KR20070016785A - 로봇암 교정 방법 - Google Patents

로봇암 교정 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20070016785A
KR20070016785A KR1020050071774A KR20050071774A KR20070016785A KR 20070016785 A KR20070016785 A KR 20070016785A KR 1020050071774 A KR1020050071774 A KR 1020050071774A KR 20050071774 A KR20050071774 A KR 20050071774A KR 20070016785 A KR20070016785 A KR 20070016785A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
robot arm
vacuum chamber
calibration
laser beam
blade
Prior art date
Application number
KR1020050071774A
Other languages
English (en)
Inventor
이재희
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
Priority to KR1020050071774A priority Critical patent/KR20070016785A/ko
Publication of KR20070016785A publication Critical patent/KR20070016785A/ko

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B25HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
    • B25JMANIPULATORS; CHAMBERS PROVIDED WITH MANIPULATION DEVICES
    • B25J9/00Programme-controlled manipulators
    • B25J9/16Programme controls
    • B25J9/1679Programme controls characterised by the tasks executed
    • B25J9/1692Calibration of manipulator
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67739Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H01L21/67742Mechanical parts of transfer devices

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Robotics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Manipulator (AREA)

Abstract

본 발명은 로봇암 교정 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반도체 제조 장비에서 웨이퍼를 이송시키기 위한 로봇암의 위치를 교정하기 위한 로봇암 교정 방법에 관한 것이다. 이를 위한 본 발명의 로봇암 교정 방법은 진공 챔버의 투명 창에 레이저를 장착하는 단계; 상기 투명 창을 통하여 레이저빔을 조사하는 단계; 로봇암의 블레이드를 기준 위치로 이동시키는 단계; 및 상기 레이저빔이 상기 블레이드의 구멍을 통과하여 감지기에 감지되도록 로봇암의 위치를 이동시키는 단계를 포함한다. 본 발명에 의하여 로봇암을 교정하는 경우 종래와 달리 진공 챔버를 분해하지 않기 때문에 진공 챔버의 압력을 대기압으로 변경하고, 다시 고진공으로 복구하는데 소요되는 시간을 절약하여 로봇암의 교정 시간이 감축된다. 로봇암의 교정 시간이 감소하여 반도체 제조 장비의 생산성이 증가하는 효과가 있다.
로봇암, 교정, 레이저빔, 진공 챔버

Description

로봇암 교정 방법{Method for calibrating }
도1은 반도체 제조 장비에서 종래의 로봇암 교정 방법에 사용되는 기구의 사시도.
도2는 본 발명의 실시예에 따른 로봇암 교정 방법의 순서도.
도3은 로봇암의 블레이드에 레이저가 조사되는 사시도.
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명*
10, 100 : 로봇암 11, 110 : 블레이드
12, 120 : 교정 구멍 20 : 로봇암 교정 기구
200 : 레이저빔
본 발명은 로봇암 교정 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반도체 제조 장비에서 웨이퍼를 이송시키기 위한 로봇암의 위치를 교정하기 위한 로봇암 교정 방법에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 소자를 생산하는 공정은 노광, 식각, 확산, 증착 등의 공정을 선택적으로 수행하는 일련의 과정에 의해서 이루어지고, 이러한 반도체 제조 공정을 순차적으로 수행하기 위하여 웨이퍼를 반도체 제조 장비의 요구되는 위치에 로딩시키거나 언로딩시키는 과정이 필요하다.
반도체 제조 장비에서 웨이퍼를 이송시키기 위하여 로봇암이 사용되는데, 로봇암의 동작은 사전에 정해진 위치 설정에 의해서 정확한 동작이 반복된다. 그런데 반도체 제조 장비를 장시간 사용하면 로봇암의 위치가 조금씩 변경되어 웨이퍼의 이송이 원활하지 못하고 에러가 발생하여 공정이 중단되는 경우가 있다. 이 경우 로봇암의 동작 위치를 인식시켜 주기 위한 로봇암 교정을 실시한다.
도1은 반도체 제조 장비에서 종래의 로봇암 교정 방법에 사용되는 기구의 사시도이다.
도1을 참조하여 설명하면, 종래의 로봇암 교정 방법에 따라 로봇암을 교정하는 경우 진공 챔버(도면에 표시하지 않음)를 분해하기 위하여 진공 챔버에 가스를 주입하여 진공 챔버가 대기압 상태로 될 때까지 기다린다.
진공 챔버가 대기압 상태로 압력이 상승하면 진공 챔버를 분해하고 로봇암(10)을 교정할 기준 위치에 로봇암 교정 기구(20)를 설치하고, 로봇암 교정 기구(20)의 표면에 형성된 기준 구멍(21)을 통하여 로봇암(10)을 교정하여야 한다.
이어서 진공 챔버 내부에 장착된 로봇암(10)을 교정하기 위한 위치로 이동시켜서 로봇암(10)의 블레이드(11)가 기준 위치로 이동한 것을 확인한다.
이어서 블레이드(110에 형성된 교정 구멍(12)의 위치를 확인하고, 로봇암 (10)의 위치를 조정하여 상기 교정 구멍(12)이 상기 기준 구멍(21)의 근처에 위치하도록 한다.
기준 구멍(21)과 교정 구멍(12)의 위치가 육안에 의해서 일치되도록 로봇암(100)의 위치를 미세 조정한다. 기준 위치에 설치된 로봇암 교정 기구(20)의 기준 구멍(21)과 교정 구멍(12)의 중심이 일치하면 로봇암의 교정이 완료된 것이다.
그런데 종래의 로봇암 교정 방법에서 로봇암을 교정하는 경우 진공 챔버를 분해하고, 교정이 완료된 후에 다시 진공 챔버를 조립하여야 하는데 상기 진공 챔버는 고진공에서 공정을 실시하기 때문에 압력 조건을 변경하기 위하여 많은 시간이 소요되다. 특히 대기압 상태의 진공 챔버를 다시 원상태로 회복하는데 공정 분위기를 유지하여야 하기 때문에 많은 시간이 소요되어 생산성이 저하되는 문제가 있다.
따라서 본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위하여 이루어진 것으로, 본 발명의 목적은 진공 챔버 내부의 로봇암을 교정하는 경우에 진공 챔버를 분해하기 때문에 생산성이 저하되는 것을 방지하기 위하여 광학적인 방법을 이용하여 진공 챔버를 분해하지 않고 실시할 수 있는 로봇암 교정 방법을 제공하는데 있다.
상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 로봇암 교정 방법은 진공 챔버의 투명 창에 레이저를 장착하는 단계; 상기 투명 창을 통하여 레이저빔을 조사하는 단계; 로봇암의 블레이드를 기준 위치로 이동시키는 단계; 및 상기 레 이저빔이 상기 블레이드의 구멍을 통과하여 감지기에 감지되도록 로봇암의 위치를 이동시키는 단계를 포함한다.
이하 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예를 상세히 설명한다.
도2는 본 발명의 실시예에 따른 로봇암 교정 방법의 순서도이고, 도3은 로봇암의 블레이드에 레이저가 조사되는 사시도이다.
도면을 참조하여, 본 발명의 로봇암 교정 방법에 따라 진공 챔버(도면에 표시하지 않음)의 투명 창(도면에 표시하지 않음)에 레이저(도면에 표시하지 않음)를 장착하고(S100), 투명 창을 통하여 조사 되는 레이저빔(200)이 진공 챔버 내부에 장착된 감지기에 감지되는 것을 확인한다(S200).
이때 진공 챔버를 분해하지 않은 상태에서 진공 챔버의 내부로 빛이 투과하는 투명 창을 투과하여 레이저에서 조사되는 레이저빔(200)이 기준 위치를 확인하기 위한 감지기에 정확하게 도착하면, 상기 감지기의 감지 신호가 감지기에 연결된 표시부(도면에 표시하지 않음)에서 확인된다.
이렇게 레이저에서 조사되는 레이저빔(200)이 상기 기준 위치에 정렬된 것을 확인한 다음에 진공 챔버 내부에 장착된 로봇암(100)을 교정하기 위한 위치로 이동시켜서 로봇암(100)의 블레이드(110)가 기준 위치로 이동한 것을 확인한다(S300).
이어서 블레이드(110)에 형성된 교정 구멍(120)의 위치를 확인하고, 로봇암(100)의 위치를 조정하여 상기 교정 구멍(120) 근처로 레이저빔(200)이 조사되는 것을 확인한다.
레이저빔(200)이 조사되는 위치가 교정 구멍(120) 근처일 때에 레이저빔 (200)이 교정 구멍(120)의 중심과 일치하도록 로봇암(100)의 위치를 미세 조정한다. 이때 레이저빔(200)이 상기 감지기에 도착하여 감지 신호가 발생하는 것을 확인하면서 로봇암(100)을 조정한다(S400).
상기 교정 구멍(120)을 통과하여 감지기에 도착하는 레이저빔(200)의 감지 신호가 표시부에서 확인되면 로봇암(100)의 교정이 완료된다. 이때 상기 로봇암(100)의 교정 데이터를 반도체 제조 장비에 저장하고, 상기 레이저와 감지기를 해체한다.
이상에서, 본 발명의 구성 및 동작을 상기한 설명 및 도면에 따라 도시하였지만, 이는 예를 들어 설명한 것에 불과하며 본 발명의 기술적 사상 및 특허청구 범위를 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화 및 변경이 가능함은 물론이다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 의하여 로봇암을 교정하는 경우 종래와 달리 진공 챔버를 분해하지 않기 때문에 진공 챔버의 압력을 대기압으로 변경하고, 다시 고진공으로 복구하는데 소요되는 시간을 절약하여 로봇암의 교정 시간이 감축된다. 로봇암의 교정 시간이 감소하여 반도체 제조 장비의 생산성이 증가하는 효과가 있다.

Claims (1)

  1. 진공 챔버의 투명 창에 레이저를 장착하는 단계;
    상기 투명 창을 통하여 레이저빔을 조사하는 단계;
    로봇암의 블레이드를 기준 위치로 이동시키는 단계; 및
    상기 레이저빔이 상기 블레이드의 교정 구멍을 통과하여 감지기에 감지되도록 로봇암의 위치를 이동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 로봇암 교정 방법.
KR1020050071774A 2005-08-05 2005-08-05 로봇암 교정 방법 KR20070016785A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050071774A KR20070016785A (ko) 2005-08-05 2005-08-05 로봇암 교정 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050071774A KR20070016785A (ko) 2005-08-05 2005-08-05 로봇암 교정 방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20070016785A true KR20070016785A (ko) 2007-02-08

Family

ID=43650777

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020050071774A KR20070016785A (ko) 2005-08-05 2005-08-05 로봇암 교정 방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20070016785A (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8969106B2 (en) 2012-10-09 2015-03-03 Samsung Display Co., Ltd. Laser irradiation apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus using the same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8969106B2 (en) 2012-10-09 2015-03-03 Samsung Display Co., Ltd. Laser irradiation apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus using the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102239052B1 (ko) 티칭 방법
KR101188385B1 (ko) 에칭 처리에서 계측을 함께 실시하기 위한 방법 및 장치
JP7008573B2 (ja) 搬送方法および搬送装置
JP2001148411A (ja) 基板のクランプを検出するためのシステム
JP2008210951A (ja) 位置検出装置および位置検出方法
JP4277100B2 (ja) 搬送機構の基準位置補正装置及び基準位置補正方法
KR101915878B1 (ko) 기판 주고받음 위치의 교시 방법 및 기판 처리 시스템
TW202147495A (zh) 晶圓搬送裝置、及晶圓搬送方法
TWI405048B (zh) 接近式曝光裝置、其光罩搬送方法及面板基板的製造方法
US20070180676A1 (en) Method of and tool for calibrating transfer apparatus
KR102471809B1 (ko) 티칭 방법
KR102628421B1 (ko) 반송 로봇의 정상 여부 판단 시스템, 반송 로봇의 정상 여부 판단 방법 및 기판 처리 장치
JP2005123613A (ja) 基板整列方法および装置
JP3287646B2 (ja) 真空処理装置
KR20070016785A (ko) 로봇암 교정 방법
KR102219879B1 (ko) 기판 처리 장치 및 기판 정렬 방법
KR101478898B1 (ko) 하전 입자빔 묘화 장치 및 하전 입자빔 묘화 방법
WO2020187473A1 (en) A substrate container, a lithographic apparatus and a method using a lithographic apparatus
JP2007042929A (ja) ロードロック装置とその方法及び半導体製造装置
JP2007123360A (ja) 落下検出装置および露光装置
KR20060123929A (ko) 반도체 제조 장비의 점검 방법
JP2003303754A (ja) 多段ロボットアームを有する搬送装置及び近接露光方式電子ビーム露光装置
KR102108311B1 (ko) 반송 유닛 및 반송 방법
KR102320394B1 (ko) 노광장치
NL2024620A (en) A Substrate Container, a Lithographic Apparatus and a Method using a Lithographic Apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination