KR20070042506A - Composite transparent conductive substrate for touch panel and touch panel - Google Patents

Composite transparent conductive substrate for touch panel and touch panel Download PDF

Info

Publication number
KR20070042506A
KR20070042506A KR1020067025483A KR20067025483A KR20070042506A KR 20070042506 A KR20070042506 A KR 20070042506A KR 1020067025483 A KR1020067025483 A KR 1020067025483A KR 20067025483 A KR20067025483 A KR 20067025483A KR 20070042506 A KR20070042506 A KR 20070042506A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
transparent conductive
polymer
touch panel
substrate
composite transparent
Prior art date
Application number
KR1020067025483A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
켄지 하타다
마사히로 수다
사토루 타니
Original Assignee
도레이 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 도레이 가부시끼가이샤 filed Critical 도레이 가부시끼가이샤
Publication of KR20070042506A publication Critical patent/KR20070042506A/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B5/00Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form
    • H01B5/14Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form comprising conductive layers or films on insulating-supports
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/045Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means using resistive elements, e.g. a single continuous surface or two parallel surfaces put in contact
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02Physical, chemical or physicochemical properties
    • B32B7/025Electric or magnetic properties
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/06Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances
    • H01B1/08Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances oxides
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B17/00Insulators or insulating bodies characterised by their form
    • H01B17/56Insulating bodies
    • H01B17/62Insulating-layers or insulating-films on metal bodies

Abstract

고분자 필름 또는 고분자 시트로 이루어지는 기재(A), 투명도전층(B) 및 유전체층(C)이 이 구성으로 적층되고, 유전체층(C)이 온도 20℃, 주파수 1kHz에 있어서의 비유전율이 15이상인 유기 고분자로 이루어지고, 또한 유전체층(C)의 두께가 40㎚이상 2000㎚이하인 터치패널용 복합 투명도전성 기재는, 묘화 타입의 터치패널이 필요로 하는 특성을 만족시킨다.A substrate (A), a transparent conductive layer (B) and a dielectric layer (C) made of a polymer film or a polymer sheet are laminated in this configuration, and the dielectric layer (C) is an organic polymer having a relative dielectric constant of 15 or more at a temperature of 20 ° C. and a frequency of 1 kHz. The composite transparent conductive substrate for a touch panel having a thickness of 40 nm or more and 2000 nm or less of the dielectric layer C satisfies the characteristics required by the drawing type touch panel.

Description

터치패널용 복합 투명도전성 기재 및 터치패널{COMPOSITE TRANSPARENT CONDUCTIVE SUBSTRATE FOR TOUCH PANEL AND TOUCH PANEL}Composite transparent conductive substrate for touch panel and touch panel {COMPOSITE TRANSPARENT CONDUCTIVE SUBSTRATE FOR TOUCH PANEL AND TOUCH PANEL}

본 발명은 터치패널용 복합 투명도전성 기재에 관한 것이다.The present invention relates to a composite transparent conductive substrate for a touch panel.

터치패널은 디스플레이의 표시부에 접촉하는 것만으로, 누구라도 사용할 수 있기 때문에, 맨머신·인터페이스로서 우수하다고 한다. 수요가 확대되고 있는 퍼스널 휴대폰 정보기기에는, 저항막 방식의 터치패널이 채용되고 있다.The touch panel is said to be excellent as a man machine interface because it can be used by anyone by simply touching the display of the display. BACKGROUND ART A resistive touch panel is employed as a personal cellular phone information device in which demand is expanding.

종래의 저항막식 터치패널은, 손가락이나 펜 등으로 압압조작하는 방식, 소위 타점방식이다. 이 방식의 터치패널의 투명전극필름(투명도전성 기재)에 요구되는 주요한 특성은, (a)규정된 저항값이고, 또한 저항값이 균일한 것, (b)고온 고습하에서의 저항값의 안정성, 및 (c)타점에 의한 저항값의 변화가 적다는 타점 내구성이다. 통상, 투명도전성 기재에 형성된 투명도전성층의 두께는 10~40㎚로 얇기 때문에, 타점에 의해 투명도전성층에 변형, 마모, 균열의 생성 등을 일으키기 쉽다. 따라서 상기 주요한 특성 중에서 가장 해결 곤란한 특성은 타점 내구성이며, 이 과제를 해결하기 위해서, 여러가지 기술 제안이 이루어지고 있다. 예를 들면, 투명기재필름의 적어도 한면에 두께가 0.02~10㎛인 실록산 결합을 함유하는 앵커층 을 통해, 투명도전층을 형성한 투명도전 적층체가 제안되고 있다(특허문헌1). 이 방법은, 고온 고습하에서의 저항값의 안정성은 있지만, 내구성이 충분하지는 않았다. 또한, 도전성의 중합체를 함유하는 도전성 표면을 갖는 투명도전성 기재가 제안되고 있다(특허문헌2). 이 방법은, 내구성이 우수하지만, 고온 고습하에서 저항값이 상승하는 문제가 있었다.The conventional resistive touch panel is a method of pressing operation with a finger, a pen, or the like, a so-called spot method. The main characteristics required for the transparent electrode film (transparent conductive substrate) of the touch panel of this system are (a) prescribed resistance values and uniform resistance values, (b) stability of resistance values at high temperature and high humidity, and (c) It is the spot durability that the change of resistance value by the spot is small. Usually, since the thickness of the transparent conductive layer formed on the transparent conductive substrate is 10 to 40 nm, it is easy to cause deformation, abrasion, crack formation, etc. in the transparent conductive layer due to the spot. Therefore, the most difficult characteristic of the said main characteristic is spot durability, and in order to solve this subject, various technical proposals are made | formed. For example, a transparent conductive laminate in which a transparent conductive layer is formed through an anchor layer containing siloxane bonds having a thickness of 0.02 to 10 µm on at least one surface of a transparent base film has been proposed (Patent Document 1). This method is stable in resistance value under high temperature and high humidity, but its durability is not sufficient. Moreover, the transparent conductive base material which has an electroconductive surface containing an electroconductive polymer is proposed (patent document 2). Although this method is excellent in durability, there exists a problem that resistance value rises under high temperature, high humidity.

특허문헌1: 일본 특허공개 2002-367436호 공보 청구항 2Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-367436

특허문헌2: 일본 특허공개 2002-109998호 공보 청구항 1Patent Document 2: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-109998

종래의 타점 방식에 추가해서, 최근, 묘화할 수 있는 터치패널의 개발이 진행되고 있다. 묘화 타입의 터치패널의 투명도전성 기재에 요구되는 주요한 특성은, (a)규정된 저항값이고, 또한 저항값이 균일한 것, (b)고온 고습하에서의 저항값의 안정성, 및 (c)묘화에 의한 저항값의 변화가 적다는 묘화 내구성이다. 묘화는, 펜이 터치패널을 슬라이딩시키기 때문에, 타점에 비해서 매우 크게 투명도전성 기재의 소성 변형 및 마모를 수반한다. 종래의 투명도전성 기재에서는, 이들 모두의 특성을 만족시킬 수는 없었다.In addition to the conventional spotting method, development of the touch panel which can be drawn in recent years is progressing. The main characteristics required for the transparent conductive substrate of the drawing type touch panel are (a) the prescribed resistance value, the resistance value is uniform, (b) the stability of the resistance value under high temperature, high humidity, and (c) drawing. It is drawing durability that there is little change of resistance value by this. Drawing involves plastic deformation and wear of the transparent conductive substrate very largely compared to the RBI because the pen slides the touch panel. In the conventional transparent conductive base material, all of these characteristics could not be satisfied.

본 발명은, (a)규정된 저항값이고, 또한 저항값이 균일하며, (b)고온 고습하에서의 저항값의 변화가 작고, 또한 (c)묘화에 의한 저항값 변화가 적은 투명도전성 기재를 제공하는 것이다.The present invention provides a transparent conductive substrate having (a) a prescribed resistance value, a uniform resistance value, (b) a small change in resistance value under high temperature, high humidity, and (c) a small change in resistance value due to drawing. It is.

본 발명은, 고분자 필름 또는 고분자 시트로 이루어지는 기재(A), 투명도전층(B) 및 유전체층(C)이 이 순서로 적층되고, 유전체층(C)이 온도 20℃, 주파수 1kHz에 있어서의 비유전율이 15이상인 유기 고분자로 이루어지고, 또한 유전체층(C)의 두께가 40㎚이상 2000㎚이하인 터치패널용 복합 투명도전성 기재, 및, 그것을 이용한 터치패널이다.In the present invention, a substrate (A), a transparent conductive layer (B), and a dielectric layer (C) made of a polymer film or a polymer sheet are laminated in this order, and the dielectric layer (C) has a relative dielectric constant at a temperature of 20 ° C. and a frequency of 1 kHz. The composite transparent conductive base material for touch panels which consist of 15 or more organic polymers, and whose thickness of the dielectric layer (C) is 40 nm or more and 2000 nm or less, and a touch panel using the same.

(발명의 효과)(Effects of the Invention)

본 발명의 복합 투명도전성 기재는, 고온 고습하에서의 저항값의 안정성이 우수하고, 또한 묘화에 의한 저항값의 변화가 적기 때문에, 묘화 타입의 터치패널용 투명도전성 기재로서 우수하다.Since the composite transparent conductive base material of this invention is excellent in stability of the resistance value under high temperature, high humidity, and there is little change of the resistance value by drawing, it is excellent as a transparent conductive base material for drawing type touch panels.

도 1은 본 발명의 터치패널용 복합 투명성 기재의 단면의 일례를 나타내는 개략도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a schematic diagram which shows an example of the cross section of the composite transparency base material for touch panels of this invention.

도 2는 실시예에 있어서의 묘화에 의한 저항값의 변화의 평가방법을 나타내는 모식도이다.It is a schematic diagram which shows the evaluation method of the change of the resistance value by drawing in an Example.

도 3은 도 2의 평가에 의해 측정된 전압과 리니어리티의 관계를 나타내는 도면이다.3 is a diagram illustrating a relationship between voltage and linearity measured by the evaluation of FIG. 2.

(부호의 설명)(Explanation of the sign)

1. 고분자 필름 또는 시트로 이루어지는 기재(A)1. Substrate (A) consisting of a polymer film or sheet

2. 투명도전층(B)2. Transparent conductive layer (B)

3. 유전체층(C) 3. Dielectric layer (C)

4. 표면경화층(D)4. Surface hardening layer (D)

본 발명의 복합 투명도전성 기재는, 고분자 필름 또는 고분자 시트(이하, 필 름/시트라고 칭한다)로 이루어지는 기재(A), 투명도전층(B) 및 유전체층(C)이 이 순서로 적층되어 있다.In the composite transparent conductive substrate of the present invention, a substrate (A), a transparent conductive layer (B), and a dielectric layer (C) made of a polymer film or a polymer sheet (hereinafter referred to as film / sheet) are laminated in this order.

또한, 여기에서는 필름이란 두께가 1㎛이상 500㎛이하, 시트란 두께가 500㎛를 넘고, 2㎜이하인 것을 가리킨다.In addition, a film means here that a thickness is 1 micrometer or more and 500 micrometers or less, and a sheet column thickness exceeds 500 micrometers and is 2 mm or less.

본 발명의 복합 투명도전성 기재는, 터치패널의 투명전극으로서 이용되는 부품이다. 저항막 방식의 터치패널은 상부 전극과 하부 전극이 일정한 갭을 두고 배치되어 있다. 전극끼리의 오접촉을 방지하기 위해서, 상하의 전극 사이에 도트 스페이서를 형성하는 일도 있다. 터치패널의 어느 한점이 압하되면, 그 부분의 상하의 전극이 접촉되어, 통전 가능해진다. 상하의 전극 중 어느 하나에 전압을 인가함으로써 전위구배가 발생하고, 다른쪽의 전극에서 전위를 검출함으로써, 접촉점의 전위가 검출된다. 검출된 전위와 전위구배의 관계로부터, 접촉점의 좌표가 계산된다. 이러한 메커니즘상, 투명도전성 기재는 반복 변형 및 응력을 받게 되어, 투명도전성층에 크랙을 발생시키기 쉽다.The composite transparent conductive substrate of the present invention is a component used as a transparent electrode of a touch panel. In the resistive touch panel, an upper electrode and a lower electrode are disposed with a predetermined gap. In order to prevent erroneous contact between electrodes, a dot spacer may be formed between upper and lower electrodes. When one point of a touch panel is pressed down, the upper and lower electrodes of the part contact, and it can supply electricity. A potential gradient occurs by applying a voltage to one of the upper and lower electrodes, and the potential of the contact point is detected by detecting the potential at the other electrode. From the relationship between the detected potential and the potential gradient, the coordinates of the contact point are calculated. Due to this mechanism, the transparent conductive substrate is subjected to repeated deformation and stress, and is likely to cause cracks in the transparent conductive layer.

투명도전층(B) 위에 유기 고분자로 이루어지는 유전체층(C)을 적층함으로써, 투명도전층(B)에 크랙이 생기기 어려워져, 묘화에 의한 저항값의 변화가 현저하게 개선된다. 그러나, 투명도전층(B) 위를 유기 고분자로 덮어버리면, 통상, 표면 저항값은 현저하게 높아져, 투명전극으로서 적합하지 않게 된다. 상술한 바와 같이, 도전성의 중합체를 이용하면, 이 문제는 해소되지만, 고온 고습하에서 저항값이 상승하는 문제가 있었다. 휴대폰 정보기기 등의 옥외에서 사용하는 기기에 이용되는 터치패널에 있어서는, 고온 고습하에 있어서의 저항값의 안정성이 우수한 것은 중 요하므로, 고온 고습하에서의 저항값의 안정성과 묘화 내구성의 양립이 요구된다.By laminating the dielectric layer (C) made of an organic polymer on the transparent conductive layer (B), cracks are less likely to occur in the transparent conductive layer (B), and the change in resistance value due to drawing is remarkably improved. However, if the transparent conductive layer (B) is covered with an organic polymer, the surface resistance value is markedly high, which is not suitable as a transparent electrode. As described above, when the conductive polymer is used, this problem is solved, but there is a problem that the resistance value rises under high temperature and high humidity. In the touch panel used for outdoor devices such as cellular phone information devices, it is important that the stability of the resistance value under high temperature and high humidity is important. Therefore, both stability of the resistance value under high temperature and high humidity and drawing durability are required.

본 발명에 있어서는, 온도 20℃, 주파수 1kHz에 있어서의 비유전율이 15이상인 유기 고분자로 이루어지고, 또한 두께가 40㎚이상 2000㎚이하인 유전체층(C)을 투명도전층(B)상에 적층함으로써, 고온 고습하에서의 저항값의 안정성이 우수하고, 또한 묘화에 의한 저항값의 변화가 적은 복합 투명도전성 기재가 얻어지는 것을 발견했다.In the present invention, a high temperature is obtained by laminating a dielectric layer (C) composed of an organic polymer having a relative dielectric constant of 15 or more at a temperature of 20 ° C. and a frequency of 1 kHz and having a thickness of 40 nm or more and 2000 nm or less on the transparent conductive layer (B). It discovered that the composite transparent conductive base material which is excellent in stability of the resistance value under high humidity, and whose change of the resistance value by drawing is few is obtained.

비유전율이 15이상인 유기 고분자는, 체적 고유 저항값이 높음에도 불구하고, 적절한 막두께의 박막을 투명도전층상에 형성한 경우, 유기 고분자층의 표면 저항값이 투명도전층의 표면 저항값으로부터 크게 변화되지 않아, 터치패널에 적합한 범위 내의 저항값이 얻어지는 것을 발견했다.Although the organic polymer having a relative dielectric constant of 15 or higher has a high volume resistivity, when a thin film having an appropriate film thickness is formed on the transparent conductive layer, the surface resistance value of the organic polymer layer changes significantly from the surface resistance value of the transparent conductive layer. It was found that the resistance value within the range suitable for the touch panel was obtained.

온도 20℃, 주파수 1kHz에 있어서의 비유전율이 15이상인 유기 고분자로서는, 시아노에틸화된 유기 고분자가 바람직하다. 그 중에서도 시아노에틸셀룰로오스, 시아노에틸히드록시에틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 고분자의 시아노에틸화 고분자, 시아노에틸스타치, 시아노에틸히드록시프로필스타치, 시아노에틸풀루란, 시아노에틸글리시돌풀루란 등의 전분계 고분자의 시아노에틸화 고분자, 시아노에틸폴리비닐알코올, 시아노에틸슈크로스, 및 시아노에틸소르비톨로부터 선택된 1종, 또는 2종이상의 유기 고분자가 보다 바람직하다. 그 중에서도 시아노에틸풀루란이 가요성이 있고, 묘화 내구성이 높고, 또한 고온 고습하에서의 저항값의 안정성도 높은 복합 투명도전성 기재가 얻어지므로, 특히 바람직하다.As an organic polymer whose relative dielectric constant in temperature 20 degreeC and a frequency of 1 kHz is 15 or more, a cyanoethylated organic polymer is preferable. Among them, cyanoethylated polymers of cellulose-based polymers such as cyanoethyl cellulose and cyanoethyl hydroxyethyl cellulose, cyanoethyl starch, cyanoethylhydroxypropyl starch, cyanoethyl pullulan and cyanoethyl A cyanoethylated polymer of starch-based polymers such as glycidol pullulan, cyanoethyl polyvinyl alcohol, cyanoethyl sucrose, and cyanoethyl sorbitol are selected from one kind or two or more kinds of organic polymers. . Especially, since cyanoethyl pullulan is flexible, since the composite transparent conductive base material with high drawing durability and high stability of resistance value under high temperature, high humidity is obtained, it is especially preferable.

또한, 유기 고분자로서 아세틸화 풀루란도 바람직하게 이용할 수 있다. 아세 틸화 풀루란은 단독으로 이용해도, 시아노에틸화된 유기 고분자와 혼합해서 이용해도, 가요성이 있고, 묘화 내구성이 높고, 또한 고온 고습하에서의 저항값의 안정성도 높은 복합 투명도전성 기재가 얻어지므로, 바람직하다.As the organic polymer, acetylated pullulan can also be preferably used. Acetylated pullulan may be used alone or in combination with a cyanoethylated organic polymer to obtain a composite transparent conductive substrate having flexibility, high drawing durability, and high stability of resistance value at high temperature and high humidity. , desirable.

또한, 유전체층(C)의 두께는 40㎚이상 2000㎚이하가 바람직하다. 40㎚미만에서는 고온 고습하에서의 저항값의 안정성의 개선효과가 낮고, 또한 묘화 내구성의 개선효과도 높지 않다. 2000㎚를 넘으면 표면 저항값이 커진다. 보다 바람직한 범위는 80㎚이상 800㎚이하이다.In addition, the thickness of the dielectric layer C is preferably 40 nm or more and 2000 nm or less. If it is less than 40 nm, the improvement effect of stability of the resistance value under high temperature, high humidity is low, and the improvement effect of drawing durability is also not high. If it exceeds 2000 nm, surface resistance value will become large. The more preferable range is 80 nm or more and 800 nm or less.

복합 투명도전성 기재의 표면 저항값은, 100Ω/□이상 1000Ω/□이하인 것이 바람직하다. 표면 저항값이 100Ω/□미만에서는, 터치패널의 전력 사용량이 많아진다. 표면 저항값이 1000Ω/□를 넘으면, 전파 외란의 영향을 받기 쉬워진다. 복합 투명도전성 기재의 표면 저항값은 200Ω/□이상 500Ω/□이하인 것이 보다 바람직하다. 투명도전층의 두께를 두껍게 하면 표면 저항값은 내려가지만, 광선 투과율도 내려가, 터치패널의 투명성이 나빠지는 폐해가 있다. 복합 투명도전성 기재의 전체 광선 투과율은 80%이상이 바람직하고, 85%이상인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that the surface resistance value of a composite transparent conductive base material is 100 ohms / square or more and 1000 ohms / square or less. When the surface resistance value is less than 100 Ω / □, the power consumption of the touch panel increases. When the surface resistance value exceeds 1000 Ω / □, it is easy to be affected by radio wave disturbances. As for the surface resistance value of a composite transparent conductive base material, it is more preferable that they are 200 ohms / square or more and 500 ohms / square or less. When the thickness of the transparent conductive layer is increased, the surface resistance value is lowered, but the light transmittance is also lowered, and there is a disadvantage that the transparency of the touch panel is deteriorated. 80% or more is preferable and, as for the total light transmittance of a composite transparent conductive base material, it is more preferable that it is 85% or more.

또한, 여기에서 말하는 표면 저항값이란 유전체층(C)상에서 측정한 표면 저항값을 가리킨다.In addition, the surface resistance value here refers to the surface resistance value measured on the dielectric layer (C).

기재(A)가 되는 필름/시트로서는, 폴리카보네이트수지, 아크릴수지, 트리아세테이트로 대표되는 아세테이트수지, 환상 폴리올레핀, 폴리에틸렌테레프탈레이트나 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르수지 등의 투명성이 높은 수지로 성형된 필름/시트가 바람직하다. 그 중에서도 투명성이 높고, 내열성이 높고, 또한, 가요성이 있는 폴리에틸렌테레프탈레이트로 이루어지는 필름/시트가 보다 바람직하다.As a film / sheet used as a base material (A), it is shape | molded by resin with high transparency, such as a polycarbonate resin, an acrylic resin represented by acrylic resin, a triacetate, cyclic polyolefin, polyester resins, such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, Film / sheet is preferred. Especially, the film / sheet which consists of polyethylene terephthalate which is high in transparency, high in heat resistance, and flexible is more preferable.

또한, 투명도전층(B)과의 접착성을 높이기 위해서, 투명도전층(B)과 적층하기 전에, 필름/시트에 접착수지를 코팅하거나, 방전처리 등의 표면처리를 하는 것이 바람직하다. 또한 필름/시트는 열에 의해 수축되는 일이 있으므로, 미리 열처리를 실시하여, 수축의 원인으로 되는 변형을 제거해 두는 것도 바람직하다.In addition, in order to improve the adhesiveness with the transparent conductive layer (B), before laminating with the transparent conductive layer (B), it is preferable to coat the adhesive resin on the film / sheet or to perform surface treatment such as an electric discharge treatment. Moreover, since a film / sheet may shrink | contract by heat, it is also preferable to heat-process previously, and to remove the distortion which causes shrinkage.

본 발명의 터치패널용 복합 기재의 투명도전막층(B)은 금, 은, 동 등의 매우 얇은 금속박막, 혹은 산화인듐(산화주석 및/또는 산화아연을 함유해도 좋다), 산화주석, 산화아연 등의 도전성 금속 산화물 등의 금속계 투명도전성 박막인 것이 바람직하다. 그 중에서도 투명성이 높은 범위에서 저항값이 낮은 도전성 금속 산화물이 보다 바람직하다. 특히 산화인듐, 산화주석 및 산화아연으로부터 선택된 1종, 또는 2종이상의 화합물은 표면 저항값이 낮고, 투명성이 높고, 또한 습도에 의한 화학적변화가 적어서 바람직하다. 또한, 투명도전층(B)은, 금속계 투명도전성 박막을 다층으로 적층해도 좋다.The transparent conductive film layer (B) of the composite substrate for a touch panel of the present invention is a very thin metal thin film such as gold, silver, copper, or indium oxide (may contain tin oxide and / or zinc oxide), tin oxide, and zinc oxide. It is preferable that it is metal type transparent conductive thin films, such as conductive metal oxides, such as these. Especially, the conductive metal oxide with low resistance value in the range with high transparency is more preferable. In particular, one or two or more compounds selected from indium oxide, tin oxide and zinc oxide are preferable because of low surface resistance, high transparency, and little chemical change due to humidity. In addition, the transparent conductive layer (B) may laminate a metal-based transparent conductive thin film in multiple layers.

투명도전층(B)에 금속계 투명도전성 박막을 이용한 경우, 고온 고습하에 있어서의 저항값의 변화는 적지만, 투명도전층(B)만으로는 묘화에 의한 저항값의 변화가 크다. 그러나, 투명도전층(B)에 유전체층(C)을 적층한 경우, 묘화에 의한 저항값의 변화도 작게 할 수 있다.In the case where a metal-based transparent conductive thin film is used for the transparent conductive layer B, the change in the resistance value under high temperature and high humidity is small, but the change in the resistance value due to drawing is large only in the transparent conductive layer B. However, when the dielectric layer C is laminated on the transparent conductive layer B, the change in the resistance value due to drawing can also be reduced.

이들 투명도전성 박막은 전자빔 증착, 스퍼터링, 이온 플레이팅 등의 PVD라고 불리는 진공 증착법에 의해 기재(A)상에 형성할 수 있다. 금속계 투명도전성 박 막은, 목적 용도에 적합한 특성의 금속계 투명도전성 물질을 선정하고, 적절한 박막 제조방법에 의해 형성하는 것이 바람직하다. 또한, 금속계 투명도전성 박막은 열처리에 의해 표면 저항값, 광선 투과율, 광선 반사율 등의 특성을 바꿀 수 있으므로, 필요에 따라서 열처리 등을 실시해도 좋다. 또한, 금속계 투명도전성 박막의 일반적인 물성 및 제조방법은 「투명도전막의 기술」제3장, 제4장, 및 제5장(일본학술진흥회 투명 산화물 광·전자재료 제166위원회편, (주)옴사 발행) 등에 상세하게 기술되어 있다.These transparent conductive thin films can be formed on the substrate A by a vacuum deposition method called PVD such as electron beam deposition, sputtering, ion plating, or the like. The metal-based transparent conductive thin film is preferably formed by selecting a metal-based transparent conductive material having properties suitable for the intended use and by a suitable thin film production method. In addition, the metal-based transparent conductive thin film can change characteristics such as surface resistance, light transmittance, light reflectance, etc. by heat treatment, and thus may be subjected to heat treatment if necessary. In addition, general physical properties and manufacturing methods of the metal-based transparent conductive thin film are described in Chapters 3, 4, and 5 of `` Technology of Transparent Conductive Films '' (Japan Association for the Promotion of Transparent Oxide Optoelectronic and Electronic Materials, Section 166, Omsa Co., Ltd.). Publication).

투명도전층(B)이 금속계 투명도전성 물질로 이루어지는 경우, 그 두께는 용도에 따라 요구되는 표면 저항값 및 광선 투과율에 따라서, 적당하게 결정해야 하지만, 바람직하게는 5㎚~0.5㎛이다. 표면 저항값, 광선 투과율, 및 가요성의 점에서, 투명도전층(B)의 두께는 10㎚~0.2㎛가 보다 바람직하다. 두께가 5㎚미만에서는 표면 저항이 높아지고, 두께가 0.5㎛를 넘으면, 투명도전층(B)의 광흡수에 의해 광선 투과율이 저하되는 것에 대해 표면 저항값은 그다지 저하되지 않기 때문이다.In the case where the transparent conductive layer (B) is made of a metal-based transparent conductive material, the thickness thereof should be appropriately determined depending on the surface resistance value and the light transmittance required by the application, but preferably 5 nm to 0.5 μm. In terms of surface resistance, light transmittance, and flexibility, the thickness of the transparent conductive layer (B) is more preferably 10 nm to 0.2 μm. This is because if the thickness is less than 5 nm, the surface resistance is high, and if the thickness is more than 0.5 µm, the surface resistance value is not so low that the light transmittance is lowered due to light absorption of the transparent conductive layer (B).

또한, 투명도전층(B)의 소재는, 도전성 고분자이여도 좋다. 도전성 고분자로서는, 2㎛의 두께로 50%이상의 광선 투과율을 갖고, 또한 1.0×10-8S/㎝의 도전율을 갖는 것이 바람직하다.In addition, a conductive polymer may be sufficient as the raw material of a transparent conductive layer (B). As the conductive polymer, one having a light transmittance of 50% or more at a thickness of 2 μm and a conductivity of 1.0 × 10 −8 S / cm is preferable.

도전성 고분자에 대해서는 「도전성 고분자 이야기」제5장(요시노 카츠미 저, 닛칸코교신분사 발행) 「도전성 고분자」(오가타 나오야 편, 고단사 사이엔티픽 발행), 혹은 「Science and Application of Conducting Polymers 」(W.R.Salaneck 타편, Adam Hilger 발행) 등에 상세하게 기술되어 있다.Conductive polymers, Conductive Polymers, Chapter 5 (by Yoshino Katsumi, published by Nikkan Kogyo Co., Ltd.) `` Conductive Polymers '' (Naoya Ogata, Published by High Single Inc.) or `` Science and Application of Conducting Polymers '' ( WRSalaneck Op., Published by Adam Hilger).

투명도전층(B)에 투명도전성 고분자를 이용한 경우, 묘화에 의한 저항값의 변화는 적지만, 투명도전층(B)만으로는 고온 고습하에 있어서 저항값의 변화가 크다. 투명도전층(B)에 유전체층(C)을 적층함으로써, 고온 고습하에서의 저항값 변화를 작게 할 수 있다.When the transparent conductive polymer is used for the transparent conductive layer (B), the change in the resistance value due to drawing is small. However, the transparent conductive layer (B) alone has a large change in the resistance value under high temperature and high humidity. By laminating the dielectric layer C on the transparent conductive layer B, the change in resistance value under high temperature, high humidity can be reduced.

투명도전층(B)에 이용되는 보다 바람직한 도전성 고분자는 투명성, 도전성 및 가요성으로부터 폴리피롤, 폴리티오펜, 폴리푸란, 폴리셀레노펜, 폴리아닐린, 폴리파라페닐렌, 폴리플루오렌, 이들의 유도체, 및 이들을 구성하는 단량체의 공중합물로부터 선택된 도전성 고분자 중 어느 하나 1종 또는 2종이상의 혼합물 등이다. 그 중에서도 측쇄를 도입함으로써, 물 혹은 그 밖의 용매에 가용성 또는 분산성을 갖는 폴리티오펜, 폴리알킬플루오렌, 폴리플루오렌, 폴리파라페닐렌, 폴리파라페니렌비닐렌의 유도체, 및 이들을 구성하는 단량체의 공중합물로부터 선택된 적어도 1종의 도전성 고분자는 투명성 및 도전성이 뛰어나고, 또한 필름/시트에 코팅 할 수 있고, 적절한 두께의 도전성 고분자막을 균일하게 형성할 수 있는 점에서 보다 우수하다. 특히 폴리디옥시티오펜을 함유하는 도전성 고분자, 그 중에서도 폴리에틸렌디옥시티오펜(PEDT)과 폴리스티렌술폰산(PSS)의 혼합물로 이루어지는 도전성 고분자는, 물 혹은 그 밖의 용매에 용해 혹은 분산될 수 있는 점에서, 용이하게 필름/시트에 코팅할 수 있고, 또한 투명성과 도전성이 특히 높은 막을 형성할 수 있는 점에서 가장 바람직하다. 폴리에틸렌디옥시티오펜과 폴리스티렌술폰산으로 이루어지는 도전성 고분자를 물 혹은 그 밖의 용매에 용해되거나 또는 분산된 수지액의 제작방법은, 일본 특허공개 평 7-90060호 공보, 혹은 국제공개 제 02/067273호 팸플렛에 제안되고 있다.More preferred conductive polymers used in the transparent conductive layer (B) are polypyrrole, polythiophene, polyfuran, polyselenophene, polyaniline, polyparaphenylene, polyfluorene, derivatives thereof, and the like, from transparency, conductivity and flexibility. It is any 1 type, or mixture of 2 or more types of conductive polymers chosen from the copolymer of the monomer to comprise. Among them, by introducing a side chain, polythiophene, polyalkyl fluorene, polyfluorene, polyparaphenylene, derivatives of polyparafenylene vinylene having solubility or dispersibility in water or other solvents, and constituting these The at least one conductive polymer selected from the copolymer of monomers is superior in that it is excellent in transparency and conductivity, can be coated on a film / sheet, and can uniformly form a conductive polymer film of appropriate thickness. In particular, a conductive polymer containing polydioxythiophene, especially a conductive polymer composed of a mixture of polyethylene dioxythiophene (PEDT) and polystyrene sulfonic acid (PSS), can be easily dissolved or dispersed in water or other solvents. It is most preferable in that it can coat on a film / sheet, and also can form a film with especially high transparency and electroconductivity. The method for producing a resin liquid in which a conductive polymer composed of polyethylene dioxythiophene and polystyrene sulfonic acid is dissolved or dispersed in water or other solvents is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-90060 or International Publication No. 02/067273. Is proposed.

또한, 도전성 고분자에 폴리스티렌 입자, 아크릴수지 입자 등의 입자를 첨가함으로써, 활성이 높아지는 점에서, 디스플레이 화면 사이즈로 필름/시트를 재단할 때에, 재단한 필름/시트의 쌓아 올리기가 용이해지므로 바람직하다. 또한, 도전성 고분자에 다른 수지를 첨가함으로써, 투명도전층(B)의 강도가 강해져, 마찰이나 긁힘 내구성 등의 품질의 안정성이 향상되므로 바람직하다.Moreover, since addition of particles, such as polystyrene particle | grains and an acrylic resin particle, to an electroconductive polymer, since activity becomes high, when cutting a film / sheet at a display screen size, it becomes easy to stack | stack the cut film / sheet | seat. . Moreover, since the intensity | strength of the transparent conductive layer (B) becomes strong by adding another resin to an electroconductive polymer, and stability of quality, such as friction and abrasion durability, improves, it is preferable.

도전성 고분자를 기재(A)에 적층하는 방법은 전해 중합법, 증착법, 코팅법(도공법) 등이 있고, 용도나 도전성 고분자의 종류에 따라 적당하게 선택할 수 있다. 그러나, 물 혹은 그 밖의 용매에 녹는 도전성 고분자를 코팅법에 의해 적층하는 것이 필름/시트와 같이 폭이 넓고, 길이가 긴 기재에 균일하게, 규정된 두께로 적층할 수 있는 점에서 보다 바람직하다. 코팅의 방법은 특별히 한정되는 것은 아니고, 용도에 따라 적절한 방법을 선택할 수 있다. 코팅의 여러가지 방법은, 「코팅방식」제1장~제18장(하라사키 유우지 저, 마키쇼텐 발행) 등의 문헌에 상세하게 기술되어 있다.The method of laminating the conductive polymer on the substrate (A) includes an electrolytic polymerization method, a vapor deposition method, a coating method (coating method), and the like, and can be appropriately selected according to the use or the kind of the conductive polymer. However, lamination of conductive polymers soluble in water or other solvents by a coating method is more preferable in that it can be laminated uniformly and at a prescribed thickness on a wide, long substrate like a film / sheet. The method of coating is not specifically limited, An appropriate method can be selected according to a use. Various methods of coating are described in detail in the documents such as "Coating Method", Chapters 1 to 18 (manufactured by Harajaki Yuji, Makishoten).

도전성 고분자를 이용한 경우의 투명도전층(B)의 두께는 도전성 고분자의 종류에 따라 다르고, 표면 저항값 및 광선 투과율에 따라 적당하게 결정해야 하지만, 일반적으로 400㎚~5㎛정도가 바람직하다. 보다 바람직한 두께는, 표면 저항값과 광선 투과율의 점에서 500㎚~2㎛이다. 두께가 400㎚미만에서는 표면 저항값이 높아지고, 두께가 5㎛를 넘으면, 도전성 고분자의 광흡수에 의해 광선 투과율이 저하된 다.When the conductive polymer is used, the thickness of the transparent conductive layer (B) varies depending on the type of the conductive polymer and should be appropriately determined according to the surface resistance value and the light transmittance, but generally about 400 nm to 5 μm is preferable. More preferable thickness is 500 nm-2 micrometers from the surface resistance value and the point of light transmittance. If the thickness is less than 400 nm, the surface resistance increases, and if the thickness exceeds 5 µm, the light transmittance decreases due to light absorption of the conductive polymer.

터치패널은, 표면이 펜으로 마찰되기 때문에, 표면이 손상되기 쉽다. 따라서 복합 도전성 기재의 적어도 편면에 표면경도층(D)을 형성하는 것이 바람직하다. 펜으로 마찰되는 외표면은 기재(A)의 투명도전층(B)/유전체층(C)을 형성한 면의 반대면이므로, 그 면에 표면경도층(D)을 형성하고, 표면경화층(D)/기재(A)/투명도전층(B)/유전체층(C)의 순서로 적층하는 것이 바람직하다. 또한, 기재(A)의 양면에 표면경도층(D)을 형성한, 표면경화층(D)/기재(A)/표면경화층(D')/투명도전층(B)/유전체층(C)의 구성도 선택할 수 있다.Since the touch panel is rubbed with a pen, the touch panel is likely to be damaged. Therefore, it is preferable to form the surface hardness layer (D) on at least one side of the composite conductive substrate. Since the outer surface to be rubbed with the pen is the opposite side to the surface on which the transparent conductive layer (B) / dielectric layer (C) is formed, the surface hardness layer (D) is formed on the surface, and the surface hardening layer (D) It is preferable to laminate in the order of / substrate (A) / transparent conductive layer (B) / dielectric layer (C). Moreover, of the surface hardening layer (D) / base material (A) / surface hardening layer (D ') / transparent conductive layer (B) / dielectric layer (C) which provided the surface hardness layer (D) on both surfaces of the base material (A), You can also choose a configuration.

상기 표면경화층(D)은, 연필 경도 1H이상의 경도를 갖는 것이 바람직하다. 표면경화층(D)의 소재는, 무기 화합물이여도 유기 화합물이여도 좋지만, 가요성이 있는 점에서 유기 화합물이 보다 바람직하다. 표면경화층의 조성으로서는, 열경화수지, 혹은 전자선, 자외선 등의 고에너지선 조사에 의해 경화되는 전리방사선 경화수지 등을 들 수 있다. 예를 들면 멜라민수지, 에폭시수지, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트나 아크릴레이트계 알코올 변성 다관능 화합물 등의 (메타)아크릴레이트수지, 알콕시실란 화합물, 티타네이트 화합물 등을 바람직하게 들 수 있다. 특히 전리방사선 조사에 의해 경화되는 (메타)아크릴레이트수지는 경도가 높고, 또한 가요성을 갖는 점에서 표면경화층(D)으로서 보다 바람직한 조성물이다. 예를 들면 이러한 경화수지의 조성물로서는, 일본 특허공개 평 12-141556호 공보, 일본 특허공개 평 13-179902호 공보, 일본 특허공개 평 13-287308호 공보 등에 기재된 수지 조성물을 들 수 있다.It is preferable that the said surface hardening layer (D) has hardness of 1H or more of pencil hardness. Although the raw material of a surface hardening layer (D) may be an inorganic compound or an organic compound, since it is flexible, an organic compound is more preferable. As a composition of a surface hardening layer, the ionizing radiation hardening resin etc. which harden | cure by thermosetting resin or high energy ray irradiation, such as an electron beam and an ultraviolet-ray, are mentioned. For example, (meth) acrylate resins, such as a melamine resin, an epoxy resin, pentaerythritol triacrylate, and an acrylate-type alcohol-modified polyfunctional compound, an alkoxysilane compound, a titanate compound, etc. are mentioned preferably. In particular, the (meth) acrylate resin cured by ionizing radiation irradiation is a more preferable composition as the surface hardening layer (D) in terms of high hardness and flexibility. For example, as a composition of such hardening resin, the resin composition of Unexamined-Japanese-Patent No. 12-141556, Unexamined-Japanese-Patent No. 13-179902, Unexamined-Japanese-Patent No. 13-287308, etc. are mentioned.

터치패널에는 일반적으로, 상부 전극으로서 투명도전필름이 하부 전극으로서 도전성 유리가 이용되고 있다. 본 발명의 복합 투명도전성 기재는, 상부 전극인 투명도전필름으로서 이용한 경우, 내묘화성 및 내고온고습성이 우수한 터치패널을 제작할 수 있다. 또한 최근 휴대폰 기기용 등의 터치패널로서 박형의 터치패널의 개발이 검토되고 있지만, 본 발명의 복합 투명성 기재를 상하의 양 전극으로서 이용한 경우, 얇고 가벼운 우수한 터치패널을 만들 수 있다.In general, a transparent conductive film is used as the upper electrode and conductive glass is used as the lower electrode in the touch panel. When the composite transparent conductive substrate of the present invention is used as a transparent conductive film that is an upper electrode, a touch panel excellent in drawing resistance and high temperature and high humidity resistance can be produced. In addition, although development of a thin touch panel is recently examined as a touch panel for mobile phones, etc., when the composite transparency base material of this invention is used as an upper and lower positive electrode, it is possible to produce a thin and light excellent touch panel.

(실시예)(Example)

〔평가방법〕〔Assessment Methods〕

1. 유전율 1. permittivity

측정하는 유기 고분자를 디메틸포름아미드를 주용매로 하는 용매에 녹이고, 그 용액을 유리판 위에 건조 두께가 0.5㎜가 되도록이 도포하고, 150℃의 오븐에서 3분간 건조 고화하여, 판상 시료를 제작했다. 얻어진 판상 시료를 사방 40㎜로 잘라내고, 키코무제 유전율 측정장치 DT-002에 평판 계측용 전극 DPT-008을 전극으로서 부착하고, 전극에 시료를 끼워, 온도 20℃에서, 주파수 1kHz, 전압 1.0VDC의 전압을 인가하고, JIS C6481-1986에 준해서 측정했다.The organic polymer to be measured was dissolved in a solvent containing dimethylformamide as a main solvent, and the solution was applied on a glass plate so as to have a dry thickness of 0.5 mm, and dried and solidified in a 150 ° C. oven for 3 minutes to prepare a plate-like sample. The obtained plate-shaped sample was cut out to 40 mm in all directions, and the electrode DPT-008 for flat plate measurement was attached to the dielectric constant measuring apparatus DT-002 made from Kikomu as an electrode, the sample was stuck to the electrode, and the frequency was 1 kHz and the voltage was 1.0V at a temperature of 20 ° C. The voltage of DC was applied and it measured according to JIS C6481-1986.

2. 표면 저항값2. Surface Resistance

JIS K7194-1994에 준하여, 다이아 인스트루먼트제 저저항율계 로레스타 MCP-T360을 이용해서, 4탐침법으로 측정했다. 측정하는 복합 투명성 기재의 유전체층상에 4개의 침상의 전극을 직선상에 두고, 외측의 2탐침간에 일정 전류를 흐르게 하 고, 내측의 2탐침간에 발생하는 전위차를 측정하여, 계산해서 저항을 구했다. 또한, 유전체층을 형성하지 않는 샘플을 측정하는 경우에는, 투명전극상에 전극을 두었다.According to JIS K7194-1994, it measured by the four probe method using the low-resistance meter LELESTA MCP-T360 made from diamond instruments. Four needle-shaped electrodes were placed on a straight line on the dielectric layer of the composite transparent substrate to be measured, a constant current was flowed between the two probes on the outside, and the potential difference generated between the two probes on the inside was measured, and the resistance was calculated. In addition, when measuring the sample which does not form a dielectric layer, the electrode was placed on the transparent electrode.

3. 전체 광선 투과율 3. total light transmittance

복합 투명성 기재를 사방 40㎜로 잘라내고, JIS K7105-1981에 준하여, 니혼덴쇼쿠제 Haze Mater NDH-2000을 이용해서, D65광원으로 측정했다.The composite transparency base material was cut out to 40 mm square, and it measured with the D65 light source using Haze Mater NDH-2000 made from Nippon Denshoku according to JIS K7105-1981.

4. b값4. b value

복합 투명성 기재를 사방 40㎜로 잘라내고, JIS K7105-1981에 준하여, 스가시켄키제 SM컬러 컴퓨터 Model SM-6을 이용해서, D65광원으로 투과법으로 측정했다.The composite transparent base material was cut out to 40 mm in all directions, and it measured by the transmission method with the D65 light source using SM color computer Model SM-6 made from Sugashi Kenki based on JISK7105-1981.

5. 고온 고습하에서의 저항값의 안정성의 평가 5. Evaluation of stability of resistance value at high temperature and high humidity

복합 투명성 기재를 60℃, 90%RH의 항온 고습조에 240시간 넣었다. 항온 고습조에 넣기 전의 표면 저항값 R0 및 넣은 후의 표면 저항값 R을 각각 상술 2.의 평가방법을 이용하여 측정했다. 양자의 비 R/R0에 의해, 고온 고습하에서의 저항값의 안정성을 평가했다. R/R0의 값이 1에 가까울수록, 고온 고습하에서의 저항값의 안정성이 우수하다.The composite transparent base material was put into 60 degreeC and the constant temperature high humidity tank of 90% RH for 240 hours. The surface resistance value R 0 before putting into a constant temperature high humidity tank and the surface resistance value R after putting were measured using the evaluation method of 2. mentioned above. By the both non-R / R 0, to evaluate the stability of the resistance value at high temperatures and high humidity. The closer the value of R / R 0 is to 1, the better the stability of the resistance value under high temperature, high humidity.

6. 묘화에 의한 저항값의 변화의 평가 6. Evaluation of change in resistance value by drawing

스페이서 입자가 부착된 에사유리((주)터치패널 켄큐쇼제)의 도전성 측표면의 단부에 점착 테이프가 부착된 동박 테이프를 붙이고, Y전극과 그 전극의 취출 단자를 설치하고, 하부 전극(고정 전극)으로 했다. 본 발명의 투명도전성 기재의 도전층(B)/유전체층(C) 측표면의 단부에 점착테이프가 부착된 동박 테이프를 붙이고, X전극과 그 전극의 취출 단자를 설치하고, 상부 전극(가동 전극)으로 했다. 또한 상부 전극과 하부 전극을 도전성 측표면끼리가 마주 보도록 대향시키고, 단부에 붙인 양면 테이프를 통해, 80㎛의 갭을 형성하고, 부착하여, 터치패널 샘플을 제작했다. 그 터치패널 샘플을 저항막식 터치패널 검사장치((주)터치패널 켄큐쇼제)에 설치하고, 도 2에 나타내는 것처럼 상부 전극의 평행하는 2변을 X전극으로 해서 일정 전류(I)를 흐르게 했다. 단부로부터 2㎜의 위치에서, 투명도전성 기재의 표면경화층(D)상을 펜 하중 300g을 가한, 펜 끝 0.8R의 폴리아세탈 펜으로 길이 20㎜의 직선을 210㎜/min의 속도로, 왕복 필기(묘화)했다. 1왕복을 묘화 1회로 해서, 1000회마다 저항값의 직선성을 측정했다. 저항값의 직선성이란 리니어리티로 불리고, 다음식으로 계산된다.A copper foil tape with an adhesive tape is affixed to the end of the conductive side surface of Esa Glass (manufactured by Touch Panel Co., Ltd.) with spacer particles, a Y electrode and a takeout terminal of the electrode are provided, and a lower electrode (fixed electrode) ) The copper foil tape with an adhesive tape is affixed to the edge of the conductive layer (B) / dielectric layer (C) side surface of the transparent conductive base material of this invention, the X electrode and the extraction terminal of the electrode are provided, and the upper electrode (movable electrode) I did. Moreover, the upper electrode and the lower electrode were opposed to each other so that the conductive side surfaces faced each other, a gap of 80 µm was formed and adhered through a double-sided tape attached to the end, and a touch panel sample was produced. The touch panel sample was placed in a resistive touch panel inspection device (manufactured by Touch Panel Kenkyu Sho), and as shown in Fig. 2, a constant current (I) was flowed using two parallel sides of the upper electrode as the X electrode. Reciprocating a 20 mm long straight line at a speed of 210 mm / min with a polyacetal pen with a pen tip of 0.8 R, on which a pen load of 300 g was applied to the surface hardening layer (D) of the transparent conductive substrate at a position of 2 mm from the end. I took notes. The linearity of the resistance value was measured every 1000 times with one reciprocating drawing. The linearity of the resistance value is called linearity and is calculated by the following equation.

리니어리티=(△E/E)×100% Linearity = (△ E / E) * 100%

여기에서, E는 측정단자(P)가 묘화되는 직선의 양단을 각각 X1 및 X2로 했을 때, 측정단자(P)가 X1상에 있을 때의 전압(EX1)과 측정단자(P)가 X2상에 있을 때의 전압(EX2)을 연결한 직선에 의해 계산되는, X1과 X2 사이의 임의의 점(XX)에 있어서의 계산상의 전압이다. △EX는, 도 3에 나타내는 것처럼, 점(XX)에 있어서의 계산상의 EX와 실제로 측정된 EXX의 차이다. X1과 X2를 연결하는 직선상에서의 최대의 △ EX를 이용하여, 상기의 계산식에 의해 리니어리티의 값을 구한다.Here, E denotes the voltage EX 1 and the measurement terminal P when the measuring terminal P is on X1 when the both ends of the straight line on which the measuring terminal P is drawn are X1 and X2, respectively. a, X1 and an arbitrary point (X X) between X2 are calculated by the straight line connecting the voltage (EX 2) the time when the phase voltage is calculated on the in. △ E is X, as shown in Figure 3, the difference between the actual measured and E X on the calculation at the point (X X) X EX. The value of linearity is calculated | required by said calculation formula using the largest (DELTA) EX on the straight line which connects X1 and X2.

직선성 변화량이란 묘화 1회째에서 측정되거나 리니어리티와 묘화 1000회마다 측정하는 리니어리티의 차이다. 직선성 변화량이 1.5%가 되는 묘화 회수를 최대 묘화 회수로 한다. 최대 묘화 회수가 클수록, 묘화에 의한 저항값의 변화가 적다.The linearity change amount is the difference between the linearity measured at the first drawing time or the linearity measured at every 1000 drawing times. The drawing frequency at which the linearity change amount becomes 1.5% is the maximum drawing frequency. The larger the maximum drawing frequency, the smaller the change in the resistance value due to drawing.

〔실시예1〕EXAMPLE 1

두께 125㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(도레이(주)제 상품명 “루미라(등록상표)”QT59)을 기재(A)로 하고, 그 기재(A)상에 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 70중량부, 매크로 모노머 AN-6S(고형분 50중량%) 16중량부, 스티렌-아크릴 공중합체(고형분 60%, 중량 평균 분자량 17790) 20중량부, 이미드아크릴레이트(TO-1429) 10중량부로 이루어지는 표면경화수지를 톨루엔과 메틸에틸케톤을 주용매로 하는 용매에 녹인 용제를 3개 리버스 코터를 이용해서 건조후의 막두께가 5㎛가 되도록 10m/min의 도포속도로 도포했다. 오븐에서 건조시킨 후, 100w/㎝의 에너지 강도의 고압 수은등으로 조사하고, 상기 표면경화수지를 가교 경화시켜서, 표면경화필름을 제작했다. 그 표면경화필름의 표면경화층(D)과는 반대측의 표면상에 감기식 DC 펄싱법 마그네트론 스퍼터 장치를 이용하여, 표면 저항값이 400Ω/□가 되도록 ITO박막(투명도전층(B))을 형성했다. 또한, 스퍼터의 조건은, ITO타깃(산화인듐(90wt%)과 산화주석(10wt%)의 소결 타깃(소결 밀도 99%이상)을 이용해서, 진공도 4×10-3Pa까지 스퍼터 장치 내를 배기한 후, 산소 3.5mol%의 Ar/O2 혼합가스를 도입 하고, 진공도 4×10-2Pa로 한 후에, 기재속도 3m/min로 스퍼터했다.70 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate on a substrate (A) using a 125-micron-thick polyethylene terephthalate film (trade name "Lumera (registered trademark)" QT59 manufactured by Toray Industries, Inc.); Surface hardening resin which consists of 16 weight part of macromonomer AN-6S (50 weight% of solid content), 20 weight part of styrene-acryl copolymers (60% of solid content, weight average molecular weight 17790), and 10 weight part of imide acrylate (TO-1429) The solvent dissolved in a solvent containing toluene and methyl ethyl ketone as the main solvent was applied at a coating speed of 10 m / min using three reverse coaters so that the film thickness after drying was 5 µm. After drying in an oven, it was irradiated with a high pressure mercury lamp having an energy strength of 100 w / cm, and the surface cured resin was crosslinked to prepare a surface cured film. An ITO thin film (transparent conductive layer (B)) was formed on the surface opposite to the surface hardened layer (D) of the surface hardened film by using a winding-type DC pulsing magnetron sputtering device so that the surface resistance value was 400? / Sq. did. In addition, the conditions of a sputter | spatter exhaust | exhaust the inside of a sputter | spatter apparatus to a vacuum degree of 4 * 10 <-3> Pa using the sintering target (99% or more of sintering density) of ITO target (indium oxide (90 wt%) and tin oxide (10 wt%)). Thereafter, an Ar / O 2 mixed gas of 3.5 mol% of oxygen was introduced thereinto, and the vacuum degree was 4 × 10 −2 Pa, followed by sputtering at a substrate speed of 3 m / min.

이어서 투명도전층(B)상에, 다이렉트 그라비어 헤드 코터를 이용하여, 디메틸포름아미드를 주용매로 하는 용매에 녹인 시아노에틸풀루란(신에츠카가쿠코교제)을 건조시킨 후의 막두께가 0.15㎛가 되도록 도포속도 30m/min로 도포함으로써 유전체층(C)을 형성했다. 이용한 시아노에틸풀루란(신에츠카가쿠코교제)의 비유전율은 19였다. 이상의 방법으로 표면경화층(D)/고분자 필름으로 이루어지는 기재(A)/ITO로 이루어지는 투명도전성층(B)/시아노에틸풀루란으로 이루어지는 유전체층(C)의 순서로 적층된 본 발명의 터치패널용 복합 투명도전성 기재를 제작했다. 상기 평가방법에 따라서 평가한 결과를 표 1에 나타낸다.Subsequently, the film thickness after drying cyanoethyl pullulan (made by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) which melt | dissolved in the solvent which uses dimethylformamide as a main solvent using the direct gravure head coater on the transparent conductive layer (B) is 0.15 micrometer. The dielectric layer C was formed by apply | coating at the application | coating speed of 30 m / min as much as possible. The relative dielectric constant of cyanoethyl pullulan (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) used was 19. The touch panel of the present invention laminated in the order of the surface hardening layer (D) / the base material (A) made of the polymer film / transparent conductive layer (B) made of ITO / dielectric layer (C) made of cyanoethyl pullulan A composite transparent conductive base material was prepared. Table 1 shows the results of evaluation according to the above evaluation method.

실시예1의 복합 도전성 기재를 사용한 터치패널은, 최대 묘화 회수가 묘화 내구성의 표준인 10만회 이상을 만족시키고 있어, 묘화 내구성이 우수하다.The touch panel using the composite electroconductive base material of Example 1 satisfy | fills 100,000 times or more which the maximum drawing frequency is a standard of drawing durability, and is excellent in drawing durability.

또한, ITO 스퍼터막은 노란 빛깔을 띠고 있고, 종래부터 광선 투과율의 향상 및 색조의 개선의 요구가 강하다. 실시예1의 복합 도전성 기재는, ITO 스퍼터막상에 시아노에틸풀루란의 층을 적층함으로써, 비교예1의 시아노에틸풀루란의 층을 갖지 않는 복합 도전성 기재와 비교해서, 광선 투과율이 높아지고, 또한 b*값도 낮아졌다. 이상과 같이 본 발명의 터치패널용 복합 도전성 기재는 광학 특성에 대해서도 우수한, 보다 바람직한 도전성 기재라고 할 수 있다.In addition, the ITO sputtered film has a yellowish color, and there is a strong demand for improvement of light transmittance and color tone. The composite conductive substrate of Example 1 has a light transmittance higher than that of the composite conductive substrate having no cyanoethyl pullulan layer of Comparative Example 1 by laminating a cyanoethyl pullulan layer on the ITO sputter film. The b * value was also lowered. As mentioned above, the composite electroconductive base material for touch panels of this invention can be said to be a more preferable electroconductive base material which is excellent also in an optical characteristic.

〔비교예1〕Comparative Example 1

유전체층(C)을 형성하지 않은 이외는 실시예1과 마찬가지로 해서, 표면경화 층(D)/고분자 필름으로 이루어지는 기재(A)/ITO로 이루어지는 투명도전성층(B)의 순서로 적층된 복합 투명도전성 기재를 제작했다. 얻어진 투명도전성 기재에 대해서, 상기 평가방법에 따라서 평가했다. 평가 결과를 표 1에 나타낸다.The composite transparent conductive layer laminated in the order of the transparent conductive layer (B) which consists of the base material (A) / ITO which consists of surface hardening layer (D) / polymer film similarly to Example 1 except not having formed the dielectric layer (C) The base material was produced. The obtained transparent conductive base material was evaluated according to the said evaluation method. The evaluation results are shown in Table 1.

〔실시예2〕EXAMPLE 2

실시예1에서 제작한 표면경화필름의 표면경화층(D)과는 반대측의 표면상에 폴리에틸렌디옥시티오펜(PEDOT) 및 폴리스티렌술폰산(PSS)으로 이루어지는 도전성 고분자의 수용액(고형분 농도 0.7%)(Agfa-Gevaert N.V제 상품명:Orgacon(등록상표) N300 NEW)을 건조시킨 후의 막두께가 1.2㎛가 되도록 도포하여, 투명도전층(B)을 형성했다. 투명도전층(B)상에 실시예1과 같은 방법으로 시아노에틸풀루란을 건조시킨 후의 막두께가 0.12㎛가 되도록 도포하여, 유전체층(C)을 형성했다. 이상의 방법으로 표면경화층(D)/고분자 필름으로 이루어지는 기재(A)/도전성 고분자로 이루어지는 투명도전성층(B)/시아노에틸풀루란으로 이루어지는 유전체층(C)의 순서로 적층된 본 발명의 복합 투명도전성 기재를 제작했다. 상기 평가방법에 따라서 평가한 결과를 표 1에 나타낸다.Aqueous solution (solid content concentration of 0.7%) of the conductive polymer consisting of polyethylene dioxythiophene (PEDOT) and polystyrene sulfonic acid (PSS) on the surface on the side opposite to the surface hardening layer (D) of the surface hardened film produced in Example 1 (Agfa -The brand name: Organacon (trademark) N300 NEW by the Gevaert NV was apply | coated so that the film thickness after drying might be set to 1.2 micrometers, and the transparent conductive layer (B) was formed. The dielectric layer (C) was formed on the transparent conductive layer (B) by coating the cyanoethyl pullulan in the same manner as in Example 1 so as to have a film thickness of 0.12 mu m. The composite of the present invention laminated in the order of the surface hardening layer (D) / base material (A) made of a polymer film / transparent conductive layer (B) made of a conductive polymer / dielectric layer (C) made of cyanoethyl pullulan by the above method. The transparent conductive base material was produced. Table 1 shows the results of evaluation according to the above evaluation method.

실시예2의 복합 도전성 기재를 이용한 터치패널은, 고온 고습하에서의 저항값 안정성의 표준인 R/R0≤1.1을 만족시키고 있어, 고온 고습하에서의 저항값의 안정성이 우수하다. 또한, 묘화 내구성도 우수하다.The touch panel using the composite conductive substrate of Example 2 satisfies R / R 0? 1.1, which is a standard of resistance value stability under high temperature and high humidity, and is excellent in stability of resistance value under high temperature and high humidity. Moreover, drawing durability is also excellent.

〔비교예2〕Comparative Example 2

유전체층(C)을 형성하지 않은 이외는 실시예1과 마찬가지로 해서, 표면경도 화층(D)/고분자 필름으로 이루어지는 기재(A)/도전성 고분자로 이루어지는 투명도전성층(B)으로 이루어지는 복합 투명도전성 기재를 제작했다. 얻어진 투명도전성 기재에 대해서, 상기 평가방법에 따라서 평가했다. 평가 결과를 표 1에 나타낸다.In the same manner as in Example 1 except that the dielectric layer (C) was not formed, a composite transparent conductive substrate composed of a transparent conductive layer (B) made of a substrate (A) made of a surface hardness layer (D) / polymer film / a conductive polymer was prepared. Made. The obtained transparent conductive base material was evaluated according to the said evaluation method. The evaluation results are shown in Table 1.

〔실시예3〕EXAMPLE 3

유전체층(C)을 형성할 때에, 시아노에틸풀루란 대신에 아세틸화 풀루란(하야시바라죠지제)을 이용한 이외는 실시예1과 마찬가지로 해서 복합 투명도전성 기재를 제작했다. 이용한 아세틸화 풀루란의 비유전율은 16이었다. 상기 평가방법에 따라서 평가한 결과를 표 1에 나타낸다.When forming the dielectric layer (C), a composite transparent conductive substrate was produced in the same manner as in Example 1 except that acetylated pullulan (manufactured by Hayashi Varajoji) was used instead of cyanoethyl pullulan. The dielectric constant of the acetylated pullulan used was 16. Table 1 shows the results of evaluation according to the above evaluation method.

〔실시예4〕EXAMPLE 4

유전체층(C)을 형성할 때에, 시아노에틸풀루란 대신에 아세틸화 풀루란(하야시바라죠지제)과 시아노에틸풀루란(신에츠카가쿠코교제)을 중량비 50%/50%로 혼합해서 이용한 이외는 실시예1과 마찬가지로 해서 복합 투명도전성 기재를 제작했다. 아세틸화 풀루란과 시아노에틸풀루란을 중량비 50%/50%로 혼합한 경우의 비유전율은 17이었다. 상기 평가방법에 따라서 평가한 결과를 표 1에 나타낸다.When forming the dielectric layer (C), acetylated pullulan (manufactured by Hayashi Barajoji Co.) and cyanoethyl pullulan (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) at a weight ratio of 50% / 50% were used instead of cyanoethyl pullulan. In the same manner as in Example 1, a composite transparent conductive substrate was produced. The relative dielectric constant when acetylated pullulan and cyanoethyl pullulan were mixed in a weight ratio of 50% / 50% was 17. Table 1 shows the results of evaluation according to the above evaluation method.

Figure 112006089683330-PCT00001
Figure 112006089683330-PCT00001

인간이 정보기기를 조작할 때에 필요한 인터페이스로서 이용되는 터치패널의 중요한 구성 부재인 복합 투명도전성 기재로서 이용할 수 있다.It can be used as a composite transparent conductive substrate, which is an important constituent member of a touch panel used as an interface required when a human operates an information device.

Claims (9)

고분자 필름 또는 고분자 시트로 이루어지는 기재(A), 투명도전층(B) 및 유전체층(C)이 이 순서로 적층되고, 유전체층(C)이 온도 20℃, 주파수 1kHz에 있어서의 비유전율이 15이상인 유기 고분자로 이루어지고, 또한 유전체층(C)의 두께가 40㎚이상 2000㎚이하인 것을 특징으로 하는 터치패널용 복합 투명도전성 기재.A substrate (A), a transparent conductive layer (B) and a dielectric layer (C) made of a polymer film or a polymer sheet are laminated in this order, and the dielectric layer (C) is an organic polymer having a relative dielectric constant of 15 or more at a temperature of 20 ° C. and a frequency of 1 kHz. And the thickness of the dielectric layer (C) is 40 nm or more and 2000 nm or less. 제1항에 있어서, 유전체층(C)이 시아노에틸화 고분자 및 아세틸화 풀루란으로부터 선택된 유기 고분자로 이루어지는 것을 특징으로 하는 터치패널용 복합 투명도전성 기재.The composite transparent conductive substrate for a touch panel according to claim 1, wherein the dielectric layer (C) consists of an organic polymer selected from cyanoethylated polymer and acetylated pullulan. 제2항에 있어서, 시아노에틸화 고분자가 셀룰로오스계 고분자의 시아노에틸화 고분자, 전분계 고분자의 시아노 에틸화 고분자, 시아노에틸폴리비닐알코올, 시아노에틸슈크로스, 및 시아노에틸소르비톨로부터 선택된 1종, 또는 2종이상의 유기 고분자로 이루어지는 것을 특징으로 하는 터치패널용 복합 투명도전성 기재.The cyanoethylated polymer according to claim 2, wherein the cyanoethylated polymer is a cyanoethylated polymer of a cellulose polymer, a cyanoethylated polymer of a starch-based polymer, cyanoethylpolyvinyl alcohol, cyanoethyl sucrose, and cyanoethyl sorbitol Composite transparent conductive substrate for a touch panel, characterized in that consisting of one or two or more organic polymers selected from. 제2항에 있어서, 유전체층(C)이 시아노에틸풀루란으로 이루어지는 터치패널용 복합 투명도전성 기재.The composite transparent conductive substrate for a touch panel according to claim 2, wherein the dielectric layer (C) is made of cyanoethyl pullulan. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 복합 투명도전성 기재의 표면 저 항값이 100Ω/□이상 1000Ω/□이하, 또한, 복합 투명도전성 기재의 전체 광선 투과율이 80%이상인 것을 특징으로 하는 터치패널용 복합 투명도전성 기재.The surface resistance of the composite transparent conductive substrate is 100 Ω / □ or more and 1000 Ω / □ or less, and the total light transmittance of the composite transparent conductive substrate is 80% or more. Composite transparent conductive substrate for touch panel. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 고분자 필름 또는 고분자 시트로 이루어지는 기재(A)가 폴리카보네이트수지, 아크릴수지, 아세테이트수지, 환상 올레핀수지 및 폴리에스테르수지로부터 선택된 수지로 이루어지는 것을 특징으로 하는 터치패널용 복합 투명도전성 기재.The substrate (A) made of a polymer film or a polymer sheet is made of a resin selected from polycarbonate resin, acrylic resin, acetate resin, cyclic olefin resin and polyester resin according to any one of claims 1 to 5. Composite transparent conductive base material for touch panels. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 투명도전층(B)이 금속계 투명도전성 박막 또는 도전성 고분자로 이루어지는 것을 특징으로 하는 터치패널용 복합 투명도전성 기재.The composite transparent conductive substrate for a touch panel according to any one of claims 1 to 6, wherein the transparent conductive layer (B) is made of a metallic transparent conductive thin film or a conductive polymer. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 기재(A)의 편면 이상에 표면경화층(D)을 갖는 것을 특징으로 하는 터치패널용 복합 투명도전성 기재.The composite transparent conductive substrate for a touch panel according to any one of claims 1 to 7, further comprising a surface hardening layer (D) on at least one surface of the substrate (A). 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 터치패널용 복합 투명도전성 기재를 상하의 전극의 한쪽 이상의 전극으로서 이용한 것을 특징으로 하는 터치패널.The touchscreen composite transparent conductive base material as described in any one of Claims 1-8 was used as one or more electrodes of the upper and lower electrodes.
KR1020067025483A 2004-08-17 2005-08-10 Composite transparent conductive substrate for touch panel and touch panel KR20070042506A (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2004-00237205 2004-08-17
JP2004237205 2004-08-17

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20070042506A true KR20070042506A (en) 2007-04-23

Family

ID=35907407

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020067025483A KR20070042506A (en) 2004-08-17 2005-08-10 Composite transparent conductive substrate for touch panel and touch panel

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP4940949B2 (en)
KR (1) KR20070042506A (en)
CN (1) CN1977343B (en)
TW (1) TWI376700B (en)
WO (1) WO2006019019A1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014157841A1 (en) * 2013-03-29 2014-10-02 동우화인켐 주식회사 Transparent electrode pattern laminate and touch screen panel having same

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4974071B2 (en) * 2006-04-10 2012-07-11 東レフィルム加工株式会社 Transparent conductive film for touch panel
CN101452362B (en) * 2007-12-07 2012-04-25 台达电子工业股份有限公司 Touching control panel and its manufacture method
JP2009170194A (en) * 2008-01-15 2009-07-30 Panasonic Corp Touch panel, movable contact point body and switch using the same
TWI408576B (en) * 2008-03-18 2013-09-11 Cando Corp Insulating layer of low capacitive property and touch sensor having the same
JP5366502B2 (en) * 2008-10-31 2013-12-11 富士フイルム株式会社 Conductive film for touch panel and manufacturing method thereof
JP5620644B2 (en) * 2009-02-09 2014-11-05 住友化学株式会社 Multi-layer extrusion resin plate for touch panel and surface coating plate for touch panel
JP5149878B2 (en) * 2009-08-27 2013-02-20 住友化学株式会社 Transparent resin laminate
TWI449006B (en) * 2011-10-05 2014-08-11 Ind Tech Res Inst Hybrid display device
JP6270738B2 (en) * 2012-12-19 2018-01-31 株式会社カネカ Substrate with transparent electrode and manufacturing method thereof
CN105468184B (en) * 2014-09-12 2020-06-26 东友精细化工有限公司 Transparent electrode laminate and touch screen panel including the same
CN108700806A (en) * 2016-03-17 2018-10-23 东丽株式会社 The manufacturing method of photosensitive conductive paste and substrate with conductive pattern
CN107329635A (en) * 2016-04-28 2017-11-07 宸美(厦门)光电有限公司 Conductive structure and contact panel

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2846887B2 (en) * 1989-02-10 1999-01-13 日東電工株式会社 Transparent conductive laminate
JP2665370B2 (en) * 1989-03-01 1997-10-22 日東電工株式会社 Transparent conductive laminate and method for manufacturing electroluminescent display device using the laminate
JP3146059B2 (en) * 1992-04-07 2001-03-12 王子タック株式会社 Transparent conductive film
JP3341277B2 (en) * 1996-08-02 2002-11-05 王子製紙株式会社 Transparent conductive film for electroluminescence device
JP3716537B2 (en) * 1997-03-06 2005-11-16 東レ株式会社 Transparent conductive laminate and EL device
JP4423515B2 (en) * 1999-06-28 2010-03-03 東洋紡績株式会社 Transparent conductive film and electroluminescence panel
EP1081633A2 (en) * 1999-08-31 2001-03-07 Daicel Chemical Industries, Ltd. Touch panel and display device using the same
JP2003109432A (en) * 2001-10-01 2003-04-11 Bridgestone Corp Transparent conductive film and touch panel

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014157841A1 (en) * 2013-03-29 2014-10-02 동우화인켐 주식회사 Transparent electrode pattern laminate and touch screen panel having same
US9760228B2 (en) 2013-03-29 2017-09-12 Dongwoo Fine-Chem Co., Ltd. Transparent electrode pattern structure and touch screen panel including the same

Also Published As

Publication number Publication date
TWI376700B (en) 2012-11-11
CN1977343A (en) 2007-06-06
JP4940949B2 (en) 2012-05-30
CN1977343B (en) 2010-12-22
WO2006019019A1 (en) 2006-02-23
JPWO2006019019A1 (en) 2008-05-08
TW200617997A (en) 2006-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4940949B2 (en) Composite transparent conductive substrate for touch panel and touch panel
KR101176805B1 (en) Transparent conductive laminate and touch panel equipped with it
JP4479608B2 (en) Transparent conductor and panel switch
JP4943091B2 (en) Transparent conductive film, electrode plate for touch panel and touch panel
KR101137276B1 (en) Transparent conductive laminate and touch panel
JP2005019056A (en) Composite transparent conductive base material and display using the same
KR101479811B1 (en) Substrate films for transparent electrode films
KR20090110914A (en) Transparent conductive multilayer body and touch panel made of the same
TWI639934B (en) Touch panel and manufacturing method thereof
JP5341790B2 (en) Touch panel film and touch panel using the same
JP4974071B2 (en) Transparent conductive film for touch panel
JPH0883515A (en) Transparent conductive sheet
JP2012209030A (en) Transparent conductive laminate and method for manufacturing the same
CN108447617B (en) Method for protecting nano silver wire transparent conductive film
US20080223629A1 (en) Coordinate input apparatus
JPH1134207A (en) Transparent conductive film
JP4214063B2 (en) Transparent conductive laminate and touch panel
JP4517255B2 (en) Transparent conductive film for touch panel, transparent conductive sheet for touch panel, and touch panel
JP5460090B2 (en) Transparent conductive film, touch panel, and flexible display
JP2005071901A (en) Transparent conductive laminated film
JP2016110899A (en) Transparent conductive body and touch panel
CN201242736Y (en) Touch control panel
JP3627864B2 (en) Transparent conductive film, transparent conductive sheet and touch panel
JP4284566B2 (en) Transparent conductive film, touch panel and liquid crystal display element
JP5008217B2 (en) Touch panel

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
AMND Amendment
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
J201 Request for trial against refusal decision
AMND Amendment
B601 Maintenance of original decision after re-examination before a trial
J121 Written withdrawal of request for trial