, 실라인 영역(P3)의 외곽부에 형성되는 역 테퍼 형상의 보호 격벽(58)이 유기 EL 표시소자의 네 변의 실라인 영역(P3)에 실런트(25)를 도포하기 위하여 도포 방향을 변경할 때 실라인 영역(P3)의 네 모서리 영역을 가리기 때문이다. However, there is a problem in that the sealant 25 is not evenly applied to the four corner regions of the seal line region P3 of the conventional organic EL display element. This is because the reverse taper-shaped protective partition 58 formed at the outer portion of the seal line region P3 changes the application direction in order to apply the sealant 25 to the seal line region P3 of the four sides of the organic EL display element. This is because the four corner regions of the seal line region P3 are covered.

이와 같이 유기 EL 표시소자의 실라인 영역(P3)에 네 모서리 영역에 실런트(25)가 고루 도포되는 경우 기판(2)과 캡(70)에는 합착 불량이 발생하며, 이와 같은 합착 불량이 발생한 유기 EL 표시소자는 불량으로 판별되는 등 유기 EL 표시소자는 실라인 영역(P3)에 네 모서리 영역에 고루 도포되지 않는 실런트(25)에 의하여 그 수율이 저하되는 문제를 가진다. As described above, when the sealant 25 is evenly applied to the four corner regions of the seal line region P3 of the organic EL display device, adhesion failure occurs in the substrate 2 and the cap 70. The EL display element is judged to be defective. The organic EL display element has a problem in that its yield is lowered by the sealant 25 which is not evenly applied to the four corner regions in the seal line region P3.

따라서, 본 발명의 목적은 수율을 향상시킬 수 있는 유기 전계발광 표시소자 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide an organic electroluminescent display device and a method of manufacturing the same which can improve yield.

상기의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 실시 예에 따른 유기 전계발광 표시소자는 기판상에 유기 발광층을 사이에 두고 서로 교차하는 애노드 전극과 캐 소드 전극을 포함하는 어레이 영역과; 상기 어레이 영역의 외곽에 위치하는 실라인 영역에서 실런트를 통하여 상기 기판과 접합되는 캡과; 상기 실라인 영역의 좌우에서 소정간격을 유지하며 상기 실런트와 나란한 정 테퍼 형상의 보호 격벽을 구비한다.In order to achieve the above object, an organic electroluminescent display device according to an embodiment of the present invention includes an array region including an anode electrode and a cathode electrode intersecting with each other with an organic light emitting layer on the substrate; A cap bonded to the substrate through a sealant in a seal line region located outside the array region; A protective partition wall having a positive taper shape parallel to the sealant may be provided while maintaining a predetermined distance from the left and right of the seal line region.

상기 유기 전계발광 표시소자는 상기 애노드 전극 상에 형성된 상기 어레이 영역에 상기 유기 발광층이 형성될 영역을 노출시키는 절연막과; 상기 절연막 상에 상기 애노드 전극과 교차되는 방향으로 형성되는 역 테퍼 형상의 격벽을 더 구비한다.The organic electroluminescent display includes an insulating film exposing a region where the organic light emitting layer is to be formed in the array region formed on the anode electrode; And an inverse taper-shaped partition wall formed on the insulating film in a direction crossing the anode electrode.

상기 실라인 영역의 좌우에 상기 보호 격벽과 상기 어레이 영역에 상기 격벽은 동일물질이다.The barrier ribs on the left and right sides of the seal line region and the barrier rib are the same material.

본 발명의 실시 예에 따른 유기 전계발광 표시소자의 제조방법은 기판상의 어레이 영역에 애노드 전극을 형성하는 단계와; 상기 어레이 영역의 외곽에 위치하는 실라인 영역의 좌우에서 소정간격을 유지함과 아울러 상기 실라인 영역에 도포되는 실런트와 나란한 정 테퍼 형상의 보호 격벽을 형성하는 단계와; 상기 어레이 영역에 유기 발광층을 사이에 두고 상기 애노드 전극과 교차하는 캐소드 전극을 형성하는 단계와; 상기 실런트를 통하여 캡과 상기 기판을 합착하는 단계를 포함한다.A method of manufacturing an organic electroluminescent display device according to an embodiment of the present invention includes the steps of forming an anode electrode in the array region on the substrate; Maintaining a predetermined distance on the left and right sides of the seal line region located outside the array region, and forming a protective taper having a positive taper shape parallel to the sealant applied to the seal line region; Forming a cathode electrode intersecting the anode electrode with an organic light emitting layer interposed therebetween in the array region; Bonding the cap and the substrate through the sealant.

상기 유기 전계발광 표시소자의 제조방법은 상기 애노드 전극이 형성된 상기 어레이 영역에 상기 유기 발광층이 형성될 영역을 노출시키는 절연막을 형성하는 단계와; 상기 절연막 상에 상기 애노드 전극과 교차되는 방향으로 형성되는 역 테 퍼 형상의 격벽을 형성하는 단계를 더 포함한다.The method of manufacturing an organic electroluminescent display device includes forming an insulating film exposing a region where the organic light emitting layer is to be formed in the array region where the anode electrode is formed; And forming an inverted taper-shaped partition wall formed on the insulating layer in a direction crossing the anode electrode.

상기 실라인 영역의 좌우에 상기 보호 격벽과 상기 어레이 영역에 상기 격벽은 동일 공정으로 형성된다.The barrier ribs are formed on the left and right sides of the seal line region in the same process as the protective barrier rib and the array region.

상기 실라인 영역의 좌우에 상기 보호 격벽과 상기 어레이 영역에 상기 격벽을 형성하는 공정은, 상기 절연막이 형성된 상기 기판상에 격벽물질을 전면 도포하는 단계와; 상기 격벽물질 상에 포토레지스트를 전면도포하는 단계와; 상기 격벽이 형성될 영역에 개구부를 가지는 마스크를 상기 기판상에 정렬시키고 노광하는 단계와; 상기 보호 격벽이 형성될 영역에 개구부를 가지는 마스크를 상기 기판상에 정렬시키고 노광하는 단계와; 현상공정을 통하여 상기 실라인 영역의 좌우에 정 테퍼 형상의 포토레지스트 패턴 및 상기 어레이 영역에 역 테퍼 형상의 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계와; 상기 포토레지스트 패턴을 마스크로 상기 실라인 영역의 좌우에 보호 격벽 및 상기 어레이 영역에 격벽을 패터닝하는 단계를 포함한다.Forming the barrier ribs in the protective barrier ribs and the array region on the left and right sides of the seal line region may include applying a barrier material on the substrate on which the insulating layer is formed; Front coating the photoresist on the barrier material; Aligning and exposing a mask on the substrate, the mask having an opening in a region where the partition wall is to be formed; Aligning and exposing a mask on the substrate, the mask having an opening in a region where the protective barrier is to be formed; Forming a positive tapered photoresist pattern on the left and right sides of the seal line region and an inverse tapered photoresist pattern on the array region through a developing process; Patterning a barrier rib on the left and right sides of the seal line region and the barrier rib on the array region using the photoresist pattern as a mask.

상기 실라인 영역의 좌우에 상기 보호 격벽과 상기 어레이 영역에 상기 격벽을 형성하는 공정은, 상기 절연막이 형성된 상기 기판상에 격벽물질을 전면 도포하는 단계와; 상기 격벽물질 상에 포토레지스트를 전면도포하는 단계와; 상기 보호 격벽이 형성될 영역에 개구부를 가지는 마스크를 상기 기판상에 정렬시키고 노광하는 단계와; 상기 격벽이 형성될 영역에 개구부를 가지는 마스크를 상기 기판상에 정렬시키고 노광하는 단계와; 현상공정을 통하여 상기 실라인 영역의 좌우에 정 테퍼 형상의 포토레지스트 패턴 및 상기 어레이 영역에 역 테퍼 형상의 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계와; 상기 포토레지스트 패턴을 마스크로 상기 실라인 영역의 좌우에 보호 격벽 및 상기 어레이 영역에 격벽을 패터닝하는 단계를 포함한다.Forming the barrier ribs in the protective barrier ribs and the array region on the left and right sides of the seal line region may include applying a barrier material on the substrate on which the insulating layer is formed; Front coating the photoresist on the barrier material; Aligning and exposing a mask on the substrate, the mask having an opening in a region where the protective barrier is to be formed; Aligning and exposing a mask on the substrate, the mask having an opening in a region where the partition wall is to be formed; Forming a positive tapered photoresist pattern on the left and right sides of the seal line region and an inverse tapered photoresist pattern on the array region through a developing process; Patterning a barrier rib on the left and right sides of the seal line region and the barrier rib on the array region using the photoresist pattern as a mask.

상기 제1 마스크는 상기 기판과 40 ~ 60㎛의 간격을 두고 이격되어 상기 기판상에 정렬된다.The first mask is spaced apart from the substrate at intervals of 40 to 60 μm and aligned on the substrate.

상기 제2 마스크는 상기 기판과 180 ~ 220㎛의 간격을 두고 이격되어 상기 기판상에 정렬된다.The second mask is spaced apart from the substrate at intervals of 180 to 220 μm and aligned on the substrate.

상기 목적 외에 본 발명의 다른 목적 및 이점들은 첨부 도면을 참조한 본 발명의 바람직한 실시 예들에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다.Other objects and advantages of the present invention in addition to the above object will be apparent from the description of the preferred embodiments of the present invention with reference to the accompanying drawings.

이하, 도 6 내지 도 9e를 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 6 to 9E.

도 6은 본 발명의 실시 예에 따른 유기 EL 표시소자의 일부분을 나타내는 평면도이며, 도 7은 도 6에 도시된 Ⅲ-Ⅲ’, Ⅳ-Ⅳ’선을 따라 절취한 단면도이다.6 is a plan view illustrating a portion of an organic EL display device according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a cross-sectional view taken along the line III-III ′ and IV-IV ′ of FIG. 6.

도 6 및 도 7을 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 유기 EL 표시소자는 유기 EL 어레이가 형성된 어레이 영역(P1)과, 어레이 영역(P1)의 구동전극들에 구동신호를 공급하는 패드부가 위치하는 비어레이 영역(P2)과, 비어레이 영역(P2)의 외곽부에 실런트(125)가 도포되는 실라인 영역(P3)을 구비한다. 또한, 유기 EL 표시장치는 실라인 영역(P3)에 도포되는 실런트(125)를 통해 어레이 영역(P1)을 봉지하는 캡(170)을 구비한다.6 and 7, an organic EL display device according to an exemplary embodiment of the present invention may include an array region P1 in which an organic EL array is formed, and a pad unit for supplying driving signals to driving electrodes in the array region P1. The via-lay region P2 is positioned, and the seal-line region P3 to which the sealant 125 is applied is applied to the outer portion of the via-lay region P2. In addition, the organic EL display device includes a cap 170 that seals the array region P1 through a sealant 125 applied to the seal line region P3.

어레이 영역(P1)의 유기 EL 어레이는 기판(102) 상에 유기 발광층(110)을 사이에 두고 서로 교차되는 제1 전극(이하, “애노드 전극”이라 함)(104)과, 제2 전극(이하, “캐소드 전극”이라 함)(112)과, 애노드 전극(104) 상에 유기 발광층 (110)이 형성될 영역을 노출시키는 절연막(106)과, 애노드 전극(104)을 가로지르는 격벽(108)을 구비한다. The organic EL array of the array region P1 includes a first electrode 104 (hereinafter referred to as an “anode electrode”) 104 and a second electrode crossing each other with the organic light emitting layer 110 therebetween on the substrate 102. Hereinafter, referred to as “cathode electrode” 112, an insulating film 106 exposing a region where the organic light emitting layer 110 is to be formed on the anode electrode 104, and a partition wall 108 crossing the anode electrode 104. ).

애노드 전극(104)은 투명전극층으로써 기판(102) 상에 소정간격으로 이격되어 다수개 형성된다. 유기 발광층(110)은 애노드 전극(104) 상에 정공수송층, 발광층 및 전자수송층이 적층되어 형성된다. 캐소드 전극(112)은 유기 발광층(110) 상에 애노드 전극(104)과 교차되도록 다수개 형성된다. 절연막(106)은 애노드 전극(104)이 형성된 기판(102) 상에 유기 발광층(110)이 형성될 영역마다 개구부를 가지도록 형성된다. 격벽(108)은 캐소드 전극(112)의 분리를 위하여 상단부가 하단부보다 넓은 폭을 가지게 되는 역 테퍼(taper) 구조로 절연막(106) 상에 형성된다. A plurality of anode electrodes 104 are formed on the substrate 102 as a transparent electrode layer and spaced apart at predetermined intervals. The organic light emitting layer 110 is formed by stacking a hole transport layer, a light emitting layer and an electron transport layer on the anode electrode (104). A plurality of cathode electrodes 112 are formed on the organic emission layer 110 to intersect the anode electrode 104. The insulating layer 106 is formed to have an opening in each region where the organic light emitting layer 110 is to be formed on the substrate 102 on which the anode electrode 104 is formed. The partition 108 is formed on the insulating layer 106 in an inverted taper structure in which the upper end portion has a wider width than the lower end portion for separation of the cathode electrode 112.

비어레이 영역(P2)에는 어레이 영역(P1)의 애노드 전극(104)에서 신장된 데이터 링크(미도시)와, 데이터 링크를 통해 애노드 전극(104)에 데이터 전압을 공급하는 데이터 패드들이 형성되고, 캐소드 전극(112)과 접속된 스캔 링크(152)와, 스캔 링크(152)를 통해 캐소드 전극(112)에 스캔 전압을 공급하는 스캔 패드가 마련된다.In the via region P2, a data link (not shown) extending from the anode electrode 104 of the array region P1 and data pads for supplying a data voltage to the anode electrode 104 through the data link are formed. A scan link 152 connected to the cathode electrode 112 and a scan pad for supplying a scan voltage to the cathode electrode 112 through the scan link 152 are provided.

실라인 영역(P3)에 도포되는 실런트(125)는 실라인 영역(P3) 영역의 좌우에서 소정거리를 유지하며 나란하게 형성되어 실런트(125)가 어레이 영역(P1)의 유기 EL 어레이로 유입되는 것을 방지함과 아울러 실런트(125)가 실라인 영역(P3)의 바깥영역으로 유출되는 것을 방지하는 정 테퍼 형상의 보호 격벽(158)에 둘러싸여 진다.The sealant 125 applied to the seal line region P3 is formed side by side while maintaining a predetermined distance from the left and right of the seal line region P3 so that the sealant 125 flows into the organic EL array of the array region P1. In addition, the sealant 125 is surrounded by a protective taper 158 having a positive taper shape, which prevents the sealant 125 from flowing into the outer region of the seal line region P3.

이와 같이, 본 발명의 실시 예에 따른 유기 EL 표시소자는 종래의 유기 EL 표시소자가 실라인 영역(P3)에 역 테퍼 형상의 보호 격벽을 구비함에 따라 역 테퍼 형상의 보호 격벽이 실라인 영역(P3)의 네 모서리 영역을 가리던 문제를 실라인 영역(P3)에 정 테퍼 형상의 보호 격벽(158)을 형성함으로써 제거할 수 있다. 즉, 정 테퍼 형상의 보호 격벽(158)은 유기 EL 표시소자의 네 변의 실라인 영역(P3)에 실런트(125)를 도포하기 위하여 디스펜스(미도시)의 도포 방향을 변경하는 경우에도 실라인 영역(P3)을 가리지 않음으로써 실라인 영역(P3)의 네 모서리 영역에 실런트(125)가 고루 도포되지 않는 문제를 제거할 수 있다. 따라서, 본 발명의 실시 예에 따른 유기 EL 표시소자는 기판(102)과 캡(170)의 합착 불량을 제거하여 유기 EL 표시소자의 불량을 줄임으로써 그 수율이 향상된다.As described above, in the organic EL display device according to the exemplary embodiment of the present invention, as the conventional organic EL display device includes a reverse tapered protective barrier in the seal line region P3, the reverse tapered protective barrier is formed in the sealed line region ( The problem of covering the four corner regions of P3) can be eliminated by forming a protective taper 158 having a positive taper shape in the seal line region P3. That is, the protective taper 158 having a positive taper shape has a seal line region even when the application direction of the dispense (not shown) is changed to apply the sealant 125 to the seal line region P3 on the four sides of the organic EL display element. By not covering P3, the problem that the sealant 125 is not evenly applied to the four corner regions of the seal line region P3 can be eliminated. Therefore, the organic EL display device according to the embodiment of the present invention improves the yield by eliminating the defects of the bonding between the substrate 102 and the cap 170 to reduce the defects of the organic EL display device.

이하, 본 발명의 실시 예에 따른 유기 EL 표시소자의 제조방법을 도 8a 내지 8e를 참조하여 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a method of manufacturing an organic EL display device according to an exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 8A to 8E.

도 8a를 참조하면, 기판(102) 상에 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ITZO(Indium Tin Zinc Oxide) 등의 투명전도성물질이 전면 증착된 후 패터닝됨으로써 어레이 영역(P1)에 애노드 전극(104)이 형성된다.Referring to FIG. 8A, a transparent conductive material, such as indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), or indium tin zinc oxide (ITZO), is deposited on the substrate 102 and then patterned, thereby forming the array region P1. An anode electrode 104 is formed in the.

그런 다음, 기판(102) 상에는 절연물질이 전면 도포된 후 패터닝됨으로써 도 8b와 같이 어레이 영역(P1)의 애노드 전극(104) 상에 유기 발광층(110)이 형성될 영역을 노출시키는 절연막(106)이 형성된다.Next, an insulating material is entirely coated on the substrate 102 and then patterned to expose the region where the organic light emitting layer 110 is to be formed on the anode electrode 104 of the array region P1 as shown in FIG. 8B. Is formed.

이어서, 어레이 영역(P1)의 절연막(106) 상에는 도 8c와 같이 유기 발광층(110) 및 캐소드 전극(112)의 분리를 위한 역 테퍼 형상의 격벽(108)이 애노드 전 극(104)을 가로지르는 방향으로 형성되며, 실라인 영역(P3)의 좌우에 정 테퍼 형상의 보호 격벽(158)이 함께 형성된다. Subsequently, on the insulating layer 106 of the array region P1, an inverted taper-shaped partition 108 for separating the organic light emitting layer 110 and the cathode electrode 112 crosses the anode electrode 104 as shown in FIG. 8C. It is formed in the direction, and the protective partition wall 158 of the positive tapered shape is formed together to the left and right of the seal line region P3.

그리고, 역 테퍼 형상의 격벽(108)이 형성된 기판(102) 상의 어레이 영역(P1)에는 도 8d와 같이 유기발광물질이 마스크를 이용하여 증착되어 유기 발광층(110)이 형성되며 연이어, 캐소드 전극(112)이 전극물질의 전면 증착을 통하여 형성된다.In addition, as shown in FIG. 8D, an organic light emitting material is deposited using a mask to form an organic light emitting layer 110 in the array region P1 on the substrate 102 on which the reverse taper-shaped partition 108 is formed. 112 is formed through full deposition of electrode material.

이후, 도 8e와 같이 실라인 영역(P3)에는 실런트(125)가 도포되며 실런트(125)를 통해 기판(102)과 캡(170)이 합착되어 어레이 영역(P1)의 유기 EL 어레이가 봉지됨으로써 유기 EL 표시장치는 완성된다.Thereafter, as shown in FIG. 8E, the sealant 125 is applied to the seal line region P3, and the substrate 102 and the cap 170 are bonded to each other through the sealant 125 to encapsulate the organic EL array of the array region P1. The organic EL display is completed.

본 발명의 실시 예에 따른 유기 EL 표시소자의 제조방법은 전술한 바와 같이 어레이 영역(P1)의 역 테퍼 형상의 격벽(108)과 실라인 영역(P3)의 좌우에 정 테퍼 형상의 보호 격벽(158)이 동일 공정으로 형성된다. 이러한 어레이 영역(P1)의 역 테퍼 형상의 격벽(108)과 실라인 영역(P3)의 좌우에 정 테퍼 형상의 보호 격벽(158)의 함께 형성하는 공정을 도 9a 내지 9e를 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다. In the method of manufacturing the organic EL display device according to the exemplary embodiment of the present invention, as described above, the reverse taper-shaped partition wall 108 of the array region P1 and the protective taper of positive taper shape on the left and right sides of the seal line region P3 ( 158 is formed in the same process. Referring to FIGS. 9A to 9E, a process of forming the reverse tapered partition 108 of the array region P1 and the protective partition 158 of positive taper shape on the left and right sides of the seal line region P3 will be described in detail. As follows.

도 9a를 참조하면, 어레이 영역(P1)에 절연막(106)이 형성된 기판(102) 상에 격벽물질(108a) 및 포토레지스트(220)를 전면 도포된다. Referring to FIG. 9A, the barrier rib material 108a and the photoresist 220 are entirely coated on the substrate 102 on which the insulating film 106 is formed in the array region P1.

그런 다음, 포토레지스트(220)가 전면 도포된 기판(102) 상에 도 9b와 같이 어레이 영역(P1)에 격벽이 형성될 영역에 개구부(200a)와 그외 영역에는 차단부(200b)를 가지는 제1 마스크(200)가 정렬되며 노광공정이 실시된다. 이때, 제1 마 스크(200)는 어레이 영역(P1)에 형성되는 격벽(108)을 역 테퍼 형상으로 형성하기 위하여 기판(102)과 40 ~ 60㎛ 이격되도록 정렬된다. 제1 마스크(200)는 더욱 바람직하게는 도 9b에 도시된 바와 같이 기판(102)과 50㎛ 이격되도록 정렬된다. Next, as shown in FIG. 9B, the opening 200a is formed in the region where the partition wall is to be formed in the array region P1 and the blocking portion 200b is formed in the other region. 1 The mask 200 is aligned and an exposure process is performed. In this case, the first mask 200 is aligned to be 40 to 60 μm apart from the substrate 102 to form the partition wall 108 formed in the array region P1 in a reverse taper shape. The first mask 200 is more preferably aligned to be 50 μm apart from the substrate 102 as shown in FIG. 9B.

이후, 제1 마스크(200)가 제거되고, 포토레지스트(220)가 전면 도포된 기판(102) 상에는 도 9c와 같이 실라인 영역(P3)의 좌우에 보호 격벽이 형성될 영역에 개구부(210a)와 그외 영역에는 차단부(210b)를 가지는 제2 마스크(210)를 정렬하고 노광공정을 실시한다. 이때, 제2 마스크(210)는 실라인 영역(P3)의 좌우에 형성되는 보호 격벽을 정 테퍼 형상으로 형성하기 위하여 기판(102)과 180 ~ 220㎛ 이격되도록 기판(102) 상에 정렬된다. 제2 마스크(210)는 더욱 바람직하게는 도 9c에도시된 바와 같이 기판(102)과 200㎛ 이격되도록 정렬된다. Thereafter, the first mask 200 is removed, and the opening 210a is formed in the region where the protective partition wall is to be formed on the left and right sides of the seal line region P3 as shown in FIG. 9C on the substrate 102 on which the photoresist 220 is entirely coated. The second mask 210 having the blocking portion 210b is aligned in the and other regions, and an exposure process is performed. In this case, the second mask 210 is aligned on the substrate 102 so as to be spaced apart from the substrate 102 by 180 to 220 μm to form a protective partition wall formed on the left and right sides of the seal line region P3 in a positive taper shape. The second mask 210 is more preferably aligned to be 200 μm apart from the substrate 102 as shown in FIG. 9C.

이어서, 제1 마스크(200) 및 제2 마스크(210)를 이용하여 노광공정이 실시된 포토레지스트(220)에 현상공정을 실시함으로써 도 9d와 같이 실라인 영역(P3)의 좌우에 정 테퍼 형상의 포토레지스트 패턴(220b) 및 어레이 영역(P1)에 역 테퍼 형상의 포토레지스트 패턴(220a)을 형성한다. Subsequently, the development process is performed on the photoresist 220 subjected to the exposure process using the first mask 200 and the second mask 210 to form a positive taper shape on the left and right sides of the seal line region P3 as shown in FIG. 9D. An inverse taper-shaped photoresist pattern 220a is formed in the photoresist pattern 220b and the array region P1.

이후, 포토레지스트 패턴(220a, 220b)을 마스크로 에싱공정을 실시함으로써 도 9e에 도시된 바와 같이 실라인 영역(P3)의 좌우에 보호 격벽(158) 및 어레이 영역(P1)에 격벽(108)을 패터닝하며, 스트립 공정을 통하여 포토레지스트 패턴(220a, 220b)을 제거함으로써 도 9f와 같이 실라인 영역(P3)의 좌우에 보호 격벽(158) 및 어레이 영역(P1)에 격벽(108)을 형성한다.Subsequently, an ashing process is performed using the photoresist patterns 220a and 220b as a mask, so that the partition 108 is disposed on the protective partition 158 and the array region P1 on the left and right sides of the seal line region P3 as shown in FIG. 9E. By removing the photoresist patterns 220a and 220b through the strip process, the barrier ribs 108 are formed in the protective barrier rib 158 and the array region P1 on the left and right sides of the seal line region P3 as shown in FIG. 9F. do.

여기서, 본 발명의 실시 예에 따른 유기 EL 표시소자의 제조방법은 실라인 영역(P3)의 좌우에 보호 격벽이 형성될 영역에 개구부(210a)와 그외 영역에는 차단부(210b)를 가지는 제2 마스크(210)를 먼저 정렬하고 노광공정을 실시한 후, 어레이 영역(P1)에 격벽이 형성될 영역에 개구부(200a)와 그외 영역에는 차단부(200b)를 가지는 제1 마스크(200)가 정렬하고 노광공정을 실시하여 포토레지스트 패턴(220a, 220b)을 형성하여도 무방하다.Here, in the method of manufacturing an organic EL display device according to an exemplary embodiment of the present invention, a second portion having an opening 210a in a region where protective barrier ribs are formed on the left and right sides of the seal line region P3 and a blocking portion 210b in the other region is provided. After first aligning the mask 210 and performing an exposure process, the first mask 200 having the opening 200a in the region where the partition wall is to be formed in the array region P1 and the blocking portion 200b in the other region is aligned. The photoresist patterns 220a and 220b may be formed by performing an exposure process.

이와 같이, 본 발명의 실시 예에 따른 유기 EL 표시소자 및 그 제조방법은 실라인 영역(P3)에 정 테퍼 형상의 보호 격벽(158)을 형성함으로써 실라인 영역(P3)의 네 모서리 영역에 실런트(125)가 고루 도포되지 않는 문제를 제거할 수 있다. 따라서, 본 발명의 실시 예에 따른 유기 EL 표시소자 및 그 제조방법은 기판(102)과 캡(170)의 합착 불량을 제거하여 유기 EL 표시소자의 불량을 줄임으로써 그 수율을 향상시킬 수 있다.As described above, the organic EL display device and the method of manufacturing the same according to the exemplary embodiment of the present invention provide a sealant in the four corner regions of the seal line region P3 by forming a protective taper 158 having a positive taper shape in the seal line region P3. The problem that 125 is not evenly applied can be eliminated. Therefore, the organic EL display device and the method of manufacturing the same according to the embodiment of the present invention can improve the yield by eliminating the defect of the substrate 102 and the cap 170 to reduce the defect of the organic EL display device.

또한, 본 발명의 유기 EL 표시소자 및 그 제조방법은 실라인 영역(P3)에 정 테퍼 형상의 보호 격벽(158)을 어레이 영역(P1)의 역 테퍼 형상의 격벽(108)과 함께 형성함으로써 정 테퍼 형상의 보호 격벽(158)을 형성하는 경우, 정 테퍼 형상의 보호 격벽(158)을 형성하기 위한 격벽물질을 따로 필요로 하지 않음으로써 격벽물질의 낭비 및 현상공정에서 포토레지스트 패턴을 형성하기 위한 현상액의 낭비를 줄일 수 있다. In addition, the organic EL display device of the present invention and its manufacturing method are formed by forming a positive tapered protective partition 158 in the seal line region P3 together with the reverse tapered partition 108 of the array region P1. In the case of forming the tapered protective barrier wall 158, the barrier material for forming the positive tapered protective barrier wall 158 is not required, thereby wasting waste material and forming a photoresist pattern in a developing process. The waste of the developer can be reduced.

상술한 바와 같이, 본 발명의 실시 예에 따른 유기 EL 표시소자 및 그 제조 방법은 실라인 영역에 정 테퍼 형상의 보호 격벽을 형성함으로써 실라인 영역의 네 모서리 영역에 실런트가 고루 도포되지 않는 문제를 제거할 수 있다. 따라서, 기판과 캡의 합착 불량을 제거하여 유기 EL 표시소자의 불량을 줄임으로써 그 수율이 향상된다.As described above, the organic EL display device and the method of manufacturing the same according to the exemplary embodiment of the present invention provide a problem that the sealant is not evenly applied to the four corner regions of the seal line region by forming a protective taper of positive taper shape in the seal line region. Can be removed. Therefore, the yield is improved by eliminating the defect of bonding of a board | substrate and a cap and reducing the defect of an organic electroluminescent display element.

또한, 본 발명의 유기 EL 표시소자 및 그 제조방법은 실라인 영역에 정 테퍼 형상의 보호 격벽을 어레이 영역의 역 테퍼 형상의 격벽과 함께 형성함으써 정 테퍼 형상의 보호 격벽(158)을 형성하기 위한 격벽물질을 따로 필요로 하지 않음으로써 격벽물질의 낭비 및 현상공정에서 포토레지스트 패턴을 형성하기 위한 현상액의 낭비를 줄일 수 있다. In addition, the organic EL display device of the present invention and the manufacturing method thereof form a positive tapered protective barrier 158 by forming a positive tapered protective barrier in the seal line region together with an inverted taper-shaped barrier rib in the array region. By not requiring a separate partition material, waste of the partition material and a waste of the developer for forming the photoresist pattern in the developing process can be reduced.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여 져야만 할 것이다. Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification but should be defined by the claims.

Claims (10)

기판상에 유기 발광층을 사이에 두고 서로 교차하는 애노드 전극과 캐소드 전극을 포함하는 어레이 영역과;An array region including an anode electrode and a cathode electrode crossing each other with an organic light emitting layer interposed therebetween on a substrate; 상기 어레이 영역의 외곽에 위치하는 실라인 영역에서 실런트를 통하여 상기 기판과 접합되는 캡과;A cap bonded to the substrate through a sealant in a seal line region located outside the array region; 상기 실라인 영역의 좌우에서 소정간격을 유지하며 상기 실런트와 나란한 정 테퍼 형상의 보호 격벽을 구비하는 것을 특징으로 하는 유기 전계발광 표시소자.An organic electroluminescent display device comprising a protective taper of positive taper shape parallel to the sealant while maintaining a predetermined distance from the left and right of the seal line region. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 애노드 전극 상에 형성된 상기 어레이 영역에 상기 유기 발광층이 형성될 영역을 노출시키는 절연막과;An insulating film exposing a region where the organic light emitting layer is to be formed in the array region formed on the anode electrode; 상기 절연막 상에 상기 애노드 전극과 교차되는 방향으로 형성되는 역 테퍼 형상의 격벽을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 유기 전계발광 표시소자.And an inverted taper-shaped partition wall formed on the insulating film in a direction crossing the anode electrode. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 실라인 영역의 좌우에 상기 보호 격벽과 상기 어레이 영역에 상기 격벽은 동일물질인 것을 특징으로 하는 유기 전계발광 표시소자.And the barrier ribs on the left and right sides of the seal line region and the barrier rib in the array region are made of the same material. 기판상의 어레이 영역에 애노드 전극을 형성하는 단계와;Forming an anode electrode in an array region on the substrate; 상기 어레이 영역의 외곽에 위치하는 실라인 영역의 좌우에서 소정간격을 유지함과 아울러 상기 실라인 영역에 도포되는 실런트와 나란한 정 테퍼 형상의 보호 격벽을 형성하는 단계와;Maintaining a predetermined distance on the left and right sides of the seal line region located outside the array region, and forming a protective taper having a positive taper shape parallel to the sealant applied to the seal line region; 상기 어레이 영역에 유기 발광층을 사이에 두고 상기 애노드 전극과 교차하는 캐소드 전극을 형성하는 단계와;Forming a cathode electrode intersecting the anode electrode with an organic light emitting layer interposed therebetween in the array region; 상기 실런트를 통하여 캡과 상기 기판을 합착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 전계발광 표시장치의 제조방법.And attaching the cap and the substrate through the sealant. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 애노드 전극이 형성된 상기 어레이 영역에 상기 유기 발광층이 형성될 영역을 노출시키는 절연막을 형성하는 단계와;Forming an insulating layer in the array region where the anode electrode is formed to expose a region where the organic light emitting layer is to be formed; 상기 절연막 상에 상기 애노드 전극과 교차되는 방향으로 형성되는 역 테퍼 형상의 격벽을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 전계발광 표시소자의 제조방법.And forming an inverted taper-shaped partition wall formed on the insulating film in a direction crossing the anode electrode. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, 상기 실라인 영역의 좌우에 상기 보호 격벽과 상기 어레이 영역에 상기 격벽은 동일 공정으로 형성되는 것을 특징으로 하는 유기 전계발광 표시소자의 제조방법.And the barrier ribs on the left and right sides of the seal line region and the barrier rib in the array region are formed in the same process. 제 6 항에 있어서, The method of claim 6, 상기 실라인 영역의 좌우에 상기 보호 격벽과 상기 어레이 영역에 상기 격벽을 형성하는 공정은,The process of forming the barrier ribs in the protection barrier and the array region on the left and right of the seal line region, 상기 절연막이 형성된 상기 기판상에 격벽물질을 전면 도포하는 단계와;Applying a barrier material to the entire surface of the substrate on which the insulating film is formed; 상기 격벽물질 상에 포토레지스트를 전면도포하는 단계와;Front coating the photoresist on the barrier material; 상기 격벽이 형성될 영역에 개구부를 가지는 마스크를 상기 기판상에 정렬시키고 노광하는 단계와;Aligning and exposing a mask on the substrate, the mask having an opening in a region where the partition wall is to be formed; 상기 보호 격벽이 형성될 영역에 개구부를 가지는 마스크를 상기 기판상에 정렬시키고 노광하는 단계와;Aligning and exposing a mask on the substrate, the mask having an opening in a region where the protective barrier is to be formed; 현상공정을 통하여 상기 실라인 영역의 좌우에 정 테퍼 형상의 포토레지스트 패턴 및 상기 어레이 영역에 역 테퍼 형상의 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계와;Forming a positive tapered photoresist pattern on the left and right sides of the seal line region and an inverse tapered photoresist pattern on the array region through a developing process; 상기 포토레지스트 패턴을 마스크로 상기 실라인 영역의 좌우에 보호 격벽 및 상기 어레이 영역에 격벽을 패터닝하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 전계발광 표시소자의 제조방법.And patterning the barrier ribs on the left and right sides of the seal line region and the barrier ribs on the array region using the photoresist pattern as a mask. 제 6 항에 있어서, The method of claim 6, 상기 실라인 영역의 좌우에 상기 보호 격벽과 상기 어레이 영역에 상기 격벽을 형성하는 공정은,The process of forming the barrier ribs in the protection barrier and the array region on the left and right of the seal line region, 상기 절연막이 형성된 상기 기판상에 격벽물질을 전면 도포하는 단계와;Applying a barrier material to the entire surface of the substrate on which the insulating film is formed; 상기 격벽물질 상에 포토레지스트를 전면도포하는 단계와;Front coating the photoresist on the barrier material; 상기 보호 격벽이 형성될 영역에 개구부를 가지는 마스크를 상기 기판상에 정렬시키고 노광하는 단계와;Aligning and exposing a mask on the substrate, the mask having an opening in a region where the protective barrier is to be formed; 상기 격벽이 형성될 영역에 개구부를 가지는 마스크를 상기 기판상에 정렬시키고 노광하는 단계와;Aligning and exposing a mask on the substrate, the mask having an opening in a region where the partition wall is to be formed; 현상공정을 통하여 상기 실라인 영역의 좌우에 정 테퍼 형상의 포토레지스트 패턴 및 상기 어레이 영역에 역 테퍼 형상의 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계와;Forming a positive tapered photoresist pattern on the left and right sides of the seal line region and an inverse tapered photoresist pattern on the array region through a developing process; 상기 포토레지스트 패턴을 마스크로 상기 실라인 영역의 좌우에 보호 격벽 및 상기 어레이 영역에 격벽을 패터닝하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 전계발광 표시소자의 제조방법.And patterning the barrier ribs on the left and right sides of the seal line region and the barrier ribs on the array region using the photoresist pattern as a mask. 제 7 항 또는 제8 항에 있어서,The method according to claim 7 or 8, 상기 제1 마스크는 상기 기판과 40 ~ 60㎛의 간격을 두고 이격되어 상기 기판상에 정렬되는 것을 특징으로 하는 유기 전계발광 표시소자의 제조방법.And the first mask is spaced apart from the substrate at intervals of 40 to 60 μm and aligned on the substrate. 제 7 항 또는 제8 항에 있어서,The method according to claim 7 or 8, 상기 제2 마스크는 상기 기판과 180 ~ 220㎛의 간격을 두고 이격되어 상기 기판상에 정렬되는 것을 특징으로 하는 유기 전계발광 표시소자의 제조방법.And the second mask is spaced apart from the substrate at intervals of 180 to 220 μm and aligned on the substrate.
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KR101373969B1 (en) * 2007-09-07 2014-03-12 엘지디스플레이 주식회사 Electro luminescence display panel

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