KR20070047587A - 화학기상증착장치 - Google Patents

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KR20070047587A KR1020050104478A KR20050104478A KR20070047587A KR 20070047587 A KR20070047587 A KR 20070047587A KR 1020050104478 A KR1020050104478 A KR 1020050104478A KR 20050104478 A KR20050104478 A KR 20050104478A KR 20070047587 A KR20070047587 A KR 20070047587A
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Abstract

화학기상증착장치를 제공한다. 상기 화학기상증착장치는 웨이퍼 상에 소정 박막을 증착시키는 공정챔버와, 상기 공정챔버에 연결되며 상기 공정챔버 측으로 소정 공정가스를 공급하는 가스공급부와, 상기 공정챔버에 연결되며 상기 공정챔버 내부의 가스를 외부로 배출시켜주는 가스배출부 및, 상기 가스공급부와 상기 가스배출부를 상호간 연결하며 상기 공정챔버 측으로의 공정가스 공급이 멈춰지면 상기 공정챔버 측으로 공급되던 공정가스를 상기 가스배출부 측으로 배기시켜주는 잔류가스배기부를 포함한다.

Description

화학기상증착장치{Chemical vapor deposition apparatus}
도 1은 종래 화학기상증착장치의 일예를 도시한 구성도이다.
도 2는 본 발명에 따른 화학기상증착장치의 일실시예를 도시한 구성도이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
110 : 공정챔버
130 : 가스배출부
150 : 가스공급부
170 : 잔류가스배기부
190 : 컨트롤러
본 발명은 반도체소자를 제조하기 위한 장치에 관한 것으로, 특히, 화학기상증착의 방법으로 웨이퍼 상에 박막을 증착하는 화학기상증착장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체소자 제조공정은 웨이퍼 상에 산화막, 금속막 등 다양한 재질의 박막을 순차적으로 적층하는 박막증착 공정을 필수적으로 포함한다.
이와 같은 박막증착 공정은 통상 그 박막증착 방법에 따라 물리기상증착방법 과 화학기상증착방법으로 크게 나누어지며, 최근에는 열이나 플라즈마(Plasma) 등을 이용하여 반응가스를 분해함으로써 분해된 반응가스가 웨이퍼 상에 증착되어 산화막, 텅스텐 실리사이드(Tungsten silicide)막, 티타늄 실리사이드(titanium silicide)막 등 다양한 박막을 형성하도록 하는 화학기상증착방법이 주로 이용되고 있다.
도 1에는 화학기상증착의 방법으로 웨이퍼 상에 박막을 증착하는 화학기상증착장치의 일예가 도시되어 있다.
도 1을 참조하면, 종래 화학기상증착장치는 화학기상증착의 공정이 진행되는 공정챔버(10)와, 상기 공정챔버(10) 측으로 공정가스를 공급해주는 가스공급부(50)와, 상기 공정챔버(10) 내부의 가스를 외부로 배출시켜주는 가스배출부(30)를 포함한다.
구체적으로, 상기 공정챔버(10)에는 웨이퍼(90)가 안착되는 히터블럭(Heater block;14)과 상기 히터블럭(14)의 상부에 배치되어 상기 히터블럭(14) 측으로 상기 공정가스를 공급해주는 샤워헤드(Shower head;12)가 구비된다.
그리고, 상기 가스공급부(50)는 상기 샤워헤드(12)에 연결된 공정가스공급배관(54)과, 상기 공정가스공급배관(54)에 연결되며 내부에 MPA 액과 같은 소정 공정액(52)이 저장되는 공정가스 생성용 배쓰(51)와, 상기 공정가스 생성용 배쓰(51)에 연결되며 상기 공정가스 생성용 배쓰(51) 내에서 공정가스가 생성되도록 아르곤(Ar)과 같은 소정 캐리어가스를 공급하는 캐리어가스 공급배관(53)과, 상기 공정가스공급배관(54)에 연결되며 상기 공정가스공급배관(54) 내부가 퍼지되도록 상기 공 정가스공급배관(54) 측으로 질소가스(N2)와 같은 소정 퍼지가스를 공급하는 퍼지가스공급배관(56) 및, 상기 배관들 상에 설치되며 상기 공정가스나 상기 캐리어가스 또는 상기 퍼지가스의 공급 여부나 공급 방향 등을 제어하는 밸브들을 포함한다.
이때, 상기 밸브들은 상기 공정가스 생성용 배쓰(51)에 인접한 상기 공정가스공급배관(54) 상에 설치되며 상기 공정가스 생성용 배쓰(51)에서 생성된 상기 공정가스가 상기 공정가스공급배관(54) 측으로 공급되는 것을 제어하는 공정가스 공급밸브(54a)와, 상기 공정가스 공급밸브(54a)와 상기 샤워헤드(12) 사이의 상기 공정가스공급배관(54) 상에 설치되며 상기 공정가스공급배관(54) 측으로 유입된 공정가스가 상기 샤워헤드(12) 측으로 공급되는 것을 제어하는 공정가스 제어밸브(55)와, 상기 캐리어가스 공급배관(53) 상에 설치되며 상기 공정가스 생성용 배쓰(51) 측으로 상기 캐리어가스가 공급되는 것을 제어하는 캐리어가스 공급밸브(53a) 및, 상기 퍼지가스공급배관(56) 상에 설치되며 상기 공정가스공급배관(54) 측으로 퍼지가스가 공급되는 것을 제어하는 퍼지가스 공급밸브(56a)를 포함한다.
따라서, 종래 화학기상증착장치는 다음과 같이 동작된다.
먼저, 외부로부터 웨이퍼(90)가 로딩되어 히터블럭(14) 상에 안착되면, 상기 히터블럭(14)은 웨이퍼(90)를 공정에 필요한 온도로 가열하게 된다,
이후, 상기 웨이퍼(90)가 소정온도로 가열되면, 가스공급부(50)는 샤워헤드(12)를 통하여 상기 웨이퍼(90) 측으로 MPA 가스와 같은 소정 공정가스를 공급하게 된다. 이때, MPA 가스의 경우는 처음부터 가스형태로 화학기상증착장치에 공급되는 것이 아니기 때문에 가스공급부(50)는 캐리어가스와 밸브들을 이용하여 상기 샤워 헤드(12) 측으로 MPA 가스를 공급하게 된다. 즉, 상기 웨이퍼가 소정온도로 가열되면, 캐리어가스 공급밸브(53a)는 개방된다. 따라서, 캐리어가스는 캐리어가스 공급배관(53)을 통해 공정가스 생성용 배쓰(51) 내부로 공급되어 공정가스 생성용 배쓰(21)에 저장된 MPA 액으로부터 MPA 가스를 생성시키게 된다. 이에 따라, 상기 공정가스 생성용 배쓰(51) 내에서 생성된 MPA 가스는 배쓰(51)에 연결된 공정가스공급배관(54)을 통해 샤워헤드(12) 측으로 공급되는 것이다.
다음, 이상과 같은 웨이퍼(90)의 가열과 공정가스의 공급으로 인해 웨이퍼(90) 상에 소정 박막이 증착되면, 상기 가스공급부(50)는 상기 공정가스공급배관(54) 상에 설치된 공정가스 제어벨브(55)와 공정가스 공급밸브(54a) 및 캐리어가스 공급배관(53) 상에 설치된 캐리어가스 공급밸브(53a) 등을 폐쇄시킴으로써, 상기 샤워헤드(12)로의 공정가스 공급을 멈추게 된다. 따라서, 박막이 증착된 웨이퍼(90)는 외부로 언로딩되어지고, 화학기상증착공정은 이상과 같은 사이클(Cycle)을 계속 반복함으로써 진행하게 된다.
그러나, 종래 화학기상증착장치는 공정가스의 공급을 중단하기 위하여 공정가스 제어밸브(55) 등을 폐쇄시킬 경우, 상기 샤워헤드(12) 측으로 공급되던 공정가스의 대부분(예를 들면, 도 1의 A 영역에 위치한 공정가스)이 외부로 배기되지 못하고 그대로 상기 공정가스공급배관(54)의 내부에 잔류하게 되는 문제가 발생되며, 이와 같이 잔류하게 되는 잔류 공정가스는 상기 공정가스공급배관(54) 내부의 압력 및 온도가 상승됨에 따라 상기 공정가스공급배관(54) 내에서 파티클 소스(Particle source)로 변질되어지는 문제가 발생된다. 특히, MPA 가스의 경우에는 그 반응온도가 약 100℃ 전/후이기 때문에 이상과 같은 압력 및 온도의 상승에 따라 파티클 소스로의 변질이 매우 쉽게 이루어지는 문제가 발생된다.
따라서, 공정가스공급배관 상에 설치된 밸브들은 이와 같이 변질된 파티클 소스로 인하여 개폐 페일(Fail)을 유발할 수 있으며, 이 개폐 페일은 또다른 공정불량을 초래할 수 있는 문제가 있다.
따라서, 본 발명은 이와 같은 문제점을 감안하여 안출한 것으로써, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 공정가스의 공급을 중단할 경우에 공정가스공급배관 내부에 잔류하는 잔류가스를 외부로 배기할 수 있는 화학기상증착장치를 제공하는데 있다.
그리고, 본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는 공정가스공급배관 내부에서 파티클 소스가 발생되는 것을 미연에 방지할 수 있는 화학기상증착장치를 제공하는데 있다.
이와 같은 기술적 과제를 구현하기 위한 본 발명 화학기상증착장치는 웨이퍼 상에 소정 박막을 증착시키는 공정챔버와, 상기 공정챔버에 연결되며 상기 공정챔버 측으로 소정 공정가스를 공급하는 가스공급부와, 상기 공정챔버에 연결되며 상기 공정챔버 내부의 가스를 외부로 배출시켜주는 가스배출부 및, 상기 가스공급부와 상기 가스배출부를 상호간 연결하며 상기 공정챔버 측으로의 공정가스 공급이 멈춰지면 상기 공정챔버 측으로 공급되던 공정가스를 상기 가스배출부 측으로 배기 시켜주는 잔류가스배기부를 포함한다.
다른 실시예에 있어서, 상기 가스공급부는 상기 공정챔버에 연결된 공정가스공급배관을 포함할 수 있고, 상기 가스배출부는 상기 공정챔버에 연결된 가스배출배관을 포함할 수 있다. 이 경우, 상기 잔류가스배기부는 상기 공정가스공급배관과 상기 가스배출배관을 상호간 연결하는 잔류가스 배기배관과, 상기 잔류가스 배기배관 상에 설치되어 상기 잔류가스 배기배관을 개폐하는 개폐밸브를 포함할 수 있다.
또다른 실시예에 있어서, 상기 가스공급부는 상기 공정가스공급배관의 양단부 중 상기 공정챔버에 연결되지 아니한 어느 일단부에 연결되며 내부에 소정 공정액이 저장되는 공정가스 생성용 배쓰와, 상기 공정가스 생성용 배쓰에 연결되며 상기 공정가스 생성용 배쓰 내에서 소정 공정가스가 생성되도록 상기 공정가스 생성용 배쓰 측으로 소정 캐리어가스를 공급하는 캐리어가스 공급배관과, 상기 공정가스공급배관 상에 설치되며 상기 공정가스공급배관 측으로 유입된 공정가스가 상기 샤워헤드 측으로 공급되는 것을 제어하는 공정가스 제어밸브를 더 포함할 수 있다. 이 경우, 상기 잔류가스 배기배관은 상기 공정가스공급배관의 어느 일면 중 상기 공정가스 제어밸브와 상기 공정가스 생성용 배쓰 사이에 위치한 상기 공정가스공급배관의 어느 일면에 연결될 수 있다. 이때, 상기 공정가스 제어밸브는 통상 닫힘형 밸브일 수 있고, 상기 개폐밸브는 통상 열림형 밸브일 수 있다.
또다른 실시예에 있어서, 상기 공정가스 제어밸브와 상기 개폐밸브는 상기 밸브들의 개폐를 제어하는 컨트롤러에 연결될 수 있다. 이 경우, 상기 컨트롤러는 상기 공정가스 제어밸브의 개폐와 상기 개폐밸브의 개폐를 상호 반대로 동작시킬 수 있다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명되어지는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되어지는 것이다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.
도 2는 본 발명에 따른 화학기상증착장치의 일실시예를 도시한 구성도이다.
도 2를 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 화학기상증착장치는 화학기상증착의 공정이 진행되는 공정챔버(110)와, 상기 공정챔버(110) 측으로 공정가스를 공급해주는 가스공급부(150)와, 상기 공정챔버(110) 내부의 가스를 외부로 배출시켜주는 가스배출부(130) 및, 상기 가스공급부(150)와 상기 가스배출부(130)를 상호간 연결하며 상기 공정챔버(110) 측으로의 공정가스 공급이 멈춰지면 상기 공정챔버(110) 측으로 공급되던 공정가스를 상기 가스배출부(130) 측으로 배기시켜주는 잔류가스배기부(170)를 포함한다.
구체적으로, 상기 공정챔버(110)에는 웨이퍼(90)가 안착되는 히터블럭(114)과 상기 히터블럭(114) 측으로 상기 공정가스를 공급해주는 샤워헤드(112)가 구비된다. 상기 히터블럭(114)은 상기 공정챔버(110) 내부의 하측에 설치될 수 있고, 웨이퍼(90)가 안착되면 웨이퍼(90)를 공정에 필요한 온도까지 가열하는 역할을 한 다. 상기 샤워헤드(112)는 상기 히터블럭(114)에 대향되도록 상기 히터블럭(114)의 상부 곧, 상기 공정챔버(110) 내부의 상측에 설치된다.
상기 가스공급부(150)는 상기 샤워헤드(112)에 일단부가 연결된 공정가스공급배관(154)과, 상기 공정가스공급배관(154)의 타단부에 연결되며 내부에 MPA 액과 같은 소정 공정액(152)이 저장되는 공정가스 생성용 배쓰(151)와, 상기 공정가스 생성용 배쓰(151) 내부로 연결되며 상기 공정가스 생성용 배쓰(151) 내에서 공정가스가 생성되도록 상기 공정가스 생성용 배쓰(151) 측으로 아르곤(Ar)과 같은 소정 캐리어가스를 공급하는 캐리어가스 공급배관(153)과, 상기 공정가스공급배관(154)의 일측면에 연결되며 상기 공정가스공급배관(154) 내부가 퍼지되도록 상기 공정가스공급배관(154) 측으로 질소가스(N2)와 같은 소정 퍼지가스를 공급하는 퍼지가스공급배관(156)과, 상기 캐리어가스 공급배관(153)과 상기 퍼지가스공급배관(156)을 상호 연결하는 바이패스배관(158)과, 상기 배관들 상에 각각 적어도 하나 이상씩 설치되며 상기 공정가스나 상기 캐리어가스 또는 상기 퍼지가스의 공급 여부나 공급 방향 등을 제어하는 다수의 밸브들 및, 상기 밸브들에 각각 연결되며 공정진행에 따라 상기 밸브들의 개폐를 제어하는 컨트롤러(190)를 포함한다.
이때, 상기 밸브들은 상기 공정가스 생성용 배쓰(151)에 인접한 상기 공정가스공급배관(154) 상에 설치되며 상기 공정가스 생성용 배쓰(151)에서 생성된 상기 공정가스가 상기 공정가스공급배관(154) 측으로 공급되는 것을 제어하는 공정가스 공급밸브(154a)와, 상기 공정가스 공급밸브(154a)와 상기 샤워헤드(112) 사이의 상기 공정가스공급배관(154) 상에 설치되며 상기 캐리어가스에 의해 상기 공정가스공 급배관(154) 측으로 유입된 공정가스가 상기 샤워헤드(112) 측으로 공급되는 것을 제어하는 공정가스 제어밸브(155)와, 상기 캐리어가스 공급배관(153) 상에 설치되며 상기 공정가스 생성용 배쓰(151) 측으로 상기 캐리어가스가 공급되는 것을 제어하는 제1캐리어가스 공급밸브(153a)와, 상기 제1캐리어가스 공급밸브(153a)로부터 소정간격 이격된 위치 곧 상기 공정가스 생성용 배쓰(151)에 인접한 상기 캐리어가스 공급배관(153) 상에 설치되며 상기 캐리어가스 공급배관(153)을 통하여 상기 공정가스 생성용 배쓰(151) 측으로 캐리어가스를 포함한 제반 가스가 유입되는 것을 제어하는 제2캐리어가스 공급밸브(153b)와, 상기 퍼지가스공급배관(156) 상에 설치되며 상기 공정가스공급배관(154) 측으로 퍼지가스가 공급되는 것을 제어하는 퍼지가스 공급밸브(156a) 및, 상기 바이패스배관(158) 상에 설치되며 상기 바이패스배관(158)을 통하여 가스가 유동되는 것을 제어하는 바이패스밸브(158a)를 포함한다.
여기서, 상기 공정가스 제어밸브(155)는 상기 공정가스공급배관(154) 측으로 유입된 공정가스가 상기 샤워헤드(112) 측으로 공급되는 것을 제어하는 역할을 하는 바, 통상 닫힘형 밸브(Normal close type valve)가 사용될 수 있다. 이 경우, 상기 공정가스 제어밸브(155)는 상기 공정챔버(110) 내에서 공정이 진행될 경우에만 개방되어 상기 샤워헤드(112) 측으로 상기 공정가스가 공급되도록 하고, 그 외의 경우에는 폐쇄되어 상기 공정가스가 공급되지 않도록 하게 된다.
상기 가스배출부(130)는 상기 공정챔버(110)의 하부에 연결된 가스배출배관(132)과, 상기 가스배출배관(132) 상에 설치되며 상기 공정챔버(110) 내부의 가스를 외부로 펌핑하는 펌프(134)를 포함한다.
상기 잔류가스배기부(170)는 상기 공정가스공급배관(154)과 상기 가스배출배관(132)을 상호간 연결하는 잔류가스 배기배관(177)과, 상기 잔류가스 배기배관(177) 상에 설치되어 상기 잔류가스 배기배관(177)을 개폐하는 개폐밸브(175)를 포함한다. 이때, 상기 잔류가스 배기배관(177)은 상기 공정가스공급배관(154)의 어느 일면 중 상기 공정가스 제어밸브(155)와 상기 공정가스 생성용 배쓰(151) 사이에 위치한 상기 공정가스공급배관(154)의 어느 일면에 연결될 수 있다. 그리고, 상기 개폐밸브(175)는 상기 공정챔버(110) 내에서 공정이 진행될 경우에는 밀폐되고, 그 외의 경우 즉, 상기 공정챔버(110) 내에서 공정이 진행되지 않을 경우에는 항상 개방되는 통상 열림형 밸브(Normal open type valve)가 사용될 수 있다. 이 경우, 상기 공정챔버(110) 내에서 공정이 진행되지 않아 상기 공정챔버(110) 측으로의 공정가스 공급이 멈춰지면, 상기 개폐밸브(175)는 개방된다. 따라서, 상기 공정가스공급배관(154)을 통하여 상기 공정챔버(110) 측으로 공급되던 공정가스는 이 개폐밸브(175)와 이 개폐밸브(175)가 설치된 잔류가스 배기배관(177)을 통하여 상기 가스 배출부(130) 측으로 배기되어지게 된다.
한편, 상기 컨트롤러(190)는 상술한 상기 밸브들에 각각 연결되며 공정진행에 따라 상기 밸브들의 개폐를 제어함으로 공정이 원활히 진행되도록 하는 역할을 한다. 특히, 상기 컨트롤러(190)는 상기 공정가스 제어밸브(155)와 상기 개폐밸브(175)에 연결되어 상기 밸브들의 개폐를 제어함으로 공정이 원활히 진행되도록 한다. 이때, 상기 컨트롤러(190)는 상기 공정가스 제어밸브(155)의 개폐와 상기 개폐밸브(175)의 개폐를 상호 반대로 동작시킬 수 있다. 이 경우, 상기 공정가스 제어 밸브(155)가 개방되면 상기 개폐밸브(175)는 폐쇄되고, 상기 공정가스 제어밸브(155)가 폐쇄되면 상기 개폐밸브(175)가 개방되어지므로, 상기 공정가스공급배관(154) 내에서 유동되던 공정가스는 공정진행의 여부와 관계없이 두 밸브 측 중 어느 일측으로 유동될 수 있게 된다.
즉, 상기 공정챔버(110) 내에서 공정이 진행되면, 상기 개폐밸브(175)는 폐쇄되고 상기 공정가스 제어밸브(155)는 개방되는 바, 상기 공정가스공급배관(154) 내에서 유동되던 공정가스는 상기 공정가스 제어밸브(155) 측으로 유동된 다음 상기 공정챔버(110) 측으로 유입될 수 있게 된다. 하지만, 상기 공정챔버(110) 내에서 공정이 진행되지 않게 되면, 상기 공정가스 제어밸브(155)는 폐쇄되고 상기 개폐밸브(175)는 개방되는 바, 상기 공정가스공급배관(154) 내에서 유동되던 공정가스는 상기 개폐밸브(175) 측으로 유동된 다음 상기 가스배출부(130)를 통하여 외부로 배기될 수 있게 된다. 따라서, 공정진행의 여부와 관계없이 상기 공정가스공급배관(154) 내부에는 공정가스가 잔류하지 않게 되므로, 종래와 같은 잔류가스로 인한 제반 문제는 미연에 방지된다.
이하, 이상과 같이 구성된 본 발명 화학기상증착장치의 작용 및 효과를 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
우선, 외부로부터 웨이퍼(90)가 로딩되어 히터블럭(114) 상에 안착되면, 상기 히터블럭(114)은 웨이퍼(90)를 공정에 필요한 온도로 가열하게 된다,
이후, 웨이퍼(90)가 소정온도로 가열되면, 가스공급부(150)는 샤워헤드(112) 를 통하여 웨이퍼(90) 측으로 MPA 가스와 같은 소정 공정가스를 공급하게 된다. 이때, MPA 가스의 경우는 처음부터 가스형태로 화학기상증착장치에 공급되는 것이 아니기 때문에 상기 가스공급부(150)는 캐리어가스와 밸브들을 이용하여 샤워헤드(112) 측으로 MPA 가스를 공급하게 된다. 즉, 웨이퍼(90)가 소정온도로 가열되면, 컨트롤러(190)는 제1ㆍ제2캐리어가스 공급밸브(153a,153b) 등을 개방시키게 된다. 따라서, 캐리어가스는 캐리어가스 공급배관(153)을 통해 공정가스 생성용 배쓰(151) 내부로 공급되어 상기 공정가스 생성용 배쓰(151)에 저장된 MPA 액으로부터 MPA 가스를 생성시키게 된다. 이에 따라, 상기 공정가스 생성용 배쓰(151) 내에서 생성된 MPA 가스는 배쓰(151)에 연결된 또다른 배관 곧, 공정가스공급배관(154)을 통해 샤워헤드(112) 측으로 공급된다.
계속하여, 웨이퍼(90)의 가열과 공정가스의 공급으로 인해 웨이퍼(90) 상에 소정 박막이 증착되면, 상기 컨트롤러(190)는 상기 공정가스공급배관(154) 상에 설치된 공정가스 제어벨브(155)와 공정가스 공급밸브(154a) 및 캐리어가스 공급배관(153) 상에 설치된 캐리어가스 공급밸브들(153a,153b) 등을 폐쇄시킴으로써, 샤워헤드(112)로의 공정가스 공급을 멈추게 된다. 따라서, 박막이 증착된 웨이퍼(90)는 외부로 언로딩되어지는 것이다.
한편, 이와 같은 박막의 증착으로 인하여 공정의 진행 곧, 상기 공정챔버(110) 측으로의 공정가스 공급이 멈춰지면, 상기 컨트롤러(190)는 상기 공정가스 제어밸브(155)를 폐쇄시킴과 동시에 상기 개폐밸브(175)를 개방시키게 된다. 따라서, 상기 공정챔버(110) 측으로 공급되던 상기 공정가스는 상기 가스배출부(130) 측으로 배기되어진다. 따라서, 박막증착 등의 공정 진행이 멈춰질 경우에도 상기 공정가스 공급배관(154) 내부에는 상기 공정가스가 잔류하지 않게 되므로, 종래와 같은 잔류가스로 인한 제반 문제는 미연에 방지된다.
이상, 본 발명은 도시된 실시예를 참고로 설명하였으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 그러므로 본 발명의 범위는 첨부된 특허청구의 범위와 이와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.
상술한 바와 같이, 본 발명 화학기상증착장치에는 상기 공정챔버 측으로의 공정가스 공급이 멈춰지면 상기 공정챔버 측으로 공급되던 공정가스를 상기 가스배출부 측으로 배기시켜주는 잔류가스배기부가 구비되기 때문에, 상기 공정가스공급배관 내부에는 공정진행의 여부와 관계없이 항상 상기 공정가스가 잔류하지 않게 되므로, 종래와 같은 잔류가스로 인한 제반 문제 곧, 파티클 소스 문제나 이로 인한 밸브 개폐 페일 등의 문제는 미연에 방지되는 효과가 있다.

Claims (5)

  1. 웨이퍼 상에 소정 박막을 증착시키는 공정챔버;
    상기 공정챔버에 연결되며 상기 공정챔버 측으로 소정 공정가스를 공급하는 가스공급부;
    상기 공정챔버에 연결되며 상기 공정챔버 내부의 가스를 외부로 배출시켜주는 가스배출부; 및,
    상기 가스공급부와 상기 가스배출부를 상호간 연결하며, 상기 공정챔버 측으로의 공정가스 공급이 멈춰지면 상기 공정챔버 측으로 공급되던 공정가스를 상기 가스배출부 측으로 배기시켜주는 잔류가스배기부를 포함하는 화학기상증착장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 가스공급부는 상기 공정챔버에 연결된 공정가스공급배관을 포함하고,
    상기 가스배출부는 상기 공정챔버에 연결된 가스배출배관을 포함하며,
    상기 잔류가스배기부는 상기 공정가스공급배관과 상기 가스배출배관을 상호간 연결하는 잔류가스 배기배관과, 상기 잔류가스 배기배관 상에 설치되어 상기 잔류가스 배기배관을 개폐하는 개폐밸브를 포함한 것을 특징으로 하는 화학기상증착장치.
  3. 제 2항에 있어서,
    상기 가스공급부는 상기 공정가스공급배관의 양단부 중 상기 공정챔버에 연결되지 아니한 어느 일단부에 연결되며 내부에 소정 공정액이 저장되는 공정가스 생성용 배쓰와, 상기 공정가스 생성용 배쓰에 연결되며 상기 공정가스 생성용 배쓰 내에서 소정 공정가스가 생성되도록 상기 공정가스 생성용 배쓰 측으로 소정 캐리어가스를 공급하는 캐리어가스 공급배관과, 상기 공정가스공급배관 상에 설치되며 상기 공정가스공급배관 측으로 유입된 공정가스가 상기 샤워헤드 측으로 공급되는 것을 제어하는 공정가스 제어밸브를 더 포함하고,
    상기 잔류가스 배기배관은 상기 공정가스공급배관의 어느 일면 중 상기 공정가스 제어밸브와 상기 공정가스 생성용 배쓰 사이에 위치한 상기 공정가스공급배관의 어느 일면에 연결된 것을 특징으로 하는 화학기상증착장치.
  4. 제 3항에 있어서,
    상기 공정가스 제어밸브는 통상 닫힘형 밸브이고, 상기 개폐밸브는 통상 열림형 밸브인 것을 특징으로 하는 화학기상증착장치.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 공정가스 제어밸브와 상기 개폐밸브는 상기 밸브들의 개폐를 제어하는 컨트롤러에 연결되고,
    상기 컨트롤러는 상기 공정가스 제어밸브의 개폐와 상기 개폐밸브의 개폐를 상호 반대로 동작시키는 것을 특징으로 하는 화학기상증착장치.
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